JP6079431B2 - Method for producing boron compound - Google Patents

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JP6079431B2 JP2013105859A JP2013105859A JP6079431B2 JP 6079431 B2 JP6079431 B2 JP 6079431B2 JP 2013105859 A JP2013105859 A JP 2013105859A JP 2013105859 A JP2013105859 A JP 2013105859A JP 6079431 B2 JP6079431 B2 JP 6079431B2
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本発明は、下記式(I)で表される化合物から、下記式(II)で表されるホウ素化合物を製造する方法に関する。

Figure 0006079431
(I) (II)
〔Yは、2価の基を表し、Wは、ホウ酸エステル残基を表す。〕 The present invention relates to a method for producing a boron compound represented by the following formula (II) from a compound represented by the following formula (I).
Figure 0006079431
(I) (II)
[Y represents a divalent group, and W represents a boric acid ester residue. ]

近年、地球温暖化防止のため、大気中に放出されるCO2の削減が求められている。そのため、電子素子の一態様であるpn接合型のシリコン系太陽電池を用いるソーラーシステムの採用が提唱されている。しかし、シリコン系太陽電池の材料である単結晶シリコン、多結晶シリコン及びアモルファスシリコンは、その製造において、高温プロセス及び高真空プロセスが必要である。 In recent years, in order to prevent global warming, reduction of CO 2 released into the atmosphere has been demanded. Therefore, the adoption of a solar system using a pn junction type silicon-based solar cell which is one embodiment of an electronic element has been proposed. However, single-crystal silicon, polycrystalline silicon, and amorphous silicon, which are materials for silicon-based solar cells, require high-temperature processes and high-vacuum processes in their production.

一方、高分子化合物を含む有機層を含有する有機薄膜太陽電池は、シリコン系太陽電池の製造プロセスに用いられる高温プロセス及び高真空プロセスが省略でき、塗布プロセスのみで安価に製造できる可能性があり、近年注目されている。有機薄膜太陽電池に用いられる高分子化合物としては、下記式(A)で表される繰り返し単位を有する高分子化合物が検討されており、この繰り返し単位を与えるモノマーとして、前記式(II)で表されるホウ素化合物が用いられている(特許文献1参照)。そして、このホウ素化合物の製造方法として、前記式(I)で表される化合物を一旦臭素化した後に、ホウ素化する方法が開示されている(特許文献1参照)。   On the other hand, organic thin-film solar cells containing an organic layer containing a polymer compound can omit the high-temperature process and high-vacuum process used in the silicon-based solar cell manufacturing process, and may be inexpensively manufactured only by the coating process. In recent years, it has attracted attention. As a polymer compound used in an organic thin film solar cell, a polymer compound having a repeating unit represented by the following formula (A) has been studied, and a monomer giving this repeating unit is represented by the above formula (II). Boron compounds are used (see Patent Document 1). As a method for producing this boron compound, a method is disclosed in which the compound represented by the formula (I) is once brominated and then boronated (see Patent Document 1).

Figure 0006079431
(A)
〔Yは、2価の基を表す。〕
Figure 0006079431
(A)
[Y represents a divalent group. ]

特開2012-107187号公報JP 2012-107187 A

しかしながら、前記従来の製造方法では、反応時間が長く、収率が低いという欠点がある。   However, the conventional production methods have the disadvantages that the reaction time is long and the yield is low.

したがって本発明は、前記式(I)で表される化合物から前記式(II)で表されるホウ素化合物を、短い反応時間で、良好な収率で製造する方法を提供することを目的とする。   Therefore, an object of the present invention is to provide a method for producing the boron compound represented by the formula (II) from the compound represented by the formula (I) in a good yield in a short reaction time. .

即ち、本発明は第一に、下記式(I)で表される化合物と、リチウムアミド化合物又はアルキルリチウム化合物とを反応させて得られる第1の中間体と、下記式(W2−1)で表される化合物を反応させて、第2の中間体を製造する工程と、

Figure 0006079431
(I)
〔式(I)中、Yは、2価の基を表す。〕

Figure 0006079431
〔式(W2−1)中、R、R及びRは、それぞれ独立に、水素原子又は炭素数1〜10のアルキル基を表し、R及びRは、互いに連結して、それらが結合する酸素原子とともに炭素数1〜10のアルカン環状構造を形成してもよい。〕
該第2の中間体と、アルコール又は2価カルボン酸とを反応させる工程とを有する、下記式(II)で表されるホウ素化合物の製造方法を提供する。
Figure 0006079431
(II)
〔式(II)中、Wは、ホウ酸エステル残基を表す。Yは、前記と同じ意味を表す。〕 That is, in the present invention, first, a first intermediate obtained by reacting a compound represented by the following formula (I) with a lithium amide compound or an alkyl lithium compound, and the following formula (W2-1): Reacting the represented compound to produce a second intermediate;

Figure 0006079431
(I)
[In formula (I), Y represents a divalent group. ]

Figure 0006079431
[In Formula (W2-1), R 1 , R 2 and R 3 each independently represent a hydrogen atom or an alkyl group having 1 to 10 carbon atoms, and R 2 and R 3 are linked to each other, and An alkane cyclic structure having 1 to 10 carbon atoms may be formed together with the oxygen atom to which is bonded. ]
Provided is a method for producing a boron compound represented by the following formula (II), which comprises a step of reacting the second intermediate with an alcohol or a divalent carboxylic acid.
Figure 0006079431
(II)
[In formula (II), W represents a boric acid ester residue. Y represents the same meaning as described above. ]

即ち、本発明は第二に、前記アルコールが下記式(W3−1)〜式(W3−8)のいずれかで表される化合物であり、前記2価カルボン酸が下記式(W3−9)で表される化合物である、前記ホウ素化合物の製造方法を提供する。

Figure 0006079431
That is, the present invention secondly, the alcohol is a compound represented by any one of the following formulas (W3-1) to (W3-8), and the divalent carboxylic acid is represented by the following formula (W3-9). And a method for producing the boron compound.
Figure 0006079431

即ち、本発明は第三に、前記Wで表されるホウ酸エステル残基が、下記式(W4−1)〜式(W4−12)のいずれかで表される基である、前記ホウ素化合物の製造方法を提供する。

Figure 0006079431
That is, the present invention thirdly relates to the boron compound, wherein the boric acid ester residue represented by W is a group represented by any one of the following formulas (W4-1) to (W4-12): A manufacturing method is provided.

Figure 0006079431

即ち、本発明は第四に、前記Yで表される2価の基が、下記式(Y−1)〜式(Y−4)のいずれかで表される基である、前記ホウ素化合物の製造方法を提供する。

Figure 0006079431
〔式(Y−1)〜式(Y−4)中、Rは、それぞれ独立に、水素原子、ハロゲン原子又は、置換基を表す。〕 That is, the present invention fourthly relates to the boron compound in which the divalent group represented by Y is a group represented by any one of the following formulas (Y-1) to (Y-4). A manufacturing method is provided.
Figure 0006079431
[In formula (Y-1) to formula (Y-4), R each independently represents a hydrogen atom, a halogen atom or a substituent. ]

即ち、本発明は第五に、リチウムアミド化合物又はアルキルリチウム化合物をが、リチウムジイソプロピルアミドである、前記ホウ素化合物の製造方法を提供する。   That is, the fifth aspect of the present invention provides a method for producing the boron compound, wherein the lithium amide compound or the alkyl lithium compound is lithium diisopropylamide.

本発明によれば、前記式(I)で表される化合物から前記式(II)で表されるホウ素化合物を、短い反応時間で、良好な収率で得ることができるため、極めて有用である。   According to the present invention, the boron compound represented by the formula (II) can be obtained from the compound represented by the formula (I) with a good yield in a short reaction time, which is extremely useful. .

以下、本発明を詳細に説明する。   Hereinafter, the present invention will be described in detail.

本発明の前記式(II)で表されるホウ素化合物の製造方法は、下記式(I)で表される化合物を原料に用いる。

Figure 0006079431
The method for producing a boron compound represented by the formula (II) of the present invention uses a compound represented by the following formula (I) as a raw material.
Figure 0006079431

式(I)中、Yは2価の基を表わす。Yで表される2価の基としては、下記式(Y−1)〜式(Y−4)で表される基が挙げられる。   In formula (I), Y represents a divalent group. Examples of the divalent group represented by Y include groups represented by the following formulas (Y-1) to (Y-4).

Figure 0006079431
Figure 0006079431

Yが式(Y−1)〜式(Y−4)で表される基のとき、式(I)で示される化合物は、下記式(I−1)〜式(I−4)で表される。   When Y is a group represented by formula (Y-1) to formula (Y-4), the compound represented by formula (I) is represented by the following formula (I-1) to formula (I-4). The

Figure 0006079431
Figure 0006079431

式(I−1)〜式(I−4)で表される化合物中、合成の容易さの観点から式(I−1)で表される化合物が好ましい。   Of the compounds represented by formula (I-1) to formula (I-4), the compound represented by formula (I-1) is preferred from the viewpoint of ease of synthesis.

式(I−1)〜(I−4)中、Rは、水素原子、ハロゲン原子又は置換基を表す。置換基としては、1価の基であり、例えば、置換されていてもよいアルキル基、置換されていてもよいアルコキシ基、置換されていてもようアルキルチオ基、アリール基、アリールオキシ基、アリールチオ基、置換されていてもよいアリールアルキル基、置換されていてもよいアリールアルコキシ基、置換されていてもよいアリールアルキルチオ基、置換されていてもよいアシル基、置換されていてもよいアシルオキシ基、置換されていてもよいアミド基、置換されていてもよい酸イミド基、アミノ基、置換アミノ基、置換シリル基、置換シリルオキシ基、置換シリルチオ基、置換シリルアミノ基、複素環基、複素環オキシ基、複素環チオ基、アリールアルケニル基、アリールアルキニル基、カルボキシル基及びシアノ基が挙げられる。式(I−1)〜(I−4)のそれぞれにおいて、Rが複数個ある場合、それらは同一でも相異なってもよい。   In formulas (I-1) to (I-4), R represents a hydrogen atom, a halogen atom or a substituent. The substituent is a monovalent group, for example, an optionally substituted alkyl group, an optionally substituted alkoxy group, an optionally substituted alkylthio group, an aryl group, an aryloxy group, an arylthio group. , An optionally substituted arylalkyl group, an optionally substituted arylalkoxy group, an optionally substituted arylalkylthio group, an optionally substituted acyl group, an optionally substituted acyloxy group, a substituted An optionally substituted amide group, an optionally substituted acid imide group, an amino group, a substituted amino group, a substituted silyl group, a substituted silyloxy group, a substituted silylthio group, a substituted silylamino group, a heterocyclic group, a heterocyclic oxy group, Examples include a heterocyclic thio group, an arylalkenyl group, an arylalkynyl group, a carboxyl group, and a cyano group. In each of formulas (I-1) to (I-4), when there are a plurality of R, they may be the same or different.

