JP6337454B2 - Front plate for display device and manufacturing method thereof - Google Patents

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Description

本発明は、表示装置の前面に配置される表示装置用前面板およびその製造方法に関するものである。   The present invention relates to a display device front plate disposed on the front surface of a display device and a method of manufacturing the same.

一般に、液晶表示装置、プラズマディスプレイパネル、有機EL表示装置、電子ペーパー等の表示装置の前面には、表示装置の保護のために前面板が設けられている。前面板としては、耐衝撃性の観点から強化ガラス基板を用いることが知られている。このような表示装置においては、前面板と空気との界面の屈折率差により光の反射が起こり、視認性が低下する。そこで、前面板の最表面に反射防止フィルムや反射防止層を配置することが提案されている。   In general, a front plate is provided on the front surface of a display device such as a liquid crystal display device, a plasma display panel, an organic EL display device, or electronic paper to protect the display device. As the front plate, it is known to use a tempered glass substrate from the viewpoint of impact resistance. In such a display device, light is reflected due to a difference in refractive index at the interface between the front plate and air, and visibility is lowered. Therefore, it has been proposed to dispose an antireflection film or an antireflection layer on the outermost surface of the front plate.

反射防止フィルムとしては、例えばTACフィルムやPETフィルム等の透明基材上に反射防止層を形成したものを挙げることができ、反射防止層としては、例えば高屈折率層および低屈折率層が積層されたものが挙げられる。このような反射防止フィルムは、前面板の最表面に粘着層や接着層を介して貼付される。
反射防止フィルムは前面板に貼付するだけで反射防止性を付与することができる。しかしながら、反射防止フィルムにおいては透明基材および粘着層または接着層が存在するため、光学設計が複雑になる。また、透明基材にはうねりがあるため、平坦性が低下し、表示品位が劣化する。また、反射防止フィルムを貼付する際に異物や気泡の混入等の不具合が生じ、歩留りが低下する。また、透明基材および粘着層または接着層によって、透過率が低下する。
Examples of the antireflection film include those obtained by forming an antireflection layer on a transparent substrate such as a TAC film or PET film, and examples of the antireflection layer include a high refractive index layer and a low refractive index layer laminated. The thing which was done is mentioned. Such an antireflection film is attached to the outermost surface of the front plate via an adhesive layer or an adhesive layer.
The antireflection film can be provided with antireflection properties simply by being attached to the front plate. However, since an antireflection film includes a transparent substrate and an adhesive layer or an adhesive layer, the optical design is complicated. Further, since the transparent substrate has waviness, the flatness is lowered and the display quality is deteriorated. Moreover, when sticking an antireflection film, troubles, such as mixing of a foreign material and a bubble, arise and a yield falls. Further, the transmittance is lowered by the transparent substrate and the adhesive layer or the adhesive layer.

一方、反射防止層としては、例えばスパッタリング法や真空蒸着法等のドライプロセスにより形成された無機膜を挙げることができる。このような反射防止層は強化ガラス基板上に形成可能であることから、上記の反射防止フィルムにおける問題点を解消することができる。また、無機膜は膜強度が高く、表面硬度の高い反射防止層を得ることができる。
しかしながら、無機膜では低屈折率化が難しく、高屈折率層および低屈折率層を交互に複数積層するのが一般的である。この場合、ドライプロセスにより複数層を積層するため、生産性が低下し、製造コストがかかる。特に、大面積の表示装置に用いられる前面板の場合には設備が大掛かりになりコストが増大する。また、ドライプロセスの場合には、反射防止層の厚みの面内分布にばらつきが生じ、反射防止性の均一性が損なわれる。
On the other hand, examples of the antireflection layer include an inorganic film formed by a dry process such as a sputtering method or a vacuum deposition method. Since such an antireflection layer can be formed on a tempered glass substrate, the problems in the antireflection film can be solved. In addition, an inorganic film has a high film strength, and an antireflection layer having a high surface hardness can be obtained.
However, it is difficult to reduce the refractive index of an inorganic film, and it is common to stack a plurality of high refractive index layers and low refractive index layers alternately. In this case, since a plurality of layers are laminated by a dry process, productivity is lowered and manufacturing costs are increased. In particular, in the case of a front plate used for a display device with a large area, the equipment becomes large and the cost increases. Further, in the case of a dry process, variation occurs in the in-plane distribution of the thickness of the antireflection layer, and the uniformity of antireflection properties is impaired.

このような問題点を解決するために、例えば特許文献1〜5には前面板に塗布により反射防止層を形成する技術が提案されている。この場合、生産性やコスト面で有利である。   In order to solve such problems, for example, Patent Documents 1 to 5 propose techniques for forming an antireflection layer on the front plate by coating. This is advantageous in terms of productivity and cost.

特開2012−88683号公報JP 2012-88683 A 特開2012−88684号公報JP 2012-88684 A 特開2012−150418号公報JP2012-150418A 特開2012−189986号公報JP 2012-189986 A 特開2012−225992号公報JP 2012-225992 A

塗布により反射防止層を形成する場合、反射防止層の構成としては、例えばガラス基板上に高屈折率層および低屈折率層が積層された構成が挙げられる。また、高屈折率層としては、例えばバインダー樹脂および高屈折率微粒子を含有するものが挙げられ、高屈折微粒子としては、例えば金属酸化物微粒子が使用されている。また、低屈折率層としては、例えばバインダー樹脂および低屈折率微粒子を含有するものが挙げられ、低屈折率微粒子としては、例えば中空粒子や多孔質粒子が使用されている。   When the antireflection layer is formed by coating, examples of the configuration of the antireflection layer include a configuration in which a high refractive index layer and a low refractive index layer are laminated on a glass substrate. Examples of the high refractive index layer include those containing a binder resin and high refractive index fine particles. As the high refractive fine particles, for example, metal oxide fine particles are used. Examples of the low refractive index layer include those containing a binder resin and low refractive index fine particles. As the low refractive index fine particles, for example, hollow particles or porous particles are used.

高屈折率層の形成方法としては、例えばガラス基板上に高屈折率層用硬化性樹脂組成物を塗布し、硬化させる方法が提案されている。この方法では、硬化時にガラス基板と高屈折率層用硬化性樹脂組成物の塗膜とで収縮の程度が異なり、ガラス基板に対する高屈折率層の密着性が低下する場合がある。また、高屈折率層用硬化性樹脂組成物中の樹脂成分の種類によっては、空気中の酸素により硬化反応が阻害され、ガラス基板に対する高屈折率層の密着性が低下する場合がある。特に、高屈折率層が高屈折率微粒子を含有する場合や、高屈折率層の厚みが薄い場合には、硬化反応が不十分になりやすく、密着性の低下が懸念される。また、高屈折率微粒子は、中実粒子が使用されるため、中空粒子や多孔質粒子である低屈折率微粒子と比較して沈降しやすく、高屈折率層とガラス基板との界面に存在しやすいと考えられ、そのような場合にはガラス基板に対する高屈折率層の密着性が低下する傾向がある。   As a method for forming the high refractive index layer, for example, a method of applying and curing a curable resin composition for a high refractive index layer on a glass substrate has been proposed. In this method, the degree of shrinkage differs between the glass substrate and the coating film of the curable resin composition for the high refractive index layer during curing, and the adhesion of the high refractive index layer to the glass substrate may be reduced. Moreover, depending on the kind of the resin component in the curable resin composition for high refractive index layers, the curing reaction may be inhibited by oxygen in the air, and the adhesion of the high refractive index layer to the glass substrate may be reduced. In particular, when the high refractive index layer contains high refractive index fine particles, or when the thickness of the high refractive index layer is thin, the curing reaction tends to be insufficient, and there is a concern that adhesiveness may be reduced. In addition, since the high refractive index fine particles are solid particles, they are more likely to settle than the low refractive index fine particles that are hollow particles or porous particles, and are present at the interface between the high refractive index layer and the glass substrate. In such a case, the adhesion of the high refractive index layer to the glass substrate tends to decrease.

本発明は上記問題点に鑑みてなされたものであり、ガラス基板に対する高屈折率層の密着性が良好であり、反射防止性に優れる安価な表示装置用前面板およびその製造方法を提供することを主目的とする。   The present invention has been made in view of the above problems, and provides an inexpensive front plate for a display device that has good adhesion of a high refractive index layer to a glass substrate and is excellent in antireflection properties, and a method for producing the same. The main purpose.

上記課題を解決するために、本発明は、強化ガラス基板と、上記強化ガラス基板上に直に形成されたプライマー層と、上記プライマー層上に直に形成され、第1バインダー樹脂および金属酸化物微粒子を含有する高屈折率層と、上記高屈折率層上に形成され、第2バインダー樹脂および屈折率調整微粒子を含有し、上記高屈折率層よりも屈折率が低い低屈折率層とを有することを特徴とする表示装置用前面板を提供する。   In order to solve the above problems, the present invention provides a tempered glass substrate, a primer layer formed directly on the tempered glass substrate, a first binder resin and a metal oxide formed directly on the primer layer. A high refractive index layer containing fine particles, and a low refractive index layer formed on the high refractive index layer, containing a second binder resin and refractive index adjusting fine particles, and having a lower refractive index than the high refractive index layer. Provided is a display device front plate.

本発明によれば、高屈折率層および低屈折率層はいずれもバインダー樹脂を含有するものであるためウェットプロセスにより形成可能であり、大面積であっても均一な層を容易に形成することができる。したがって、反射防止性に優れる安価な表示装置用前面板を得ることが可能である。また、本発明によれば、強化ガラス基板上にプライマー層を介して高屈折率層が形成されていることにより、高屈折率層が金属酸化物微粒子を含有し、さらに高屈折率層の厚みが比較的薄い場合であっても、強化ガラス基板に対する高屈折率層の密着性を高めることが可能である。   According to the present invention, since both the high refractive index layer and the low refractive index layer contain a binder resin, they can be formed by a wet process, and a uniform layer can be easily formed even in a large area. Can do. Therefore, it is possible to obtain an inexpensive front plate for a display device having excellent antireflection properties. According to the present invention, the high refractive index layer is formed on the tempered glass substrate via the primer layer, so that the high refractive index layer contains metal oxide fine particles, and the thickness of the high refractive index layer is further increased. Is relatively thin, it is possible to improve the adhesion of the high refractive index layer to the tempered glass substrate.

上記発明においては、上記第1バインダー樹脂が紫外線硬化樹脂であることが好ましい。紫外線硬化樹脂では空気中の酸素により硬化反応が阻害される場合があり、特に高屈折率層は金属酸化物微粒子を含有し、さらに高屈折率層の厚みは比較的薄いので、硬化反応が不十分になりやすく、高屈折率層の密着性の低下が懸念される。これに対し本発明においては、強化ガラス基板上にプライマー層を介して高屈折率層が形成されているため、紫外線硬化樹脂を用いた場合であっても、高屈折率層の密着性を確保することができる。   In the said invention, it is preferable that the said 1st binder resin is an ultraviolet curable resin. In UV curable resins, the curing reaction may be inhibited by oxygen in the air. In particular, the high refractive index layer contains metal oxide fine particles, and the thickness of the high refractive index layer is relatively thin. There is a concern that the adhesion of the high refractive index layer may be lowered. On the other hand, in the present invention, since the high refractive index layer is formed on the tempered glass substrate through the primer layer, the adhesion of the high refractive index layer is ensured even when an ultraviolet curable resin is used. can do.

また本発明においては、上記プライマー層が、上記高屈折率層側の面に凹凸を有していてもよい。プライマー層および高屈折率層の密着性を向上させることができるからである。   Moreover, in this invention, the said primer layer may have an unevenness | corrugation in the surface at the side of the said high refractive index layer. This is because the adhesion between the primer layer and the high refractive index layer can be improved.

