JP5965165B2 - Differential pressure transmitter - Google Patents

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Description

この発明は、圧力差に応じた信号を出力するセンサダイアフラムを用いた差圧発信器に関するものである。   The present invention relates to a differential pressure transmitter using a sensor diaphragm that outputs a signal corresponding to a pressure difference.

従来より、工業用の差圧発信器(伝送器)として、圧力差に応じた信号を出力するセンサダイアフラムを用いた差圧発信器が用いられている。この差圧発信器は、高圧側および低圧側の受圧ダイアフラムに加えられる各測定圧を、圧力伝達媒体としての封入液によってセンサダイアフラムの一方の面および他方の面に導き、そのセンサダイアフラムの歪みを例えば歪抵抗ゲージの抵抗値変化として検出し、この抵抗値変化を電気信号に変換して取り出すように構成されている。   Conventionally, as an industrial differential pressure transmitter (transmitter), a differential pressure transmitter using a sensor diaphragm that outputs a signal corresponding to a pressure difference is used. This differential pressure transmitter guides each measured pressure applied to the pressure receiving diaphragm on the high pressure side and the low pressure side to one side and the other side of the sensor diaphragm by the sealing liquid as the pressure transmission medium, and strains the sensor diaphragm. For example, it is configured to detect a change in resistance value of a strain resistance gauge and to convert the resistance value change into an electric signal and take it out.

このような差圧発信器は、例えば石油精製プラントにおける高温反応塔等の被測定流体を貯蔵する密閉タンク内の上下2位置の差圧を検出することにより、液面高さを測定するときなどに用いられる。   Such a differential pressure transmitter is used, for example, when measuring the liquid level height by detecting the differential pressure at two positions above and below in a closed tank that stores a fluid to be measured such as a high-temperature reaction tower in an oil refinery plant. Used for.

なお、差圧発信器のボディおよび受圧ダイアフラムは、耐食性や耐環境性、内部のセンサダイアフラムの保護のために、剛性の高い金属(例えば、ステンレス)が用いられる。   The body of the differential pressure transmitter and the pressure receiving diaphragm are made of a highly rigid metal (for example, stainless steel) for corrosion resistance, environmental resistance, and protection of the internal sensor diaphragm.

図5に従来の差圧発信器の概略構成を示す。この差圧発信器100は、センサダイアフラム(図示せず)を有するセンサチップ1をメータボディ2に組み込んで構成される。センサチップ1におけるセンサダイアフラムは、シリコン(Si)やガラスなどの半導体材料よりなり、薄板状に形成されたダイアフラムの表面に歪抵抗ゲージが形成されている。メータボディ2は、金属製の本体部3とセンサ部4とからなり、本体部3の側面に一対の受圧部をなす金属製のバリアダイアフラム(受圧ダイアフラム)5a,5bが設けられ、センサ部4にセンサチップ1が組み込まれている。   FIG. 5 shows a schematic configuration of a conventional differential pressure transmitter. The differential pressure transmitter 100 is configured by incorporating a sensor chip 1 having a sensor diaphragm (not shown) into a meter body 2. The sensor diaphragm in the sensor chip 1 is made of a semiconductor material such as silicon (Si) or glass, and a strain resistance gauge is formed on the surface of the diaphragm formed in a thin plate shape. The meter body 2 includes a metal main body 3 and a sensor unit 4, and metal barrier diaphragms (pressure receiving diaphragms) 5 a and 5 b forming a pair of pressure receiving units on the side surface of the main body 3 are provided. The sensor chip 1 is incorporated into the.

メータボディ2において、センサ部4に組み込まれたセンサチップ1と本体部3に設けられたバリアダイアフラム5a,5bとの間は、大径のセンタダイアフラム6により隔離された圧力緩衝室7a,7bを介してそれぞれ連通され、センサチップ1とバリアダイアフラム5a,5bとを結ぶ連通路8a,8bにシリコーンオイル等の圧力伝達媒体9a,9bが封入されている。   In the meter body 2, pressure buffer chambers 7 a and 7 b separated by a large-diameter center diaphragm 6 are provided between the sensor chip 1 incorporated in the sensor unit 4 and the barrier diaphragms 5 a and 5 b provided in the main body unit 3. And pressure transmission media 9a, 9b such as silicone oil are sealed in communication paths 8a, 8b connecting the sensor chip 1 and the barrier diaphragms 5a, 5b.