Rで表されるハロゲン原子としては、フッ素原子、塩素原子、臭素原子及びヨウ素原子が挙げられ、好ましくはフッ素原子である。   Examples of the halogen atom represented by R include a fluorine atom, a chlorine atom, a bromine atom and an iodine atom, and a fluorine atom is preferred.

置換されていてもよいアルキル基は、直鎖状でも分岐状でもよく、シクロアルキル基であってもよい。アルキル基の炭素数は、通常1〜30である。アルキル基が有していてもよい置換基としては、例えば、ハロゲン原子が挙げられる。該ハロゲン原子の具体例は、Rで表されるハロゲン原子の具体例と同じである。置換基を有していてもよいアルキル基の具体例としては、メチル基、エチル基、プロピル基、イソプロピル基、ブチル基、イソブチル基、sec−ブチル基、tert−ブチル墓、ペンチル基、イソペンチル基、2−メチルブチル基、1−メチルブチル基、ヘキシル基、イソヘキシル基、3−メチルペンチル基、2−メチルペンチル基、1−メチルペンチル基、ヘプチル基、オクチル基、イソオクチル基、2−エチルヘキシル基、3,7−ジメチルオクチル基、ノニル基、デシル基、ウンデシル基、ドデシル基、テトラデシル基、ヘキサデシル墓、オクタデシル基、エイコシル基等の鎖状アルキル基、シクロペンチル基、シクロヘキシル基及びアダマンチル基等のシクロアルキル基が挙げられる。   The alkyl group which may be substituted may be linear or branched, and may be a cycloalkyl group. Carbon number of an alkyl group is 1-30 normally. Examples of the substituent that the alkyl group may have include a halogen atom. Specific examples of the halogen atom are the same as the specific examples of the halogen atom represented by R. Specific examples of the alkyl group which may have a substituent include a methyl group, an ethyl group, a propyl group, an isopropyl group, a butyl group, an isobutyl group, a sec-butyl group, a tert-butyl grave, a pentyl group, and an isopentyl group. 2-methylbutyl group, 1-methylbutyl group, hexyl group, isohexyl group, 3-methylpentyl group, 2-methylpentyl group, 1-methylpentyl group, heptyl group, octyl group, isooctyl group, 2-ethylhexyl group, 3 , 7-dimethyloctyl group, nonyl group, decyl group, undecyl group, dodecyl group, tetradecyl group, hexadecyl tomb, octadecyl group, eicosyl group and other chain alkyl groups, cyclopentyl group, cyclohexyl group and adamantyl group and other cycloalkyl groups Is mentioned.

置換されていてもよいアルコキシ基は、直鎖状でも分岐状でもよく、シクロアルコキシ基であってもよい。アルコキシ基が有していてもよい置換基としては、例えば、ハロゲン原子が挙げられる。該ハロゲン原子の具体例は、Rで表されるハロゲン原子の具体例と同じである。アルコキシ基の炭素数は、通常1〜20程度である。置換基を有していてもよいアルコキシ基の具体例としては、メトキシ基、エトキシ基、プロポキシ基、イソプロポキシ基、ブトキシ基、イソブトキシ基、tert−ブトキシ基、ペンチルオキシ基、ヘキシルオキシ基、シクロヘキシルオキシ基、ヘプチルオキシ基、オクチルオキシ基、2−エチルヘキシルオキシ基、ノニルオキシ基、デシルオキシ基、3,7−ジメチルオクチルオキシ基、ラウリルオキシ基、トリフルオロメトキシ基、ペンタフルオロエトキシ基、パーフルオロブトキシ基、パーフルオロヘキシルオキシ基、パーフルオロオクチルオキシ基、メトキシメチルオキシ基及び2−メトキシエチルオキシ基が挙げられる。   The alkoxy group which may be substituted may be linear or branched, and may be a cycloalkoxy group. Examples of the substituent that the alkoxy group may have include a halogen atom. Specific examples of the halogen atom are the same as the specific examples of the halogen atom represented by R. Carbon number of an alkoxy group is about 1-20 normally. Specific examples of the alkoxy group which may have a substituent include a methoxy group, an ethoxy group, a propoxy group, an isopropoxy group, a butoxy group, an isobutoxy group, a tert-butoxy group, a pentyloxy group, a hexyloxy group, and a cyclohexyl group. Oxy group, heptyloxy group, octyloxy group, 2-ethylhexyloxy group, nonyloxy group, decyloxy group, 3,7-dimethyloctyloxy group, lauryloxy group, trifluoromethoxy group, pentafluoroethoxy group, perfluorobutoxy group Perfluorohexyloxy group, perfluorooctyloxy group, methoxymethyloxy group and 2-methoxyethyloxy group.

置換されていてもよいアルキルチオ基は、直鎖状でも分岐状でもよく、シクロアルキルチオ基であってもよい。アルキルチオ基が有していてもよい置換基としては、例えば、ハロゲン原子が挙げられる。該ハロゲン原子の具体例は、Rで表されるハロゲン原子の具体例と同じである。アルキルチオ基の炭素数は、通常1〜20程度である。置換基を有していてもよいアルキルチオ基の具体例としては、メチルチオ基、エチルチオ基、プロピルチオ基、イソプロピルチオ基、ブチルチオ基、イソブチルチオ基、tert−ブチルチオ基、ペンチルチオ基、ヘキシルチオ基、シクロヘキシルチオ基、ヘプチルチオ基、オクチルチオ基、2−エチルヘキシルチオ基、ノニルチオ基、デシルチオ基、3,7−ジメチルオクチルチオ基、ラウリルチオ基及びトリフルオロメチルチオ基が挙げられる。   The alkylthio group which may be substituted may be linear or branched, and may be a cycloalkylthio group. Examples of the substituent that the alkylthio group may have include a halogen atom. Specific examples of the halogen atom are the same as the specific examples of the halogen atom represented by R. The carbon number of the alkylthio group is usually about 1-20. Specific examples of the alkylthio group which may have a substituent include a methylthio group, an ethylthio group, a propylthio group, an isopropylthio group, a butylthio group, an isobutylthio group, a tert-butylthio group, a pentylthio group, a hexylthio group, and a cyclohexylthio group. Group, heptylthio group, octylthio group, 2-ethylhexylthio group, nonylthio group, decylthio group, 3,7-dimethyloctylthio group, laurylthio group and trifluoromethylthio group.

アリール基は、置換基を有していてもよい芳香族炭化水素から、芳香環上の水素原子1個を除いた原子団であり、炭素数は、通常6〜60である。置換基としては、例えば、ハロゲン原子、置換されていてもよいアルコキシ基、置換されていてもよいアルキルチオ基が挙げられる。該ハロゲン原子、置換されていてもよいアルコキシ基及び置換されていてもよいアルキルチオ基の具体例は、Rで表されるハロゲン原子、置換されていてもよいアルキル基、置換されていてもよいアルコキシ基及び置換されていてもよいアルキルチオ基の具体例と同じである。アリール基の具体例としては、フェニル基、C1〜C12アルキルオキシフェニル基(C1〜C12アルキルは、炭素数1〜12のアルキルであることを示す。C1〜C12アルキルは、好ましくはC1〜C8アルキルであり、より好ましくはC1〜C6アルキルである。C1〜C8アルキルは、炭素数1〜8のアルキルであることを示し、C1〜C6アルキルは、炭素数1〜6のアルキルであることを示す。C1〜C12アルキル、C1〜C8アルキル及びC1〜C6アルキルの具体例としては、上記アルキル基で説明し例示したものが挙げられる。以下も同様である。)、C1〜C12アルキルフェニル基、1−ナフチル基、2−ナフチル基及びペンタフルオロフェニル基が挙げられる。   The aryl group is an atomic group obtained by removing one hydrogen atom on an aromatic ring from an aromatic hydrocarbon which may have a substituent, and the number of carbon atoms is usually 6 to 60. Examples of the substituent include a halogen atom, an optionally substituted alkoxy group, and an optionally substituted alkylthio group. Specific examples of the halogen atom, the optionally substituted alkoxy group and the optionally substituted alkylthio group include a halogen atom represented by R, an optionally substituted alkyl group, and an optionally substituted alkoxy. The same as the specific examples of the group and the optionally substituted alkylthio group. Specific examples of the aryl group include a phenyl group and a C1 to C12 alkyloxyphenyl group (C1 to C12 alkyl is an alkyl having 1 to 12 carbon atoms. The C1 to C12 alkyl is preferably a C1 to C8 alkyl. More preferably C1-C6 alkyl, C1-C8 alkyl indicates alkyl having 1 to 8 carbon atoms, and C1-C6 alkyl indicates alkyl having 1 to 6 carbon atoms. Specific examples of C1 to C12 alkyl, C1 to C8 alkyl, and C1 to C6 alkyl include those described and exemplified for the above alkyl group, and the same applies to the following.), C1 to C12 alkylphenyl group, 1 -A naphthyl group, 2-naphthyl group, and a pentafluorophenyl group are mentioned.

