JP6492410B2 - Organic device - Google Patents

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Description

本発明は、有機デバイスに関する。 The present invention relates to an organic device.

近年、有機エレクトロルミネッセンス(EL)素子等の有機デバイスが注目されている。有機EL素子は、有機発光層、電子輸送層、正孔輸送層等の有機層を有しているが、これらの有機層は大気中の水蒸気や酸素と反応して劣化することがあり、有機EL素子等の有機デバイスを保護するために、薄膜によってガスバリア層を形成する薄膜封止技術が求められている。 In recent years, organic devices such as organic electroluminescence (EL) elements have attracted attention. The organic EL element has organic layers such as an organic light emitting layer, an electron transport layer, and a hole transport layer, and these organic layers may be deteriorated by reacting with water vapor or oxygen in the atmosphere. In order to protect organic devices such as EL elements, a thin film sealing technique for forming a gas barrier layer with a thin film is required.

例えば、特許文献1には、高分子フィルム上に、20〜150℃の温度域において液体である有機珪素化合物を原料として、600〜1520Torrの圧力下で発生するプラズマを用いたCVD法により、SiO(x=1.0〜2.0)で表される酸化珪素を主成分とする薄膜を形成させることを特徴とするガスバリア性フィルムの製造方法が記載されている。特許文献2には、Cat−CVDで堆積されたSiCNFH層、SiOCNH層、およびSiCNH層のいずれかのガスバリア層を有するガスバリアフィルムが記載されている。特許文献3には、窒化珪素からなるバリア膜であって、窒素Nと珪素Siの原子比率を表す比率N/(Si+N)が0.60から0.65の間であることを特徴とするバリア膜が記載されている。 For example, Patent Document 1 discloses that a CVD method using a plasma generated under a pressure of 600 to 1520 Torr using, as a raw material, an organic silicon compound that is liquid in a temperature range of 20 to 150 ° C. on a polymer film. A method for producing a gas barrier film characterized by forming a thin film mainly composed of silicon oxide represented by x (x = 1.0 to 2.0) is described. Patent Document 2 describes a gas barrier film having a gas barrier layer of any one of a SiCNFH layer, a SiOCNH layer, and a SiCNH layer deposited by Cat-CVD. Patent Document 3 discloses a barrier film made of silicon nitride, wherein a ratio N / (Si + N) representing an atomic ratio of nitrogen N and silicon Si is between 0.60 and 0.65. A membrane is described.

また、素子本体部の上に窒化シリコン等の無機薄膜を形成し、更にその上にスピンコーティング法やディップ法により樹脂を塗布することにより、素子本体部を水分や酸素から保護する方法も提案されている。このような方法では、無機薄膜に充分なバリア性を持たせるために、緻密な無機薄膜を形成する必要があるが、素子本体部の有機材料を封止する関係で、無機薄膜の製膜温度を高くすることができない。そのため、無機薄膜に欠陥が生じたり、緻密な薄膜を形成することができなかったりするため、充分なバリア性を付与するためには無機薄膜を厚く形成する必要がある。
一方で、無機薄膜を厚くすると応力の増大などによりクラックが発生しやすくなり、却ってバリア性を低下させる問題がある。
そこで、有機材料と無機材料とを交互に積層することで、無機薄膜に生じる応力を緩和することが提案されている。
Also proposed is a method of protecting the element body from moisture and oxygen by forming an inorganic thin film such as silicon nitride on the element body and applying a resin thereon by spin coating or dipping. ing. In such a method, it is necessary to form a dense inorganic thin film in order to provide a sufficient barrier property to the inorganic thin film. However, since the organic material of the element main body is sealed, the film forming temperature of the inorganic thin film Can not be raised. For this reason, defects occur in the inorganic thin film or a dense thin film cannot be formed. Therefore, in order to provide sufficient barrier properties, it is necessary to form the inorganic thin film thickly.
On the other hand, when the inorganic thin film is thickened, cracks are likely to occur due to an increase in stress, and there is a problem that the barrier property is lowered.
Therefore, it has been proposed to relieve stress generated in an inorganic thin film by alternately laminating organic materials and inorganic materials.

例えば、特許文献4には、有機層と無機層とが交互に成膜され積層された構造を有するバリア層を備えた有機電界発光素子が記載されている。 For example, Patent Document 4 describes an organic electroluminescence device including a barrier layer having a structure in which organic layers and inorganic layers are alternately formed and laminated.

特許文献5には、交互に積層された複数のバリア層及び複数のバッファ層からなるパッシベーション層を備え、前記バリア層が、金属または半導体の活性酸化物、活性窒化物または活性酸窒化物から選択される1以上の物質を含み、前記バッファ層は、有機高分子または有機低分子を含むことを特徴とする有機EL素子が記載されている。 Patent Document 5 includes a passivation layer including a plurality of alternately stacked barrier layers and a plurality of buffer layers, and the barrier layer is selected from a metal or semiconductor active oxide, active nitride, or active oxynitride. The organic EL element is characterized in that the buffer layer contains one or more substances and the buffer layer contains an organic polymer or an organic low molecule.

特許文献6には、基材フィルム上に、少なくとも1層の無機層と少なくとも1層のアクリルモノマーの重合物を主成分とする有機層とを有するガスバリア性積層フィルムであって、前記有機層に少なくとも1種類のスルホニル基を有する二官能以上の重合性モノマーの重合生成物が含まれていることを特徴とするガスバリア性積層フィルムが記載されている。 Patent Document 6 discloses a gas barrier laminate film having, on a base film, at least one inorganic layer and at least one layer of an organic layer mainly composed of a polymer of an acrylic monomer, A gas barrier laminate film characterized by containing a polymerization product of a bifunctional or higher polymerizable monomer having at least one sulfonyl group is described.

特許文献7には、少なくとも1つの第一バリア層と少なくとも1つの第一ポリマー層とを含む第一バリアースタックを含む封入された有機発光デバイスが記載されている。 U.S. Patent No. 6,057,059 describes an encapsulated organic light emitting device that includes a first barrier stack that includes at least one first barrier layer and at least one first polymer layer.

特開平11−256338号公報JP 11-256338 A 特開2010−235979号公報JP 2010-235979 A 特開2011−231357号公報JP 2011-231357 A 特開2003−17244号公報JP 2003-17244 A 特開2007−317646号公報JP 2007-317646 A 特開2008−87163号公報JP 2008-87163 A 特表2002−532850号公報JP 2002-532850 A

特許文献4〜7に記載された有機EL素子のバリア層は、無機層と有機層とが交互に積層されたものであり、これらの有機層は2層の無機層間の密着と、無機層に生じる応力を緩和する役割で使用されている。
上記有機層には無機層との良好な密着性が必要とされるため、無機材料との密着性に重点をおいた有機材料の選定がなされており、有機層を形成する材料としては水蒸気透過性が高い有機材料が使用されているのが現状であった。
The barrier layers of the organic EL elements described in Patent Documents 4 to 7 are obtained by alternately laminating inorganic layers and organic layers, and these organic layers are adhered to the inorganic layer and bonded to the inorganic layer. Used to relieve the stress generated.
Since the organic layer needs to have good adhesion to the inorganic layer, an organic material is selected with an emphasis on adhesion to the inorganic material. At present, organic materials with high properties are used.

本発明は、上記現状に鑑みてなされたものであり、無機封止層との密着性に優れ、更に、優れた低水蒸気透過性を有する有機封止層を有する有機デバイスを提供することを目的とする。 This invention is made | formed in view of the said present condition, and is excellent in adhesiveness with an inorganic sealing layer, Furthermore, it aims at providing the organic device which has the organic sealing layer which has the outstanding low water vapor permeability. And

本発明者等は、無機封止層との密着性に優れるとともに、優れた低水蒸気透過性を有する有機封止層について鋭意検討したところ、含フッ素重合体に着目した。
含フッ素重合体は一般的に他材と密着しにくく、密着性が必要となる用途には適用しづらい。しかしながら、本発明者等の検討によって、特定の構造を有する含フッ素重合体を含む有機封止層が、無機封止層との良好な密着性を有するとともに、優れた低水蒸気透過性をも有することが見出され、本発明は完成したものである。
The inventors of the present invention have made extensive studies on an organic sealing layer having excellent adhesion to the inorganic sealing layer and having excellent low water vapor permeability.
Fluoropolymers are generally difficult to adhere to other materials and are difficult to apply to applications that require adhesion. However, as a result of studies by the present inventors, the organic sealing layer containing a fluoropolymer having a specific structure has good adhesion to the inorganic sealing layer and also has excellent low water vapor permeability. As a result, the present invention has been completed.

すなわち本発明は、無機封止層と有機封止層とが積層された積層構造を有する有機デバイスであって、上記有機封止層は、含フッ素オレフィン単位及びビニルアルコール単位を有する含フッ素共重合体を含むことを特徴とする有機デバイスである。 That is, the present invention is an organic device having a laminated structure in which an inorganic sealing layer and an organic sealing layer are laminated, and the organic sealing layer includes a fluorine-containing copolymer having a fluorine-containing olefin unit and a vinyl alcohol unit. It is an organic device characterized by including coalescence.

上記含フッ素オレフィンは、テトラフルオロエチレンであることが好ましい。 The fluorine-containing olefin is preferably tetrafluoroethylene.

上記含フッ素共重合体における含フッ素オレフィン単位の含有率は40モル%以上であることが好ましい。 It is preferable that the content rate of the fluorine-containing olefin unit in the said fluorine-containing copolymer is 40 mol% or more.

上記含フッ素共重合体における含フッ素オレフィン単位とビニルアルコール単位との交互率は94%以下であることが好ましい。 It is preferable that the alternating rate of the fluorine-containing olefin unit and the vinyl alcohol unit in the fluorine-containing copolymer is 94% or less.

上記含フッ素共重合体は、含フッ素オレフィン単位、ビニルアルコール単位及びビニルエステルモノマー単位を有することも好ましい。 The fluorine-containing copolymer preferably has a fluorine-containing olefin unit, a vinyl alcohol unit, and a vinyl ester monomer unit.

上記含フッ素共重合体は、含フッ素オレフィン単位及びビニルエステルモノマー単位を有する共重合体を水酸基化して得られた共重合体であることが好ましい。 The fluorine-containing copolymer is preferably a copolymer obtained by hydroxylating a copolymer having a fluorine-containing olefin unit and a vinyl ester monomer unit.

本発明の有機デバイスは、有機エレクトロルミネッセンス素子であることが好ましい。 The organic device of the present invention is preferably an organic electroluminescence element.

本発明によれば、無機封止層との密着性及び低水蒸気透過性に優れる有機封止層を有する有機デバイスを提供することができる。 ADVANTAGE OF THE INVENTION According to this invention, the organic device which has an organic sealing layer excellent in adhesiveness with an inorganic sealing layer and low water vapor permeability can be provided.

本発明の有機デバイス(有機EL素子)の一例を示す断面模式図である。It is a cross-sectional schematic diagram which shows an example of the organic device (organic EL element) of this invention. 本発明の有機デバイス(有機EL素子)の一例を示す断面模式図である。It is a cross-sectional schematic diagram which shows an example of the organic device (organic EL element) of this invention.

以下、本発明を具体的に説明する。 Hereinafter, the present invention will be specifically described.

本発明の有機デバイスは、無機封止層と有機封止層とが積層された積層構造を有する有機デバイスであって、上記有機封止層は、含フッ素オレフィン単位及びビニルアルコール単位を有する含フッ素共重合体を含む。 The organic device of the present invention is an organic device having a laminated structure in which an inorganic sealing layer and an organic sealing layer are stacked, and the organic sealing layer includes a fluorine-containing olefin unit and a vinyl alcohol unit. Including copolymers.

本発明の有機デバイスは、有機封止層を有する。上記有機封止層は、上記特定の含フッ素共重合体から形成されたものであるので、低水蒸気透過性に優れる。そのため、本発明の有機デバイスは有機発光層等の有機素子部が劣化しにくいものである。
また、上記有機封止層は、上記特定の含フッ素共重合体から形成されたものであるので、無機封止層との密着性に優れる。そのため、本発明の有機デバイスは耐久性にも優れる。上記有機封止層は、無機材料から形成される電極等との密着性にも優れる。
本発明の有機デバイスにおいて、無機材料から形成される無機封止層と有機封止層とを交互に積層してバリア層を形成した場合、上記有機封止層は、無機封止層との密着、無機封止層間の応力の緩和に寄与するだけでなく、優れた低水蒸気透過性をバリア層に付与することができる。
例えば、有機EL素子のバリア層には10−5オーダーの低水蒸気透過性が要求されるが、無機封止層の積層数を従来の技術より低減したとしても、優れた低水蒸気透過性を有機デバイスに付与することができ、上記要求を達成することができる。また、積層数を低減できるため、製造工程の簡略化も可能となる。
更に、上記有機封止層は、光透過性及び耐プラズマ性にも優れるため、有機デバイスに使用される封止層として特に好適である。
The organic device of the present invention has an organic sealing layer. Since the said organic sealing layer is formed from the said specific fluorine-containing copolymer, it is excellent in low water vapor permeability. Therefore, in the organic device of the present invention, the organic element part such as the organic light emitting layer is not easily deteriorated.
Moreover, since the said organic sealing layer is formed from the said specific fluorine-containing copolymer, it is excellent in adhesiveness with an inorganic sealing layer. Therefore, the organic device of the present invention is excellent in durability. The organic sealing layer is also excellent in adhesion with an electrode or the like formed from an inorganic material.
In the organic device of the present invention, when the barrier layer is formed by alternately laminating inorganic sealing layers and organic sealing layers formed of an inorganic material, the organic sealing layer is in close contact with the inorganic sealing layer. In addition to contributing to relaxation of the stress between the inorganic sealing layers, excellent low water vapor permeability can be imparted to the barrier layer.
For example, a barrier layer of an organic EL element is required to have a low water vapor permeability of the order of 10 −5 , but even if the number of inorganic sealing layers is reduced as compared with the conventional technique, an excellent low water vapor permeability is obtained. The device can be granted and the above requirements can be achieved. In addition, since the number of stacked layers can be reduced, the manufacturing process can be simplified.
Furthermore, the organic sealing layer is particularly suitable as a sealing layer used in organic devices because it is excellent in light transmittance and plasma resistance.

上記有機封止層の厚みは特に限定されず、有機デバイスの種類、構造、要求特性等により適宜設定すればよい。例えば、デバイス保護の観点からは、10nm以上であることが好ましく、50nm以上であることがより好ましい。生産性の観点からは、150μm以下であることが好ましく、100μm以下であることがより好ましく、50μm以下であることが更に好ましい。 The thickness of the organic sealing layer is not particularly limited, and may be set as appropriate depending on the type, structure, required characteristics, and the like of the organic device. For example, from the viewpoint of device protection, the thickness is preferably 10 nm or more, and more preferably 50 nm or more. From the viewpoint of productivity, it is preferably 150 μm or less, more preferably 100 μm or less, and further preferably 50 μm or less.

上記含フッ素共重合体は、含フッ素オレフィン単位及びビニルアルコール単位(−CH−CH(OH)−)を有する。 The fluorine-containing copolymer has a fluorine-containing olefin unit and a vinyl alcohol unit (—CH 2 —CH (OH) —).

上記含フッ素オレフィン単位とは、含フッ素オレフィンに基づく重合単位を表している。該含フッ素オレフィンは、フッ素原子を有する単量体である。 The said fluorine-containing olefin unit represents the polymerization unit based on a fluorine-containing olefin. The fluorine-containing olefin is a monomer having a fluorine atom.

