JP6078450B2 - 半導体製造装置用部材及びその製法 - Google Patents
半導体製造装置用部材及びその製法 Download PDFInfo
- Publication number
- JP6078450B2 JP6078450B2 JP2013215951A JP2013215951A JP6078450B2 JP 6078450 B2 JP6078450 B2 JP 6078450B2 JP 2013215951 A JP2013215951 A JP 2013215951A JP 2013215951 A JP2013215951 A JP 2013215951A JP 6078450 B2 JP6078450 B2 JP 6078450B2
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- dispersion plate
- tube
- gas dispersion
- pipe
- flange
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Active
Links
- 238000004519 manufacturing process Methods 0.000 title claims description 48
- 239000004065 semiconductor Substances 0.000 title claims description 29
- 239000006185 dispersion Substances 0.000 claims description 46
- 239000000919 ceramic Substances 0.000 claims description 21
- 239000007790 solid phase Substances 0.000 claims description 10
- 238000000034 method Methods 0.000 claims description 8
- 238000010438 heat treatment Methods 0.000 claims description 4
- 239000000758 substrate Substances 0.000 claims 1
- 239000007789 gas Substances 0.000 description 40
- 238000005304 joining Methods 0.000 description 11
- 238000003825 pressing Methods 0.000 description 10
- 230000000052 comparative effect Effects 0.000 description 6
- 238000010586 diagram Methods 0.000 description 4
- XKRFYHLGVUSROY-UHFFFAOYSA-N Argon Chemical compound [Ar] XKRFYHLGVUSROY-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- IJGRMHOSHXDMSA-UHFFFAOYSA-N Atomic nitrogen Chemical compound N#N IJGRMHOSHXDMSA-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 238000009826 distribution Methods 0.000 description 2
- 230000000694 effects Effects 0.000 description 2
- 239000011261 inert gas Substances 0.000 description 2
- 238000002844 melting Methods 0.000 description 2
- 230000008018 melting Effects 0.000 description 2
- 230000005855 radiation Effects 0.000 description 2
- 230000002159 abnormal effect Effects 0.000 description 1
- 229910052786 argon Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000012752 auxiliary agent Substances 0.000 description 1
- 238000005452 bending Methods 0.000 description 1
- 230000003247 decreasing effect Effects 0.000 description 1
- 230000008021 deposition Effects 0.000 description 1
- 230000002542 deteriorative effect Effects 0.000 description 1
- 238000009792 diffusion process Methods 0.000 description 1
- 238000011156 evaluation Methods 0.000 description 1
- 230000017525 heat dissipation Effects 0.000 description 1
- 239000000463 material Substances 0.000 description 1
- 229910052757 nitrogen Inorganic materials 0.000 description 1
- 230000003647 oxidation Effects 0.000 description 1
- 238000007254 oxidation reaction Methods 0.000 description 1
- 230000000149 penetrating effect Effects 0.000 description 1
- 230000002093 peripheral effect Effects 0.000 description 1
- WFKWXMTUELFFGS-UHFFFAOYSA-N tungsten Chemical compound [W] WFKWXMTUELFFGS-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910052721 tungsten Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000010937 tungsten Substances 0.000 description 1
