JP6225511B2 - 表示装置及び電子機器 - Google Patents

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Description

本発明は、有機EL(Electro-Luminescence:エレクトロルミネッセンス)パネルを用いたアクティブマトリクス型の表示装置に関する。さらに、本発明は、そのような表示装置を用いた電子機器等に関する。
有機ELパネルは、発光層が有機化合物から成る有機発光ダイオード(Organic Light-Emitting Diode:OLED)が複数の画素に配置されて構成される。有機発光ダイオードは、発光層中に注入された電子と正孔との結合によって生じたエネルギーで励起された有機化合物の分子が励起状態から基底状態に戻る際に発光する。有機ELパネルにおいては、発光ダイオードのアノード(陽極)とカソード(陰極)との間に電流を流すことにより、その電流値に応じた輝度でインパルス型の点灯が行われる。
有機ELパネルの駆動方式としては、パッシブマトリクス型とアクティブマトリクス型とが存在する。パッシブマトリクス型によれば、アノードドライバーの複数の配線とカソードドライバーの複数の配線との間に、それぞれの画素の有機発光ダイオードが接続される。このように、構造は単純であるが、1ライン毎に発光するので発光輝度を大きくする必要があり、デバイスの寿命が短くなると共に、クロストークによる画質低下が問題となる。
一方、アクティブマトリクス型によれば、各々の画素に複数のトランジスターが配置されて、所定の期間において有機発光ダイオードに電流を流すことにより、高い発光効率と高画質を実現することができる。ただし、画素回路のトランジスターとしてアモルファスシリコンのTFT(薄膜トランジスター)を使用すれば、経年変化が大きくなり、低温多結晶シリコンのTFTを使用すれば、画素毎のしきい値電圧のばらつきが大きくなる。いずれの場合にも、それらを補償するために画素回路の構造が複雑になってしまう。
従来のアクティブマトリクス型の表示装置においては、トランジスターや配線の配置が画質に与える影響を平均化するために、画素回路のレイアウトを同じパターンの繰り返しとするか、又は、画素回路の小型化を図るために、画素回路のレイアウトを左右及び/又は上下に対称なミラー配置としていた。
関連する技術として、特許文献1には、表示領域内に効率的に画素回路を配置することのできる画像表示装置が開示されている。この画像表示装置は、表示領域を格子状に分割してなる複数の画素領域のそれぞれに配置された発光素子を発光させて画像を表示する画像表示装置であって、複数の画素領域のそれぞれに配置された発光素子の発光を制御するための画素回路が、当該画素領域から隣接する他の画素領域に向けて突出する部分と、隣接する他の画素回路が当該画素領域内に突出する部分とを有する領域に形成されることを特徴とする。
また、特許文献2には、開口率が改善された有機電界発光素子が開示されている。この有機電界発光素子は、基板と、基板上部の複数本のゲート配線と、複数本のゲート配線と相互に交差する基板上部の複数本のデータ配線と、基板上部に形成されて相互に連結される複数個のスイッチング素子及び駆動素子と、基板上部に形成されて複数本のデータ配線に平行して少なくとも2個の駆動素子と電気的に連結される電源配線とを含む。このような構成により、電源配線の本数を1/2に減らすことができるので、従来に比べて開口率が改善され、電流レベルを高めなくても良いので素子の寿命を延ばすことができる。
特許文献1においては、画素回路のレイアウトを左右及び上下に対称なミラー配置としているが、画素回路の端部に形成されているデータ信号線(DAT、図1及び図3C参照)が、隣の画素回路のデータ信号線と隣接してしまう。特許文献2においては、画素回路のレイアウトを左右に対称なミラー配置としているが、画素回路の端部に形成されているデータ配線(111、図5参照)が、隣の画素回路のデータ配線と隣接してしまう。
有機ELパネルを用いたアクティブマトリクス型の表示装置においては、データ線を介して画素回路の容量に書き込まれる画素信号(電荷)によって、有機発光ダイオードに電流を流すトランジスターの容量駆動が行われる。その際に、2つのデータ線が隣接していると、画素回路の容量に一旦書き込まれた画素信号が、隣の画素回路の容量に画素信号を書き込む際に、隣接する2つのデータ線間の寄生容量によって変化して、階調に影響を与えるおそれがある。
特開2010−210905号公報(段落0007−0009) 特開2004−6341号公報(段落0039−0041)
