JP6271324B2 - IMPRINT DEVICE, IMPRINT METHOD, SOLAR CELL MANUFACTURING METHOD, AND ORGANIC EL DEVICE MANUFACTURING METHOD - Google Patents

IMPRINT DEVICE, IMPRINT METHOD, SOLAR CELL MANUFACTURING METHOD, AND ORGANIC EL DEVICE MANUFACTURING METHOD Download PDF

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Description

本発明は、インプリント装置及びインプリント方法に関するものである。本発明のインプリント装置及びインプリント方法は、特に太陽電池や有機EL装置のガラス基板にテクスチャを形成させる方法に適している。
また本発明は、太陽電池の製造方法及び有機EL装置の製造方法に関するものである。
The present invention relates to an imprint apparatus and an imprint method. The imprint apparatus and imprint method of the present invention are particularly suitable for a method of forming a texture on a glass substrate of a solar cell or an organic EL device.
The present invention also relates to a method for manufacturing a solar cell and a method for manufacturing an organic EL device.
太陽電池の発電効率を向上させる方策として、テクスチャと称される微細な凹凸を形成させる技術が特許文献1に開示されている。
例えばテクスチャは、ピラミッド状のものである。ガラス基板にテクスチャを設けると、太陽電池に入射した太陽光がピラミッド状のテクスチャで多重反射し、光路長(光学的距離)が増し、発電効率が向上する。
As a measure for improving the power generation efficiency of a solar cell, Patent Document 1 discloses a technique for forming fine irregularities called textures.
For example, the texture is pyramidal. When a texture is provided on the glass substrate, sunlight incident on the solar cell is multiple-reflected with a pyramidal texture, the optical path length (optical distance) is increased, and power generation efficiency is improved.
またインプリント技術を応用し、光硬化性樹脂を使用してガラス基板にテクスチャを形成する技術が特許文献2に開示されている。   Further, Patent Document 2 discloses a technique for applying a imprint technique and forming a texture on a glass substrate using a photocurable resin.
特開2010−192658号公報JP 2010-192658 A W0 2009/157447 A1 号公報W0 2009/157447 A1
本発明者らは独自の研究により、インプリント技術を応用し、光硬化性樹脂を使用してガラス基板にテクスチャを形成させた。
図16(a)は、本発明者らが試作に使用したインプリント装置100を概念的に示した斜視図である。本発明者らが使用したインプリント装置100は、載置台101と押圧ローラ102を有するものである。そしてモールド103に予め離型剤処理を施した後、載置台101にモールド103を載置した。さらにその後、モールド103上に光硬化性樹脂121を塗布した。なお離型剤処理は、載置台101にモールド103を載置した状態で行ってもよい。
ここでモールド103には、ピラミット状の微小なテキスチャパターンが形成されている。そして光硬化性樹脂121を塗布した状態のモールド103上に透光性を有するガラス基板105を載置し、押圧ローラ102をガラス基板105に押し当ててガラス基板105をモールド103に圧接した。また同時にガラス基板105の上から紫外線を照射し、光硬化性樹脂121を硬化させた。
その後、ガラス基板105をモールド103から離型した。その結果、モールド103に塗布して硬化した光硬化性樹脂121がガラス基板105側に移り、モールド103に形成されていたテキスチャパターンが、ガラス基板105に形成された。
The inventors of the present invention applied imprint technology and made a texture on a glass substrate by using a photo-curable resin by original research.
FIG. 16A is a perspective view conceptually showing the imprint apparatus 100 used for the trial production by the inventors. The imprint apparatus 100 used by the present inventors has a mounting table 101 and a pressing roller 102. And after performing mold release agent processing to the mold 103 in advance, the mold 103 was mounted on the mounting table 101. Thereafter, a photocurable resin 121 was applied on the mold 103. Note that the release agent treatment may be performed in a state where the mold 103 is mounted on the mounting table 101.
Here, the mold 103 is formed with a fine texture pattern in a pyramid shape. Then, a glass substrate 105 having translucency was placed on the mold 103 with the photocurable resin 121 applied thereto, and the pressure roller 102 was pressed against the glass substrate 105 to press the glass substrate 105 against the mold 103. At the same time, ultraviolet rays were irradiated from above the glass substrate 105 to cure the photocurable resin 121.
Thereafter, the glass substrate 105 was released from the mold 103. As a result, the photocurable resin 121 applied and cured on the mold 103 moved to the glass substrate 105 side, and the texture pattern formed on the mold 103 was formed on the glass substrate 105.
即ち前記した様にモールド103には予め離型剤処理が施されている。そのためモールド103との間に硬化した光硬化性樹脂121を挟んだ状態で、ガラス基板105をモールド103から離型すると、モールド103と光硬化性樹脂121との界面で分離が起こる。その結果、硬化した光硬化性樹脂121がガラス基板105側に付着し、ガラス基板105の表面に樹脂膜が形成される。また樹脂膜には、モールド103に形成されていたテキスチャパターンが転写されているので、ガラス基板105の表面に、樹脂層によるテキスチャパターンが形成される。   That is, as described above, the mold 103 is preliminarily treated with a release agent. Therefore, when the glass substrate 105 is released from the mold 103 with the cured photocurable resin 121 sandwiched between the mold 103, separation occurs at the interface between the mold 103 and the photocurable resin 121. As a result, the cured photocurable resin 121 adheres to the glass substrate 105 side, and a resin film is formed on the surface of the glass substrate 105. Further, since the texture pattern formed on the mold 103 is transferred to the resin film, a texture pattern made of the resin layer is formed on the surface of the glass substrate 105.
図17(a)は、本発明者らが試作したガラス基板を概念的に示した斜視図である。
図17(a)の様に、試作されたガラス基板(テキスチャ付き)110は、辺部111を除いてテキスチャが形成されている。
ところがテキスチャ形成後、一定時間が経過すると、図17(c)の様に、テキスチャ形成領域120の辺部に染み112が現れ、これが時間の経過と共に拡大していった。
FIG. 17A is a perspective view conceptually showing a glass substrate prototyped by the present inventors.
As shown in FIG. 17A, the prototype glass substrate (with texture) 110 is formed with a texture excluding the side portion 111.
However, when a certain period of time has elapsed after the formation of the texture, as shown in FIG. 17C, a stain 112 appears on the side of the texture formation region 120, and this has increased with the passage of time.
この原因を追求したところ、離型直後のガラス基板110は、図17(b)の様にテキスチャ形成領域120の辺部に未硬化の樹脂113が残存しており、この樹脂が染み112を作ってしまうのであった。   In pursuit of this cause, the uncured resin 113 remains on the side of the texture forming region 120 in the glass substrate 110 immediately after mold release, as shown in FIG. It was.
またテキスチャ形成領域120の辺部に未硬化の樹脂113ができる原因は、図16(c)の様にモールド103の辺部115と、ガラス基板105の間から光硬化性樹脂121の一部が押し出され、この押し出された光硬化性樹脂117の表面が未硬化のまま残ってしまうのであった。
即ち、光硬化性樹脂121は、一般に酸素阻害性を有しており、酸素が存在する雰囲気では紫外線を照射しても硬化しにくいという性質を持っている。より厳密に説明すると、光硬化性樹脂121の内部は空気と触れていないので硬化するものの、表面側は空気(厳密には空気中の酸素)と接しているので未硬化のまま残る。そのためモールド103とガラス基板105の間から押し出された光硬化性樹脂117は、内部だけが硬化し、表面層は液状のままで硬化しにくい。
Further, the reason why the uncured resin 113 is formed on the side portion of the texture forming region 120 is that a part of the photocurable resin 121 is formed between the side portion 115 of the mold 103 and the glass substrate 105 as shown in FIG. Extruded and the surface of the extruded photocurable resin 117 remains uncured.
That is, the photo-curable resin 121 generally has an oxygen inhibition property and has a property that it is difficult to cure even in the presence of oxygen even when irradiated with ultraviolet rays. More precisely, the inside of the photo-curable resin 121 is cured because it is not in contact with air, but the surface side is in contact with air (strictly, oxygen in the air) and remains uncured. Therefore, only the inside of the photocurable resin 117 extruded from between the mold 103 and the glass substrate 105 is cured, and the surface layer remains in a liquid state and is difficult to cure.
ガラス基板105と、モールド103に挟まれ、押圧ローラ102で押圧される領域(テキスチャ形成領域120)は、図16(b)の様にガラス基板105と、モールド103との間に実質的に隙間がなく、その間に挟まれた光硬化性樹脂121は、酸素と接しない。そのためガラス基板105とモールド103に挟まれた光硬化性樹脂121は酸素が無い雰囲気下で紫外線の照射を受け、硬化する。
しかしなから、図16(c)の様にガラス基板105と、モールド103との間から押し出された光硬化性樹脂117の表面は、空気が存在する空間にあって酸素と接し、紫外線の照射を受けても硬化しにくい。
そのためモールド103とガラス基板105との間から押し出された樹脂117の表面が液状のままで残り、それが時間の経過と共にテキスチャ形成領域120に染み112を作ってしまうのであった。
A region (texture forming region 120) sandwiched between the glass substrate 105 and the mold 103 and pressed by the pressure roller 102 is substantially a gap between the glass substrate 105 and the mold 103 as shown in FIG. The photocurable resin 121 sandwiched between them does not come into contact with oxygen. Therefore, the photocurable resin 121 sandwiched between the glass substrate 105 and the mold 103 is cured by being irradiated with ultraviolet rays in an oxygen-free atmosphere.
However, as shown in FIG. 16C, the surface of the photocurable resin 117 extruded from between the glass substrate 105 and the mold 103 is in a space where air exists and is in contact with oxygen, and is irradiated with ultraviolet rays. Hard to harden even after receiving.
For this reason, the surface of the resin 117 extruded from between the mold 103 and the glass substrate 105 remains in a liquid state, which causes a stain 112 in the texture forming region 120 over time.