アリールオキシ基は、その炭素数が通常6〜60程度である。アリールオキシ基の具体例としては、フェノキシ基、C1〜C12アルキルオキシフェノキシ基、C1〜C12アルキルフェノキシ基、1−ナフチルオキシ基、2−ナフチルオキシ基及びペンタフルオロフェニルオキシ基が挙げられる。   The aryloxy group usually has about 6 to 60 carbon atoms. Specific examples of the aryloxy group include a phenoxy group, a C1-C12 alkyloxyphenoxy group, a C1-C12 alkylphenoxy group, a 1-naphthyloxy group, a 2-naphthyloxy group, and a pentafluorophenyloxy group.

アリールチオ基は、その炭素数が通常6〜60程度である。アリールチオ基の具体例としては、フェニルチオ基、C1〜C12アルキルオキシフェニルチオ基、C1〜C12アルキルフェニルチオ基、1−ナフチルチオ基、2−ナフチルチオ基及びペンタフルオロフェニルチオ基が挙げられる。   The arylthio group usually has about 6 to 60 carbon atoms. Specific examples of the arylthio group include a phenylthio group, a C1-C12 alkyloxyphenylthio group, a C1-C12 alkylphenylthio group, a 1-naphthylthio group, a 2-naphthylthio group, and a pentafluorophenylthio group.

置換されていてもよいアリールアルキル基は、その炭素数が通常7〜60程度であり、アルキル部分が置換基を有していてもよい。置換基としては、例えば、ハロゲン原子が挙げられる。該ハロゲン原子の具体例は、Rで表されるハロゲン原子の具体例と同じである。置換基を有していてもよいアリールアルキル基の具体例としては、フェニル−C1〜C12アルキル基、C1〜C12アルキルオキシフェニル−C1〜C12アルキル基、C1〜C12アルキルフェニル−C1〜C12アルキル基、1−ナフチル−C1〜C12アルキル基及び2−ナフチル−C1〜C12アルキル基が挙げられる。   The arylalkyl group which may be substituted usually has about 7 to 60 carbon atoms, and the alkyl portion may have a substituent. Examples of the substituent include a halogen atom. Specific examples of the halogen atom are the same as the specific examples of the halogen atom represented by R. Specific examples of the arylalkyl group which may have a substituent include a phenyl-C1-C12 alkyl group, a C1-C12 alkyloxyphenyl-C1-C12 alkyl group, and a C1-C12 alkylphenyl-C1-C12 alkyl group. 1-naphthyl-C1-C12 alkyl group and 2-naphthyl-C1-C12 alkyl group.

置換されていてもよいアリールアルコキシ基は、その炭素数が通常7〜60程度であり、アルコキシ部分が置換基を有していてもよい。置換基としては、例えば、ハロゲン原子が挙げられる。該ハロゲン原子の具体例は、Rで表されるハロゲン原子の具体例と同じである。置換基を有していてもよいアリールアルキルオキシ基の具体例としては、フェニル−C1〜C12アルキルオキシ基、C1〜C12アルキルオキシフェニル−C1〜C12アルキルオキシ基、C1〜C12アルキルフェニル−C1〜C12アルキルオキシ基、1−ナフチル−C1〜C12アルキルオキシ基及び2−ナフチル−C1〜C12アルキルオキシ基が挙げられる。   The arylalkoxy group which may be substituted usually has about 7 to 60 carbon atoms, and the alkoxy moiety may have a substituent. Examples of the substituent include a halogen atom. Specific examples of the halogen atom are the same as the specific examples of the halogen atom represented by R. Specific examples of the arylalkyloxy group which may have a substituent include a phenyl-C1-C12 alkyloxy group, a C1-C12 alkyloxyphenyl-C1-C12 alkyloxy group, and a C1-C12 alkylphenyl-C1- A C12 alkyloxy group, a 1-naphthyl-C1-C12 alkyloxy group, and a 2-naphthyl-C1-C12 alkyloxy group are mentioned.

置換されていてもよいアリールアルキルチオ基は、その炭素数が通常7〜60程度であり、アルキルチオ部分が置換基を有していてもよい。置換基としては、例えば、ハロゲン原子が挙げられる。該ハロゲン原子の具体例は、Rで表されるハロゲン原子の具体例と同じである。置換基を有していてもよいアリールアルキルチオ基の具体例としては、フェニル−C1〜C12アルキルチオ基、C1〜C12アルキルオキシフェニル−C1〜C12アルキルチオ基、C1〜C12アルキルフェニル−C1〜C12アルキルチオ基、1−ナフチル−C1〜C12アルキルチオ基及び2−ナフチル−C1〜C12アルキルチオ基が挙げられる。   The arylalkylthio group which may be substituted usually has about 7 to 60 carbon atoms, and the alkylthio moiety may have a substituent. Examples of the substituent include a halogen atom. Specific examples of the halogen atom are the same as the specific examples of the halogen atom represented by R. Specific examples of the arylalkylthio group which may have a substituent include a phenyl-C1-C12 alkylthio group, a C1-C12 alkyloxyphenyl-C1-C12 alkylthio group, and a C1-C12 alkylphenyl-C1-C12 alkylthio group. 1-naphthyl-C1-C12 alkylthio group and 2-naphthyl-C1-C12 alkylthio group.

置換されていてもよいアシル基は、その炭素数が通常2〜20程度である。アシル基が有していてもよい置換基としては、例えば、ハロゲン原子が挙げられる。該ハロゲン原子の具体例は、Rで表されるハロゲン原子の具体例と同じである。置換基を有していてもよいアシル基の具体例としては、アセチル基、プロピオニル基、ブチリル基、イソブチリル基、ピバロイル基、ベンゾイル基、トリフルオロアセチル基及びペンタフルオロベンゾイル基が挙げられる。   The acyl group which may be substituted usually has about 2 to 20 carbon atoms. Examples of the substituent that the acyl group may have include a halogen atom. Specific examples of the halogen atom are the same as the specific examples of the halogen atom represented by R. Specific examples of the acyl group which may have a substituent include an acetyl group, a propionyl group, a butyryl group, an isobutyryl group, a pivaloyl group, a benzoyl group, a trifluoroacetyl group, and a pentafluorobenzoyl group.

置換されていてもよいアシルオキシ基は、その炭素数が通常2〜20程度である。アシルオキシ基が有していてもよい置換基としては、例えば、ハロゲン原子が挙げられる。該ハロゲン原子の具体例は、Rで表されるハロゲン原子の具体例と同じである。置換基を有していてもよいアシルオキシ基の具体例としては、アセトキシ基、プロピオニルオキシ基、ブチリルオキシ基、イソブチリルオキシ基、ピバロイルオキシ基、ベンゾイルオキシ基、トリフルオロアセチルオキシ基及びペンタフルオロベンゾイルオキシ基が挙げられる。   The acyloxy group which may be substituted usually has about 2 to 20 carbon atoms. Examples of the substituent that the acyloxy group may have include a halogen atom. Specific examples of the halogen atom are the same as the specific examples of the halogen atom represented by R. Specific examples of the acyloxy group which may have a substituent include an acetoxy group, a propionyloxy group, a butyryloxy group, an isobutyryloxy group, a pivaloyloxy group, a benzoyloxy group, a trifluoroacetyloxy group, and a pentafluorobenzoyloxy group. Groups.

置換されていてもよいアミド基は、その炭素数が通常1〜20程度である。アミド基とは、アミドから窒素原子に結合した水素原子を除いて得られる基をいう。アミド基が有していてもよい置換基としては、例えば、ハロゲン原子が挙げられる。該ハロゲン原子の具体例は、Rで表されるハロゲン原子の具体例と同じである。置換基を有していてもよいアミド基の具体例としては、ホルムアミド基、アセトアミド基、プロピオアミド基、ブチロアミド基、ベンズアミド基、トリフルオロアセトアミド基、ペンタフルオロベンズアミド基、ジホルムアミド基、ジアセトアミド基、ジプロピオアミド基、ジブチロアミド基、ジベンズアミド基、ジトリフルオロアセトアミド基及びジペンタフルオロベンズアミド基が挙げられる。   The amide group which may be substituted usually has about 1 to 20 carbon atoms. An amide group refers to a group obtained by removing a hydrogen atom bonded to a nitrogen atom from an amide. Examples of the substituent that the amide group may have include a halogen atom. Specific examples of the halogen atom are the same as the specific examples of the halogen atom represented by R. Specific examples of the amide group which may have a substituent include a formamide group, an acetamide group, a propioamide group, a butyroamide group, a benzamide group, a trifluoroacetamide group, a pentafluorobenzamide group, a diformamide group, a diacetamide group, Examples include a dipropioamide group, a dibutyroamide group, a dibenzamide group, a ditrifluoroacetamide group, and a dipentafluorobenzamide group.

置換されていてもよい酸イミド基とは、酸イミドから窒素原子に結合した水素原子を除いて得られる基をいう。酸イミド基が有していてもよい置換基としては、例えば、ハロゲン原子が挙げられる。該ハロゲン原子の具体例は、Rで表されるハロゲン原子の具体例と同じである。置換基を有していてもよい酸イミド基の具体例としては、スクシンイミド基及びフタル酸イミド基が挙げられる。   The optionally substituted acid imide group refers to a group obtained by removing a hydrogen atom bonded to a nitrogen atom from an acid imide. Examples of the substituent that the acid imide group may have include a halogen atom. Specific examples of the halogen atom are the same as the specific examples of the halogen atom represented by R. Specific examples of the acid imide group which may have a substituent include a succinimide group and a phthalimide group.

