JP6107224B2 - ガラス母材の製造方法 - Google Patents
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Description
また、前記第2の所定時間を60分以上としてもよい。
また、前記第1の所定時間を、70分以上150分以下としてもよい。
まず、本実施形態に係るガラス母材の製造方法において用いられる焼結炉について説明する。図1は、本実施形態に係るガラス母材の製造方法において用いられる焼結炉の断面図である。
本実施形態に係るガラス母材の製造方法は、図1に示した焼結炉1によって多孔質ガラス母材10を焼結することにより、透明ガラス母材11を製造する方法である。上記多孔質ガラス母材10は、OVD法(外付け気相蒸着法)やVAD法(気相軸付け法)などにより石英ガラスなどの種棒(ガラスロッド)にガラス微粒子を堆積させることで得られたものを使用する。そして、多孔質ガラス母材10を炉心管2の内部に入れ、例えば炉内ガスはHeとし、この雰囲気下でヒータ3により加熱して透明ガラス母材11を製造する。なお、製造中にフッ素(F)を添加するなど、炉内ガスを途中で変えてもよい。
図2は、本実施形態におけるヒータ3の各段(3A,3B,3C)の温度パターンを示す図である。(a)が上段ヒータ3A、(b)が中段ヒータ3B、(c)が下段ヒータ3Cの温度パターンを示す。なお、図2の横軸は時間であり、縦軸はヒータの設定温度である。
実施例として、図2で示した、上段ヒータ3A、中段ヒータ3B、下段ヒータ3Cの温度パターンにしたがって焼結を実施した。
多孔質ガラス母材10を焼結炉1の内部に入れ、焼結炉1の内部を真空引きして、上段ヒータ3A、中段ヒータ3B、下段ヒータ3Cを脱水温度である1200℃(T1)から1300℃(T2)の範囲内まで上昇させて80分間(t2−t1:第1の所定時間)保持する。
次に、下段ヒータ3Cのみ仮収縮温度である1300℃(T2)から1400℃(T3)の範囲内まで上昇させ、上段ヒータ3A及び中段ヒータ3Bは脱水温度のまま70分間(t3−t2:第2の所定時間)保持する。
そして、図2に示すように、上段ヒータ3A、中段ヒータ3B、下段ヒータ3Cの温度を1400℃(T3)以上に上昇させ焼結させる。その後、得られた透明ガラス母材11を焼結炉1から取り出す。
比較例として、図3で示した、上段ヒータ3A、中段ヒータ3B、下段ヒータ3Cの温度パターンにしたがって焼結を実施した。
多孔質ガラス母材10を焼結炉1の内部に入れ、焼結炉1の内部を真空引きして、上段ヒータ3A、中段ヒータ3B、下段ヒータ3Cを脱水温度である1200℃(T1)から1300℃(T2)の範囲内まで上昇させて150分間(t2’−t1’)保持する。
そして、図3に示すように、上段ヒータ3A、中段ヒータ3B、下段ヒータ3Cの温度を仮収縮温度である1300℃(T2)から1400℃(T3)の範囲内まで上昇させ、所定時間保持する。その後、上段ヒータ3A、中段ヒータ3B、下段ヒータ3Cの温度を1400℃(T3)以上に上昇させ焼結させる。その後、得られた透明ガラス母材11を焼結炉1から取り出す。
このように、本実施形態に係るガラス母材の製造方法によれば、ガラスロッドとその周囲部が剥離しにくいことがわかる。
Claims (4)
- ガラスロッドの周囲にガラス微粒子が堆積されてなる多孔質ガラス母材を、焼結炉内でその中心軸が上下方向となるように支持しながら、複数に分割されたヒータからなる焼結炉の各段の温度を脱水温度まで上昇させ、第1の所定時間脱水温度で保持した後に、前記多孔質ガラス母材の下端部を焼結するヒータのみ仮収縮温度に上げ、他のヒータは脱水温度に保持したまま第2の所定時間保持して前記多孔質ガラス母材の下端部を先に仮収縮させ、その後各段のヒータの温度を上昇させて前記多孔質ガラス母材を焼結させ、透明なガラス母材とすることを特徴とする、ガラス母材の製造方法。
- 請求項1に記載のガラス母材の製造方法において、
前記第2の所定時間における前記下端部のヒータと前記他のヒータとの温度差は50℃以上であることを特徴とする、ガラス母材の製造方法。 - 請求項1または2に記載のガラス母材の製造方法において、
前記第2の所定時間を60分以上とすることを特徴とする、ガラス母材の製造方法。 - 請求項1から3の何れか一項に記載のガラス母材の製造方法において、
前記第1の所定時間を、70分以上150分以下とすることを特徴とする、ガラス母材の製造方法。
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