上記含フッ素オレフィンとしては、テトラフルオロエチレン〔TFE〕、フッ化ビニリデン〔VdF〕、クロロトリフルオロエチレン〔CTFE〕、フッ化ビニル、へキサフルオロプロピレン〔HFP〕、へキサフルオロイソブテン、CH=CZ(CFn1(式中、ZはH、F又はCl、ZはH、F又はCl、n1は1〜10の整数である。)で示される単量体、CF=CF−ORf(式中、Rfは、炭素数1〜8のパーフルオロアルキル基を表す。)で表されるパーフルオロ(アルキルビニルエーテル)〔PAVE〕、及び、CF=CF−OCH−Rf(式中、Rfは、炭素数1〜5のパーフルオロアルキル基)で表されるアルキルパーフルオロビニルエーテル誘導体からなる群より選択される少なくとも1種の含フッ素オレフィンであることが好ましい。 Examples of the fluorine-containing olefin include tetrafluoroethylene [TFE], vinylidene fluoride [VdF], chlorotrifluoroethylene [CTFE], vinyl fluoride, hexafluoropropylene [HFP], hexafluoroisobutene, CH 2 = CZ. 1 (CF 2 ) n1 Z 2 (wherein Z 1 is H, F or Cl, Z 2 is H, F or Cl, and n1 is an integer of 1 to 10), CF 2 = CF-ORf 1 (wherein Rf 1 represents a perfluoroalkyl group having 1 to 8 carbon atoms) and CF 2 = CF-OCH 2 -rf 2 (wherein, Rf 2 is a perfluoroalkyl group having 1 to 5 carbon atoms) selected from the group consisting of alkyl perfluorovinyl ether derivative represented by the It is preferably be at least one kind of fluorine-containing olefin.

上記CH=CZ(CFn1で示される単量体としては、CH=CFCF、CH=CHCF、CH=CFCHF、CH=CClCF等が挙げられる。 Examples of the monomer represented by CH 2 = CZ 1 (CF 2 ) n1 Z 2 include CH 2 = CFCF 3 , CH 2 = CHCF 3 , CH 2 = CFCHF 2 and CH 2 = CClCF 3 .

上記PAVEとしては、パーフルオロ(メチルビニルエーテル)〔PMVE〕、パーフルオロ(エチルビニルエーテル)〔PEVE〕、パーフルオロ(プロピルビニルエーテル)〔PPVE〕、パーフルオロ(ブチルビニルエーテル)等が挙げられ、なかでも、PMVE、PEVE又はPPVEがより好ましい。 Examples of the PAVE include perfluoro (methyl vinyl ether) [PMVE], perfluoro (ethyl vinyl ether) [PEVE], perfluoro (propyl vinyl ether) [PPVE], perfluoro (butyl vinyl ether), etc. Among them, PMVE PEVE or PPVE is more preferable.

上記アルキルパーフルオロビニルエーテル誘導体としては、Rfが炭素数1〜3のパーフルオロアルキル基であるものが好ましく、CF=CF−OCH−CFCFがより好ましい。 As the alkyl perfluorovinyl ether derivative, those in which Rf 2 is a perfluoroalkyl group having 1 to 3 carbon atoms are preferable, and CF 2 = CF—OCH 2 —CF 2 CF 3 is more preferable.

上記含フッ素オレフィンとしては、TFE、CTFE及びHFPからなる群より選択される少なくとも1種がより好ましく、TFEが更に好ましい。 As said fluorine-containing olefin, at least 1 sort (s) selected from the group which consists of TFE, CTFE, and HFP is more preferable, and TFE is still more preferable.

上記含フッ素共重合体は、含フッ素共重合体における含フッ素オレフィン単位の含有率が40モル%以上であることが好ましく、含フッ素オレフィン単位が40モル%以上80モル%以下であり、ビニルアルコール単位が20モル%以上60モル%以下であることがより好ましい。上記含フッ素共重合体の各モノマー単位の含有率がこのような範囲であることによって、低水蒸気透過性及び無機封止層との密着性が優れた有機封止層が得られる。各モノマー単位の含有率としては、含フッ素オレフィン単位が45モル%以上75モル%以下であり、ビニルアルコール単位が25モル%以上55モル%以下であることが更に好ましく、含フッ素オレフィン単位が50モル%以上70モル%以下であり、ビニルアルコール単位が30モル%以上50モル%以下であることが特に好ましい。 The fluorine-containing copolymer preferably has a fluorine-containing olefin unit content of 40 mol% or more in the fluorine-containing copolymer, the fluorine-containing olefin unit is from 40 mol% to 80 mol%, and vinyl alcohol. More preferably, the unit is 20 mol% or more and 60 mol% or less. When the content of each monomer unit in the fluorine-containing copolymer is in such a range, an organic encapsulating layer having low water vapor permeability and excellent adhesion with the inorganic encapsulating layer can be obtained. As the content of each monomer unit, the fluorine-containing olefin unit is 45 mol% or more and 75 mol% or less, the vinyl alcohol unit is more preferably 25 mol% or more and 55 mol% or less, and the fluorine-containing olefin unit is 50 mol% or less. It is particularly preferred that the content is from mol% to 70 mol%, and the vinyl alcohol unit is from 30 mol% to 50 mol%.

上記含フッ素共重合体は、含フッ素オレフィン単位とビニルアルコール単位との交互率が94%以下であることが好ましい。交互率がこのような範囲であると、溶剤溶解性が高いという効果が得られる。より好ましくは90%以下であり、特に好ましくは80%以下である。また、好ましくは30%以上であり、より好ましくは35%以上であり、更に好ましくは40%以上である。交互率が低いと耐熱性が低下するおそれがあるため、好ましくない。 The fluorine-containing copolymer preferably has an alternating ratio of fluorine-containing olefin units and vinyl alcohol units of 94% or less. When the alternating rate is in such a range, an effect of high solvent solubility can be obtained. More preferably, it is 90% or less, and particularly preferably 80% or less. Further, it is preferably 30% or more, more preferably 35% or more, and further preferably 40% or more. If the alternating rate is low, the heat resistance may decrease, which is not preferable.

含フッ素オレフィン単位とビニルアルコール単位との交互率は、重アセトン等の含フッ素共重合体が溶解する溶媒を用いて、含フッ素共重合体のH−NMR測定を行い、以下の式より3連鎖の交互率として算出できる。
交互率(%)=C/(A+B+C)×100
A:−V−V−V−のように2つのVと結合したVの個数
B:−V−V−T−のようにVとTとに結合したVの個数
C:−T−V−T−のように2つのTに結合したVの個数
(T:含フッ素オレフィン単位、V:ビニルアルコール単位)
A、B、CのV単位の数は、H−NMR測定のビニルアルコール単位(−CH−CH(OH)−)の3級炭素に結合する主鎖のHの強度比より算出する。H−NMR測定による主鎖のHの強度比の見積もりは、水酸基化前の含フッ素共重合体で実施する。
The alternating rate of the fluorinated olefin unit and the vinyl alcohol unit was determined by performing 1 H-NMR measurement of the fluorinated copolymer using a solvent in which the fluorinated copolymer such as heavy acetone is dissolved, and calculating from the following formula: It can be calculated as the alternating rate of chain.
Alternating rate (%) = C / (A + B + C) × 100
A: The number of V combined with two Vs such as -VVVV- B: The number of V combined with V and T as -VVT- C: -TV- Number of V bonded to two T like T- (T: fluorine-containing olefin unit, V: vinyl alcohol unit)
The number of V units of A, B, and C is calculated from the intensity ratio of H of the main chain bonded to the tertiary carbon of the vinyl alcohol unit (—CH 2 —CH (OH) —) of 1 H-NMR measurement. The estimation of the strength ratio of H in the main chain by 1 H-NMR measurement is carried out with the fluorine-containing copolymer before hydroxylation.

上記含フッ素共重合体は、更に、−CH−CH(O(C=O)R)−(式中、Rは、水素原子又は炭素数1〜17の炭化水素基を表す。)で表されるビニルエステルモノマー単位を有するものであってもよい。このように、上記含フッ素共重合体が、含フッ素オレフィン単位、ビニルアルコール単位及びビニルエステルモノマー単位を有することも好ましい。そして更には、実質的に含フッ素オレフィン単位、ビニルアルコール単位及びビニルエステルモノマー単位のみからなる含フッ素オレフィン/ビニルアルコール/ビニルエステルモノマー共重合体であることもまた好ましい。 The fluorine-containing copolymer is further represented by —CH 2 —CH (O (C═O) R) — (wherein R represents a hydrogen atom or a hydrocarbon group having 1 to 17 carbon atoms). It may have a vinyl ester monomer unit. Thus, it is also preferable that the said fluorine-containing copolymer has a fluorine-containing olefin unit, a vinyl alcohol unit, and a vinyl ester monomer unit. Furthermore, it is also preferable that the copolymer is a fluorine-containing olefin / vinyl alcohol / vinyl ester monomer copolymer substantially consisting of a fluorine-containing olefin unit, a vinyl alcohol unit and a vinyl ester monomer unit.

上記ビニルエステルモノマー単位は、−CH−CH(O(C=O)R)−(式中、Rは、水素原子又は炭素数1〜17の炭化水素基を表す。)で表されるモノマー単位であるが、上記式中のRとしては、炭素数1〜11のアルキル基が好ましく、炭素数1〜5のアルキル基がより好ましい。特に好ましくは、炭素数1〜3のアルキル基である。 The vinyl ester monomer unit is a monomer represented by —CH 2 —CH (O (C═O) R) — (wherein R represents a hydrogen atom or a hydrocarbon group having 1 to 17 carbon atoms). Although it is a unit, as R in the said formula, a C1-C11 alkyl group is preferable and a C1-C5 alkyl group is more preferable. Particularly preferred is an alkyl group having 1 to 3 carbon atoms.

上記ビニルエステルモノマー単位としては、中でも、以下のビニルエステルに由来するモノマー単位などが例示される。
ギ酸ビニル、酢酸ビニル、プロピオン酸ビニル、酪酸ビニル、イソ酪酸ビニル、バレリン酸ビニル、イソバレリン酸ビニル、カプロン酸ビニル、へプチル酸ビニル、カプリル酸ビニル、ピバリン酸ビニル、ペラルゴン酸ビニル、カプリン酸ビニル、ラウリン酸ビニル、ミリスチン酸ビニル、ペンタデシル酸ビニル、パルチミン酸ビニル、マルガリン酸ビニル、ステアリン酸ビニル、オクチル酸ビニル、ベオバ−9(昭和シェル石油(株)製)、ベオバ−10(昭和シェル石油(株)製)、安息香酸ビニル、バーサチック酸ビニル。
これらの中でも、酢酸ビニル、プロピオン酸ビニル、バーサチック酸ビニルに由来するモノマー単位が好ましい。より好ましくは、酢酸ビニルモノマー単位、プロピオン酸ビニルモノマー単位であり、更に好ましくは、酢酸ビニルモノマー単位である。
Examples of the vinyl ester monomer unit include monomer units derived from the following vinyl esters.
Vinyl formate, vinyl acetate, vinyl propionate, vinyl butyrate, vinyl isobutyrate, vinyl valelate, vinyl isovalerate, vinyl caproate, vinyl heptylate, vinyl caprylate, vinyl pivalate, vinyl pelargonate, vinyl caprate, Vinyl laurate, vinyl myristate, vinyl pentadecylate, vinyl palmitate, vinyl margarate, vinyl stearate, vinyl octylate, Veova-9 (manufactured by Showa Shell Sekiyu KK), Veova-10 (Showa Shell Sekiyu KK) )), Vinyl benzoate, vinyl versatate.
Among these, monomer units derived from vinyl acetate, vinyl propionate, and vinyl versatate are preferable. More preferred are vinyl acetate monomer units and vinyl propionate monomer units, and even more preferred are vinyl acetate monomer units.

上記含フッ素共重合体が、含フッ素オレフィン単位、ビニルアルコール単位及びビニルエステルモノマー単位を有する場合の、各モノマー単位の含有率としては、含フッ素オレフィン単位が40モル%以上80モル%以下であり、ビニルアルコール単位が0モル%より多く60モル%未満であり、ビニルエステルモノマー単位が0モル%より多く60モル%未満であることが好ましい。各モノマー単位の含有率がこのような範囲であることによって、有機封止層の低水蒸気透過性及び無機材料との密着性が優れたものとなる。各モノマー単位の含有率としては、含フッ素オレフィン単位が45モル%以上75モル%以下であり、ビニルアルコール単位が5モル%以上50モル%以下であり、ビニルエステルモノマー単位が5モル%以上50モル%以下であることがより好ましく、含フッ素オレフィン単位が50モル%以上70モル%以下であり、ビニルアルコール単位が10モル%以上40モル%以下であり、ビニルエステルモノマー単位が10モル%以上40モル%以下であることが更に好ましい。 When the fluorine-containing copolymer has a fluorine-containing olefin unit, a vinyl alcohol unit, and a vinyl ester monomer unit, the content of each monomer unit is 40 mol% or more and 80 mol% or less of the fluorine-containing olefin unit. The vinyl alcohol unit is preferably more than 0 mol% and less than 60 mol%, and the vinyl ester monomer unit is preferably more than 0 mol% and less than 60 mol%. When the content of each monomer unit is in such a range, the organic water-sealing layer has low water vapor permeability and excellent adhesion with an inorganic material. As the content of each monomer unit, the fluorine-containing olefin unit is from 45 mol% to 75 mol%, the vinyl alcohol unit is from 5 mol% to 50 mol%, and the vinyl ester monomer unit is from 5 mol% to 50 mol%. More preferably, the fluorine-containing olefin unit is 50 mol% or more and 70 mol% or less, the vinyl alcohol unit is 10 mol% or more and 40 mol% or less, and the vinyl ester monomer unit is 10 mol% or more. More preferably, it is 40 mol% or less.

上記含フッ素共重合体が、含フッ素オレフィン単位、ビニルアルコール単位及びビニルエステルモノマー単位を有する場合、含フッ素オレフィン単位とビニルアルコール単位及びビニルエステルモノマー単位との交互率は、94%以下であることが好ましい。交互率がこのような範囲であると、溶剤溶解性が高いという効果が得られる。より好ましくは90%以下であり、特に好ましくは80%以下である。また、好ましくは30%以上であり、より好ましくは35%以上であり、更に好ましくは40%以上である。交互率が低いと耐熱性が低下するおそれがあるため、好ましくない。 When the fluorine-containing copolymer has a fluorine-containing olefin unit, a vinyl alcohol unit, and a vinyl ester monomer unit, the alternating rate of the fluorine-containing olefin unit, the vinyl alcohol unit, and the vinyl ester monomer unit is 94% or less. Is preferred. When the alternating rate is in such a range, an effect of high solvent solubility can be obtained. More preferably, it is 90% or less, and particularly preferably 80% or less. Further, it is preferably 30% or more, more preferably 35% or more, and further preferably 40% or more. If the alternating rate is low, the heat resistance may decrease, which is not preferable.

含フッ素オレフィン単位とビニルアルコール単位及びビニルエステルモノマー単位との交互率は、重アセトン等の含フッ素共重合体が溶解する溶媒を用いて、含フッ素共重合体のH−NMR測定を行い、以下の式より3連鎖の交互率として算出できる。
交互率(%)=C/(A+B+C)×100
A:−V−V−V−のように2つのVと結合したVの個数
B:−V−V−T−のようにVとTとに結合したVの個数
C:−T−V−T−のように2つのTに結合したVの個数
(T:含フッ素オレフィン単位、V:ビニルアルコール単位又はビニルエステルモノマー単位)
A、B、CのV単位の数は、H−NMR測定のビニルアルコール単位(−CH−CH(OH)−)及びビニルエステルモノマー単位(−CH−CH(O(C=O)R)−)の3級炭素に結合する主鎖のHの強度比より算出する。H−NMR測定による主鎖のHの強度比の見積もりは、水酸基化前の含フッ素共重合体で実施する。
The alternating rate of the fluorinated olefin unit, the vinyl alcohol unit, and the vinyl ester monomer unit is determined by performing 1 H-NMR measurement of the fluorinated copolymer using a solvent in which the fluorinated copolymer such as heavy acetone is dissolved, It can be calculated as an alternating rate of three chains from the following formula.
Alternating rate (%) = C / (A + B + C) × 100
A: The number of V combined with two Vs such as -VVVV- B: The number of V combined with V and T as -VVT- C: -TV- Number of Vs bonded to two Ts such as T- (T: fluorinated olefin unit, V: vinyl alcohol unit or vinyl ester monomer unit)
The number of V units of A, B, and C is the vinyl alcohol unit (—CH 2 —CH (OH) —) and vinyl ester monomer unit (—CH 2 —CH (O (C═O)) of 1 H-NMR measurement. Calculated from the intensity ratio of H of the main chain bonded to the tertiary carbon of R)-). The estimation of the strength ratio of H in the main chain by 1 H-NMR measurement is carried out with the fluorine-containing copolymer before hydroxylation.