置換アミノ基は、その炭素数が通常1〜40程度である。置換アミノ基が有する置換基としては、例えば、置換されていてもよいアルキル基及びアリール基が挙げられる。該置換されていてもよいアルキル基及びアリール基の具体例は、Rで表される置換されていてもよいアルキル基及びアリール基の具体例と同じである。置換基アミノ基の具体例としては、メチルアミノ基、ジメチルアミノ基、エチルアミノ基、ジエチルアミノ基、プロピルアミノ基、ジプロピルアミノ基、イソプロピルアミノ基、ジイソプロピルアミノ基、ブチルアミノ基、イソブチルアミノ基、tert−ブチルアミノ基、ペンチルアミノ基、ヘキシルアミノ基、シクロヘキシルアミノ基、ヘプチルアミノ基、オクチルアミノ基、2−エチルヘキシルアミノ基、ノニルアミノ基、デシルアミノ基、3,7−ジメチルオクチルアミノ基、ラウリルアミノ基、シクロペンチルアミノ基、ジシクロペンチルアミノ基、シクロヘキシルアミノ基、ジシクロヘキシルアミノ基、ピロリジル基、ピペリジル基、ジトリフルオロメチルアミノ基、フェニルアミノ基、ジフェニルアミノ基、C1〜C12アルコキルオキシフェニルアミノ基、ジ(C1〜C12アルキルオキシフェニル)アミノ基、ジ(C1〜C12アルキルフェニル)アミノ基、1−ナフチルアミノ基、2−ナフチルアミノ基、ペンタフルオロフェニルアミノ基、ピリジルアミノ基、ピリダジニルアミノ基、ピリミジルアミノ基、ピラジルアミノ基、トリアジルアミノ基、フェニル−C1〜C12アルキルアミノ基、C1〜C12アルキルオキシフェニル−C1〜C12アルキルアミノ基、C1〜C12アルキルフェニル−C1〜C12アルキルアミノ基、ジ(C1〜C12アルキルオキシフェニル−C1〜C12アルキル)アミノ基、ジ(C1〜C12アルキルフェニル−C1〜C12アルキル)アミノ基、1−ナフチル−C1〜C12アルキルアミノ基及び2−ナフチル−C1〜C12アルキルアミノ基が挙げられる。   The substituted amino group usually has about 1 to 40 carbon atoms. As a substituent which a substituted amino group has, the alkyl group and aryl group which may be substituted are mentioned, for example. Specific examples of the optionally substituted alkyl group and aryl group are the same as the specific examples of the optionally substituted alkyl group and aryl group represented by R. Specific examples of the substituent amino group include methylamino group, dimethylamino group, ethylamino group, diethylamino group, propylamino group, dipropylamino group, isopropylamino group, diisopropylamino group, butylamino group, isobutylamino group, tert-Butylamino group, pentylamino group, hexylamino group, cyclohexylamino group, heptylamino group, octylamino group, 2-ethylhexylamino group, nonylamino group, decylamino group, 3,7-dimethyloctylamino group, laurylamino group , Cyclopentylamino group, dicyclopentylamino group, cyclohexylamino group, dicyclohexylamino group, pyrrolidyl group, piperidyl group, ditrifluoromethylamino group, phenylamino group, diphenylamino group, C1-C12 al Kiroxyphenylamino group, di (C1-C12 alkyloxyphenyl) amino group, di (C1-C12 alkylphenyl) amino group, 1-naphthylamino group, 2-naphthylamino group, pentafluorophenylamino group, pyridylamino group, Pyridazinylamino group, pyrimidylamino group, pyrazylamino group, triazylamino group, phenyl-C1-C12 alkylamino group, C1-C12 alkyloxyphenyl-C1-C12 alkylamino group, C1-C12 alkylphenyl-C1-C12 Alkylamino group, di (C1-C12 alkyloxyphenyl-C1-C12 alkyl) amino group, di (C1-C12 alkylphenyl-C1-C12 alkyl) amino group, 1-naphthyl-C1-C12 alkylamino group and 2- Naphthyl-C1 It includes C12 alkylamino group.

置換シリル基が有する置換基としては、例えば、置換されていてもよいアルキル基及びアリール基が挙げられる。該置換されていてもよいアルキル基及びアリール基の具体例は、Rで表される置換されていてもよいアルキル基及びアリール基の具体例と同じである。置換シリル基の具体例としては、トリメチルシリル基、トリエチルシリル基、トリプロピルシリル基、トリイソプロピルシリル基、tert−ブチルジメチルシリル基、トリフェニルシリル基、トリ−p−キシリルシリル基、トリベンジルシリル基、ジフェニルメチルシリル基、tert−ブチルジフェニルシリル基及びジメチルフェニルシリル基が挙げられる。   As a substituent which a substituted silyl group has, the alkyl group and aryl group which may be substituted are mentioned, for example. Specific examples of the optionally substituted alkyl group and aryl group are the same as the specific examples of the optionally substituted alkyl group and aryl group represented by R. Specific examples of the substituted silyl group include trimethylsilyl group, triethylsilyl group, tripropylsilyl group, triisopropylsilyl group, tert-butyldimethylsilyl group, triphenylsilyl group, tri-p-xylylsilyl group, tribenzylsilyl group, Examples include a diphenylmethylsilyl group, a tert-butyldiphenylsilyl group, and a dimethylphenylsilyl group.

置換シリルオキシ基が有する置換基としては、例えば、置換されていてもよいアルキル基及びアリール基が挙げられる。該置換されていてもよいアルキル基及びアリール基の具体例は、Rで表される置換されていてもよいアルキル基及びアリール基の具体例と同じである。置換シリルオキシ基の具体例としては、トリメチルシリルオキシ基、トリエチルシリルオキシ基、トリプロピルシリルオキシ基、トリイソプロピルシリルオキシ基、tert−ブチルジメチルシリルオキシ基、トリフェニルシリルオキシ基、トリ−p−キシリルシリルオキシ基、トリベンジルシリルオキシ基、ジフェニルメチルシリルオキシ基、tert−ブチルジフェニルシリルオキシ基及びジメチルフェニルシリルオキシ基が挙げられる。   As a substituent which a substituted silyloxy group has, the alkyl group and aryl group which may be substituted are mentioned, for example. Specific examples of the optionally substituted alkyl group and aryl group are the same as the specific examples of the optionally substituted alkyl group and aryl group represented by R. Specific examples of the substituted silyloxy group include trimethylsilyloxy group, triethylsilyloxy group, tripropylsilyloxy group, triisopropylsilyloxy group, tert-butyldimethylsilyloxy group, triphenylsilyloxy group, tri-p-xylyl group. Examples thereof include a silyloxy group, a tribenzylsilyloxy group, a diphenylmethylsilyloxy group, a tert-butyldiphenylsilyloxy group, and a dimethylphenylsilyloxy group.

置換シリルチオ基が有する置換基としては、例えば、置換されていてもよいアルキル基及びアリール基が挙げられる。該置換されていてもよいアルキル基及びアリール基の具体例は、Rで表される置換されていてもよいアルキル基及びアリール基の具体例と同じである。置換シリルチオ基の具体例としては、トリメチルシリルチオ基、トリエチルシリルチオ基、トリプロピルシリルチオ基、トリイソプロピルシリルチオ基、tert−ブチルジメチルシリルチオ基、トリフェニルシリルチオ基、トリ−p−キシリルシリルチオ基、トリベンジルシリルチオ基、ジフェニルメチルシリルチオ基、tert−ブチルジフェニルシリルチオ基及びジメチルフェニルシリルチオ基が挙げられる。   As a substituent which a substituted silylthio group has, the alkyl group and aryl group which may be substituted are mentioned, for example. Specific examples of the optionally substituted alkyl group and aryl group are the same as the specific examples of the optionally substituted alkyl group and aryl group represented by R. Specific examples of the substituted silylthio group include trimethylsilylthio group, triethylsilylthio group, tripropylsilylthio group, triisopropylsilylthio group, tert-butyldimethylsilylthio group, triphenylsilylthio group, and tri-p-xylyl. Examples thereof include a silylthio group, a tribenzylsilylthio group, a diphenylmethylsilylthio group, a tert-butyldiphenylsilylthio group, and a dimethylphenylsilylthio group.

置換シリルアミノ基が有する置換基としては、例えば、置換されていてもよいアルキル基及びアリール基が挙げられる。該置換されていてもよいアルキル基及びアリール基の具体例は、Rで表される置換されていてもよいアルキル基及びアリール基の具体例と同じである。置換シリルアミノ基の具体例としては、トリメチルシリルアミノ基、トリエチルシリルアミノ基、トリプロピルシリルアミノ基、トリイソプロピルシリルアミノ基、tert−ブチルジメチルシリルアミノ基、トリフェニルシリルアミノ基、トリ−p−キシリルシリルアミノ基、トリベンジルシリルアミノ基、ジフェニルメチルシリルアミノ基、tert−ブチルジフェニルシリルアミノ基、ジメチルフェニルシリルアミノ基、ジ(トリメチルシリル)アミノ基、ジ(トリエチルシリル)アミノ基、ジ(トリプロピルシリル)アミノ基、ジ(トリイソプロピルシリル)アミノ基、ジ(tert−ブチルジメチルシリル)アミノ基、ジ(トリフェニルシリル)アミノ基、ジ(トリ−p−キシリルシリル)アミノ基、ジ(トリベンジルシリル)アミノ基、ジ(ジフェニルメチルシリル)アミノ基、ジ(tert−ブチルジフェニルシリル)アミノ基及びジ(ジメチルフェニルシリル)アミノ基が挙げられる。   As a substituent which a substituted silylamino group has, the alkyl group and aryl group which may be substituted are mentioned, for example. Specific examples of the optionally substituted alkyl group and aryl group are the same as the specific examples of the optionally substituted alkyl group and aryl group represented by R. Specific examples of the substituted silylamino group include trimethylsilylamino group, triethylsilylamino group, tripropylsilylamino group, triisopropylsilylamino group, tert-butyldimethylsilylamino group, triphenylsilylamino group, tri-p-xylyl. Silylamino group, tribenzylsilylamino group, diphenylmethylsilylamino group, tert-butyldiphenylsilylamino group, dimethylphenylsilylamino group, di (trimethylsilyl) amino group, di (triethylsilyl) amino group, di (tripropylsilyl) ) Amino group, di (triisopropylsilyl) amino group, di (tert-butyldimethylsilyl) amino group, di (triphenylsilyl) amino group, di (tri-p-xylylsilyl) amino group, di (tribenzylsilyl) A Amino group, di (diphenylmethyl silyl) amino, di (tert- butyldiphenylsilyl) amino group and di (dimethylphenylsilyl) and amino group.