インプリント装置100を真空室に設置してインプリント作業を実施したり、作業空間全体を窒素雰囲気とすれば、染み112の発生を防止することができると考えられるが、この方策は装置が大きくなるために実用的ではない。即ち近年の太陽電池パネルは、一辺が1mを越えるものも珍しくなく、この様な大型のガラス基板を収容する真空室等を製作することは容易ではない。   If the imprint apparatus 100 is installed in a vacuum chamber and imprint work is performed, or if the entire work space is made a nitrogen atmosphere, it is considered that the stain 112 can be prevented from occurring. Not practical to be. That is, it is not uncommon for recent solar cell panels to have a side exceeding 1 m, and it is not easy to manufacture a vacuum chamber or the like for accommodating such a large glass substrate.
そこで本発明は、従来技術の上記した問題点に注目し、簡易な構造であって、光硬化性樹脂の未硬化液の発生を防止することができるインプリント装置を開発することを課題とするものである。
また同様の目的を達成することができるインプリント方法を開発することを課題とするものである。
Accordingly, the present invention focuses on the above-described problems of the prior art, and an object thereof is to develop an imprint apparatus that has a simple structure and can prevent generation of an uncured liquid of a photocurable resin. Is.
Another object of the present invention is to develop an imprint method that can achieve the same object.
上記した課題を解決するための請求項1に記載の発明は、押圧手段と発光手段とを有し、モールドと基板との間に光硬化性樹脂を挟んだ状態で押圧手段によってモールドと基板とを圧接し、発光手段によって光硬化性樹脂に光を照射して光硬化性樹脂を硬化させ、モールド表面の形状を基板に転写するインプリント装置において、基板又はモールドの辺部近傍だけを局所的に不活性ガス雰囲気にする局部不活性ガス雰囲気手段を有することを特徴とするインプリント装置である。   The invention according to claim 1 for solving the above-described problem has a pressing means and a light emitting means, and the mold and the substrate are pressed by the pressing means in a state where a photocurable resin is sandwiched between the mold and the substrate. In an imprint apparatus that irradiates the photocurable resin with light emitting means to cure the photocurable resin by curing the photocurable resin and transfers the shape of the mold surface to the substrate, only the vicinity of the substrate or the side of the mold is locally applied. An imprinting apparatus comprising a local inert gas atmosphere means for providing an inert gas atmosphere.
本発明のインプリント装置では、光硬化性樹脂が押し出されるであろう領域を不活性ガス雰囲気にすることができる。そのため押し出された光硬化性樹脂についても硬化し、染みにならない。   In the imprint apparatus of this invention, the area | region where photocurable resin will be extruded can be made into inert gas atmosphere. Therefore, the extruded photo-curing resin is cured and does not become a stain.
請求項2に記載の発明は、モールドと基板との間に光硬化性樹脂を挟んだ状態の合致体を載置する載置台を有し、前記載置台と一体であって基板又はモールドの辺部近傍に相当する位置に空間形成部が設けられ、当該空間形成部に不活性ガスが導入されて基板又はモールドの辺部近傍だけが局所的に不活性ガス雰囲気にされることを特徴とする請求項1に記載のインプリント装置である。   The invention according to claim 2 has a mounting table for mounting a matching body in a state in which a photocurable resin is sandwiched between the mold and the substrate, and is integrated with the mounting table, and the side of the substrate or the mold A space forming part is provided at a position corresponding to the vicinity of the part, and an inert gas is introduced into the space forming part so that only the vicinity of the side of the substrate or the mold is locally in an inert gas atmosphere. An imprint apparatus according to claim 1.
本発明のインプリント装置では、載置台と空間形成部とが一体である。そのため載置台を移動しても空間形成部と合致体との相対位置は変化せず、基板又はモールドの辺部近傍を不活性ガス雰囲気に保つことができる。   In the imprint apparatus of the present invention, the mounting table and the space forming unit are integrated. Therefore, even if the mounting table is moved, the relative position between the space forming portion and the matching body does not change, and the vicinity of the side of the substrate or mold can be maintained in an inert gas atmosphere.
請求項3に記載の発明は、空間形成部は上部が開口する溝であり、空間形成部に基板又はモールドの一部が載せられて前記開口が蓋され、基板又はモールドの一部と空間形成部とによって略閉塞された空間が形成されることを特徴とする請求項2に記載のインプリント装置である。   According to a third aspect of the present invention, the space forming part is a groove having an upper opening, and a part of the substrate or the mold is placed on the space forming part and the opening is covered to form a space with the part of the substrate or the mold. The imprint apparatus according to claim 2, wherein a space substantially closed by the portion is formed.
本発明では、基板又はモールドの一部と空間形成部とによって略閉塞された空間が形成され、この中に不活性ガスが導入することによって基板又はモールドの辺部近傍を不活性ガス雰囲気に保つ。   In the present invention, a substantially closed space is formed by a part of the substrate or mold and the space forming portion, and an inert gas is introduced into the space to keep the vicinity of the side of the substrate or mold in an inert gas atmosphere. .
請求項4に記載の発明は、空間形成部は合致体の辺部を覆うカバーであり、基板又はモールドの一部と空間形成部とによって略閉塞された空間が形成されることを特徴とする請求項2に記載のインプリント装置である。   According to a fourth aspect of the present invention, the space forming portion is a cover that covers the side portion of the matching body, and a substantially closed space is formed by a part of the substrate or the mold and the space forming portion. An imprint apparatus according to claim 2.
本発明では、空間形成部は合致体の辺部を覆うカバーであり、基板又はモールドの一部と空間形成部とによって略閉塞された空間が形成され、この中に不活性ガスが導入することによって基板又はモールドの辺部近傍を不活性ガス雰囲気に保つ。   In the present invention, the space forming portion is a cover that covers the side portion of the matching body, and a substantially closed space is formed by a part of the substrate or the mold and the space forming portion, and an inert gas is introduced therein. Thus, the vicinity of the side of the substrate or mold is maintained in an inert gas atmosphere.
請求項5に記載の発明は、合致体を載置した状態で載置台を直線的に移動させる載置台移動手段を有し、押圧手段はロールであって押圧手段と載置台の間に合致体を挟み込み、載置台移動手段で載置台を移動させて押圧位置を順次移動させることを特徴とする請求項2乃至4のいずれかに記載のインプリント装置である。   The invention according to claim 5 has mounting table moving means for linearly moving the mounting table in a state where the matching body is mounted, and the pressing means is a roll, and the matching body is between the pressing means and the mounting table. 5. The imprint apparatus according to claim 2, wherein the pressing position is sequentially moved by moving the mounting table by the mounting table moving means.
本発明のインプリント装置は、構造が簡単である。   The imprint apparatus of the present invention has a simple structure.
請求項6に記載の発明は、モールドと基板との間に光硬化性樹脂を挟んだ状態で押圧手段によってモールドと基板とを圧接し、光硬化性樹脂に光を照射して光硬化性樹脂を硬化させ、モールド表面の形状を基板に転写するインプリント方法において、基板又はモールドの辺部近傍だけを局所的に不活性ガス雰囲気にした状態で光硬化性樹脂に光を照射して光硬化性樹脂を硬化させることを特徴とするインプリント方法である。   The invention according to claim 6 is a photocurable resin in which a mold and a substrate are pressed against each other by pressing means in a state where the photocurable resin is sandwiched between the mold and the substrate, and light is irradiated to the photocurable resin. In the imprint method in which the shape of the mold surface is transferred to the substrate, the photo-curing resin is irradiated with light in a state where only the vicinity of the substrate or the side of the mold is in an inert gas atmosphere. It is an imprint method characterized by curing a functional resin.
本発明のインプリント方法では、光硬化性樹脂が押し出されるであろう領域を不活性ガス雰囲気にすることができる。そのため押し出された光硬化性樹脂についても硬化し、染みにならない。   In the imprinting method of the present invention, the region where the photocurable resin will be extruded can be made an inert gas atmosphere. Therefore, the extruded photo-curing resin is cured and does not become a stain.
請求項7に記載の発明は、少なくとも一方の面に微細なテクスチャが形成された透明基板と、光電変換部とを有する太陽電池を製造する太陽電池の製造方法において、微細なテクスチャが形成されたモールドと透明基板を使用し、請求項6に記載の方法によって前記透明基板の表面にテクスチャ形状を形成させる工程を含むことを特徴とする太陽電池の製造方法である。   According to a seventh aspect of the present invention, a fine texture is formed in a method for producing a solar cell comprising a transparent substrate having a fine texture formed on at least one surface and a photoelectric conversion part. It is a manufacturing method of the solar cell characterized by including the process of forming a texture shape in the surface of the said transparent substrate by the method of Claim 6 using a mold and a transparent substrate.
本発明によって作られた太陽電池は、辺部に染みが生じず、発電効率が高い。   The solar cell made according to the present invention does not stain on the side and has high power generation efficiency.
請求項8に記載の発明は、少なくとも一方の面に微細なテクスチャが形成された透明基板と、有機EL発光部とを有する有機EL装置を製造する有機EL装置の製造方法において、微細なテクスチャが形成されたモールドと透明基板を使用し、請求項6に記載の方法によって前記透明基板の表面にテクスチャ形状を形成させる工程を含む有機EL装置の製造方法である。   The invention according to claim 8 is an organic EL device manufacturing method for manufacturing an organic EL device having a transparent substrate having a fine texture formed on at least one surface and an organic EL light emitting unit. It is a manufacturing method of the organic EL apparatus including the process of forming a texture shape on the surface of the said transparent substrate by the method of Claim 6 using the formed mold and a transparent substrate.
本発明によって作られた有機EL装置は、辺部に染みが生じず、発光効率が高い。   The organic EL device made according to the present invention does not stain on the side and has high luminous efficiency.
本発明のインプリント装置及びインプリント方法によると、基板に染みが生じず、性能の高いインプリント基板を製造することができる。   According to the imprint apparatus and the imprint method of the present invention, a stain does not occur on the substrate, and an imprint substrate with high performance can be manufactured.
