JP6380158B2 - 製造装置 - Google Patents
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Description
第1の処理領域101での処理と第2の処理領域での処理の順番は任意である。例えば、第1の処理領域101において処理を行った後に、第2の処理領域102において処理を行う。或いは、第2の処理領域102において処理を行った後に、第1の処理領域101において処理を行ってもよい。
上記では、シャッター12全体が一体としてチャンバー11内で回転する例を示した。しかし、シャッター12を複数の扉を用いて形成してもよい。例えば、シャッター12を2枚の扉で構成し、シャッター12が中央から上下又は左右に開くように、回転機構13がシャッター12の扉をそれぞれ回転させる。図7に、シャッター12が中央から左右に観音開きするように、回転機構13が左右の扉のそれぞれ端部を軸に回転させる例を示した。
上記のように、本発明は実施形態によって記載したが、この開示の一部をなす論述及び図面はこの発明を限定するものであると理解すべきではない。この開示から当業者には様々な代替実施形態、実施例及び運用技術が明らかとなろう。
11…チャンバー
12…シャッター
13…回転機構
14…搬送テーブル
15…排気装置
100…処理対象物
101…第1の処理領域
102…第2の処理領域
111…カソード電極
112…交流電源
113…第1のガス供給装置
211…ターゲット
212…ターゲット電極
213…スパッタ電源
214…第2のガス供給装置
Claims (5)
- 処理対象物の処理がそれぞれ行われる第1の処理領域と第2の処理領域が内部に配置されたチャンバーと、
前記チャンバーの内部で、プラズマCVD法による成膜処理を行う前記第1の処理領域と、スパッタ法による成膜処理を行う前記第2の処理領域との境界に配置されたシャッターと、
前記第1の処理領域と前記第2の処理領域の間が前記シャッターによって空間的に分離された閉状態と、前記第1の処理領域と前記第2の処理領域が連続するように前記シャッターを前記チャンバーの内壁面に向けて倒した開状態とを切り替えるように、前記シャッターを前記チャンバーの内部で回転させる回転機構と
を備え、
前記閉状態において、前記チャンバーの内壁面と前記シャッターとの間に、前記第1の処理領域と前記第2の処理領域の間でプロセスガスが流れない長さの隙間が形成されることを特徴とする製造装置。 - 前記シャッターが2枚の扉を有し、
前記回転機構が、前記シャッターが中央から上下又は左右に開くように、前記扉のそれぞれの端部を中心として前記扉をそれぞれ回転させることを特徴とする請求項1に記載の製造装置。 - 前記処理対象物を、前記第1の処理領域と前記第2の処理領域に渡って前記チャンバー内で移動させる搬送テーブルを更に備えることを特徴とする請求項1又は2に記載の製造装置。
- 前記開状態において前記搬送テーブルと前記チャンバーの前記内壁面との間に前記シャッターが配置されるように、前記シャッターを回転させることを特徴とする請求項3に記載の製造装置。
- 前記チャンバー内を排気する排気装置の排気口が前記第1の処理領域に配置されていることを特徴とする請求項1乃至4のいずれか1項に記載の製造装置。
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JP2015031883A JP6380158B2 (ja) | 2015-02-20 | 2015-02-20 | 製造装置 |
Applications Claiming Priority (1)
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JP2015031883A JP6380158B2 (ja) | 2015-02-20 | 2015-02-20 | 製造装置 |
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JP2016154188A JP2016154188A (ja) | 2016-08-25 |
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Family Applications (1)
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JP2015031883A Active JP6380158B2 (ja) | 2015-02-20 | 2015-02-20 | 製造装置 |
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- 2015-02-20 JP JP2015031883A patent/JP6380158B2/ja active Active
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