上記のように、有機ELパネルを用いたアクティブマトリクス型の表示装置においては、各々の画素回路に複数のトランジスターが配置されるので、画素回路の小型化が難しく、高精細な画像を表示するために画素ピッチを縮小する際に、製造上の制約を受けてしまう。また、画素回路のレイアウトを左右に対称なミラー配置とする場合には、隣接する2つのデータ線間の寄生容量によるクロストークも問題となる。そこで、本発明の第1の目的は、画素回路の小型化を容易に実現できる表示装置を提供することである。また、本発明の第2の目的は、隣接する2つの画素回路におけるデータ線間の寄生容量によるクロストークを低減することである。
以上の課題を解決するため、本発明の1つの観点に係る表示装置は、有機EL(エレクトロルミネッセンス)パネルを用いたアクティブマトリクス型の表示装置であって、有機ELパネルの画素領域に配置された有機発光ダイオード、及び、有機発光ダイオードを駆動する複数のトランジスターを各々が含む複数の画素回路と、有機ELパネルにおいて第1の方向に沿って配置された複数の走査線と、有機ELパネルにおいて第1の方向と直交する第2の方向に沿って配置された複数のデータ線とを具備し、第1の方向において隣接する少なくとも1組の画素回路において、複数のトランジスターのゲート電極及び不純物拡散領域が線対称でレイアウトされており、少なくとも1組の画素回路において対称配置されている少なくとも1組のトランジスターのゲート電極が一体的に構成されている。
本発明の1つの観点によれば、第1の方向において隣接する少なくとも1組の画素回路において、複数のトランジスターのゲート電極及び不純物拡散領域を線対称でレイアウトすることにより、配線層において効率良く配線を配置することができる。また、第1の方向において隣接する少なくとも1組の画素回路において対称配置されている少なくとも1組のトランジスターのゲート電極を共通化して一体的に構成することにより、それらのトランジスターのゲート電極を個別に構成する場合と比較して、ゲート電極間のスペース分だけトランジスターの間隔を狭くし、画素ピッチを小さくすることができる。
この表示装置は、第1の方向において隣接する1組の画素回路にそれぞれ接続された2つのデータ線の間に配置されたシールド線をさらに具備しても良い。これにより、第1の方向において隣接する1組の画素回路のレイアウトをミラー配置にしても、2つのデータ線が隣接することを防止して、データ線間の寄生容量によるクロストークを低減することができる。
また、複数の画素回路の各々が、ゲートに接続されたキャパシターの電位に従って、有機発光ダイオードに電流を供給する第1のトランジスターと、ゲートに接続された走査線の電位に従って、第1のトランジスターのゲートを1つのデータ線に接続する第2のトランジスターとを含むようにしても良い。このように、画素回路に2つのトランジスターのみが含まれている場合でも、有機ELパネルに画像を表示することができる。
ここで、第1の方向において隣接する1組の画素回路の第2のトランジスターのゲート電極が一体的に構成されていても良い。これにより、1組の画素回路の第2のトランジスターの間隔を縮小することができる。
また、複数の画素回路の各々が、ゲートに供給される信号に従って、第1のトランジスターのゲートとドレインとの間の接続を開閉する第3のトランジスターと、ゲートに供給される信号に従って、第1のトランジスターのドレインと有機発光ダイオードのアノードとの間の接続を開閉する第4のトランジスターと、ゲートに供給される信号に従って、有機発光ダイオードのアノードとリセット電位線との間の接続を開閉する第5のトランジスターとをさらに含むようにしても良い。これにより、画質や機能をさらに改善することができる。
その場合に、第1の方向において隣接する第1〜第3の画素回路において、第2及び第3の画素回路の第2のトランジスターのゲート電極が一体的に構成されており、第2及び第3の画素回路の第3のトランジスターのゲート電極が一体的に構成されており、第1及び第2の画素回路の第4のトランジスターのゲート電極が一体的に構成されており、第2及び第3の画素回路の第5のトランジスターのゲート電極が一体的に構成されても良い。これにより、1組の第2のトランジスターの間隔、1組の第3のトランジスターの間隔、1組の第4のトランジスターの間隔、及び、1組の第5のトランジスターの間隔を縮小することができる。
また、この表示装置は、第1の方向において隣接する1組の画素回路の第1のトランジスターのゲート電極にそれぞれ接続された2つの配線の間に配置されたシールド線をさらに具備しても良い。このようなレイアウトパターンでシールド線を配置することによってシールド効果が増加するので、隣接する画素間において表示に与えるクロストークの影響を低減することができる。