Images
Classifications
-
- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01L—SEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
- H01L21/00—Processes or apparatus adapted for the manufacture or treatment of semiconductor or solid state devices or of parts thereof
- H01L21/67—Apparatus specially adapted for handling semiconductor or electric solid state devices during manufacture or treatment thereof; Apparatus specially adapted for handling wafers during manufacture or treatment of semiconductor or electric solid state devices or components ; Apparatus not specifically provided for elsewhere
- H01L21/67005—Apparatus not specifically provided for elsewhere
- H01L21/67011—Apparatus for manufacture or treatment
- H01L21/67098—Apparatus for thermal treatment
- H01L21/67103—Apparatus for thermal treatment mainly by conduction
-
- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01L—SEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
- H01L21/00—Processes or apparatus adapted for the manufacture or treatment of semiconductor or solid state devices or of parts thereof
- H01L21/67—Apparatus specially adapted for handling semiconductor or electric solid state devices during manufacture or treatment thereof; Apparatus specially adapted for handling wafers during manufacture or treatment of semiconductor or electric solid state devices or components ; Apparatus not specifically provided for elsewhere
- H01L21/683—Apparatus specially adapted for handling semiconductor or electric solid state devices during manufacture or treatment thereof; Apparatus specially adapted for handling wafers during manufacture or treatment of semiconductor or electric solid state devices or components ; Apparatus not specifically provided for elsewhere for supporting or gripping
- H01L21/6831—Apparatus specially adapted for handling semiconductor or electric solid state devices during manufacture or treatment thereof; Apparatus specially adapted for handling wafers during manufacture or treatment of semiconductor or electric solid state devices or components ; Apparatus not specifically provided for elsewhere for supporting or gripping using electrostatic chucks
-
- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01L—SEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
- H01L21/00—Processes or apparatus adapted for the manufacture or treatment of semiconductor or solid state devices or of parts thereof
- H01L21/67—Apparatus specially adapted for handling semiconductor or electric solid state devices during manufacture or treatment thereof; Apparatus specially adapted for handling wafers during manufacture or treatment of semiconductor or electric solid state devices or components ; Apparatus not specifically provided for elsewhere