本発明の実施形態のインプリント装置の斜視図である。It is a perspective view of the imprint apparatus of embodiment of this invention. 図1のインプリント装置の載置台と、モールド及びガラス基板の斜視図である。It is a perspective view of the mounting base of the imprint apparatus of FIG. 1, a mold, and a glass substrate. 図1のインプリント装置の載置台の拡大断面図である。It is an expanded sectional view of the mounting base of the imprint apparatus of FIG. (a)から(d)は、図1のインプリント装置を使用してガラス基板にインプリントを行う際の工程を示す説明図であって、樹脂液塗布ステージで実行させる工程を示す。(A)-(d) is explanatory drawing which shows the process at the time of imprinting on a glass substrate using the imprint apparatus of FIG. 1, Comprising: The process performed by a resin liquid application | coating stage is shown. (a)から(e)は、図1のインプリント装置を使用してガラス基板にインプリントを行う際の工程を示す説明図であって、押圧ステージで実行させる工程を示す。(A)-(e) is explanatory drawing which shows the process at the time of imprinting on a glass substrate using the imprint apparatus of FIG. 1, Comprising: The process performed with a press stage is shown. 太陽電池パネルの断面図である。It is sectional drawing of a solar cell panel. 有機ELパネルの断面図である。It is sectional drawing of an organic electroluminescent panel. 他の実施形態の載置台の拡大断面図である。It is an expanded sectional view of the mounting base of other embodiments. さらに他の実施形態の載置台の拡大断面図である。It is an expanded sectional view of the mounting base of other embodiments. さらに他の実施形態の載置台の拡大断面図である。It is an expanded sectional view of the mounting base of other embodiments. さらに他の実施形態の載置台の拡大断面図である。It is an expanded sectional view of the mounting base of other embodiments. さらに他の実施形態の載置台の拡大断面図である。It is an expanded sectional view of the mounting base of other embodiments. さらに他の実施形態の押圧手段と局部不活性ガス雰囲気手段周辺の斜視図であり、(a)は押圧工程前の状態を示し、(b)は押圧工程中の状態を示す。It is a perspective view of the press means and local inert gas atmosphere means periphery of other embodiment, (a) shows the state before a press process, (b) shows the state in the press process. さらに他の実施形態の載置台及び合致体の辺部の断面斜視図である。Furthermore, it is a cross-sectional perspective view of the side part of the mounting base and matching body of other embodiment. さらに他の実施形態のインプリント装置の斜視図である。It is a perspective view of the imprint apparatus of further another embodiment. (a)は本発明者らがガラス基板を試作するのに使用したインプリント装置を概念的に示した全体斜視図であり、(b)は(a)のA−A断面図であり、(c)は(b)の拡大図である。(A) is the whole perspective view which showed notionally the imprint apparatus which the present inventors used for making a glass substrate prototype, (b) is AA sectional drawing of (a), ( c) is an enlarged view of (b). (a)は本発明者らが試作したガラス基板を概念的に示した斜視図であり、(b)はインプリント作業が終了した直後における円内の拡大図であり、(c)はインプリント作業してからしばらく時間が経過した後における円内の拡大図である。(A) is a perspective view conceptually showing a glass substrate prototyped by the present inventors, (b) is an enlarged view in a circle immediately after the imprint work is completed, and (c) is an imprint. It is an enlarged view in a circle after time has passed since work.
以下さらに本発明の実施形態を図面を参照しつつ説明する。なお各図面、特に断面図は、発明の理解を容易にするために概念的に記載している。そのため各層の厚さや、その比率は、実際のものから大きく外れている場合がある。特に光硬化性樹脂45によって形成される樹脂膜62は、実際にはガラス基板43等に比べて極めて薄いものであるが、発明の理解を容易にするために、実際よりも厚く図示している。
本実施形態のインプリント装置1は、微細な模様を転写することができるものであり、ナノインプリント装置とも称される。
インプリント装置1は、フレーム2上に、樹脂液塗布ステージ5と、押圧ステージ6が設けられ、さらに載置台7と、載置台7を直線方向に移動させる載置台移動装置8を有するものである。
Hereinafter, embodiments of the present invention will be described with reference to the drawings. In addition, each drawing, especially sectional drawing is described notionally in order to make an understanding of invention easy. Therefore, the thickness of each layer and the ratio thereof may deviate greatly from the actual ones. In particular, the resin film 62 formed of the photo-curable resin 45 is actually much thinner than the glass substrate 43 or the like, but is shown thicker than the actual thickness in order to facilitate understanding of the invention. .
The imprint apparatus 1 of the present embodiment can transfer a fine pattern and is also called a nanoimprint apparatus.
The imprint apparatus 1 is provided with a resin liquid application stage 5 and a pressing stage 6 on a frame 2, and further includes a mounting table 7 and a mounting table moving device 8 that moves the mounting table 7 in a linear direction. .
樹脂液塗布ステージ5は、公知の平面移動装置10に樹脂液ノズル11が設置されたものである。
即ち平面移動装置10は、縦方向移動装置13と横方向移動装置15が組み合わされてX−Y方向に樹脂液ノズル11を移動させるものである。
縦方向移動装置13は、インプリント装置1の長手方向に平行に設置された2本の縦方向レール12a,bと、当該縦方向レール12a,bに嵌合する図示しない駒部材によって構成されている。また駒部材は、図示しないモータによって縦方向レール12a,bに沿って直線移動する。
The resin liquid application stage 5 is obtained by installing a resin liquid nozzle 11 on a known plane moving device 10.
That is, the planar moving device 10 is a device in which the vertical direction moving device 13 and the horizontal direction moving device 15 are combined to move the resin liquid nozzle 11 in the XY direction.
The vertical movement device 13 includes two vertical rails 12a and 12b that are installed in parallel to the longitudinal direction of the imprint apparatus 1, and a piece member (not shown) that fits the vertical rails 12a and 12b. Yes. The piece member is linearly moved along the vertical rails 12a and 12b by a motor (not shown).
横方向移動装置15は、ベルト、チェーン、ボールネジ等のいずれかの機械要素を移動部材とし、移動部材17を直線状に移動させることができる装置である。
本実施形態では、縦方向移動装置13の上に横方向移動装置15が接続されている。また横方向移動装置15の移動部材17に樹脂液ノズル11が接続されている。
樹脂液塗布ステージ5は、平面移動装置10の縦方向移動装置13を駆動させることによって樹脂液ノズル11を縦方向に移動させることができる。また平面移動装置10の横方向移動装置15を駆動させることによって樹脂液ノズル11を横方向に移動させることができる。
そのため縦方向移動装置13と横方向移動装置15を独立して移動させ、樹脂液ノズル11を平面的に自由な軌跡を描いて移動させることができる。
The lateral movement device 15 is a device capable of moving the movement member 17 in a straight line by using any mechanical element such as a belt, a chain, or a ball screw as a movement member.
In the present embodiment, a horizontal movement device 15 is connected on the vertical movement device 13. Further, the resin liquid nozzle 11 is connected to the moving member 17 of the lateral movement device 15.
The resin liquid application stage 5 can move the resin liquid nozzle 11 in the vertical direction by driving the vertical movement device 13 of the plane moving device 10. In addition, the resin liquid nozzle 11 can be moved in the lateral direction by driving the lateral movement device 15 of the planar moving device 10.
Therefore, the vertical direction moving device 13 and the horizontal direction moving device 15 can be moved independently, and the resin liquid nozzle 11 can be moved while drawing a free path in a plane.
押圧ステージ6は、押圧手段20と、発光装置21を有している。
押圧手段20は、押圧ローラ22と、昇降装置23によって構成されている。押圧ローラ22は、空転ローラ又はモータによって回転する駆動ローラであり、両端が昇降フレーム26によって支持されている。
また昇降フレーム26には、昇降装置23たるシリンダー25のロッドが接続されており、シリンダー25を伸縮させることによって昇降フレーム26が昇降する。
従ってシリンダー25を伸縮させることによって押圧ローラ22が昇降する。
The pressing stage 6 includes a pressing unit 20 and a light emitting device 21.
The pressing means 20 includes a pressing roller 22 and a lifting device 23. The pressing roller 22 is an idling roller or a driving roller that is rotated by a motor, and both ends thereof are supported by a lifting frame 26.
In addition, a rod of a cylinder 25 that is an elevating device 23 is connected to the elevating frame 26, and the elevating frame 26 is moved up and down by extending and retracting the cylinder 25.
Accordingly, when the cylinder 25 is expanded and contracted, the pressing roller 22 moves up and down.
発光装置21は、紫外線を発するものである。発光装置21としては、UV−LED、カーボンアーク灯、水銀蒸気アーク灯、高圧水銀灯、超高圧水銀灯、キセノンランプ灯が採用可能である。本実施形態では、UV−LEDが使用されている。
発光装置21の全長は、載置台7の全幅に及ぶ。発光装置21は前記した昇降フレーム26に取り付けられており、押圧ローラ22の近傍に設けられている。
The light emitting device 21 emits ultraviolet rays. As the light emitting device 21, a UV-LED, a carbon arc lamp, a mercury vapor arc lamp, a high pressure mercury lamp, an ultra high pressure mercury lamp, or a xenon lamp lamp can be employed. In the present embodiment, a UV-LED is used.
The entire length of the light emitting device 21 extends over the entire width of the mounting table 7. The light emitting device 21 is attached to the lifting frame 26 and is provided in the vicinity of the pressing roller 22.
載置台移動装置8は、インプリント装置1の長手方向に平行に設置された2本の縦方向レール27a,bと、当該縦方向レール27a,bに嵌合する図示しない駒部材によって構成されている。また駒部材は、図示しないモータによって縦方向レール27a,bに沿って直線移動する。
縦方向レール27a,bは、インプリント装置1の全長に渡ってのびている。即ち縦方向レール27a,bは、樹脂液塗布ステージ5と、押圧ステージ6の双方に跨がって設置されている。
The mounting table moving device 8 includes two vertical rails 27a and 27b that are installed in parallel to the longitudinal direction of the imprint apparatus 1, and a piece member (not shown) that fits the vertical rails 27a and 27b. Yes. The piece member is linearly moved along the vertical rails 27a and 27b by a motor (not shown).