以上において、第1の方向において隣接する少なくとも1組の画素回路において対称配置されている少なくとも1組のトランジスターの一体的に構成されたゲート電極が、1つの接続点において1つの配線に接続されても良い。これにより、スルーホールやコンタクトの数を減少させて、画素回路を小型化することができる。
本発明の1つの観点に係る電子機器は、本発明のいずれかの観点に係る表示装置を具備する。これにより、高精細な画像を表示するために画素ピッチが縮小されたエレクトリック・ビューファインダーやヘッドマウント・ディスプレイ等の電子機器を提供することができる。
本発明の一実施形態に係る表示装置を用いた電子機器を示すブロック図。 本発明の一実施形態に係る表示装置の一例を示す斜視図。 図1に示す画素部の回路構成の一例を示す回路図。 画素回路におけるゲート電極及び不純物拡散領域のレイアウトを示す平面図。 画素回路における第1の配線層のレイアウトを示す平面図。 画素回路における第2の配線層のレイアウトを示す平面図。
以下、本発明の実施形態について、図面を参照しながら詳しく説明する。なお、同一の構成要素には同一の参照符号を付して、重複する説明を省略する。
図1は、本発明の一実施形態に係る表示装置を用いた電子機器の構成を示すブロック図である。この電子機器は、エレクトリック・ビューファインダーやヘッドマウント・ディスプレイ等の電子機器であり、図1においては、画像表示に関する部分のみが示されている。
図1に示すように、この電子機器は、画像データ処理回路10と、表示タイミング生成回路20と、走査線ドライバー30と、データ線ドライバー40と、画素部50とを含んでいる。ここで、少なくとも走査線ドライバー30〜画素部50が、有機ELパネルを用いたアクティブマトリクス型の表示装置を構成する。
画素部50は、有機ELパネルの複数の画素領域にそれぞれ形成された複数の画素回路を含んでいる。有機ELパネルにおいて、透明基板上にアモルファスシリコン又は低温多結晶シリコンでTFTを形成することにより、画素回路を形成しても良い。あるいは、画素回路が形成されたシリコン(Si)の半導体基板をバックプレーンとして使用し、その上に有機発光ダイオード(OLED)が形成された有機ELパネルを用いても良い。そのような有機ELパネルは、「SiOLED」とも呼ばれる。
SiOLEDの場合には、各々の画素回路を構成するトランジスターの数が増加しても、それらのトランジスターを半導体基板に容易に形成することができる。また、走査線ドライバー30〜画素部50のみならず、画像データ処理回路10及び表示タイミング生成回路20の少なくとも一部を、半導体基板に形成しても良い。
画像データ処理回路10は、画像データ及びクロック信号を入力し、画像データに対して各種の画像処理を施す。例えば、画像データ処理回路10は、画像データに対してガンマ補正処理又は残像補正処理を施しても良い。画像データ処理回路10は、画像処理が施された画像データを、データ線ドライバー40に供給する。
表示タイミング生成回路20は、外部から供給される垂直同期信号、水平同期信号、及び、ドットクロック信号に同期して、表示装置を制御するための各種のタイミング信号を生成する。例えば、表示タイミング生成回路20は、スタート信号及びラインクロック信号を生成して走査線ドライバー30に供給する。スタート信号は、垂直走査の開始タイミングを規定するスタートパルスを含み、画素部50の走査を開始するためのトリガーとなる。
走査線ドライバー30は、シフトレジスター及び出力バッファーを含んで構成され、スタートパルスが印加されると、ラインクロック信号に同期して、複数の走査線G1、G2、・・・を順次選択して、選択された走査線に走査信号を供給する。これにより、スタートパルスをトリガーとして全ての走査線が順次選択され、1垂直走査駆動が行われる。また、走査線ドライバー30は、画素部50の動作を制御するための各種の制御信号を画素部50に供給しても良い。
データ線ドライバー40は、複数のD/Aコンバーターを含んで構成され、画像データ処理回路10から供給される画像データによって表される階調に応じた複数の画素信号を生成する。データ線ドライバー40は、走査信号に同期したタイミングで、それらの画素信号を複数のデータ線D1、D2、・・・に供給する。
画素部50では、有機ELパネルにおいて第1の方向(図中のX軸方向)に沿って複数の走査線G1、G2、・・・が配置されており、有機ELパネルにおいて第1の方向と直交する第2の方向(図中のY軸方向)に沿って複数のデータ線D1、D2、・・・が配置されている。また、それらの走査線とそれらのデータ線とが交差する位置に、複数の画素回路が設けられている。