複素環基は、置換基を有していてもよい複素環式化合物から、複素環上の水素原子1個を除いた原子団である。複素環式化合物としては、例えば、フラン、チオフェン、ピロール、ピロリン、ピロリジン、オキサゾール、イソオキサゾール、チアゾール、イソチアゾール、イミダゾール、イミダゾリン、イミダゾリジン、ピラゾール、ピラゾリン、プラゾリジン、フラザン、トリアゾール、チアジアゾール、オキサジアゾール、テトラゾール、ピラン、ピリジン、ピペリジン、チオピラン、ピリダジン、ピリミジン、ピラジン、ピペラジン、モルホリン、トリアジン、ベンゾフラン、イソベンゾフラン、ベンゾチオフェン、インドール、イソインドール、インドリジン、インドリン、イソインドリン、クロメン、クロマン、イソクロマン、ベンゾピラン、キノリン、イソキノリン、キノリジン、ベンゾイミダゾール、ベンゾチアゾール、インダゾール、ナフチリジン、キノキサリン、キナゾリン、キナゾリジン、シンノリン、フタラジン、プリン、プテリジン、カルバゾール、キサンテン、フェナントリジン、アクリジン、β-カルボリン、ペリミジン、フェナントロリン、チアントレン、フェノキサチイン、フェノキサジン、フェノチアジン及びフェナジンが挙げられる。複素環式化合物が有していてもよい置換基としては、例えば、ハロゲン原子、置換されていてもよいアルキル基、置換されていてもよいアルコキシ基及び置換されていてもよいアルキルチオ基が挙げられる。該ハロゲン原子、置換されていてもよいアルキル基、置換されていてもよいアルコキシ基及び置換及び置換されていてもよいアルキルチオ基の具体例は、Rで表されるハロゲン原子、置換されていてもよいアルキル基、置換されていてもよいアルコキシ基及び置換されていてもよいアルキルチオ基の具体例と同じである。複素環基としては、芳香族複素環基が好ましい。   The heterocyclic group is an atomic group obtained by removing one hydrogen atom on the heterocyclic ring from a heterocyclic compound which may have a substituent. Examples of the heterocyclic compound include furan, thiophene, pyrrole, pyrroline, pyrrolidine, oxazole, isoxazole, thiazole, isothiazole, imidazole, imidazoline, imidazolidine, pyrazole, pyrazoline, prazolidine, furazane, triazole, thiadiazole, oxadi Azole, tetrazole, pyran, pyridine, piperidine, thiopyran, pyridazine, pyrimidine, pyrazine, piperazine, morpholine, triazine, benzofuran, isobenzofuran, benzothiophene, indole, isoindole, indolizine, indoline, isoindoline, chromene, chroman, isochroman , Benzopyran, quinoline, isoquinoline, quinolidine, benzimidazole, benzothiazole, indazole, Fuchirijin, quinoxaline, quinazoline, Kinazorijin, cinnoline, phthalazine, purine, pteridine, carbazole, xanthene, phenanthridine, acridine, beta-carboline, perimidine, phenanthroline, thianthrene, phenoxathiin, phenoxazine, and phenothiazine and phenazine. Examples of the substituent that the heterocyclic compound may have include a halogen atom, an optionally substituted alkyl group, an optionally substituted alkoxy group, and an optionally substituted alkylthio group. . Specific examples of the halogen atom, an optionally substituted alkyl group, an optionally substituted alkoxy group, and a substituted and optionally substituted alkylthio group include a halogen atom represented by R, an optionally substituted Specific examples of the good alkyl group, the optionally substituted alkoxy group and the optionally substituted alkylthio group are the same. As the heterocyclic group, an aromatic heterocyclic group is preferable.

複素環オキシ基としては、前記1価の複素環基に酸素原子が結合した式(A−1)で表される基が挙げられる。   Examples of the heterocyclic oxy group include a group represented by the formula (A-1) in which an oxygen atom is bonded to the monovalent heterocyclic group.

複素環チオ基としては、前記1価の複素環基に硫黄原子が結合した式(A−2)で表される基が挙げられる。

Figure 0006079431
(A−1) (A−2)
(式(A−1)及び式(A−2)中、Arは1価の複素環基を表す。) Examples of the heterocyclic thio group include a group represented by the formula (A-2) in which a sulfur atom is bonded to the monovalent heterocyclic group.
Figure 0006079431
(A-1) (A-2)
(In Formula (A-1) and Formula (A-2), Ar 3 represents a monovalent heterocyclic group.)

複素環オキシ基の具体例としては、チエニルオキシ基、C1〜C12アルキルチエニルオキシ基、ピロリルオキシ基、フリルオキシ基、ピリジルオキシ基、C1〜C12アルキルピリジルオキシ基、イミダゾリルオキシ基、ピラゾリルオキシ基、トリアゾリルオキシ基、オキサゾリルオキシ基、チアゾールオキシ基及びチアジアゾールオキシ基が挙げられる。   Specific examples of the heterocyclic oxy group include thienyloxy group, C1-C12 alkylthienyloxy group, pyrrolyloxy group, furyloxy group, pyridyloxy group, C1-C12 alkylpyridyloxy group, imidazolyloxy group, pyrazolyloxy group, triazolyl group. And a ruoxy group, an oxazolyloxy group, a thiazoleoxy group, and a thiadiazoleoxy group.

複素環チオ基の具体例としては、チエニルメルカプト基、C1〜C12アルキルチエニルメルカプト基、ピロリルメルカプト基、フリルメルカプト基、ピリジルメルカプト基、C1〜C12アルキルピリジルメルカプト基、イミダゾリルメルカプト基、ピラゾリルメルカプト基、トリアゾリルメルカプト基、オキサゾリルメルカプト基、チアゾールメルカプト基及びチアジアゾールメルカプト基が挙げられる。   Specific examples of the heterocyclic thio group include thienyl mercapto group, C1-C12 alkyl thienyl mercapto group, pyrrolyl mercapto group, furyl mercapto group, pyridyl mercapto group, C1-C12 alkyl pyridyl mercapto group, imidazolyl mercapto group, pyrazolyl mercapto group. , Triazolyl mercapto group, oxazolyl mercapto group, thiazole mercapto group and thiadiazole mercapto group.

アリールアルケニル基は、通常、その炭素数8〜20である。アリールアルケニル基の具体例としては、スチリル基が挙げられる。   The arylalkenyl group usually has 8 to 20 carbon atoms. Specific examples of the arylalkenyl group include a styryl group.

アリールアルキニル基は、通常、その炭素数8〜20である。アリールアルキニル基の具体例としては、フェニルアセチレニル基が挙げられる。   The arylalkynyl group usually has 8 to 20 carbon atoms. Specific examples of the arylalkynyl group include a phenylacetylenyl group.

本発明の反応性化合物を使用して合成される高分子化合物(以下、当該高分子化合物を本発明の高分子化合物という。)の溶媒に対する溶解性を高める観点からは、Rは、炭素数6以上のアルキル基、炭素数6以上のアルコキシ基、炭素数6以上のアルキルチオ基、アリール基、アリールオキシ基、アリールチオ基、アリールアルキル基、アリールアルキルオキシ基、アリールアルキルチオ基、炭素数6以上のアシル基及び炭素数6以上のアシルオキシ基が好ましく、炭素数6以上のアルキル基、炭素数6以上のアルコキシ基、アリール基及びアリールオキシ基がより好ましく、炭素数6以上のアルキル基が特に好ましい。   From the viewpoint of enhancing the solubility of a polymer compound synthesized using the reactive compound of the present invention (hereinafter, the polymer compound is referred to as the polymer compound of the present invention) in a solvent, R is a carbon number of 6 The above alkyl groups, alkoxy groups having 6 or more carbon atoms, alkylthio groups having 6 or more carbon atoms, aryl groups, aryloxy groups, arylthio groups, arylalkyl groups, arylalkyloxy groups, arylalkylthio groups, acyl having 6 or more carbon atoms And an acyloxy group having 6 or more carbon atoms, an alkyl group having 6 or more carbon atoms, an alkoxy group having 6 or more carbon atoms, an aryl group, and an aryloxy group are more preferable, and an alkyl group having 6 or more carbon atoms is particularly preferable.

Rの好ましい一態様である炭素数6以上のアルキル基としては、ヘキシル基、ヘプチル基、オクチル基、ノニル基、デシル基、ウンデシル基、ドデシル基、トリデシル基、テトラデシル基、ペンタデシル基、ヘキサデシル基、ヘプタデシル基、オクタデシル基、ノナデシル基、イコシル基、トリアコンチル基、テトラコンチル基、ペンタコンチル基などの直鎖状のアルキル基や1,1,3,3−テトラメチルブチル基、1−メチルヘプチル基、2−エチルヘキシル基、3,7−ジメチルオクチル基、1−プロピルペンチル基、3−ヘプチルドデシル基、2−ヘプチルウンデシル基、2−オクチルドデシル基、3,7,11−トリメチルドデシル基、3,7,11,15−テトラメチルヘキサデシル基及び3,5,5−トリメチルへキシル基などの分岐状のアルキル基が挙げられる。   Examples of the alkyl group having 6 or more carbon atoms which is a preferred embodiment of R include a hexyl group, heptyl group, octyl group, nonyl group, decyl group, undecyl group, dodecyl group, tridecyl group, tetradecyl group, pentadecyl group, hexadecyl group, Linear alkyl groups such as heptadecyl group, octadecyl group, nonadecyl group, icosyl group, triacontyl group, tetracontyl group, pentacontyl group, 1,1,3,3-tetramethylbutyl group, 1-methylheptyl group, 2 -Ethylhexyl group, 3,7-dimethyloctyl group, 1-propylpentyl group, 3-heptyldodecyl group, 2-heptylundecyl group, 2-octyldodecyl group, 3,7,11-trimethyldodecyl group, 3,7 , 11,15-tetramethylhexadecyl group and 3,5,5-trimethylhexyl group It includes branched alkyl groups.

