JP6446787B2 - Transparent resin composition for columnar formation - Google Patents

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Description

本発明は、柱状形成物に用いられる柱状形成物用透明樹脂組成物等に関する。   The present invention relates to a transparent resin composition for columnar products used for columnar products.

複数の電子素子用基板を重ねて配置して構成される電子素子において、近年、従来の電子素子に比べて基板間の距離を大きくすることで機能を発揮するものや、機能性を向上させたものが種々の分野で開発されている。   In recent years, electronic devices constructed by stacking a plurality of substrates for electronic devices have been improved in functionality or have improved functionality by increasing the distance between substrates compared to conventional electronic devices. Things have been developed in various fields.

例えば、表示装置の分野では、上述の電子素子として液晶レンズの開発が進められている(特許文献1〜特許文献3)。液晶レンズは表示装置において3次元表示をするために用いられ、より具体的には裸眼式3次元表示方式に用いられるものである。液晶レンズは、2枚の電極を有する基板と、両基板間に形成された液晶層とを有するものであり、両電極間に電圧を印加させることにより液晶層中の液晶の配向を変化させることでレンズ効果を奏することができる。上記液晶レンズにおいては、レンズ厚を確保するために、上記両基板間の距離(セルギャップ)を30μm〜100μmの範囲内とすることが必要とされている。
また、半導体の分野や、プリント配線回路基板の分野においては、基板上に形成された半導体層や導電層の損傷等を防止するために、複数の基板を重ねて配置する構成において、基板間の距離を十分に設けることが必要とされている。
For example, in the field of display devices, liquid crystal lenses are being developed as the above-described electronic elements (Patent Documents 1 to 3). The liquid crystal lens is used for three-dimensional display in a display device, and more specifically, used for a naked-eye three-dimensional display method. The liquid crystal lens has a substrate having two electrodes and a liquid crystal layer formed between the two substrates, and changes the orientation of the liquid crystal in the liquid crystal layer by applying a voltage between the electrodes. The lens effect can be achieved. In the liquid crystal lens, in order to ensure the lens thickness, the distance (cell gap) between the two substrates is required to be within a range of 30 μm to 100 μm.
Also, in the field of semiconductors and printed circuit boards, in order to prevent damage to the semiconductor layer and conductive layer formed on the substrate, a configuration in which a plurality of substrates are arranged in an overlapping manner is used. It is necessary to provide a sufficient distance.

上述した電子素子において、基板間を所定の距離に保持する方法として液晶レンズにおいては、例えば特許文献2および特許文献3に示すように、2枚の電極を有する基板間にビーズスペーサ、もしくは柱状スペーサを配置することが検討されている。しかしながら、ビーズスペーサを用いた場合は、液晶レンズにおける所定の位置にビーズスペーサを配置することが困難であり、良好な表示を行うことが困難であるという問題がある。また、柱状スペーサにおいては、液晶レンズにおけるセルギャップに対応する高さを有するものを形成することが困難であるという問題がある。
また、半導体の分野や、プリント配線回路基板の分野においても、十分な高さを有する柱状形成物については得られていない。
In the above-described electronic device, as a method for maintaining a predetermined distance between substrates, in a liquid crystal lens, for example, as shown in Patent Document 2 and Patent Document 3, a bead spacer or a columnar spacer is provided between substrates having two electrodes. Is being considered. However, when the bead spacer is used, it is difficult to dispose the bead spacer at a predetermined position in the liquid crystal lens, and there is a problem that it is difficult to perform good display. Further, there is a problem that it is difficult to form a columnar spacer having a height corresponding to the cell gap in the liquid crystal lens.
In addition, in the field of semiconductors and the field of printed circuit boards, columnar formed articles having a sufficient height have not been obtained.

なお、液晶レンズに用いられる上述の柱状スペーサに限らず、従来から、液晶表示装置用柱状スペーサ等の柱状形成物は、透明樹脂組成物を用いたフォトリソグラフィ法によって形成される。この際に用いられる透明樹脂組成物としては、吸収ピークがより短波長側にある光重合開始剤を含有するものが好適に用いられている。なお、光重合開始剤の吸収ピークについては、後述する。   In addition, not only the above-mentioned columnar spacer used for the liquid crystal lens, but also a columnar formed product such as a columnar spacer for a liquid crystal display device is conventionally formed by a photolithography method using a transparent resin composition. As the transparent resin composition used in this case, one containing a photopolymerization initiator having an absorption peak on the shorter wavelength side is suitably used. The absorption peak of the photopolymerization initiator will be described later.

特開2009−276624号公報JP 2009-276624 A 特開2006−293241号公報JP 2006-293241 A 特開2012−173517号公報JP 2012-173517 A

上述した電子素子において望まれている柱状形成物に必要な高さ、および下底の幅に対する高さの比率は、従来の柱状形成物の高さおよび下底の幅に対する高さの比率(以下、「下底の幅に対する高さの比率」をアスペクト比と称して説明する場合がある。)に比べて高い。また、電子素子における柱状形成物には、強度の観点から、上底の幅および下底の幅の差の絶対値が小さいことが求められる。   The height required for the columnar formation desired in the electronic device described above and the ratio of the height to the width of the lower base are the ratio of the height of the conventional columnar formation and the height of the lower base (hereinafter referred to as the height). , “The ratio of the height to the width of the lower base” is sometimes referred to as an aspect ratio). In addition, the columnar formed article in the electronic device is required to have a small absolute value of the difference between the width of the upper base and the width of the lower base from the viewpoint of strength.

本発明者らは、上記実情に鑑みて鋭意研究を行った結果、従来から、柱状形成物の形成には不向きとされている、吸収ピークが長波長側にある光重合開始剤を含有する透明樹脂組成物を用いることにより、良好な形状を有する柱状形成物を形成することができることを見出し、本発明を完成させるに至った。   As a result of intensive studies in view of the above circumstances, the present inventors have heretofore been known to be unsuitable for the formation of columnar products, and contain a photopolymerization initiator having an absorption peak on the long wavelength side. By using a resin composition, it discovered that the columnar formation which has a favorable shape can be formed, and came to complete this invention.

すなわち、本発明は、良好な形状を有する柱状形成物を形成することが可能な柱状形成物用透明樹脂組成物、液晶レンズ用柱状形成物用透明樹脂組成物およびこれを用いた柱状形成物付基板の製造方法、液晶レンズ用柱状形成物付基板の製造方法、柱状形成物付基板ならびに液晶レンズ用柱状形成物付基板を提供することを主目的とする。   That is, the present invention relates to a transparent resin composition for columnar formations capable of forming a columnar formation having a good shape, a transparent resin composition for columnar formations for liquid crystal lenses, and a columnar formation using the same. The main object is to provide a method for manufacturing a substrate, a method for manufacturing a substrate with a columnar product for a liquid crystal lens, a substrate with a columnar product, and a substrate with a columnar product for a liquid crystal lens.

上記目的を達成するために、本発明は、基板と、上記基板上に形成された柱状形成物とを有する柱状形成物付基板において上記柱状形成物を形成するために用いられる柱状形成物用透明樹脂組成物であって、モノマーと、ポリマーと、光重合開始剤とを含有し、上記光重合開始剤の最も強い吸収ピークが310nm〜380nmの範囲内であることを特徴とする柱状形成物用透明樹脂組成物を提供する。   In order to achieve the above object, the present invention provides a transparent column-shaped product used for forming the columnar product in a substrate with a columnar product having a substrate and a columnar product formed on the substrate. A resin composition comprising a monomer, a polymer, and a photopolymerization initiator, wherein the strongest absorption peak of the photopolymerization initiator is in the range of 310 nm to 380 nm. A transparent resin composition is provided.

本発明によれば、上述の光重合開始剤を含有することにより、良好な形状を有する柱状形成物を形成することが可能な柱状形成物用透明樹脂組成物とすることができる。   According to this invention, it can be set as the transparent resin composition for columnar formations which can form the columnar formation which has a favorable shape by containing the above-mentioned photoinitiator.

上記発明においては、上記柱状形成物用透明樹脂組成物中に含有される上記モノマーの質量および上記ポリマーの質量の比率が、モノマーの質量:ポリマーの質量=70:30〜90:10の範囲内であることが好ましい。良好な形状を有する柱状形成物を好適に形成することができるからである。   In the above invention, the ratio of the mass of the monomer and the mass of the polymer contained in the transparent resin composition for columnar formation is within the range of monomer mass: polymer mass = 70: 30 to 90:10. It is preferable that This is because a columnar formed product having a good shape can be suitably formed.

本発明は、基板と、上記基板上に形成され上記基板および液晶レンズとした際に用いられる対向基板の間を一定の距離に保持する液晶レンズ用柱状形成物とを有する液晶レンズ用柱状形成物付基板において上記液晶レンズ用柱状形成物を形成するために用いられる液晶レンズ用柱状形成物用透明樹脂組成物であって、モノマーと、ポリマーと、光重合開始剤とを含有し、上記光重合開始剤の最も強い吸収ピークが310nm〜380nmの範囲内であることを特徴とする液晶レンズ用柱状形成物用透明樹脂組成物を提供する。   The present invention provides a columnar formation for a liquid crystal lens having a substrate and a columnar formation for a liquid crystal lens that is formed on the substrate and is used when the substrate and the liquid crystal lens are used to maintain a constant distance between the opposing substrates. A transparent resin composition for a liquid crystal lens columnar formation used for forming the liquid crystal lens columnar formation on a substrate, comprising a monomer, a polymer, and a photopolymerization initiator, wherein the photopolymerization Provided is a transparent resin composition for a columnar formed article for a liquid crystal lens, wherein the strongest absorption peak of the initiator is in the range of 310 nm to 380 nm.

本発明によれば、上述の光重合開始剤を含有することにより、良好な形状を有する液晶レンズ用柱状形成物を形成することが可能な液晶レンズ用柱状形成物用透明樹脂組成物とすることができる。   According to this invention, it is set as the transparent resin composition for columnar formations for liquid crystal lenses which can form the columnar formation for liquid crystal lenses which has a favorable shape by containing the above-mentioned photoinitiator. Can do.

本発明は、基板上に透明樹脂組成物を塗布して塗膜を形成する塗布工程と、上記塗膜を露光した後、現像することにより柱状形成物を形成する露光現像工程とを有する柱状形成物付基板の製造方法であって、上記透明樹脂組成物が、モノマーと、ポリマーと、光重合開始剤とを含有し、上記光重合開始剤の最も強い吸収ピークが310nm〜380nmの範囲内であることを特徴とする柱状形成物付基板の製造方法を提供する。   The present invention provides a columnar formation having a coating step of coating a transparent resin composition on a substrate to form a coating film, and an exposure development step of forming a columnar formation by developing after exposing the coating film. A method for producing an article-attached substrate, wherein the transparent resin composition contains a monomer, a polymer, and a photopolymerization initiator, and the strongest absorption peak of the photopolymerization initiator is within a range of 310 nm to 380 nm. There is provided a method of manufacturing a substrate with a columnar product,

本発明によれば、上述の透明樹脂組成物を用いることにより、良好な形状を有する柱状形成物を有する柱状形成物付基板を製造することができる。   According to the present invention, by using the above-described transparent resin composition, it is possible to produce a substrate with a columnar product having a columnar product having a good shape.

本発明は、基板上に透明樹脂組成物を塗布して塗膜を形成する塗布工程と、上記塗膜を露光した後、現像することにより上記基板および液晶レンズとした際に用いられる対向基板の間を一定の距離に保持する液晶レンズ用柱状形成物を形成する露光現像工程とを有する液晶レンズ用柱状形成物付基板の製造方法であって、上記透明樹脂組成物が、モノマーと、ポリマーと、光重合開始剤とを含有し、上記光重合開始剤の最も強い吸収ピークが310nm〜380nmの範囲内であることを特徴とする液晶レンズ用柱状形成物付基板の製造方法を提供する。   The present invention includes a coating step of coating a transparent resin composition on a substrate to form a coating film, and a counter substrate used when the coating film is exposed and then developed to form the substrate and a liquid crystal lens. A method for producing a substrate with a columnar product for liquid crystal lenses, wherein the transparent resin composition comprises a monomer, a polymer, And a photopolymerization initiator, wherein the photopolymerization initiator has a strongest absorption peak in the range of 310 nm to 380 nm.

本発明によれば、上述の透明樹脂組成物を用いることにより、良好な形状を有する液晶レンズ用柱状形成物を有する液晶レンズ用柱状形成物付基板を製造することができる。   According to the present invention, by using the transparent resin composition described above, it is possible to manufacture a substrate with a columnar product for liquid crystal lenses having a columnar product for liquid crystal lenses having a good shape.

本発明は、基板と、上記基板上に形成され透明樹脂を含有する柱状形成物とを有する柱状形成物付基板であって、上記柱状形成物の高さが30μm〜100μmの範囲内であり、上底の幅および下底の幅の差の絶対値が5.0μm以下であり、上記下底の幅に対する上記高さの比率が、1.7〜2.3の範囲内であることを特徴とする柱状形成物付基板を提供する。   The present invention is a substrate with a columnar product having a substrate and a columnar product formed on the substrate and containing a transparent resin, the height of the columnar product is in the range of 30 μm to 100 μm, The absolute value of the difference between the width of the upper base and the width of the lower base is 5.0 μm or less, and the ratio of the height to the width of the lower base is within a range of 1.7 to 2.3. A substrate with a columnar product is provided.

本発明によれば、従来の柱状形成物に比べて、その高さが高く、上底の幅および下底の幅の差の絶対値が小さく、下底の幅に対する高さの比率が大きい柱状形成物を有する柱状形成物付基板とすることができる。   According to the present invention, the height of the columnar formation is higher, the absolute value of the difference between the width of the upper base and the width of the lower base is small, and the ratio of the height to the width of the lower base is large. It can be set as the board | substrate with a columnar formation which has a formation.

本発明は、基板と、上記基板上に形成され透明樹脂を含有し上記基板および液晶レンズとした際に用いられる対向基板の間を一定の距離に保持する液晶レンズ用柱状形成物とを有する液晶レンズ用柱状形成物付基板であって、上記液晶レンズ用柱状形成物の高さが30μm〜100μmの範囲内であり、上底の幅および下底の幅の差の絶対値が5.0μm以下であり、上記下底の幅に対する上記高さの比率が、1.7〜2.3の範囲内であることを特徴とする液晶レンズ用柱状形成物付基板を提供する。   The present invention provides a liquid crystal having a substrate and a columnar formation for a liquid crystal lens, which is formed on the substrate and contains a transparent resin, and maintains a constant distance between the substrate and a counter substrate used as a liquid crystal lens. A substrate with a lens columnar product, wherein the height of the liquid crystal lens columnar product is in the range of 30 μm to 100 μm, and the absolute value of the difference between the width of the upper base and the width of the lower base is 5.0 μm or less. And the ratio of the height to the width of the lower base is in the range of 1.7 to 2.3.