走査線ドライバー30から供給される走査信号によって、複数行の画素回路が順次選択される。選択された1行の画素回路には、データ線ドライバー40から複数のデータ線D1、D2、・・・を経由してそれぞれの画素信号が書込まれる。各々の画素回路は、有機発光ダイオードを備えており、有機発光ダイオードは、書き込まれた画素信号に応じた強度で発光し、画素毎に階調表示がなされる。
図2は、本発明の一実施形態に係る表示装置の一例を示す斜視図である。ここでは、SiOLEDを用いた表示装置について説明する。図2に示すように、表示装置60は、有機ELパネル70と、フレキシブル基板80とを含んでいる。有機ELパネル70は、シリコンの半導体基板71と、半導体基板71上に蒸着された有機化合物からなる発光層(OLED層)72と、OLED層72上に設けられたカバーガラス73とを含むトップエミッション型の表示パネルである。半導体基板71には、複数の画素回路が形成されており、OLED層72から発する表示光が、カバーガラス73側から出射する。
有機ELパネル70は、マトリックス状に配置された複数の画素を有する表示領域70aを備えている。図2の右上に拡大して示すように、表示領域70aには、赤色(R)、緑色(G)、青色(B)の発光素子が周期的に配置されており、それらの発光素子が出射する光によりフルカラーの画像が表示される。
有機ELパネル70の表示領域70aの周縁部(額縁部)には、走査線ドライバー30及びデータ線ドライバー40(図1参照)が形成されている。それらの回路を構成する回路素子は、画素回路と同様に、半導体基板71に形成される。また、半導体基板71がカバーガラス73から張り出した領域に、フレキシブル基板80が接続されている。
フレキシブル基板80の端部には、外部機器又は専用のコントローラーと接続するための複数の端子が形成されている。有機ELパネル70は、フレキシブル基板80を介して、外部機器又はコントローラーから画像データや電力や制御信号の供給を受けることにより、表示領域70aに画像や文字等を表示する。
図3は、図1に示す画素部の回路構成の一例を示す回路図である。図3においては、第1の方向(図1に示すX軸方向)において隣接する3つの画素回路1〜3と、テスト制御用の回路とが示されている。画素回路1〜3は、例えば、RGBの発光素子が形成された3つの画素領域にそれぞれ設けられている。画素回路1〜3には、電源電位VEL(例えば、8V)と、電源電位VCT(例えば、0V)とが供給される。
画素回路1は、有機ELパネルの画素領域に配置された有機発光ダイオードDと、有機発光ダイオードDを駆動する複数のトランジスターと、画素信号を保持するキャパシターCとを含んでいる。例えば、画素回路は、PチャネルMOSトランジスターQP1及びQP2を含んでおり、さらに、オプションとして、PチャネルMOSトランジスターQP3〜QP5を含んでも良い。
トランジスターQP1のソースは、電源電位VELに接続されており、トランジスターQP1のドレインは、トランジスターQP4のソースに接続されている。トランジスターQP4を設けない場合には、トランジスターQP1のドレインは、有機発光ダイオードDのアノードに接続される。有機発光ダイオードDのカソードは、電源電位VCTに接続されている。また、キャパシターCの第1の電極は、電源電位VELに接続されており、キャパシターCの第2の電極は、トランジスターQP1のゲートに接続されている。
トランジスターQP2のソースは、データ線D1に接続されており、トランジスターQP2のドレインは、キャパシターCの第2の電極及びトランジスターQP1のゲートに接続されている。また、トランジスターQP2のゲートは、1つの走査線に接続されており、トランジスターQP2は、ゲートに接続された走査線の電位に従って、トランジスターQP1のゲートをデータ線D1に接続する。
即ち、走査線の電位をローレベルに活性化すると、トランジスターQP2がオンして、データ線D1の電位をトランジスターQP1のゲートに供給する。トランジスターQP1は、ゲートに接続されたキャパシターCの第2の電極に保持された電位に従って、有機発光ダイオードDに電流を供給する。有機発光ダイオードDは、供給される電流値に応じた輝度で発光する。
一方、走査線の電位をハイレベルに非活性化すると、トランジスターQP2がオフして、トランジスターQP1のゲートがデータ線D1から切り離されるが、この状態においても、トランジスターQP1は、ゲートに接続されたキャパシターCの第2の電極に保持された電位に従って、有機発光ダイオードDに電流を供給することができる。