なお、シリコーンオイル等の圧力媒体が必要となるのは、センサダイアフラムに対する計測媒体中の異物付着を防ぐこと、センサダイアフラムを腐食させないため、耐食性を持つ受圧ダイアフラムと応力(圧力)感度を持つセンサダイアフラムとを分離する必要があるためである。   The pressure medium such as silicone oil is required because it prevents the foreign matter in the measurement medium from adhering to the sensor diaphragm and does not corrode the sensor diaphragm. Therefore, the pressure receiving diaphragm has corrosion resistance and the sensor diaphragm has stress (pressure) sensitivity. This is because it is necessary to separate them.

この差圧発信器100では、図6(a)に定常状態時の動作態様を模式的に示すように、プロセスからの第1の測定圧Paがバリアダイアフラム5aに印加され、プロセスからの第2の測定圧Pbがバリアダイアフラム5bに印加される。これにより、バリアダイアフラム5a,5bが変位し、その加えられた圧力Pa,Pbがセンタダイアフラム6により隔離された圧力緩衝室7a,7bを介し、圧力伝達媒体9a,9bを通して、センサチップ1のセンサダイアフラムの一方の面および他方の面にそれぞれ導かれる。この結果、センサチップ1のセンサダイアフラムは、その導かれた圧力Pa,Pbの差圧ΔPに相当する変位を呈することになる。   In this differential pressure transmitter 100, the first measured pressure Pa from the process is applied to the barrier diaphragm 5a as shown schematically in FIG. The measured pressure Pb is applied to the barrier diaphragm 5b. As a result, the barrier diaphragms 5a and 5b are displaced, and the applied pressures Pa and Pb are passed through the pressure transfer chambers 9a and 7b separated by the center diaphragm 6 and then passed through the pressure transmission media 9a and 9b. They are guided to one side and the other side of the diaphragm, respectively. As a result, the sensor diaphragm of the sensor chip 1 exhibits a displacement corresponding to the differential pressure ΔP between the introduced pressures Pa and Pb.

これに対して、例えば、バリアダイアフラム5aに過大圧Poverが加わると、図6(b)に示すようにバリアダイアフラム5aが大きく変位し、これに伴ってセンタダイアフラム6が過大圧Poverを吸収するように変位する。そして、バリアダイアフラム5aがメータボディ2の凹部10aの底面(過大圧保護面)に着底し、その変位が規制されると、バリアダイアフラム5aを介するセンサダイアフラムへのそれ以上の差圧ΔPの伝達が阻止される。バリアダイアフラム5bに過大圧Poverが加わった場合も、バリアダイアフラム5aに過大圧Poverが加わった場合と同様にして、バリアダイアフラム5bがメータボディ2の凹部10bの底面(過大圧保護面)に着底し、その変位が規制されると、バリアダイアフラム5bを介するセンサダイアフラムへのそれ以上の差圧ΔPの伝達が阻止される。この結果、過大圧Poverの印加によるセンサチップ1の破損、すなわちセンサチップ1におけるセンサダイアフラムの破損が未然に防止される。   On the other hand, for example, when an excessive pressure Pover is applied to the barrier diaphragm 5a, the barrier diaphragm 5a is greatly displaced as shown in FIG. 6B, and the center diaphragm 6 absorbs the excessive pressure Pover accordingly. It is displaced to. When the barrier diaphragm 5a settles on the bottom surface (excessive pressure protection surface) of the recess 10a of the meter body 2 and its displacement is restricted, transmission of a further differential pressure ΔP to the sensor diaphragm via the barrier diaphragm 5a. Is blocked. When the overpressure Pover is applied to the barrier diaphragm 5b, the barrier diaphragm 5b is attached to the bottom surface (overpressure protection surface) of the concave portion 10b of the meter body 2 in the same manner as when the overpressure Pover is applied to the barrier diaphragm 5a. When the displacement is restricted, further transmission of the differential pressure ΔP to the sensor diaphragm via the barrier diaphragm 5b is prevented. As a result, damage to the sensor chip 1 due to application of the excessive pressure Pover, that is, damage to the sensor diaphragm in the sensor chip 1 is prevented.