また本発明は、強化ガラス基板上に直にプライマー層用硬化性樹脂組成物を塗布し、硬化させてプライマー層を形成するプライマー層形成工程と、上記プライマー層上に直に高屈折率層用硬化性樹脂組成物を塗布し、硬化させて高屈折率層を形成する高屈折率層形成工程と、上記高屈折率層上に低屈折率層用硬化性樹脂組成物を塗布し、硬化させて、上記高屈折率層よりも屈折率が低い低屈折率層を形成する低屈折率層形成工程とを有することを特徴とする表示装置用前面板の製造方法を提供する。   The present invention also includes a primer layer forming step in which a primer layer curable resin composition is applied directly on a tempered glass substrate and cured to form a primer layer, and a high refractive index layer directly on the primer layer. Applying a curable resin composition and curing to form a high refractive index layer, and applying and curing the low refractive index layer curable resin composition on the high refractive index layer And providing a low refractive index layer forming step of forming a low refractive index layer having a refractive index lower than that of the high refractive index layer.

本発明によれば、プライマー層、高屈折率層および低屈折率層のいずれもウェットプロセスにより形成するため、大面積であっても均一な層を容易に形成することができる。したがって、反射防止性に優れる表示装置用前面板を低コストで製造することが可能である。また本発明によれば、強化ガラス基板上にプライマー層を介して高屈折率層を形成することにより、高屈折率層が金属酸化物微粒子を含有し、さらに高屈折率層の厚みが比較的薄い場合であっても、強化ガラス基板に対する密着性が良好な高屈折率層を得ることが可能である。   According to the present invention, since the primer layer, the high refractive index layer, and the low refractive index layer are all formed by a wet process, a uniform layer can be easily formed even in a large area. Therefore, it is possible to manufacture a display device front plate having excellent antireflection properties at low cost. Further, according to the present invention, the high refractive index layer is formed on the tempered glass substrate via the primer layer, so that the high refractive index layer contains metal oxide fine particles, and the thickness of the high refractive index layer is relatively Even if it is thin, it is possible to obtain a high refractive index layer having good adhesion to the tempered glass substrate.

上記発明においては、上記プライマー層形成工程および上記高屈折率層形成工程では、上記プライマー層用硬化性樹脂組成物の塗膜上に上記高屈折率層用硬化性樹脂組成物を塗布した後、上記プライマー層用硬化性樹脂組成物の塗膜および上記高屈折率層用硬化性樹脂組成物の塗膜を硬化させてもよい。プライマー層用硬化性樹脂組成物の塗膜が未硬化または半硬化の状態で高屈折率層用硬化性樹脂組成物を塗布することにより、プライマー層との密着性が良好な高屈折率層を得ることができる。   In the said invention, after apply | coating the said curable resin composition for high refractive index layers on the coating film of the said curable resin composition for primer layers in the said primer layer formation process and the said high refractive index layer formation process, You may harden the coating film of the said curable resin composition for primer layers, and the coating film of the said curable resin composition for high refractive index layers. By applying the curable resin composition for the high refractive index layer while the coating film of the curable resin composition for the primer layer is uncured or semi-cured, a high refractive index layer having good adhesion to the primer layer is obtained. Can be obtained.

本発明においては、強化ガラス基板に対する高屈折率層の密着性が良好であり、反射防止性に優れる安価な表示装置用前面板を提供することが可能であるという効果を奏する。   In this invention, there exists an effect that the adhesiveness of the high refractive index layer with respect to a tempered glass board | substrate is favorable, and it is possible to provide the cheap front plate for display apparatuses which is excellent in antireflection property.

本発明の表示装置用前面板の一例を示す概略断面図である。It is a schematic sectional drawing which shows an example of the front plate for display apparatuses of this invention. 本発明の表示装置用前面板の他の例を示す概略断面図である。It is a schematic sectional drawing which shows the other example of the front plate for display apparatuses of this invention. 本発明の表示装置用前面板の他の例を示す概略断面図である。It is a schematic sectional drawing which shows the other example of the front plate for display apparatuses of this invention. 本発明の表示装置用前面板の製造方法の一例を示す工程図である。It is process drawing which shows an example of the manufacturing method of the front plate for display apparatuses of this invention.

以下、本発明の表示装置用前面板およびその製造方法について詳細に説明する。   Hereinafter, the front plate for a display device and the manufacturing method thereof according to the present invention will be described in detail.

A.表示装置用前面板
本発明の表示装置用前面板は、強化ガラス基板と、上記強化ガラス基板上に直に形成されたプライマー層と、上記プライマー層上に直に形成され、第1バインダー樹脂および金属酸化物微粒子を含有する高屈折率層と、上記高屈折率層上に形成され、第2バインダー樹脂および屈折率調整微粒子を含有し、上記高屈折率層よりも屈折率が低い低屈折率層とを有することを特徴とするものである。
A. Front plate for display device The front plate for display device of the present invention comprises a tempered glass substrate, a primer layer formed directly on the tempered glass substrate, and formed directly on the primer layer. A high refractive index layer containing metal oxide fine particles, and a low refractive index formed on the high refractive index layer, containing a second binder resin and refractive index adjusting fine particles, and having a lower refractive index than the high refractive index layer And a layer.

ここで、「強化ガラス基板上に直に形成されたプライマー層」とは、強化ガラス基板とプライマー層とが直に接しており、強化ガラス基板とプライマー層との間に例えば接着層や粘着層、透明基材等が形成されていないことをいう。
また、「プライマー層上に直に形成された高屈折率層」とは、プライマー層と高屈折率層とが直に接しており、プライマー層と高屈折率層との間に例えば接着層や粘着層、透明基材等が形成されていないことをいう。
Here, the “primer layer formed directly on the tempered glass substrate” means that the tempered glass substrate and the primer layer are in direct contact with each other, for example, an adhesive layer or an adhesive layer between the tempered glass substrate and the primer layer. It means that a transparent substrate or the like is not formed.
In addition, the “high refractive index layer formed directly on the primer layer” means that the primer layer and the high refractive index layer are in direct contact with each other, for example, an adhesive layer or the like between the primer layer and the high refractive index layer. It means that an adhesive layer, a transparent substrate and the like are not formed.

本発明の表示装置用前面板について図面を参照しながら説明する。
図1は、本発明の表示装置用前面板の一例を示す概略断面図である。図1に例示するように、表示装置用前面板1は、強化ガラス基板2と、強化ガラス基板2上に直に形成されたプライマー層3と、プライマー層3上に直に形成された高屈折率層4と、高屈折率層4上に形成された低屈折率層5とを有している。高屈折率層4は第1バインダー樹脂および金属酸化物微粒子を含有し、低屈折率層5は第2バインダー樹脂および屈折率調整微粒子を含有している。
The front plate for a display device of the present invention will be described with reference to the drawings.
FIG. 1 is a schematic cross-sectional view showing an example of the front plate for a display device of the present invention. As illustrated in FIG. 1, the front plate 1 for a display device includes a tempered glass substrate 2, a primer layer 3 formed directly on the tempered glass substrate 2, and a high refraction formed directly on the primer layer 3. It has a refractive index layer 4 and a low refractive index layer 5 formed on the high refractive index layer 4. The high refractive index layer 4 contains a first binder resin and metal oxide fine particles, and the low refractive index layer 5 contains a second binder resin and refractive index adjusting fine particles.

本発明においては、高屈折率層および低屈折率層はいずれもバインダー樹脂を含有するものであるためウェットプロセスにより形成可能であり、大面積であっても均一な層を容易に形成することができる。したがって、反射防止性に優れる安価な表示装置用前面板を得ることが可能である。
また本発明においては、強化ガラス基板上にプライマー層を介して高屈折率層が形成されていることにより、高屈折率層が金属酸化物微粒子を含有していても、強化ガラス基板に対する高屈折率層の密着性を高めることが可能である。また、高屈折率層の厚みが比較的薄く、空気中の酸素により硬化反応が阻害された場合であっても、強化ガラス基板に対する高屈折率層の密着性を確保することができる。
In the present invention, since both the high refractive index layer and the low refractive index layer contain a binder resin, they can be formed by a wet process, and a uniform layer can be easily formed even in a large area. it can. Therefore, it is possible to obtain an inexpensive front plate for a display device having excellent antireflection properties.
In the present invention, since the high refractive index layer is formed on the tempered glass substrate through the primer layer, the high refractive index with respect to the tempered glass substrate can be obtained even if the high refractive index layer contains metal oxide fine particles. It is possible to improve the adhesion of the rate layer. Moreover, even when the thickness of the high refractive index layer is relatively thin and the curing reaction is inhibited by oxygen in the air, the adhesion of the high refractive index layer to the tempered glass substrate can be ensured.

以下、本発明の表示装置用前面板における各構成について説明する。   Hereafter, each structure in the front plate for display apparatuses of this invention is demonstrated.

1.強化ガラス基板
本発明における強化ガラス基板は、プライマー層、高屈折率層および低屈折率層を支持するものである。
1. Tempered glass substrate The tempered glass substrate in the present invention supports the primer layer, the high refractive index layer, and the low refractive index layer.

ここで、「強化ガラス」とは、ガラスの表面に圧縮応力層が設けられたものである。圧縮応力層は、例えばガラス中のナトリウムをカリウムに置換することにより形成される。このような圧縮応力層がガラスの表面に形成されていることにより、強化ガラス基板に何らかの衝撃が加えられた場合に強化ガラス基板が割れるのを抑制することができる。
圧縮応力層の厚みは特に限定されることはなく、要求特性に応じて適宜設定される。例えば、ガラスにある程度の強度を付与しながら、ガラスの切断性および生産性も確保される必要がある場合、圧縮応力層の厚みは約5μm〜10μmの範囲内に設定される。また、ガラスにさらに高い強度を付与することが求められる場合、圧縮応力層の厚みは、約10μm〜35μmの範囲内に設定されてもよく、35μm以上に設定されてもよい。圧縮応力層の厚みが約10μm〜35μmの範囲内である場合は、ガラスはある程度の切断性を有している。一方、圧縮応力層の厚みが35μm以上である場合は、仮にダイヤモンドカッター等の高性能の切断手段が用いられる場合であっても、ガラスを切断することが困難になる。そのため、圧縮応力層の厚みを35μm以上にすることが求められる場合、所望の形状に切り出された後のガラスにイオン交換処理を施すことにより、ガラスの表面に圧縮応力層が形成されることが好ましい。
このように表面に圧縮応力層が形成されたガラスの例としては、コーニング社のGorilla Glass(ゴリラガラス)や、旭硝子社のDragontrail(ドラゴントレイル)等が挙げられる。
Here, “tempered glass” is a glass in which a compressive stress layer is provided on the surface of the glass. The compressive stress layer is formed, for example, by replacing sodium in the glass with potassium. By forming such a compressive stress layer on the surface of the glass, it is possible to prevent the tempered glass substrate from cracking when an impact is applied to the tempered glass substrate.
The thickness of the compressive stress layer is not particularly limited and is appropriately set according to the required characteristics. For example, when it is necessary to ensure the cutting property and productivity of the glass while imparting a certain degree of strength to the glass, the thickness of the compressive stress layer is set within a range of about 5 μm to 10 μm. Moreover, when it is calculated | required to give still higher intensity | strength to glass, the thickness of a compressive-stress layer may be set in the range of about 10 micrometers-35 micrometers, and may be set to 35 micrometers or more. When the thickness of the compressive stress layer is in the range of about 10 μm to 35 μm, the glass has a certain degree of cutability. On the other hand, when the thickness of the compressive stress layer is 35 μm or more, it is difficult to cut the glass even if a high-performance cutting means such as a diamond cutter is used. Therefore, when the thickness of the compressive stress layer is required to be 35 μm or more, the compressive stress layer may be formed on the surface of the glass by performing ion exchange treatment on the glass after being cut into a desired shape. preferable.
Examples of the glass having a compressive stress layer formed on the surface in this way include Corning's Gorilla Glass (Gorilla Glass) and Asahi Glass Company's Dragon Trail.