上記含フッ素共重合体は、本発明の効果を損なわない範囲で、含フッ素オレフィン単位、ビニルアルコール単位及びビニルエステルモノマー単位以外の他の単量体単位を有していてもよい。 The said fluorine-containing copolymer may have other monomer units other than a fluorine-containing olefin unit, a vinyl alcohol unit, and a vinyl ester monomer unit in the range which does not impair the effect of this invention.

上記他の単量体としては、フッ素原子を含まない単量体(但し、ビニルアルコール及びビニルエステル単量体を除く)として、例えば、エチレン、プロピレン、1−ブテン、2−ブテン、塩化ビニル、塩化ビニリデン、ビニルエーテル単量体、及び、不飽和カルボン酸からなる群より選択される少なくとも1種のフッ素非含有エチレン性単量体が好ましい。 As said other monomer, as a monomer which does not contain a fluorine atom (however, except vinyl alcohol and a vinyl ester monomer), for example, ethylene, propylene, 1-butene, 2-butene, vinyl chloride, Preference is given to at least one fluorine-free ethylenic monomer selected from the group consisting of vinylidene chloride, vinyl ether monomers and unsaturated carboxylic acids.

上記他の単量体単位の合計含有率は、含フッ素共重合体の全単量体単位の0〜50モル%であることが好ましく、0〜40モル%であることがより好ましく、0〜30モル%であることが更に好ましい。 The total content of the other monomer units is preferably 0 to 50 mol%, more preferably 0 to 40 mol%, based on all monomer units of the fluorine-containing copolymer, More preferably, it is 30 mol%.

本明細書において、含フッ素共重合体を構成する各単量体単位の含有量は、NMR、FT−IR、元素分析を単量体の種類によって適宜組み合わせることで算出できる。 In the present specification, the content of each monomer unit constituting the fluorine-containing copolymer can be calculated by appropriately combining NMR, FT-IR, and elemental analysis depending on the type of monomer.

上記含フッ素共重合体の重量平均分子量は、特に制限されないが、9,000以上であることが好ましく、10,000以上であることがより好ましい。更に好ましくは、20,000〜2,000,000であり、特に好ましくは、30,000〜1,000,000である。
上記重量平均分子量は、ゲル浸透クロマトグラフィー(GPC)により求めることができる。
The weight average molecular weight of the fluorine-containing copolymer is not particularly limited, but is preferably 9,000 or more, and more preferably 10,000 or more. More preferably, it is 20,000-2,000,000, Most preferably, it is 30,000-1,000,000.
The weight average molecular weight can be determined by gel permeation chromatography (GPC).

上記含フッ素共重合体は、後述するように、含フッ素オレフィン単位及びビニルエステルモノマー単位を有する共重合体を水酸基化することにより製造することができる。すなわち、上記含フッ素共重合体が、含フッ素オレフィン単位及びビニルエステルモノマー単位を有する共重合体を水酸基化して得られた共重合体であることも好ましい。 As described later, the fluorine-containing copolymer can be produced by hydroxylating a copolymer having a fluorine-containing olefin unit and a vinyl ester monomer unit. That is, the fluorine-containing copolymer is preferably a copolymer obtained by hydroxylating a copolymer having a fluorine-containing olefin unit and a vinyl ester monomer unit.

以下に、上記含フッ素共重合体の製造方法について説明する。
通常、上記含フッ素共重合体は、テトラフルオロエチレン等の含フッ素オレフィンと酢酸ビニル等のビニルエステルモノマーとを共重合して、その後、得られた共重合体を水酸基化することにより製造することができる。上記含フッ素共重合体の交互率を94%以下とする場合には、含フッ素オレフィンとビニルエステルモノマーの組成比を、ほぼ一定に保つ条件下で重合を行うことが好ましい。すなわち、上記含フッ素共重合体は、含フッ素オレフィンとビニルエステルモノマーの組成比を、ほぼ一定に保つ条件下で重合して、含フッ素オレフィン単位とビニルエステルモノマー単位とを有する共重合体を得る工程、及び、得られた共重合体を水酸基化して、含フッ素オレフィン単位及びビニルアルコール単位を有する共重合体を得る工程、からなる製造方法により得られたものであることが好ましい。
Below, the manufacturing method of the said fluorine-containing copolymer is demonstrated.
Usually, the fluorine-containing copolymer is produced by copolymerizing a fluorine-containing olefin such as tetrafluoroethylene and a vinyl ester monomer such as vinyl acetate and then hydroxylating the obtained copolymer. Can do. When the alternation ratio of the fluorine-containing copolymer is 94% or less, it is preferable to carry out the polymerization under the condition that the composition ratio of the fluorine-containing olefin and the vinyl ester monomer is kept almost constant. That is, the above-mentioned fluorine-containing copolymer is polymerized under a condition in which the composition ratio of the fluorine-containing olefin and the vinyl ester monomer is kept almost constant to obtain a copolymer having a fluorine-containing olefin unit and a vinyl ester monomer unit. It is preferably obtained by a production method comprising a step and a step of obtaining a copolymer having a fluorine-containing olefin unit and a vinyl alcohol unit by hydroxylating the obtained copolymer.

上記ビニルエステルモノマーとしては、ギ酸ビニル、酢酸ビニル、プロピオン酸ビニル、酪酸ビニル、イソ酪酸ビニル、バレリン酸ビニル、イソバレリン酸ビニル、カプロン酸ビニル、へプチル酸ビニル、カプリル酸ビニル、ピバリン酸ビニル、ペラルゴン酸ビニル、カプリン酸ビニル、ラウリン酸ビニル、ミリスチン酸ビニル、ペンタデシル酸ビニル、パルチミン酸ビニル、マルガリン酸ビニル、ステアリン酸ビニル、オクチル酸ビニル、ベオバ−9(昭和シェル石油(株)製)、ベオバ−10(昭和シェル石油(株)製)、安息香酸ビニル、バーサチック酸ビニル等が挙げられるが、中でも入手が容易で安価である点から、酢酸ビニル、プロピオン酸ビニル、バーサチック酸ビニルが好ましく用いられる。
上記ビニルエステルモノマーとしてはこれらの1種を用いてもよいし、2種以上を混合して用いてもよい。
Examples of the vinyl ester monomers include vinyl formate, vinyl acetate, vinyl propionate, vinyl butyrate, vinyl isobutyrate, vinyl valerate, vinyl isovalerate, vinyl caproate, vinyl heptylate, vinyl caprylate, vinyl pivalate, pelargon. Vinyl acetate, vinyl caprate, vinyl laurate, vinyl myristate, vinyl pentadecylate, vinyl palmitate, vinyl margarate, vinyl stearate, vinyl octylate, Veova-9 (manufactured by Showa Shell Sekiyu KK), Veova 10 (manufactured by Showa Shell Sekiyu KK), vinyl benzoate, vinyl versatate, and the like. Of these, vinyl acetate, vinyl propionate, and vinyl versatate are preferably used because they are easily available and inexpensive.
As said vinyl ester monomer, 1 type of these may be used and 2 or more types may be mixed and used.

含フッ素オレフィンとビニルエステルモノマーとを共重合させる方法としては、溶液重合、塊状重合、乳化重合、懸濁重合等の重合方法を挙げることができ、工業的に実施が容易であることから乳化重合、溶液重合又は懸濁重合により製造することが好ましいが、この限りではない。 Examples of the method of copolymerizing the fluorinated olefin and the vinyl ester monomer include solution polymerization, bulk polymerization, emulsion polymerization, suspension polymerization and the like, and emulsion polymerization is easy because it is industrially easy to implement. However, it is preferable to produce by solution polymerization or suspension polymerization, but not limited thereto.

乳化重合、溶液重合又は懸濁重合においては、重合開始剤、溶媒、連鎖移動剤、界面活性剤、分散剤等を使用することができ、それぞれ通常用いられるものを使用することができる。 In emulsion polymerization, solution polymerization, or suspension polymerization, a polymerization initiator, a solvent, a chain transfer agent, a surfactant, a dispersant, and the like can be used, and those usually used can be used.

溶液重合において使用する溶媒は、含フッ素オレフィンとビニルエステルモノマー、及び、合成される含フッ素共重合体を溶解することができるものが好ましく、例えば、酢酸n−ブチル、酢酸t−ブチル、酢酸エチル、酢酸メチル、酢酸プロピル等のエステル類;アセトン、メチルエチルケトン、シクロヘキサノン等のケトン類;ヘキサン、シクロヘキサン、オクタン等の脂肪族炭化水素類;ベンゼン、トルエン、キシレン等の芳香族炭化水素類;メタノール、エタノール、tert−ブタノール、イソプロパノール等のアルコール類;テトラヒドロフラン、ジオキサン等の環状エーテル類;HCFC−225等の含フッ素溶媒;ジメチルスルホキシド、ジメチルホルムアミド、又はこれらの混合物等が挙げられる。
乳化重合において使用する溶媒としては、例えば、水、水とアルコールとの混合溶媒等が挙げられる。
The solvent used in the solution polymerization is preferably a solvent capable of dissolving the fluorine-containing olefin, the vinyl ester monomer, and the fluorine-containing copolymer to be synthesized. For example, n-butyl acetate, t-butyl acetate, ethyl acetate Esters such as methyl acetate and propyl acetate; Ketones such as acetone, methyl ethyl ketone and cyclohexanone; Aliphatic hydrocarbons such as hexane, cyclohexane and octane; Aromatic hydrocarbons such as benzene, toluene and xylene; Methanol and ethanol Alcohols such as tert-butanol and isopropanol; cyclic ethers such as tetrahydrofuran and dioxane; fluorine-containing solvents such as HCFC-225; dimethyl sulfoxide, dimethylformamide, and mixtures thereof.
Examples of the solvent used in the emulsion polymerization include water, a mixed solvent of water and alcohol, and the like.

上記重合開始剤としては、例えば、ジイソプロピルパーオキシジカーボネート(IPP)、ジ−n−プロピルパーオキシジカーボネート(NPP)等のパーオキシカーボネート類に代表される油溶性ラジカル重合開始剤や、例えば、過硫酸、過ホウ酸、過塩素酸、過リン酸、過炭酸のアンモニウム塩、カリウム塩、ナトリウム塩等の水溶性ラジカル重合開始剤等を使用できる。特に乳化重合においては、過硫酸アンモニウム、過硫酸カリウムが好ましい。 Examples of the polymerization initiator include oil-soluble radical polymerization initiators typified by peroxycarbonates such as diisopropyl peroxydicarbonate (IPP) and di-n-propyl peroxydicarbonate (NPP). Water-soluble radical polymerization initiators such as persulfuric acid, perboric acid, perchloric acid, perphosphoric acid, ammonium percarbonate, potassium salt and sodium salt can be used. Particularly in emulsion polymerization, ammonium persulfate and potassium persulfate are preferred.

上記界面活性剤としては、通常用いられる界面活性剤が使用でき、例えば、非イオン性界面活性剤、アニオン性界面活性剤、カチオン性界面活性剤等が使用できる。また、含フッ素系界面活性剤を用いてもよい。 As the surfactant, a commonly used surfactant can be used. For example, a nonionic surfactant, an anionic surfactant, a cationic surfactant and the like can be used. Moreover, you may use a fluorine-containing surfactant.

懸濁重合においては、分散剤を使用してもよい。分散剤としては、通常の懸濁重合に用いられる部分鹸化ポリ酢酸ビニル、メチルセルロース、ヒドロキシエチルセルロース、ヒドロキシプロピルセルロース、ヒドロキシプロピルメチルセルロースなどの水溶性セルロースエーテル、アクリル酸系重合体、ゼラチンなどの水溶性ポリマーを例示できる。懸濁重合は、水/単量体の比率が通常重量比で1.5/1〜3/1である条件で行なわれ、分散剤は単量体100重量部に対し0.01〜0.1重量部が用いられる。また、必要に応じて、ポリリン酸塩のようなpH緩衝剤を用いることもできる。 In the suspension polymerization, a dispersant may be used. Dispersants include water-soluble cellulose ethers such as partially saponified polyvinyl acetate, methylcellulose, hydroxyethylcellulose, hydroxypropylcellulose, and hydroxypropylmethylcellulose used in ordinary suspension polymerization, water-soluble polymers such as acrylic acid polymers, and gelatin. Can be illustrated. Suspension polymerization is carried out under the condition that the ratio of water / monomer is usually 1.5 / 1 to 3/1 in terms of weight ratio, and the dispersant is 0.01 to 0. 1 part by weight is used. If necessary, a pH buffer such as polyphosphate can be used.

上記連鎖移動剤としては、例えば、エタン、イソペンタン、n−ヘキサン、シクロヘキサン等の炭化水素類;トルエン、キシレン等の芳香族類;アセトン等のケトン類;酢酸エチル、酢酸ブチル等の酢酸エステル類;メタノール、エタノール等のアルコール類;メチルメルカプタン等のメルカプタン類;四塩化炭素、クロロホルム、塩化メチレン、塩化メチル等のハロゲン化炭化水素等が挙げられる。
上記連鎖移動剤の添加量は用いる化合物の連鎖移動定数の大きさにより変わりうるが、通常重合溶媒に対して0.001〜10質量%の範囲で使用される。
Examples of the chain transfer agent include hydrocarbons such as ethane, isopentane, n-hexane, and cyclohexane; aromatics such as toluene and xylene; ketones such as acetone; and acetates such as ethyl acetate and butyl acetate; Examples include alcohols such as methanol and ethanol; mercaptans such as methyl mercaptan; halogenated hydrocarbons such as carbon tetrachloride, chloroform, methylene chloride, and methyl chloride.
The amount of the chain transfer agent added may vary depending on the size of the chain transfer constant of the compound used, but is usually used in the range of 0.001 to 10% by mass relative to the polymerization solvent.

重合温度としては、含フッ素オレフィンとビニルエステルモノマーの反応中の組成比がほぼ一定になる範囲であればよく、0〜100℃であってよい。 The polymerization temperature may be in a range where the composition ratio during the reaction of the fluorinated olefin and the vinyl ester monomer is substantially constant, and may be 0 to 100 ° C.

重合圧力としては、含フッ素オレフィンとビニルエステルモノマーの反応中の組成比がほぼ一定になる範囲であればよく、0〜10MPaGであってよい。 The polymerization pressure may be in a range in which the composition ratio during the reaction of the fluorinated olefin and the vinyl ester monomer is substantially constant, and may be 0 to 10 MPaG.

