JP6041260B2 - レジスト剥離液の調合槽からのサンプリング方法およびサンプリング装置 - Google Patents
レジスト剥離液の調合槽からのサンプリング方法およびサンプリング装置 Download PDFInfo
- Publication number
- JP6041260B2 JP6041260B2 JP2012226431A JP2012226431A JP6041260B2 JP 6041260 B2 JP6041260 B2 JP 6041260B2 JP 2012226431 A JP2012226431 A JP 2012226431A JP 2012226431 A JP2012226431 A JP 2012226431A JP 6041260 B2 JP6041260 B2 JP 6041260B2
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- sampling
- resist stripping
- sample
- pipe
- stripping solution
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Active
Links
Landscapes
- Photosensitive Polymer And Photoresist Processing (AREA)
- Feeding, Discharge, Calcimining, Fusing, And Gas-Generation Devices (AREA)
- Exposure Of Semiconductors, Excluding Electron Or Ion Beam Exposure (AREA)
Description
2種類の溶剤と、水と、剥離したレジスト成分を含む使用済みレジスト剥離廃液から、水分を含む低沸点物と、レジスト成分を除去したレジスト剥離再生液に比率調整用の溶剤と純水を加えてレジスト剥離液を調合する調合槽からサンプリングする方法であって、
前記調合槽のレジスト剥離液を循環調合用配管で循環させる工程と、
開閉可能な取り出し手段が複数個所に順に配設され、前記取り出し手段毎にサンプル瓶が配置される工程と、
前記循環調合用配管中を循環している前記レジスト剥離液を所定量だけ前記サンプル配管中に引き込む工程と、
前記サンプル配管中の前記レジスト剥離液を前記サンプル瓶中に不活性ガスによって押し出す工程を有し、
前記レジスト剥離液を所定量だけ前記サンプル配管中に引き込む工程と、前記サンプル配管中の前記レジスト剥離液を前記サンプル瓶中に不活性ガスによって押し出す工程は、外部から指示されたサンプリング回数分だけ繰り返すことを特徴とする。
2種類の溶剤と、水と剥離したレジスト成分を含む使用済みレジスト剥離廃液から、水分を含む低沸点物と、レジスト成分を除去したレジスト剥離再生液に比率調整用の溶剤と純水を加えてレジスト剥離液を調合する調合槽に、
前記調合槽の下部から上部の開口まで連通する循環調合用配管と、
前記循環調合用配管中に配設されたポンプで構成された調合槽に配設されるサンプリング装置であって、
前記循環調合用配管から分岐手段を介して連通するサンプル配管と、
前記サンプル配管から分岐し、前記サンプル配管中の前記レジスト剥離液を取り出す複数の取り出し手段と、
前記サンプル配管の前記取り出し手段より下流側に設けられた秤量空間部と、
前記秤量空間部より下流側にガス開閉バルブで前記サンプル配管と連通する不活性ガス導入管と、
前記不活性ガス導入管に連結されたガス供給源と、
前記秤量空間より下流側に配設された液検知センサと、
前記液検知センサと接続され、前記分岐手段と前記取り出し手段と前記ガス開閉バルブを制御し、
前記循環調合用配管から前記サンプル配管を経て前記秤量空間部を前記レジスト剥離液で満たし、前記取り出し手段の1つからレジスト剥離液を放出するサンプリングを行う制御装置を有することを特徴とする。
24 調合槽
30 制御装置
45 液検知センサ
46 秤量空間部
60 ガス供給源(窒素ガスタンク)
D40 分岐手段
L20 分岐管
L24 循環調合用配管
L40 サンプル配管
L42 不活性ガス導入管
V40 液導入バルブ
V42 ガス開閉バルブ
Vs1乃至Vsn 取出しバルブ
Ex1乃至Exn 取り出し口
Claims (10)
- 2種類の溶剤と、水と、剥離したレジスト成分を含む使用済みレジスト剥離廃液から、水分を含む低沸点物と、レジスト成分を除去したレジスト剥離再生液に比率調整用の溶剤と純水を加えてレジスト剥離液を調合する調合槽からサンプリングする方法であって、
前記調合槽のレジスト剥離液を循環調合用配管で循環させる工程と、開閉可能な取り出し手段が複数個所に順に配設され、前記取り出し手段毎にサンプル瓶が配置される工程と、
前記循環調合用配管中を循環している前記レジスト剥離液を所定量だけ前記サンプル配管中に引き込む工程と、
前記サンプル配管中の前記レジスト剥離液を前記サンプル瓶中に不活性ガスによって押し出す工程を有し、
前記レジスト剥離液を所定量だけ前記サンプル配管中に引き込む工程と、前記サンプル配管中の前記レジスト剥離液を前記サンプル瓶中に不活性ガスによって押し出す工程は、外部から指示されたサンプリング回数分だけ繰り返すことを特徴とする調合槽からのサンプリング方法。 - 前記不活性ガスは窒素ガスであることを特徴とする請求項1に記載された調合槽からのサンプリング方法。
- 前記サンプル配管は、前記循環調合用配管から分岐手段を介して連通し、
前記押し出す工程は、前記サンプル配管の分岐手段に近い側の前記取り出し手段から順に行われることを特徴とする請求項1または2のいずれかの請求項に記載された調合槽からのサンプリング方法。 - 前記取り出し手段にサンプル瓶が配置されていない場合は、次の取り出し手段からサンプリングを行うことを特徴とする請求項3に記載された調合槽からのサンプリング方法。