強化ガラス基板の材料としては、例えば化学強化ガラスを用いることができ、光透過性や耐久性等に応じて適宜選択される。   As a material of the tempered glass substrate, for example, chemically tempered glass can be used, and it is appropriately selected according to light transmittance, durability and the like.

強化ガラス基板の厚みとしては、表示装置用前面板として使用可能な程度であればよく、表示装置用前面板に求められる強度や、表示装置用前面板が使用される表示装置の寸法等に応じて適宜設定され、例えば0.1mm〜1.5mmの範囲内にすることができる。   The thickness of the tempered glass substrate is not limited as long as it can be used as a front plate for a display device, depending on the strength required for the front plate for a display device, the dimensions of the display device in which the front plate for a display device is used, and the like. For example, within a range of 0.1 mm to 1.5 mm.

ここで、各部材の「厚み」とは、一般的な測定方法によって得られる厚みをいう。厚みの測定方法としては、例えば、触針で表面をなぞり凹凸を検出することによって厚みを算出する触針式の方法や、分光反射スペクトルに基づいて厚みを算出する光学式の方法等を挙げることができる。具体的には、ケーエルエー・テンコール株式会社製の触針式膜厚計P−15を用いて厚みを測定することができる。なお、厚みとして、対象となる部材の複数箇所における厚み測定結果の平均値が用いられてもよい。   Here, the “thickness” of each member refers to a thickness obtained by a general measurement method. Thickness measurement methods include, for example, a stylus type method of calculating the thickness by tracing the surface with a stylus and detecting an unevenness, an optical method of calculating the thickness based on the spectral reflection spectrum, etc. Can do. Specifically, the thickness can be measured using a stylus thickness meter P-15 manufactured by KLA-Tencor Corporation. In addition, as thickness, the average value of the thickness measurement result in the several location of the member used as object may be used.

2.プライマー層
本発明におけるプライマー層は、上記強化ガラス基板上に直に形成されるものである。プライマー層が形成されていることにより、強化ガラス基板に対する高屈折率層の密着性を高めることができる。
2. Primer layer The primer layer in the present invention is directly formed on the tempered glass substrate. By forming the primer layer, the adhesion of the high refractive index layer to the tempered glass substrate can be enhanced.

プライマー層の屈折率は、強化ガラス基板の屈折率以上であり、高屈折率層の屈折率以下であることが好ましい。また、プライマー層の屈折率は、強化ガラス基板の屈折率との差が小さいあるいは高屈折率層の屈折率との差が小さいことが好ましく、例えば強化ガラス基板の屈折率との差が0.03以内あるいは高屈折率層の屈折率との差が0.03以内であることが好ましい。特に、プライマー層の屈折率は強化ガラス基板の屈折率との差が小さいことが好ましい。具体的には、強化ガラス基板の屈折率が1.51である場合、プライマー層の屈折率は1.51〜1.54の範囲内であることが好ましい。この場合、プライマー層と強化ガラス基板との界面で光が反射するのを抑制することができる。   The refractive index of the primer layer is preferably not less than the refractive index of the tempered glass substrate and not more than the refractive index of the high refractive index layer. Further, the refractive index of the primer layer is preferably such that the difference from the refractive index of the tempered glass substrate is small or the difference from the refractive index of the high refractive index layer is small. It is preferable that the difference from the refractive index of the high refractive index layer is within 0.03 or within 0.03. In particular, it is preferable that the refractive index of the primer layer has a small difference from the refractive index of the tempered glass substrate. Specifically, when the refractive index of the tempered glass substrate is 1.51, the refractive index of the primer layer is preferably in the range of 1.51 to 1.54. In this case, reflection of light at the interface between the primer layer and the tempered glass substrate can be suppressed.

ここで、各部材の「屈折率」とは、波長550nmの光に対する屈折率をいう。屈折率の測定方法は特に限定されないが、例えば、分光反射スペクトルから算出する方法、エリプソメーターを用いて測定する方法、アッベ法を挙げることができる。エリプソメーターとしてはジョバンーイーボン社製UVSELが挙げられる。具体的には、テクノ・シナジー社製DF1030Rにて屈折率を測定することができる。   Here, the “refractive index” of each member refers to the refractive index with respect to light having a wavelength of 550 nm. The method for measuring the refractive index is not particularly limited, and examples thereof include a method of calculating from a spectral reflection spectrum, a method of measuring using an ellipsometer, and an Abbe method. An example of the ellipsometer is UVSEL manufactured by Joban-Evon. Specifically, the refractive index can be measured with DF1030R manufactured by Techno Synergy.

プライマー層の材料としては、強化ガラス基板および高屈折率層との密着性を有し、光透過性を有し、上記の屈折率を満たすプライマー層を得ることが可能なものであれば特に限定されるものではない。例えば、熱硬化樹脂、および、紫外線硬化樹脂や電子線硬化樹脂等の電離放射線硬化樹脂を挙げることができる。具体的には、後述の高屈折率層に用いられる第1バインダー樹脂や、低屈折率層に用いられる第2バインダー樹脂と同様のものが挙げられる。
また、プライマー層は、必要に応じて、重合開始剤等の各種添加剤を含有していてもよい。
The material of the primer layer is particularly limited as long as it has adhesion to the tempered glass substrate and the high refractive index layer, has light transmittance, and can obtain a primer layer satisfying the above refractive index. Is not to be done. Examples thereof include thermosetting resins and ionizing radiation curable resins such as ultraviolet curable resins and electron beam curable resins. Specifically, the same thing as the 1st binder resin used for the below-mentioned high refractive index layer and the 2nd binder resin used for a low refractive index layer is mentioned.
Moreover, the primer layer may contain various additives, such as a polymerization initiator, as needed.

また、図2に例示するように、プライマー層3は、高屈折率層4側の面に凹凸を有していてもよい。これにより、プライマー層および高屈折率層の密着性を高めることができる。凹凸の高低差やピッチとしては、高屈折率層との密着性を高めることが可能な程度であればよく、適宜調整される。凹凸は、規則的に配置されていてもよく、不規則に配置されていてもよい。   Further, as illustrated in FIG. 2, the primer layer 3 may have irregularities on the surface on the high refractive index layer 4 side. Thereby, the adhesiveness of a primer layer and a high refractive index layer can be improved. The height difference and the pitch of the unevenness may be adjusted as appropriate as long as the adhesiveness with the high refractive index layer can be enhanced. The irregularities may be regularly arranged or irregularly arranged.

プライマー層の厚みとしては、強化ガラス基板に対する高屈折率層の密着性を高めることが可能な程度であれば特に限定されるものではない。例えば、プライマー層の厚みを高屈折率層の厚みよりも厚くすることにより、強化ガラス基板および高屈折率層との密着性を高めることができる。具体的には、密着性の観点から、プライマー層の厚みは、0.5μm〜3.5μmの範囲内であることが好ましい。一方、プライマー層の厚みが厚いと、本発明の表示装置用前面板の硬度や強度が低下する場合がある。そのため、硬度および強度の観点から、プライマー層の厚みは上記範囲の中でも比較的薄いことが好ましい。   The thickness of the primer layer is not particularly limited as long as it can increase the adhesion of the high refractive index layer to the tempered glass substrate. For example, the adhesion between the tempered glass substrate and the high refractive index layer can be enhanced by making the primer layer thicker than the high refractive index layer. Specifically, from the viewpoint of adhesion, the thickness of the primer layer is preferably in the range of 0.5 μm to 3.5 μm. On the other hand, when the primer layer is thick, the hardness and strength of the front plate for a display device of the present invention may decrease. Therefore, from the viewpoint of hardness and strength, the primer layer is preferably relatively thin in the above range.

プライマー層の形成方法としては、強化ガラス基板上にプライマー層用硬化性樹脂組成物を塗布し、硬化させる方法が挙げられる。
なお、プライマー層の形成方法については、「B.表示装置用前面板の製造方法」に記載するので、ここでの説明は省略する。
Examples of the method for forming the primer layer include a method in which a curable resin composition for a primer layer is applied on a tempered glass substrate and cured.
The method for forming the primer layer is described in “B. Method for producing front plate for display device”, and thus the description thereof is omitted here.

3.高屈折率層
本発明における高屈折率層は、プライマー層上に直に形成され、低屈折率層よりも屈折率が高く、第1バインダー樹脂および金属酸化物微粒子を含有するものである。
3. High Refractive Index Layer The high refractive index layer in the present invention is formed directly on the primer layer, has a higher refractive index than the low refractive index layer, and contains the first binder resin and metal oxide fine particles.

高屈折率層の屈折率としては、低屈折率層の屈折率よりも高く、強化ガラス基板の屈折率よりも高ければよい。なお、強化ガラス基板の屈折率は、例えば1.51である。具体的には、高屈折率層の屈折率は1.5〜1.7の範囲内であることが好ましい。   The refractive index of the high refractive index layer may be higher than the refractive index of the low refractive index layer and higher than the refractive index of the tempered glass substrate. The refractive index of the tempered glass substrate is 1.51, for example. Specifically, the refractive index of the high refractive index layer is preferably in the range of 1.5 to 1.7.

高屈折率層に用いられる第1バインダー樹脂としては、光透過性を有し、上記の屈折率を満たす高屈折率層を得ることが可能なものであれば特に限定されるものではなく、成膜性や膜強度等の観点から適宜選択される。中でも、第1バインダー樹脂は、熱または紫外線や電子線等の電離放射線の照射により硬化した硬化樹脂であることが好ましい。硬化樹脂としては、例えば熱硬化樹脂、電離放射線硬化樹脂が挙げられる。中でも、電離放射線硬化樹脂が好ましい。高屈折率層の表面硬度を高めることができるからである。   The first binder resin used for the high refractive index layer is not particularly limited as long as it has optical transparency and can obtain a high refractive index layer satisfying the above refractive index. It is appropriately selected from the viewpoints of film properties and film strength. Among these, the first binder resin is preferably a cured resin that is cured by irradiation with ionizing radiation such as heat, ultraviolet rays, or electron beams. Examples of the curable resin include a thermosetting resin and an ionizing radiation curable resin. Among these, ionizing radiation curable resins are preferable. This is because the surface hardness of the high refractive index layer can be increased.

ここで、「電離放射線硬化樹脂」とは、電離放射線の照射により硬化した樹脂をいう。「電離放射線」とは、電磁波または荷電粒子線のうち、分子を重合あるいは架橋し得るエネルギー量子を有するものをいい、例えば、紫外線や電子線の他、X線、γ線等の電磁波、α線、イオン線等の荷電粒子線が挙げられる。   Here, “ionizing radiation curable resin” refers to a resin cured by irradiation with ionizing radiation. “Ionizing radiation” refers to electromagnetic waves or charged particle beams having an energy quantum capable of polymerizing or cross-linking molecules. For example, in addition to ultraviolet rays and electron beams, electromagnetic waves such as X rays and γ rays, α rays And charged particle beams such as ion beams.