- H01L21/683—Apparatus specially adapted for handling semiconductor or electric solid state devices during manufacture or treatment thereof; Apparatus specially adapted for handling wafers during manufacture or treatment of semiconductor or electric solid state devices or components ; Apparatus not specifically provided for elsewhere for supporting or gripping
- H01L21/687—Apparatus specially adapted for handling semiconductor or electric solid state devices during manufacture or treatment thereof; Apparatus specially adapted for handling wafers during manufacture or treatment of semiconductor or electric solid state devices or components ; Apparatus not specifically provided for elsewhere for supporting or gripping using mechanical means, e.g. chucks, clamps or pinches
- H01L21/68714—Apparatus specially adapted for handling semiconductor or electric solid state devices during manufacture or treatment thereof; Apparatus specially adapted for handling wafers during manufacture or treatment of semiconductor or electric solid state devices or components ; Apparatus not specifically provided for elsewhere for supporting or gripping using mechanical means, e.g. chucks, clamps or pinches the wafers being placed on a susceptor, stage or support
- H01L21/68792—Apparatus specially adapted for handling semiconductor or electric solid state devices during manufacture or treatment thereof; Apparatus specially adapted for handling wafers during manufacture or treatment of semiconductor or electric solid state devices or components ; Apparatus not specifically provided for elsewhere for supporting or gripping using mechanical means, e.g. chucks, clamps or pinches the wafers being placed on a susceptor, stage or support characterised by the construction of the shaft
-
- B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
- B23—MACHINE TOOLS; METAL-WORKING NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
- B23K—SOLDERING OR UNSOLDERING; WELDING; CLADDING OR PLATING BY SOLDERING OR WELDING; CUTTING BY APPLYING HEAT LOCALLY, e.g. FLAME CUTTING; WORKING BY LASER BEAM
- B23K20/00—Non-electric welding by applying impact or other pressure, with or without the application of heat, e.g. cladding or plating
- B23K20/12—Non-electric welding by applying impact or other pressure, with or without the application of heat, e.g. cladding or plating the heat being generated by friction; Friction welding
Landscapes
- Engineering & Computer Science (AREA)
- Physics & Mathematics (AREA)
- Condensed Matter Physics & Semiconductors (AREA)
- General Physics & Mathematics (AREA)
- Manufacturing & Machinery (AREA)
- Computer Hardware Design (AREA)
- Microelectronics & Electronic Packaging (AREA)
- Power Engineering (AREA)
- Drying Of Semiconductors (AREA)
- Chemical Vapour Deposition (AREA)
- Ceramic Products (AREA)
Description
電極が埋設されたガス分散板の片面に、ガスが通過する貫通孔を有するシャフトが接合され、前記貫通孔を通過してきたガスが前記ガス分散板に設けられた複数の穴を通じて外部へ放出される半導体製造装置用部材であって、
前記ガス分散板及び前記シャフトは共にセラミックス製であり、
前記シャフトは内管と外管とを備えた二重管構造となっており、前記内管の内部空間が前記貫通孔になっている。
図1は、半導体製造装置用部材の1つである高周波電力供給装置10の断面図である。なお、図中に寸法を示したが、これは一例であり、この寸法に限定されるものではない。
