JP6490262B2 - 光透過性導電層付きフィルム、調光フィルムおよび調光装置 - Google Patents
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Description
Yc>Ya (2)
本発明(2)は、前記フィルム基材は、長尺形状を有し、前記フィルム基材は、30cm以上の幅方向長さを有する、(1)に記載の光透過性導電層付きフィルムを含む。
光透過性導電層3における、加熱前のキャリア密度(Xa×1019/cm3)は、例えば、10×1019/cm3以上、好ましくは、20×1019/cm3以上、より好ましくは、30×1019/cm3以上、さらに好ましくは、35×1019/cm3以上であり、また、例えば、60×1019/cm3以下、好ましくは、50×1019/cm3以下、より好ましくは、40×1019/cm3以下である。図2Aに示すように、光透過性導電層3のキャリア密度Xaは、短辺7に沿う方向(TD方向、短手方向)に沿って、複数点P1、P2、P3でキャリア密度を測定し、それらの平均値として求められる。この際、測定する点数は、3点である。測定点の両端部(P1およびp3の2点)は、光透過性導電層3が均一形成されている末端部の位置から80mm内側位置とし、中央点(P2である1点)はフィルム基材2の中央位置とする。本願において、「光透過性導電層3が均一形成されている末端部」とは、光透過性導電層3の厚みが、フィルム基材2の中央位置の光透過性導電層3の厚みに対して±10%以内である領域の末端部を意味する。
光透過性導電層3における、加熱前のホール移動度(Ya cm2/V・s)は、例えば、10cm2/V・s以上、好ましくは、20cm2/V・s以上、より好ましくは、30cm2/V・s以上であり、また、例えば、70cm2/V・s以下、好ましくは、50cm2/V・s以下、より好ましくは、40cm2/V・s以下である。なお、光透過性導電層3のホール移動度Yaは、短辺7に沿う方向(TD方向、短手方向)に沿う3点の複数点P1、P2、P3でホール移動度Yaを測定し、それらの平均値として求められる。
被加熱光透過性導電層3αのホール移動度Ycの標準偏差は、好ましくは、光透過性導電層3のホール移動度Yaの標準偏差と同値以下である。これによって、光透過性導電層3の熱安定性がより向上する。
そして、光透過性導電層3のキャリア密度(Xa×1019/cm3)および被加熱光透過性導電層のキャリア密度(Xc×1019/cm3)と、光透過性導電層3のホール移動度(Ya cm2/V・s)および被加熱光透過性導電層とのホール移動度(Ya cm2/V・s)とは、下記式(1)および式(2)の両方を満たす。
Yc>Ya (2)
上記式(1)を満たさなければ、光透過性導電層3における加熱による表面抵抗の変化を抑制できず、そのため、熱安定性が低下する。
Xc≧Xa、かつ、Yc>Ya (4)
式(3)を満たす場合には、Xc/Xaが1未満であり、かつ、Yc/Yaが1超過である。詳しくは、Xc/Xaが、好ましくは、1.000未満、より好ましくは、0.99以下であり、また、好ましくは、0.7以上、より好ましくは、0.8以上、さらに好ましくは、0.85以上、とりわけ好ましくは、0.90以上である。Yc/Yaの好適な範囲は、上記式(2)で詳述した範囲と同一である。Xc/Xaが上記した下限以上であれば、光透過性導電層3の表面抵抗の公差を小さくすることができる。Xc/Xaが上記した上限以下であれば、光透過性導電層3の加熱前後での表面抵抗の変化率および/または差を小さくすることができる。
長さ500m、幅1300mm(130cm)、厚み188μmのポリエチレンテレフタレート(PET)フィルムを準備し、フィルム基材2とした。フィルム基材2の水分含有量は、75μg/cm2であった。