電離放射線硬化樹脂としては、紫外線硬化樹脂、電子線硬化樹脂を挙げることができる。中でも、紫外線硬化樹脂が好ましい。紫外線硬化樹脂や電子線硬化樹脂の場合には、空気中の酸素により硬化反応が阻害される場合がある。特に、高屈折率層は金属酸化物微粒子を含有し、さらに厚みが比較的薄いので硬化反応が不十分になりやすく、密着性の低下が懸念される。これに対し本発明においては、高屈折率層の下にプライマー層が形成されているため、紫外線硬化樹脂や電子線硬化樹脂を用いた場合であっても、密着性を確保することができる。   Examples of the ionizing radiation curable resin include an ultraviolet curable resin and an electron beam curable resin. Among these, an ultraviolet curable resin is preferable. In the case of an ultraviolet curable resin or an electron beam curable resin, the curing reaction may be inhibited by oxygen in the air. In particular, since the high refractive index layer contains metal oxide fine particles and is relatively thin, the curing reaction tends to be insufficient, and there is a concern that the adhesion may be lowered. In contrast, in the present invention, since the primer layer is formed under the high refractive index layer, adhesion can be ensured even when an ultraviolet curable resin or an electron beam curable resin is used.

具体的に、第1バインダー樹脂としては、特開2013−142817号公報、特開2012−150226号公報、特開2011−170208号公報等に記載されている高屈折率層に用いられるものを挙げることができる。   Specifically, examples of the first binder resin include those used in the high refractive index layer described in JP2013-142817A, JP2012-150226A, JP2011-170208A, and the like. be able to.

金属酸化物微粒子としては、上記の屈折率を満たす高屈折率層を得ることができるものであれば特に限定されるものではないが、中でも金属酸化物微粒子の屈折率は1.5〜2.8程度であることが好ましい。
このような金属酸化物微粒子としては、例えば、酸化ジルコニウム(ZrO、屈折率:2.10)、酸化アンチモン(Sb、屈折率:2.04)、アンチモン錫酸化物(ATO、屈折率:1.75〜1.95)、インジウム錫酸化物(ITO、屈折率:1.95〜2.00)、燐錫化合物(PTO、屈折率:1.75〜1.85)、ガリウム亜鉛酸化物(1.90〜2.00)、β−Al(屈折率:1.63〜1.76)、γ−Al(屈折率:1.63〜1.76)、BaTiO(屈折率:2.4)、ZnSb(屈折率:1.9〜2.0)、酸化チタン(TiO、屈折率:2.71)、酸化セリウム(CeO2、屈折率:2.20)、酸化錫(SnO、屈折率:2.00、)、アルミニウム亜鉛酸化物(AZO、屈折率:1.90〜2.00)、ガリウム亜鉛酸化物(GZO、屈折率:1.90〜2.00)、アンチモン酸亜鉛(ZnSb、屈折率:1.90〜2.00)等が挙げられる。
The metal oxide fine particles are not particularly limited as long as a high refractive index layer satisfying the above-described refractive index can be obtained, and among them, the metal oxide fine particles have a refractive index of 1.5 to 2. It is preferably about 8.
Examples of such metal oxide fine particles include zirconium oxide (ZrO 2 , refractive index: 2.10), antimony oxide (Sb 2 O 5 , refractive index: 2.04), antimony tin oxide (ATO, refractive). Ratio: 1.75 to 1.95), indium tin oxide (ITO, refractive index: 1.95 to 2.00), phosphorus tin compound (PTO, refractive index: 1.75 to 1.85), gallium zinc Oxide (1.90 to 2.00), β-Al 2 O 5 (refractive index: 1.63 to 1.76), γ-Al 2 O 5 (refractive index: 1.63 to 1.76), BaTiO 3 (refractive index: 2.4), ZnSb 2 O 6 (refractive index: 1.9 to 2.0), titanium oxide (TiO 2 , refractive index: 2.71), cerium oxide (CeO 2, refractive index: 2.20), tin oxide (SnO 2 , refractive index: 2.00), aluminum Zinc oxide (AZO, refractive index: 1.90 to 2.00), gallium zinc oxide (GZO, refractive index: 1.90 to 2.00), zinc antimonate (ZnSb 2 O 6 , refractive index: 1 .90 to 2.00).

また、金属酸化物微粒子は、表面処理されたものであってもよい。金属酸化物微粒子に表面処理を施すことにより、第1バインダー樹脂や溶媒との親和性が向上し、金属酸化物微粒子の分散が均一となり、金属酸化物微粒子同士の凝集が生じにくくなるので、高屈折率層の光透過性の低下や、高屈折率層用硬化性樹脂組成物の塗布性、高屈折率層用硬化性樹脂組成物の塗膜強度の低下を抑制することができる。
表面処理された金属酸化物微粒子としては、例えば特開2013−142817号公報に記載されているものを挙げることができる。
Further, the metal oxide fine particles may be subjected to a surface treatment. By subjecting the metal oxide fine particles to surface treatment, the affinity with the first binder resin and the solvent is improved, the dispersion of the metal oxide fine particles becomes uniform, and the metal oxide fine particles are less likely to aggregate. Decrease in light transmittance of the refractive index layer, applicability of the curable resin composition for high refractive index layer, and reduction in coating strength of the curable resin composition for high refractive index layer can be suppressed.
Examples of the surface-treated metal oxide fine particles include those described in JP2013-142817A.

また、金属酸化物微粒子は、その表面に光硬化性基を有する反応性微粒子であってもよい。   The metal oxide fine particles may be reactive fine particles having a photocurable group on the surface thereof.

金属酸化物微粒子の平均粒径としては、均一な厚みを有する高屈折率層を形成可能な程度であればよく、例えば5nm〜200nmの範囲内であることが好ましく、中でも5nm〜100nmの範囲内、特に10nm〜80nmの範囲内であることが好ましい。金属酸化物微粒子の平均粒径が上記範囲内にあれば、高屈折率層の光透過性を損なうことがなく、良好な金属酸化物微粒子の分散状態が得られる。なお、金属酸化物微粒子の平均粒径が上記範囲内にあれば、平均粒径は1次粒径および2次粒径のいずれであってもよく、また金属酸化物微粒子が鎖状に連なっていてもよい。
ここで、金属酸化物微粒子の平均粒径は、高屈折率層の断面の透過型電子顕微鏡(TEM)写真により観察される粒子20個の平均値をいう。
The average particle diameter of the metal oxide fine particles is not limited as long as a high refractive index layer having a uniform thickness can be formed. For example, it is preferably in the range of 5 nm to 200 nm, and more preferably in the range of 5 nm to 100 nm. In particular, it is preferably within the range of 10 nm to 80 nm. When the average particle diameter of the metal oxide fine particles is within the above range, the light transmittance of the high refractive index layer is not impaired, and a good dispersion state of the metal oxide fine particles can be obtained. If the average particle diameter of the metal oxide fine particles is within the above range, the average particle diameter may be either the primary particle diameter or the secondary particle diameter, and the metal oxide fine particles are connected in a chain. May be.
Here, the average particle diameter of the metal oxide fine particles refers to an average value of 20 particles observed by a transmission electron microscope (TEM) photograph of a cross section of the high refractive index layer.

金属酸化物微粒子の形状は特に限定されるものではなく、例えば、球状、鎖状、針状等を挙げることができる。   The shape of the metal oxide fine particles is not particularly limited, and examples thereof include a spherical shape, a chain shape, and a needle shape.

高屈折率層における第1バインダー樹脂および金属酸化物微粒子の含有量としては、高屈折率層全体としての屈折率が上記の屈折率を満たすように適宜設定される。   The contents of the first binder resin and the metal oxide fine particles in the high refractive index layer are appropriately set so that the refractive index of the high refractive index layer as a whole satisfies the above refractive index.

電離放射線硬化樹脂として紫外線硬化樹脂を用いる場合、高屈折率層は光重合開始剤を含有していてもよい。光重合開始剤としては、一般的なものから適宜選択することができる。   When an ultraviolet curable resin is used as the ionizing radiation curable resin, the high refractive index layer may contain a photopolymerization initiator. As a photoinitiator, it can select from a general thing suitably.

高屈折率層は、所望の物性に応じて各種添加剤を含有していてもよい。添加剤としては、例えば分散助剤、耐候性改善剤、耐摩耗性向上剤、重合禁止剤、架橋剤、赤外線吸収剤、接着性向上剤、酸化防止剤、レベリング剤、チクソ性付与剤、カップリング剤、可塑剤、消泡剤、充填剤等が挙げられる。   The high refractive index layer may contain various additives according to desired physical properties. Examples of additives include a dispersion aid, a weather resistance improver, an abrasion resistance improver, a polymerization inhibitor, a crosslinking agent, an infrared absorber, an adhesion improver, an antioxidant, a leveling agent, a thixotropic agent, and a cup. A ring agent, a plasticizer, an antifoamer, a filler, etc. are mentioned.

高屈折率層の厚みは、屈折率に応じて異なるが、50nm〜200nmの範囲内であることが好ましい。高屈折率層の厚みが上記のように薄い場合、高屈折率層に含有される第1バインダー樹脂の種類によっては空気中の酸素により硬化反応が阻害される場合がある。このような場合、密着性の低下が懸念される。これに対し本発明においては、高屈折率層の下にプライマー層が形成されているため、高屈折率層の厚みが薄くとも密着性を確保することができる。   The thickness of the high refractive index layer varies depending on the refractive index, but is preferably in the range of 50 nm to 200 nm. When the thickness of the high refractive index layer is thin as described above, the curing reaction may be inhibited by oxygen in the air depending on the type of the first binder resin contained in the high refractive index layer. In such a case, there is a concern about a decrease in adhesion. On the other hand, in the present invention, since the primer layer is formed under the high refractive index layer, adhesion can be ensured even if the high refractive index layer is thin.

高屈折率層の形成方法としては、プライマー層上に高屈折率層用硬化性樹脂組成物を塗布し、硬化させる方法が挙げられる。
なお、高屈折率層の形成方法については、「B.表示装置用前面板の製造方法」に記載するので、ここでの説明は省略する。
As a formation method of a high refractive index layer, the method of apply | coating and hardening the curable resin composition for high refractive index layers on a primer layer is mentioned.
In addition, since the formation method of a high refractive index layer is described in "B. Manufacturing method of front plate for display device", description here is abbreviate | omitted.

4.低屈折率層
本発明における低屈折率層は、高屈折率層よりも屈折率が低く、第2バインダー樹脂および屈折率調整微粒子を含有するものである。
4). Low Refractive Index Layer The low refractive index layer in the present invention has a refractive index lower than that of the high refractive index layer, and contains the second binder resin and refractive index adjusting fine particles.

低屈折率層の屈折率としては、高屈折率層の屈折率よりも低く、強化ガラス基板の屈折率よりも低ければよい。具体的には、低屈折率層の屈折率は1.3〜1.4の範囲内であることが好ましい。   The refractive index of the low refractive index layer may be lower than the refractive index of the high refractive index layer and lower than the refractive index of the tempered glass substrate. Specifically, the refractive index of the low refractive index layer is preferably in the range of 1.3 to 1.4.

低屈折率層に用いられる第2バインダー樹脂としては、光透過性を有し、上記の屈折率を満たす低屈折率層を得ることが可能なものであれば特に限定されるものではなく、成膜性や膜強度等の観点から適宜選択される。例えば、第2バインダー樹脂としては、熱または紫外線や電子線等の電離放射線の照射により硬化した硬化樹脂が挙げられる。硬化樹脂としては、例えば熱硬化樹脂や電離放射線硬化樹脂が挙げられる。中でも、電離放射線硬化樹脂が好ましい。低屈折率層の表面硬度を高めることができるからである。また、電離放射線硬化樹脂としては、例えば紫外線硬化樹脂、電子線硬化樹脂を用いることができる。中でも、紫外線硬化樹脂が好ましい。   The second binder resin used for the low refractive index layer is not particularly limited as long as it has light transmittance and can obtain a low refractive index layer satisfying the above refractive index. It is appropriately selected from the viewpoints of film properties and film strength. For example, examples of the second binder resin include a cured resin cured by irradiation with ionizing radiation such as heat, ultraviolet rays, or electron beams. Examples of the curable resin include a thermosetting resin and an ionizing radiation curable resin. Among these, ionizing radiation curable resins are preferable. This is because the surface hardness of the low refractive index layer can be increased. Further, as the ionizing radiation curable resin, for example, an ultraviolet curable resin or an electron beam curable resin can be used. Among these, an ultraviolet curable resin is preferable.