図3は、第2実施形態の高周波電力供給装置40の断面図である。この高周波電力供給装置40では、外管42の形状が異なる以外は第1実施形態の高周波電力供給装置10と同じであるため、同じ構成要素については同じ符号を付し、その説明を省略する。
なお、本発明は上述した実施形態に何ら限定されることはなく、本発明の技術的範囲に属する限り種々の態様で実施し得ることはいうまでもない。
第1実施形態の高周波電力供給装置10を、図1に示した寸法で作製した。プレート12やシャフト16(内管18及び外管22)はAlNで作製した。
第2実施形態の高周波電力供給装置40を、図3に示した寸法で作製した。プレート12やシャフト16(内管18及び外管42)はAlNで作製した。
図5に示した高周波電力供給装置50を、図5に示した寸法で作製した。プレート12やシャフト16(内管18及び外管22)はAlNで作製した。
図6に示した高周波電力供給装置60を、図6に示した寸法で作製した。プレート12やシャフト16(内管18及び外管62)はAlNで作製した。
図7に示した高周波電力供給装置100を、図7に示した寸法で作製した。ガス分散板(プレート)102や筒状シャフト104はAlNで作製した。
・クラックの有無
1900℃にてシャフトとプレートとを接合する処理を実施した後、シャフトにクラックが発生したか否かを調べた。そうしたところ、実施例1〜4ではクラックは発生しなかったが、比較例1ではクラックが発生した(表1参照)。比較例1では、筒状シャフト104の貫通孔106の径が小さく、筒状シャフト104の断面に占めるセラミックスの割合が大きいため、筒状シャフト104にクラックが発生したと考えられる。これに対して、実施例1〜4では、シャフトは内管と外管とを備えた二重管構造となっており、内管と外管との間はセラミックスではなく空間になっているため、断面に占めるセラミックスの割合が小さい。そのため、クラックが発生しなかったと考えられる。
各高周波電力供給装置を200℃に加熱した状態で使用し、プレートの中心にデポが発生するか否かを調べた。そうしたところ、実施例1〜4ではデポは発生しなかったが、比較例1ではデポが発生した(表1参照)。比較例1でデポが発生したのは、ガス分散板102から筒状シャフト104を通じての放熱が大きいため、ガス分散板102のうち筒状シャフト104との接合部分近傍の表面温度が下がったことによると考えられる。これに対して、実施例1〜4ではプレートからシャフト(外管及び内管)を通じての放熱が比較例1よりも小さいため、プレートの中心にデポが発生しなかったと考えられる。
Claims (10)
- 電極が埋設されたガス分散板の片面に、ガスが通過する貫通孔を有するシャフトが接合され、前記貫通孔を通過してきたガスが前記ガス分散板に設けられた複数の穴を通じて外部へ放出される半導体製造装置用部材であって、
前記ガス分散板及び前記シャフトは共にセラミックス製であり、
前記シャフトは内管と外管とを備えた二重管構造となっており、前記内管の内部空間が前記貫通孔になっており、前記電極に接続された給電部材が配置される前記内管と外管の間の雰囲気は前記半導体製造装置内の雰囲気と隔離されている、半導体製造装置用部材。 - 前記内管は、前記ガス分散板に接合される側の端部に外フランジを有し、
前記外管は、前記ガス分散板に接合される側の端部にフランジを有さず、前記ガス分散板に接合される側とは反対側の端部に内フランジを有し、該内フランジの内径は前記内管の外径よりも大きい、請求項1に記載の半導体製造装置用部材。 - 前記内管は、前記ガス分散板に接合される側の端部に外フランジを有し、
前記外管は、前記ガス分散板に接合される側の端部に外フランジを有し、前記ガス分散板に接合される側とは反対側の端部に内フランジを有し、該内フランジの内径は前記内管の外径よりも大きい、請求項1に記載の半導体製造装置用部材。 - 前記内管は、前記ガス分散板に接合される側の端部に外フランジを有し、
前記外管は、前記ガス分散板に接合される側の端部にフランジを有さず、前記ガス分散板に接合される側とは反対側の端部に外フランジを有し、該外フランジの内径は前記内管の外径よりも大きい、請求項1に記載の半導体製造装置用部材。 - 前記内管は、前記ガス分散板に接合される側の端部に外フランジを有し、
前記外管は、前記ガス分散板に接合される側が大径となっている段差付きの管であり、前記ガス分散板に接合される側の端部に第1の外フランジを有し、前記ガス分散板に接合される側とは反対側の端部に第2の外フランジを有し、該第2の外フランジの内径は前記内管の外径よりも大きく、前記半導体製造装置用部材を平面視したときに前記第2の外フランジが前記第1の外フランジと干渉しない、請求項1に記載の半導体製造装置用部材。 - 請求項1に記載の半導体製造装置用部材の製法であって、
前記ガス分散板の片面に前記内管及び前記外管を配置し、前記内管及び前記外管にそれぞれ重りを載せた状態で加熱することにより、前記内管及び前記外管を前記ガス分散板に固相接合する、半導体製造装置用部材の製法。 - 請求項2に記載の半導体製造装置用部材の製法であって、
前記ガス分散板の片面に前記内管及び前記外管を配置し、前記内管の外フランジ及び前記外管の内フランジにそれぞれ重りを載せた状態で加熱することにより、前記内管及び前記外管を前記ガス分散板に固相接合する、半導体製造装置用部材の製法。 - 請求項3に記載の半導体製造装置用部材の製法であって、
前記ガス分散板の片面に前記内管及び前記外管を配置し、前記内管の外フランジ及び前記外管の外フランジにそれぞれ重りを載せた状態で加熱することにより、前記内管及び前記外管を前記ガス分散板に固相接合する、半導体製造装置用部材の製法。 - 請求項4に記載の半導体製造装置用部材の製法であって、
前記ガス分散板の片面に前記内管及び前記外管を配置し、前記内管の外フランジ及び前記外管の外フランジにそれぞれ重りを載せた状態で加熱することにより、前記内管及び前記外管を前記ガス分散板に固相接合する、半導体製造装置用部材の製法。 - 請求項5に記載の半導体製造装置用部材の製法であって、
前記ガス分散板の片面に前記内管及び前記外管を配置し、前記内管の外フランジ及び前記外管の第1の外フランジにそれぞれ重りを載せた状態で加熱することにより、前記内管及び前記外管を前記ガス分散板に固相接合する、半導体製造装置用部材の製法。
Applications Claiming Priority (2)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
US201261718758P | 2012-10-26 | 2012-10-26 | |
US61/718,758 | 2012-10-26 |
Publications (3)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JP2014086726A JP2014086726A (ja) | 2014-05-12 |