The longitudinal rails 27 a and 27 b extend over the entire length of the imprint apparatus 1. That is, the vertical rails 27 a and 27 b are installed across both the resin liquid application stage 5 and the pressing stage 6.
載置台7は、図3の様に本体部30と空間形成部材31によって構成されている。
載置台7の本体部30は、定盤に類するものであり、鋼材で作られていて相当の剛性を有している。即ち本体部30は、平面視が図2の様に長方形である。本体部30の表面は、高精度に平滑に仕上げられている。
また本体部30は、ある程度の厚さを有し、剛性が高い。
The mounting table 7 includes a main body 30 and a space forming member 31 as shown in FIG.
The main body 30 of the mounting table 7 is similar to a surface plate, is made of steel, and has considerable rigidity. That is, the main body 30 is rectangular in plan view as shown in FIG. The surface of the main body 30 is finished with high accuracy and smoothness.
Moreover, the main-body part 30 has a certain amount of thickness, and its rigidity is high.
本実施形態では、図2、図3の様に、本体部30の側壁33に空間形成部材31が取り付けられている。空間形成部材31は、本体部30の各辺に設けられており、本体部30の周囲を環状に取り巻いている。
空間形成部材31は、図3の様に、断面形状が「L」字状の部材であり、本体部30の側壁33に図示しないネジによって一体的に接合されている。
前記した様に空間形成部材31は、断面形状が「L」字状であって、本体部30の側壁33に固定されているから、空間形成部材31と本体部30の側壁33によって、溝35が形成される。
In the present embodiment, as shown in FIGS. 2 and 3, the space forming member 31 is attached to the side wall 33 of the main body 30. The space forming member 31 is provided on each side of the main body 30 and surrounds the periphery of the main body 30 in an annular shape.
As shown in FIG. 3, the space forming member 31 is a member having a “L” cross-sectional shape, and is integrally joined to the side wall 33 of the main body 30 by screws (not shown).
As described above, the space forming member 31 has an “L” cross-sectional shape and is fixed to the side wall 33 of the main body 30, so that the groove 35 is formed by the space forming member 31 and the side wall 33 of the main body 30. Is formed.
溝35は、本体部30の側壁33と、空間形成部材31の底面37と、空間形成部材31の縦壁38によって囲まれる断面形状が凹状部位であり、上面が開口している。本実施形態では、空間形成部材31と本体部30の側壁33によって溝35状の空間形成部36が形成されている。
溝35の外側壁たる空間形成部材31の縦壁38の高さ(地上高)は、図3の様に本体部30よりも高い。より詳細には、空間形成部材31の縦壁38の最高位は、本体部30よりも、モールド41の厚さ分だけ高い。なおモールド41にクッション層や補強層が設けられている場合は、それらを合わせた厚さ分だけ高い。
The groove 35 has a concave cross-sectional shape surrounded by the side wall 33 of the main body 30, the bottom surface 37 of the space forming member 31, and the vertical wall 38 of the space forming member 31, and the top surface is open. In the present embodiment, a space forming portion 36 having a groove 35 shape is formed by the space forming member 31 and the side wall 33 of the main body portion 30.
The height (the ground height) of the vertical wall 38 of the space forming member 31 that is the outer wall of the groove 35 is higher than that of the main body 30 as shown in FIG. More specifically, the highest position of the vertical wall 38 of the space forming member 31 is higher than the main body 30 by the thickness of the mold 41. In addition, when the cushion layer and the reinforcement layer are provided in the mold 41, it is high by the thickness which match | combined them.
溝35の内幅は、0.1cmから3cm程度である。より好ましい内幅は、0.2cmから0.6cmである。またガラス基板43の辺部で蓋をする必要から、溝35の内幅は1cm以下であることが望ましい。
本実施形態では、溝35の内幅は、0.5cmである。
溝35の深さはさほど重要ではないが、0.3cmから2cm程度であることが望ましい。より好ましい深さは、0.5cmから1cmである。溝35の深さについて機能的な上限は無いが、不活性ガスの消費量を抑制する観点から、1.5cm以下であることが望ましい。
本実施形態では、溝35の全幅は、0.6cmである。
The inner width of the groove 35 is about 0.1 cm to 3 cm. A more preferable inner width is 0.2 cm to 0.6 cm. Moreover, since it is necessary to cover the side of the glass substrate 43, the inner width of the groove 35 is desirably 1 cm or less.
In the present embodiment, the inner width of the groove 35 is 0.5 cm.
The depth of the groove 35 is not so important, but is preferably about 0.3 cm to 2 cm. A more preferable depth is 0.5 cm to 1 cm. Although there is no functional upper limit for the depth of the groove 35, it is preferably 1.5 cm or less from the viewpoint of suppressing the consumption of inert gas.
In the present embodiment, the overall width of the groove 35 is 0.6 cm.
また空間形成部材31には、複数のチューブ48が接続されており、チューブ48は、減圧弁42及び電磁弁(開閉弁)40を介して窒素ボンベ(不活性ガスボンベ)51に接続されている。そのため、電磁弁(開閉弁)40を開くことによって溝35内に窒素(不活性)を供給することができる。
また空間形成部材31には、排気チューブ55も接続されている。排気チューブ55にも電磁弁(開閉弁)56が接続されている。電磁弁(開閉弁)56の吐出側は、大気開放されている。
A plurality of tubes 48 are connected to the space forming member 31, and the tubes 48 are connected to a nitrogen cylinder (inert gas cylinder) 51 through a pressure reducing valve 42 and an electromagnetic valve (open / close valve) 40. Therefore, nitrogen (inert) can be supplied into the groove 35 by opening the electromagnetic valve (open / close valve) 40.
An exhaust tube 55 is also connected to the space forming member 31. An electromagnetic valve (open / close valve) 56 is also connected to the exhaust tube 55. The discharge side of the solenoid valve (open / close valve) 56 is open to the atmosphere.
前記した載置台7は、載置台移動装置8に取り付けられており、樹脂液塗布ステージ5と、押圧ステージ6の双方に跨がって直線移動する。   The mounting table 7 described above is attached to the mounting table moving device 8 and moves linearly across both the resin liquid application stage 5 and the pressing stage 6.
次に、本実施形態のインプリント装置1の機能をインプリント作業の工程に沿って説明する。
本実施形態では、太陽電池パネルのガラス基板(テキスチャ付き)66を作成することとする。即ち透明且つ平滑なガラス基板43を使用し、その表面に、1μm(ミクロン)から数μm(ミクロン)の厚さの樹脂膜62を形成させて、0.2μm(ミクロン)から2μm(ミクロン)程度の高さの凹凸形状のテクスチャを形成される。
使用するモールド41は、テクスチャ形状を形成させた原型を使用して作られたニッケル電鋳型である。モールド41は、電気鋳造によって形成されたニッケル板を主体とするものであり、必要に応じてクッション層や補強層が設けられる。
モールド41の表面(図1の上面)には、テクスチャパターンが形成されている(図示せず)。
Next, functions of the imprint apparatus 1 of the present embodiment will be described along the imprint work process.
In this embodiment, the glass substrate (with texture) 66 of the solar cell panel is created. That is, a transparent and smooth glass substrate 43 is used, and a resin film 62 having a thickness of 1 μm (micron) to several μm (micron) is formed on the surface thereof, so that the thickness is about 0.2 μm (micron) to 2 μm (micron). The texture of the uneven shape of the height is formed.
The mold 41 to be used is a nickel electromold made by using a prototype in which a texture shape is formed. The mold 41 is mainly composed of a nickel plate formed by electroforming, and a cushion layer and a reinforcing layer are provided as necessary.
A texture pattern (not shown) is formed on the surface of the mold 41 (upper surface in FIG. 1).
モールド41の全長及び全幅は、載置台7の本体部30の全長及び全幅と等しいか、あるいはやや小さい。
本実施形態で使用するガラス基板43は、長さが約1mから2mで幅が0.8mから1,5m程度の長方形である。
ガラス基板43の全長及び全幅は、図2の様にモールド41の全長及び全幅よりも大きい。
またガラス基板43の全長及び全幅は、図2の様に空間形成部材31を含めた載置台7の全長及び全幅に等しいか、あるいはやや大きい。本実施形態では、ガラス基板43は、載置台7の本体部30よりも大きい。
The total length and full width of the mold 41 are equal to or slightly smaller than the full length and full width of the main body 30 of the mounting table 7.
The glass substrate 43 used in this embodiment is a rectangle having a length of about 1 m to 2 m and a width of about 0.8 m to 1,5 m.
The full length and full width of the glass substrate 43 are larger than the full length and full width of the mold 41 as shown in FIG.
Moreover, the full length and full width of the glass substrate 43 are equal to or slightly larger than the full length and full width of the mounting table 7 including the space forming member 31 as shown in FIG. In the present embodiment, the glass substrate 43 is larger than the main body 30 of the mounting table 7.
ガラス基板43の厚さは、1mmから5mm程度であり、本実施形態では、3mmのガラスが使用されている。   The thickness of the glass substrate 43 is about 1 mm to 5 mm. In this embodiment, 3 mm glass is used.
本実施形態では、光硬化性樹脂が使用される。光硬化性樹脂は、光を受けて硬化する性質を有する樹脂である。ここで、「光」には、紫外、近紫外、遠紫外、可視、赤外等の領域の波長の光や、電磁波だけでなく、放射線も含まれる。前記放射線には、例えばマイクロ波、電子線、EUV、X線が含まれる。また248nmエキシマレーザー、193nmエキシマレーザー、172nmエキシマレーザーなどのレーザー光も用いることができる。これらの光は、光学フィルターを通したモノクロ光(単一波長光)を用いてもよいし、複数の波長の異なる光(複合光)でもよい。
本実施形態では、紫外線を受けて硬化する樹脂が採用されている。
光硬化性樹脂としては、光インプリント技術に使用可能な公知の樹脂が採用可能である。光硬化性樹脂は、モノマーと光重合開始剤等で構成されている。ここでモノマーとしては、ラジカル重合タイプと、イオン重合タイプがある。さらにラジカル重合タイプの場合、アクリルモノマー、ビニルモノマー等がある。またイオン重合タイプの場合、エポキシモノマー、ビニルエーテルモノマー等がある。
In this embodiment, a photocurable resin is used. The photocurable resin is a resin having a property of being cured by receiving light. Here, “light” includes not only light having a wavelength in the ultraviolet, near-ultraviolet, far-ultraviolet, visible, infrared, and the like, electromagnetic waves, but also radiation. Examples of the radiation include microwaves, electron beams, EUV, and X-rays. Laser light such as a 248 nm excimer laser, a 193 nm excimer laser, and a 172 nm excimer laser can also be used. The light may be monochromatic light (single wavelength light) that has passed through an optical filter, or may be light having a plurality of different wavelengths (composite light).