具体的に、第2バインダー樹脂としては、特開2013−142817号公報、特開2012−150226号公報、特開2011−170208号公報、特開2009−86360号公報、特開2008−9347号公報等に記載されている低屈折率層に用いられるものを挙げることができる。   Specifically, as the second binder resin, JP2013-142817A, JP2012-150226A, JP2011-170208A, JP2009-86360A, JP2008-9347A. And the like used in the low refractive index layer described in the above.

屈折率調整微粒子としては、上記の屈折率を満たす低屈折率層を得ることが可能なものであれば特に限定されるものではなく、無機系、有機系のいずれも用いることができる。中でも、屈折率が低いことから、中空粒子や多孔質粒子が好ましく用いられる。中空粒子および多孔質粒子としては、例えば、多孔質シリカ粒子、中空シリカ粒子、多孔質ポリマー粒子、中空ポリマー粒子が挙げられる。   The refractive index adjusting fine particles are not particularly limited as long as a low refractive index layer satisfying the above refractive index can be obtained, and either inorganic or organic can be used. Among these, hollow particles and porous particles are preferably used because of their low refractive index. Examples of the hollow particles and the porous particles include porous silica particles, hollow silica particles, porous polymer particles, and hollow polymer particles.

また、屈折率調整微粒子は、表面処理されたものであってもよい。屈折率調整微粒子に表面処理を施すことにより、第2バインダー樹脂や溶媒との親和性が向上し、屈折率調整微粒子の分散が均一となり、屈折率調整微粒子同士の凝集が生じにくくなるので、低屈折率層の光透過性の低下や、低屈折率層用硬化性樹脂組成物の塗布性、低屈折率層用硬化性樹脂組成物の塗膜強度の低下を抑制することができる。
表面処理された屈折率調整微粒子としては、例えば特開2013−142817号公報、特開2008−9348号公報に記載されているものを挙げることができる。
Further, the refractive index adjusting fine particles may be subjected to a surface treatment. By subjecting the refractive index adjusting fine particles to surface treatment, the affinity with the second binder resin and the solvent is improved, the dispersion of the refractive index adjusting fine particles becomes uniform, and aggregation of the refractive index adjusting fine particles is less likely to occur. Decrease in light transmittance of the refractive index layer, applicability of the curable resin composition for low refractive index layer, and reduction in coating strength of the curable resin composition for low refractive index layer can be suppressed.
Examples of the surface-treated refractive index adjusting fine particles include those described in JP2013-142817A and JP2008-9348A.

また、屈折率調整微粒子は、その表面に光硬化性基を有する反応性微粒子であってもよい。   The refractive index adjusting fine particles may be reactive fine particles having a photocurable group on the surface thereof.

具体的に、屈折率調整微粒子としては、特開2013−142817号公報、特開2012−150226号公報、特開2011−170208号公報、特開2009−86360号公報、特開2008−9347号公報等に記載されている低屈折率層に用いられるものを挙げることができる。   Specifically, as the refractive index adjusting fine particles, JP2013-142817A, JP2012-150226A, JP2011-170208A, JP2009-86360A, JP2008-9347A. And the like used in the low refractive index layer described in the above.

屈折率調整微粒子の平均粒径としては、均一な厚みを有する低屈折率層を形成可能な程度であればよく、例えば5nm〜200nmの範囲内であることが好ましく、中でも5nm〜100nmの範囲内、特に10nm〜80nmの範囲内であることが好ましい。屈折率調整微粒子の平均粒径が上記範囲内にあれば、低屈折率層の光透過性を損なうことがなく、良好な屈折率調整微粒子の分散状態が得られる。なお、屈折率調整微粒子の平均粒径が上記範囲内にあれば、平均粒径は1次粒径および2次粒径のいずれであってもよく、また屈折率調整微粒子が鎖状に連なっていてもよい。
ここで、屈折率調整微粒子の平均粒径は、低屈折率層の断面の透過型電子顕微鏡(TEM)写真により観察される粒子20個の平均値をいう。
The average particle diameter of the refractive index adjusting fine particles is not limited as long as a low refractive index layer having a uniform thickness can be formed. For example, it is preferably within a range of 5 nm to 200 nm, and more preferably within a range of 5 nm to 100 nm. In particular, it is preferably within the range of 10 nm to 80 nm. If the average particle diameter of the refractive index adjusting fine particles is within the above range, the light transmittance of the low refractive index layer is not impaired, and a good dispersion state of the refractive index adjusting fine particles can be obtained. If the average particle diameter of the refractive index adjusting fine particles is within the above range, the average particle diameter may be either the primary particle diameter or the secondary particle diameter, and the refractive index adjusting fine particles are connected in a chain. May be.
Here, the average particle diameter of the refractive index adjusting fine particles refers to an average value of 20 particles observed by a transmission electron microscope (TEM) photograph of a cross section of the low refractive index layer.

屈折率調整微粒子の形状は特に限定されるものではなく、例えば、球状、鎖状、針状等を挙げることができる。   The shape of the refractive index adjusting fine particles is not particularly limited, and examples thereof include a spherical shape, a chain shape, and a needle shape.

低屈折率層における第2バインダー樹脂および屈折率調整微粒子の含有量としては、低屈折率層全体としての屈折率が上記の屈折率を満たすように適宜設定される。   The contents of the second binder resin and the refractive index adjusting fine particles in the low refractive index layer are appropriately set so that the refractive index of the entire low refractive index layer satisfies the above refractive index.

電離放射線硬化樹脂として紫外線硬化樹脂を用いる場合、低屈折率層は光重合開始剤を含有していてもよい。また、低屈折率層は、所望の物性に応じて各種添加剤を含有していてもよい。なお、光重合開始剤、各種添加剤については、上記高屈折率層と同様とすることができる。   When an ultraviolet curable resin is used as the ionizing radiation curable resin, the low refractive index layer may contain a photopolymerization initiator. Moreover, the low refractive index layer may contain various additives according to desired physical properties. In addition, about a photoinitiator and various additives, it can be made the same as that of the said high refractive index layer.

低屈折率層の厚みは、屈折率に応じて異なるが、可視光領域における反射を低減する観点から、50nm〜200nmの範囲内であることが好ましい。   The thickness of the low refractive index layer varies depending on the refractive index, but is preferably in the range of 50 nm to 200 nm from the viewpoint of reducing reflection in the visible light region.

低屈折率層の形成方法としては、高屈折率層上に低屈折率層用硬化性樹脂組成物を塗布し、硬化させる方法が挙げられる。
なお、低屈折率層の形成方法については、「B.表示装置用前面板の製造方法」に記載するので、ここでの説明は省略する。
As a formation method of a low refractive index layer, the method of apply | coating and hardening the curable resin composition for low refractive index layers on a high refractive index layer is mentioned.
In addition, since the formation method of a low refractive index layer is described in "B. Manufacturing method of front plate for display apparatus", description here is abbreviate | omitted.

5.保護層
本発明においては、図3に例示するように、低屈折率層5上に保護層6が形成されていてもよい。
本発明においては、密着性向上のためにプライマー層を形成するのであるが、プライマー層の厚みを厚くすると密着性が向上する反面、表示装置用前面板の硬度および強度が低下し、耐擦傷性が劣化する傾向がある。これに対し、本発明の表示装置用前面板の最表面に保護層が形成されていることにより、表示装置用前面板の表面の硬度および強度を高めることができ、耐擦傷性を向上させることができる。
5. Protective layer In the present invention, as exemplified in FIG. 3, a protective layer 6 may be formed on the low refractive index layer 5.
In the present invention, a primer layer is formed to improve adhesion. However, increasing the thickness of the primer layer improves the adhesion, but the hardness and strength of the front plate for the display device are reduced, and the scratch resistance is increased. Tend to deteriorate. On the other hand, by forming a protective layer on the outermost surface of the display device front plate of the present invention, the surface hardness and strength of the display device front plate can be increased, and scratch resistance is improved. Can do.

保護層の硬度としては、表示装置用前面板に所望の耐擦傷性を付与することが可能な程度であれば特に限定されるものではないが、具体的には、JIS5600−5−4(1999)で規定される鉛筆硬度試験でH以上であることが好ましい。   The hardness of the protective layer is not particularly limited as long as the desired scratch resistance can be imparted to the display device front plate, but specifically, JIS 5600-5-4 (1999). It is preferable that it is H or more in the pencil hardness test prescribed | regulated.

保護層としては、上記の硬度を満たすものであれば特に限定されるものではなく、例えば樹脂を含有するものや、樹脂および無機微粒子を含有するものを挙げることができる。   The protective layer is not particularly limited as long as it satisfies the above-mentioned hardness, and examples thereof include those containing a resin and those containing a resin and inorganic fine particles.

保護層に用いられる樹脂としては、硬度および強度を確保する意味で、熱硬化樹脂または電離放射線硬化樹脂であることが好ましい。なお、要求の度合いによっては、熱可塑性樹脂を用いてもよい。   The resin used for the protective layer is preferably a thermosetting resin or an ionizing radiation curable resin in order to ensure hardness and strength. Depending on the degree of demand, a thermoplastic resin may be used.

熱硬化樹脂および電離放射線硬化樹脂としては、例えば特開2003−236970号公報に記載されているハードコート薄層に用いられるものを挙げることができる。   As thermosetting resin and ionizing radiation curable resin, what is used for the hard-coat thin layer described in Unexamined-Japanese-Patent No. 2003-236970 can be mentioned, for example.

保護層は、例えば熱硬化性樹脂組成物または電離放射線硬化性樹脂組成物の硬化物である。熱硬化性樹脂組成物および電離放射線硬化性樹脂組成物には、ポリシロキサン成分、具体的には有機反応性ケイ素化合物を併用してもよい。有機反応性ケイ素化合物を併用すると、塗膜の硬度および強度が維持されると共に塗膜表面の滑り性が増して、耐擦傷性が向上し、また表面に離型性を与えるので、防汚性が向上する利点がある。この場合、熱硬化性樹脂組成物および電離放射線硬化性樹脂組成物は、樹脂成分として、水酸基、カルボキシル基、アミノ基、アミド基等の極性基が導入されたものを含有することが好ましい。このような樹脂成分は有機反応性ケイ素化合物との間で共有結合を形成し、塗膜の硬度および強度のさらなる向上が可能となるからである。
有機反応性ケイ素化合物としては、例えば特開2003−236970号公報に記載されているハードコート薄層に用いられるものを挙げることができる。
The protective layer is, for example, a cured product of a thermosetting resin composition or an ionizing radiation curable resin composition. A polysiloxane component, specifically, an organic reactive silicon compound may be used in combination with the thermosetting resin composition and the ionizing radiation curable resin composition. When an organic reactive silicon compound is used in combination, the hardness and strength of the coating film are maintained, the slipperiness of the coating film surface is increased, the scratch resistance is improved, and the surface is releasable, thus providing antifouling properties. Has the advantage of improving. In this case, the thermosetting resin composition and the ionizing radiation curable resin composition preferably contain a resin component into which a polar group such as a hydroxyl group, a carboxyl group, an amino group, or an amide group has been introduced. This is because such a resin component forms a covalent bond with the organic reactive silicon compound, and can further improve the hardness and strength of the coating film.
As an organic reactive silicon compound, what is used for the hard-coat thin layer described in Unexamined-Japanese-Patent No. 2003-236970 can be mentioned, for example.