酢酸ビニルに由来するアセテート基の水酸基化は従来よく知られており、アルコリシス、酸や塩基を用いた加水分解等の従来公知の方法によって行うことができる。この中で塩基を用いた加水分解を一般にケン化と呼ばれているが、この明細書においては、以降、ビニルエステルモノマーの水酸基化を方法によらず、ケン化と呼ぶ。このケン化によって、アセテート基(−OCOCH)は、水酸基(−OH)に変換される。他のビニルエステルモノマーにおいても同様に、従来公知の方法によってケン化され、水酸基を得ることができる。 Hydroxylation of an acetate group derived from vinyl acetate is well known in the art, and can be performed by a conventionally known method such as alcoholysis or hydrolysis using an acid or base. Of these, hydrolysis using a base is generally called saponification. In this specification, however, hydroxylation of a vinyl ester monomer is hereinafter called saponification regardless of the method. By this saponification, the acetate group (—OCOCH 3 ) is converted into a hydroxyl group (—OH). Similarly, other vinyl ester monomers can be saponified by a conventionally known method to obtain a hydroxyl group.

含フッ素オレフィン単位とビニルエステルモノマー単位とを有する共重合体をケン化して上記含フッ素共重合体を得る場合のケン化度は、上記含フッ素共重合体の各モノマー単位の含有率が上述した範囲となるような範囲であればよく、具体的には50%以上が好ましく、60%以上がより好ましく、70%以上が更に好ましい。 The degree of saponification in the case of obtaining the above-mentioned fluorine-containing copolymer by saponifying a copolymer having a fluorine-containing olefin unit and a vinyl ester monomer unit is the content of each monomer unit of the fluorine-containing copolymer described above. The range may be within the range, specifically 50% or more is preferable, 60% or more is more preferable, and 70% or more is more preferable.

上記ケン化度は、含フッ素共重合体のIR測定又はH−NMR測定により、以下の式から算出される。
ケン化度(%)=D/(D+E)×100
D:含フッ素共重合体中のビニルアルコール単位数
E:含フッ素共重合体中のビニルエステルモノマー単位数
The saponification degree is calculated from the following equation by IR measurement or 1 H-NMR measurement of the fluorine-containing copolymer.
Saponification degree (%) = D / (D + E) × 100
D: number of vinyl alcohol units in the fluorinated copolymer E: number of vinyl ester monomer units in the fluorinated copolymer

上記含フッ素共重合体は、含フッ素オレフィンと脱保護反応によりビニルアルコールに変換されうる保護基(R)が結合したビニルエーテル単量体(CH=CH−OR)(以下、単にビニルエーテル単量体と記述する)とを共重合させて含フッ素オレフィン/ビニルエーテル共重合体を得る工程、及び、上記含フッ素オレフィン/ビニルエーテル共重合体を脱保護することにより含フッ素オレフィン/ビニルアルコール共重合体を得る工程、からなる製造方法によっても得ることができる。 The fluorine-containing copolymer is a vinyl ether monomer (CH 2 = CH-OR) (hereinafter simply referred to as a vinyl ether monomer) in which a fluorine-containing olefin and a protecting group (R) that can be converted to vinyl alcohol by a deprotection reaction are bonded. To obtain a fluorinated olefin / vinyl ether copolymer, and deprotecting the fluorinated olefin / vinyl ether copolymer to obtain a fluorinated olefin / vinyl alcohol copolymer. It can also be obtained by a production method comprising steps.

上記含フッ素オレフィンとビニルエーテル単量体とを共重合させる方法、及び、上記含フッ素オレフィン/ビニルエーテル共重合体を脱保護する方法は、従来からよく知られており、従来公知の方法を本発明でも行うことができる。含フッ素オレフィン/ビニルエーテル共重合体を脱保護反応させることによって、保護基アルコキシ基が水酸基に変換され、含フッ素オレフィン/ビニルアルコール共重合体が得られる。 A method for copolymerizing the fluorinated olefin and the vinyl ether monomer and a method for deprotecting the fluorinated olefin / vinyl ether copolymer are well known in the art. It can be carried out. By deprotecting the fluorinated olefin / vinyl ether copolymer, the protecting group alkoxy group is converted to a hydroxyl group, and a fluorinated olefin / vinyl alcohol copolymer is obtained.

上記含フッ素オレフィンとビニルエーテル単量体とを共重合させて得られる含フッ素オレフィン/ビニルエーテル共重合体は、含フッ素オレフィンとビニルエーテル単量体とのモル比である(含フッ素オレフィン)/(ビニルエーテル単量体)が(40〜60)/(60〜40)であることが好ましく、(45〜55)/(55〜45)であることがより好ましい。モル比が上記範囲内にあって、かつ、脱保護が後述の範囲内にあることにより、各重合単位のモル比が上述した範囲にある含フッ素共重合体を製造することができる。 The fluorine-containing olefin / vinyl ether copolymer obtained by copolymerizing the fluorine-containing olefin and the vinyl ether monomer is a molar ratio of the fluorine-containing olefin and the vinyl ether monomer (fluorine-containing olefin) / (vinyl ether unit The (mer) is preferably (40-60) / (60-40), and more preferably (45-55) / (55-45). When the molar ratio is in the above range and the deprotection is in the range described later, a fluorinated copolymer in which the molar ratio of each polymer unit is in the above range can be produced.

上記含フッ素オレフィン/ビニルエーテル共重合体の脱保護は、脱保護度が1〜100%になるように行うことが好ましく、30〜100%になるように行うことがより好ましい。 The deprotection of the fluorinated olefin / vinyl ether copolymer is preferably performed so that the degree of deprotection is 1 to 100%, and more preferably 30 to 100%.

上記脱保護度は、H−NMRにより、脱保護前後での2.1ppm付近のアセチル基(CHC(=O)O−)由来のプロトンの積分値と、0.8〜1.8ppmの主鎖メチレン基(−CH−CH−)由来のプロトンの積分値を定量することにより測定できる。
H−NMR:Varian社製のGEMINI−300
The degree of deprotection is determined by 1 H-NMR, the integrated value of protons derived from an acetyl group (CH 3 C (═O) O—) near 2.1 ppm before and after deprotection, and 0.8 to 1.8 ppm. It can be measured by quantifying the integral value of protons derived from the main chain methylene group (—CH 2 —CH—).
1 H-NMR: GEMINI-300 manufactured by Varian

上記ビニルエーテル単量体は、フッ素原子を含まないことが好ましい。当該ビニルエーテル単量体としては、脱保護されるものであれば特に制限はないが、入手の容易さから、ターシャルブチルビニルエーテルが好ましい。 The vinyl ether monomer preferably does not contain a fluorine atom. The vinyl ether monomer is not particularly limited as long as it is deprotected, but tertiary butyl vinyl ether is preferable from the viewpoint of availability.

上記含フッ素共重合体が、含フッ素オレフィン単位、ビニルアルコール単位及びビニルエーテル単位を有する場合、含フッ素オレフィン単位とビニルアルコール単位及びビニルエーテル単位との交互率は、94%以下であることが好ましい。交互率がこのような範囲であると、溶剤溶解性が高いという効果が得られる。また、好ましくは30%以上であり、より好ましくは35%以上であり、更に好ましくは40%である。交互率が低いと耐熱性が低下して好ましくない。 When the said fluorine-containing copolymer has a fluorine-containing olefin unit, a vinyl alcohol unit, and a vinyl ether unit, it is preferable that the alternating rate of a fluorine-containing olefin unit, a vinyl alcohol unit, and a vinyl ether unit is 94% or less. When the alternating rate is in such a range, an effect of high solvent solubility can be obtained. Further, it is preferably 30% or more, more preferably 35% or more, and further preferably 40%. If the alternating rate is low, the heat resistance is lowered, which is not preferable.

含フッ素オレフィン単位とビニルアルコール単位及びビニルエーテル単位との交互率は、重アセトン等の含フッ素共重合体が溶解する溶媒を用いて、含フッ素共重合体のH−NMR測定を行い、以下の式より3連鎖の交互率として算出できる。
交互率(%)=C/(A+B+C)×100
A:−V−V−V−のように2つのVと結合したVの個数
B:−V−V−T−のようにVとTとに結合したVの個数
C:−T−V−T−のように2つのTに結合したVの個数
(T:含フッ素オレフィン単位、V:ビニルアルコール単位又はビニルエーテル単位)
A、B、CのV単位の数は、H−NMR測定のビニルアルコール単位(−CH−CH(OH)−)及びビニルエーテル単位(−CH−CH(OR))の3級炭素に結合する主鎖のHの強度比より算出する。H−NMR測定による主鎖のHの強度比の見積もりは、水酸基化前の含フッ素共重合体で実施する。
The alternating rate of the fluorinated olefin unit, the vinyl alcohol unit and the vinyl ether unit was measured by 1 H-NMR measurement of the fluorinated copolymer using a solvent in which the fluorinated copolymer such as heavy acetone was dissolved. It can be calculated as an alternating rate of three chains from the equation.
Alternating rate (%) = C / (A + B + C) × 100
A: The number of V combined with two Vs such as -VVVV- B: The number of V combined with V and T as -VVT- C: -TV- Number of Vs bonded to two Ts such as T- (T: fluorine-containing olefin unit, V: vinyl alcohol unit or vinyl ether unit)
The number of V units of A, B, and C is the tertiary carbon of vinyl alcohol unit (—CH 2 —CH (OH) —) and vinyl ether unit (—CH 2 —CH (OR)) measured by 1 H-NMR. It calculates from the intensity ratio of H of the main chain to couple | bond. The estimation of the strength ratio of H in the main chain by 1 H-NMR measurement is carried out with the fluorine-containing copolymer before hydroxylation.

上記含フッ素オレフィンとビニルエーテル単量体とを共重合させる方法としては、溶液重合、塊状重合、乳化重合、懸濁重合等の重合方法を挙げることができ、工業的に実施が容易であることから乳化重合、溶液重合又は懸濁重合により製造することが好ましいが、この限りではない。 Examples of the method for copolymerizing the fluorine-containing olefin and the vinyl ether monomer include solution polymerization, bulk polymerization, emulsion polymerization, suspension polymerization, and the like, which are industrially easy to implement. Although it is preferable to manufacture by emulsion polymerization, solution polymerization, or suspension polymerization, it is not this limitation.

上記乳化重合、溶液重合又は懸濁重合においては、重合開始剤、溶媒、連鎖移動剤、界面活性剤、分散剤等を使用することができ、それぞれ通常用いられるものを使用することができる。 In the above emulsion polymerization, solution polymerization or suspension polymerization, a polymerization initiator, a solvent, a chain transfer agent, a surfactant, a dispersant and the like can be used, and those usually used can be used.

上記溶液重合において使用する溶媒は、含フッ素オレフィンとビニルエーテル単量体、及び、合成される含フッ素共重合体を溶解することができるものが好ましく、例えば、酢酸n−ブチル、酢酸t−ブチル、酢酸エチル、酢酸メチル、酢酸プロピル等のエステル類;アセトン、メチルエチルケトン、シクロヘキサノン等のケトン類;ヘキサン、シクロヘキサン、オクタン等の脂肪族炭化水素類;ベンゼン、トルエン、キシレン等の芳香族炭化水素類;メタノール、エタノール、tert−ブタノール、イソプロパノール等のアルコール類;テトラヒドロフラン、ジオキサン等の環状エーテル類;HCFC−225等の含フッ素溶媒;ジメチルスルホキシド、ジメチルホルムアミド、又はこれらの混合物等が挙げられる。
乳化重合において使用する溶媒としては、例えば、水、水とアルコールとの混合溶媒等が挙げられる。
The solvent used in the solution polymerization is preferably a solvent capable of dissolving the fluorine-containing olefin, the vinyl ether monomer, and the fluorine-containing copolymer to be synthesized. For example, n-butyl acetate, t-butyl acetate, Esters such as ethyl acetate, methyl acetate and propyl acetate; Ketones such as acetone, methyl ethyl ketone and cyclohexanone; Aliphatic hydrocarbons such as hexane, cyclohexane and octane; Aromatic hydrocarbons such as benzene, toluene and xylene; Methanol Alcohols such as ethanol, tert-butanol and isopropanol; cyclic ethers such as tetrahydrofuran and dioxane; fluorine-containing solvents such as HCFC-225; dimethyl sulfoxide, dimethylformamide, and mixtures thereof.
Examples of the solvent used in the emulsion polymerization include water, a mixed solvent of water and alcohol, and the like.

上記重合開始剤としては、例えば、ジイソプロピルパーオキシジカーボネート(IPP)、ジ−n−プロピルパーオキシジカーボネート(NPP)等のパーオキシカーボネート類に代表される油溶性ラジカル重合開始剤や、例えば、過硫酸、過ホウ酸、過塩素酸、過リン酸、過炭酸のアンモニウム塩、カリウム塩、ナトリウム塩等の水溶性ラジカル重合開始剤等を使用できる。特に乳化重合においては、過硫酸アンモニウム、過硫酸カリウムが好ましい。 Examples of the polymerization initiator include oil-soluble radical polymerization initiators typified by peroxycarbonates such as diisopropyl peroxydicarbonate (IPP) and di-n-propyl peroxydicarbonate (NPP). Water-soluble radical polymerization initiators such as persulfuric acid, perboric acid, perchloric acid, perphosphoric acid, ammonium percarbonate, potassium salt and sodium salt can be used. Particularly in emulsion polymerization, ammonium persulfate and potassium persulfate are preferred.

上記界面活性剤としては、通常用いられる界面活性剤が使用でき、例えば、非イオン性界面活性剤、アニオン性界面活性剤、カチオン性界面活性剤等が使用できる。また、含フッ素系界面活性剤を用いてもよい。 As the surfactant, a commonly used surfactant can be used. For example, a nonionic surfactant, an anionic surfactant, a cationic surfactant and the like can be used. Moreover, you may use a fluorine-containing surfactant.

懸濁重合においては、分散剤を使用してもよい。分散剤としては、通常の懸濁重合に用いられる部分鹸化ポリ酢酸ビニル、メチルセルロース、ヒドロキシエチルセルロース、ヒドロキシプロピルセルロース、ヒドロキシプロピルメチルセルロースなどの水溶性セルロースエーテル、アクリル酸系重合体、ゼラチンなどの水溶性ポリマーを例示できる。懸濁重合は、水/単量体の比率が通常重量比で1.5/1〜3/1である条件で行なわれ、分散剤は単量体100重量部に対し0.01〜0.1重量部が用いられる。また、必要に応じて、ポリリン酸塩のようなpH緩衝剤を用いることもできる。 In the suspension polymerization, a dispersant may be used. Dispersants include water-soluble cellulose ethers such as partially saponified polyvinyl acetate, methylcellulose, hydroxyethylcellulose, hydroxypropylcellulose, and hydroxypropylmethylcellulose used in ordinary suspension polymerization, water-soluble polymers such as acrylic acid polymers, and gelatin. Can be illustrated. Suspension polymerization is carried out under the condition that the ratio of water / monomer is usually 1.5 / 1 to 3/1 in terms of weight ratio, and the dispersant is 0.01 to 0.00 per 100 parts by weight of monomer. 1 part by weight is used. If necessary, a pH buffer such as polyphosphate can be used.

上記連鎖移動剤としては、例えば、エタン、イソペンタン、n−ヘキサン、シクロヘキサン等の炭化水素類;トルエン、キシレン等の芳香族類;アセトン等のケトン類;酢酸エチル、酢酸ブチル等の酢酸エステル類;メタノール、エタノール等のアルコール類;メチルメルカプタン等のメルカプタン類;四塩化炭素、クロロホルム、塩化メチレン、塩化メチル等のハロゲン化炭化水素等が挙げられる。
上記連鎖移動剤の添加量は用いる化合物の連鎖移動定数の大きさにより変わりうるが、通常重合溶媒に対して0.001〜10質量%の範囲で使用される。
Examples of the chain transfer agent include hydrocarbons such as ethane, isopentane, n-hexane, and cyclohexane; aromatics such as toluene and xylene; ketones such as acetone; and acetates such as ethyl acetate and butyl acetate; Examples include alcohols such as methanol and ethanol; mercaptans such as methyl mercaptan; halogenated hydrocarbons such as carbon tetrachloride, chloroform, methylene chloride, and methyl chloride.
The amount of the chain transfer agent added may vary depending on the size of the chain transfer constant of the compound used, but is usually used in the range of 0.001 to 10% by mass relative to the polymerization solvent.