In this embodiment, a resin that is cured by receiving ultraviolet rays is employed.
As the photocurable resin, a known resin that can be used in the photoimprint technique can be used. The photocurable resin is composed of a monomer, a photopolymerization initiator, and the like. Here, the monomer includes a radical polymerization type and an ionic polymerization type. Furthermore, in the case of radical polymerization type, there are acrylic monomer, vinyl monomer and the like. In the case of an ionic polymerization type, there are an epoxy monomer, a vinyl ether monomer, and the like.
使用する光硬化性樹脂は、液状である。光硬化性樹脂は、図示しないタンク内に収容されており、図示しないポンプによって樹脂液塗布ステージ5の樹脂液ノズル11に圧送される。   The photocurable resin to be used is liquid. The photocurable resin is accommodated in a tank (not shown) and is pumped to the resin liquid nozzle 11 of the resin liquid application stage 5 by a pump (not shown).
本実施形態では、準備段階として、図4(a)に示す載置台7に、図4(b)に示す様にモールド41を設置する。この作業は、作業の準備段階であり、複数のガラス基板43に対してインプリントを行う場合には、最初の一回だけ実行される工程である。
図4(b)の様にモールド41を設置された載置台7は、樹脂液塗布ステージ5で停止している。
In the present embodiment, as a preparation stage, a mold 41 is installed on the mounting table 7 shown in FIG. 4A as shown in FIG. 4B. This operation is a preparation stage of the operation, and is a step that is executed only once when imprinting is performed on the plurality of glass substrates 43.
As shown in FIG. 4B, the mounting table 7 on which the mold 41 is installed is stopped at the resin liquid application stage 5.
そしてモールド41に図示しない離型剤を塗布する。続いて図4(c)の様に、モールド41上に光硬化性樹脂45を散布する。より具体的には、載置台7を樹脂液塗布ステージ5で停止し、樹脂液ノズル11から光硬化性樹脂45を吐出させながら平面移動装置10の縦方向移動装置13と横方向移動装置15を交互に移動させ、樹脂液ノズル11をジグザグ軌跡を描いて移動させて、光硬化性樹脂45をモールド41上に散布する。   Then, a mold release agent (not shown) is applied to the mold 41. Subsequently, as shown in FIG. 4C, a photocurable resin 45 is sprayed on the mold 41. More specifically, the mounting table 7 is stopped at the resin liquid application stage 5, and the vertical direction moving device 13 and the horizontal direction moving device 15 of the plane moving device 10 are moved while discharging the photocurable resin 45 from the resin liquid nozzle 11. By alternately moving, the resin liquid nozzle 11 is moved along a zigzag locus, and the photocurable resin 45 is sprayed on the mold 41.
続いて光硬化性樹脂45が散布されたモールド41に、前記したガラス基板43を重ねる。即ちモールド41とガラス基板43との間に光硬化性樹脂45を挟んだ状態の合致体52を構成させる。
前記した様に、モールド41は、載置台7の本体部30の全長及び全幅と等しいか、あるいはやや小さい。一方、ガラス基板43は、モールド41及び載置台7の本体部30よりも大きく、載置台7全体の大きさと等しいか、あるいはやや大きい。
そのためモールド41及びガラス基板43の各辺部の関係は、図4(d)の拡大図の通りであり、ガラス基板43の辺部46は、モールド41の辺部47よりも外側に突出する。
また載置台7との関係を見ると、モールド41は、載置台7の本体部30の領域内に収まり、ガラス基板43は、本体部30からはみ出して空間形成部材31の縦壁38に至っている。そのため、空間形成部材31で形成される溝35の上にはモールド41は存在せず、ガラス基板43だけが存在することとなる。従って、空間形成部材31で形成される溝35は、ガラス基板43の辺部近傍で蓋された状態となる。
Subsequently, the glass substrate 43 is overlaid on the mold 41 on which the photocurable resin 45 is dispersed. That is, the matching body 52 in a state in which the photocurable resin 45 is sandwiched between the mold 41 and the glass substrate 43 is configured.
As described above, the mold 41 is equal to or slightly smaller than the entire length and the entire width of the main body 30 of the mounting table 7. On the other hand, the glass substrate 43 is larger than the mold 41 and the main body 30 of the mounting table 7, and is equal to or slightly larger than the entire mounting table 7.
Therefore, the relationship between the side portions of the mold 41 and the glass substrate 43 is as shown in the enlarged view of FIG. 4D, and the side portion 46 of the glass substrate 43 protrudes outside the side portion 47 of the mold 41.
Further, looking at the relationship with the mounting table 7, the mold 41 fits in the region of the main body 30 of the mounting table 7, and the glass substrate 43 protrudes from the main body 30 and reaches the vertical wall 38 of the space forming member 31. . Therefore, the mold 41 does not exist on the groove 35 formed by the space forming member 31, and only the glass substrate 43 exists. Accordingly, the groove 35 formed by the space forming member 31 is in a state of being covered near the side portion of the glass substrate 43.
また前記した様に溝35の外側壁たる空間形成部材31の縦壁38の高さ(地上高)は、載置台7の本体部30よりも、モールド41の厚さ分だけ高いから、図4(d)の拡大図の様に、ガラス基板43の下面は、空間形成部材31の縦壁38の頂部と接する。
そのためモールド41に、前記したガラス基板43を重ねると、載置台7の本体部30の側面部には、本体部30の側壁33と、空間形成部材31の底面37と、空間形成部材31の縦壁38及びガラス基板43の下面によって囲まれた略閉塞空間50が形成される。
Further, as described above, the height (ground height) of the vertical wall 38 of the space forming member 31 that is the outer wall of the groove 35 is higher than the main body 30 of the mounting table 7 by the thickness of the mold 41. As shown in the enlarged view of (d), the lower surface of the glass substrate 43 is in contact with the top of the vertical wall 38 of the space forming member 31.
Therefore, when the glass substrate 43 is overlaid on the mold 41, the side wall 33 of the main body 30 of the mounting table 7, the bottom surface 37 of the space forming member 31, and the vertical length of the space forming member 31 are formed on the side surface of the main body 30. A substantially closed space 50 surrounded by the wall 38 and the lower surface of the glass substrate 43 is formed.
ここで略閉塞空間50は、複数の壁面に囲まれていて閉鎖された空間であるが、高度の気密性を有しない空間である。なお略閉塞空間とは、密閉空間を含む概念であり、勿論気密性が高くてもよい。
略閉塞空間50は、内外の気圧に差がなければ、略閉塞空間50内の気体が外に飛散したり、外部の空気が流入することがなく、仮に空気の流通があっても少量に止まる空間である。略閉塞空間50は外部から不活性ガスを導入した場合、一定の時間、不活性ガスの濃度を一定以上に保つことができる程度の気密性を持つ空間である。
なお、本実施形態で採用する略閉塞空間50は、略閉塞空間50の気密性は高いものではない。
本実施形態では、モールド41の辺部47は、図4(d)の拡大図の様に、略閉塞空間50に露出する。
Here, the substantially closed space 50 is a space surrounded by a plurality of wall surfaces and closed, but does not have a high degree of airtightness. The substantially closed space is a concept including a sealed space, and of course may be highly airtight.
If there is no difference between the internal and external pressures of the substantially enclosed space 50, the gas in the substantially enclosed space 50 does not scatter outside, or external air does not flow in, and even if there is air circulation, it remains at a small amount. It is space. The substantially closed space 50 is a space having an airtightness that can maintain the concentration of the inert gas at a certain level or more for a certain period of time when an inert gas is introduced from the outside.
Note that the substantially closed space 50 employed in the present embodiment does not have high airtightness.
In the present embodiment, the side portion 47 of the mold 41 is exposed to the substantially closed space 50 as shown in the enlarged view of FIG.
そしてモールド41とガラス基板43との間に光硬化性樹脂45を挟んだ状態の合致体52を載置した載置台7を押圧ステージ6の側に移動させる。即ち載置台移動装置8を動作させ、図5(a)の様に、合致体52を載置した載置台7を押圧ステージ6の側に移動させる。
これと同時に、チューブ48に設けられた給気側の電磁弁(開閉弁)40を開く。また排気側の電磁弁(開閉弁)56についても開いておく。その結果、減圧弁42及び電磁弁(開閉弁)40を介して窒素ボンベから略閉塞空間50内に窒素(不活性)が供給され、略閉塞空間50内に残存していた空気は排気側の電磁弁56を経て排出される。従って略閉塞空間50内の空気が排除され、略閉塞空間50内が窒素雰囲気となる。即ちモールド41の辺部近傍だけが局所的に不活性ガス雰囲気となる。
略閉塞空間50内が窒素で満たされると、排気側の電磁弁56を閉じ、さらにその後に給気側の電磁弁40を閉じて略閉塞空間50内に窒素を封入する。
Then, the mounting table 7 on which the matching body 52 with the photo-curing resin 45 sandwiched between the mold 41 and the glass substrate 43 is moved to the pressing stage 6 side. That is, the mounting table moving device 8 is operated, and the mounting table 7 on which the matching body 52 is mounted is moved to the pressing stage 6 as shown in FIG.