本発明によれば、上記液晶レンズ用柱状形成物を有することにより、液晶レンズとした際にセルギャップを良好に維持することができ、良好な強度を有する液晶レンズ用液晶レンズ用柱状形成物とすることができる。   According to the present invention, by having the above-mentioned columnar formation for a liquid crystal lens, the cell gap can be maintained well when the liquid crystal lens is formed, and the liquid crystal lens columnar formation for a liquid crystal lens having good strength and can do.

本発明の柱状形成物用透明樹脂組成物は、良好な形状を有する柱状形成物を形成することが可能であるといった作用効果を奏する。   The transparent resin composition for a columnar product of the present invention has the effect of being able to form a columnar product having a good shape.

本発明の柱状形成物付基板の一例を示す概略断面図である。It is a schematic sectional drawing which shows an example of the board | substrate with a columnar formation of this invention. 本発明の柱状形成物付基板の他の例を示す概略断面図である。It is a schematic sectional drawing which shows the other example of the board | substrate with a columnar formation of this invention. 本発明の液晶レンズ用柱状形成物付基板を用いた液晶レンズの一例を示す概略断面図である。It is a schematic sectional drawing which shows an example of the liquid crystal lens using the board | substrate with a columnar formation for liquid crystal lenses of this invention. 本発明の液晶レンズ用柱状形成物付基板の製造方法の一例を示す工程図である。It is process drawing which shows an example of the manufacturing method of the board | substrate with a columnar formation for liquid crystal lenses of this invention. 本発明における液晶レンズ用柱状形成物の形状を説明するための説明図である。It is explanatory drawing for demonstrating the shape of the columnar formation for liquid crystal lenses in this invention. 本発明の柱状形成物付基板の他の例を示す概略断面図である。It is a schematic sectional drawing which shows the other example of the board | substrate with a columnar formation of this invention.

以下、柱状形成物用透明樹脂組成物、液晶レンズ用柱状形成物用透明樹脂組成物、柱状形成物付基板の製造方法、液晶レンズ用柱状形成物付基板の製造方法、柱状形成物付基板、および液晶レンズ用柱状形成物付基板について説明する。   Hereinafter, transparent resin composition for columnar formation, transparent resin composition for columnar formation for liquid crystal lens, method for manufacturing substrate with columnar formation, method for manufacturing substrate with columnar formation for liquid crystal lens, substrate with columnar formation, A substrate with a columnar product for liquid crystal lenses will be described.

A.柱状形成物用透明樹脂組成物
本発明の柱状形成物用透明樹脂組成物(以下、単に透明樹脂組成物と称して説明する場合がある。)は、基板と、上記基板上に形成された柱状形成物とを有する柱状形成物付基板において上記柱状形成物を形成するために用いられるものであって、モノマーと、ポリマーと、光重合開始剤とを含有し、上記光重合開始剤の最も強い吸収ピークが310nm〜380nmの範囲内であることを特徴とするものである。
A. Transparent resin composition for columnar formed product The transparent resin composition for columnar formed product of the present invention (hereinafter sometimes simply referred to as a transparent resin composition) is a substrate and a columnar shape formed on the substrate. A columnar product-attached substrate having a product is used to form the columnar product, and includes a monomer, a polymer, and a photopolymerization initiator, and is the strongest of the photopolymerization initiators. The absorption peak is in the range of 310 nm to 380 nm.

「光重合開始剤の最も強い吸収ピーク」とは、光重合開始剤が吸収する波長のピークのうち最も強いピークをいう。より具体的には、本発明において、光重合開始剤が吸収する波長のピークが複数存在する場合においては最も強いピークを、「光重合開始剤の最も強い吸収ピーク」とする。また、光重合開始剤においては、通常、上述した最も強い吸収ピークの波長が照射されることにより光ラジカル反応の祖反応を生じる。
光重合開始剤の吸収ピークは、光重合開始剤を溶剤に溶解させて、日立分光光度計U-3900などの分光光度計を用いることで吸光スペクトルを測定することにより求めることができる。
The “strongest absorption peak of the photopolymerization initiator” refers to the strongest peak among the wavelength peaks absorbed by the photopolymerization initiator. More specifically, in the present invention, when there are a plurality of wavelength peaks absorbed by the photopolymerization initiator, the strongest peak is defined as “the strongest absorption peak of the photopolymerization initiator”. In addition, in the photopolymerization initiator, usually, the strongest absorption peak wavelength described above is irradiated to cause a radical reaction of a photoradical reaction.
The absorption peak of the photopolymerization initiator can be obtained by dissolving the photopolymerization initiator in a solvent and measuring the absorption spectrum using a spectrophotometer such as Hitachi spectrophotometer U-3900.

本明細書においては、上記光重合開始剤の最も強い吸収ピークが310nm〜380nmの範囲内である光重合開始剤を「吸収ピークが長波長側にある光重合開始剤」と称し、上記光重合開始剤の最も強い吸収ピークが上記範囲に満たない光重合開始剤を「吸収ピークが短波長側にある光重合開始剤」と称して説明する。   In this specification, the photopolymerization initiator having the strongest absorption peak of the photopolymerization initiator in the range of 310 nm to 380 nm is referred to as “photopolymerization initiator having an absorption peak on the long wavelength side”, and the photopolymerization A photopolymerization initiator in which the strongest absorption peak of the initiator is less than the above range will be referred to as “a photopolymerization initiator having an absorption peak on the short wavelength side”.

ここで、本発明の透明樹脂組成物を用いて形成される柱状形成物付基板について、図を用いて説明する。
図1は本発明の透明樹脂組成物を用いて形成される柱状形成物付基板の一例を示す概略断面図であり、図2は本発明の透明樹脂組成物を用いて形成される柱状形成物付基板の他の例を示す概略断面図である。また、図1および図2においては、柱状形成物付基板が液晶レンズ用柱状形成物付基板である例について示している。図1および図2に示すように、液晶レンズ用柱状形成物付基板1においては、基板2と、基板2上に形成された液晶レンズ用柱状形成物3とを有する。また、液晶レンズ用柱状形成物付基板1は、通常、基板2上に透明電極層4が形成されており、透明電極層4上に液晶レンズ用柱状形成物3が形成される。図1においては、透明電極層4が基板2上に連続して形成されている例について示しており、図2においては、透明電極層4が基板2上にパターン状に形成されている例について示している。
Here, the columnar article-formed substrate formed using the transparent resin composition of the present invention will be described with reference to the drawings.
FIG. 1 is a schematic sectional view showing an example of a substrate with a columnar product formed using the transparent resin composition of the present invention, and FIG. 2 is a columnar product formed using the transparent resin composition of the present invention. It is a schematic sectional drawing which shows the other example of an attached board | substrate. 1 and FIG. 2 show an example in which the substrate with columnar formations is a substrate with columnar formations for liquid crystal lenses. As shown in FIGS. 1 and 2, the substrate 1 with a columnar product for liquid crystal lenses includes a substrate 2 and a columnar product 3 for liquid crystal lenses formed on the substrate 2. Further, in the substrate 1 with columnar formation for liquid crystal lenses, the transparent electrode layer 4 is usually formed on the substrate 2, and the columnar formation 3 for liquid crystal lenses is formed on the transparent electrode layer 4. FIG. 1 shows an example in which the transparent electrode layer 4 is continuously formed on the substrate 2, and FIG. 2 shows an example in which the transparent electrode layer 4 is formed in a pattern on the substrate 2. Show.

また、図3は液晶レンズの一例を示す概略断面図である。図3に示すように、液晶レンズ30においては、液晶レンズ用柱状形成物付基板1と、対向基板12と、液晶レンズ用柱状形成物付基板1および対向基板12の間に形成された液晶層20とを有する。対向基板12は、通常、対向基板12上に形成された透明電極層14とを有する。液晶レンズ30においては、通常、液晶レンズ用柱状形成物付基板1の液晶レンズ用柱状形成物3側の面と、対向基板12の透明電極層14が形成された面とが対向するように配置される。また、液晶レンズ用柱状形成物付基板1に形成された透明電極層4と、対向基板12上に形成された透明電極層14とは、通常、一方が連続的に形成されたものであり、他方が長尺の透明電極層がストライプ状に配列されたものである。また、液晶レンズ30は、通常、液晶層20を封止するためのシール材31を有する。   FIG. 3 is a schematic sectional view showing an example of a liquid crystal lens. As shown in FIG. 3, in the liquid crystal lens 30, the liquid crystal lens columnar substrate 1, the counter substrate 12, the liquid crystal lens columnar substrate 1, and the liquid crystal layer formed between the counter substrate 12. 20. The counter substrate 12 usually has a transparent electrode layer 14 formed on the counter substrate 12. In the liquid crystal lens 30, the liquid crystal lens columnar product-attached substrate 1 is usually disposed so that the surface on the liquid crystal lens columnar product 3 side faces the surface of the counter substrate 12 on which the transparent electrode layer 14 is formed. Is done. In addition, the transparent electrode layer 4 formed on the liquid crystal lens columnar substrate 1 and the transparent electrode layer 14 formed on the counter substrate 12 are usually formed continuously one after the other. The other is a long transparent electrode layer arranged in a stripe shape. In addition, the liquid crystal lens 30 usually has a sealing material 31 for sealing the liquid crystal layer 20.

本発明によれば、上述の光重合開始剤を含有することにより、良好な形状を有する柱状形成物を形成することが可能な柱状形成物用透明樹脂組成物とすることができる。   According to this invention, it can be set as the transparent resin composition for columnar formations which can form the columnar formation which has a favorable shape by containing the above-mentioned photoinitiator.

より具体的には、本発明によれば、上述の光重合開始剤を含有することにより、透明樹脂組成物の深部硬化性を良好なものとすることができる。
ここで、上述の電子素子に用いられる柱状形成物においては、その形成面積については従来の柱状形成物と同等程度であるが、従来の柱状形成物に比べてより高さが高いことが要求される。そのため、フォトリソグラフィ法により基板上に高さの高い柱状形成物を形成する際には、柱状形成物の高さに対応する厚さで基板上に透明樹脂組成物の塗膜を形成する。本発明においては、透明樹脂組成物の深部硬化性を良好なものとすることができるため、上記透明樹脂組成物の塗膜の露光時に、塗膜表面だけでなく塗膜の厚さ方向においても、特に基板近傍においても光重合反応を良好に進行させることができる。よって、高さ、上底の幅および下底の幅の差の絶対値、ならびにアスペクト比が良好な柱状形成物を得ることができる。
More specifically, according to the present invention, the deep part curability of the transparent resin composition can be improved by containing the above-described photopolymerization initiator.
Here, in the columnar formation used in the above-described electronic device, the formation area is about the same as that of the conventional columnar formation, but the height is required to be higher than that of the conventional columnar formation. The Therefore, when forming a columnar product having a high height on the substrate by photolithography, a coating film of the transparent resin composition is formed on the substrate with a thickness corresponding to the height of the columnar product. In the present invention, since the deep part curability of the transparent resin composition can be made favorable, at the time of exposure of the coating film of the transparent resin composition, not only in the coating film surface but also in the thickness direction of the coating film In particular, the photopolymerization reaction can proceed well even in the vicinity of the substrate. Therefore, it is possible to obtain a columnar formed article having a good height, the absolute value of the difference between the width of the upper base and the width of the lower base, and the aspect ratio.

なお、吸収ピークが短波長側にある光重合開始剤を用いた透明樹脂組成物、すなわち、従来の柱状形成物に用いられる透明樹脂組成物(以下、従来の透明樹脂組成物と称して説明する場合がある。)を用いた場合において、良好な形状を有する柱状形成物を形成することが困難な理由については、以下のように考えられる。
柱状形成物の高さに対応する厚さで基板上に従来の透明樹脂組成物の塗膜を形成し、露光を行なった場合、塗膜表面においては光重合反応を良好に進行させることができるものの、塗膜の厚さ方向においては光重合反応を十分に進行させることができないことが考えられる。そのため、現像時においては、塗膜の表面に比べて基板近傍における現像が進み柱状形成物における上底の幅に比べ下底の幅が小さくなりすぎる場合や、基板から塗膜自体が除去される場合があるため、良好な形状を有する柱状形成物を形成すること自体が困難となることが考えられる。
A transparent resin composition using a photopolymerization initiator having an absorption peak on the short wavelength side, that is, a transparent resin composition used for a conventional columnar formation (hereinafter referred to as a conventional transparent resin composition). In some cases, the reason why it is difficult to form a columnar formed product having a good shape is considered as follows.
When a coating film of a conventional transparent resin composition is formed on a substrate with a thickness corresponding to the height of the columnar formed product and exposed to light, the photopolymerization reaction can proceed well on the coating film surface. However, it is considered that the photopolymerization reaction cannot sufficiently proceed in the thickness direction of the coating film. Therefore, at the time of development, the development in the vicinity of the substrate proceeds compared to the surface of the coating film, and the width of the lower base becomes too small compared to the width of the upper base in the columnar formed product, or the coating film itself is removed from the substrate. In some cases, it may be difficult to form a columnar product having a good shape.

フォトリソグラフィ法においてパターン状に樹脂層を形成する場合、露光光として、より長波長側の光を用いた場合に深部硬化性を高く発揮することができることについてはすでに知られているが、液晶表示装置における柱状スペーサ等の従来の従来の柱状形成物においては、以下の理由から吸収ピークが長波長側にある光重合開始剤は不向きと考えられている。
すなわち、従来の柱状形成物においては、本発明における柱状形成物に求められるほどの高さが想定されていない。また、従来の柱状形成物としては、例えば液晶表示装置の柱状スペーサ等の数μm程度の高さを有するものが好適に用いられている。そのため、従来の柱状形成物における形状は、主として露光時における塗膜表面の硬化性が大きく影響すると考えられている。そこで、露光光としては表面硬化性を高く発揮する短波長側の光が好適に用いられており、吸収ピークが短波長側にある光重合開始剤が好適に用いられている。
In the case of forming a resin layer in a pattern by photolithography, it is already known that deep part curability can be exhibited highly when light having a longer wavelength is used as exposure light. In conventional conventional columnar products such as columnar spacers in an apparatus, a photopolymerization initiator having an absorption peak on the long wavelength side is considered unsuitable for the following reasons.
That is, in the conventional columnar formation, the height required for the columnar formation in the present invention is not assumed. Moreover, as a conventional columnar formation, for example, a columnar spacer of a liquid crystal display device having a height of about several μm is preferably used. Therefore, it is considered that the shape of the conventional columnar formed product is largely influenced by the curability of the coating film surface during exposure. Therefore, as the exposure light, light on the short wavelength side exhibiting high surface curability is suitably used, and a photopolymerization initiator having an absorption peak on the short wavelength side is suitably used.

本発明は、従来から、柱状形成物の形成に用いられる光重合開始剤として不向きと考えられている、吸収ピークが長波長側にある光重合開始剤を柱状形成物の形成に用いることができることを見出した点に特徴を有するものである。
以下、本発明の透明樹脂組成物の詳細について説明する。
The present invention can use a photopolymerization initiator having an absorption peak on the long wavelength side, which is conventionally considered unsuitable as a photopolymerization initiator used for forming a columnar product, to form a columnar product. It has the feature in the point which discovered.
Hereinafter, the details of the transparent resin composition of the present invention will be described.