重合温度としては、含フッ素オレフィンとビニルエーテル単量体の反応中の組成比がほぼ一定になる範囲であればよく、0〜100℃であってよい。 The polymerization temperature may be in a range in which the composition ratio during the reaction of the fluorinated olefin and the vinyl ether monomer is substantially constant, and may be 0 to 100 ° C.

重合圧力としては、含フッ素オレフィンとビニルエーテル単量体の反応中の組成比がほぼ一定になる範囲であればよく、0〜10MPaGであってよい。 The polymerization pressure may be in a range where the composition ratio during the reaction of the fluorinated olefin and the vinyl ether monomer is substantially constant, and may be 0 to 10 MPaG.

上記ビニルエーテル単量体の脱保護は、酸、熱、光等の従来公知の方法によって行うことができる。この脱保護によって、脱離基(例えば、−C(CH)は、水素に置換され、水酸基を得ることができる。 The deprotection of the vinyl ether monomer can be performed by a conventionally known method such as acid, heat or light. By this deprotection, the leaving group (for example, —C (CH 3 ) 3 ) can be replaced with hydrogen to obtain a hydroxyl group.

上記含フッ素オレフィン単位とビニルエーテル単量体単位とを有する共重合体を脱保護して上記含フッ素共重合体を得る場合の脱保護度は、上記含フッ素共重合体の各モノマー単位の含有率が上述した範囲となるような範囲であればよく、具体的には50%以上が好ましく、60%以上がより好ましく、70%以上が更に好ましい。 The degree of deprotection in the case of obtaining the above-mentioned fluorine-containing copolymer by deprotecting the copolymer having the above-mentioned fluorine-containing olefin unit and vinyl ether monomer unit is the content of each monomer unit of the above-mentioned fluorine-containing copolymer. Is within the range described above, specifically 50% or more is preferable, 60% or more is more preferable, and 70% or more is more preferable.

上記脱保護度は、含フッ素共重合体のIR測定又は前述のH−NMR測定により、以下の式から算出される。
脱保護度(%)=D/(D+E)×100
D:含フッ素共重合体中のビニルアルコール単位数
E:含フッ素共重合体中のビニルエーテル単量体単位数
The degree of deprotection is calculated from the following formula by IR measurement of the fluorine-containing copolymer or the above-mentioned 1 H-NMR measurement.
Deprotection degree (%) = D / (D + E) × 100
D: Number of vinyl alcohol units in the fluorinated copolymer E: Number of vinyl ether monomer units in the fluorinated copolymer

上記有機封止層は、含フッ素オレフィン単位及びビニルアルコール単位を有する含フッ素共重合体を含む有機デバイス封止剤から形成できる。
上記有機デバイス封止剤は、溶剤型塗料、水性型塗料、粉体塗料等の形態に、常法により調製することができる。なかでも成膜の容易さ、乾燥性の良好さ等の点からは溶剤型塗料の形態が好ましい。
すなわち、上記有機デバイス封止剤は、更に、溶剤を含むことが好ましい。溶剤を含むことにより、薄膜コーティングが一層容易になり、得られる塗膜を一層薄膜化することができる。
The organic sealing layer can be formed from an organic device sealing agent containing a fluorine-containing copolymer having a fluorine-containing olefin unit and a vinyl alcohol unit.
The organic device sealant can be prepared in a conventional manner in the form of a solvent-type paint, a water-type paint, a powder paint, or the like. Among these, the form of a solvent-type paint is preferable from the viewpoint of easy film formation and good drying properties.
That is, it is preferable that the organic device sealing agent further contains a solvent. By including a solvent, thin film coating becomes easier and the resulting coating film can be made thinner.

上記溶剤としては、有機溶剤が好ましく、酢酸エチル、酢酸ブチル、酢酸イソプロピル、酢酸イソブチル、酢酸セロソルブ、プロピレングリコールメチルエーテルアセテート等のエステル類;アセトン、メチルエチルケトン、メチルイソブチルケトン、シクロヘキサノン等のケトン類;テトラヒドロフラン、ジオキサン等の環状エーテル類;N,N−ジメチルホルムアミド、N,N−ジメチルアセトアミド等のアミド類;キシレン、トルエン、ソルベントナフサ等の芳香族炭化水素類;プロピレングリコールメチルエーテル、エチルセロソルブ等のグリコールエーテル類;カルビトールアセテート等のジエチレングリコールエステル類;n−ペンタン、n−ヘキサン、n−ヘプタン、n−オクタン、n−ノナン、n−デカン、n−ウンデカン、n−ドデカン、ミネラルスピリット等の脂肪族炭化水素類;これらの混合溶剤等が挙げられる。
中でも、エステル類が好ましく、酢酸ブチルが特に好ましい。
The solvent is preferably an organic solvent, esters such as ethyl acetate, butyl acetate, isopropyl acetate, isobutyl acetate, cellosolve acetate, propylene glycol methyl ether acetate; ketones such as acetone, methyl ethyl ketone, methyl isobutyl ketone, cyclohexanone; tetrahydrofuran Cyclic ethers such as dioxane; amides such as N, N-dimethylformamide and N, N-dimethylacetamide; aromatic hydrocarbons such as xylene, toluene and solvent naphtha; glycols such as propylene glycol methyl ether and ethyl cellosolve Ethers; diethylene glycol esters such as carbitol acetate; n-pentane, n-hexane, n-heptane, n-octane, n-nonane, n-decane, n-undecane n- dodecane, aliphatic hydrocarbons such as mineral spirit; a mixed solvent, and the like.
Of these, esters are preferable, and butyl acetate is particularly preferable.

上記有機デバイス封止剤を溶剤型塗料とする場合、有機デバイス封止剤の総量100質量%に対する含フッ素共重合体の濃度を0.1〜95質量%とすることが好ましく、10〜70質量%とすることがより好ましい。 When the organic device sealant is a solvent-type paint, the concentration of the fluorinated copolymer with respect to the total amount of the organic device sealant of 100% by mass is preferably 0.1 to 95% by mass, and 10 to 70% by mass. % Is more preferable.

上記有機デバイス封止剤には、本発明の効果を損なわない範囲で、要求特性に応じて、含フッ素重合体に加えて、更に、各種の添加剤を配合することができる。添加剤としては、シランカップリング剤、無機充填剤、硬化剤、硬化触媒等が挙げられる。上記硬化剤としては、イソシアネート系硬化剤、アミノ樹脂系硬化剤等が挙げられる。 In the organic device sealing agent, various additives can be further blended in addition to the fluorinated polymer in accordance with the required properties within a range not impairing the effects of the present invention. Examples of the additive include a silane coupling agent, an inorganic filler, a curing agent, and a curing catalyst. Examples of the curing agent include isocyanate curing agents and amino resin curing agents.

上記有機デバイス封止剤から有機封止層を形成する方法としては、塗布による方法、真空成膜法等を挙げることができる。
塗布により有機封止層を形成する場合、従来用いられる種々の塗布方法、例えば、スピンコート、ロールコート、グラビアコート、ナイフコート、ディップコート、カーテンフローコート、スプレーコート、バーコート等の方法を用いることができる。
真空成膜法としては、例えば、真空蒸着、分子線蒸着(MBE)、イオンプレーティング、イオンビーム蒸着、コンベンショナル・スパッタリング、マグネトロン・スパッタリング、イオンビーム・スパッタリング、ECRスパッタリング等の成膜方法が好ましく、成膜速度を制御しやすい抵抗加熱蒸着法がより好ましい。
上記有機封止層を形成する方法としては、プロセスの簡便さの観点から、塗布による方法が好ましく、スピンコート法がより好ましい。
Examples of the method for forming the organic sealing layer from the organic device sealing agent include a coating method and a vacuum film forming method.
When the organic sealing layer is formed by coating, various conventionally used coating methods such as spin coating, roll coating, gravure coating, knife coating, dip coating, curtain flow coating, spray coating, and bar coating are used. be able to.
As the vacuum film formation method, for example, film formation methods such as vacuum evaporation, molecular beam evaporation (MBE), ion plating, ion beam evaporation, conventional sputtering, magnetron sputtering, ion beam sputtering, and ECR sputtering are preferable. A resistance heating vapor deposition method that allows easy control of the deposition rate is more preferred.
As a method of forming the organic sealing layer, a method by coating is preferable from the viewpoint of simplicity of the process, and a spin coating method is more preferable.

本発明の有機デバイスは、有機封止層と無機封止層とが積層された積層構造を有する。上記有機封止層は、無機封止層との密着性に優れるため、無機封止層と併用することによって特に優れた低水蒸気透過性を有機デバイスに付与することができる。
本発明の有機デバイスは、1層の有機封止層と1層の無機封止層が積層されたものであってもよいし、2層以上の有機封止層と2層以上の無機封止層とが交互に積層されたものであってもよい。
有機封止層の積層数は、要求される低水蒸気透過性や、有機封止層及び無機封止層の厚みに応じて適宜設定すればよいが、例えば、1〜10であることが好ましい。
無機封止層の積層数も同様に、1〜10であることが好ましい。
The organic device of the present invention has a stacked structure in which an organic sealing layer and an inorganic sealing layer are stacked. Since the said organic sealing layer is excellent in adhesiveness with an inorganic sealing layer, it can provide especially excellent low water vapor permeability to an organic device by using together with an inorganic sealing layer.
The organic device of the present invention may be a laminate of one organic sealing layer and one inorganic sealing layer, or two or more organic sealing layers and two or more inorganic sealing layers. The layers may be alternately stacked.
The number of stacked organic sealing layers may be appropriately set according to the required low water vapor permeability and the thickness of the organic sealing layer and the inorganic sealing layer, and is preferably 1 to 10, for example.
Similarly, the number of laminated inorganic sealing layers is preferably 1 to 10.

上記無機封止層は、無機物からなる層である。無機封止層は、ケイ素、アルミニウム、チタン、ジルコニウム、スズ等の金属の酸化物、窒化物または酸窒化物からなる層であることが好ましく、それらの複合物で形成されたものであってもよい。
無機封止層の低水蒸気透過性が優れる点、無機封止層と有機封止層との密着性が優れる点から、無機封止層を形成する材料は、ケイ素、アルミニウム又はジルコニウムの酸化物、窒化物又は酸窒化物であることが好ましく、ケイ素の酸化物、窒化物又は酸窒化物であることがより好ましい。
無機封止層の厚みは、要求されるバリア性、無機封止層を構成する材料等により適宜設定すればよい。例えば、無機封止層が厚過ぎる場合、応力によるクラックが発生するおそれがあるため、200nm以下であることが好ましく、150nm以下であることがより好ましい。
また、低水蒸気透過性が優れることから、10nm以上であることが好ましく、30nm以上であることがより好ましい。
The inorganic sealing layer is a layer made of an inorganic material. The inorganic sealing layer is preferably a layer made of an oxide, nitride, or oxynitride of a metal such as silicon, aluminum, titanium, zirconium, tin, etc., and may be formed of a composite thereof. Good.
In view of the excellent low water vapor permeability of the inorganic sealing layer and the excellent adhesion between the inorganic sealing layer and the organic sealing layer, the material forming the inorganic sealing layer is an oxide of silicon, aluminum or zirconium, Nitride or oxynitride is preferable, and silicon oxide, nitride, or oxynitride is more preferable.
What is necessary is just to set the thickness of an inorganic sealing layer suitably with the barrier property requested | required, the material which comprises an inorganic sealing layer, etc. For example, when the inorganic sealing layer is too thick, cracks due to stress may occur, so that it is preferably 200 nm or less, and more preferably 150 nm or less.
Moreover, since it is excellent in low water vapor permeability, it is preferably 10 nm or more, and more preferably 30 nm or more.

上記無機封止層の形成方法としては、蒸着法、スパッタリング法若しくはイオンプレーティング法等の物理的気相成長法(PVD)、種々の化学的気相成長法(CVD)若しくはめっきやゾルゲル法等の液相成長法がある。このうち、無機封止層形成時の素子部や基板への熱の影響を回避し、生産速度が速く、均一な薄膜層を得やすい点で、化学的気相成長法(CVD)や物理的気相成長法(PVD)が好ましい。また、厚めの膜が得やすいことからゾルゲル法により無機封止層を形成することもできる。厚めの膜とは、ここでは100nm〜1μmの範囲の膜を示す。 As the method for forming the inorganic sealing layer, physical vapor deposition (PVD) such as vapor deposition, sputtering or ion plating, various chemical vapor deposition (CVD), plating, sol-gel, etc. There is a liquid phase growth method. Of these, chemical vapor deposition (CVD) and physical properties are avoided in that the effect of heat on the element part and the substrate during the formation of the inorganic sealing layer is avoided, the production rate is high, and a uniform thin film layer is easily obtained. Vapor phase epitaxy (PVD) is preferred. Moreover, since a thick film is easy to obtain, an inorganic sealing layer can also be formed by a sol-gel method. Here, the thick film refers to a film in the range of 100 nm to 1 μm.

本発明の有機デバイスとしては、例えば、電極及び発光層からなる有機EL素子;有機薄膜太陽電池、有機トランジスタ、有機電界効果トランジスタ等が挙げられる。
本発明の有機デバイスは、電極及び発光層からなる有機EL素子本体部;電極、絶縁膜及び有機半導体からなる有機トランジスタ素子部;p−n接合部、p−i−n接合部等の接合部と電極からなる有機薄膜太陽電池素子部;等の有機素子本体部を有することが好ましい。
As an organic device of this invention, the organic EL element which consists of an electrode and a light emitting layer; Organic thin film solar cell, an organic transistor, an organic field effect transistor etc. are mentioned, for example.
The organic device of the present invention includes an organic EL element main body composed of an electrode and a light emitting layer; an organic transistor element composed of an electrode, an insulating film and an organic semiconductor; a junction such as a pn junction or a pin junction It is preferable to have an organic element main body part such as an organic thin film solar cell element part made up of and an electrode.

本発明の有機デバイスの好適な形態の一つは、有機エレクトロルミネッセンス(有機EL)素子である。
上記有機EL素子は、基板上に形成された対向する2つの電極と、対向する2つの電極間に配置された発光層と、上記有機デバイス封止剤から形成された有機封止層と、無機封止層と、を有することが好ましい。
上記有機封止層は、通常、発光層の基板とは反対側に設けられる。有機封止層は、発光層上に形成された電極上に形成されてもよいし、電極上に形成された無機封止層上に形成されたものであってもよい。
有機封止層と無機封止層はそれぞれ1層であってもよいし、それぞれ2以上の層が積層されていてもよい。有機封止層と無機封止層の積層数は適宜決定すればよいが、例えば、それぞれ1〜10である。
One suitable form of the organic device of the present invention is an organic electroluminescence (organic EL) element.
The organic EL element includes two opposing electrodes formed on a substrate, a light emitting layer disposed between the two opposing electrodes, an organic sealing layer formed from the organic device sealing agent, and an inorganic It is preferable to have a sealing layer.
The organic sealing layer is usually provided on the opposite side of the light emitting layer from the substrate. The organic sealing layer may be formed on the electrode formed on the light emitting layer, or may be formed on the inorganic sealing layer formed on the electrode.
Each of the organic sealing layer and the inorganic sealing layer may be a single layer, or two or more layers may be laminated. The number of layers of the organic sealing layer and the inorganic sealing layer may be determined as appropriate, and is, for example, 1 to 10, respectively.

有機EL素子に使用される電極としては、通常、金属からなる金属電極と、酸化物等からなる透明電極が使用される。 As an electrode used for the organic EL element, a metal electrode made of a metal and a transparent electrode made of an oxide or the like are usually used.