At the same time, the solenoid valve (open / close valve) 40 on the air supply side provided in the tube 48 is opened. The exhaust side solenoid valve (open / close valve) 56 is also opened. As a result, nitrogen (inert) is supplied into the substantially closed space 50 from the nitrogen cylinder through the pressure reducing valve 42 and the electromagnetic valve (open / close valve) 40, and the air remaining in the substantially closed space 50 is exhausted. It is discharged through the electromagnetic valve 56. Therefore, the air in the substantially enclosed space 50 is excluded, and the inside of the substantially enclosed space 50 becomes a nitrogen atmosphere. That is, only the vicinity of the side of the mold 41 is locally an inert gas atmosphere.
When the inside of the substantially closed space 50 is filled with nitrogen, the exhaust-side electromagnetic valve 56 is closed, and then the supply-side electromagnetic valve 40 is closed to fill the substantially closed space 50 with nitrogen.
そして図5(b)の様に、載置台7の先頭側端部が、押圧ローラ22の下に至ると、昇降装置23を動作させて押圧ローラ22を降下し、合致体52の上面に接触させる。その後は、押圧ローラ22に一定の下方向押圧力を与えつつ、載置台移動装置8をゆっくりと動作し、図5(c)の様に順次合致体52を圧接する。
より具体的には、載置台7と押圧ローラ22との間で、ガラス基板43とモールド41を挟み、両者を押しつけてガラス基板43とモールド41を圧接する。
Then, as shown in FIG. 5B, when the leading end of the mounting table 7 reaches below the pressing roller 22, the lifting device 23 is operated to lower the pressing roller 22 and contact the upper surface of the matching body 52. Let After that, the mounting table moving device 8 is operated slowly while applying a constant downward pressing force to the pressing roller 22, and sequentially presses the mating body 52 as shown in FIG. 5C.
More specifically, the glass substrate 43 and the mold 41 are sandwiched between the mounting table 7 and the pressing roller 22, and both are pressed to press the glass substrate 43 and the mold 41.
これと同時に、発光装置21を点灯し、ガラス基板43越しに光硬化性樹脂45に紫外線を照射する。その結果、ガラス基板43とモールド41の間で光硬化性樹脂45が硬化し、モールド41のテクスチャパターンが転写された樹脂硬化物ができる。
そして図5(d)の様に載置台7はさらに進行を続け、順次ガラス基板43とモールド41の圧接と、光硬化性樹脂45の硬化が行われる。
遂には、図5(e)の様に載置台7は押圧ローラ22を行き過ぎる。
At the same time, the light emitting device 21 is turned on, and the photocurable resin 45 is irradiated with ultraviolet rays through the glass substrate 43. As a result, the photocurable resin 45 is cured between the glass substrate 43 and the mold 41, and a cured resin product in which the texture pattern of the mold 41 is transferred is obtained.
Then, as shown in FIG. 5D, the mounting table 7 continues to advance, and the glass substrate 43 and the mold 41 are sequentially pressed and the photocurable resin 45 is cured.
Finally, as shown in FIG. 5E, the mounting table 7 passes the pressing roller 22 too much.
上記した図5(b)の押圧ローラ22による合致体52の圧接開始から、図5(e)の圧接終了までの間、モールド41の各辺から余分な光硬化性樹脂45が押し出される。
例えば、図5(b)の押圧ローラ22による合致体52の圧接開始直後は、モールド41の進行方向の先頭側の辺60から、液状の光硬化性樹脂45がはみ出す。
しかしながら、本実施形態では、モールド41の進行方向の先頭側の辺60は、本体部30の側壁33と、空間形成部材31の底面37と、空間形成部材31の縦壁38及びガラス基板43の下面によって囲まれた略閉塞空間50内にある。そして略閉塞空間50内は、局所的に窒素雰囲気となっており、酸素濃度は低い。そのため、押し出されてはみ出た光硬化性樹脂61(45)も、紫外線の照射を受けて硬化する。
Excess photocurable resin 45 is pushed out from each side of the mold 41 from the start of pressing of the matching body 52 by the pressing roller 22 in FIG. 5B to the end of pressing in FIG. 5E.
For example, immediately after the press-contact of the matching body 52 by the pressing roller 22 of FIG. 5B, the liquid photocurable resin 45 protrudes from the leading side 60 in the traveling direction of the mold 41.
However, in the present embodiment, the leading side 60 in the traveling direction of the mold 41 includes the side wall 33 of the main body 30, the bottom surface 37 of the space forming member 31, the vertical wall 38 of the space forming member 31, and the glass substrate 43. It is in a substantially closed space 50 surrounded by the lower surface. The substantially enclosed space 50 has a nitrogen atmosphere locally, and the oxygen concentration is low. Therefore, the photo-curable resin 61 (45) that has been pushed out and hardened is also cured by being irradiated with ultraviolet rays.
また図5(c)の様に押圧ローラ22が、合致体52の長手方向の中間部分にある場合は、モールド41の幅方向の辺(長辺)から余分な光硬化性樹脂45が押し出される。
しかしながら、本実施形態では、モールド41の幅方向の辺についても、略閉塞空間50内にあり、略閉塞空間50内は、局所的に窒素雰囲気となっているから、紫外線の照射を受けて硬化する。
さらに図5(d)の様に、押圧ローラ22が、合致体52の終端部に達した場合は、モールド41の進行方向の後端側の辺63から液状の光硬化性樹脂45が押し出される。
しかしながら、モールド41の進行方向の後端側の辺63についても略閉塞空間50内にあり、窒素雰囲気となっているから、押し出された光硬化性樹脂65(45)は、紫外線の照射を受けて硬化する。
従って、合致体52を圧接することによって、モールド41の4辺から光硬化性樹脂45が押し出されてはみ出るが、光硬化性樹脂45はいずれも窒素雰囲気中に押し出され、酸素濃度が低いから、紫外線の照射を受けて硬化する。
Further, as shown in FIG. 5C, when the pressing roller 22 is in the middle portion in the longitudinal direction of the matching body 52, excess photocurable resin 45 is pushed out from the side (long side) in the width direction of the mold 41. .
However, in this embodiment, the side in the width direction of the mold 41 is also in the substantially enclosed space 50, and since the substantially enclosed space 50 is locally in a nitrogen atmosphere, it is cured by being irradiated with ultraviolet rays. To do.
Further, as shown in FIG. 5D, when the pressing roller 22 reaches the end of the matching body 52, the liquid photocurable resin 45 is pushed out from the side 63 on the rear end side in the traveling direction of the mold 41. .
However, since the side 63 on the rear end side in the traveling direction of the mold 41 is also in the substantially closed space 50 and has a nitrogen atmosphere, the extruded photocurable resin 65 (45) is irradiated with ultraviolet rays. Harden.
Therefore, by pressing the mating body 52, the photocurable resin 45 is pushed out from the four sides of the mold 41, but the photocurable resin 45 is extruded into a nitrogen atmosphere, and the oxygen concentration is low. It is cured by receiving ultraviolet rays.
図5(e)の様に載置台7は押圧ローラ22を行き過ぎ、合致体52を圧接する工程を終えると、ガラス基板43をモールド41から剥がす。その結果、ガラス基板43にテクスチャパターンと同一形状の凹凸を有する樹脂硬化物層が付着し、ガラス基板43の表面に、樹脂硬化物層によるテクスチャが形成される。
またガラス基板43のテキスチャ形成領域の辺部に未硬化の樹脂は残存せず、時間が経過しても染みができることはない。
As shown in FIG. 5E, the mounting table 7 passes the pressing roller 22, and when the process of pressing the matching body 52 is finished, the glass substrate 43 is peeled off from the mold 41. As a result, a cured resin layer having irregularities having the same shape as the texture pattern adheres to the glass substrate 43, and a texture of the cured resin layer is formed on the surface of the glass substrate 43.
Further, the uncured resin does not remain on the side of the texture forming region of the glass substrate 43, and no stain can be made even after a lapse of time.
本実施形態で製造されたテクスチャ付きのガラス基板66は、太陽電池パネル71の基板として使用される。即ち図6の様にガラス基板66(テキスチャ付き)は、透明且つ平滑なガラス基板43に、光硬化性樹脂45を硬化させて作られた樹脂膜62が一体化されたものである。そして樹脂膜62の表面が凹凸形状となっている。
そして図6の様にテクスチャ付きのガラス基板66に、透明導電膜67と、半導体層(太陽電池膜)68及び裏面側電極膜70を順次積層することによって太陽電池パネル71を完成させることができる。
完成した太陽電池パネル71は、光を閉じ込める効果があり、発電効率が高い。
The textured glass substrate 66 manufactured in this embodiment is used as a substrate of the solar cell panel 71. That is, as shown in FIG. 6, a glass substrate 66 (with texture) is obtained by integrating a resin film 62 made by curing a photocurable resin 45 on a transparent and smooth glass substrate 43. The surface of the resin film 62 has an uneven shape.
Then, the solar cell panel 71 can be completed by sequentially laminating the transparent conductive film 67, the semiconductor layer (solar cell film) 68, and the back electrode film 70 on the textured glass substrate 66 as shown in FIG. .
The completed solar cell panel 71 has an effect of confining light and has high power generation efficiency.
また本実施形態で製造されたテクスチャ付きのガラス基板66を有機ELパネル76の基板として使用することもできる。即ち図7の様にテクスチャ付きのガラス基板66に、に透明導電膜72と、発光機能層(有機EL膜)73と、金属電極膜75を積層することによって、有機ELパネル76を完成することができる。
完成した有機ELパネル76は、外部からの光の反射が少なく、ディスプレイ材料として使用する場合には見やすさが向上する。また完成した有機ELパネル76を光学素子として使用する場合には光の利用効率が向上する。
Further, the textured glass substrate 66 manufactured in this embodiment can be used as the substrate of the organic EL panel 76. That is, the organic EL panel 76 is completed by laminating the transparent conductive film 72, the light emitting functional layer (organic EL film) 73, and the metal electrode film 75 on the textured glass substrate 66 as shown in FIG. Can do.
The completed organic EL panel 76 has little reflection of light from the outside, and improves the visibility when used as a display material. In addition, when the completed organic EL panel 76 is used as an optical element, the light utilization efficiency is improved.