1.光重合開始剤
本発明に用いられる光重合開始剤は、その最も強い吸収ピークが310nm〜380nmの範囲内であるものである。
光重合開始剤の最も強い吸収ピークとしては、上述の範囲内であれば特に限定されないが、なかでも315nm〜375nmの範囲内であることが好ましく、特に320nm〜370nmの範囲内であることが好ましい。
上記最も強い吸収ピークが小さいと、柱状形成物の形状を良好なものとすることが困難となる可能性があるからである。また、上記最も強い吸収ピークが大きいと、重合反応が十分に進まず、本発明の透明樹脂組成物を用いて柱状形成物自体を形成することが困難となる可能性があるからである。
1. Photopolymerization initiator The photopolymerization initiator used in the present invention has a strongest absorption peak in the range of 310 nm to 380 nm.
The strongest absorption peak of the photopolymerization initiator is not particularly limited as long as it is within the above-mentioned range, but is particularly preferably within the range of 315 nm to 375 nm, and particularly preferably within the range of 320 nm to 370 nm. .
This is because if the strongest absorption peak is small, it may be difficult to improve the shape of the columnar formed product. Moreover, if the strongest absorption peak is large, the polymerization reaction does not proceed sufficiently, and it may be difficult to form the columnar product itself using the transparent resin composition of the present invention.

本発明で使用される光重合開始剤としては、例えば、紫外線のエネルギーによりフリーラジカルを発生する化合物であって、オキシムエステル系化合物、アセトフェノン系化合物、ベンゾフェノン系化合物、ビイミダゾール系化合物、ベンゾイン系化合物、α−ジケトン系化合物、多核キノン系化合物、キサントン系化合物、チオキサントン系化合物、トリアジン系化合物、ケタール系化合物、アゾ系化合物、過酸化物、2,3−ジアルキルジオン系化合物、ジスルフィド系化合物、チウラム化合物類、フルオロアミン系化合物などが挙げられる。これらは1種又は2種以上混合して用いることができる。   The photopolymerization initiator used in the present invention is, for example, a compound that generates free radicals by the energy of ultraviolet rays, and is an oxime ester compound, an acetophenone compound, a benzophenone compound, a biimidazole compound, or a benzoin compound. , Α-diketone compounds, polynuclear quinone compounds, xanthone compounds, thioxanthone compounds, triazine compounds, ketal compounds, azo compounds, peroxides, 2,3-dialkyldione compounds, disulfide compounds, thiuram Examples thereof include compounds and fluoroamine compounds. These can be used alone or in combination.

光重合開始剤として、具体的には、ベンゾフェノン、ミヒラーケトン(4,4'−ビスジメチルアミノベンゾフェノン)、4,4'−ビスジエチルアミノベンゾフェノン、4−メトキシ−4'−ジメチルアミノベンゾフェノン、2−エチルアントラキノン、フェナントレンなどの芳香族ケトン、ベンゾインメチルエーテル、ベンゾインエチルエーテル、ベンゾインフェニルエーテルなどのベンゾインエーテル類、メチルベンゾイン、エチルベンゾインなどのベンゾイン、2−(o−クロロフェニル)−4,5−フェニルイミダゾール2量体、2−(o−クロロフェニル)−4,5−ジ(m−メトキシフェニル)イミダゾール2量体、2−(o−フルオロフェニル)−4,5−ジフェニルイミダゾール2量体、2−(o−メトキシフェニル)−4,5−ジフェニルイミダゾール2量体、2,4,5−トリアリールイミダゾール2量体、2−(o−クロロフェニル)−4,5−ジ(m−メチルフェニル)イミダゾール2量体、2−ベンジル−2−ジメチルアミノ−1−(4−モルフォリノフェニル)−ブタノン、2−トリクロロメチル−5−スチリル−1,3,4−オキサジアゾール、2−トリクロロメチル−5−(p−シアノスチリル)−1,3,4−オキサジアゾール、2−トリクロロメチル−5−(p−メトキシスチリル)−1,3,4−オキサジアゾール等のハロメチルチアゾール化合物、2,4−ビス(トリクロロメチル)−6−p−メトキシスチリル−S−トリアジン、2,4−ビス(トリクロロメチル)−6−(1−p−ジメチルアミノフェニル−1,3−ブタジエニル)−S−トリアジン、2−トリクロロメチル−4−アミノ−6−p−メトキシスチリル−S−トリアジン、2−(ナフト−1−イル)−4,6−ビス−トリクロロメチル−S−トリアジン、2−(4−エトキシ−ナフト−1−イル)−4,6−ビス−トリクロロメチル−S−トリアジン、2−(4−ブトキシ−ナフト−1−イル)−4,6−ビス−トリクロロメチル−S−トリアジン等のハロメチル−S−トリアジン系化合物、2,2−ジメトキシ−1,2−ジフェニルエタン−1−オン、2−メチル−1−〔4−(メチルチオ)フェニル〕−2−モルフォリノプロパノン、1,2−ベンジル−2−ジメチルアミノ−1−(4−モルフォリノフェニル)−ブタノン−1,1−ヒドロキシ−シクロヘキシル−フェニルケトン、ベンジル、ベンゾイル安息香酸、ベンゾイル安息香酸メチル、4−ベンゾイル−4’−メチルジフェニルサルファイド、ベンジルメチルケタール、ジメチルアミノベンゾエート、P−ジメチルアミノ安息香酸イソアミル、2−n−ブチキシエチル−4−ジメチルアミノベンゾエート、2−クロロチオキサントン、2,4ジエチルチオキサントン、2,4ジメチルチオキサントン、イソプロピルチオキサントンなどの光重合開始剤が挙げられる。   Specific examples of the photopolymerization initiator include benzophenone, Michler's ketone (4,4′-bisdimethylaminobenzophenone), 4,4′-bisdiethylaminobenzophenone, 4-methoxy-4′-dimethylaminobenzophenone, and 2-ethylanthraquinone. , Aromatic ketones such as phenanthrene, benzoin ethers such as benzoin methyl ether, benzoin ethyl ether and benzoin phenyl ether, benzoin such as methyl benzoin and ethyl benzoin, 2- (o-chlorophenyl) -4,5-phenylimidazole 2- (o-chlorophenyl) -4,5-di (m-methoxyphenyl) imidazole dimer, 2- (o-fluorophenyl) -4,5-diphenylimidazole dimer, 2- (o- Methoxyphenyl) -4, -Diphenylimidazole dimer, 2,4,5-triarylimidazole dimer, 2- (o-chlorophenyl) -4,5-di (m-methylphenyl) imidazole dimer, 2-benzyl-2- Dimethylamino-1- (4-morpholinophenyl) -butanone, 2-trichloromethyl-5-styryl-1,3,4-oxadiazole, 2-trichloromethyl-5- (p-cyanostyryl) -1, Halomethylthiazole compounds such as 3,4-oxadiazole, 2-trichloromethyl-5- (p-methoxystyryl) -1,3,4-oxadiazole, 2,4-bis (trichloromethyl) -6- p-methoxystyryl-S-triazine, 2,4-bis (trichloromethyl) -6- (1-p-dimethylaminophenyl-1,3-butadienyl)- -Triazine, 2-trichloromethyl-4-amino-6-p-methoxystyryl-S-triazine, 2- (naphth-1-yl) -4,6-bis-trichloromethyl-S-triazine, 2- (4 -Ethoxy-naphth-1-yl) -4,6-bis-trichloromethyl-S-triazine, 2- (4-butoxy-naphth-1-yl) -4,6-bis-trichloromethyl-S-triazine, etc. Halomethyl-S-triazine compounds, 2,2-dimethoxy-1,2-diphenylethane-1-one, 2-methyl-1- [4- (methylthio) phenyl] -2-morpholinopropanone, 1,2 -Benzyl-2-dimethylamino-1- (4-morpholinophenyl) -butanone-1,1-hydroxy-cyclohexyl-phenyl ketone, benzyl, benzoyl Benzoic acid, methyl benzoylbenzoate, 4-benzoyl-4′-methyldiphenyl sulfide, benzylmethyl ketal, dimethylaminobenzoate, isoamyl P-dimethylaminobenzoate, 2-n-butoxyethyl-4-dimethylaminobenzoate, 2- Examples include photopolymerization initiators such as chlorothioxanthone, 2,4 diethylthioxanthone, 2,4 dimethylthioxanthone, and isopropylthioxanthone.

光重合開始剤の商品名としては、イルガキュア369(チバ・スペシャルティケミカルズ社製)、イルガキュアOXE02(チバ・スペシャルティケミカルズ社製)、NCI831(アデカ社製)等が挙げられる。本発明では、これらの光重合開始剤を単独で、または2種以上を混合して使用することができる。   As a brand name of a photoinitiator, Irgacure 369 (made by Ciba Specialty Chemicals), Irgacure OXE02 (made by Ciba Specialty Chemicals), NCI831 (made by Adeka) etc. are mentioned. In this invention, these photoinitiators can be used individually or in mixture of 2 or more types.

光重合開始剤の含有量としては、柱状形成物を形成することができれば特に限定されないが、具体的には、透明樹脂組成物の固形成分に対して、0.5質量%〜5.0質量%の範囲内、なかでも1.0質量%〜4.0質量%の範囲内、特に1.5質量%〜3.0質量%の範囲内であることが好ましい。
光重合開始剤の量が少なすぎると塗膜の硬化不足が起こる可能性があり、光重合開始剤の量が多すぎると塗膜表面付近の感度が上がることで所定の大きさより大きな柱状形成物となってしまう可能性があるからである。
なお、本発明において、「透明樹脂組成物の固形成分」とは、透明樹脂組成物が後述する溶剤を含有する場合、溶剤を除いた透明樹脂組成物の成分をいう。
The content of the photopolymerization initiator is not particularly limited as long as a columnar formed product can be formed, but specifically, 0.5% by mass to 5.0% by mass with respect to the solid component of the transparent resin composition. %, In particular, 1.0% to 4.0% by weight, particularly 1.5% to 3.0% by weight.
If the amount of the photopolymerization initiator is too small, the coating may be insufficiently cured, and if the amount of the photopolymerization initiator is too large, the sensitivity near the surface of the coating will increase, resulting in a columnar formation larger than the predetermined size. This is because there is a possibility of becoming.
In addition, in this invention, the "solid component of a transparent resin composition" means the component of the transparent resin composition except the solvent, when the transparent resin composition contains the solvent mentioned later.

2.モノマー
本発明に用いられるモノマーとしては、例えば、アリルアクリレート、ベンジルアクリレート、ブトキシエチルアクリレート、ブトキシエチレングリコールアクリレート、シクロヘキシルアクリレート、ジシクロペンタニルアクリレート、2−エチルヘキシルアクリレート、グリセロールアクリレート、グリシジルアクリレート、2−ヒドロキシエチルアクリレート、2−ヒドロシプロピルアクリレート、イソボニルアクリレート、イソデキシルアクリレート、イソオクチルアクリレート、ラウリルアクリレート、2−メトキシエチルアクリレート、メトキシエチレングリコールアクリレート、フェノキシエチルアクリレート、ステアリルアクリレート、エチレングリコールジアクリレート、ジエチレングリコールジアクリレート、1,4−ブタンジオールジアクリレート、1,5−ペンタンジオールジアクリレート、1,6−ヘキサンジオールジアクリレート、1,3−プロパンジオールアクリレート、1,4−シクロヘキサンジオールジアクリレート、2,2−ジメチロールプロパンジアクリレート、グリセロールジアクリレート、トリプロピレングリコールジアクリレート、グリセロールトリアクリレート、トリメチロールプロパントリアクリレート、ポリオキシエチル化トリメチロールプロパントリアクリレート、ペンタエリスリトールトリアクリレート、ペンタエリスリトールテトラアクリレート、トリエチレングリコールジアクリレート、ポリオキシプロピルトリメチロールプロパントリアクリレート、ブチレングリコールジアクリレート、1,2,4−ブタントリオールトリアクリレート、2,2,4−トリメチル−1,3−ペンタンジオールジアクリレート、ジアリルフマレート、1,10−デカンジオールジメチルアクリレート、ジペンタエリスリトールヘキサアクリレート、ジペンタエリスリトールペンタアクリレート、および、上記のアクリレート基をメタクリレート基に置換したもの、γ−メタクリロキシプロピルトリメトキシシラン、1−ビニル−2−ピロリドン、2−ヒドロキシエチルアクリロイルホスフェート、テトラヒドロフルフリールアクリレート、ジシクロペンテニルアクリレート、ジシクロペンテニルオキシエチルアクリレート、3−ブタンジオールジアクリレート、ネオペンチルグリコールジアクリレート、ポリエチレングリコールジアクリレート、ヒドロキシピバリン酸エステルネオペンチルグリコールジアクリレート、フェノール−エチレンオキサイド変性アクリレート、フェノール−プロピレンオキサイド変性アクリレート、N−ビニル−2−ピロリドン、ビスフェノールA−エチレンオキサイド変性ジアクリレート、ペンタエリスリトールジアクリレートモノステアレート、テトラエチレングリコールジアクリレート、ポリプロピレングリコールジアクリレート、トリメチロールプロパンプロピレンオキサド変性トリアクリレート、イソシアヌール酸エチレンオキサイド変性トリアクリレート、トリメチロールプロパンエチレンオキサイド変性トリアクリレート、ペンタエリスリトールペンタアクリレート、ペンタエリスリトールヘキサアクリレート、ペンタエリスリトールテトラアクリレート等のアクリレートモノマー、および、これらのアクリレート基をメタクリレート基に置換したもの、ポリウレタン構造を有するオリゴマーにアクリレート基を結合させたウレタンアクリレートオリゴマー、ポリエステル構造を有するオリゴマーにアクリレート基を結合させたポリエステルアクリレートオリゴマー、エポキシ基を有するオリゴマーにアクリレート基を結合させたエポキシアクリレートオリゴマー、ポリウレタン構造を有するオリゴマーにメタクリレート基を結合させたウレタンメタクリレートオリゴマー、ポリエステル構造を有するオリゴマーにメタクリレート基を結合させたポリエステルメタクリレートオリゴマー、エポキシ基を有するオリゴマーにメタクリレート基を結合させたエポキシメタクリレートオリゴマー、アクリレート基を有するポリウレタンアクリレート、アクリレート基を有するポリエステルアクリレート、アクリレート基を有するエポキシアクリレート樹脂、メタクリレート基を有するポリウレタンメタクリレート、メタクリレート基を有するポリエステルメタクリレート、ならびにメタクリレート基を有するエポキシメタクリレート樹脂等が挙げられる。これらのモノマーを単独で用いてもよいし、2種以上を混合して用いてもよい。本発明においては、市販のモノマーを用いることもでき、例えば、SR399(サートマー(株)製)、アロニックスM−400(東亞合成(株)製)、およびアロニックスM−450(東亞合成(株)製)が好ましい。
2. Monomer Examples of the monomer used in the present invention include allyl acrylate, benzyl acrylate, butoxyethyl acrylate, butoxyethylene glycol acrylate, cyclohexyl acrylate, dicyclopentanyl acrylate, 2-ethylhexyl acrylate, glycerol acrylate, glycidyl acrylate, 2-hydroxy Ethyl acrylate, 2-hydroxypropyl acrylate, isobornyl acrylate, isodexyl acrylate, isooctyl acrylate, lauryl acrylate, 2-methoxyethyl acrylate, methoxyethylene glycol acrylate, phenoxyethyl acrylate, stearyl acrylate, ethylene glycol diacrylate, diethylene glycol Diacrylate, 1,4-butanediol diacrylate, 1,5-pentanediol diacrylate, 1,6-hexanediol diacrylate, 1,3-propanediol acrylate, 1,4-cyclohexanediol diacrylate, 2,2-dimethylol Propanediacrylate, glycerol diacrylate, tripropylene glycol diacrylate, glycerol triacrylate, trimethylolpropane triacrylate, polyoxyethylated trimethylolpropane triacrylate, pentaerythritol triacrylate, pentaerythritol tetraacrylate, triethylene glycol diacrylate, Polyoxypropyltrimethylolpropane triacrylate, butylene glycol diacrylate, 1,2,4-buta Triol triacrylate, 2,2,4-trimethyl-1,3-pentanediol diacrylate, diallyl fumarate, 1,10-decanediol dimethyl acrylate, dipentaerythritol hexaacrylate, dipentaerythritol pentaacrylate, and the above Acrylate group substituted with methacrylate group, γ-methacryloxypropyltrimethoxysilane, 1-vinyl-2-pyrrolidone, 2-hydroxyethylacryloyl phosphate, tetrahydrofurfuryl acrylate, dicyclopentenyl acrylate, dicyclopentenyloxyethyl Acrylate, 3-butanediol diacrylate, neopentyl glycol diacrylate, polyethylene glycol diacrylate, hydroxypivalin Acid ester neopentyl glycol diacrylate, phenol-ethylene oxide modified acrylate, phenol-propylene oxide modified acrylate, N-vinyl-2-pyrrolidone, bisphenol A-ethylene oxide modified diacrylate, pentaerythritol diacrylate monostearate, tetraethylene glycol Diacrylate, polypropylene glycol diacrylate, trimethylolpropane propylene oxide modified triacrylate, isocyanuric acid ethylene oxide modified triacrylate, trimethylolpropane ethylene oxide modified triacrylate, pentaerythritol pentaacrylate, pentaerythritol hexaacrylate, pentaerythritol tetraacrylate A Relate monomers, those obtained by substituting these acrylate groups with methacrylate groups, urethane acrylate oligomers in which acrylate groups are bonded to oligomers having a polyurethane structure, polyester acrylate oligomers in which acrylate groups are bonded to oligomers having a polyester structure, epoxy An epoxy acrylate oligomer in which an acrylate group is bonded to an oligomer having a group, a urethane methacrylate oligomer in which a methacrylate group is bonded to an oligomer having a polyurethane structure, a polyester methacrylate oligomer in which a methacrylate group is bonded to an oligomer having a polyester structure, an epoxy group Acrylates, epoxy methacrylate oligomers with methacrylate groups bonded to oligomers Polyurethane acrylates having group, polyester acrylates having an acrylate group, an epoxy acrylate resin having an acrylate group, a polyurethane methacrylate having a methacrylate group, an epoxy methacrylate resins having a polyester methacrylate, and methacrylate groups having methacrylate group. These monomers may be used alone or in combination of two or more. In the present invention, commercially available monomers can also be used. For example, SR399 (manufactured by Sartomer Co., Ltd.), Aronix M-400 (manufactured by Toagosei Co., Ltd.), and Aronix M-450 (manufactured by Toagosei Co., Ltd.) ) Is preferred.

