JP6075306B2 - 荷電粒子ビーム照射装置及び荷電粒子ビーム軸調整方法 - Google Patents
荷電粒子ビーム照射装置及び荷電粒子ビーム軸調整方法 Download PDFInfo
- Publication number
- JP6075306B2 JP6075306B2 JP2014026888A JP2014026888A JP6075306B2 JP 6075306 B2 JP6075306 B2 JP 6075306B2 JP 2014026888 A JP2014026888 A JP 2014026888A JP 2014026888 A JP2014026888 A JP 2014026888A JP 6075306 B2 JP6075306 B2 JP 6075306B2
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- charged particle
- particle beam
- center
- opening
- scanning range
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Active
Links
Images
Landscapes
- Electron Sources, Ion Sources (AREA)
Description
a)荷電粒子ビームを射出するビーム源と、
b)開口部を有するアパーチャ板と、
c)前記荷電粒子ビームを偏向させる偏向部と、
d)前記アパーチャ板上で前記開口部よりも広い範囲である走査範囲において前記荷電粒子ビームを前記偏向部に走査させる制御部と、
e)前記ビーム源と前記開口部の中心を通る軸上に挿入可能に設けられ、且つ、偏向された前記荷電粒子ビームの前記開口部の通過を検出する検出部と、
f)前記走査範囲における、前記開口部を通過した荷電粒子の領域の重心位置を求めるビーム位置抽出部と、
g)前記重心位置が前記走査範囲の中心となる、前記偏向部に供給する電流量を決定する補正部と、
を備える。
a)ビーム源から荷電粒子ビームを射出する射出ステップと、
b)アパーチャ板上で該アパーチャ板が有する開口部よりも広い範囲である走査範囲において前記荷電粒子ビームを走査させるように偏向部に前記荷電粒子ビームを偏向させる偏向ステップと、
c)前記ビーム源と前記開口部の中心を通る軸上に検出部を挿入し、偏向された前記荷電粒子ビームの前記開口部の通過を検出する検出ステップと、
d)前記走査範囲における、前記開口部を通過した荷電粒子の領域の重心位置を求めるビーム位置抽出ステップと、
e)前記重心位置が前記走査範囲の中心となる、前記偏向部に供給する電流量を決定する決定ステップと、
を備える。
56…走査中心位置
57…枠線
100、400…荷電粒子ビーム照射装置
101、401…ビーム源
102、402…ビーム偏向部
103、403…集束レンズ
103a、403a…コンデンサ用アパーチャ板
105、405…第2アパーチャ板
106、406…走査コイル
107、407…対物レンズ
108、408…試料
109、409…試料ステージ
110、410…制御部
111、411…レンズ電源部
112、412…偏向電源部
113、413…ビーム走査電源部
114、414…第1アパーチャ板
117、417…操作部
119、419…集束レンズ
121、122、421、422…偏向器
130、430…第1開口部
140…検出部
141…ビーム位置抽出部
142…補正部
150、450…第2開口部
415…二次電子計測部
416…画像処理部
418…表示部
Claims (6)
- a)荷電粒子ビームを射出するビーム源と、
b)開口部を有するアパーチャ板と、
c)前記荷電粒子ビームを偏向させる偏向部と、
d)前記アパーチャ板上で前記開口部よりも広い範囲である走査範囲において前記荷電粒子ビームを前記偏向部に走査させる制御部と、
e)前記ビーム源と前記開口部の中心を通る軸上に挿入可能に設けられ、且つ、偏向された前記荷電粒子ビームの前記開口部の通過を検出する検出部と、
f)前記走査範囲における、前記開口部を通過した荷電粒子の領域の重心位置を求めるビーム位置抽出部と、
g)前記重心位置が前記走査範囲の中心となる、前記偏向部に供給する電流量を決定する補正部と、
を備える、荷電粒子ビーム照射装置。 - 前記重心位置は、前記開口部を通過した荷電粒子の領域における前記検出部による測定値を重みとした、前記走査範囲の中心を原点とする前記走査範囲の走査位置の加重平均を計算して求める、請求項1に記載の荷電粒子ビーム照射装置。
- 前記検出部はファラデーカップを備え、該ファラデーカップで検出されたビーム電流量を前記測定値とする、請求項2に記載の荷電粒子ビーム照射装置。
- a)ビーム源から荷電粒子ビームを射出する射出ステップと、
b)アパーチャ板上で該アパーチャ板が有する開口部よりも広い範囲である走査範囲において前記荷電粒子ビームを走査させるように偏向部に前記荷電粒子ビームを偏向させる偏向ステップと、
c)前記ビーム源と前記開口部の中心を通る軸上に検出部を挿入し、偏向された前記荷電粒子ビームの前記開口部の通過を検出する検出ステップと、
d)前記走査範囲における、前記開口部を通過した荷電粒子の領域の重心位置を求めるビーム位置抽出ステップと、
e)前記重心位置が前記走査範囲の中心となる、前記偏向部に供給する電流量を決定する決定ステップと、
を備える、荷電粒子ビーム軸調整方法。 - 前記重心位置は、前記開口部を通過した荷電粒子の領域における前記検出部による測定値を重みとした、前記走査範囲の中心を原点とする前記走査範囲の走査位置の加重平均を計算して求める、請求項4に記載の荷電粒子ビーム軸調整方法。
- ファラデーカップで検出されたビーム電流量を前記測定値とする、請求項5に記載の荷電粒子ビーム軸調整方法。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2014026888A JP6075306B2 (ja) | 2014-02-14 | 2014-02-14 | 荷電粒子ビーム照射装置及び荷電粒子ビーム軸調整方法 |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2014026888A JP6075306B2 (ja) | 2014-02-14 | 2014-02-14 | 荷電粒子ビーム照射装置及び荷電粒子ビーム軸調整方法 |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JP2015153630A JP2015153630A (ja) | 2015-08-24 |
JP6075306B2 true JP6075306B2 (ja) | 2017-02-08 |
Family
ID=53895675
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP2014026888A Active JP6075306B2 (ja) | 2014-02-14 | 2014-02-14 | 荷電粒子ビーム照射装置及び荷電粒子ビーム軸調整方法 |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JP6075306B2 (ja) |
Families Citing this family (3)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP6665809B2 (ja) | 2017-02-24 | 2020-03-13 | 株式会社ニューフレアテクノロジー | マルチ荷電粒子ビーム描画装置及びその調整方法 |