以上説明した実施形態では、空間形成部材31に給気用のチューブ48と、排気チューブ55を設けた。この構成によると、給気経路と排気経路が確保され、空間形成部材31内の空気を円滑に不活性ガスに置換することができる。また排気チューブ55に電磁弁56を設けたので、溝35内に不活性ガスを封入することができ、不活性ガスの消費量を節約することができる。しかしながら本発明は、この構成に限定されるものではなく、排気チューブ55を省略することもできる。   In the embodiment described above, the space forming member 31 is provided with the air supply tube 48 and the exhaust tube 55. According to this configuration, the air supply path and the exhaust path are secured, and the air in the space forming member 31 can be smoothly replaced with the inert gas. Moreover, since the solenoid valve 56 is provided in the exhaust tube 55, the inert gas can be enclosed in the groove 35, and the consumption of the inert gas can be saved. However, the present invention is not limited to this configuration, and the exhaust tube 55 can be omitted.
次に、載置台7の変形例について説明する。
以下の説明において、先の実施形態と同一の部材には同一の番号を付して重複した説明を省略する。
図8に示す載置台77は、本体部30の側壁33に断面形状が「L」字状の空間形成部材78が設けられている点で先の実施形態と共通するが、空間形成部材78がゴム又は樹脂で作られており、弾性を有している。そのためガラス基板43に衝撃を与えることがなく、且つガラス基板43との密着性に優れ、気密性を向上させることができる。
Next, a modified example of the mounting table 7 will be described.
In the following description, the same members as those of the previous embodiment are denoted by the same reference numerals, and redundant description is omitted.
The mounting table 77 shown in FIG. 8 is the same as the previous embodiment in that the side wall 33 of the main body 30 is provided with a space forming member 78 having an “L” cross-sectional shape. It is made of rubber or resin and has elasticity. Therefore, the glass substrate 43 is not impacted, the adhesiveness with the glass substrate 43 is excellent, and the airtightness can be improved.
図9に示す載置台80も、本体部30の側壁33に断面形状が「L」字状の空間形成部材81が設けられている点で先の実施形態と共通するが、空間形成部材81の頂部にゴム又は樹脂のシール部材82が設けられている。そのためガラス基板43に衝撃を与えることがなく、且つガラス基板43との密着性に優れ、気密性を向上させることができる。   The mounting table 80 shown in FIG. 9 is also similar to the previous embodiment in that the side wall 33 of the main body 30 is provided with a space forming member 81 having a cross-sectional shape of “L”. A rubber or resin sealing member 82 is provided on the top. Therefore, the glass substrate 43 is not impacted, the adhesiveness with the glass substrate 43 is excellent, and the airtightness can be improved.
図10に示す載置台83は、「L」字状の空間形成部材85が本体部30の底面84に取り付けられている。また空間形成部材85の頂部にはゴム又は樹脂のシール部材82が設けられている。   In the mounting table 83 shown in FIG. 10, an “L” -shaped space forming member 85 is attached to the bottom surface 84 of the main body 30. A rubber or resin sealing member 82 is provided on the top of the space forming member 85.
図11に示す載置台86は、空間形成部材が無く、本体部30の表面に直接、溝87が形成されている。またゴム又は樹脂のシール部材82が設けられている。   The mounting table 86 shown in FIG. 11 has no space forming member, and a groove 87 is formed directly on the surface of the main body 30. A rubber or resin sealing member 82 is provided.
図12に示す載置台88は、空間形成部材が無く、本体部30の表面に直接、溝87が形成されている。そして溝87の中にシール部材89が設けられている。   The mounting table 88 shown in FIG. 12 has no space forming member, and a groove 87 is formed directly on the surface of the main body 30. A seal member 89 is provided in the groove 87.
以上説明した実施形態は、載置台7の上にモールド41を載置し、さらにその上にガラス基板43を載置することを前提としており、いずれもガラス基板43の辺部近傍で、溝35等の開口を蓋する構成である。しかしながら本発明は、この構成に限定されるものではなく、載置台7の上にガラス基板43を載置し、モールド41をガラス基板43の上から押し当ててもよい。この場合は、載置台7側から光を照射することとなる。
この構成を採用する場合には、モールド41で溝35等の開口を蓋する。
The embodiment described above is based on the premise that the mold 41 is mounted on the mounting table 7 and further the glass substrate 43 is mounted thereon. It is the structure which covers openings, such as. However, the present invention is not limited to this configuration, and the glass substrate 43 may be mounted on the mounting table 7 and the mold 41 may be pressed from above the glass substrate 43. In this case, light is irradiated from the mounting table 7 side.
In the case of adopting this configuration, the opening such as the groove 35 is covered with the mold 41.
また溝35等を持たない構成であってもよい。
例えば図13(a)に示す載置台90の様に、本体部30の側壁33にシート状のカバー91が設けられている。カバー91のつけ根部分には、チューブ92が取り付けられている。チューブ92には多数の孔(図示せず)が設けられている。またチューブ92は、窒素ガスボンベに接続されている。
本実施形態では、モールド41の方がガラス基板43よりも大きい。
Moreover, the structure which does not have the groove | channel 35 grade | etc., May be sufficient.
For example, like the mounting table 90 shown in FIG. 13A, a sheet-like cover 91 is provided on the side wall 33 of the main body 30. A tube 92 is attached to the base portion of the cover 91. The tube 92 is provided with a number of holes (not shown). The tube 92 is connected to a nitrogen gas cylinder.
In the present embodiment, the mold 41 is larger than the glass substrate 43.
本実施形態では、図13(b)の様に、カバー91をはね上げて合致体52の上に被せる。その結果、合致体52の端面に空間93ができる。そして当該空間93にチューブ92から窒素を供給し、合致体52の端部を窒素雰囲気とする。   In the present embodiment, as shown in FIG. 13B, the cover 91 is flipped up and placed on the matching body 52. As a result, a space 93 is created on the end face of the matching body 52. Then, nitrogen is supplied from the tube 92 to the space 93, and the end of the matching body 52 is made a nitrogen atmosphere.
また窒素雰囲気とするための空間についても必須ではない。図14は、略閉塞空間等を省略したものであり、載置台95の側面にチューブ94を這わしている。チューブ94には多数の孔(図示せず)が設けられている。そしてチューブ94の孔から合致体52の端部に向かって窒素を放出し、合致体52の端部を局所的に窒素雰囲気に保つ。   Also, a space for creating a nitrogen atmosphere is not essential. In FIG. 14, a substantially closed space or the like is omitted, and a tube 94 is wound around the side surface of the mounting table 95. The tube 94 is provided with a number of holes (not shown). Then, nitrogen is released from the hole of the tube 94 toward the end of the matching body 52, and the end of the matching body 52 is locally maintained in a nitrogen atmosphere.
また上記した実施形態は、いずれも載置台を有する構成であったが、載置台を省略することも可能である。
図15は、載置台を省略したインプリント装置の例であり、押圧手段は、一対のロール96a.96bによって構成されている。発光装置21は、ロール96a.96bの近傍に設けられている。そしてロール96a.96bの側面側であって発光装置21の近傍に、ノズル97が設けられており、ノズル97から窒素が放出される。その結果、ロール96a.96bの側面側であって発光装置21の近傍が窒素雰囲気となる。
本実施形態では、一対のロール96a.96bの間に合致体52を挟んでモールド41とガラス基板43とを圧接する。またロール96a.96bで圧接することによって、合致体52の辺部に光硬化性樹脂45が押し出されるが、押し出された光硬化性樹脂45に紫外線が照射される位置は、ノズル97から放出される窒素によって窒素雰囲気となっている。そのため、はみ出た光硬化性樹脂45を硬化させることができる。
Moreover, although all the above-described embodiments are configured to include a mounting table, the mounting table may be omitted.
FIG. 15 is an example of an imprint apparatus in which the mounting table is omitted, and the pressing means includes a pair of rolls 96a. 96b. The light emitting device 21 includes a roll 96a. It is provided in the vicinity of 96b. And roll 96a. A nozzle 97 is provided near the light emitting device 21 on the side surface of 96 b, and nitrogen is released from the nozzle 97. As a result, the roll 96a. On the side surface side of 96b, the vicinity of the light emitting device 21 is a nitrogen atmosphere.
In this embodiment, a pair of rolls 96a. The mold 41 and the glass substrate 43 are pressed against each other with the matching body 52 sandwiched between 96b. Roll 96a. The photocurable resin 45 is pushed out to the side portion of the matching body 52 by the pressure contact at 96b. The position where the extruded photocurable resin 45 is irradiated with ultraviolet rays is nitrogen by nitrogen released from the nozzle 97. It has an atmosphere. Therefore, the protruding photocurable resin 45 can be cured.
以上説明した実施形態の太陽電池パネル71は、ガラス基板66に、透明導電膜67と、半導体層(太陽電池膜)68及び裏面側電極膜70を順次積層した構造であり、薄膜型太陽電池と使用されるものである。しかしながら本発明は、この構成に限定されるものではなく、カバーガラスと背面ガラスの間に結晶シリコンを封入した結晶型と称される太陽電池パネルにも適用できる。
例えば、ヘテロ結合型太陽電池を主体とする太陽電池パネルのカバーガラスとして本発明のガラス基板66を使用することができる。カバーガラスの表面に本発明のインプリント方法を採用して凹凸形状を設けると、光を閉じ込める効果が期待できる。
またタッチパネルやPDPフィルター等にガラス基板66を使用することもできる。
The solar cell panel 71 of the embodiment described above has a structure in which a transparent conductive film 67, a semiconductor layer (solar cell film) 68, and a back-side electrode film 70 are sequentially laminated on a glass substrate 66, and is a thin film solar cell. It is what is used. However, the present invention is not limited to this configuration, and can also be applied to a solar cell panel called a crystal type in which crystalline silicon is sealed between a cover glass and a back glass.
For example, the glass substrate 66 of the present invention can be used as a cover glass of a solar cell panel mainly composed of heterojunction solar cells. When the surface of the cover glass is provided with an uneven shape by employing the imprint method of the present invention, an effect of confining light can be expected.
Moreover, the glass substrate 66 can also be used for a touch panel, a PDP filter, or the like.