モノマーの含有量としては、柱状形成物を形成することができれば特に限定されないが、具体的には、透明樹脂組成物の固形成分に対して、60質量%〜95質量%の範囲内、なかでも65質量%〜93質量%の範囲内、特に70質量%〜90質量%の範囲内であることが好ましい。   The content of the monomer is not particularly limited as long as a columnar formed product can be formed. Specifically, the content of the monomer is in the range of 60% by mass to 95% by mass with respect to the solid component of the transparent resin composition. It is preferable to be in the range of 65% by mass to 93% by mass, particularly in the range of 70% by mass to 90% by mass.

3.ポリマー
本発明に用いられるポリマーとしては、例えば、エチレン−酢酸ビニル共重合体、エチレン−塩化ビニル共重合体、エチレンビニル共重合体、ポリスチレン、アクリロニトリル−スチレン共重合体、ABS樹脂、ポリメタクリル酸樹脂、エチレンメタクリル酸樹脂、ポリ塩化ビニル樹脂、塩素化塩化ビニル、ポリビニルアルコール、セルロースアセテートプロピオネート、セルロースアセテートブチレート、ナイロン6、ナイロン66、ナイロン12、ポリエチレンテレフタレート、ポリブチレンテレフタレート、ポリカーボネート、ポリビニルアセタール、ポリエーテルエーテルケトン、ポリエーテルサルフォン、ポリフェニレンサルファイド、ポリアリレート、ポリビニルブチラール、エポキシ樹脂、フェノキシ樹脂、ポリイミド樹脂、ポリアミドイミド樹脂、ポリアミック酸樹脂、ポリエーテルイミド樹脂、フェノール樹脂、ユリア樹脂等、および、重合可能なモノマーであるメチルアクリレート、メチルメタクリレート、エチルアクリレート、エチルメタクリレート、n−プロピルアクリレート、n−プロピルメタクリレート、イソプロピルアクリレート、イソプロピルメタクリレート、sec−ブチルアクリレート、sec−ブチルメタクリレート、イソブチルアクリレート、イソブチルメタクリレート、tert−ブチルアクリレート、tert−ブチルメタクリレート、n−ペンチルアクリレート、n−ペンチルメタクリレート、n−ヘキシルアクリレート、n−ヘキシルメタクリレート、2−エチルヘキシルアクリレート、2−エチルヘキシルメタクリレート、n−オクチルアクリレート、n−オクチルメタクリレート、n−デシルアクリレート、n−デシルメタクリレート、2−ヒドロキシエチルメタクリレート、ベンジルメタクリレート、スチレン、α−メチルスチレン、N−ビニル−2−ピロリドン、グリシジル(メタ)アクリレートの1種以上と、アクリル酸、メタクリル酸、アクリル酸の2量体、イタコン酸、クロトン酸、マレイン酸、フマル酸、ビニル酢酸、ならびにこれらの酸無水物等の一種以上とからなるポリマーまたはコポリマー等が挙げられる。これらのポリマーを単独で用いてもよいし、2種以上を混合して用いてもよい。本発明においては、市販のポリマーを用いることもでき、例えば、エピコート180S70(油化シェルエポキシ(株)製)、アロニックスM−5600(東亞合成(株)製)、アロニックスM−6200(東亞合成(株)製)、アロニックスM−7100(東亞合成(株)製)、およびアロニックスM−9050(東亞合成(株)製)が好ましい。
3. Polymer Examples of the polymer used in the present invention include ethylene-vinyl acetate copolymer, ethylene-vinyl chloride copolymer, ethylene vinyl copolymer, polystyrene, acrylonitrile-styrene copolymer, ABS resin, and polymethacrylic acid resin. , Ethylene methacrylate resin, polyvinyl chloride resin, chlorinated vinyl chloride, polyvinyl alcohol, cellulose acetate propionate, cellulose acetate butyrate, nylon 6, nylon 66, nylon 12, polyethylene terephthalate, polybutylene terephthalate, polycarbonate, polyvinyl acetal , Polyether ether ketone, polyether sulfone, polyphenylene sulfide, polyarylate, polyvinyl butyral, epoxy resin, phenoxy resin, polyimid Resins, polyamideimide resins, polyamic acid resins, polyetherimide resins, phenol resins, urea resins, and the like, and polymerizable monomers such as methyl acrylate, methyl methacrylate, ethyl acrylate, ethyl methacrylate, n-propyl acrylate, n- Propyl methacrylate, isopropyl acrylate, isopropyl methacrylate, sec-butyl acrylate, sec-butyl methacrylate, isobutyl acrylate, isobutyl methacrylate, tert-butyl acrylate, tert-butyl methacrylate, n-pentyl acrylate, n-pentyl methacrylate, n-hexyl acrylate, n-hexyl methacrylate, 2-ethylhexyl acrylate, 2-ethylhexyl methacrylate N-octyl acrylate, n-octyl methacrylate, n-decyl acrylate, n-decyl methacrylate, 2-hydroxyethyl methacrylate, benzyl methacrylate, styrene, α-methylstyrene, N-vinyl-2-pyrrolidone, glycidyl (meth) A polymer comprising one or more of acrylate and one or more of acrylic acid, methacrylic acid, dimer of acrylic acid, itaconic acid, crotonic acid, maleic acid, fumaric acid, vinyl acetic acid, and acid anhydrides thereof, or A copolymer etc. are mentioned. These polymers may be used alone or in combination of two or more. In the present invention, commercially available polymers can also be used. For example, Epicoat 180S70 (manufactured by Yuka Shell Epoxy Co., Ltd.), Aronix M-5600 (manufactured by Toagosei Co., Ltd.), Aronix M-6200 (Toagosei Co., Ltd.) Alonix M-7100 (manufactured by Toagosei Co., Ltd.) and Aronix M-9050 (manufactured by Toagosei Co., Ltd.) are preferred.

ポリマーの含有量としては、柱状形成物を形成することができれば特に限定されないが、具体的には、透明樹脂組成物の固形成分に対して、5質量%〜40質量%の範囲内、なかでも7質量%〜35質量%の範囲内、特に10質量%〜30質量%の範囲内であることが好ましい。   The content of the polymer is not particularly limited as long as a columnar formed product can be formed. Specifically, the polymer content is in the range of 5% by mass to 40% by mass with respect to the solid component of the transparent resin composition, among others. It is preferable to be in the range of 7% by mass to 35% by mass, particularly in the range of 10% by mass to 30% by mass.

4.溶剤
本発明の透明樹脂組成物は、通常、さらに溶剤を含有する。溶剤としては、一般的な樹脂組成物に用いられるものと同様とすることができ、具体的には、メタノール、エタノール、n−プロパノール、イソプロパノール、エチレングリコール、プロピレングリコール等のアルコール類、α−もしくはβ−テルピネオール等のテルペン類等、アセトン、メチルエチルケトン、シクロヘキサノン、N−メチル−2−ピロリドン等のケトン類、トルエン、キシレン、テトラメチルベンゼン等の芳香族炭化水素類、セロソルブ、メチルセロソルブ、エチルセロソルブ、カルビトール、メチルカルビトール、エチルカルビトール、ブチルカルビトール、プロピレングリコールモノメチルエーテル、プロピレングリコールモノエチルエーテル、ジプロピレングリコールモノメチルエーテル、ジプロピレングリコールモノエチルエーテル、トリエチレングリコールモノメチルエーテル、トリエチレングリコールモノエチルエーテル等のグリコールエーテル類、酢酸エチル、酢酸ブチル、セロソルブアセテート、エチルセロソルブアセテート、ブチルセロソルブアセテート、カルビトールアセテート、エチルカルビトールアセテート、ブチルカルビトールアセテート、プロピレングリコールモノメチルエーテルアセテート、プロピレングリコールモノエチルエーテルアセテート、および3−メトキシブチルアセテート等の酢酸エステル類等が挙げられる。
4). Solvent The transparent resin composition of the present invention usually further contains a solvent. The solvent can be the same as that used in general resin compositions, specifically, alcohols such as methanol, ethanol, n-propanol, isopropanol, ethylene glycol, propylene glycol, α- or Terpenes such as β-terpineol, acetone, methyl ethyl ketone, cyclohexanone, ketones such as N-methyl-2-pyrrolidone, aromatic hydrocarbons such as toluene, xylene, tetramethylbenzene, cellosolve, methyl cellosolve, ethyl cellosolve, Carbitol, methyl carbitol, ethyl carbitol, butyl carbitol, propylene glycol monomethyl ether, propylene glycol monoethyl ether, dipropylene glycol monomethyl ether, dipropylene glycol Glycol ethers such as no ethyl ether, triethylene glycol monomethyl ether, triethylene glycol monoethyl ether, ethyl acetate, butyl acetate, cellosolve acetate, ethyl cellosolve acetate, butyl cellosolve acetate, carbitol acetate, ethyl carbitol acetate, butyl carbitol Examples thereof include acetates such as acetate, propylene glycol monomethyl ether acetate, propylene glycol monoethyl ether acetate, and 3-methoxybutyl acetate.

5.添加剤
本発明の透明樹脂組成物は、上述した光重合開始剤、モノマー、ポリマー、および溶剤以外にも、必要な添加剤を適宜選択して追加することができる。
添加剤としては、例えば、レベリング剤、架橋剤、硬化剤、重合促進剤、粘度調整剤等を挙げることができる。これらの添加剤については公知のものを用いることができる。
5. Additives The transparent resin composition of the present invention can be added by appropriately selecting necessary additives in addition to the above-described photopolymerization initiator, monomer, polymer, and solvent.
Examples of the additive include a leveling agent, a crosslinking agent, a curing agent, a polymerization accelerator, and a viscosity modifier. Known additives can be used for these additives.

6.透明樹脂組成物
本発明の透明樹脂組成物中に含有される上記モノマーの質量および上記ポリマーの質量の比率としては、所望の柱状形成物を形成することができれば特に限定されないが、モノマーの質量:ポリマーの質量=70:30〜90:10の範囲内、なかでも73:27〜87:13の範囲内、特に75:25〜85:15の範囲内であることが好ましい。
上記比率よりもモノマーの質量の比率が小さすぎる場合または大きすぎる場合は、柱状形成物自体を形成することが困難となる可能性があるからである。
6). Transparent resin composition The ratio of the mass of the monomer and the mass of the polymer contained in the transparent resin composition of the present invention is not particularly limited as long as a desired columnar formed product can be formed, but the mass of the monomer: The mass of the polymer is preferably in the range of 70:30 to 90:10, more preferably in the range of 73:27 to 87:13, and particularly preferably in the range of 75:25 to 85:15.
This is because if the mass ratio of the monomer is too small or too large than the above ratio, it may be difficult to form the columnar product itself.

透明樹脂組成物の固形分濃度、および粘度については、柱状形成物を形成する際の、基板への透明樹脂組成物の塗布方法に応じて適宜選択することができる。
なお、「透明樹脂組成物の固形分濃度」とは、透明樹脂組成物が上述の溶剤を含む場合、溶剤を含む透明樹脂組成物の質量に対する固形成分の質量の比率をいう。
About solid content concentration and viscosity of a transparent resin composition, it can select suitably according to the coating method of the transparent resin composition to a board | substrate at the time of forming a columnar formation.
In addition, "solid content concentration of a transparent resin composition" means the ratio of the mass of the solid component with respect to the mass of the transparent resin composition containing a solvent, when a transparent resin composition contains the above-mentioned solvent.