このように、画素回路1に2つのトランジスターQP1及びQP2のみが含まれている場合でも有機ELパネルに画像を表示することができるが、以下においては、さらに画質や機能を改善するために、画素回路1がPチャネルトランジスターQP3〜QP5をさらに含む場合について説明する。
トランジスターQP3のソースは、トランジスターQP1のゲートに接続されており、トランジスターQP3のドレインは、トランジスターQP1のドレインに接続されている。また、トランジスターQP3のゲートには、しきい値補償信号が供給されて、トランジスターQP3は、しきい値補償信号に従って、トランジスターQP1のゲートとドレインとの間の接続を開閉する。
即ち、しきい値補償信号をローレベルに活性化すると、トランジスターQP3がオンして、トランジスターQP1のゲートとドレインとが接続されるので、トランジスターQP1はダイオードと等価になる。このとき、データ線D1の電位を所定の電位(例えば、0V)に固定すると共に、トランジスターQP2をオンさせると、等価ダイオードの両端に順方向電圧が発生し、その電圧がキャパシターCに保持される。
これにより、複数の画素回路においてトランジスターQP1のしきい値電圧にばらつきが生じていても、しきい値電圧に相当する電圧がキャパシターCに保持されるので、トランジスターQP1のしきい値電圧のばらつきによるドレイン電流のばらつきを補償することができる。その後、しきい値補償信号をハイレベルに非活性化してトランジスターQP3をオフさせた状態で、データ線D1に画素信号を供給することにより、画素信号の電位が、キャパシターCの第2の電極に保持されている電位に重畳される。
トランジスターQP4のソースは、トランジスターQP1のドレインに接続されており、トランジスターQP4のドレインは、有機発光ダイオードDのアノードに接続されている。トランジスターQP4のゲートには、発光制御信号が供給されて、トランジスターQP4は、発光制御信号に従って、トランジスターQP1のドレインと有機発光ダイオードDのアノードとの間の接続を開閉する。
即ち、発光制御信号がローレベルに活性化されると、トランジスターQP4がオンして、トランジスターQP1のドレイン電流が有機発光ダイオードDに供給される。一方、発光制御信号がハイレベルに非活性化されると、トランジスターQP4がオフして、トランジスターQP1のドレイン電流は有機発光ダイオードDに供給されなくなる。このように、発光制御信号を活性化する期間に応じて、有機発光ダイオードDの発光期間を制御することができる。
トランジスターQP5のソースは、リセット電位線R1に接続されており、トランジスターQP5のドレインは、有機発光ダイオードDのアノードに接続されている。トランジスターQP5のゲートには、LEDリセット信号が供給されて、トランジスターQP5は、LEDリセット信号に従って、有機発光ダイオードDのアノードとリセット電位線R1との間の接続を開閉する。
即ち、LEDリセット信号がローレベルに活性化されると、トランジスターQP5がオンして、有機発光ダイオードDのアノードに所定のリセット電位(例えば、0V)を印加する。これにより、有機発光ダイオードDの発光を完全に停止させることができる。一方、LEDリセット信号がハイレベルに非活性化されると、トランジスターQP5がオフして、有機発光ダイオードDの発光が可能となる。
リセット電位線R1は、テストモードにおいて、トランジスターQP1のドレイン電流を測定するためにも用いることができる。そのために、PチャネルMOSトランジスターQP11とNチャネルMOSトランジスターQN11とによって構成される第1のトランスミッションゲートが、リセット電位線R1とテストラインT1との間に接続されている。また、PチャネルMOSトランジスターQP12とNチャネルMOSトランジスターQN12とによって構成される第2のトランスミッションゲートが、リセット電位線R1とリセット電位との間に接続されている。
テストモードにおいては、テスト制御信号がローレベルに活性化され、インバーターINVの出力信号がハイレベルとなる。従って、第1のトランスミッションゲートのトランジスターQP11及びQN11がオンとなり、第2のトランスミッションゲートのトランジスターQP12及びQN12がオフとなって、リセット電位線R1がテストラインT1に接続される。これにより、トランジスターQP5がオンしているときに、テストラインT1を介してトランジスターQP1のドレイン電流を測定することができる。
一方、通常動作モードにおいては、テスト制御信号がハイレベルに非活性化され、インバーターINVの出力信号がローレベルとなる。従って、第1のトランスミッションゲートのトランジスターQP11及びQN11がオフとなり、第2のトランスミッションゲートのトランジスターQP12及びQN12がオンとなって、リセット電位線R1がリセット電位に接続される。