また、電離放射線硬化性樹脂組成物および熱硬化性樹脂組成物には、有機反応性ケイ素化合物以外に、一般式AnMBx-nで表される有機金属化合物を併用してもよい。上記式において、Aは加水分解可能な官能基もしくは加水分解可能な官能基を有する炭化水素基、Mは金属原子、Bは金属原子Mに共有結合もしくはイオン結合した原子団を表す。また、Bの添え字x−nにおけるxは金属原子Mの原子価であり、Aの添え字でもあるnは2以上x以下の整数を表す。具体的に、有機金属化合物としては、特開2003−236970号公報に記載されているハードコート薄層に用いられるものを挙げることができる。 In addition to the organic reactive silicon compound, an organometallic compound represented by the general formula An MB xn may be used in combination with the ionizing radiation curable resin composition and the thermosetting resin composition. In the above formula, A represents a hydrolyzable functional group or a hydrocarbon group having a hydrolyzable functional group, M represents a metal atom, and B represents an atomic group covalently or ionically bonded to the metal atom M. Moreover, x in the subscript xn of B represents the valence of the metal atom M, and n, which is also the subscript of A, represents an integer of 2 or more and x or less. Specifically, examples of the organometallic compound include those used for the hard coat thin layer described in JP-A No. 2003-236970.

また、電離放射線硬化性樹脂組成物には、ウレタンアクリレート、特にポリウレタンアクリレートを併用してもよい。一般的にアクリレート類、特に多官能アクリレートは硬度の優れた塗膜を与える反面、塗膜の耐衝撃性が低くなり脆くなる場合があるが、ポリウレタンアクリレートを加えることにより、耐衝撃性が改善され、塗膜が柔軟性を帯びるようになるからである。   Further, urethane acrylate, particularly polyurethane acrylate may be used in combination with the ionizing radiation curable resin composition. In general, acrylates, especially polyfunctional acrylates, give a coating film with excellent hardness, but the impact resistance of the coating film becomes low and may become brittle, but the impact resistance is improved by adding polyurethane acrylate. This is because the coating film becomes flexible.

保護層に用いられる無機微粒子としては、屈折率が比較的高い微粒子を使用することができる。具体的に、無機微粒子としては、特開2003−236970号公報に記載されているハードコート薄層に用いられるものを挙げることができる。   As the inorganic fine particles used for the protective layer, fine particles having a relatively high refractive index can be used. Specifically, examples of the inorganic fine particles include those used for the hard coat thin layer described in JP-A No. 2003-236970.

保護層は、必要に応じて、重合開始剤、紫外線遮断剤、紫外線吸収剤、レベリング剤等の各種添加剤を含有していてもよい。   The protective layer may contain various additives such as a polymerization initiator, an ultraviolet blocking agent, an ultraviolet absorber, and a leveling agent as necessary.

保護層の屈折率としては、所望の反射防止性を有する表示装置用前面板を得ることが可能な程度であればよく、例えば1.30〜1.60の範囲内であることが好ましい。また、保護層の屈折率は、低屈折率層の屈折率よりも大きいことが好ましく、具体的には低屈折率層の屈折率よりも0.14〜0.28の範囲内で大きいことが好ましい。
保護層の屈折率が低屈折率層よりも大きい場合、保護層と空気との屈折率差が大きくなり、保護層単層でみた場合には反射率は大きくなるが、プライマー層、高屈折率層および低屈折率層の屈折率および膜厚を調整することで、反射率を保護層が無い場合と同等にすることができる。
The refractive index of the protective layer is not limited as long as it can obtain a display device front plate having desired antireflection properties, and is preferably in the range of, for example, 1.30 to 1.60. Further, the refractive index of the protective layer is preferably larger than the refractive index of the low refractive index layer, and specifically, larger than the refractive index of the low refractive index layer in the range of 0.14 to 0.28. preferable.
When the refractive index of the protective layer is larger than that of the low refractive index layer, the refractive index difference between the protective layer and air becomes large, and when viewed as a single protective layer, the reflectivity increases, but the primer layer, high refractive index By adjusting the refractive index and the film thickness of the layer and the low refractive index layer, the reflectance can be made equal to the case where there is no protective layer.

一方、保護層の屈折率は、低屈折率層の屈折率以下であってもよい。表示装置用前面板の最表面に屈折率の低い保護層が形成されていることにより、表示装置用前面板の最表面における光の反射を低減することができる。   On the other hand, the refractive index of the protective layer may be equal to or lower than the refractive index of the low refractive index layer. By forming a protective layer having a low refractive index on the outermost surface of the display device front plate, reflection of light on the outermost surface of the display device front plate can be reduced.

保護層の厚みとしては、所望の硬度および強度を有する表示装置用前面板を得ることが可能な程度であればよいが、低屈折率層の厚みの1/2以下であることが好ましい。具体的には5nm〜100nmの範囲内であることが好ましい。保護層の厚みが薄いと、表面の硬度および強度が十分得られない場合がある。また、保護層の厚みが厚いと、反射防止性が低下する場合がある。   The thickness of the protective layer is not particularly limited as long as a front panel for a display device having desired hardness and strength can be obtained, but is preferably ½ or less of the thickness of the low refractive index layer. Specifically, it is preferably in the range of 5 nm to 100 nm. If the thickness of the protective layer is thin, the surface hardness and strength may not be sufficiently obtained. Moreover, when the thickness of the protective layer is thick, the antireflection property may be lowered.

保護層の形成方法としては、例えば、低屈折率層上に保護層用硬化性樹脂組成物を塗布し、硬化させる方法が挙げられる。
なお、保護層の形成方法については、「B.表示装置用前面板の製造方法」に記載するので、ここでの説明は省略する。
Examples of the method for forming the protective layer include a method in which a curable resin composition for the protective layer is applied on the low refractive index layer and cured.
In addition, since the formation method of a protective layer is described in "B. Manufacturing method of the front plate for display apparatuses", description here is abbreviate | omitted.

6.用途
本発明の表示装置用前面板は、例えば液晶表示装置、プラズマディスプレイパネル、有機EL表示装置、無機EL表示装置、電子ペーパー等の表示装置に用いることができる。また、本発明の表示装置用前面板の用途としては、例えば携帯電話、タブレット端末、パーソナルコンピューター、テレビ、デジタルサイネージ、ウェアラブル端末等を挙げることができる。中でも、プライマー層、高屈折率層および低屈折率層はウェットプロセスにより形成可能であることから、大面積であっても安価かつ容易に均一な層を形成することができるので、本発明の表示装置用前面板は大面積の表示装置に好適である。特に、テレビが好ましく、大型テレビがより好ましい。
6). Applications The front plate for a display device of the present invention can be used for display devices such as a liquid crystal display device, a plasma display panel, an organic EL display device, an inorganic EL display device, and electronic paper. Examples of the use of the front plate for a display device of the present invention include a mobile phone, a tablet terminal, a personal computer, a television, a digital signage, and a wearable terminal. Among them, since the primer layer, the high refractive index layer and the low refractive index layer can be formed by a wet process, a uniform layer can be formed inexpensively and easily even in a large area. The device front plate is suitable for a large-area display device. In particular, a television is preferable, and a large television is more preferable.

7.製造方法
本発明の表示装置用前面板は、後述の表示装置用前面板の製造方法により製造されたものであることが好ましい。すなわち、プライマー層、高屈折率層および低屈折率層はウェットプロセスで形成されたものであることが好ましい。大面積の強化ガラス基板上に安価かつ容易に均一な層を形成することができるからである。
7). Manufacturing Method The display device front plate of the present invention is preferably manufactured by a method for manufacturing a display device front plate described below. That is, the primer layer, the high refractive index layer, and the low refractive index layer are preferably formed by a wet process. This is because a uniform layer can be easily and inexpensively formed on a large area tempered glass substrate.

B.表示装置用前面板の製造方法
本発明の表示装置用前面板の製造方法は、強化ガラス基板上に直にプライマー層用硬化性樹脂組成物を塗布し、硬化させてプライマー層を形成するプライマー層形成工程と、上記プライマー層上に直に高屈折率層用硬化性樹脂組成物を塗布し、硬化させて高屈折率層を形成する高屈折率層形成工程と、上記高屈折率層上に低屈折率層用硬化性樹脂組成物を塗布し、硬化させて、上記高屈折率層よりも屈折率が低い低屈折率層を形成する低屈折率層形成工程とを有することを特徴とする。
B. Method for producing front plate for display device The method for producing a front plate for display device according to the present invention is a primer layer in which a primer layer curable resin composition is applied directly on a tempered glass substrate and cured to form a primer layer. A high refractive index layer forming step in which a curable resin composition for a high refractive index layer is applied directly on the primer layer and cured to form a high refractive index layer; and on the high refractive index layer And a low refractive index layer forming step of forming a low refractive index layer having a refractive index lower than that of the high refractive index layer by applying and curing a curable resin composition for the low refractive index layer. .

ここで、「強化ガラス基板上に直にプライマー層用硬化性樹脂組成物を塗布し、硬化させてプライマー層を形成する」とは、強化ガラス基板とプライマー層とが直に接しており、強化ガラス基板とプライマー層との間に例えば接着層や粘着層、透明基材等を形成しないことをいう。
また、「プライマー層上に直に高屈折率層用硬化性樹脂組成物を塗布し、硬化させて高屈折率層を形成する」とは、プライマー層と高屈折率層とが直に接しており、プライマー層と高屈折率層との間に例えば接着層や粘着層、透明基材等を形成しないことをいう。
Here, “Apply the primer layer curable resin composition directly on the tempered glass substrate and cure it to form the primer layer” means that the tempered glass substrate and the primer layer are in direct contact and strengthen For example, an adhesive layer, an adhesive layer, a transparent base material or the like is not formed between the glass substrate and the primer layer.
In addition, “applying a curable resin composition for a high refractive index layer directly on the primer layer and curing to form a high refractive index layer” means that the primer layer and the high refractive index layer are in direct contact. For example, an adhesive layer, an adhesive layer, a transparent substrate, or the like is not formed between the primer layer and the high refractive index layer.

本発明の表示装置用前面板の製造方法について図面を参照して説明する。
図4(a)〜(c)は本発明の表示装置用前面板の製造方法の一例を示す工程図である。まず、図4(a)に示すように、強化ガラス基板2上に直にプライマー層用硬化性樹脂組成物を塗布し、熱により硬化させてプライマー層3を形成するプライマー層形成工程を行う。次いで、図4(b)に示すように、プライマー層3上に直に高屈折率層用硬化性樹脂組成物を塗布し、紫外線照射により硬化させて高屈折率層4を形成する高屈折率層形成工程を行う。次に、図4(c)に示すように、高屈折率層4上に低屈折率層用硬化性樹脂組成物を塗布し、紫外線照射により硬化させて低屈折率層5を形成する低屈折率層形成工程を行う。
A method for producing a front plate for a display device of the present invention will be described with reference to the drawings.
4A to 4C are process diagrams showing an example of a method for manufacturing a display device front plate according to the present invention. First, as shown to Fig.4 (a), the primer layer formation process of apply | coating the curable resin composition for primer layers directly on the tempered glass substrate 2, and making it harden | cure with heat and forming the primer layer 3 is performed. Next, as shown in FIG. 4 (b), the high refractive index layer 4 is formed by directly applying the curable resin composition for the high refractive index layer on the primer layer 3 and curing it by ultraviolet irradiation. A layer forming step is performed. Next, as shown in FIG. 4 (c), a low refractive index layer 5 is formed by applying a curable resin composition for a low refractive index layer on the high refractive index layer 4 and curing it by ultraviolet irradiation. The rate layer forming step is performed.