7.その他
本発明の透明樹脂組成物は、柱状形成物付基板における柱状形成物を形成するために用いられる。
柱状形成物としては、種々の電子素子に応じて適宜選択することができ、例えば、液晶レンズとした際にセルギャップを保持するための液晶レンズ用柱状形成物、プリンタ配線基板とした際に基板間の距離を一定に保持するための部材、半導体積層基板において基板間の距離を一定に保持するための部材、インクジェットプリンタとした際にマイクロ流路を形成するための部材、プラズマディスプレイとした際のリブ材、有機エレクトロルミネッセンス素子とした際のカソードセパレータを挙げることができる。
柱状形成物としては、なかでも、液晶レンズ用柱状形成物であることが好ましい。
なお、柱状形成物付基板の詳細については、後述する「E.柱状形成物付基板」の項で説明する。
7). Others The transparent resin composition of the present invention is used to form a columnar product in a substrate with a columnar product.
The columnar product can be appropriately selected according to various electronic elements. For example, a columnar product for a liquid crystal lens for holding a cell gap when a liquid crystal lens is used, or a substrate when a printer wiring board is used. A member for maintaining a constant distance between them, a member for maintaining a constant distance between the substrates in a semiconductor laminated substrate, a member for forming a micro-channel in an inkjet printer, and a plasma display And a cathode separator when an organic electroluminescence element is used.
As the columnar formation, a columnar formation for a liquid crystal lens is particularly preferable.
The details of the substrate with columnar formation will be described in the section “E. Substrate with columnar formation” described later.

B.液晶レンズ用柱状形成物用透明樹脂組成物
本発明の液晶レンズ用柱状形成物用透明樹脂組成物(以下、液晶レンズ用透明樹脂組成物と称して説明する場合がある)は、基板と、上記基板上に形成され上記基板および液晶レンズとした際に用いられる対向基板の間を一定の距離に保持する液晶レンズ用柱状形成物とを有する液晶レンズ用柱状形成物付基板において上記液晶レンズ用柱状形成物を形成するために用いられる液晶レンズ用柱状形成物用透明樹脂組成物であって、モノマーと、ポリマーと、光重合開始剤とを含有し、上記光重合開始剤の最も強い吸収ピークが310nm〜380nmの範囲内であることを特徴とするものである。
B. Transparent resin composition for columnar formation for liquid crystal lens The transparent resin composition for columnar formation for liquid crystal lens of the present invention (hereinafter sometimes referred to as a transparent resin composition for liquid crystal lens) includes a substrate and the above A liquid crystal lens columnar substrate having a columnar formation for a liquid crystal lens, which is formed on the substrate and that holds the substrate and the opposite substrate used when the liquid crystal lens is used at a fixed distance, the liquid crystal lens columnar substrate. A transparent resin composition for a columnar formed article for a liquid crystal lens used for forming a formed article, which contains a monomer, a polymer, and a photopolymerization initiator, and has the strongest absorption peak of the photopolymerization initiator. It is in the range of 310 nm to 380 nm.

本発明によれば、上述の光重合開始剤を含有することにより、良好な形状を有する液晶レンズ用柱状形成物を形成することが可能な液晶レンズ用柱状形成物用透明樹脂組成物とすることができる。   According to this invention, it is set as the transparent resin composition for columnar formations for liquid crystal lenses which can form the columnar formation for liquid crystal lenses which has a favorable shape by containing the above-mentioned photoinitiator. Can do.

本発明の液晶レンズ用透明樹脂組成物の詳細については、上述した「A.柱状形成物用透明樹脂組成物」の項で説明した内容と同様とすることができるため、ここでの説明は省略する。   The details of the transparent resin composition for a liquid crystal lens of the present invention can be the same as the contents described in the above-mentioned section “A. Transparent resin composition for columnar formed article”, and thus the description thereof is omitted here. To do.

C.柱状形成物付基板の製造方法
本発明の柱状形成物付基板の製造方法は、基板上に透明樹脂組成物を塗布して塗膜を形成する塗布工程と、上記塗膜を露光した後、現像することにより柱状形成物を形成する露光現像工程とを有する製造方法であって、上記透明樹脂組成物が、モノマーと、ポリマーと、光重合開始剤とを含有し、上記光重合開始剤の最も強い吸収ピークが310nm〜380nmの範囲内であることを特徴とする製造方法である。
C. Manufacturing method of substrate with columnar formation The manufacturing method of a substrate with columnar formation according to the present invention includes a coating step of applying a transparent resin composition on a substrate to form a coating film, and developing after exposing the coating film. And a step of exposing and developing to form a columnar product, wherein the transparent resin composition contains a monomer, a polymer, and a photopolymerization initiator, and is the most of the photopolymerization initiator. A strong absorption peak is in the range of 310 nm to 380 nm.

本発明の柱状形成物付基板の製造方法について図を用いて説明する。図4(a)〜(d)は本発明の柱状形成物付基板の製造方法の一例について示す工程図である。また、図4(a)〜(d)においては、柱状形成物付基板が液晶レンズ用柱状形成物付基板である例について示している。本発明の液晶レンズ用柱状形成物付基板の製造方法においては、まず図4(a)に示すように基板2を準備する。基板2には予め透明電極層4が形成されていてもよい。次に、図4(b)に示すように透明電極層4上に上述した「B.液晶レンズ用柱状形成物用透明樹脂組成物」の項で説明した液晶レンズ用透明樹脂組成物を塗布して塗膜3’を形成する(塗布工程)。次に、図4(c)に示すようにフォトマスクMを介して露光光Lを照射することにより、上記塗膜3’を露光する。次に、塗膜3’を現像することにより、図4(d)に示すように液晶レンズ用柱状形成物3を形成する(露光現像工程)。以上の工程により、液晶レンズ用柱状形成物付基板1を製造することができる。   The manufacturing method of the board | substrate with a columnar formation of this invention is demonstrated using figures. 4 (a) to 4 (d) are process diagrams showing an example of a method for manufacturing a substrate with a columnar product according to the present invention. 4A to 4D show an example in which the substrate with columnar formation is a substrate with columnar formation for a liquid crystal lens. In the method for manufacturing a substrate with a columnar product for liquid crystal lenses of the present invention, first, a substrate 2 is prepared as shown in FIG. A transparent electrode layer 4 may be formed on the substrate 2 in advance. Next, as shown in FIG. 4B, the transparent resin composition for a liquid crystal lens described in the section “B. Transparent resin composition for columnar formation for liquid crystal lens” described above is applied on the transparent electrode layer 4. To form a coating film 3 '(application process). Next, as shown in FIG. 4C, the coating film 3 ′ is exposed by irradiating the exposure light L through the photomask M. Next, by developing the coating film 3 ′, a columnar formed product 3 for a liquid crystal lens is formed as shown in FIG. 4D (exposure development process). Through the above steps, the liquid crystal lens columnar substrate 1 can be manufactured.

本発明によれば、上述の透明樹脂組成物を用いることにより、良好な形状を有する柱状形成物を有する柱状形成物付基板を製造することができる。   According to the present invention, by using the above-described transparent resin composition, it is possible to produce a substrate with a columnar product having a columnar product having a good shape.

以下、本発明の柱状形成物付基板の製造方法の各工程について説明する。   Hereinafter, each process of the manufacturing method of the board | substrate with a columnar formation of this invention is demonstrated.

1.塗布工程
本発明に用いられる塗布工程は、基板上に透明樹脂組成物を塗布して塗膜を形成する工程である。
1. Application Step The application step used in the present invention is a step of forming a coating film by applying a transparent resin composition on a substrate.

本工程に用いられる透明樹脂組成物については、上述した「A.柱状形成物用透明樹脂組成物」の項で説明した内容と同様であるため、ここでの説明は省略する。   About the transparent resin composition used for this process, since it is the same as the content demonstrated in the term of the "A. transparent resin composition for columnar formations" mentioned above, description here is abbreviate | omitted.

本発明に用いられる基板としては、電子素子の用途に応じて適宜選択することができ、特に限定されない。また、上記基板としては、透明性を有していてもよく、透明性を有していなくてもよい。   As a board | substrate used for this invention, it can select suitably according to the use of an electronic element, and it does not specifically limit. Moreover, as said board | substrate, it may have transparency and does not need to have transparency.

上記基板が透明性を有する場合、基板の透明性については特に限定されないが、例えば、全光透過率が80%以上であることが好ましく、90%以上であることがより好ましい。ここで、基板の全光透過率は、JIS K7361−1(プラスチック−透明材料の全光透過率の試験方法)により測定することができる。   When the said board | substrate has transparency, it does not specifically limit about the transparency of a board | substrate, For example, it is preferable that a total light transmittance is 80% or more, and it is more preferable that it is 90% or more. Here, the total light transmittance of the substrate can be measured according to JIS K7361-1 (a test method for the total light transmittance of a plastic-transparent material).

基板としては、例えば、石英ガラス、パイレックス(登録商標)ガラス、合成石英板等の可撓性のないリジッド材、あるいは、樹脂フィルム、光学用樹脂板等の可撓性を有するフレキシブル材等を用いることができる。   As the substrate, for example, an inflexible rigid material such as quartz glass, Pyrex (registered trademark) glass, or synthetic quartz plate, or a flexible material such as a resin film or an optical resin plate is used. be able to.

基板の厚さとしては、柱状形成物を形成することができれば特に限定されないが、例えば、0.05mm〜0.85mmの範囲内であることが好ましい。   Although it will not specifically limit as thickness of a board | substrate if a columnar formation can be formed, For example, it is preferable to exist in the range of 0.05 mm-0.85 mm.

基板には、一方の表面上に透明電極層が形成されていてもよい。なお、透明電極層については、後述する「E.柱状形成物付基板」の項で説明する。本発明においては、透明電極層は、透明樹脂組成物の塗布前に、基板上に形成してもよく、予め透明電極層が形成された市販の基板を用いてもよい。   A transparent electrode layer may be formed on one surface of the substrate. The transparent electrode layer will be described later in the section “E. Substrate with columnar formation”. In the present invention, the transparent electrode layer may be formed on the substrate before application of the transparent resin composition, or a commercially available substrate on which the transparent electrode layer has been previously formed may be used.

本工程において形成される塗膜の厚さとしては、柱状形成物を形成することができる厚さであれば特に限定されない。具体的な塗膜の厚さは、後述する「E.柱状形成物付基板」の項で説明する柱状形成物の高さと同様とすることができる。   The thickness of the coating film formed in this step is not particularly limited as long as it is a thickness capable of forming a columnar formed product. The specific thickness of the coating film can be the same as the height of the columnar product described in “E. Substrate with columnar product” described later.

透明樹脂組成物の塗布方法としては、一般的な塗布方法とすることができ、例えばスピンコート法、ダイコート法、スプレーコート法、ディップコート法、ロールコート法、ビードコート法、バーコート等を挙げることができる。   The application method of the transparent resin composition may be a general application method, such as spin coating, die coating, spray coating, dip coating, roll coating, bead coating, bar coating, and the like. be able to.

本工程においては、塗膜の形成後に、乾燥処理を行うことが好ましい。乾燥処理については、一般的な樹脂層の形成方法において用いられる処理と同様とすることができるため、ここでの説明は省略する。   In this step, it is preferable to perform a drying treatment after the formation of the coating film. The drying process can be the same as the process used in a general method for forming a resin layer, and thus description thereof is omitted here.

2.露光現像工程
本発明に用いられる露光現像工程は、上記塗膜を露光した後、現像することにより上記柱状形成物を形成する工程である。
2. Exposure development process The exposure development process used for this invention is a process of forming the said columnar formation by developing after exposing the said coating film.

本工程において用いられる露光光は、上述した光重合開始剤の最も強い吸収ピークに相当する波長が含まれていれば特に限定されない。上記露光光は、公知の露光装置における光源を用いて照射することができる。
本工程に用いられる露光方法としては、一般的なフォトリソグラフィ法に用いられるものと同様とすることができ、具体的には、公知の露光装置を用いて、フォトマスクを介して塗膜に露光光を照射する方法を挙げることができる。フォトマスクについては、柱状形成物を形成することができれば特に限定されず、一般的なフォトマスクと同様とすることができる。
The exposure light used in this step is not particularly limited as long as the wavelength corresponding to the strongest absorption peak of the above-described photopolymerization initiator is included. The exposure light can be irradiated using a light source in a known exposure apparatus.
The exposure method used in this step can be the same as that used in a general photolithography method. Specifically, the coating film is exposed through a photomask using a known exposure apparatus. A method of irradiating light can be given. The photomask is not particularly limited as long as a columnar formed product can be formed, and can be the same as a general photomask.

本工程においては、塗膜の露光後に、塗膜が現像される。
塗膜の現像液としては、所定のパターン状に塗膜を現像することができれば特に限定されず、例えば、水、アルカリ水溶液(KOHやKCO)が挙げられる。
In this step, the coating film is developed after the coating film is exposed.
The developing solution for the coating film is not particularly limited as long as the coating film can be developed in a predetermined pattern, and examples thereof include water and an aqueous alkaline solution (KOH or K 2 CO 3 ).

本工程においては、必要に応じて、現像後に、柱状形成物を焼成する焼成処理を行ってもよい。焼成処理については、一般的な樹脂層の形成方法において用いられる方法と同様とすることができるため、ここでの説明は省略する。   In this step, if necessary, a baking treatment for baking the columnar formed product may be performed after the development. The baking treatment can be the same as the method used in the general method for forming a resin layer, and thus description thereof is omitted here.

3.その他の工程
本発明の柱状形成物付基板の製造方法においては、上述した塗布工程および露光現像工程を有していれば特に限定されず、必要に応じて他の工程を適宜選択して追加することができる。例えば、塗布工程の前においては、例えば、基板上に透明電極層を形成する工程や、基板上に所定のパターンを有する遮光部を形成する工程を挙げることができる。また、露光現像工程後においては、例えば、柱状形成物付基板が液晶レンズ用柱状形成物付基板である場合、液晶レンズ用柱状形成物が形成された透明電極層上に配向膜を形成する工程を挙げることができる。透明電極層、遮光部、および配向膜については後述する「E.柱状形成物付基板」の項で説明する。
3. Other Steps In the method for manufacturing a substrate with columnar products according to the present invention, there is no particular limitation as long as it has the coating step and the exposure development step described above, and other steps are appropriately selected and added as necessary. be able to. For example, before the coating step, for example, a step of forming a transparent electrode layer on the substrate and a step of forming a light shielding portion having a predetermined pattern on the substrate can be mentioned. In addition, after the exposure and development step, for example, when the substrate with columnar formation is a substrate with columnar formation for liquid crystal lens, a step of forming an alignment film on the transparent electrode layer on which the columnar formation for liquid crystal lens is formed Can be mentioned. The transparent electrode layer, the light-shielding portion, and the alignment film will be described in the section “E. Substrate with columnar formation” described later.