JP2014086726A5 JP2014086726A5 (ja) | 2015-12-03 |
JP6078450B2 true JP6078450B2 (ja) | 2017-02-08 |
Family
ID=50546099
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP2013215951A Active JP6078450B2 (ja) | 2012-10-26 | 2013-10-17 | 半導体製造装置用部材及びその製法 |
Country Status (3)
Country | Link |
---|---|
US (1) | US9548226B2 (ja) |
JP (1) | JP6078450B2 (ja) |
KR (1) | KR102043916B1 (ja) |
Families Citing this family (3)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
US20170326498A1 (en) * | 2016-05-11 | 2017-11-16 | General Electric Company | Sulfite Preconditioning Systems And Methods To Reduce Mercury Concentrations In Waste Water |
US11289355B2 (en) | 2017-06-02 | 2022-03-29 | Lam Research Corporation | Electrostatic chuck for use in semiconductor processing |
JP6873178B2 (ja) * | 2019-03-26 | 2021-05-19 | 日本碍子株式会社 | 半導体製造装置用部材、その製法及び成形型 |
Family Cites Families (24)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2783980B2 (ja) | 1994-09-01 | 1998-08-06 | 日本碍子株式会社 | 接合体およびその製造方法 |
JP3316167B2 (ja) | 1996-10-08 | 2002-08-19 | 日本碍子株式会社 | 窒化アルミニウム質基材の接合体の製造方法およびこれに使用する接合助剤 |
JP4070752B2 (ja) | 1997-01-30 | 2008-04-02 | 日本碍子株式会社 | 窒化アルミニウム質セラミックス基材の接合剤 |
JP3604888B2 (ja) | 1997-01-30 | 2004-12-22 | 日本碍子株式会社 | 窒化アルミニウム質セラミックス基材の接合体、窒化アルミニウム質セラミックス基材の接合体の製造方法及び接合剤 |
JP3582330B2 (ja) * | 1997-11-14 | 2004-10-27 | 東京エレクトロン株式会社 | 処理装置及びこれを用いた処理システム |
JP4028534B2 (ja) * | 1999-05-13 | 2007-12-26 | 東京エレクトロン株式会社 | 誘導結合プラズマ処理装置 |
JP2001196318A (ja) * | 1999-12-17 | 2001-07-19 | Texas Instr Inc <Ti> | 半導体処理方法および装置 |
JP4282221B2 (ja) | 2000-12-14 | 2009-06-17 | 日本碍子株式会社 | サセプターのチャンバーへの取付構造およびサセプターのチャンバーへの支持部材 |
NL1018086C2 (nl) * | 2001-05-16 | 2002-11-26 | Asm Int | Werkwijze en inrichting voor het thermisch behandelen van substraten. |
US6730175B2 (en) * | 2002-01-22 | 2004-05-04 | Applied Materials, Inc. | Ceramic substrate support |
US6875927B2 (en) * | 2002-03-08 | 2005-04-05 | Applied Materials, Inc. | High temperature DC chucking and RF biasing cable with high voltage isolation for biasable electrostatic chuck applications |
JP3520074B2 (ja) * | 2002-03-28 | 2004-04-19 | 日本碍子株式会社 | セラミックサセプターの取付構造、セラミックサセプターの支持構造およびセラミックサセプターの支持部材 |
TW200633947A (en) * | 2005-02-16 | 2006-10-01 | Ngk Insulators Ltd | Joined body and manufacturing method for the same |
US7126093B2 (en) * | 2005-02-23 | 2006-10-24 | Ngk Insulators, Ltd. | Heating systems |
JP4694873B2 (ja) * | 2005-04-06 | 2011-06-08 | 株式会社オーハシテクニカ | 圧入接合方法及び圧入接合部品 |
JP2006339144A (ja) * | 2005-05-31 | 2006-12-14 | Ngk Insulators Ltd | プラズマ処理装置 |
JP2007258115A (ja) * | 2006-03-24 | 2007-10-04 | Ngk Insulators Ltd | 加熱装置 |
JP5347214B2 (ja) * | 2006-06-12 | 2013-11-20 | 東京エレクトロン株式会社 | 載置台構造及び熱処理装置 |
JP5202175B2 (ja) * | 2008-08-07 | 2013-06-05 | 日本碍子株式会社 | シャフト付きヒータ |
JP5262878B2 (ja) * | 2009-03-17 | 2013-08-14 | 東京エレクトロン株式会社 | 載置台構造及びプラズマ成膜装置 |
JP5463224B2 (ja) * | 2010-07-09 | 2014-04-09 | 日本発條株式会社 | 流路付きプレートの製造方法、流路付きプレート、温度調節プレート、コールドプレート、及びシャワープレート |
JP5791412B2 (ja) * | 2010-07-26 | 2015-10-07 | 日本碍子株式会社 | セラミックヒーター |