炭素数6以上のアルキル基は、本発明の高分子化合物の溶媒に対する溶解性等を考慮して適宜選択されるが、ヘキシル基、ヘプチル基、オクチル基、ノニル基、デシル基、ウンデシル基、ドデシル基、トリデシル基、テトラデシル基、ペンタデシル基、ヘキサデシル基、2−エチルヘキシル基、3,7−ジメチルオクチル基、1−プロピルペンチル基及び3−ヘプチルドデシル基が好ましく、ヘキシル基、ヘプチル基、オクチル基、ドデシル基、テトラデシル基、ヘキサデシル基、2−エチルヘキシル基、3,7−ジメチルオクチル基及び3−ヘプチルドデシル基がより好ましく、ヘキシル基、オクチル基、ドデシル基、ヘキサデシル基、2−エチルヘキシル基、3,7−ジメチルオクチル基及び3−ヘプチルドデシル基が特に好ましい。   The alkyl group having 6 or more carbon atoms is appropriately selected in consideration of the solubility of the polymer compound of the present invention in a solvent, etc., and is a hexyl group, heptyl group, octyl group, nonyl group, decyl group, undecyl group, dodecyl group. Group, tridecyl group, tetradecyl group, pentadecyl group, hexadecyl group, 2-ethylhexyl group, 3,7-dimethyloctyl group, 1-propylpentyl group and 3-heptyldodecyl group are preferred, hexyl group, heptyl group, octyl group, More preferred are dodecyl, tetradecyl, hexadecyl, 2-ethylhexyl, 3,7-dimethyloctyl and 3-heptyldodecyl, hexyl, octyl, dodecyl, hexadecyl, 2-ethylhexyl, 3, A 7-dimethyloctyl group and a 3-heptyldodecyl group are particularly preferred.

Rの好ましい一態様であるアリール基としては、本発明の高分子化合物の溶媒に対する溶解性等を考慮した場合、アルキル基が置換したフェニル基が好ましい。アルキル基の置換位置は、パラ位が好ましい。パラ位にアルキル基が置換したフェニル基としては、p−ヘキシルフェニル基、p−ヘプチルフェニル基、p−オクチルフェニル基、p−ノニルフェニル基、p−デシルフェニル基、p−ウンデシルフェニル基、p−ドデシルフェニル基、p−トリデシルフェニル基、p−テトラデシルフェニル基、p−ペンタデシルフェニル基、p−ヘキサデシルフェニル基、p−2−エチルヘキシルフェニル基、p−3,7−ジメチルオクチルフェニル基、p−1−プロピルペンチルフェニル基及びp−2−ヘキシルデシルフェニル基が好ましく、p−ヘキシルフェニル基、p−ヘプチルフェニル基、p−オクチルフェニル基、p−ドデシルフェニル基、p−ペンタデシルフェニル基、p−ヘキサデシルフェニル基、p−2−エチルヘキシルフェニル基、p−3,7−ジメチルオクチルフェニル基及びp−2−ヘキシルデシルフェニル基がより好ましく、p−ドデシルフェニル基、p−ペンタデシルフェニル基、p−2−エチルヘキシルフェニル基及びp−3,7−ジメチルオクチルフェニル基が特に好ましい。   As the aryl group which is a preferable embodiment of R, a phenyl group substituted with an alkyl group is preferable in consideration of solubility of the polymer compound of the present invention in a solvent. The substitution position of the alkyl group is preferably the para position. Examples of the phenyl group substituted with an alkyl group at the para position include p-hexylphenyl group, p-heptylphenyl group, p-octylphenyl group, p-nonylphenyl group, p-decylphenyl group, p-undecylphenyl group, p-dodecylphenyl group, p-tridecylphenyl group, p-tetradecylphenyl group, p-pentadecylphenyl group, p-hexadecylphenyl group, p-2-ethylhexylphenyl group, p-3,7-dimethyloctyl A phenyl group, p-1-propylpentylphenyl group and p-2-hexyldecylphenyl group are preferred, and p-hexylphenyl group, p-heptylphenyl group, p-octylphenyl group, p-dodecylphenyl group, p-penta Decylphenyl group, p-hexadecylphenyl group, p-2-ethylhexylphenyl group, -3,7-dimethyloctylphenyl group and p-2-hexyldecylphenyl group are more preferred, p-dodecylphenyl group, p-pentadecylphenyl group, p-2-ethylhexylphenyl group and p-3,7-dimethyl An octylphenyl group is particularly preferred.

本発明のホウ素化合物の製造方法は、式(I)で表される化合物と、リチウムアミド化合物又はアルキルリチウム化合物を反応させて、第1の中間体を得る。   In the method for producing a boron compound of the present invention, a compound represented by the formula (I) is reacted with a lithium amide compound or an alkyl lithium compound to obtain a first intermediate.

第1の中間体は、下記式(I’−a)又は式(I’−b)で表される。

Figure 0006079431
The first intermediate is represented by the following formula (I′-a) or formula (I′-b).
Figure 0006079431

式(I)中、Yの具体例は前述と同じである。   In formula (I), specific examples of Y are the same as described above.

Yが式(Y−1)〜式(Y−4)で表される基のとき、第1の中間体は、下記式(I’−1)〜式(I’−8)で表される。   When Y is a group represented by the formula (Y-1) to the formula (Y-4), the first intermediate is represented by the following formula (I′-1) to the formula (I′-8). .

Figure 0006079431
Figure 0006079431

Figure 0006079431
Figure 0006079431

式(I’−1)〜式(I’−8)中、Rは、前述と同様の意味を表す。   In formula (I′-1) to formula (I′-8), R represents the same meaning as described above.

リチウムアミド化合物又はアルキルリチウム化合物としては、セカンダリーブチルリチウム、ターシャリーブチルリチウム、リチウムビストリメチルシリルアミド及びリチウムジイソプロピルアミドが例示される。   Examples of the lithium amide compound or the alkyl lithium compound include secondary butyl lithium, tertiary butyl lithium, lithium bistrimethylsilylamide, and lithium diisopropylamide.

リチウムアミド化合物又はアルキルリチウム化合物をとして、合成収率の観点から、好ましくは、リチウムジイソプロピルアミドである。   Lithium diisopropylamide is preferred from the viewpoint of synthesis yield using a lithium amide compound or an alkyllithium compound.

第1の中間体と、下記式(W2−1)で表される化合物を反応させ、第2の中間体を得る。

Figure 0006079431
The first intermediate is reacted with a compound represented by the following formula (W2-1) to obtain a second intermediate.
Figure 0006079431

式(W2−1)中、R、R及びRは、それぞれ独立に、水素原子又は炭素数1〜10のアルキル基を表し、R及びRは、互いに連結して、それぞれが結合する酸素原子とともに炭素数1〜10のアルカン環状構造を形成してもよい。 In formula (W2-1), R 1 , R 2 and R 3 each independently represent a hydrogen atom or an alkyl group having 1 to 10 carbon atoms, and R 2 and R 3 are connected to each other, You may form a C1-C10 alkane cyclic structure with the oxygen atom to couple | bond.

式(W2−1)で表される化合物は、下記式(W2’−1)〜(W2’−7)が例示される。

Figure 0006079431
Examples of the compound represented by the formula (W2-1) include the following formulas (W2′-1) to (W2′-7).
Figure 0006079431

Figure 0006079431
Figure 0006079431

式(W2’−1)〜(W2’−7)で表される化合物のうち、合成上の取り扱いの容易さの観点からは、式(W2’−1)、式(W2’−2)及び式(W2’−3)で表される化合物が好ましい。   Among the compounds represented by formulas (W2′-1) to (W2′-7), from the viewpoint of ease of handling in synthesis, formula (W2′-1), formula (W2′-2) and A compound represented by the formula (W2′-3) is preferable.

第2の中間体は、下記式(I’’−a)又は式(I’’−b)で表される。

Figure 0006079431
The second intermediate is represented by the following formula (I ″ -a) or formula (I ″ -b).
Figure 0006079431

式(I)中、Yの具体例は前述と同じである。   In formula (I), specific examples of Y are the same as described above.

Yが式(Y−1)〜式(Y−4)で表される基のとき、第2の中間体は、下記式(I’’−1)〜式(I’’−8)で表される。   When Y is a group represented by the formula (Y-1) to the formula (Y-4), the second intermediate is represented by the following formula (I ″ -1) to the formula (I ″ -8). Is done.

Figure 0006079431
Figure 0006079431

Figure 0006079431
Figure 0006079431

式(I’’−1)〜式(I’’−8)中、Rは、前述と同様の意味を表す。   In formula (I ″ -1) to formula (I ″ -8), R represents the same meaning as described above.

式(I’’−1)〜式(I’’−8)中、R及びRは、前述と同様の意味を表す。 In formula (I ″ -1) to formula (I ″ -8), R 2 and R 3 represent the same meaning as described above.

式(I’’−1)〜式(I’’−8)中、R及びRは、水素原子となる場合が多いが、R及びRを水素原子に限定する訳ではない。 In formula (I ″ -1) to formula (I ″ -8), R 2 and R 3 are often hydrogen atoms, but R 2 and R 3 are not limited to hydrogen atoms.

第2の中間体と、アルコール又は2価カルボン酸とを反応させ、下記式(II)で表されるホウ素化合物を得る。

Figure 0006079431
The second intermediate is reacted with alcohol or divalent carboxylic acid to obtain a boron compound represented by the following formula (II).
Figure 0006079431

式(I’−5)〜式(I’−8)の第一の中間体から得られる、式(I’’−5)〜式(I’’−8)の第二の中間体は、本発明の製造方法では、再びリチウムアミド化合物又はアルキルリチウム化合物と反応し、式(I’’−1)〜式(I’’−4)の第二の中間体を生成し、式(II)で表される化合物を得る。   The second intermediate of formula (I ″ -5) to formula (I ″ -8) obtained from the first intermediate of formula (I′-5) to formula (I′-8) is: In the production method of the present invention, it reacts with a lithium amide compound or an alkyl lithium compound again to produce a second intermediate of the formula (I ″ -1) to the formula (I ″ -4), and the formula (II) To obtain a compound represented by:

式(II)中、Wは、ホウ酸エステル残基を表す。Yの具体例は前述と同じである。   In formula (II), W represents a boric acid ester residue. Specific examples of Y are the same as described above.

前記アルコールとしては、下記式(W3−1)〜式(W3−8)のいずれかで表される化合物が取り扱いの観点から好ましく、前記2価カルボン酸としては、下記式(W3−9)で表される化合物が取り扱いの観点から好ましい。   As the alcohol, a compound represented by any one of the following formulas (W3-1) to (W3-8) is preferable from the viewpoint of handling, and the divalent carboxylic acid is represented by the following formula (W3-9). The represented compounds are preferred from the viewpoint of handling.