4.柱状形成物付基板
本発明により製造される柱状形成物付基板の詳細については、後述する「E.柱状形成物付基板」の項で説明する内容と同様であるため、ここでの説明は省略する。
4). Substrate with columnar formation The details of the substrate with columnar formation manufactured according to the present invention are the same as those described in the section “E. Substrate with columnar formation” to be described later. To do.

D.液晶レンズ用柱状形成物付基板の製造方法
本発明の液晶レンズ用柱状形成物付基板の製造方法は、基板上に透明樹脂組成物を塗布して塗膜を形成する塗布工程と、上記塗膜を露光した後、現像することにより上記基板および液晶レンズとした際に用いられる対向基板の間を一定の距離に保持する液晶レンズ用柱状形成物を形成する露光現像工程とを有する製造方法であって、上記透明樹脂組成物が、モノマーと、ポリマーと、光重合開始剤とを含有し、上記光重合開始剤の最も強い吸収ピークが310nm〜380nmの範囲内であることを特徴とする製造方法である。
D. The manufacturing method of the board | substrate with columnar formation for liquid crystal lenses The manufacturing method of the board | substrate with columnar formation for liquid crystal lenses of this invention apply | coats a transparent resin composition on a board | substrate, and forms the coating film, The said coating film And exposing and developing to form a columnar product for a liquid crystal lens that maintains a constant distance between the substrate and the counter substrate used when the substrate and the liquid crystal lens are formed. The transparent resin composition contains a monomer, a polymer, and a photopolymerization initiator, and the strongest absorption peak of the photopolymerization initiator is in the range of 310 nm to 380 nm. It is.

液晶レンズ用柱状形成物付基板の製造方法については、上述した「C.柱状形成物付基板の製造方法」の項で説明した図4(a)〜(b)に示される内容と同様とすることができるため、図を用いた説明は省略する。   About the manufacturing method of the board | substrate with columnar formation for liquid crystal lenses, it is the same as the content shown by FIG.4 (a)-(b) demonstrated in the term of the "C. manufacturing method of a board | substrate with columnar formation" mentioned above. Therefore, the description using the drawings is omitted.

本発明によれば、上述の透明樹脂組成物を用いることにより、良好な形状を有する液晶レンズ用柱状形成物を有する液晶レンズ用柱状形成物付基板を製造することができる。   According to the present invention, by using the transparent resin composition described above, it is possible to manufacture a substrate with a columnar product for liquid crystal lenses having a columnar product for liquid crystal lenses having a good shape.

なお、本発明の液晶レンズ用柱状形成物付基板の製造方法の詳細については、上述した「C.柱状形成物付基板の製造方法」の項で説明した内容と同様とすることができるため、ここでの説明は省略する。   In addition, since it can be the same as that of the content demonstrated in the term of the above-mentioned "C. manufacturing method of a board | substrate with columnar formation" about the detail of the manufacturing method of the columnar body formation substrate for liquid crystal lenses of this invention, The description here is omitted.

E.柱状形成物付基板
本発明の柱状形成物付基板は、基板と、上記基板上に形成され透明樹脂を含有する柱状形成物とを有するものであって、上記柱状形成物の高さが30μm〜100μmの範囲内であり、上底の幅および下底の幅の差の絶対値が5.0μm以下であり、上記下底の幅に対する上記高さの比率が、1.7〜2.3の範囲内であることを特徴とするものである。
E. Substrate with columnar formation The substrate with columnar formation of the present invention comprises a substrate and a columnar formation formed on the substrate and containing a transparent resin, and the height of the columnar formation is from 30 μm to 30 μm. The absolute value of the difference between the width of the upper base and the width of the lower base is 5.0 μm or less, and the ratio of the height to the width of the lower base is 1.7 to 2.3. It is characterized by being within the range.

本発明の本発明の柱状形成物付基板について図を用いて説明する。図1および図2は、本発明の柱状形成物付基板の一例および他の例を示す概略断面図であり、より具体的には柱状形成物が液晶レンズ用柱状形成物である例について示す図である。なお、図1および図2については、上述した「A.柱状形成物用透明樹脂組成物」の項で説明したため、ここでの説明は省略する。   The substrate with a columnar product according to the present invention will be described with reference to the drawings. FIG. 1 and FIG. 2 are schematic cross-sectional views showing an example and another example of a substrate with a columnar product of the present invention, and more specifically, a diagram showing an example in which the columnar product is a columnar product for a liquid crystal lens. It is. Since FIG. 1 and FIG. 2 have been described in the above-mentioned section “A. Transparent resin composition for columnar formed product”, description thereof is omitted here.

本発明において、「柱状形成物の上底」とは、柱状形成物の基板側とは反対側の面をいう。また、「柱状形成物の下底」とは、柱状形成物の基板側の面をいう。
「柱状形成物の高さ」とは、柱状形成物の上底から下底までの垂直方向の距離をいう。「柱状形成物の高さ」とは、具体的には、図5(a)〜(d)においてqで示される距離をいう。
「柱状形成物の上底の幅」とは、柱状形成物の正面形状において、柱状形成物の最上部における基板と水平方向に沿って延長した直線と、柱状形成物のそれぞれの側面に沿って延長した直線との2つの交点間の距離をいう。「柱状形成物の上底の幅」とは、具体的には、図5(a)〜(d)においてrで示される距離をいう。
「柱状形成物の下底の幅」とは、柱状形成物の正面形状において、柱状形成物が形成された基板表面と、柱状形成物のそれぞれの側面に沿って延長した直線との2つの交点間の距離をいう。すなわち、「柱状形成物の下底の幅」とは、基板自体の表面と上述した2本の直線との2つの交点間の距離をいう。また、柱状形成物が他の層を介して基板上に形成されている場合は、「柱状形成物の下底の幅」とは、他の層の表面と上述した2本の直線との2つの交点間の距離をいう。「柱状形成物の下底の幅」とは、具体的には、図5(a)〜(d)においてsで示される距離をいう。
また、「柱状形成物の正面形状」とは、柱状形成物付基板を正面方向から見た場合の柱状形成物の形状をいう。また、柱状形成物が、その平面視形状において、例えば、長方形状、楕円形状等の長辺と短辺とを有する形状である場合は短辺を有する面を正面方向とする。また、柱状形成物が、その平面視形状において、例えば正方形状である場合は、一辺を有する面を正面方向とする。
図5(a)〜(d)は、本発明における柱状形成物の形状について説明する説明図である。また、図5においては、柱状形成物が液晶レンズ用柱状形成物である例について示している。
In the present invention, the “upper bottom of the columnar formed product” refers to a surface of the columnar formed product on the side opposite to the substrate side. The “bottom bottom of the columnar formed product” refers to the surface of the columnar formed product on the substrate side.
“Height of the columnar formation” refers to a vertical distance from the upper base to the lower base of the columnar formation. Specifically, “the height of the columnar formed product” refers to a distance indicated by q in FIGS. 5 (a) to 5 (d).
The “width of the upper base of the columnar formation” means that, in the front shape of the columnar formation, a straight line extending along the horizontal direction with the substrate at the top of the columnar formation, and along each side surface of the columnar formation. The distance between two intersections with an extended straight line. The “width of the upper base of the columnar formed product” specifically refers to a distance indicated by r in FIGS. 5 (a) to 5 (d).
“Width of the bottom of the columnar formation” means two intersections of the front surface of the columnar formation and the surface of the substrate on which the columnar formation is formed and the straight line extending along each side surface of the columnar formation. The distance between. That is, “the width of the bottom of the columnar formed product” refers to a distance between two intersections between the surface of the substrate itself and the two straight lines described above. Further, when the columnar formation is formed on the substrate through another layer, the “width of the lower bottom of the columnar formation” is 2 of the surface of the other layer and the two straight lines described above. The distance between two intersections. “The width of the bottom of the columnar formed product” specifically refers to a distance indicated by s in FIGS. 5 (a) to 5 (d).
The “front shape of the columnar formed product” refers to the shape of the columnar formed product when the substrate with the columnar formed product is viewed from the front direction. Further, when the columnar shaped product has a shape having a long side and a short side such as a rectangular shape and an elliptical shape in the plan view, the surface having the short side is defined as the front direction. Moreover, when the columnar formation is, for example, a square shape in a plan view, a surface having one side is defined as a front direction.
FIGS. 5A to 5D are explanatory views for explaining the shape of the columnar formed product in the present invention. Further, FIG. 5 shows an example in which the columnar formation is a columnar formation for a liquid crystal lens.

本発明によれば、従来の柱状形成物に比べて、その高さが高く、上底の幅および下底の幅の差の絶対値が小さく、下底の幅に対する高さの比率が大きい柱状形成物を有する柱状形成物付基板とすることができる。   According to the present invention, the height of the columnar formation is higher, the absolute value of the difference between the width of the upper base and the width of the lower base is small, and the ratio of the height to the width of the lower base is large. It can be set as the board | substrate with a columnar formation which has a formation.

本発明における柱状形成物としては、上述した形状を有していれば特に限定されない。本発明においては、なかでも、液晶レンズ用柱状形成物であることが好ましい。以下、柱状形成物が液晶レンズ用柱状形成物である場合、すなわち、本発明の柱状形成物付基板が液晶レンズ用柱状形成物付基板である場合を例に挙げて説明する。   The columnar product in the present invention is not particularly limited as long as it has the shape described above. In the present invention, a columnar formed product for a liquid crystal lens is particularly preferable. Hereinafter, the case where the columnar formed product is a columnar formed product for a liquid crystal lens, that is, the case where the substrate with a columnar formed product of the present invention is a substrate with a columnar formed product for a liquid crystal lens will be described as an example.

1.液晶レンズ用柱状形成物付基板
本発明においては、上述した形状の液晶レンズ用柱状形成物を有することにより、液晶レンズとした際にセルギャップを良好に維持することができ、良好な強度を有する液晶レンズ用柱状形成物とすることができる。
1. In the present invention, by having the above-described columnar formation for liquid crystal lens, the cell gap can be maintained well when the liquid crystal lens is formed, and the liquid crystal lens has good strength. It can be set as the columnar formation for liquid crystal lenses.

より具体的には、本発明においては、液晶レンズ用柱状形成物の高さが上述した範囲内であることにより、液晶レンズのセルギャップを良好に維持することができる。   More specifically, in the present invention, the cell gap of the liquid crystal lens can be favorably maintained when the height of the columnar formed product for the liquid crystal lens is within the above-described range.

また、液晶レンズ用柱状形成物の上底の幅および下底の幅の差の絶対値が上記範囲を超える場合、例えば下底の幅が上底の幅に比べて小さすぎる場合には基板および液晶レンズ用柱状形成物の密着性が低下する可能性がある。この場合、液晶レンズ用柱状形成物上にラビング配向膜等を形成する際に、ラビング処理により液晶レンズ用柱状形成物が剥離、破損等する可能性がある。また、液晶レンズの組み立て時等において液晶レンズ用柱状形成物が破損等する可能性がある。一方、例えば上底の幅が下底の幅に比べて小さすぎる場合においても、液晶レンズの組み立て時等において、液晶レンズ用柱状形成物が破損等する可能性がある。
これに対して、本発明においては、上底の幅および下底の幅の差を上述した範囲内とすることにより、液晶レンズ用柱状形成物の強度を良好なものとすることができる。
Further, when the absolute value of the difference between the width of the upper base and the width of the lower base exceeds the above range, for example, when the width of the lower base is too small compared to the width of the upper base, There is a possibility that the adhesion of the columnar shaped product for liquid crystal lenses is lowered. In this case, when the rubbing alignment film or the like is formed on the liquid crystal lens columnar formation, the liquid crystal lens columnar formation may be peeled off or damaged by the rubbing treatment. In addition, there is a possibility that the columnar formation for the liquid crystal lens is damaged when the liquid crystal lens is assembled. On the other hand, for example, when the width of the upper base is too small compared to the width of the lower base, the columnar formation for the liquid crystal lens may be damaged during the assembly of the liquid crystal lens.
On the other hand, in this invention, the intensity | strength of the columnar formation for liquid crystal lenses can be made favorable by making the difference of the width | variety of an upper base and the width | variety of a lower base into the range mentioned above.

また、本発明においては、アスペクト比が上述した範囲内であることにより、比較的小さい面積に高さの高い液晶レンズ用柱状形成物を形成することができる。よって、液晶レンズに用いた場合、観察者から液晶レンズ用柱状形成物が観察されにくく、表示パネルとともに用いた場合に良好な表示をすることができる。   Further, in the present invention, since the aspect ratio is within the above-described range, it is possible to form a columnar formation for a liquid crystal lens having a high height in a relatively small area. Therefore, when it is used for a liquid crystal lens, the columnar formation for a liquid crystal lens is not easily observed by an observer, and a good display can be obtained when used with a display panel.

以下、本発明の液晶レンズ用柱状形成物付基板の詳細について説明する。   Hereinafter, the details of the substrate with columnar product for liquid crystal lens of the present invention will be described.

(1)液晶レンズ用柱状形成物
本発明における液晶レンズ用柱状形成物は、その高さが30μm〜100μmの範囲内であり、上底の幅および下底の幅の差の絶対値が5.0μm以下であり、上記下底の幅に対する上記高さの比率が、1.7〜2.3の範囲内であることを特徴とするものである。
(1) Columnar formation for liquid crystal lens The columnar formation for liquid crystal lens in the present invention has a height in the range of 30 μm to 100 μm, and the absolute value of the difference between the width of the upper base and the width of the lower base is 5. It is 0 μm or less, and the ratio of the height to the width of the lower base is in the range of 1.7 to 2.3.

液晶レンズ用柱状形成物の高さとしては、30μm〜100μmの範囲内であればよく、なかでも33μm〜95μmの範囲内、特に37μm〜90μmの範囲内であることが好ましい。
液晶レンズ用柱状形成物の高さが上記範囲に満たない場合は、液晶レンズのセルギャップを良好に維持することが困難となる可能性があるからである。また、液晶レンズ用柱状形成物の高さが上記範囲を超える場合は、後述するアスペクト比が良好な液晶レンズ用柱状形成物を得ることが困難となる可能性があるからである。
The height of the columnar formed product for a liquid crystal lens may be in the range of 30 μm to 100 μm, and particularly preferably in the range of 33 μm to 95 μm, particularly in the range of 37 μm to 90 μm.
This is because if the height of the liquid crystal lens columnar formation is less than the above range, it may be difficult to maintain a good cell gap of the liquid crystal lens. Moreover, it is because it may become difficult to obtain the columnar formation for liquid crystal lenses with the favorable aspect ratio mentioned later when the height of the columnar formation for liquid crystal lenses exceeds the said range.