金属電極を形成する材料としては、アルミニウム、インジウム、マグネシウム、銀、カルシウム、バリウム、リチウム等の金属が挙げられる。金属電極の材料としては、これらの金属を単体で用いてもよいし、これらの金属の2種以上、若しくは、これらの金属と他の金属との合金を使用してもよい。
有機封止層との密着性が優れることから、上記金属は、アルミニウム、インジウム又はマグネシウムであることが好ましい。
Examples of the material for forming the metal electrode include metals such as aluminum, indium, magnesium, silver, calcium, barium, and lithium. As a material for the metal electrode, these metals may be used alone, or two or more of these metals, or an alloy of these metals and other metals may be used.
Since the adhesiveness with the organic sealing layer is excellent, the metal is preferably aluminum, indium or magnesium.

透明電極を形成する材料としては、透明電極の材料として一般に知られているものを使用することができる。例えば、酸化インジウムスズ(ITO)が好適に用いられるが、酸化スズ(SnO)、酸化亜鉛(ZnO)等も使用することができる。 As a material for forming the transparent electrode, a material generally known as a material for the transparent electrode can be used. For example, indium tin oxide (ITO) is preferably used, but tin oxide (SnO 2 ), zinc oxide (ZnO), and the like can also be used.

有機EL素子に使用される基板、有機発光層としては、公知のものを採用することができる。例えば、基板としては、ガラス基板を用いることもできるし、可撓性を有するプラスチック基板を用いることもでき、特に限定されない。有機発光層は、正孔注入輸送層、電子注入輸送層等を含むものであってもよい。 A well-known thing can be employ | adopted as a board | substrate and an organic light emitting layer which are used for an organic EL element. For example, a glass substrate can be used as the substrate, or a flexible plastic substrate can be used, and is not particularly limited. The organic light emitting layer may include a hole injection transport layer, an electron injection transport layer, and the like.

図1は、有機EL素子の一例を示す断面模式図である。
有機EL素子100は、基板1上に、透明電極層2、有機発光層3、金属電極層4からなる有機素子本体部10と、有機素子本体部10上に形成されたバリア層20と、バリア層20上に形成された保護層30とを有する。
バリア層20は、上記有機デバイス封止剤から形成される有機封止層Fと無機封止層Mとが積層された構造を有している。
有機封止層Fと無機封止層Mとが積層されたバリア層20は、無機封止層Mが有する低水蒸気透過性と有機封止層Fが有する低水蒸気透過性とによって、優れた低水蒸気透過性を有する。また、有機封止層Fを設けることによって、無機封止層Mの厚みを薄くすることもできる。
FIG. 1 is a schematic cross-sectional view showing an example of an organic EL element.
The organic EL element 100 includes an organic element body 10 made of a transparent electrode layer 2, an organic light emitting layer 3, and a metal electrode layer 4, a barrier layer 20 formed on the organic element body 10, and a barrier. And a protective layer 30 formed on the layer 20.
The barrier layer 20 has a structure in which an organic sealing layer F and an inorganic sealing layer M formed from the organic device sealing agent are laminated.
The barrier layer 20 in which the organic sealing layer F and the inorganic sealing layer M are laminated is excellent in low water vapor permeability that the inorganic sealing layer M has and low water vapor permeability that the organic sealing layer F has. It has water vapor permeability. In addition, by providing the organic sealing layer F, the thickness of the inorganic sealing layer M can be reduced.

上記有機EL素子100において、有機封止層Fの厚みは0.1〜20μmであることが好ましく、0.5〜15μmであることがより好ましい。
無機封止層Mの厚みは、10〜200nmであることが好ましく、30〜150nmであることがより好ましい。
In the organic EL element 100, the thickness of the organic sealing layer F is preferably 0.1 to 20 μm, and more preferably 0.5 to 15 μm.
The thickness of the inorganic sealing layer M is preferably 10 to 200 nm, and more preferably 30 to 150 nm.

上記有機EL素子100は、例えば、一般的な方法で基板1上に透明電極層2、有機発光層3、金属電極層4を形成した後、スパッタリング法やキャスト法により有機封止層Fを形成し、プラズマCVD法により無機封止層Mを形成し、その後、一般的な方法で保護層30を形成することによって形成することができる。 In the organic EL element 100, for example, after forming the transparent electrode layer 2, the organic light emitting layer 3, and the metal electrode layer 4 on the substrate 1 by a general method, the organic sealing layer F is formed by a sputtering method or a casting method. Then, the inorganic sealing layer M can be formed by the plasma CVD method, and then the protective layer 30 can be formed by a general method.

なお、上記有機EL素子100は、金属電極層4、有機封止層F、無機封止層Mの順に積層されたものであるが、本発明の有機EL素子である有機デバイスは、無機封止層と有機封止層との順番が逆のものであってもよい。 In addition, although the said organic EL element 100 is laminated | stacked in order of the metal electrode layer 4, the organic sealing layer F, and the inorganic sealing layer M, the organic device which is the organic EL element of this invention is inorganic sealing. The order of the layer and the organic sealing layer may be reversed.

図2は、有機EL素子の別の一例を示す断面模式図である。
有機EL素子200は、基板1上に、透明電極層2、有機発光層3、金属電極層4からなる有機素子本体部10と、有機素子本体部10上に形成されたバリア層20と、バリア層20上に形成された保護層30とを有する。
バリア層20は、上記有機デバイス封止剤から形成される有機封止層F1〜Fnと無機封止層M1〜Mnとが交互に積層された構造を有している。
上記積層数は、要求される低水蒸気透過率や、有機封止層及び無機封止層の厚み等によって適宜設定すればよいが、例えば、有機封止層と無機封止層の層数は、それぞれ、1〜10であることが好ましい。
FIG. 2 is a schematic cross-sectional view showing another example of the organic EL element.
The organic EL element 200 includes an organic element body 10 made of a transparent electrode layer 2, an organic light emitting layer 3, and a metal electrode layer 4, a barrier layer 20 formed on the organic element body 10, and a barrier. And a protective layer 30 formed on the layer 20.
The barrier layer 20 has a structure in which organic sealing layers F1 to Fn and inorganic sealing layers M1 to Mn formed from the organic device sealing agent are alternately stacked.
The number of layers may be set as appropriate depending on the required low water vapor transmission rate, the thickness of the organic sealing layer and the inorganic sealing layer, etc., for example, the number of layers of the organic sealing layer and the inorganic sealing layer is: It is preferable that it is 1-10, respectively.

上記有機EL素子200において、有機封止層の厚みは0.1〜20μmであることが好ましく、0.2〜10μmであることがより好ましい。
無機封止層の厚みは、10〜200nmであることが好ましく、30〜150nmであることがより好ましい。
In the organic EL element 200, the thickness of the organic sealing layer is preferably 0.1 to 20 μm, and more preferably 0.2 to 10 μm.
The thickness of the inorganic sealing layer is preferably 10 to 200 nm, and more preferably 30 to 150 nm.

上記有機EL素子200は、例えば、一般的な方法で基板1上に透明電極層2、有機発光層3、金属電極層4を形成した後、スパッタリング法やキャスト法により有機封止層F1を形成し、プラズマCVD法により無機封止層M1を形成し、この工程をn回繰り返すことでバリア層20を形成し、その後、一般的な方法で保護層30を形成することによって形成することができる。 In the organic EL element 200, for example, after forming the transparent electrode layer 2, the organic light emitting layer 3, and the metal electrode layer 4 on the substrate 1 by a general method, the organic sealing layer F1 is formed by a sputtering method or a casting method. Then, the inorganic sealing layer M1 is formed by the plasma CVD method, the barrier layer 20 is formed by repeating this process n times, and then the protective layer 30 is formed by a general method. .

なお、図2に示されるバリア層20は、上記有機デバイス封止剤から形成される有機封止層と無機封止層とが交互に積層されたものであるが、本発明の有機EL素子である有機デバイスにおいて、有機デバイス封止剤から形成される有機封止層は少なくとも一層含まれていればよい。例えば、本発明の有機EL素子である有機デバイスは、有機EL素子200における有機封止層の一部を、他の有機材料からなる層に置き換えたものであってもよい。 In addition, although the barrier layer 20 shown by FIG. 2 is the thing by which the organic sealing layer and inorganic sealing layer which are formed from the said organic device sealing agent were laminated | stacked alternately, it is the organic EL element of this invention. In an organic device, at least one organic sealing layer formed from an organic device sealing agent may be included. For example, the organic device which is the organic EL element of the present invention may be one in which a part of the organic sealing layer in the organic EL element 200 is replaced with a layer made of another organic material.

次に本発明を実施例を挙げて説明するが、本発明はかかる実施例のみに限定されるものではない。 Next, the present invention will be described with reference to examples. However, the present invention is not limited to such examples.

実施例の各数値は以下の方法により測定した。 Each numerical value of the examples was measured by the following method.

〔NMR(核磁気共鳴法)によるフルオロポリマーの組成、および交互率の測定〕
H−NMR(核磁気共鳴法)測定には、JNM−EX270(JEOL社製:270MHz)を用いた。溶媒は重アセトンを用いた。
[Measurement of composition and alternating rate of fluoropolymer by NMR (nuclear magnetic resonance method)]
For the 1 H-NMR (nuclear magnetic resonance method) measurement, JNM-EX270 (manufactured by JEOL: 270 MHz) was used. Heavy acetone was used as the solvent.

〔分子量及び分子量分布〕
ゲルパーミエーションクロマトグラフィー(GPC)により、東ソー(株)製のGPC HLC−8020を用い、Shodex社製のカラム(GPC KF−801を1本、GPC KF−802を1本、GPC KF−806Mを2本直列に接続)を使用し、溶媒としてテトラハイドロフラン(THF)を流速1ml/分で流して測定したデータより、平均分子量を算出した。
また、THFにサンプルが溶解しない場合は、以下の方法にて平均分子量を算出した。日本分光社製の高速液体クロマトグラフを用い、分析カラムセットは、ガードカラム(Shodex GPC KD−G [4.6mm I.D.× 10mm L])1本、分析カラム(KD−806M [8.0mm I.D.× 300mm L])3本を使用した。移動溶媒に10mM LiBrを含むN−メチル−2−ピロリドンを、検出器にはRI、検量線サンプルはポリスチレン標準サンプルを使用し、流速1ml/分、サンプル打込量200μLで測定を行った。データ解析にはデータステーション(ChromNAV)を使用した。
[Molecular weight and molecular weight distribution]
By gel permeation chromatography (GPC), using Tosoh's GPC HLC-8020, Shodex columns (one GPC KF-801, one GPC KF-802, GPC KF-806M) The average molecular weight was calculated from data measured by flowing tetrahydrofuran (THF) as a solvent at a flow rate of 1 ml / min.
When the sample did not dissolve in THF, the average molecular weight was calculated by the following method. A high-performance liquid chromatograph manufactured by JASCO Corporation was used, and the analysis column set was one guard column (Shodex GPC KD-G [4.6 mm ID × 10 mm L]) and an analysis column (KD-806M [8. 0 mm ID × 300 mm L]) 3 were used. The measurement was performed using N-methyl-2-pyrrolidone containing 10 mM LiBr as a mobile solvent, RI as a detector, and a polystyrene standard sample as a calibration curve sample, with a flow rate of 1 ml / min and a sample implantation amount of 200 μL. A data station (ChromNAV) was used for data analysis.

〔ガラス転移温度(Tg)〕
DSC(示差走査熱量計:SEIKO社製、RTG220)を用いて、−50℃から200℃までの温度範囲を10℃/分の条件で昇温(ファーストラン)−降温−昇温(セカンドラン)させ、セカンドランにおける吸熱曲線の中間点をTg(℃)とした。
[Glass transition temperature (Tg)]
Using DSC (Differential Scanning Calorimeter: RTG220, manufactured by SEIKO), the temperature range from −50 ° C. to 200 ° C. was raised at a rate of 10 ° C./min (first run) -temperature fall-temperature rise (second run) The intermediate point of the endothermic curve in the second run was defined as Tg (° C.).

〔融点(Tm)〕
DSC(示差走査熱量計:SEIKO社製、RTG220)を用いて、10℃/分の条件で昇温(ファーストラン)−降温−昇温(セカンドラン)させ、セカンドランにおける昇温したときの融解熱曲線における極大値に対応する温度をTm(℃)とした。
[Melting point (Tm)]
Using DSC (Differential Scanning Calorimeter: RTG220, manufactured by SEIKO Co., Ltd.), melting when the temperature is increased (first run) -temperature decrease-temperature increase (second run) at 10 ° C./min, and the temperature is increased in the second run. The temperature corresponding to the maximum value in the heat curve was defined as Tm (° C.).

〔IR分析〕
Perkin Elmer社製フーリエ変換赤外分光光度計1760Xで室温にて測定した。
[IR analysis]
The measurement was performed at room temperature using a Perkin Elmer Fourier transform infrared spectrophotometer 1760X.

〔フッ素含有率〕
酸素フラスコ燃焼法により試料10mgを燃焼し、分解ガスを脱イオン水20mlに吸収させ、吸収液中のフッ素イオン濃度をフッ素選択電極法(フッ素イオンメーター、オリオン社製 901型)で測定することにより求めた(質量%)。
[Fluorine content]
By burning 10 mg of sample by the oxygen flask combustion method, absorbing the decomposition gas in 20 ml of deionized water, and measuring the fluorine ion concentration in the absorption liquid by the fluorine selective electrode method (fluorine ion meter, model 901 manufactured by Orion) Determined (mass%).

合成例1
2.5Lステンレス製オートクレーブ中に溶媒として酢酸ブチル980gとビニルエステル単量体として酢酸ビニル17gを仕込み、重合開始剤としてパーブチルPV(製品名、日油株式会社製)6.2gを加え、フランジを締め、オートクレーブを真空置換して、槽温を60℃まで昇温した。これに攪拌下、フッ素オレフィンガスとしてテトラフルオロエチレンを93g封入して反応を開始した。このとき槽内の圧力は0.740MPaとなり、攪拌速度は200rpmであった。
反応開始時に酢酸ビニルの追加を開始し、4時間かけて93gの酢酸ビニルを追加した。反応中は酢酸ビニル/テトラフルオロエチレンの比率が一定になるように、電磁弁を用いてテトラフルオロエチレンを連続供給した。撹拌速度は200rpmであった。
Synthesis example 1
In a 2.5 L stainless steel autoclave, 980 g of butyl acetate as a solvent and 17 g of vinyl acetate as a vinyl ester monomer are added, 6.2 g of perbutyl PV (product name, manufactured by NOF Corporation) is added as a polymerization initiator, and a flange is formed. The autoclave was replaced with vacuum and the bath temperature was raised to 60 ° C. With stirring, 93 g of tetrafluoroethylene was sealed as a fluorine olefin gas to start the reaction. At this time, the pressure in the tank was 0.740 MPa, and the stirring speed was 200 rpm.
Addition of vinyl acetate was started at the start of the reaction, and 93 g of vinyl acetate was added over 4 hours. During the reaction, tetrafluoroethylene was continuously supplied using a solenoid valve so that the ratio of vinyl acetate / tetrafluoroethylene was constant. The stirring speed was 200 rpm.

具体的には、テトラフルオロエチレンが消費されて槽内が0.720MPaになると自動的に電磁弁を開いてテトラフルオロエチレンを供給し、0.740MPaになると自動的に電磁弁を閉じてテトラフルオロエチレンの供給を停止するサイクルでテトラフルオロエチレンの供給と圧力を制御しながら、テトラフルオロエチレンの消費量に合わせて酢酸ビニルを追加した。 Specifically, when tetrafluoroethylene is consumed and the inside of the tank reaches 0.720 MPa, the solenoid valve is automatically opened to supply tetrafluoroethylene, and when 0.740 MPa is reached, the solenoid valve is automatically closed and tetrafluoroethylene is closed. While controlling the supply and pressure of tetrafluoroethylene in a cycle in which the supply of ethylene was stopped, vinyl acetate was added in accordance with the consumption of tetrafluoroethylene.