Figure 0006079431
Figure 0006079431

式(II)中、Wで表されるホウ酸エステル残基は、下記式(W4−1)〜式(W4−12)で表される基が例示される。   In the formula (II), examples of the boric acid ester residue represented by W include groups represented by the following formulas (W4-1) to (W4-12).

Figure 0006079431
Figure 0006079431

式(II)で表されるホウ素化合物は、下記式(II−1)〜(II−32)で例示される。   The boron compound represented by the formula (II) is exemplified by the following formulas (II-1) to (II-32).

Figure 0006079431
Figure 0006079431

Figure 0006079431
Figure 0006079431

Figure 0006079431
Figure 0006079431

Figure 0006079431
Figure 0006079431

Figure 0006079431
Figure 0006079431

Figure 0006079431
Figure 0006079431

Figure 0006079431
Figure 0006079431

Figure 0006079431
Figure 0006079431

式(II−1)〜(II−32)で例示される構造の内、合成の容易さの観点から、式(II−13)、式(II−17)及び式(II−21)で表される構造が好ましい。   Of the structures exemplified by the formulas (II-1) to (II-32), from the viewpoint of ease of synthesis, the structures represented by the formula (II-13), the formula (II-17) and the formula (II-21) The structure is preferred.

本発明の製造方法を用いて合成した、式(II−17)〜(II−20)で表される化合物を原料に用いる事で、下記式(II’−17)〜(II’−20)で表されるホウ素化合物を合成する事が出来る。   By using the compounds represented by formulas (II-17) to (II-20) synthesized by the production method of the present invention as raw materials, the following formulas (II′-17) to (II′-20) The boron compound represented by can be synthesized.

Figure 0006079431
〔式中、Rは、前述と同じ意味を表わす。式中、Mは、リチウム原子、ナトリウム原子又はカリウム原子を表す。〕
Figure 0006079431
[Wherein R represents the same meaning as described above. In the formula, M represents a lithium atom, a sodium atom or a potassium atom. ]

本発明の製造方法を用いて合成した式(II)で表されるホウ素化合物を使用し、高分子化合物合成する事ができる。   By using the boron compound represented by the formula (II) synthesized using the production method of the present invention, a polymer compound can be synthesized.

式(II)で表される反応性化合物の他に、式(II’−17)〜(II’−20)で表される反応性化合物を用いた場合でも、高分子化合物を製造する事ができる。   In addition to the reactive compound represented by the formula (II), a polymer compound can be produced even when the reactive compounds represented by the formulas (II′-17) to (II′-20) are used. it can.

本発明の製造方法を用いた化合物を使用し、高分子化合物合成を製造する方法としては、特に制限されるものではないが、高分子化合物の合成の容易さからは、Suzukiカップリング反応を用いる事ができる。   The method for producing the polymer compound synthesis using the compound using the production method of the present invention is not particularly limited, but the Suzuki coupling reaction is used from the viewpoint of ease of synthesis of the polymer compound. I can do things.

本発明の製造方法を用いた化合物を使用し、製造した高分子化合物は、高い電子及び/又はホール輸送性を発揮し得ることから、該高分子化合物を含む有機薄膜を素子に用いた場合、電極から注入された電子やホール、或いは、光吸収によって発生した電荷を輸送することができる。これらの特性を活かして光電変換素子、有機薄膜トランジスタ、有機エレクトロルミネッセンス素子等の種々の電子素子に好適に用いることができる。   Since the polymer compound produced using the compound using the production method of the present invention can exhibit high electron and / or hole transport properties, when an organic thin film containing the polymer compound is used in the device, Electrons and holes injected from the electrodes or charges generated by light absorption can be transported. Taking advantage of these characteristics, it can be suitably used for various electronic devices such as a photoelectric conversion device, an organic thin film transistor, and an organic electroluminescence device.

たとえば、光電変換素子において、本発明の高分子化合物は活性層の材料として用いられる。また有機薄膜トランジスタにおいて、本発明の高分子化合物は、ソース電極とドレイン電極との電極間の電流経路となる有機半導体層(活性層)に用いられる。また有機エレクトロルミネッセンス素子において、本発明の高分子化合物は、発光層に用いられる。   For example, in the photoelectric conversion element, the polymer compound of the present invention is used as a material for the active layer. In the organic thin film transistor, the polymer compound of the present invention is used for an organic semiconductor layer (active layer) that becomes a current path between the source electrode and the drain electrode. In the organic electroluminescence device, the polymer compound of the present invention is used for a light emitting layer.

以下、本発明をさらに詳細に説明するために実施例を示すが、本発明はこれらに限定されるものではない。   Examples will be shown below for illustrating the present invention in more detail, but the present invention is not limited to these examples.

(NMR測定)
NMR測定は、化合物を重クロロホルムに溶解させ、NMR装置(Varian社製、INOVA300)を用いて行った。
(NMR measurement)
The NMR measurement was performed by dissolving the compound in deuterated chloroform and using an NMR apparatus (Varian, INOVA300).

(LC測定)
LC測定は、化合物をテトラヒドロフラン溶解させ、LC装置(島津製作所製、LC−20A)を用いて行った。
(LC measurement)
LC measurement was performed using a LC device (manufactured by Shimadzu Corporation, LC-20A) after dissolving the compound in tetrahydrofuran.

合成例1
(化合物2の合成)

Figure 0006079431
500mlフラスコに、4,5−ジフルオロ−1,2−ジアミノベンゼン(化合物1)(東京化成工業製)を10.2g(70.8mmol)、ピリジンを150mL入れて均一溶液とした。フラスコを0℃に冷却し、フラスコ内に塩化チオニル16.0g(134mmol)を滴下した。滴下後、フラスコを25℃に温めて、6時間反応を行った。その後、反応液に水250mlを加え、さらにクロロホルムを加えて反応生成物を含む有機層を抽出した。クロロホルム溶液である有機層を硫酸ナトリウムで乾燥し、濾過した。濾液をエバポレーターで濃縮し、析出した固体を再結晶で精製した。再結晶の溶媒には、メタノールを用いた。精製後、化合物2を10.5g(61.0mmol)得た。 Synthesis example 1
(Synthesis of Compound 2)
Figure 0006079431
In a 500 ml flask, 10.2 g (70.8 mmol) of 4,5-difluoro-1,2-diaminobenzene (Compound 1) (manufactured by Tokyo Chemical Industry Co., Ltd.) and 150 mL of pyridine were added to obtain a homogeneous solution. The flask was cooled to 0 ° C., and 16.0 g (134 mmol) of thionyl chloride was dropped into the flask. After dropping, the flask was warmed to 25 ° C. and reacted for 6 hours. Thereafter, 250 ml of water was added to the reaction solution, and chloroform was further added to extract an organic layer containing the reaction product. The organic layer, which is a chloroform solution, was dried over sodium sulfate and filtered. The filtrate was concentrated with an evaporator, and the precipitated solid was purified by recrystallization. Methanol was used as the solvent for recrystallization. After purification, 10.5 g (61.0 mmol) of Compound 2 was obtained.

1H-NMR(CDCl3, δ(ppm)) : 7.75(s, 2H)
19F-NMR(CDCl3, δ(ppm)) : -128.3(s, 2F)
1 H-NMR (CDCl 3 , δ (ppm)): 7.75 (s, 2H)
19 F-NMR (CDCl 3 , δ (ppm)): -128.3 (s, 2F)

実施例1
(化合物3の合成)

Figure 0006079431
四つ口フラスコを用いて、化合物2(9.47g,55.00mmol)及び、テトラヒドロフラン(400mL)を加え、室温で30分間アルゴンバブリングを行った。−78℃に冷却後、リチウムジイソプロピルアミド(ヘキサンサスペンション 10w%,225mL,137.5mmol)を加え、20分間攪拌し、2−イソプロポキシ−4,4,5,5−テトラメチル−1,3,2−ジオキサボロラン(30.70g,165.0mmol)を加え、1時間攪拌した。次にピナコール(26.00g,220.0mmol)を加え、室温にしながら、硫酸をpHが1〜2になるまで滴下して、3時間攪拌した。セライトろ過を行い、濃縮後、メタノール/水を系中に入れ、析出した固体をろ取し、ヘキサンで再結晶を行い、白色固体の化合物3を8.42g得た。(収率36.1%) Example 1
(Synthesis of Compound 3)
Figure 0006079431
Using a four-necked flask, compound 2 (9.47 g, 55.00 mmol) and tetrahydrofuran (400 mL) were added, and argon bubbling was performed at room temperature for 30 minutes. After cooling to −78 ° C., lithium diisopropylamide (hexane suspension 10 w%, 225 mL, 137.5 mmol) was added, stirred for 20 minutes, and 2-isopropoxy-4,4,5,5-tetramethyl-1,3, 2-Dioxaborolane (30.70 g, 165.0 mmol) was added and stirred for 1 hour. Next, pinacol (26.00 g, 220.0 mmol) was added, and sulfuric acid was added dropwise until the pH became 1 to 2 at room temperature, followed by stirring for 3 hours. After filtration through celite and concentration, methanol / water was added to the system, and the precipitated solid was collected by filtration and recrystallized from hexane to obtain 8.42 g of Compound 3 as a white solid. (Yield 36.1%)

1H-NMR(CDCl3, δ(ppm)) : 1.45(s, 24H)
19F-NMR(CDCl3, δ(ppm)) : -117(s, 2F)
1 H-NMR (CDCl 3 , δ (ppm)): 1.45 (s, 24H)
19 F-NMR (CDCl 3 , δ (ppm)): -117 (s, 2F)

実施例2
(化合物4の合成)