以上、画素回路1の構成について説明したが、画素回路2及び3の構成も、画素回路1と同様である。ここで、画素回路1の図中左側にはシールド線S1が設けられており、画素回路1と画素回路2との間にはシールド線S2が設けられており、画素回路2と画素回路3との間にはシールド線S3が設けられている。また、PチャネルMOSトランジスターQP13とNチャネルMOSトランジスターQN13とによって構成されるトランスミッションゲートが、シールド線S1〜S3とリセット電位との間に接続されている。
テストモードにおいては、トランスミッションゲートのトランジスターQP13及びQN13がオフとなって、シールド線S1〜S3がリセット電位から切り離される。一方、通常動作モードにおいては、トランスミッションゲートのトランジスターQP13及びQN13がオンとなって、シールド線S1〜S3がリセット電位に接続される。
次に、図3に示す画素回路のレイアウトについて説明する。SiOLEDの場合には、シリコンの半導体基板の一部の領域上にゲート絶縁膜を介してゲート電極が形成され、その両側の半導体基板内にソース及びドレインとなる不純物拡散領域が形成されて、トランジスターが形成される。
トランジスターが形成された半導体基板上には、第1の層間絶縁膜を介して第1の配線層が形成され、さらにその上に、第2の層間絶縁膜を介して第1の配線層が形成され、そのようにして、必要な数の配線層が形成される。例えば、層間絶縁膜は、二酸化シリコンによって形成され、配線層は、アルミニウムによって形成される。
図4は、図3に示す画素回路におけるゲート電極及び不純物拡散領域のレイアウトを示す平面図である。図5は、図3に示す画素回路における第1の配線層のレイアウトを示す平面図であり、図6は、図3に示す画素回路における第2の配線層のレイアウトを示す平面図である。図5及び図6において、ゲート電極及び不純物拡散領域のレイアウト上に、それぞれの配線層のレイアウトがグレーで示されている。また、×印は、それぞれの配線層の配線を下層に接続するために層間絶縁膜に形成されたスルーホールを表している。
図4〜図6においては、第1の方向(図1に示すX軸方向)において隣接する3つの画素回路1〜3が示されているが、他の画素回路のレイアウトも、第1の方向において隣接する1組(2つ)の画素回路についてミラー配置となっている。第2の方向(図1に示すY軸方向)において隣接する1組の画素回路については、同一パターンの繰り返しとしても良いし、ミラー配置としても良い。なお、画素回路のレイアウトにおける第1の方向及び第2の方向は、図1に示すX軸方向及びY軸方向に限定されるものではない。
図4に示すように、第1の方向において隣接する画素回路1及び2において、トランジスターQP1〜QP5のゲート電極(G)、ソース(S)、及び、ドレイン(D)が、画素回路の境界線に関して線対称でレイアウトされている。さらに、対称配置されている1組のトランジスターQP4のゲート電極が一体的に構成されている。
また、第1の方向において隣接する画素回路2及び3において、トランジスターQP1〜QP5のゲート電極(G)、ソース(S)、及び、ドレイン(D)が、画素回路の境界線に関して線対称でレイアウトされている。さらに、対称配置されている1組のトランジスターQP2のゲート電極が一体的に構成されており、対称配置されている1組のトランジスターQP3のゲート電極が一体的に構成されており、対称配置されている1組のトランジスターQP5のゲート電極が一体的に構成されている。
このように、第1の方向において隣接する少なくとも1組の画素回路において、複数のトランジスターのゲート電極及び不純物拡散領域を線対称でレイアウトすることにより、配線層において効率良く配線を配置することができる。また、第1の方向において隣接する少なくとも1組の画素回路において対称配置されている少なくとも1組のトランジスターのゲート電極を共通化して一体的に構成することにより、それらのトランジスターのゲート電極を個別に構成する場合と比較して、ゲート電極間のスペース分だけトランジスターの間隔を狭くし、画素ピッチを小さくすることができる。