搬送速度を4.5m/minとして、光透過性導電層3の厚みを65nmとし、左右両端部の2本の酸素ガス配管において、Ar流量に対するO2流量の比(O2/Ar)を0.030に設定し、中央部の2本の酸素ガス配管において、Ar流量に対するO2流量の比(O2/Ar)の設定を0.031に変更した以外は、実施例1と同様にして光透過性導電層付きフィルム1を製造した。
左右両端部の2本の酸素ガス配管の酸素ガス供給量を、中央の2本の酸素ガス配管の酸素ガス供給量に対して、0.92倍に設定した以外は、実施例2と同様にして光透過性導電層付きフィルム1を製造した。具体的には、左右両端部の2本の酸素ガス配管において、Ar流量に対するO2流量の比(O2/Ar)を0.022に設定し、中央部の2本の酸素ガス配管において、Ar流量に対するO2流量の比(O2/Ar)を0.024に設定した。
ロールトゥロール型スパッタリング装置におけるフィルム基材2の搬送速度を1.05倍に設定し、光透過性導電層3の厚みを62nmとした以外は、実施例2と同様にして光透過性導電層付きフィルム1を製造した。
左右両端部の2本の酸素ガス配管の酸素ガス供給量を、中央の2本の酸素ガス配管の酸素ガス供給量に対して、0.95倍に設定した以外は、実施例2と同様にして光透過性導電層付きフィルム1を製造した。具体的には、左右両端部の2本の酸素ガス配管において、Ar流量に対するO2流量の比(O2/Ar)を0.035に設定し、中央部の2本の酸素ガス配管において、Ar流量に対するO2流量の比(O2/Ar)を0.037に設定した。
フィルム基材2として、長さ1500m、幅1300mm(130cm)、厚み50μmの熱硬化樹脂層(アンダーコート層)付きポリエチレンテレフタレート(PET)フィルム(フィルム基材2の水分含有量は、18μg/cm2)を準備し、ターゲットとして10質量%の酸化スズと90質量%の酸化インジウムとの焼結体(ITO)を用いた。また、Ar流量に対するO2流量の比(O2/Ar)を0.011に設定して、酸素導入量をTD方向(図2B参照)に均一に導入しながら、厚み25nmのITOからなる光透過性導電層3を形成した。前記の項目以外は、実施例1と同様にして光透過性導電層付きフィルム1を製造した。
フィルム基材2として、長さ3000m、幅1300mm(130cm)、厚み188μmのポリエチレンテレフタレート(PET)を用い、Ar流量に対するO2流量の比(O2/Ar)を0.033とし、酸素導入量をTD方向(図2B参照)に均一に導入しながら、厚み65nmのITOからなる光透過性導電層3を形成した以外は、実施例2と同様にして光透過性導電層付きフィルム1を製造した。
(1)フィルム基材の厚みおよび水分含有量
フィルム基材2の厚みは、膜厚計(尾崎製作所社製、装置名「デジタルダイアルゲージ DG−205」)を用いて測定した。光透過性導電層3の厚みは、透過型電子顕微鏡(日立製作所製、装置名「HF−2000」)を用いた断面観察により測定した。
ホール効果測定システム(バイオラッド製、商品名「HL5500PC」)を用いて測定を実施した。キャリア密度は、上記(1)で求めた光透過性導電層3の厚みを用いて算出した。
まず、各光透過性導電層付きフィルム1を、80℃、500時間加熱して、光透過性導電層3を被加熱光透過性導電層3αとした。
各光透過性導電層3および各被加熱光透過性導電層3αを、塩酸(濃度:5質量%)に15分間浸漬した後、水洗・乾燥し、各光透過性導電層3の15mm程度の間の二端子間抵抗を測定した。15mm間の二端子間抵抗が10kΩを超過した場合を、非晶質と判断し、10kΩを超過しなかった場合を、結晶質と判断した。