反応開始から4時間後にテトラフルオロエチレンと酢酸ビニルの供給を停止した。その後槽内を常温常圧に戻して重合を停止し、酢酸ビニル/テトラフルオロエチレン共重合体の酢酸ブチル溶液1110g(固形分濃度21.0質量%)を得た。
反応終了後、ポリマー溶液を大量のメタノール溶液に再沈させ、ポリマーの精製を行い、ポリマーA1を得た。
Four hours after the start of the reaction, the supply of tetrafluoroethylene and vinyl acetate was stopped. Thereafter, the inside of the tank was returned to room temperature and normal pressure to stop the polymerization, and 1110 g of a butyl acetate solution of vinyl acetate / tetrafluoroethylene copolymer (solid content concentration 21.0% by mass) was obtained.
After completion of the reaction, the polymer solution was reprecipitated in a large amount of methanol solution, and the polymer was purified to obtain polymer A1.

ポリマーA1の組成をフッ素の元素分析から求め、フッ素オレフィンとビニルエステルとの交互率をH−NMRから計算し、重量平均分子量および分子量分布(Mw/Mn)をGPCから求めた。またガラス転移温度をDSCから測定した。結果を表2に示す。 The composition of the polymer A1 was determined from elemental analysis of fluorine, the alternating ratio of fluorine olefin and vinyl ester was calculated from 1 H-NMR, and the weight average molecular weight and molecular weight distribution (Mw / Mn) were determined from GPC. The glass transition temperature was measured from DSC. The results are shown in Table 2.

合成例2
3Lステンレス製オートクレーブに純水1000g、酢酸ビニル23.2g、ネオコールP(ジオクチルスルホコハク酸ナトリウムの76.4質量%イソプロピルアルコール溶液:第一工業製薬(株)製)を入れ、窒素置換し、テトラフルオロエチレン37gを加え、槽内を80℃まで昇温した。その後、テトラフルオロエチレンを30g加えた。このとき槽内の圧力は0.809MPaとなった。これに撹拌下、過硫酸アンモニウム(APS)の1質量%水溶液22gを加え、反応を開始した。反応開始時に酢酸ビニルの追加を開始し、6時間かけて283gの酢酸ビニルを追加した。反応中は酢酸ビニル/テトラフルオロエチレンの比率が一定になるように、電磁弁を用いてテトラフルオロエチレンを連続供給した。撹拌速度は500rpmであった。
Synthesis example 2
A 3 L stainless steel autoclave was charged with 1000 g of pure water, 23.2 g of vinyl acetate, Neocor P (76.4 mass% isopropyl alcohol solution of sodium dioctylsulfosuccinate: manufactured by Daiichi Kogyo Seiyaku Co., Ltd.), nitrogen-substituted, and tetrafluoro Ethylene 37g was added and the inside of a tank was heated up to 80 degreeC. Thereafter, 30 g of tetrafluoroethylene was added. At this time, the pressure in the tank was 0.809 MPa. Under stirring, 22 g of a 1% by mass aqueous solution of ammonium persulfate (APS) was added to initiate the reaction. The addition of vinyl acetate was started at the start of the reaction, and 283 g of vinyl acetate was added over 6 hours. During the reaction, tetrafluoroethylene was continuously supplied using a solenoid valve so that the ratio of vinyl acetate / tetrafluoroethylene was constant. The stirring speed was 500 rpm.

具体的には、テトラフルオロエチレンが消費されて槽内が0.775MPaになると自動的に電磁弁を開いてテトラフルオロエチレンを供給し、0.800MPaになると自動的に電磁弁を閉じてテトラフルオロエチレンの供給を停止するサイクルでテトラフルオロエチレンの供給と圧力を制御しながら、テトラフルオロエチレンの消費量に合わせて酢酸ビニルを追加した。 Specifically, when tetrafluoroethylene is consumed and the inside of the tank reaches 0.775 MPa, the solenoid valve is automatically opened to supply tetrafluoroethylene, and when 0.800 MPa is reached, the solenoid valve is automatically closed and tetrafluoroethylene is closed. While controlling the supply and pressure of tetrafluoroethylene in a cycle in which the supply of ethylene was stopped, vinyl acetate was added in accordance with the consumption of tetrafluoroethylene.

反応開始から6時間後にテトラフルオロエチレンと酢酸ビニルの供給を停止した。その後1時間反応させた後に、槽内を常温常圧に戻して重合を停止し、酢酸ビニル/テトラフルオロエチレン共重合体のエマルション1661g(固形分濃度38.5質量%)を得た。 Six hours after the start of the reaction, the supply of tetrafluoroethylene and vinyl acetate was stopped. Then, after reacting for 1 hour, the inside of the tank was returned to room temperature and normal pressure to stop the polymerization, thereby obtaining 1661 g of a vinyl acetate / tetrafluoroethylene copolymer emulsion (solid content concentration 38.5% by mass).

得られた酢酸ビニル/テトラフルオロエチレン共重合体(ポリマーA2)のガラス転移温度は40℃であり、粒子径は116nmであった。
なお、粒子径は、レーザー光散乱粒径測定装置(大塚電子(株)製、商品名ELS−3000)を用いて測定した。
The resulting vinyl acetate / tetrafluoroethylene copolymer (Polymer A2) had a glass transition temperature of 40 ° C. and a particle size of 116 nm.
The particle size was measured using a laser light scattering particle size measuring device (manufactured by Otsuka Electronics Co., Ltd., trade name ELS-3000).

合成例3
3Lステンレス製オートクレーブ中に溶媒として酢酸ブチル1200gとビニルエステル単量体として酢酸ビニル140gを仕込み、重合開始剤としてパーブチルPV(製品名、日油株式会社製)7.2gを加え、フランジを締め、オートクレーブを真空置換して、槽温を60℃まで昇温した。これに攪拌下、フッ素オレフィンガスとしてテトラフルオロエチレンを封入して反応を開始した。このとき槽内の圧力は1.00MPaとなり、攪拌速度は500rpmであった。重合圧力が降下していることからガスモノマーの消費を確認し、6時間で槽内を常温常圧に戻して重合を停止し、残ガスをブローして反応を終了した。
Synthesis example 3
Into a 3 L stainless steel autoclave, 1200 g of butyl acetate as a solvent and 140 g of vinyl acetate as a vinyl ester monomer were added, 7.2 g of perbutyl PV (product name, manufactured by NOF Corporation) was added as a polymerization initiator, and the flange was tightened. The autoclave was replaced with vacuum, and the bath temperature was raised to 60 ° C. Under stirring, tetrafluoroethylene was sealed as a fluorine olefin gas to initiate the reaction. At this time, the pressure in the tank was 1.00 MPa, and the stirring speed was 500 rpm. Since the polymerization pressure was lowered, the consumption of the gas monomer was confirmed. In 6 hours, the inside of the tank was returned to room temperature and normal pressure to stop the polymerization, and the remaining gas was blown to complete the reaction.

反応終了後、ポリマー溶液を大量のメタノール溶液に再沈させ、ポリマーの精製を行い、ポリマーA3を得た。 After completion of the reaction, the polymer solution was reprecipitated in a large amount of methanol solution, and the polymer was purified to obtain polymer A3.

ポリマーA3の組成をフッ素の元素分析から求め、フッ素オレフィンとビニルエステルとの交互率をH−NMRから計算し、重量平均分子量および分子量分布(Mw/Mn)をGPCから求めた。またガラス転移温度をDSCから測定した。結果を表2に示す。 The composition of polymer A3 was determined from elemental analysis of fluorine, the alternating ratio of fluorine olefin and vinyl ester was calculated from 1 H-NMR, and the weight average molecular weight and molecular weight distribution (Mw / Mn) were determined from GPC. The glass transition temperature was measured from DSC. The results are shown in Table 2.

合成例4
300mLステンレス製オートクレーブ中に酢酸ブチル溶媒50gとステアリン酸ビニルモノマー10gを仕込み、重合開始剤としてパーブチルPV(製品名、日油株式会社製)を0.4g加え、フランジを締め、オートクレーブを真空置換して、フッ素オレフィンガスとして、8.0gのテトラフルオロエチレンを封入し、引き続いて2.6gのヘキサフルオロプロピレンを封入し60℃の振とう式恒温槽に入れて反応を開始した。重合圧力が降下していることからガスモノマーの消費を確認し、15時間で振とうを止め、残ガスをブローして反応を終了した。
Synthesis example 4
A 300 mL stainless steel autoclave is charged with 50 g of butyl acetate solvent and 10 g of vinyl stearate monomer, 0.4 g of perbutyl PV (product name, manufactured by NOF Corporation) is added as a polymerization initiator, the flange is tightened, and the autoclave is vacuum-substituted. Then, 8.0 g of tetrafluoroethylene was encapsulated as a fluorine olefin gas, and 2.6 g of hexafluoropropylene was subsequently encapsulated, and the mixture was placed in a shaking thermostat at 60 ° C. to initiate the reaction. Since the polymerization pressure was lowered, the consumption of the gas monomer was confirmed, the shaking was stopped in 15 hours, and the remaining gas was blown to complete the reaction.

反応終了後、ポリマー溶液を大量のメタノール溶液に再沈させ、ポリマーの精製を行い、ポリマーB1を得た。 After completion of the reaction, the polymer solution was reprecipitated in a large amount of methanol solution, and the polymer was purified to obtain polymer B1.

ガラス転移温度の代わりに融点を測定した以外は合成例1と同様の分析をおこなった。結果を表2に示す。 The same analysis as in Synthesis Example 1 was performed except that the melting point was measured instead of the glass transition temperature. The results are shown in Table 2.

合成例5
300mLステンレス製オートクレーブ中に溶媒として酢酸ブチル50gとビニルエステル単量体として酢酸ビニル10gを仕込み、重合開始剤としてパーブチルPV(製品名、日油株式会社製)を0.4g加え、フランジを締め、オートクレーブを真空置換して、フッ素オレフィンガスとして、17gのクロロトリフルオロエチレンを封入し、60℃の振とう式恒温槽に入れて反応を開始した。重合圧力が降下していることからガスモノマーの消費を確認し、4時間で振とうを止め、残ガスをブローして反応を終了し、ポリマーB2を得た。反応条件を表1に、得られたポリマーの物性を表2にまとめる。
Synthesis example 5
In a 300 mL stainless steel autoclave, 50 g of butyl acetate as a solvent and 10 g of vinyl acetate as a vinyl ester monomer were added, 0.4 g of perbutyl PV (product name, manufactured by NOF Corporation) was added as a polymerization initiator, and the flange was tightened. The autoclave was vacuum-replaced, 17 g of chlorotrifluoroethylene was sealed as a fluorine olefin gas, and the reaction was started by placing it in a shaking thermostat at 60 ° C. Since the polymerization pressure was lowered, the consumption of the gas monomer was confirmed, the shaking was stopped in 4 hours, the remaining gas was blown to terminate the reaction, and polymer B2 was obtained. The reaction conditions are summarized in Table 1, and the physical properties of the obtained polymer are summarized in Table 2.

合成例6
(t−ブチルビニルエーテル/テトラフルオロエチレン共重合体の合成)
300mlステンレス製オートクレーブ中にt−ブタノール150gとt−ブチルビニルエーテル26.7g、炭酸カリウム0.48gを仕込み、触媒のパーブチルPVの70%イソオクタン溶液0.46gを加え、フランジを締め、オートクレーブを真空置換して、テトラフルオロエチレンを26.7g封入し、60℃の振とう式恒温槽に入れて反応を開始した。重合圧力が降下していることからガスモノマーの消費を確認し、3時間で振とうを止め、残ガスをブローして反応を終了した。
反応終了後、ポリマー溶液を大量のメタノール溶液に再沈させ、ポリマーの精製を行い、t−ブチルビニルエーテル/テトラフルオロエチレン共重合体(ポリマーC1)を得た。フッ素の元素分析より求めた、t−ブチルビニルエーテル/テトラフルオロエチレン共重合体の組成は、52/48(モル比)であった。反応条件を表1に、得られたポリマーの物性を表2にまとめる。
Synthesis Example 6
(Synthesis of t-butyl vinyl ether / tetrafluoroethylene copolymer)
A 300 ml stainless steel autoclave is charged with 150 g of t-butanol, 26.7 g of t-butyl vinyl ether and 0.48 g of potassium carbonate, 0.46 g of a 70% isooctane solution of perbutyl PV as a catalyst is added, the flange is tightened, and the autoclave is vacuum-substituted. Then, 26.7 g of tetrafluoroethylene was sealed, and the reaction was started by placing it in a 60 ° C. shaking thermostat. Since the polymerization pressure was lowered, the consumption of the gas monomer was confirmed, the shaking was stopped in 3 hours, and the remaining gas was blown to complete the reaction.
After completion of the reaction, the polymer solution was reprecipitated in a large amount of methanol solution, and the polymer was purified to obtain a t-butyl vinyl ether / tetrafluoroethylene copolymer (polymer C1). The composition of the t-butyl vinyl ether / tetrafluoroethylene copolymer determined by elemental analysis of fluorine was 52/48 (molar ratio). The reaction conditions are summarized in Table 1, and the physical properties of the obtained polymer are summarized in Table 2.

Figure 0006492410
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Figure 0006492410
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合成例7(ケン化 均一系)
合成例3で得られたTFE/酢酸ビニルポリマーA3を50gTHF溶媒中に濃度が10質量%になるように均一溶解させた。その後、0.6NのNaOH溶液をポリマー中の酢酸ビニル当量になるように添加し、30分後にポリマーを大量の水中に再沈させた。1NのHClで洗浄後、イオン交換水でよく洗浄し、再沈したポリマーを吸引ろ過し、乾燥機で80℃2時間乾燥させた。IRにより、カルボニルピークの相対強度より、加水分解率を計算した結果、加水分解率が34%であるTFE/ビニルアルコール/酢酸ビニルポリマーA3−34を得た。結果を表3にまとめる。
Synthesis example 7 (saponification homogeneous system)
The TFE / vinyl acetate polymer A3 obtained in Synthesis Example 3 was uniformly dissolved in a 50 g THF solvent so as to have a concentration of 10% by mass. Thereafter, a 0.6N NaOH solution was added to give an equivalent amount of vinyl acetate in the polymer, and after 30 minutes the polymer was reprecipitated in a large amount of water. After washing with 1N HCl, it was thoroughly washed with ion-exchanged water, and the reprecipitated polymer was suction filtered and dried at 80 ° C. for 2 hours with a dryer. As a result of calculating the hydrolysis rate from the relative intensity of the carbonyl peak by IR, TFE / vinyl alcohol / vinyl acetate polymer A3-34 having a hydrolysis rate of 34% was obtained. The results are summarized in Table 3.

合成例8〜10(ケン化 均一系)
合成例7のケン化時間を変えることにより、TFE/ビニルアルコール/酢酸ビニルポリマーであるA3−45、A3−86、A3−96を得た。結果を表3にまとめる。
Synthesis examples 8 to 10 (saponification homogeneous system)
By changing the saponification time of Synthesis Example 7, AFE-vinyl alcohol / vinyl acetate polymers A3-45, A3-86, and A3-96 were obtained. The results are summarized in Table 3.

合成例11〜13(ケン化 均一系)
合成例7のケン化時間を1日とし、合成例1および合成例4〜5で得られたポリマーを用いる以外は合成例7と同様にして、ケン化ポリマー、A1−98、B1−97およびB2−96を得た。結果を表3にまとめる。
Synthesis Examples 11 to 13 (saponification uniform system)
A saponification polymer, A1-98, B1-97 and Synthesis Example 7 were used in the same manner as in Synthesis Example 7, except that the saponification time of Synthesis Example 7 was 1 day and the polymers obtained in Synthesis Example 1 and Synthesis Examples 4-5 were used. B2-96 was obtained. The results are summarized in Table 3.