図5に示すように、第1の配線層には、走査線、シールド線、しきい値補償信号の配線、発光制御信号の配線、及び、LEDリセット信号の配線が、第1の方向に沿って形成されている。画素回路1及び2において、1組のトランジスターQP4の一体的に構成されたゲート電極が、1つの接続点において発光制御信号の配線に接続されている。また、画素回路2及び画素回路3において、1組のトランジスターQP2の一体的に構成されたゲート電極が、1つの接続点において1つの走査線に接続されており、1組のトランジスターQP3の一体的に構成されたゲート電極が、1つの接続点においてしきい値補償信号の配線に接続されており、1組のトランジスターQP5の一体的に構成されたゲート電極が、1つの接続点においてLEDリセット信号の配線に接続されている。
このように、第1の方向において隣接する1組の画素回路において対称配置されている1組のトランジスターの一体的に構成されたゲート電極を、1つの接続点において1つの配線に接続することにより、スルーホールやコンタクトの数を減少させて、画素回路を小型化することができる。
また、シールド線は、走査線としきい値補償信号の配線との間に配置されているだけではなく、画素回路1〜3の各々において、トランジスターQP1のゲート電極に接続された配線と走査線との間にも配置されている。さらに、シールド線は、隣接する1組の画素回路において対称配置された1組のトランジスターQP1にそれぞれ接続された2つの配線の間にも配置されている。このようなレイアウトパターンでシールド線を配置することによってシールド効果が増加するので、隣接する画素間において表示に与えるクロストークの影響を低減することができる。
図6に示すように、第2の配線層には、シールド線S1〜S3、データ線D1〜D3、及び、リセット電位線R1〜R3が、第2の方向に沿って形成されている。ここで、シールド線S3は、第1の方向において隣接する画素回路2及び3にそれぞれ接続された2つのデータ線D2及びD3の間に配置されている。これにより、第1の方向において隣接する1組の画素回路のレイアウトをミラー配置にしても、2つのデータ線が隣接することを防止して、データ線間の寄生容量によるクロストークを低減することができる。
また、図4〜図6に示すように、第1の方向において隣接する1組の画素回路において、上層とコンタクトする部分についてもレイアウトをミラー配置とすることにより、それらの画素回路において配線間の容量カップリング等に違いが出ないようになっている。さらに、第3の配線層には、電源電位VELを供給する配線が配置され、この配線は、第2の配線層及び第1の配線層を介して、トランジスターQP1のソースに電気的に接続される。このように、電源電位VELを供給する第3の配線層を別途設けたことにより、第1及び第2の配線層から発生するノイズがトランジスターQP1のソース電位に与える影響を低減することができる。
図3に示すキャパシターCは、例えば、絶縁層を金属で挟み込んだMIM(metal-insulator-metal:金属−絶縁体−金属)構造で形成される。その場合には、第3の配線層にキャパシターCの第1の電極を形成し、第4の配線層にキャパシターCの第2の電極を形成し、第5の配線層にキャパシターCの第1の電極を形成して、キャパシターCを積層構造としても良い。第3及び第5の配線層に形成されたキャパシターCの第1の電極には、電源電位VELが供給される。
このように、キャパシターCの第1の電極の電位をトランジスターQP1のソース電位及びバックゲート電位と同じにすることによって、キャパシターCの第1の電極に供給される電源電位VELを、トランジスターQP1のソース等にも低インピーダンスで安定して供給することができる。
以上の実施形態においては、画素回路においてPチャネルMOSトランジスターを使用する場合について説明したが、本発明は、画素回路においてNチャネルMOSトランジスターを使用する場合にも適用することが可能である。
このように、本発明は、以上説明した実施形態に限定されるものではなく、当該技術分野において通常の知識を有する者によって、本発明の技術的思想内で多くの変形が可能である。
1〜3…画素回路、10…画像データ処理回路、20…表示タイミング生成回路、30…走査線ドライバー、40…データ線ドライバー、50…画素部、60…表示装置、70…有機ELパネル、70a…表示領域、71…半導体基板、72…OLED層、73…カバーガラス、80…フレキシブル基板、G1、G2、・・・…走査線、D1、D2、・・・…データ線、S1〜S3…シールド線、R1〜R3…リセット電位線、T1〜T3…テストライン、D…有機発光ダイオード、QP1〜QP13…PチャネルMOSトランジスター、QN11〜QN13…NチャネルMOSトランジスター、C…キャパシター

Claims (12)

  1. 画素領域に配置された有機発光ダイオードと、
    前記有機発光ダイオードを駆動する複数のトランジスターを各々が含む複数の画素回路と、
    第1の方向に沿って配置された複数の走査線と、