JP7040199B2 (ja) * | 2018-03-26 | 2022-03-23 | 株式会社島津製作所 | 荷電粒子ビーム軸合わせ装置、荷電粒子ビーム照射装置および荷電粒子ビーム軸合わせ方法 |
JP7054711B2 (ja) * | 2020-01-23 | 2022-04-14 | 日本電子株式会社 | 荷電粒子線装置および荷電粒子線装置の調整方法 |
Family Cites Families (7)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPS5569371U (ja) * | 1978-11-08 | 1980-05-13 | ||
JPS58106747A (ja) * | 1981-12-18 | 1983-06-25 | Hitachi Ltd | 荷電粒子線集束系の自動軸合せ装置 |
JPS62234855A (ja) * | 1986-04-04 | 1987-10-15 | Nippon Telegr & Teleph Corp <Ntt> | 荷電ビ−ム照射装置、及びその荷電ビ−ム軸調整法 |
JPH04112443A (ja) * | 1990-09-01 | 1992-04-14 | Hitachi Ltd | 二次イオン質量分析装置 |
JPH04209453A (ja) * | 1990-11-30 | 1992-07-30 | Fujitsu Ltd | 電子ビーム装置の光軸調整方法 |
JP2010183004A (ja) * | 2009-02-09 | 2010-08-19 | Nuflare Technology Inc | 荷電粒子ビーム描画方法および荷電粒子ビーム描画装置 |
JP2013251225A (ja) * | 2012-06-04 | 2013-12-12 | Jeol Ltd | 荷電粒子ビームの軸合わせ方法および荷電粒子ビーム装置 |
-
2014
- 2014-02-14 JP JP2014026888A patent/JP6075306B2/ja active Active
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
JP2015153630A (ja) | 2015-08-24 |
Similar Documents
Publication | Publication Date | Title |
---|---|---|
JP6955325B2 (ja) | 適応2次荷電粒子光学系を用いて2次荷電粒子ビームを画像化するシステムおよび方法 | |
US9941095B2 (en) | Charged particle beam apparatus | |
JP5941704B2 (ja) | パターン寸法測定装置、及びコンピュータプログラム | |
TWI592976B (zh) | Charged particle beam device and inspection method using the device | |
JP2001273861A (ja) | 荷電ビーム装置およびパターン傾斜観察方法 | |
JP6075306B2 (ja) | 荷電粒子ビーム照射装置及び荷電粒子ビーム軸調整方法 | |
JP6932050B2 (ja) | 走査電子顕微鏡 | |
JP5981744B2 (ja) | 試料観察方法、試料作製方法及び荷電粒子ビーム装置 | |
US9558911B2 (en) | Method for analyzing and/or processing an object as well as a particle beam device for carrying out the method | |
WO2020115876A1 (ja) | 荷電粒子線装置 | |
WO2013150847A1 (ja) | 荷電粒子線装置 | |
JP2008084823A (ja) | 荷電粒子線調整方法及び荷電粒子線装置 | |
US20230078510A1 (en) | Method for focusing and operating a particle beam microscope | |
US7425702B2 (en) | Charged particle beam apparatus | |
US8110799B2 (en) | Confocal secondary electron imaging | |
JP2005005055A (ja) | 試料の高さ情報取得方法 | |
JP5478683B2 (ja) | 荷電粒子線の照射方法及び荷電粒子線装置 | |
WO2018020624A1 (ja) | 荷電粒子線装置 | |
US11257658B2 (en) | Charged particle beam apparatus | |
KR101639581B1 (ko) | 하전입자 현미경의 입자빔 제어 장치 및 방법 | |
JP7040199B2 (ja) | 荷電粒子ビーム軸合わせ装置、荷電粒子ビーム照射装置および荷電粒子ビーム軸合わせ方法 | |
JP4431624B2 (ja) | 荷電粒子線調整方法、及び荷電粒子線装置 | |
US20170133196A1 (en) | Charged Particle System and Measuring Method | |
JP3802525B2 (ja) | 荷電粒子顕微鏡 | |
JP6876519B2 (ja) | 荷電粒子線装置 |
Legal Events
Date | Code | Title | Description |
---|---|---|---|
A621 | Written request for application examination |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A621 Effective date: 20160506 |
|
A977 | Report on retrieval |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A971007 Effective date: 20161109 |
|
TRDD | Decision of grant or rejection written | ||
A01 | Written decision to grant a patent or to grant a registration (utility model) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A01 Effective date: 20161213 |
|
A61 | First payment of annual fees (during grant procedure) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A61 Effective date: 20161226 |
|
R151 | Written notification of patent or utility model registration |
Ref document number: 6075306 Country of ref document: JP Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R151 |