Figure 0006079431
四つ口フラスコを用いて、化合物2(1.72g,10.00mmol)及び、テトラヒドロフラン(100mL)を加え、室温で30分間アルゴンバブリングを行った。−78℃に冷却後、リチウムジイソプロピルアミド (ヘキサンサスペンション 10w%,49.1mL,30.0mmol)を加え、20分間攪拌し、トリメトキシボラン(3.43g,33.0mmol)を加え、1時間攪拌した。次に2,2−ジメチル−1,3−プロパンジオール(4.17g,40.0mmol)を加え、室温にしながら、硫酸をpHが1〜2になるまで滴下して、3時間攪拌した。セライトろ過を行い、濃縮後、メタノール/水を系中に入れ、析出した固体をろ取し、ヘキサンで再結晶を行い、白色固体の化合物4を1.11g得た。(収率28.1%) Example 2
(Synthesis of Compound 4)
Figure 0006079431
Using a four-necked flask, compound 2 (1.72 g, 10.00 mmol) and tetrahydrofuran (100 mL) were added, and argon bubbling was performed at room temperature for 30 minutes. After cooling to −78 ° C., lithium diisopropylamide (hexane suspension 10 w%, 49.1 mL, 30.0 mmol) was added, stirred for 20 minutes, trimethoxyborane (3.43 g, 33.0 mmol) was added, and the mixture was stirred for 1 hour. did. Next, 2,2-dimethyl-1,3-propanediol (4.17 g, 40.0 mmol) was added, and sulfuric acid was added dropwise until the pH reached 1 to 2 at room temperature, followed by stirring for 3 hours. Celite filtration was performed, and after concentration, methanol / water was put into the system. The precipitated solid was collected by filtration and recrystallized from hexane to obtain 1.11 g of compound 4 as a white solid. (Yield 28.1%)

1H-NMR(CDCl3, δ(ppm)) : 1.14(s, 12H), 3.92(s, 8H)
19F-NMR(CDCl3, δ(ppm)) : -120(s, 2F)
1 H-NMR (CDCl 3 , δ (ppm)): 1.14 (s, 12H), 3.92 (s, 8H)
19 F-NMR (CDCl 3 , δ (ppm)): -120 (s, 2F)

比較例1
(化合物5の合成)

Figure 0006079431
2 5
100mLフラスコに、化合物2を2.00g(11.6mmol)、鉄粉を0.20g(3.58mmol)入れ、フラスコを90℃に加熱した。このフラスコに、臭素31g(194mmol)を1時間かけて滴下した。滴下後、反応液を90℃で38時間攪拌した。その後、フラスコを室温(25℃)まで冷却し、クロロホルム100mLを入れて希釈した。得られた溶液を、5wt%の亜硫酸ナトリウム水溶液300mLに注ぎ込み、1時間攪拌した。得られた混合液の有機層を分液ロートで分離し、水層をクロロホルムで3回抽出した。得られた抽出液を有機層に混合し、混合した溶液を硫酸ナトリウムで乾燥した。ろ過後、ろ液をエバポレーターで濃縮し、溶媒を留去した。得られた黄色の固体を、55℃に熱したメタノール90mLに溶解させ、その後、25℃まで冷却した。析出した結晶をろ過して回収し、その後、室温(25℃)で減圧乾燥して化合物5を1.50g得た。 Comparative Example 1
(Synthesis of Compound 5)
Figure 0006079431
2 5
In a 100 mL flask, 2.00 g (11.6 mmol) of Compound 2 and 0.20 g (3.58 mmol) of iron powder were placed, and the flask was heated to 90 ° C. To this flask, 31 g (194 mmol) of bromine was added dropwise over 1 hour. After the dropping, the reaction solution was stirred at 90 ° C. for 38 hours. Thereafter, the flask was cooled to room temperature (25 ° C.) and diluted with 100 mL of chloroform. The obtained solution was poured into 300 mL of 5 wt% aqueous sodium sulfite solution and stirred for 1 hour. The organic layer of the obtained mixture was separated with a separatory funnel, and the aqueous layer was extracted with chloroform three times. The obtained extract was mixed with the organic layer, and the mixed solution was dried over sodium sulfate. After filtration, the filtrate was concentrated with an evaporator and the solvent was distilled off. The obtained yellow solid was dissolved in 90 mL of methanol heated to 55 ° C., and then cooled to 25 ° C. The precipitated crystals were collected by filtration and then dried under reduced pressure at room temperature (25 ° C.) to obtain 1.50 g of compound 5.

(化合物3の合成)

Figure 0006079431
5 3
四つ口フラスコに、化合物5を12.30g(37.28mmol)、ビス(ピナコラート)ジボロンを23.67g(93.20mmol)、酢酸カリウムを9.15g(93.20mmol)及び、ジオキサンを500mL加え、室温(25℃)で30分間アルゴンバブリングを行った。反応溶液にジフェニルホスフィノフェロセンパラジウムジクロリドを1.52g(1.86mmol)、ジフェニルホスフィノフェロセンを1.03mg(1.86mmol)加えた後、加熱還流を60時間行った。還流後、液体クロマトグラフィーにより原料の消失を確認した。反応溶液をセライトろ過して不溶分を分離した後、ろ液を乾燥させて溶媒を除去し、褐色固体を得た。得られた褐色固体に、熱ヘキサン200mLを加えてろ過し、ろ液を乾燥させて溶媒を除去して粗結晶を得た。続いて、粗結晶をヘキサンで再結晶した。再結晶を2回行い、化合物3を3.12g得た。(化合物2からのトータル収率4.0%) (Synthesis of Compound 3)
Figure 0006079431
5 3
To a four-necked flask, 12.30 g (37.28 mmol) of Compound 5, 23.67 g (93.20 mmol) of bis (pinacolato) diboron, 9.15 g (93.20 mmol) of potassium acetate, and 500 mL of dioxane were added. Then, argon bubbling was performed at room temperature (25 ° C.) for 30 minutes. After 1.52 g (1.86 mmol) of diphenylphosphinoferrocene palladium dichloride and 1.03 mg (1.86 mmol) of diphenylphosphinoferrocene were added to the reaction solution, the mixture was heated to reflux for 60 hours. After the reflux, disappearance of the raw material was confirmed by liquid chromatography. The reaction solution was filtered through Celite to separate insoluble matters, and then the filtrate was dried to remove the solvent to obtain a brown solid. To the obtained brown solid, 200 mL of hot hexane was added and filtered, and the filtrate was dried to remove the solvent to obtain crude crystals. Subsequently, the crude crystals were recrystallized from hexane. Recrystallization was performed twice to obtain 3.12 g of compound 3. (Total yield from compound 2: 4.0%)

1H-NMR(CDCl3, δ(ppm)) : 1.45(s, 24H)
19F-NMR(CDCl3, δ(ppm)) : -117(s, 2F)
1 H-NMR (CDCl 3 , δ (ppm)): 1.45 (s, 24H)
19 F-NMR (CDCl 3 , δ (ppm)): -117 (s, 2F)

Claims (5)

下記式(I)で表される化合物と、リチウムアミド化合物又はアルキルリチウム化合物とを反応させて得られる第1の中間体と、下記式(W2−1)で表される化合物とを反応させて、第2の中間体を製造する工程と、

Figure 0006079431
(I)
〔式(I)中、Yは、2価の基を表す。〕

Figure 0006079431
〔式(W2−1)中、R、R及びRは、それぞれ独立に、水素原子又は炭素数1〜10のアルキル基を表し、R及びRは、互いに連結して、それらが結合する酸素原子とともに炭素数1〜10のアルカン環状構造を形成してもよい。〕
該第2の中間体と、アルコール又は2価カルボン酸とを反応させる工程とを有する、下記式(II)で表されるホウ素化合物の製造方法。
Figure 0006079431
(II)
〔式(II)中、Wは、ホウ酸エステル残基を表す。Yは、前記と同じ意味を表す。〕
A compound represented by the following formula (I) is reacted with a first intermediate obtained by reacting a lithium amide compound or an alkyllithium compound with a compound represented by the following formula (W2-1). Producing a second intermediate;

Figure 0006079431
(I)
[In formula (I), Y represents a divalent group. ]

Figure 0006079431
[In Formula (W2-1), R 1 , R 2 and R 3 each independently represent a hydrogen atom or an alkyl group having 1 to 10 carbon atoms, and R 2 and R 3 are linked to each other, and An alkane cyclic structure having 1 to 10 carbon atoms may be formed together with the oxygen atom to which is bonded. ]
A method for producing a boron compound represented by the following formula (II), comprising a step of reacting the second intermediate with an alcohol or a divalent carboxylic acid.
Figure 0006079431
(II)
[In formula (II), W represents a boric acid ester residue. Y represents the same meaning as described above. ]
前記アルコールが下記式(W3−1)〜式(W3−8)のいずれかで表される化合物であり、前記2価カルボン酸が下記式(W3−9)で表される化合物である請求項1に記載の製造方法。
Figure 0006079431
The alcohol is a compound represented by any one of the following formulas (W3-1) to (W3-8), and the divalent carboxylic acid is a compound represented by the following formula (W3-9). 2. The production method according to 1.
Figure 0006079431
前記Wで表されるホウ酸エステル残基が、下記式(W4−1)〜式(W4−12)のいずれかで表される基である請求項1又は2に記載の製造方法。

Figure 0006079431
The production method according to claim 1 or 2, wherein the boric acid ester residue represented by W is a group represented by any of the following formulas (W4-1) to (W4-12).

Figure 0006079431
前記Yで表される2価の基が、下記式(Y−1)〜式(Y−4)のいずれかで表される基である請求項1〜3のいずれか一項に記載の製造方法。
Figure 0006079431
〔式(Y−1)〜式(Y−4)中、Rは、それぞれ独立に、水素原子、ハロゲン原子又は置換基を表す。〕
The divalent group represented by Y is a group represented by any one of the following formulas (Y-1) to (Y-4). The production according to any one of claims 1 to 3. Method.
Figure 0006079431
[In formula (Y-1) to formula (Y-4), R each independently represents a hydrogen atom, a halogen atom or a substituent. ]
前記リチウムアミド化合物又はアルキルリチウム化合物が、リチウムジイソプロピルアミドである請求項1〜4のいずれか一項に記載の製造方法。   The method according to any one of claims 1 to 4, wherein the lithium amide compound or the alkyl lithium compound is lithium diisopropylamide.
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