液晶レンズ用柱状形成物の上底の幅および下底の幅の差の絶対値としては、5.0μm以下であればよく、なかでも4.5μm以下、特に4.0μm以下であることが好ましい。
上記上底の幅および下底の幅の差の絶対値が大きいと、液晶レンズ用柱状形成物に十分な強度を付与することが困難となる可能性があるからである。
The absolute value of the difference between the width of the upper base and the width of the lower base of the columnar shaped product for a liquid crystal lens may be 5.0 μm or less, particularly 4.5 μm or less, and particularly preferably 4.0 μm or less. .
This is because if the absolute value of the difference between the width of the upper base and the width of the lower base is large, it may be difficult to give sufficient strength to the liquid crystal lens columnar product.

具体的な下底の幅としては、液晶レンズ用柱状形成物付基板が用いられる液晶レンズの用途に応じて適宜選択され、特に限定されないが、例えば、20μm〜50μmの範囲内、なかでも25μm〜47μmの範囲内、特に30μm〜45μmの範囲内であることが好ましい。
下底の幅が小さいと液晶レンズ用柱状形成物の強度が低下する可能性や、液晶レンズ用柱状形成物自体を形成することが困難となる可能性があるからであり、下底の幅が大きいと、液晶レンズにおいて観察者から視認されやすくなるため、液晶レンズを用いた表示装置において良好な表示をすることが困難となる可能性があるからである。
The specific width of the lower base is appropriately selected depending on the use of the liquid crystal lens in which the substrate with a columnar product for liquid crystal lens is used, and is not particularly limited. For example, it is in the range of 20 μm to 50 μm, especially 25 μm to It is preferable to be within the range of 47 μm, particularly within the range of 30 μm to 45 μm.
This is because if the width of the bottom base is small, the strength of the columnar formation for liquid crystal lenses may be reduced, and it may be difficult to form the columnar formation for liquid crystal lenses itself. This is because if it is large, the liquid crystal lens is likely to be visually recognized by an observer, so that it may be difficult to perform good display on a display device using the liquid crystal lens.

また、液晶レンズ用柱状形成物のアスペクト比としては、1.7〜2.3の範囲内であればよく、なかでも1.8〜2.2の範囲内、特に1.9〜2.1の範囲内であることが好ましい。
上記アスペクト比が上述した範囲に満たない場合は、液晶レンズ用柱状形成物を用いてセルギャップを良好に維持することが困難となる場合や、液晶レンズを用いた表示装置において良好な表示をすることが困難となる可能性があるからである。また、上記はスペクト比が上述した範囲を超える場合は、液晶レンズ用柱状形成物自体を形成することが困難となる可能性があるからである。
Further, the aspect ratio of the liquid crystal lens columnar formed article may be in the range of 1.7 to 2.3, particularly in the range of 1.8 to 2.2, particularly 1.9 to 2.1. It is preferable to be within the range.
When the aspect ratio is less than the above-described range, it is difficult to maintain a good cell gap by using a liquid crystal lens columnar formed product, or a good display is provided in a display device using a liquid crystal lens. This may be difficult. In addition, the above is because when the spectroscopic ratio exceeds the above-described range, it may be difficult to form the columnar shaped product for a liquid crystal lens itself.

液晶レンズ用柱状形成物の平面視形状としては、スペーサ機能を発揮することができれば特に限定されないが、例えば、円形状、楕円形状等や、四角形状等の多角形状等が挙げられる。本発明においては、なかでも長辺および短辺の差が小さい形状であることが好ましく、円形状または正方形状であることが好ましい。良好な強度を有し、液晶レンズにおいて液晶層の液晶の配向乱れ等を抑制することができるからである。   The shape of the liquid crystal lens columnar formed product in plan view is not particularly limited as long as the spacer function can be exhibited, and examples thereof include a circular shape, an elliptical shape, and a polygonal shape such as a quadrangular shape. In the present invention, a shape having a small difference between the long side and the short side is preferable, and a circular shape or a square shape is preferable. This is because the liquid crystal lens has good strength and can suppress liquid crystal alignment disorder in the liquid crystal layer.

液晶レンズ用柱状形成物の正面形状としては、上述した高さ、上底の幅および下底の幅の差の絶対値、ならびにアスペクト比を有していればよく、例えば、図5(a)および図5(b)に示すように、上底の幅rおよび下底の幅sが同等の幅であってもよく、図5(c)に示すように上底の幅rが下底の幅sより小さくなる順テーパー形状であってもよく、上底の幅rが下底の幅sより大きくなる逆テーパー形状であってもよい。また、図5(a)および図5(b)に示すように、上底の幅rおよび下底の幅sが同等の場合、図5(a)に示すように側面が基板に対して垂直な垂直形状であってもよく、図5(b)に示すように上底および下底の間の幅tが上底の幅rおよび下底の幅sよりも大きくなる樽形状であってもよい。本発明においては、なかでも、液晶レンズ用柱状形成物の正面形状が垂直形状であることが好ましい。   As the front shape of the columnar shaped product for a liquid crystal lens, it is only necessary to have the above-mentioned height, the absolute value of the difference between the width of the upper base and the width of the lower base, and the aspect ratio. For example, FIG. And as shown in FIG. 5B, the width r of the upper base and the width s of the lower base may be equal, and the width r of the upper base is lower than that of the lower base as shown in FIG. It may be a forward tapered shape that is smaller than the width s, or may be a reverse tapered shape in which the width r of the upper base is larger than the width s of the lower base. Further, as shown in FIGS. 5A and 5B, when the width r of the upper base and the width s of the lower base are equal, the side surface is perpendicular to the substrate as shown in FIG. 5A. Even if it is a barrel shape in which the width t between the upper base and the lower base is larger than the width r of the upper base and the width s of the lower base as shown in FIG. Good. In the present invention, it is particularly preferable that the front shape of the liquid crystal lens columnar product is a vertical shape.

液晶レンズ用柱状形成物の平面視形状、正面形状は、例えば、走査型電子顕微鏡(SEM)を用いて確認することができる。また、液晶レンズ用柱状形成物の高さ、上底の幅、下底の幅、他の部分の幅等はSEMの観察像の計測値を基に算出することができる。走査型電子顕微鏡(SEM)は、一般的なものを用いることができる。   The planar view shape and front shape of the columnar shaped product for liquid crystal lens can be confirmed using, for example, a scanning electron microscope (SEM). Further, the height, the width of the upper base, the width of the lower base, the width of other portions, and the like of the columnar formation for the liquid crystal lens can be calculated based on the measured values of the observation image of the SEM. A general scanning electron microscope (SEM) can be used.

本発明における液晶レンズ用柱状形成物は、上述した「A.柱状形成物用透明樹脂組成物」に記載の透明樹脂組成物を用いることにより好適に形成することができる。   The columnar formation for liquid crystal lenses in the present invention can be suitably formed by using the transparent resin composition described in “A. Transparent resin composition for columnar formation” described above.

(2)基板
本発明における基板は、上述した液晶レンズ用柱状形成物を支持するものである。基板の詳細については、上述した「C.柱状形成物付基板の製造方法」の項で説明した内容と同様とすることができるため、ここでの説明は省略する。
(2) Substrate The substrate in the present invention supports the above-described columnar formed product for a liquid crystal lens. The details of the substrate can be the same as the contents described in the above-mentioned section “C. Manufacturing Method of Substrate with Columnar Form”, and thus the description thereof is omitted here.

(3)その他の構成
本発明の液晶レンズ用柱状形成物付基板は、上述した基板と、液晶レンズ用柱状形成物とを有していれば特に限定されず、必要に応じて他の構成を適宜選択して追加することができる。
(3) Other Configurations The substrate with a columnar product for liquid crystal lenses of the present invention is not particularly limited as long as it has the above-described substrate and the columnar product for liquid crystal lenses, and has other configurations as necessary. It can be selected and added as appropriate.

(a)透明電極層
本発明の液晶レンズ用柱状形成物付基板は、通常、図1および図2に示すように、基板2と液晶レンズ用柱状形成物3の間に透明電極層4が形成される。透明電極層4は、図1に示すように基板2上に連続的に形成されていてもよく、図2に示すように基板2上にストライプ状等の所定のパターン状に形成されていてもよい。本発明においては、なかでも、透明電極層が基板上に連続的に形成されていることが好ましい。少ない工程数で液晶レンズ用柱状形成物付基板を形成することができるからである。
(A) Transparent electrode layer As shown in FIGS. 1 and 2, the substrate with a columnar product for a liquid crystal lens of the present invention is usually formed with a transparent electrode layer 4 between the substrate 2 and the columnar product 3 for a liquid crystal lens. Is done. The transparent electrode layer 4 may be continuously formed on the substrate 2 as shown in FIG. 1, or may be formed on the substrate 2 in a predetermined pattern such as a stripe shape as shown in FIG. Good. In the present invention, it is particularly preferable that the transparent electrode layer is continuously formed on the substrate. This is because the substrate with a columnar product for liquid crystal lenses can be formed with a small number of steps.

透明電極層をパターン状に形成する場合、パターン形状については、公知の液晶レンズに用いられるものと同様とすることができる。透明電極層をパターン状に形成する場合、具体的には、長尺の透明電極層をストライプ状に配列させたものを用いることができる。長尺の透明電極層の幅、ストライプのピッチ幅等については公知の液晶レンズのものと同様とすることができるため、ここでの説明は省略する。   When the transparent electrode layer is formed in a pattern, the pattern can be the same as that used for a known liquid crystal lens. When the transparent electrode layer is formed in a pattern, specifically, a long transparent electrode layer arranged in a stripe shape can be used. Since the width of the long transparent electrode layer, the pitch width of the stripes, and the like can be the same as those of a known liquid crystal lens, description thereof is omitted here.

透明電極層に用いられる透明導電材料としては、一般的な表示装置に用いられるものと同様とすることができ、例えば、インジウム錫酸化物(ITO)、インジウム亜鉛酸化物(IZO)等が挙げられる。   The transparent conductive material used for the transparent electrode layer can be the same as that used for a general display device, and examples thereof include indium tin oxide (ITO) and indium zinc oxide (IZO). .

透明電極層の厚さとしては、所定の導電性を有することができれば特に限定されず、例えば、100nm〜300nmの範囲内であることが好ましい。   The thickness of the transparent electrode layer is not particularly limited as long as it has predetermined conductivity, and for example, it is preferably in the range of 100 nm to 300 nm.

透明電極層の形成方法としては、一般的な方法を用いることができ、例えば蒸着法もしくはスパッタリング法等を挙げることができる。
また、透明電極層をパターン状に形成する場合は、蒸着法もしくはスパッタリング法等により薄膜を形成した後、例えばフォトリソグラフィ法によりパターニングする方法が好適に用いられる。
As a method for forming the transparent electrode layer, a general method can be used, and examples thereof include a vapor deposition method and a sputtering method.
Moreover, when forming a transparent electrode layer in pattern shape, after forming a thin film by a vapor deposition method or sputtering method, the method of patterning by the photolithographic method etc. is used suitably.

(b)配向膜
本発明の液晶レンズ用柱状形成物付基板は、図6に示すように、基板2および液晶レンズ用柱状形成物3を覆うように形成された配向膜5を有していてもよい。
(B) Alignment Film As shown in FIG. 6, the substrate with a columnar product for liquid crystal lenses of the present invention has an alignment film 5 formed so as to cover the substrate 2 and the columnar product 3 for liquid crystal lenses. Also good.

配向膜としては、一般的な配向膜と同様とすることができ、例えば、ラビング処理が施された配向膜等を挙げることができる。
配向膜の形成方法については、一般的な方法とすることができるため、ここでの説明は省略する。
The alignment film can be the same as a general alignment film, and examples thereof include an alignment film subjected to rubbing treatment.
The method for forming the alignment film can be a general method, and the description thereof is omitted here.

(c)遮光部
本発明の液晶レンズ用柱状形成物付基板は、図6に示すように、基板2および液晶レンズ用柱状形成物3の間に形成された遮光部6を有していてもよい。また、透明電極層が連続的に形成されている場合は、遮光部は液晶レンズとした際に対向基板上にパターン状に形成された透明電極層に対応するパターン状に形成される。一方、透明電極層はパターン状に形成されている場合、通常、遮光部はこれに対応するパターン状に形成される。
(C) Light-shielding part Even if the board | substrate with a columnar formation for liquid crystal lenses of this invention has the light-shielding part 6 formed between the board | substrate 2 and the columnar formation 3 for liquid crystal lenses, as shown in FIG. Good. Further, when the transparent electrode layer is continuously formed, the light shielding portion is formed in a pattern corresponding to the transparent electrode layer formed in a pattern on the counter substrate when the liquid crystal lens is formed. On the other hand, when the transparent electrode layer is formed in a pattern, the light shielding portion is usually formed in a pattern corresponding to the transparent electrode layer.

遮光部としては、例えばカラーフィルタ等の一般的な表示装置に用いられるものと同様のものを用いることができ、クロム等の無機材料を用いたものであってもよく、遮光性着色剤を含有する遮光性樹脂を用いたものであってもよい。
遮光部の形成方法については、一般的な方法とすることができるため、ここでの説明は省略する。
As the light-shielding portion, for example, the same one used for a general display device such as a color filter can be used, which may be one using an inorganic material such as chromium, and contains a light-shielding colorant. It is also possible to use a light shielding resin.
The method for forming the light shielding portion can be a general method, and thus the description thereof is omitted here.

(4)液晶レンズ用柱状形成物付基板の製造方法
本発明の液晶レンズ用柱状形成物付基板の製造方法については、上述した「D.液晶レンズ用柱状形成物付基板の製造方法」の項で説明した内容と同様とすることができるため、ここでの説明は省略する。
(4) Manufacturing method of substrate with columnar formation for liquid crystal lens About the manufacturing method of the substrate with columnar formation for liquid crystal lens of this invention, the term of "D. Manufacturing method of substrate with columnar formation for liquid crystal lens" mentioned above. Therefore, the description is omitted here.

(5)用途
本発明の液晶レンズ用柱状形成物付基板は、通常、上述した図3に示すような液晶レンズ30に用いることができる。
(5) Applications The substrate with a columnar product for liquid crystal lenses of the present invention can be generally used for the liquid crystal lens 30 as shown in FIG.

2.柱状形成物付基板
本発明の柱状形成物付基板は、上述した液晶レンズ用柱状形成物付基板に限られず、上述した形状を有する柱状形成物を構成として有するものであれば特に限定されない。
このような柱状形成物については、上述した「A.柱状形成物付基板」の項で説明した種々の電子素子に用いられるものと同様とすることができるため、ここでの説明は省略する。
本発明における柱状形成物付基板の製造方法としては、上述した「C.柱状形成物付基板の製造方法」の項で説明した製造方法を用いることができる。
2. Substrate with columnar formation The substrate with columnar formation of the present invention is not limited to the above-described substrate with columnar formation for liquid crystal lenses, and is not particularly limited as long as it has the columnar formation having the above-described shape as a configuration.
Such columnar formations can be the same as those used in the various electronic elements described in the above-mentioned section “A. Substrate with Columnar Formations”, and thus description thereof is omitted here.
As a manufacturing method of the substrate with columnar formations in the present invention, the manufacturing method described in the above-mentioned section “C. Manufacturing method of substrate with columnar formations” can be used.