上記した実施形態では、不活性ガスとして窒素を使用したが、アルゴン、ヘリウム等でもよい。   In the above-described embodiment, nitrogen is used as the inert gas, but argon, helium, or the like may be used.
上記した実施形態では、モールド41としてニッケル電鋳型を例示した。ニッケル電鋳型は、モールド41の一例を示すものに過ぎず、他の金属や樹脂、セラミック、石英ガラスやカーボン系の素材を使用したものであってもよい。またモールドの製造方法についても、電気鋳造に限定されるものではなく、機械加工やエッチング等の方法によって凹凸形状を形成してもよい。要するに本発明は、モールドを限定するものではなく、公知のナノインプリント用モールドを広く採用することができる。   In the above-described embodiment, a nickel electric mold is exemplified as the mold 41. The nickel electroforming mold is merely an example of the mold 41, and may be another metal, resin, ceramic, quartz glass, or carbon-based material. Also, the mold manufacturing method is not limited to electroforming, and the uneven shape may be formed by a method such as machining or etching. In short, the present invention does not limit the mold, and a wide variety of known nanoimprint molds can be used.
上記した実施形態では、押圧手段としてロール(押圧ローラ22)を採用した。ロールは、本発明の押圧手段として最も適している。しかしながら本発明は、他の構成の押圧手段の採用を否定するものではなく、例えばプレスを使用することもできる。プレスは、合致体52の全体を同時に押圧するものであってもよく、合致体52をエリアに分けて順次押圧して行くものであってもよい。   In the embodiment described above, a roll (pressing roller 22) is employed as the pressing means. A roll is most suitable as the pressing means of the present invention. However, the present invention does not deny the use of pressing means having other configurations, and for example, a press can be used. The press may press the entire matching body 52 at the same time, or may press the matching body 52 by dividing it into areas.
図13(a)に示す載置台90を使用し、図13(b)の様に、カバー91をはね上げて合致体52の上に被せ、空間93にチューブ92から窒素を供給し続けた状態で合致体52を圧接すると共に、紫外線を照射して内部の光硬化性樹脂45を硬化させた。完成したガラス基板66を90分放置したが、染みの発生は認められなかった。   In the state where the mounting table 90 shown in FIG. 13A is used, and as shown in FIG. 13B, the cover 91 is flipped up and placed on the matching body 52, and nitrogen is continuously supplied from the tube 92 to the space 93. The matching body 52 was pressed and the ultraviolet ray was irradiated to cure the internal photocurable resin 45. The completed glass substrate 66 was allowed to stand for 90 minutes, but no stain was observed.
比較例として、図13(a)に示す載置台90を使用し、カバー91を垂らしたままの状態(図13(a)の状態)で合致体52を圧接すると共に、紫外線を照射して内部の光硬化性樹脂45を硬化させた。完成したガラス基板66を90分放置したところ、染みが発生し、時間の経過と共にそれが広がっていった。   As a comparative example, the mounting table 90 shown in FIG. 13A is used, and the matching body 52 is pressed in a state where the cover 91 is suspended (the state shown in FIG. 13A), and the inside is irradiated with ultraviolet rays. The photo-curable resin 45 was cured. When the completed glass substrate 66 was left for 90 minutes, a stain was generated and spread over time.
1 インプリント装置
5 樹脂液塗布ステージ
6 押圧ステージ
7 載置台
8 載置台移動装置
20 押圧手段
21 発光装置
30 本体部
31 空間形成部材
35 溝
36 空間形成部
41 モールド
43 ガラス基板
45 光硬化性樹脂
46 ガラス基板の辺部
47 モールドの辺部
50 略閉塞空間
52 合致体
66 ガラス基板
71 太陽電池パネル
76 有機ELパネル
77,80,83,86,88,90,95 載置台
78,81,85 空間形成部材
82,89 シール部材
87 溝
91 カバー
92,94 チューブ
93 空間
96 ロール(押圧手段)
DESCRIPTION OF SYMBOLS 1 Imprint apparatus 5 Resin liquid application | coating stage 6 Pressing stage 7 Mounting base 8 Mounting base moving apparatus 20 Pressing means 21 Light-emitting device 30 Main body part 31 Space forming member 35 Groove 36 Space forming part 41 Mold 43 Glass substrate 45 Photocurable resin 46 Side 47 of glass substrate Side 50 of mold Substantially closed space 52 Matching body 66 Glass substrate 71 Solar cell panel 76 Organic EL panels 77, 80, 83, 86, 88, 90, 95 Mounting tables 78, 81, 85 Space formation Member 82, 89 Seal member 87 Groove 91 Cover 92, 94 Tube 93 Space 96 Roll (pressing means)

Claims (8)

  1. 押圧手段と発光手段とを有し、モールドと基板との間に光硬化性樹脂を挟んだ状態で押圧手段によってモールドと基板とを圧接し、発光手段によって光硬化性樹脂に光を照射して光硬化性樹脂を硬化させ、モールド表面の形状を基板に転写するインプリント装置において、
    基板又はモールドの辺部近傍だけを局所的に不活性ガス雰囲気にする局部不活性ガス雰囲気手段を有することを特徴とするインプリント装置。
    The pressing means and the light emitting means are provided, and the mold and the substrate are pressed by the pressing means in a state where the photocurable resin is sandwiched between the mold and the substrate, and light is applied to the photocurable resin by the light emitting means. In the imprint apparatus that cures the photocurable resin and transfers the shape of the mold surface to the substrate,
    An imprint apparatus comprising a local inert gas atmosphere means for locally providing an inert gas atmosphere only in the vicinity of a side of a substrate or a mold.
  2. モールドと基板との間に光硬化性樹脂を挟んだ状態の合致体を載置する載置台を有し、前記載置台と一体であって基板又はモールドの辺部近傍に相当する位置に空間形成部が設けられ、当該空間形成部に不活性ガスが導入されて基板又はモールドの辺部近傍だけが局所的に不活性ガス雰囲気にされることを特徴とする請求項1に記載のインプリント装置。   It has a mounting table for mounting a matching body in a state where a photo-curable resin is sandwiched between the mold and the substrate, and a space is formed at a position corresponding to the vicinity of the side of the substrate or the mold, which is integral with the mounting table. The imprint apparatus according to claim 1, wherein an inert gas is introduced into the space forming portion so that only the vicinity of the side of the substrate or the mold is locally in an inert gas atmosphere. .
  3. 空間形成部は上部が開口する溝であり、空間形成部に基板又はモールドの一部が載せられて前記開口が蓋され、基板又はモールドの一部と空間形成部とによって略閉塞された空間が形成されることを特徴とする請求項2に記載のインプリント装置。   The space forming part is a groove having an upper opening, and a part of the substrate or mold is placed on the space forming part to cover the opening, and a space substantially closed by the substrate or part of the mold and the space forming part is formed. The imprint apparatus according to claim 2, wherein the imprint apparatus is formed.
  4. 空間形成部は合致体の辺部を覆うカバーであり、基板又はモールドの一部と空間形成部とによって略閉塞された空間が形成されることを特徴とする請求項2に記載のインプリント装置。   3. The imprint apparatus according to claim 2, wherein the space forming portion is a cover that covers a side portion of the matching body, and a substantially closed space is formed by a part of the substrate or the mold and the space forming portion. .
  5. 合致体を載置した状態で載置台を直線的に移動させる載置台移動手段を有し、押圧手段はロールであって押圧手段と載置台の間に合致体を挟み込み、載置台移動手段で載置台を移動させて押圧位置を順次移動させることを特徴とする請求項2乃至4のいずれかに記載のインプリント装置。   It has a mounting table moving means for linearly moving the mounting table in a state where the matching body is mounted, the pressing means is a roll, and the matching body is sandwiched between the pressing means and the mounting table, and is mounted by the mounting table moving means. The imprint apparatus according to claim 2, wherein the pressing position is sequentially moved by moving the mounting table.
  6. モールドと基板との間に光硬化性樹脂を挟んだ状態で押圧手段によってモールドと基板とを圧接し、光硬化性樹脂に光を照射して光硬化性樹脂を硬化させ、モールド表面の形状を基板に転写するインプリント方法において、
    基板又はモールドの辺部近傍だけを局所的に不活性ガス雰囲気にした状態で光硬化性樹脂に光を照射して光硬化性樹脂を硬化させることを特徴とするインプリント方法。
    With the photocurable resin sandwiched between the mold and the substrate, the mold and the substrate are pressed against each other by pressing means, and the photocurable resin is irradiated with light to cure the photocurable resin. In an imprint method for transferring to a substrate,
    An imprinting method comprising: curing a photocurable resin by irradiating light to the photocurable resin in a state where only the vicinity of the side of the substrate or the mold is locally in an inert gas atmosphere.
  7. 少なくとも一方の面に微細なテクスチャが形成された透明基板と、光電変換部とを有する太陽電池を製造する太陽電池の製造方法において、
    微細なテクスチャが形成されたモールドと透明基板を使用し、請求項6に記載の方法によって前記透明基板の表面にテクスチャ形状を形成させる工程を含むことを特徴とする太陽電池の製造方法。
    In a solar cell manufacturing method for manufacturing a solar cell having a transparent substrate having a fine texture formed on at least one surface and a photoelectric conversion unit,
    A method for manufacturing a solar cell, comprising: using a mold having a fine texture and a transparent substrate, and forming a texture shape on the surface of the transparent substrate by the method according to claim 6.
  8. 少なくとも一方の面に微細なテクスチャが形成された透明基板と、有機EL発光部とを有する有機EL装置を製造する有機EL装置の製造方法において、
    微細なテクスチャが形成されたモールドと透明基板を使用し、請求項6に記載の方法によって前記透明基板の表面にテクスチャ形状を形成させる工程を含む有機EL装置の製造方法。
    In the manufacturing method of an organic EL device for manufacturing an organic EL device having a transparent substrate having a fine texture formed on at least one surface and an organic EL light emitting unit,
    The manufacturing method of the organic electroluminescent apparatus including the process of forming a texture shape on the surface of the said transparent substrate by the method of Claim 6 using the mold and transparent substrate in which the fine texture was formed.
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