    前記第1の方向と交差した第2の方向に沿って配置された複数のデータ線と、を具備し、
    前記複数の画素回路のうち、前記第1の方向において隣接する少なくとも1組の画素回路において、前記少なくとも1組の画素回路に含まれる複数のトランジスターのゲート電極及び不純物拡散領域は、線対称となるように配置され、
    前記少なくとも1組の画素回路において線対称となるように配置された複数のトランジスターのうち、少なくとも1組のトランジスターのゲート電極は、一体的に構成され、かつ、島状に独立して配置されている表示装置。
  2. 前記少なくとも1組の画素回路において線対称となるように配置された複数のトランジスターのうち、一体的に構成された前記少なくとも1組のトランジスターのゲート電極は、配線に接続されている、請求項1に記載の表示装置。
  3. 前記少なくとも1組の画素回路において線対称となるように配置された複数のトランジスターのうち、一体的に構成された前記少なくとも1組のトランジスターのゲート電極は、1つの接続点において前記配線に接続されている、請求項2に記載の表示装置。
  4. 前記少なくとも1組の画素回路の複数のトランジスターのうち、少なくとも2組のトランジスターのゲート電極は、各々が一体的に構成されている、請求項1〜3のいずれか1項記載の表示装置。
  5. 前記少なくとも1組の画素回路の各々の画素回路にそれぞれ接続された2つのデータ線の間に、シールド線が配置されている、請求項1〜4のいずれか1項記載の表示装置。
  6. 前記複数の画素回路の各々が、
    ゲートに接続されたキャパシターの電位に従って、前記有機発光ダイオードに電流を供給する第1のトランジスターと、
    ゲートに接続された走査線の電位に従って、前記第1のトランジスターのゲートを1つのデータ線に接続する第2のトランジスターと、
    を含む、請求項1〜5のいずれか1項記載の表示装置。
  7. 前記少なくとも1組の画素回路の各々の画素回路の前記第2のトランジスターのゲート電極が一体的に構成されている、請求項記載の表示装置。
  8. 前記複数の画素回路の各々が、
    ゲートに供給される信号に従って、前記第1のトランジスターのゲートとドレインとの間の接続を開閉する第3のトランジスターと、
    ゲートに供給される信号に従って、前記第1のトランジスターのドレインと前記有機発光ダイオードのアノードとの間の接続を開閉する第4のトランジスターと、
    ゲートに供給される信号に従って、前記有機発光ダイオードのアノードとリセット電位線との間の接続を開閉する第5のトランジスターと、
    をさらに含む、請求項又は記載の表示装置。
  9. 前記複数の画素回路のうち、第1画素回路と、前記第1画素回路と前記第1の方向において隣接する第2画素回路と、前記第2画素回路と前記第1方向において隣接する第3画素回路と、において、
    前記第2及び第3の画素回路の各々の画素回路の第2のトランジスターのゲート電極が一体的に構成されており、
    前記第2及び第3の画素回路の各々の画素回路の第3のトランジスターのゲート電極が一体的に構成されており、
    前記第1及び第2の画素回路の各々の画素回路の第4のトランジスターのゲート電極が一体的に構成されており、
    前記第2及び第3の画素回路の各々の画素回路の第5のトランジスターのゲート電極が一体的に構成されている、
    請求項記載の表示装置。
  10. 前記少なくとも1組の画素回路の各々の画素回路の第1のトランジスターのゲート電極にそれぞれ接続された2つの配線の間に、シールド線が配置されている、請求項のいずれか1項記載の表示装置。
  11. 請求項1〜10のいずれか1項記載の表示装置を具備する電子機器。
  12. 画素領域に配置された発光素子と、
    前記発光素子を駆動する複数のトランジスターを各々が含む複数の画素回路と、
    第1の方向に沿って配置された複数の走査線と、
    前記第1の方向と交差した第2の方向に沿って配置された複数のデータ線と、を具備し、
    前記複数の画素回路のうち、前記第1の方向において隣接する少なくとも1組の画素回路において、前記少なくとも1組の画素回路に含まれる複数のトランジスターのゲート電極及び不純物拡散領域は、線対称となるように配置され、
    前記少なくとも1組の画素回路において線対称となるように配置された複数のトランジスターのうち、少なくとも1組のトランジスターのゲート電極は、一体的に構成され、かつ、島状に独立して配置されている表示装置。
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