本発明においては、プライマー層、高屈折率層および低屈折率層のいずれもウェットプロセスにより形成するため、大面積であっても均一な層を容易に形成することができる。したがって、反射防止性に優れる表示装置用前面板を低コストで製造することが可能である。
また本発明においては、強化ガラス基板上にプライマー層を介して高屈折率層を形成することにより、高屈折率層が金属酸化物微粒子を含有し、さらに高屈折率層の厚みが比較的薄い場合であっても、強化ガラス基板に対する密着性が良好な高屈折率層を得ることが可能である。
In the present invention, since all of the primer layer, the high refractive index layer, and the low refractive index layer are formed by a wet process, a uniform layer can be easily formed even in a large area. Therefore, it is possible to manufacture a display device front plate having excellent antireflection properties at low cost.
In the present invention, a high refractive index layer is formed on a tempered glass substrate via a primer layer, so that the high refractive index layer contains metal oxide fine particles, and the high refractive index layer is relatively thin. Even in this case, it is possible to obtain a high refractive index layer having good adhesion to the tempered glass substrate.

以下、本発明の表示装置用前面板の製造方法における各工程について説明する。   Hereafter, each process in the manufacturing method of the front plate for display apparatuses of this invention is demonstrated.

1.プライマー層形成工程
本発明においては、強化ガラス基板上に直にプライマー層用硬化性樹脂組成物を塗布し、硬化させてプライマー層を形成するプライマー層形成工程を行う。
1. Primer Layer Forming Step In the present invention, a primer layer forming step is performed in which a primer layer curable resin composition is applied directly on a tempered glass substrate and cured to form a primer layer.

プライマー層用硬化性樹脂組成物は、例えば樹脂成分と各種添加剤と溶媒とを含有するものである。溶媒としては、各成分を溶解もしくは分散させることが可能であれば特に限定されるものではなく、適宜選択される。   The primer layer curable resin composition contains, for example, a resin component, various additives, and a solvent. The solvent is not particularly limited as long as each component can be dissolved or dispersed, and is appropriately selected.

塗布方法としては、例えば、ダイコート法、スピンコート法、ディップコート法、ロールコート法等の強化ガラス基板の全域にプライマー層用硬化性樹脂組成物を塗布する方法や、インクジェット法等の強化ガラス基板上にプライマー層用硬化性樹脂組成物を吐出する方法、グラビア印刷法、オフセット印刷法、シルクスクリーン印刷法等の印刷法等が挙げられる。
プライマー層用硬化性樹脂組成物の塗布後は、溶媒の除去のために乾燥させてもよい。
硬化方法としては、樹脂成分の種類に応じて異なるが、例えば熱あるいは紫外線または電子線の照射が挙げられる。塗膜を硬化させる際には、酸素による硬化阻害を抑制するために、不活性ガス雰囲気、例えば窒素ガス雰囲気とすることが好ましい。
As a coating method, for example, a method of applying a curable resin composition for a primer layer to the entire area of a tempered glass substrate such as a die coating method, a spin coating method, a dip coating method, or a roll coating method, or a tempered glass substrate such as an inkjet method. Examples thereof include a method for discharging the curable resin composition for the primer layer, a gravure printing method, an offset printing method, a printing method such as a silk screen printing method, and the like.
After application of the primer layer curable resin composition, the primer layer may be dried to remove the solvent.
The curing method varies depending on the type of the resin component, and includes, for example, irradiation with heat, ultraviolet rays or electron beams. When the coating film is cured, an inert gas atmosphere, for example, a nitrogen gas atmosphere is preferably used in order to suppress the inhibition of curing by oxygen.

また、表面に凹凸を有するプライマー層を形成する場合には、例えば強化ガラス基板上にプライマー層用硬化性樹脂組成物を塗布し乾燥させた後、塗膜に凹凸形成用基板または凹凸形成用ロールを圧着させた状態で硬化し、凹凸形成用基板または凹凸形成用ロールを剥離する方法や、プライマー層表面を研磨する方法が挙げられる。   Moreover, when forming the primer layer which has an unevenness | corrugation on the surface, for example, after applying and drying the primer layer curable resin composition on a tempered glass substrate, the unevenness forming substrate or the unevenness forming roll is applied to the coating film. And a method of peeling the unevenness forming substrate or the unevenness forming roll, and a method of polishing the primer layer surface.

なお、プライマー層のその他の点については、上記「A.表示装置用前面板」に詳しく記載したので、ここでの説明は省略する。   Since the other points of the primer layer are described in detail in the above “A. Front plate for display device”, description thereof is omitted here.

2.高屈折率層形成工程
本発明においては、上記プライマー層上に直に高屈折率層用硬化性樹脂組成物を塗布し、硬化させて高屈折率層を形成する高屈折率層形成工程を行う。
2. High refractive index layer forming step In the present invention, a high refractive index layer forming step is performed in which the high refractive index layer curable resin composition is applied directly on the primer layer and cured to form a high refractive index layer. .

高屈折率層用硬化性樹脂組成物は、例えば樹脂成分と金属酸化物微粒子と各種添加剤と溶媒とを含有するものである。溶媒としては、各成分を溶解もしくは分散させることが可能であれば特に限定されるものではなく、例えば特開2013−142817号公報、特開2012−150226号公報、特開2011−170208号公報等に記載されている高屈折率層の形成に用いられるものを挙げることができる。   The curable resin composition for a high refractive index layer contains, for example, a resin component, metal oxide fine particles, various additives, and a solvent. The solvent is not particularly limited as long as each component can be dissolved or dispersed. For example, JP 2013-142817 A, JP 2012-150226 A, JP 2011-170208 A, and the like. And those used for forming the high refractive index layer described in (1).

塗布方法としては、プライマー層の形成方法と同様とすることができる。
高屈折率層用硬化性樹脂組成物の塗布後は、溶媒の除去のために乾燥させてもよい。
The coating method can be the same as the primer layer forming method.
After application of the curable resin composition for the high refractive index layer, it may be dried to remove the solvent.

硬化方法としては、樹脂成分の種類に応じて異なるが、例えば熱あるいは紫外線や電子線等の電離放射線の照射が挙げられる。塗膜を硬化させる際には、酸素による硬化阻害を抑制するために、不活性ガス雰囲気、例えば窒素ガス雰囲気とすることが好ましい。また、硬化条件としては、例えば特開2013−142817号公報、特開2012−150226号公報等に記載されている条件を適用することができる。   The curing method varies depending on the type of the resin component, and examples thereof include irradiation with ionizing radiation such as heat or ultraviolet rays or electron beams. When the coating film is cured, an inert gas atmosphere, for example, a nitrogen gas atmosphere is preferably used in order to suppress the inhibition of curing by oxygen. Moreover, as curing conditions, for example, conditions described in JP2013-142817A, JP2012-150226A, and the like can be applied.

本発明においては、プライマー層形成工程および高屈折率層形成工程では、プライマー層用硬化性樹脂組成物の塗膜上に高屈折率層用硬化性樹脂組成物を塗布した後、プライマー層用硬化性樹脂組成物の塗膜および高屈折率層用硬化性樹脂組成物の塗膜を硬化させてもよい。すなわち、プライマー層用硬化性樹脂組成物の塗膜が未硬化または半硬化の状態で高屈折率層用硬化性樹脂組成物を塗布してもよい。この場合、密着性が良好なプライマー層および高屈折率層を得ることができる。
このような場合において、プライマー層の屈折率は、高屈折率層の屈折率との差が小さいことが好ましく、例えば高屈折率層の屈折率との差が0.03以内であることが好ましい。
In the present invention, in the primer layer forming step and the high refractive index layer forming step, the primer layer curable resin composition is applied onto the coating film of the primer layer curable resin composition, and then the primer layer curing is performed. The coating film of the curable resin composition and the coating film of the curable resin composition for the high refractive index layer may be cured. That is, the high refractive index layer curable resin composition may be applied in a state where the coating film of the primer layer curable resin composition is uncured or semi-cured. In this case, a primer layer and a high refractive index layer with good adhesion can be obtained.
In such a case, the difference in the refractive index of the primer layer from the refractive index of the high refractive index layer is preferably small, for example, the difference from the refractive index of the high refractive index layer is preferably within 0.03. .

なお、高屈折率層のその他の点については、上記「A.表示装置用前面板」に詳しく記載したので、ここでの説明は省略する。   Since the other points of the high refractive index layer are described in detail in the above “A. Display device front plate”, description thereof is omitted here.

3.低屈折率層形成工程
本発明においては、上記高屈折率層上に低屈折率層用硬化性樹脂組成物を塗布し、硬化させて、上記高屈折率層よりも屈折率が低い低屈折率層を形成する低屈折率層形成工程を行う。
3. Low refractive index layer forming step In the present invention, a low refractive index having a refractive index lower than that of the high refractive index layer is obtained by applying and curing the curable resin composition for the low refractive index layer on the high refractive index layer. A low refractive index layer forming step of forming a layer is performed.

低屈折率層用硬化性樹脂組成物は、例えば樹脂成分と屈折率調整微粒子と各種添加剤と溶媒とを含有するものである。溶媒としては、各成分を溶解もしくは分散させることが可能であれば特に限定されるものではなく、例えば特開2013−142817号公報、特開2012−150226号公報、特開2011−170208号公報、特開2009−86360号公報、特開2008−9347号公報等に記載されている低屈折率層の形成に用いられるものを挙げることができる。   The low refractive index layer curable resin composition contains, for example, a resin component, refractive index adjusting fine particles, various additives, and a solvent. The solvent is not particularly limited as long as each component can be dissolved or dispersed. For example, JP 2013-142817 A, JP 2012-150226 A, JP 2011-170208 A, Examples thereof include those used for forming a low refractive index layer described in JP-A-2009-86360, JP-A-2008-9347, and the like.

低屈折率層の形成方法は、高屈折率層の形成方法と同様とすることができる。
なお、低屈折率層のその他の点については、上記「A.表示装置用前面板」に詳しく記載したので、ここでの説明は省略する。
The method for forming the low refractive index layer can be the same as the method for forming the high refractive index layer.
The other points of the low refractive index layer are described in detail in the above “A. Front plate for display device”, and thus the description thereof is omitted here.

4.保護層形成工程
本発明においては、上記低屈折率層上に保護層用硬化性樹脂組成物を塗布し、硬化させて保護層を形成する保護層形成工程を行ってもよい。
塗布方法としては、プライマー層の形成方法と同様とすることができる。
保護層用硬化性樹脂組成物の塗布後は、溶媒の除去のために乾燥させてもよい。
硬化方法としては、熱または紫外線や電子線等の電離放射線の照射が挙げられる。
4). Protective layer formation process In this invention, you may perform the protective layer formation process which apply | coats and hardens the curable resin composition for protective layers on the said low refractive index layer, and forms it.
The coating method can be the same as the primer layer forming method.
After application of the curable resin composition for the protective layer, it may be dried to remove the solvent.
Examples of the curing method include irradiation with heat, ionizing radiation such as ultraviolet rays and electron beams.

なお、保護層のその他の点については、上記「A.表示装置用前面板」に詳しく記載したので、ここでの説明は省略する。   In addition, since the other points of the protective layer were described in detail in the above-mentioned “A. Front plate for display device”, description thereof is omitted here.

本発明は、上記実施形態に限定されるものではない。上記実施形態は例示であり、本発明の特許請求の範囲に記載された技術的思想と実質的に同一な構成を有し、同様な作用効果を奏するものは、いかなるものであっても本発明の技術的範囲に包含される。   The present invention is not limited to the above embodiment. The above-described embodiment is an exemplification, and the present invention has any configuration that has substantially the same configuration as the technical idea described in the claims of the present invention and that exhibits the same effects. Are included in the technical scope.