合成例14
合成例2で得られた酢酸ビニル/テトラフルオロエチレン共重合体のエマルションを凍結凝析させ、純水で洗い流した後乾燥させたTFE/酢酸ビニルポリマー(ポリマーA2)を50gTHF溶媒中に濃度が10質量%になるように均一溶解させた。その後、0.6NのNaOH溶液をポリマー中の酢酸ビニル当量になるように添加し、24時間攪拌後に1NのHClで中和後、大量の純水に再沈させ、イオン交換水でよく洗浄し、再沈したポリマーを吸引ろ過し、乾燥機で80℃2時間乾燥させた。IRにより、カルボニルピークの相対強度より、加水分解率を計算した結果、加水分解率が96%であるTFE/ビニルアルコール/酢酸ビニルポリマー(A2−96)を得た。結果を表3にまとめる。
Synthesis Example 14
The emulsion of vinyl acetate / tetrafluoroethylene copolymer obtained in Synthesis Example 2 was freeze-coagulated, rinsed with pure water, and then dried. The TFE / vinyl acetate polymer (Polymer A2) had a concentration of 10 in 50 g THF solvent. It was uniformly dissolved so as to be mass%. After that, 0.6N NaOH solution was added so as to be equivalent to vinyl acetate in the polymer. After stirring for 24 hours, neutralized with 1N HCl, re-precipitated in a large amount of pure water, and washed well with ion-exchanged water. The re-precipitated polymer was filtered by suction and dried at 80 ° C. for 2 hours with a dryer. As a result of calculating the hydrolysis rate from the relative intensity of the carbonyl peak by IR, a TFE / vinyl alcohol / vinyl acetate polymer (A2-96) having a hydrolysis rate of 96% was obtained. The results are summarized in Table 3.

合成例15(脱保護工程):
(加水分解:ビニルアルコール/テトラフルオロエチレン共重合体の合成)
100mlナスフラスコに、合成例6で得たt−ブチルビニルエーテル/テトラフルオロエチレン共重合体(t−ブチルビニルエーテル/テトラフルオロエチレン=52/48(モル比))5.26g、1,4−ジオキサン2.4ml、4N HCl水溶液100mlを入れ、80℃で加熱撹拌した。2時間後、加熱を止め放冷し、析出したポリマーを純水で3回洗浄した。ポリマーをテトラヒドロフラン(THF)に溶解させ、エタノール/水(50/50体積%)の溶液に再沈殿し、真空乾燥することで精製したビニルアルコール/テトラフルオロエチレン共重合体を得た(C1−95)。脱保護度は95%であった。結果を表3にまとめる。
Synthesis Example 15 (deprotection step):
(Hydrolysis: Synthesis of vinyl alcohol / tetrafluoroethylene copolymer)
In a 100 ml eggplant flask, 5.26 g of t-butyl vinyl ether / tetrafluoroethylene copolymer obtained in Synthesis Example 6 (t-butyl vinyl ether / tetrafluoroethylene = 52/48 (molar ratio)), 1,4-dioxane 2 4 ml, 4N HCl aqueous solution 100 ml was added and heated and stirred at 80 ° C. After 2 hours, heating was stopped and the mixture was allowed to cool, and the precipitated polymer was washed 3 times with pure water. The polymer was dissolved in tetrahydrofuran (THF), reprecipitated in a solution of ethanol / water (50/50% by volume), and dried in vacuo to obtain a purified vinyl alcohol / tetrafluoroethylene copolymer (C1-95). ). The degree of deprotection was 95%. The results are summarized in Table 3.

Figure 0006492410
Figure 0006492410

実施例1
合成例11で得られたポリマーA1−98を酢酸ブチル溶媒に55質量%となるよう溶解させた。その後、架橋剤としてイソシアネート系硬化剤であるスミジュールN3300(住化バイエルウレタン株式会社製)を溶液100質量部に対して12質量部添加し、硬化性組成物とした。この組成物をバーコート(#24)を用いて、表面に約80nmのSiO膜を成膜したPET基板上に塗布した。塗布後、室温で60分予備乾燥後、100℃で送風式乾燥機中で60分間硬化させた。それぞれのサンプルは50℃の条件でさらに2日間エージングさせた。硬化後の膜厚をマイクロメーターで測定した。膜厚は、102μmであった。
また、得られたサンプルについて、碁盤目密着試験を行い密着性を評価した。また、ヘイズ値、全光線透過率を測定した。結果を表4に示す。
Example 1
Polymer A1-98 obtained in Synthesis Example 11 was dissolved in a butyl acetate solvent so as to be 55% by mass. Thereafter, 12 parts by mass of Sumidur N3300 (manufactured by Sumika Bayer Urethane Co., Ltd.), which is an isocyanate curing agent, was added as a crosslinking agent to 100 parts by mass of the solution to obtain a curable composition. This composition was applied using a bar coat (# 24) onto a PET substrate having a SiO x N y film of about 80 nm formed on the surface. After the application, it was preliminarily dried at room temperature for 60 minutes and then cured at 100 ° C. in a blower dryer for 60 minutes. Each sample was aged at 50 ° C. for an additional 2 days. The film thickness after curing was measured with a micrometer. The film thickness was 102 μm.
Moreover, the obtained sample was subjected to a cross-cut adhesion test to evaluate the adhesion. Moreover, the haze value and the total light transmittance were measured. The results are shown in Table 4.

(碁盤目密着試験)
JIS K5600の碁盤目セロハンテープ剥離試験により評価した。塗膜にカッターナイフで1mm間隔の碁盤目状の切込みを入れ、セロハンテープを貼り付けた後剥離し、剥離部分が無いものを10点、0%を超え5%未満のものを8点、5%以上15%未満のものを6点、15%以上35%未満のものを4点、35%以上65%未満のものを2点、65%以上のものを0点と評価した。
(Cross-cut adhesion test)
Evaluation was performed by a cross-celling cellophane tape peeling test of JIS K5600. The coating film is cut with a grid knife at intervals of 1 mm with a cutter knife, peeled after attaching a cellophane tape, 10 points with no peeled part, 8 points with more than 0% and less than 5%, 5 points % And less than 15% were evaluated as 6 points, 15% and less than 35% as 4 points, 35% and less than 65% as 2 points, and 65% or more as 0 points.

(ヘイズ値、全光線透過率の測定)
ヘイズメーター(東洋精機社製 ヘイズガードII)を用いてASTM D1003に従
い、ヘイズ値、および全光線透過率を測定した。
(Measurement of haze value and total light transmittance)
The haze value and total light transmittance were measured according to ASTM D1003 using a haze meter (Hazeguard II manufactured by Toyo Seiki Co., Ltd.).

Figure 0006492410
Figure 0006492410

実施例2〜9
実施例1と同様にしてポリマー A3−45、A3−86、A3−96、A1−98、B1−97、B2−96、A2−96、C1−95に関しても、表面にSiO膜を成膜したPETフィルムに塗布後、各種物性を測定した。結果を表5に示す。
Examples 2-9
In the same manner as in Example 1, for the polymers A3-45, A3-86, A3-96, A1-98, B1-97, B2-96, A2-96, C1-95, a SiO x N y film was formed on the surface. Various physical properties were measured after coating on the formed PET film. The results are shown in Table 5.

Figure 0006492410
Figure 0006492410

実施例10
合成例14でえられたポリマーA2−96を酢酸ブチル溶液に40質量%になるように溶解させた。その後、キャスト製膜することにより、厚み400μmの自立フィルムを得た。
得られたフィルムのヘイズ値、全光線透過率を実施例1と同様に測定した。
また、紫外線透過率に関しても測定した。結果を表6に示す。
Example 10
Polymer A2-96 obtained in Synthesis Example 14 was dissolved in a butyl acetate solution so as to be 40% by mass. Then, a self-supporting film having a thickness of 400 μm was obtained by casting.
The haze value and total light transmittance of the obtained film were measured in the same manner as in Example 1.
Further, the ultraviolet transmittance was also measured. The results are shown in Table 6.

Figure 0006492410
Figure 0006492410

実施例11(耐プラズマ性)
実施例10で得られた自立フィルムをICP高密度プラズマ装置((株)サムコインターナショナル研究所製、MODEL RIE−101iPH)を用いてAr量:50sccm、O量:40sccm、1Pa、100W(250mW/cm)の条件にて3分間プラズマ処理を行い、外観を目視で評価した結果、まったく損傷を受けていなかった。
無機封止層を形成するプロセスにおいても問題が無いと考えられる。
Example 11 (plasma resistance)
Using the ICP high-density plasma apparatus (model RIE-101iPH, manufactured by Samco International Laboratories), the self-supporting film obtained in Example 10 was subjected to Ar amount: 50 sccm, O 2 amount: 40 sccm, 1 Pa, 100 W (250 mW / As a result of performing a plasma treatment for 3 minutes under the condition of cm 2 ) and visually evaluating the appearance, it was not damaged at all.
It is considered that there is no problem in the process of forming the inorganic sealing layer.

実施例12〜14
合成例7、9又は10で得られたポリマー1gを、それぞれ酢酸ブチル溶媒に溶解させ、全体を5gとした。その後、0.45μmのPTFE製フィルターを用いて濾過後、バーコート(#24)を用いて厚み104μmのPETフィルム(東レ社製ルミラー)上に塗布した。室温で1時間予備乾燥後、60℃の条件で送風式乾燥機中で1日間乾燥させ、積層フィルムを得た。
Examples 12-14
1 g of the polymer obtained in Synthesis Example 7, 9 or 10 was dissolved in a butyl acetate solvent to make 5 g as a whole. Then, after filtering using a 0.45 μm PTFE filter, it was applied onto a 104 μm thick PET film (Lumirror manufactured by Toray Industries, Inc.) using a bar coat (# 24). After preliminary drying at room temperature for 1 hour, the film was dried for 1 day in a blower dryer at 60 ° C. to obtain a laminated film.

硬化後の積層フィルム全体の膜厚をマイクロメーターで10点測定し、その平均値をもとめ、基材のPETフィルムとの差から、積層したポリマーの厚みを求めた。結果を表7にまとめる。 The film thickness of the entire laminated film after curing was measured at 10 points with a micrometer, the average value was obtained, and the thickness of the laminated polymer was determined from the difference from the PET film of the substrate. The results are summarized in Table 7.

作製したそれぞれの積層フィルムを100mm×100mmのサイズにカットして、JIS K7129(A法)に基づく、Dr.Lyssy社製水蒸気透過度計L80−5000を用いて、積層フィルムの水蒸気透過度を測定した。なお、水蒸気が直接接する面側はPETで、乾燥空気側が合成例7、9又は10で得られたポリマーから形成された膜である。
また、得られた水蒸気透過度の値を積層フィルムの全体の厚みで割った値を水蒸気透過係数とした。結果を表7にまとめる。
Each of the produced laminated films was cut to a size of 100 mm × 100 mm, and Dr. based on JIS K7129 (A method). The water vapor permeability of the laminated film was measured using a water vapor permeability meter L80-5000 manufactured by Lyssy. Note that the surface side in direct contact with water vapor is PET, and the dry air side is a film formed from the polymer obtained in Synthesis Example 7, 9 or 10.
Further, a value obtained by dividing the obtained water vapor permeability value by the total thickness of the laminated film was defined as a water vapor transmission coefficient. The results are summarized in Table 7.

比較例1
基板のPETフィルムのみの水蒸気透過度を測定した。結果を表7にまとめる。
あきらかに積層膜はPET単独膜より、低い水蒸気透過係数を示した。
Comparative Example 1
The water vapor permeability of only the PET film of the substrate was measured. The results are summarized in Table 7.
Clearly, the laminated film showed a lower water vapor transmission coefficient than the PET single film.

Figure 0006492410
Figure 0006492410

実施例15
実施例10で得られた自立フィルム上に低温プラズマCVD法によりSiO膜を成膜した。JIS K7129 B法に準じて、水蒸気透過度試験装置(PERMATRAN W3/33(MOCON社製)を用い、温度40℃、湿度90%RHの条件で水蒸気透過度を測定した。結果を表8にしめす。
なお、厚みはジェイエーウーラムジャパン社製の分光エリプソメーターM−2000Dを用い解析ソフトウェアにはWVASE32を用いて実測した。
Example 15
A SiO x N y film was formed on the free-standing film obtained in Example 10 by a low temperature plasma CVD method. In accordance with JIS K7129 B method, the water vapor permeability was measured using a water vapor permeability tester (PERMATRAN W3 / 33 (manufactured by MOCON)) under the conditions of a temperature of 40 ° C. and a humidity of 90% RH. .
The thickness was measured using a spectroscopic ellipsometer M-2000D manufactured by J-Woollam Japan, Inc., and WVASE32 as analysis software.

Figure 0006492410
Figure 0006492410

1:基板
2:透明電極層
3:有機発光層
4:金属電極層
F、F1、F2〜Fn:有機デバイス封止剤から形成される有機封止層
M、M1、M2〜Mn:無機封止層
10:有機素子本体部
20:バリア層
30:保護層
100、200:有機EL素子
1: Substrate 2: Transparent electrode layer 3: Organic light emitting layer 4: Metal electrode layers F, F1, F2-Fn: Organic sealing layers M, M1, M2-Mn formed from organic device sealing agent: Inorganic sealing Layer 10: Organic element body 20: Barrier layer 30: Protective layer 100, 200: Organic EL element

Claims (7)

無機封止層と有機封止層とが積層された積層構造を有する有機デバイスであって、
前記有機封止層は、含フッ素オレフィン単位及びビニルアルコール単位を有する含フッ素共重合体を含み、
前記無機封止層の厚みは、200nm以下である
ことを特徴とする有機デバイス。
An organic device having a laminated structure in which an inorganic sealing layer and an organic sealing layer are laminated,
The organic encapsulating layer may look containing a fluorine-containing copolymer having a fluorine-containing olefin units and vinyl alcohol units,
The organic device according to claim 1, wherein the inorganic sealing layer has a thickness of 200 nm or less .
前記含フッ素オレフィンは、テトラフルオロエチレンである請求項1記載の有機デバイス。 The organic device according to claim 1, wherein the fluorine-containing olefin is tetrafluoroethylene. 前記含フッ素共重合体における含フッ素オレフィン単位の含有率が40モル%以上である請求項1又は2記載の有機デバイス。 The organic device according to claim 1 or 2, wherein the fluorine-containing olefin unit content in the fluorine-containing copolymer is 40 mol% or more. 前記含フッ素共重合体における含フッ素オレフィン単位とビニルアルコール単位との交互率が94%以下である請求項1、2又は3記載の有機デバイス。 The organic device according to claim 1, 2, or 3, wherein an alternating rate of the fluorine-containing olefin unit and the vinyl alcohol unit in the fluorine-containing copolymer is 94% or less. 前記含フッ素共重合体は、含フッ素オレフィン単位、ビニルアルコール単位及びビニルエステルモノマー単位を有する請求項1、2、3又は4記載の有機デバイス。 The organic device according to claim 1, 2, 3, or 4, wherein the fluorine-containing copolymer has a fluorine-containing olefin unit, a vinyl alcohol unit, and a vinyl ester monomer unit. 前記含フッ素共重合体は、含フッ素オレフィン単位及びビニルエステルモノマー単位を有する共重合体を水酸基化して得られた共重合体である請求項1、2、3、4又は5記載の有機デバイス。 6. The organic device according to claim 1, wherein the fluorine-containing copolymer is a copolymer obtained by hydroxylating a copolymer having a fluorine-containing olefin unit and a vinyl ester monomer unit. 有機エレクトロルミネッセンス素子である請求項1、2、3、4、5又は6記載の有機デバイス。 The organic device according to claim 1, which is an organic electroluminescence element.
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