F.液晶レンズ用柱状形成物付基板
本発明の液晶レンズ用柱状形成物付基板は、基板と、上記基板上に形成され透明樹脂を含有し上記基板および液晶レンズとした際に用いられる対向基板の間を一定の距離に保持する液晶レンズ用柱状形成物とを有するものであって、上記液晶レンズ用柱状形成物の高さが30μm〜100μmの範囲内であり、上底の幅および下底の幅の差の絶対値が5.0μm以下であり、上記下底の幅に対する上記高さの比率が、1.7〜2.3の範囲内であることを特徴とするものである。
F. A substrate with a columnar product for a liquid crystal lens The substrate with a columnar product for a liquid crystal lens of the present invention is between a substrate and a counter substrate that is formed on the substrate and contains a transparent resin and is used as the substrate and a liquid crystal lens. A columnar formation for a liquid crystal lens that holds the liquid crystal lens at a certain distance, the height of the columnar formation for a liquid crystal lens is in the range of 30 μm to 100 μm, and the width of the upper base and the width of the lower base The absolute value of the difference is 5.0 μm or less, and the ratio of the height to the width of the lower base is in the range of 1.7 to 2.3.

本発明の液晶レンズ用柱状形成物付基板については、上述した「A.柱状形成物用透明樹脂組成物」の項で説明した図1および図2に示される内容と同様とすることができるため、図を用いた説明は省略する。   The substrate with a columnar formed article for a liquid crystal lens of the present invention can be the same as the contents shown in FIGS. 1 and 2 described in the above-mentioned section “A. Transparent resin composition for columnar formed article”. The description using the drawings is omitted.

本発明によれば、上記液晶レンズ用柱状形成物を有することにより、液晶レンズとした際にセルギャップを良好に維持することができ、良好な強度を有する液晶レンズ用液晶レンズ用柱状形成物とすることができる。   According to the present invention, by having the above-mentioned columnar formation for a liquid crystal lens, the cell gap can be maintained well when the liquid crystal lens is formed, and the liquid crystal lens columnar formation for a liquid crystal lens having good strength and can do.

本発明の液晶レンズ用柱状形成物付基板の詳細については、上述した「E.柱状形成物付基板」の項で説明した内容と同様とすることができるため、ここでの説明は省略する。   The details of the substrate with columnar formations for a liquid crystal lens of the present invention can be the same as the contents described in the above-mentioned section “E. Substrate with columnar formations”, and thus description thereof is omitted here.

なお、本発明は、上記実施形態に限定されるものではない。上記実施形態は、例示であり、本発明の特許請求の範囲に記載された技術的思想と実質的に同一な構成を有し、同様な作用効果を奏するものは、いかなるものであっても本発明の技術的範囲に包含される。   The present invention is not limited to the above embodiment. The above-described embodiment is an exemplification, and the present invention has substantially the same configuration as the technical idea described in the claims of the present invention, and any device that exhibits the same function and effect is the present invention. It is included in the technical scope of the invention.

以下、本発明について、実施例および比較例を挙げてより詳細に説明する。   Hereinafter, the present invention will be described in more detail with reference to examples and comparative examples.

[実施例1]
(共重合樹脂溶液の調製)
重合槽中にメタクリル酸メチル(MMA)を63質量部、アクリル酸(AA)を12質量部、メタクリル酸−2−ヒドロキシエチル(HEMA)を6質量部、ジエチレングリコールジメチルエーテル(DMDG)を88質量部仕込み、攪拌し溶解させた後、2,2’−アゾビス(2−メチルブチロニトリル)を7質量部添加し、均一に溶解させた。その後、窒素気流下、85℃で2時間攪拌し、更に100℃で1時間反応させた。得られた溶液に、更にメタクリル酸グリシジル(GMA)を7質量部、トリエチルアミンを0.4質量部、及びハイドロキノンを0.2質量部添加し、100℃で5時間攪拌し、共重合樹脂溶液(固形分50%)を得た。
[Example 1]
(Preparation of copolymer resin solution)
In a polymerization tank, 63 parts by mass of methyl methacrylate (MMA), 12 parts by mass of acrylic acid (AA), 6 parts by mass of 2-hydroxyethyl methacrylate (HEMA), and 88 parts by mass of diethylene glycol dimethyl ether (DMDG) are charged. After stirring and dissolving, 7 parts by mass of 2,2′-azobis (2-methylbutyronitrile) was added and dissolved uniformly. Then, it stirred at 85 degreeC under nitrogen stream for 2 hours, and also was made to react at 100 degreeC for 1 hour. Further, 7 parts by mass of glycidyl methacrylate (GMA), 0.4 parts by mass of triethylamine, and 0.2 parts by mass of hydroquinone were added to the obtained solution, and the mixture was stirred at 100 ° C. for 5 hours to obtain a copolymer resin solution ( A solid content of 50%) was obtained.

(透明樹脂組成物の調製)
下記に示す各組成を混合して透明樹脂組成物を得た。
<透明樹脂組成物の組成>
・ジペンタエリスリトールペンタアクリレート(サートマー社 SR399)
59質量部
・上記共重合樹脂溶液(固形分50%) 14.5質量部
・Irgacure369(BASF社製) 1.5質量部
・ジエチレングリコールジメチルエーテル 25質量部
(Preparation of transparent resin composition)
Each composition shown below was mixed to obtain a transparent resin composition.
<Composition of transparent resin composition>
・ Dipentaerythritol pentaacrylate (Sartomer SR399)
59 parts by mass-The above copolymer resin solution (solid content 50%) 14.5 parts by mass-Irgacure 369 (BASF) 1.5 parts by mass-Diethylene glycol dimethyl ether 25 parts by mass

(柱状形成物付基板の作製)
基板として、大きさが300mm×400mm、厚みが0.7mmのガラス基板(コーニング社製1737ガラス)を準備した。この基板を定法にしたがって洗浄した後、上述した透明樹脂組成物をスピンコート法により塗布し、乾燥させて厚さ60μmの塗膜を得た。
開口径25μmの開口を有するフォトマスクを塗膜表面から200μmの距離に配置し、プロキシミティアライナにより2.0kWの超高圧水銀ランプを用いて紫外線を10秒間(露光量:100mJ/cm)照射した。次いで、0.05wt%水酸化カリウム水溶液(液温23℃)中に1分間浸漬してアルカリ現像し、塗膜の未硬化部分のみを除去した。その後、上記基板を200℃の雰囲気中に30分間の加熱処理を施すことにより、柱状形成物を得た。
以上の手順により、柱状形成物付基板を得た。
(Production of substrate with columnar formation)
As the substrate, a glass substrate (Corning 1737 glass) having a size of 300 mm × 400 mm and a thickness of 0.7 mm was prepared. After this substrate was washed according to a conventional method, the above-described transparent resin composition was applied by a spin coating method and dried to obtain a coating film having a thickness of 60 μm.
A photomask having an opening with an opening diameter of 25 μm is placed at a distance of 200 μm from the coating surface, and irradiated with ultraviolet rays for 10 seconds (exposure amount: 100 mJ / cm 2 ) using a 2.0 kW ultrahigh pressure mercury lamp by a proximity aligner. did. Subsequently, it was immersed in a 0.05 wt% potassium hydroxide aqueous solution (liquid temperature 23 ° C.) for 1 minute for alkali development to remove only the uncured portion of the coating film. Then, the said board | substrate was heat-processed for 30 minutes in 200 degreeC atmosphere, and the columnar formation was obtained.
The substrate with columnar formation was obtained by the above procedure.

[実施例2]
上述の透明樹脂組成物において、Irgacure369をIrgacureOXE02に変更したこと以外は実施例1と同様にして柱状形成物付基板を得た。
[Example 2]
A substrate with a columnar product was obtained in the same manner as in Example 1 except that Irgacure 369 was changed to Irgacure OXE02 in the transparent resin composition described above.

[比較例1]
上述の透明樹脂組成物において、Irgacure369をIrgacure907に変更したこと、および開口径50μmの開口を有するフォトマスクを用いたこと以外は実施例1と同様にして柱状形成物付基板を得た。
[Comparative Example 1]
A substrate with a columnar product was obtained in the same manner as in Example 1 except that Irgacure 369 was changed to Irgacure 907 and a photomask having an opening with an opening diameter of 50 μm was used in the transparent resin composition described above.

[比較例2]
上述の透明樹脂組成物において、Irgacure369をIrgacure907に変更したこと、および開口径50μm未満の開口を有するフォトマスクを用いたこと以外は、実施例1と同様の手順により塗膜の作製、露光および現像を行なったところ、基板上に柱状形成物を形成することができなかった。
[Comparative Example 2]
In the transparent resin composition described above, the coating film was prepared, exposed and developed in the same procedure as in Example 1 except that Irgacure 369 was changed to Irgacure 907 and a photomask having an opening with an opening diameter of less than 50 μm was used. As a result, a columnar product could not be formed on the substrate.

[評価]
得られた柱状形成物付基板における柱状形成物の形状を表1に示す。
表1中、△(上底−下底)は上底の幅および下底の幅の差の絶対値を示している。また、表1中、形状は、高さ、アスペクト比、ならびに上底の幅および下底の幅の差の絶対値が本発明における範囲内であるものを○、本発明における範囲を満たさないものを×として示している。
[Evaluation]
Table 1 shows the shape of the columnar product in the obtained substrate with columnar product.
In Table 1, Δ (upper base-lower base) indicates the absolute value of the difference between the width of the upper base and the width of the lower base. In Table 1, the shape is ○ when the absolute value of the height, the aspect ratio, and the difference between the width of the upper base and the width of the lower base is within the range in the present invention, and the shape does not satisfy the range in the present invention Is shown as x.

Figure 0006446787
Figure 0006446787

実施例1、2においては、吸収ピークが長波長側にある重合開始剤を用いたことにより、良好な形状を有する柱状形成物を得ることができた。
一方、比較例1においては、アスペクト比を2.0とした場合、下底の幅に比べて上底の幅が大きくなり、逆テーパー形状の柱状形成物となった。これは、Irgacure907を用いたことにより、透明樹脂組成物の深部硬化性が低くなり、塗膜の厚さ方向における光重合反応が十分に進行しなかったことによると考えられる。
また、比較例2において、開口径50μm未満のフォトマスクを用いた場合は、下底の幅がさらに小さくなり、基板と柱状形成物との密着性が取れないことから、柱状形成物を形成すること自体が困難になったものと考えられる。
In Examples 1 and 2, a columnar product having a good shape could be obtained by using a polymerization initiator having an absorption peak on the long wavelength side.
On the other hand, in Comparative Example 1, when the aspect ratio was 2.0, the width of the upper base was larger than the width of the lower base, and a columnar shaped product having an inverse taper shape was obtained. This is considered to be due to the fact that the use of Irgacure 907 resulted in a decrease in the deep curability of the transparent resin composition, and the photopolymerization reaction in the thickness direction of the coating film did not sufficiently proceed.
In Comparative Example 2, when a photomask having an opening diameter of less than 50 μm is used, the width of the lower bottom is further reduced, and the adhesion between the substrate and the columnar formed product cannot be obtained, so that the columnar formed product is formed. This is thought to be difficult.

1 … 液晶レンズ用柱状形成物付基板(柱状形成物付基板)
2 … 基板
3 … 液晶レンズ用柱状形成物(柱状形成物)
3’ … 塗膜
4 … 透明電極層
1 ... Substrate with columnar formation for liquid crystal lens (Substrate with columnar formation)
2 ... Substrate 3 ... Columnar formation for liquid crystal lens (columnar formation)
3 '... coating film 4 ... transparent electrode layer

Claims (2)

基板と、前記基板上に形成され透明樹脂を含有する柱状形成物とを有する柱状形成物付基板であって、
前記柱状形成物は、モノマーと、ポリマーと、光重合開始剤とを含有し、前記光重合開始剤の最も強い吸収ピークが310nm〜380nmの範囲内である柱状形成物用透明樹脂組成物を用いて形成されたものであり、
前記柱状形成物の高さが30μm〜100μmの範囲内であり、
上底の幅および下底の幅の差の絶対値が5.0μm以下であり、
前記下底の幅に対する前記高さの比率が、1.7〜2.3の範囲内であり、
前期下底の幅は、20μm〜50μmの範囲内であることを特徴とする柱状形成物付基板。
A substrate with a columnar product having a substrate and a columnar product formed on the substrate and containing a transparent resin,
The columnar product contains a monomer, a polymer, and a photopolymerization initiator, and uses a transparent resin composition for columnar product in which the strongest absorption peak of the photopolymerization initiator is in the range of 310 nm to 380 nm. Is formed,
The columnar shaped product has a height in a range of 30 μm to 100 μm;
The absolute value of the difference between the width of the upper base and the width of the lower base is 5.0 μm or less,
The ratio of the height to the width of the lower bottom state, and are in the range of 1.7 to 2.3,
The width of the previous year under the bottom, a substrate with columnar formations, characterized in der Rukoto range of 20Myuemu~50myuemu.
基板と、前記基板上に形成され透明樹脂を含有し前記基板および液晶レンズとした際に用いられる対向基板の間を一定の距離に保持する液晶レンズ用柱状形成物とを有する液晶レンズ用柱状形成物付基板であって、
前記液晶レンズ用柱状形成物は、モノマーと、ポリマーと、光重合開始剤とを含有し、
前記光重合開始剤の最も強い吸収ピークが310nm〜380nmの範囲内である液晶レンズ用柱状形成物用透明樹脂組成物を用いて形成されたものであり、
前記液晶レンズ用柱状形成物の高さが30μm〜100μmの範囲内であり、
上底の幅および下底の幅の差の絶対値が5.0μm以下であり、
前記下底の幅に対する前記高さの比率が、1.7〜2.3の範囲内であり、
前期下底の幅は、20μm〜50μmの範囲内であることを特徴とする液晶レンズ用柱状形成物付基板。
Columnar formation for a liquid crystal lens comprising a substrate and a columnar formation for a liquid crystal lens, which is formed on the substrate and contains a transparent resin and which is used when the substrate and the liquid crystal lens are used to maintain a fixed distance between the opposing substrates A substrate with objects,
The liquid crystal lens columnar product contains a monomer, a polymer, and a photopolymerization initiator,
The photopolymerization initiator is formed using a transparent resin composition for a columnar formation for a liquid crystal lens having the strongest absorption peak in the range of 310 nm to 380 nm,
The columnar shaped product for liquid crystal lenses has a height in the range of 30 μm to 100 μm,
The absolute value of the difference between the width of the upper base and the width of the lower base is 5.0 μm or less,
The ratio of the height to the width of the lower bottom state, and are in the range of 1.7 to 2.3,
The width of the previous year under bottom, cylindrical formation with a substrate for a liquid crystal lens, wherein Der Rukoto range of 20Myuemu~50myuemu.
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