以下、実施例を挙げて本発明を具体的に説明する。
(準備)
下記の材料を用いて表示装置用前面板を作製した。
強化ガラス基板:Dragontrail(旭硝子社製) 大きさ100mm×100mm 厚み0.7mm
低屈折率層材 :TU2205(JSR社製、n=1.35)
高屈折率層材 :KZ6719(JSR社製、n=1.65)
KZ6661(JSR社製、n=1.60)
プライマー層材:Z7503(JSR社製、n=1.51)
保護層材 :TU2359(JSR社製、n=1.37)
Hereinafter, the present invention will be specifically described with reference to examples.
(Preparation)
A front plate for a display device was produced using the following materials.
Tempered glass substrate: Dragontrail (Asahi Glass Co., Ltd.) Size 100mm x 100mm Thickness 0.7mm
Low refractive index layer material: TU2205 (manufactured by JSR, n = 1.35)
High refractive index layer material: KZ6719 (manufactured by JSR, n = 1.65)
KZ6661 (manufactured by JSR, n = 1.60)
Primer layer material: Z7503 (manufactured by JSR, n = 1.51)
Protective layer material: TU2359 (manufactured by JSR, n = 1.37)

[実施例1]
まず、プライマー層用硬化性樹脂組成物としてJSR社製のZ7503を用い、強化ガラス基板上にプライマー層用硬化性樹脂組成物を所定の膜厚になるようにスピンコーティングし、N雰囲気下、露光照度30mWの高圧水銀ランプを用いて30秒間露光し、230℃で20分間乾燥して、プライマー層を形成した。次いで、高屈折率層用硬化性樹脂組成物としてJSR社製のKZ6661を用い、プライマー層の形成と同様の工程で、プライマー層上に高屈折率層を形成した。次に、低屈折率層用硬化性樹脂組成物としてJSR社製のTU2205を用い、プライマー層の形成と同様の工程で、高屈折率層上に低屈折率層を形成した。これにより表示装置用前面板を得た。
[Example 1]
First, using Z7503 made by JSR as the curable resin composition for the primer layer, spin-coating the curable resin composition for the primer layer to a predetermined film thickness on a tempered glass substrate, under an N 2 atmosphere, The primer layer was formed by exposing for 30 seconds using a high-pressure mercury lamp having an exposure illuminance of 30 mW and drying at 230 ° C. for 20 minutes. Subsequently, KZ6661 made by JSR was used as the curable resin composition for the high refractive index layer, and a high refractive index layer was formed on the primer layer in the same process as the formation of the primer layer. Next, TU2205 manufactured by JSR was used as the curable resin composition for the low refractive index layer, and a low refractive index layer was formed on the high refractive index layer in the same process as the formation of the primer layer. Thereby, a front plate for a display device was obtained.

[実施例2]
プライマー層の膜厚を変更したこと以外は実施例1と同様に表示装置用前面板を作製した。
[Example 2]
A display device front plate was produced in the same manner as in Example 1 except that the thickness of the primer layer was changed.

[実施例3]
プライマー層の膜厚を変更したこと以外は実施例1と同様に表示装置用前面板を作製した。
[Example 3]
A display device front plate was produced in the same manner as in Example 1 except that the thickness of the primer layer was changed.

[実施例4]
高屈折率層用硬化性樹脂組成物としてJSR社製のKZ6719を用い、高屈折率層の膜厚を変更したこと以外は実施例1と同様にして表示装置用前面板を作製した。
[Example 4]
A front plate for a display device was produced in the same manner as in Example 1 except that KZ6719 manufactured by JSR was used as the curable resin composition for the high refractive index layer, and the film thickness of the high refractive index layer was changed.

[実施例5]
高屈折率層および低屈折率層の膜厚を調整したこと以外は実施例1と同様にして低屈折率層まで形成した。次に、保護層用硬化性樹脂組成物としてJSR社製のTU2359を用い、プライマー層の形成と同様の工程で、低屈折率層上に保護層を形成した。これにより表示装置用前面板を得た。
[Example 5]
A low refractive index layer was formed in the same manner as in Example 1 except that the film thicknesses of the high refractive index layer and the low refractive index layer were adjusted. Next, using TU2359 made by JSR as the curable resin composition for the protective layer, a protective layer was formed on the low refractive index layer in the same process as the formation of the primer layer. Thereby, a front plate for a display device was obtained.

[実施例6]
高屈折率層、低屈折率層および保護層の膜厚を変更したこと以外は実施例5と同様にして表示装置用前面板を作製した。
[Example 6]
A display device front plate was produced in the same manner as in Example 5 except that the thicknesses of the high refractive index layer, low refractive index layer and protective layer were changed.

[比較例1]
プライマー層を形成せず、高屈折率層および低屈折率層の膜厚を調整したこと以外は実施例1と同様にして表示装置用前面板を作製した。
[Comparative Example 1]
A front plate for a display device was produced in the same manner as in Example 1 except that the primer layer was not formed and the film thicknesses of the high refractive index layer and the low refractive index layer were adjusted.

[評価]
(密着性)
表示装置用前面板について、JIS K5600に準拠するクロスカット法により、強化ガラス基板に対する高屈折率層の密着性を評価した。
A:剥がれ面積 5%未満
B:剥がれ面積 5%以上35%未満
C:剥がれ面積 35%以上
[Evaluation]
(Adhesion)
About the front plate for display apparatuses, the adhesiveness of the high refractive index layer with respect to a tempered glass board | substrate was evaluated by the crosscut method based on JISK5600.
A: Peeling area less than 5% B: Peeling area 5% or more and less than 35% C: Peeling area 35% or more

(反射見栄え)
表示装置用前面板の強化ガラス基板側の面に黒テープを添付して、日本分光株式会社製の絶対反射率測定装置VAR−7010にて反射率を測定した。光源はD65にて評価を行った。
A:反射率 0.5%未満
B:反射率 0.5%以上1.0%未満
C:反射率 1.0%以上
(Looks great)
Black tape was attached to the surface of the front plate for display device on the side of the tempered glass substrate, and the reflectance was measured with an absolute reflectance measuring device VAR-7010 manufactured by JASCO Corporation. The light source was evaluated at D65.
A: Reflectance less than 0.5% B: Reflectance 0.5% or more and less than 1.0% C: Reflectance 1.0% or more

(鉛筆硬度)
表示装置用前面板について、JIS5600−5−4に準拠する鉛筆硬度試験を行い、表示装置用前面板の表面の硬度を測定した。
A:3H以上
B:H以上3H未満
C:H未満
(Pencil hardness)
About the front plate for display devices, the pencil hardness test based on JIS5600-5-4 was done, and the hardness of the surface of the front plate for display devices was measured.
A: 3H or more B: H or more and less than 3H C: Less than H

Figure 0006337454
Figure 0006337454

1 … 表示装置用前面板
2 … 強化ガラス基板
3 … プライマー層
4 … 高屈折率層
5 … 低屈折率層
6 … 保護層
DESCRIPTION OF SYMBOLS 1 ... Front plate for display apparatuses 2 ... Tempered glass substrate 3 ... Primer layer 4 ... High refractive index layer 5 ... Low refractive index layer 6 ... Protective layer

Claims (4)

強化ガラス基板と、
前記強化ガラス基板上に直に形成された紫外線硬化樹脂であるプライマー層と、
前記プライマー層上に直に形成され、紫外線硬化樹脂である第1バインダー樹脂および中実粒子である金属酸化物微粒子を含有する高屈折率層と、
前記高屈折率層上に形成され、第2バインダー樹脂および屈折率調整微粒子を含有し、前記高屈折率層よりも屈折率が低い低屈折率層と、
前記低屈折率層上に形成された保護層と、
を有し、
前記プライマー層の厚みが、0.5μm〜3.5μmの範囲内であり、
前記保護層の厚みが、前記低屈折率層の厚みの1/2以下であり、
前記高屈折率層の膜厚が、50nm〜200nmの範囲内であることを特徴とする表示装置用前面板。
A tempered glass substrate;
A primer layer which is an ultraviolet curable resin directly formed on the tempered glass substrate;
A high refractive index layer formed directly on the primer layer and containing a first binder resin that is an ultraviolet curable resin and metal oxide fine particles that are solid particles ;
A low refractive index layer formed on the high refractive index layer, containing a second binder resin and refractive index adjusting fine particles, and having a lower refractive index than the high refractive index layer;
A protective layer formed on the low refractive index layer;
Have
The primer layer has a thickness in the range of 0.5 μm to 3.5 μm,
The thickness of the protective layer is state, and are less than half of the thickness of the low refractive index layer,
The high thickness of the refractive index layer, front plate for a display device according to claim der Rukoto the range of 50 nm to 200 nm.
前記プライマー層が、前記高屈折率層側の面に凹凸を有することを特徴とする請求項1に記載の表示装置用前面板。 The display device front plate according to claim 1, wherein the primer layer has irregularities on a surface on the high refractive index layer side. 強化ガラス基板上に直にプライマー層用紫外線硬化性樹脂組成物を塗布し、紫外線を照射して硬化させてプライマー層を形成するプライマー層形成工程と、
前記プライマー層上に直に高屈折率層用紫外線硬化性樹脂組成物を塗布し、紫外線を照射して硬化させて高屈折率層を形成する高屈折率層形成工程と、
前記高屈折率層上に低屈折率層用硬化性樹脂組成物を塗布し、硬化させて、前記高屈折率層よりも屈折率が低い低屈折率層を形成する低屈折率層形成工程と、
前記低屈折率層上に保護層用硬化性樹脂組成物を塗布し、硬化させて保護層を形成する保護層形成工程と、
を有し、
前記プライマー層の厚みが、0.5μm〜3.5μmの範囲内であり、
前記保護層の厚みが、前記低屈折率層の厚みの1/2以下であり、
前記高屈折率層の膜厚が、50nm〜200nmの範囲内であり、
前記高屈折率層用紫外線硬化性樹脂組成物が紫外線硬化樹脂である第1バインダー樹脂および中実粒子である金属酸化物微粒子を含有することを特徴とする表示装置用前面板の製造方法。
A primer layer forming step of directly applying an ultraviolet curable resin composition for a primer layer on a tempered glass substrate, and irradiating and curing the ultraviolet ray to form a primer layer;
A high refractive index layer forming step of directly applying an ultraviolet curable resin composition for a high refractive index layer on the primer layer and irradiating and curing the ultraviolet ray to form a high refractive index layer;
A low refractive index layer forming step of forming a low refractive index layer having a refractive index lower than that of the high refractive index layer by applying and curing a curable resin composition for the low refractive index layer on the high refractive index layer; ,
A protective layer forming step of applying a curable resin composition for a protective layer on the low refractive index layer and curing to form a protective layer;
Have
The primer layer has a thickness in the range of 0.5 μm to 3.5 μm,
The thickness of the protective layer is state, and are less than half of the thickness of the low refractive index layer,
The film thickness of the high refractive index layer is in the range of 50 nm to 200 nm,
Method for manufacturing a display device for a front plate, characterized that you containing metal oxide fine particles wherein the high refractive index layer for an ultraviolet curable resin composition is a first binder resin and solid particles is an ultraviolet curable resin.
前記プライマー層形成工程および前記高屈折率層形成工程では、前記プライマー層用紫外線硬化性樹脂組成物の塗膜上に前記高屈折率層用紫外線硬化性樹脂組成物を塗布した後、前記プライマー層用紫外線硬化性樹脂組成物の塗膜および前記高屈折率層用紫外線硬化性樹脂組成物の塗膜を紫外線を照射して硬化させることを特徴とする請求項3に記載の表示装置用前面板の製造方法。 Wherein the primer layer forming step and the high refractive index layer forming step, after applying the high refractive index layer for an ultraviolet curable resin composition on the coated film of the primer layer for the ultraviolet curable resin composition, wherein the primer layer front panel for a display device according to claim 3, the coating film and the coating film of the high refractive index layer for an ultraviolet curable resin composition of the use ultraviolet curable resin composition characterized in that it is cured by irradiation with ultraviolet light Manufacturing method.
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