- 2種類の溶剤と、水と剥離したレジスト成分を含む使用済みレジスト剥離廃液から、水分を含む低沸点物と、レジスト成分を除去したレジスト剥離再生液に比率調整用の溶剤と純水を加えてレジスト剥離液を調合する調合槽に、
前記調合槽の下部から上部の開口まで連通する循環調合用配管と、
前記循環調合用配管中に配設されたポンプで構成された調合槽に配設されるサンプリング装置であって、
前記循環調合用配管から分岐手段を介して連通するサンプル配管と、
前記サンプル配管から分岐し、前記サンプル配管中の前記レジスト剥離液を取り出す複数の取り出し手段と、
前記サンプル配管の前記取り出し手段より下流側に設けられた秤量空間部と、
前記秤量空間部より下流側にガス開閉バルブで前記サンプル配管と連通する不活性ガス導入管と、
前記不活性ガス導入管に連結されたガス供給源と、
前記秤量空間より下流側に配設された液検知センサと、
前記液検知センサと接続され、前記分岐手段と前記取り出し手段と前記ガス開閉バルブを制御し、
前記循環調合用配管から前記サンプル配管を経て前記秤量空間部を前記レジスト剥離液で満たし、前記取り出し手段の1つからレジスト剥離液を放出するサンプリングを行う制御装置を有することを特徴とするサンプリング装置。 - 前記ガス供給源に貯留されたガスは窒素ガスであることを特徴とする請求項5に記載されたサンプリング装置。
- 前記取り出し手段は、複数個が順に等間隔で配置されていることを特徴とする請求項5または6に記載されたサンプリング装置。
- 前記制御装置は前記サンプル配管の分岐手段に近い側の前記取り出し手段から順に前記サンプリングを行うように制御することを特徴とする請求項5乃至7のいずれか1の請求項に記載されたサンプリング装置。
- 前記制御装置は、前記取り出し手段にサンプル瓶が配置されていない場合は、次の取り出し手段から前記サンプリングを行うよう制御することを特徴とする請求項8に記載されたサンプリング装置。
- 前記制御装置は、外部から指示されたサンプリング回数を記憶し、前記サンプリング回数だけ前記サンプリングを行うことを特徴とする請求項5乃至9のいずれか1の請求項に記載されたサンプリング装置。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2012226431A JP6041260B2 (ja) | 2012-10-11 | 2012-10-11 | レジスト剥離液の調合槽からのサンプリング方法およびサンプリング装置 |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2012226431A JP6041260B2 (ja) | 2012-10-11 | 2012-10-11 | レジスト剥離液の調合槽からのサンプリング方法およびサンプリング装置 |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JP2014078644A JP2014078644A (ja) | 2014-05-01 |
JP6041260B2 true JP6041260B2 (ja) | 2016-12-07 |
Family
ID=50783722
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP2012226431A Active JP6041260B2 (ja) | 2012-10-11 | 2012-10-11 | レジスト剥離液の調合槽からのサンプリング方法およびサンプリング装置 |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JP6041260B2 (ja) |
Families Citing this family (2)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
EP3000776A1 (en) * | 2014-09-26 | 2016-03-30 | Anheuser-Busch InBev S.A. | Method of dispensing a beverage with variable pressure |
CN108051986B (zh) * | 2017-12-26 | 2020-04-14 | 重庆渝州印务厂 | 一种高效晒板机 |
Family Cites Families (4)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPH02152544A (ja) * | 1988-12-01 | 1990-06-12 | Tokico Ltd | 液管理方法 |
JPH04323534A (ja) * | 1991-04-22 | 1992-11-12 | Tokico Ltd | 液管理装置 |
KR100390567B1 (ko) * | 2000-12-30 | 2003-07-07 | 주식회사 동진쎄미켐 | 근적외선 분광기를 이용한 포토레지스트 박리공정제어방법 및 포토레지스트 박리액 조성물의 재생방법 |
JP3914722B2 (ja) * | 2001-06-25 | 2007-05-16 | 株式会社平間理化研究所 | 水系レジスト剥離液管理装置及び水系レジスト剥離液管理方法 |
-
2012
- 2012-10-11 JP JP2012226431A patent/JP6041260B2/ja active Active
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
JP2014078644A (ja) | 2014-05-01 |
Similar Documents