各光透過性導電層付きフィルム1の光透過性導電層3のTD方向(図2B参照)の表面抵抗(各実施例および比較例の抵抗測定点はホール効果測定実施点と同位置)を、JIS K7194(1994年)に準じて四端子法により求め、表面抵抗の平均値を算出した。すなわち、まず、各光透過性導電層付きフィルム1の光透過性導電層3の表面抵抗のTD方向における平均値(Ra)を測定した。次いで、140℃、1時間加熱後の被加熱光透過性導電層3αの表面抵抗のTD方向における平均値(Rc)を測定した。加熱前の表面抵抗に対する加熱後の表面抵抗の抵抗変化率(Rc/Ra)を求め、下記基準にて評価を実施した。
○:表面抵抗の変化率が0.8以上、1.25以下
×:表面抵抗の変化率が0.8未満、または、1.25超過
併せて、加熱前後の表面抵抗の差(|Rc−Ra|)を求めた。
「表面抵抗の変化率および差の評価」と同様にして、各光透過性導電層付きフィルム1の140℃、1時間加熱後の被加熱光透過性導電層3αのTD方向の表面抵抗を測定した。TD方向で最も大きい抵抗(最大抵抗:Rmax)と最も小さい抵抗(最小抵抗:Rmin)を求め、その差分(Rmax−Rmin)を表面抵抗の公差とし、下記基準にて評価した。
○:表面抵抗の公差が0Ω/□以上、10Ω/□以下
×:表面抵抗の公差が10Ω/□超過
(7)光透過性導電層および被加熱光透過性導電層の比抵抗
(5)「表面抵抗の変化率および差の評価」に記載の方法で求めた光透過性導電層3(加熱前)および被加熱光透過性導電層3α(加熱後)のそれぞれの表面抵抗の平均値と、光透過性導電層3の厚みとの積を求めることにより、光透過性導電層3(加熱前)および被加熱光透過性導電層3α(加熱後)のそれぞれの比抵抗を得た。
1A 第1の光透過性導電層付きフィルム
1B 第2の光透過性導電層付きフィルム
2 フィルム基材
3 光透過性導電層
3α 被加熱光透過性導電層
4 調光フィルム
5 調光機能層
9 調光装置
10 透明保護板
Xa 光透過性導電層のキャリア密度
Ya 光透過性導電層のホール移動度
Xc 被加熱光透過性導電層のキャリア密度、
Yc 被加熱光透過性導電層のホール移動度
W 幅(TD方向長さ)
Claims (3)
- 第1の光透過性導電層付きフィルムと、調光機能層と、第2の光透過性導電層付きフィルムとを順に備え、
前記第1の光透過性導電層付きフィルムおよび/または前記第2の光透過性導電層付きフィルムは、フィルム基材と、光透過性導電層とを備え、
前記フィルム基材は、30cm以上のTD方向長さを有し、
前記光透過性導電層の材料は、インジウムスズ複合酸化物であり、
前記光透過性導電層、および、前記光透過性導電層を140℃で、1時間加熱した後の被加熱光透過性導電層は、ともに、非晶質であり、
前記光透過性導電層のキャリア密度をXa×1019(/cm3)、ホール移動度をYa(cm2/V・s)とし、
前記被加熱光透過性導電層のキャリア密度をXc×1019(/cm3)、ホール移動度をYc(cm2/V・s)としたときに、
下記(1)式および式(2)の両方を満たし、
前記被加熱光透過性導電層のTD方向の表面抵抗を測定し、前記TD方向で最も大きい抵抗と最も小さい抵抗とを求め、その差分として得られる、表面抵抗の公差が、0Ω/□以上、10Ω/□以下であることを特徴とする、調光フィルム。
0.5≦(Xc/Xa)×(Yc/Ya)≦1.5 (1)
Yc>Ya (2) - 前記調光機能層は、電界および電流の少なくともいずれか一方の印加により、光透過率およびヘイズの少なくともいずれか一方が変化することで調光性を発現する材料を含むことを特徴とする、請求項1に記載の調光フィルム。
- 請求項1または2に記載の調光フィルムと、
透明保護板と
を順に備えることを特徴とする、調光装置。
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