JP6373260B2 - 自動分析装置 - Google Patents
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Description
以下、図1〜図5を用いて、本発明の第1の実施形態である自動分析装置100Aの構成及び動作を説明する。
まず、図5を用いて、No.1の反応容器3における洗浄動作を説明する。図4を用いて説明したように、第1番目のサイクルから第9番目のサイクルにおいて通常の洗浄が実施される。
次に、図5を用いて、No.2の反応容器3における洗浄動作を説明する。第2番目のサイクルから第10番目のサイクルにおいて通常の洗浄が実施される。なお、No.2の反応容器3の洗浄を開始するタイミングは、No.1の反応容器3と比較して、1サイクル分遅れている。
次に、図6〜図7を用いて、本発明の第2の実施形態である自動分析装置100Bの構成及び動作を説明する。
検体サンプリング機構5が、特別な洗剤を反応容器3へ吐出するようにしてもよい。この場合、特別な洗剤はサンプル容器1と同様の容器に充填され、サンプルディスク2に設置される。
第1及び第2の実施形態では、計数部201aが特定の試薬項目に対し反応容器3毎の使用回数をカウントして記憶部202に記憶する。ここで、特別な洗剤を用いて反応容器3の洗浄が実施された場合、反応容器3が交換された場合等、所定の動作が実施された場合に、記憶部202に記憶された使用回数をリセットしてもよい。
また、特別な洗剤による洗浄を実施するか否かの基準となる、特定の試薬項目についての使用回数の閾値を複数設けてもよい。例えば2個の閾値をN1、N2(N1<N2)とした場合、使用回数がN1を超えた場合には、使用回数がN1を超えた反応容器について測定中には特別な洗浄が実施されず、測定終了後に新たな測定依頼が無ければ、特別な洗浄が実施される。測定終了後に新たな測定依頼が有れば、特別な洗浄は実施せず、使用回数がN1を超えた反応容器を用いてそのまま新たな測定依頼に対する測定を実施する。一方、使用回数がN2を超えた場合には、使用回数がN2を超えた反応容器について測定終了後に新たな測定依頼が有っても新たな測定を割り当てないで、特別な洗剤による洗浄が実施される。
反応容器3毎に特別な洗剤による洗浄の実施回数を記憶し、表示装置に表示してもよい。また、反応容器の交換タイミングや、その交換タイミングの閾値を表示装置に表示された画面を介して入力装置で変更可能にしてもよい。
2…サンプルディスク
3…反応容器
4…反応ディスク
5…検体サンプリング機構
6…試薬容器
7…試薬ディスク
8…R1試薬サンプリング機構
9…R2/3試薬サンプリング機構
10…測光部
11…コード読み取り機構
12…洗浄機構
13…R1撹拌機構
14…R2/3撹拌機構
15…特別な洗剤専用のノズル
20…制御装置
201…プロセッサ
201a…計数部
201b…判断部
201c…制御部
202…記憶部
100A、100B…自動分析装置
Claims (8)
- 複数の反応容器を保持する保持機構と、
前記反応容器を洗浄する洗浄機構と、
前記洗浄機構によって洗浄された前記反応容器に洗剤を供給する洗剤供給機構と、
特定の試薬項目に対する反応容器毎の使用回数を記憶するための記憶部と、
前記特定の試薬項目に対する反応容器毎の使用回数を計数し、前記記憶部に記憶する計数部と、
計数された前記使用回数が所定の閾値N1を超えたか否かを判断する判断部と、
計数された前記使用回数が前記所定の閾値N1を超えた場合、サンプルを分注する周期を示す分注サイクル時間に全反応容器数と所定の整数を乗じた値以下の期間だけ洗剤で前記所定の閾値N1を超えた反応容器を漬け置きするように洗剤供給機構を制御する制御部と、を備える自動分析装置であって、
前記制御部は、
計数された前記使用回数が前記所定の閾値N1を超えた場合、前記所定の閾値N1を超えた反応容器について測定中には漬け置きしないようにし、前記所定の閾値N1を超えた反応容器の測定が終了した後に、新たな測定依頼が無ければ前記所定の閾値N1を超えた反応容器を漬け置きするように前記洗剤供給機構を制御し、
計数された前記使用回数が前記所定の閾値N1より大きい所定の閾値N2を超えた場合、新たな測定依頼が有っても前記所定の閾値N2を超えた反応容器に新たな測定を割り当てないで、前記所定の閾値N2を超えた反応容器を漬け置きするように前記洗剤供給機構を制御することを特徴とする自動分析装置。 - 請求項1に記載の自動分析装置であって、
前記洗剤供給機構は、
試薬容器から反応容器へ試薬を分注する試薬サンプリング機構及びサンプル容器から前記反応容器へサンプルを分注する検体サンプリング機構とは別に設けられた洗剤専用のノズルを備えた、
ことを特徴とする自動分析装置。 - 請求項1に記載の自動分析装置であって、
前記保持機構は、回転可能な円盤状の反応ディスクである
ことを特徴とする自動分析装置。 - 請求項1に記載の自動分析装置であって、
前記閾値N1は2以上である
ことを特徴とする自動分析装置。 - 請求項1に記載の自動分析装置であって、
前記制御部は、
前記洗剤で前記所定の閾値N1を超えた反応容器を、前記分注サイクル時間の10倍以上の期間、漬け置きするように前記洗剤供給機構を制御する
ことを特徴とする自動分析装置。 - 請求項1に記載の自動分析装置において、
前記洗剤で前記所定の閾値N1を超えた反応容器を漬け置きする間に前記洗剤を撹拌する
ことを特徴とする自動分析装置。 - 請求項1〜6のいずれかに記載の自動分析装置において、
前記洗浄機構は、洗剤により前記反応容器を洗浄する
ことを特徴とする自動分析装置。 - 請求項1〜6のいずれかに記載の自動分析装置において、
前記洗浄機構は、酸系の洗剤とアルカリ系の洗剤により前記反応容器を洗浄する
ことを特徴とする自動分析装置。
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