Publication | Publication Date | Title |
---|---|---|
FI88211B (fi) | Anordning foer emissionsfri provtagning av laett avdunstande vaetskor | |
CN102472692B (zh) | 试样处理系统 | |
EP1577662B1 (en) | System and method for controlling composition for lithography process in real-time using near-infrared spectrometer | |
JP6041260B2 (ja) | レジスト剥離液の調合槽からのサンプリング方法およびサンプリング装置 | |
CN105466740B (zh) | 汞自动检测系统及其预处理装置 | |
US10458968B2 (en) | Water quality analysis device | |
CN103383377A (zh) | 用于变压器油中溶解气体在线监测系统的测试校准装置 | |
TW201434757A (zh) | 光阻剝離液之調合方法及調合裝置 | |
CN104991081A (zh) | 一种自动进样稀释方法 | |
US6968872B2 (en) | Process for recovering liquid chemical products in chemical production facility | |
US6613579B2 (en) | Sequential injection liquid-liquid extraction | |
US20050036917A1 (en) | Module for automated matrix removal | |
CN117368432A (zh) | 一种污水处理的智能检测系统 | |
EP0396102B1 (en) | Method of transferring sample | |
JP2007003241A (ja) | 液体の分取装置におけるフラクション識別装置及び方法 | |
JP4804297B2 (ja) | ガスサンプリング装置およびガスサンプリング方法 | |
JP2012222071A (ja) | 液体管理システム | |
KR101071343B1 (ko) | 폐액 처리장치 및 그 방법 | |
JP5841684B1 (ja) | Bod分析装置 | |
CN209689969U (zh) | 用于反应釜管道的取样口 | |
JP2012225843A (ja) | 水質分析装置 | |
JP2005288213A (ja) | 排水分別方法及び装置 | |
JP5292325B2 (ja) | 試薬容器 | |
CN107631906A (zh) | 一种取样器 | |
KR100945129B1 (ko) | 디앤에이 정제용 칩 및 이를 이용한 정제 방법 |
Legal Events
Date | Code | Title | Description |
---|---|---|---|
A711 | Notification of change in applicant |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A711 Effective date: 20150312 |
|
A621 | Written request for application examination |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A621 Effective date: 20150807 |
|
A977 | Report on retrieval |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A971007 Effective date: 20160427 |
|
A131 | Notification of reasons for refusal |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131 Effective date: 20160510 |
|
A521 | Written amendment |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523 Effective date: 20160530 |
|
TRDD | Decision of grant or rejection written | ||
A01 | Written decision to grant a patent or to grant a registration (utility model) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A01 Effective date: 20161025 |
|
A61 | First payment of annual fees (during grant procedure) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A61 Effective date: 20161031 |
|
R151 | Written notification of patent or utility model registration |
Ref document number: 6041260 Country of ref document: JP Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R151 |