JP5933602B2 (ja) * | 2011-03-04 | 2016-06-15 | ノベラス・システムズ・インコーポレーテッドNovellus Systems Incorporated | ガス分配を行なう装置および基板処理装置 |
JP5702657B2 (ja) * | 2011-04-18 | 2015-04-15 | 東京エレクトロン株式会社 | 熱処理装置 |
-
2013
- 2013-10-17 JP JP2013215951A patent/JP6078450B2/ja active Active
- 2013-10-21 US US14/058,604 patent/US9548226B2/en active Active
- 2013-10-24 KR KR1020130126967A patent/KR102043916B1/ko active IP Right Grant
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
US9548226B2 (en) | 2017-01-17 |
KR102043916B1 (ko) | 2019-11-13 |
JP2014086726A (ja) | 2014-05-12 |
KR20140053784A (ko) | 2014-05-08 |
US20140117119A1 (en) | 2014-05-01 |
Similar Documents
Publication | Publication Date | Title |
---|---|---|
KR101063104B1 (ko) | 탑재대 구조 및 열처리 장치 | |
TWI761703B (zh) | 晶圓載置裝置 | |
KR100859182B1 (ko) | 가열 장치 | |
EP1695949B1 (en) | Method of manufacturing a ceramic heater | |
TWI459851B (zh) | heating equipment | |
US8361271B2 (en) | Ceramic-metal bonded body and method of producing the same | |
US7800029B2 (en) | Heating device | |
JP5265622B2 (ja) | 基板加熱ユニット及びこれを含む基板処理装置 | |
US7425838B2 (en) | Body for keeping a wafer and wafer prober using the same | |
US9999947B2 (en) | Method for repairing heaters and chucks used in semiconductor processing | |
KR20210014764A (ko) | 세라믹 히터 | |
CN116178037A (zh) | 用于连接材料的高温方法及利用该方法的装置 | |
JP6078450B2 (ja) | 半導体製造装置用部材及びその製法 | |
US7067200B2 (en) | Joined bodies and a method of producing the same | |
JP4569077B2 (ja) | 半導体あるいは液晶製造装置用保持体およびそれを搭載した半導体あるいは液晶製造装置 | |
JP2011049428A (ja) | 支持装置 | |
JP2009176569A (ja) | セラミックスヒータ及びその製造方法 | |
KR20160000970A (ko) | 반도체 제조장치용 히터의 제조방법 및 히터 손상부위 처리방법 | |
JP6189744B2 (ja) | 試料保持具 | |
JP4590393B2 (ja) | 基板保持体及びその製造方法 | |
KR101237529B1 (ko) | 반도체 제조장치용 히터의 표면손상부위 처리방법 및 샤프트 본딩방법 | |
KR20230042114A (ko) | 웨이퍼 배치대 | |
JP2006302884A (ja) | セラミックスヒータ及び該ヒータを用いた半導体/液晶製造装置 | |
JP2007019546A (ja) | 処理装置 |
Legal Events
Date | Code | Title | Description |
---|---|---|---|
A521 | Request for written amendment filed |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523 Effective date: 20151014 |
|
A621 | Written request for application examination |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A621 Effective date: 20151014 |
|
A977 | Report on retrieval |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A971007 Effective date: 20160613 |
|
A131 | Notification of reasons for refusal |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131 Effective date: 20160705 |
|
TRDD | Decision of grant or rejection written | ||
A01 | Written decision to grant a patent or to grant a registration (utility model) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A01 Effective date: 20170110 |
|
A61 | First payment of annual fees (during grant procedure) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A61 Effective date: 20170116 |
|
R150 | Certificate of patent or registration of utility model |
Ref document number: 6078450 Country of ref document: JP Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R150 |