この差圧発信器100では、金属製のメータボディ2にセンサチップ1を内包させているので、プロセス流体など外部腐食環境からセンサチップ1を保護することができる。しかしながら、センタダイアフラム6やバリアダイアフラム5a,5bの変位を規制するための凹部10a,10bを備え、これらによってセンサチップ1を過大圧Poverから保護する構造をとっているので、その形状が大型化することが避けられない。   In this differential pressure transmitter 100, since the sensor chip 1 is included in the metal meter body 2, the sensor chip 1 can be protected from an external corrosive environment such as a process fluid. However, since the concave portion 10a, 10b for restricting the displacement of the center diaphragm 6 and the barrier diaphragms 5a, 5b is provided and the sensor chip 1 is protected from the excessive pressure Pover by these, the shape is increased. Inevitable.

そこで、センサチップに第1のストッパ部材および第2のストッパ部材を設け、この第1のストッパ部材および第2のストッパ部材の凹部をセンサダイアフラムの一方の面および他方の面に対峙させることによって、過大圧が印加された時のセンサダイアフラムの過度な変位を阻止し、これによってセンサダイアフラムの破損・破壊を防止する構造が提案されている(例えば、特許文献1参照)。   Therefore, by providing the sensor chip with a first stopper member and a second stopper member, the concave portions of the first stopper member and the second stopper member are opposed to one surface and the other surface of the sensor diaphragm, There has been proposed a structure that prevents excessive displacement of the sensor diaphragm when an excessive pressure is applied, thereby preventing damage or destruction of the sensor diaphragm (see, for example, Patent Document 1).

図7に特許文献1に示された構造を採用したセンサチップの概略を示す。同図において、11−1はセンサダイアフラム、11−2および11−3はセンサダイアフラム11−1を挟んで接合された第1および第2のストッパ部材である。センサダイアフラム11−1やストッパ部材11−2,11−3はシリコンやガラスなどの半導体材料より構成されている。 FIG. 7 shows an outline of a sensor chip adopting the structure shown in Patent Document 1. In the figure, 11-1 is a sensor diaphragm, 11-2 and 11-3 are first and second stopper members joined with the sensor diaphragm 11-1 interposed therebetween. The sensor diaphragm 11-1 and the stopper members 11-2 and 11-3 are made of a semiconductor material such as silicon or glass.

このセンサチップ11において、ストッパ部材11−2,11−3には凹部11−2a,11−3aが形成されており、ストッパ部材11−2の凹部11−2aをセンサダイアフラム11−1の一方の面に対峙させ、ストッパ部材11−3の凹部11−3aをセンサダイアフラム11−1の他方の面に対峙させている。凹部11−2a,11−3aは、センサダイアフラム11−1の変位に沿った曲面(非球面)とされており、その頂部に圧力導入孔11−2b,11−3bが形成されている。   In this sensor chip 11, recesses 11-2a and 11-3a are formed in the stopper members 11-2 and 11-3, and the recess 11-2a of the stopper member 11-2 is connected to one of the sensor diaphragms 11-1. The concave portion 11-3a of the stopper member 11-3 is opposed to the other surface of the sensor diaphragm 11-1. The recesses 11-2a and 11-3a are curved surfaces (aspheric surfaces) along the displacement of the sensor diaphragm 11-1, and pressure introduction holes 11-2b and 11-3b are formed at the tops thereof.

図8にこのセンサチップ11をメータボディ12に組み込んで構成した差圧発信器200の概略構成を示す。この差圧発信器200において、メータボディ12は、金属製の本体部13とセンサ部14とからなり、本体部13の側面に一対の受圧部をなすバリアダイアフラム(受圧ダイアフラム)15a,15bが設けられ、センサ部14にセンサチップ11が組み込まれている。   FIG. 8 shows a schematic configuration of a differential pressure transmitter 200 configured by incorporating the sensor chip 11 into the meter body 12. In the differential pressure transmitter 200, the meter body 12 includes a metal main body 13 and a sensor portion 14, and barrier diaphragms (pressure receiving diaphragms) 15 a and 15 b forming a pair of pressure receiving portions on the side surfaces of the main body 13. The sensor chip 11 is incorporated in the sensor unit 14.

メータボディ12において、センサ部14に組み込まれたセンサチップ11と本体部13に設けられたバリアダイアフラム15a,15bとの間は、センサダイアフラム11−1の一方の面(第1のストッパ部材11−2の凹部11−2aが対峙している面)とバリアダイアフラム15aとの間が連通路16aによって連通され、センサダイアフラム11−1の他方の面(第2のストッパ部材11−3の凹部11−3aが対峙している面)とバリアダイアフラム15bとの間が連通路16bによって連通され、連通路16a,16bにシリコーンオイル等の圧力伝達媒体17a,17bが封入されている。   In the meter body 12, between the sensor chip 11 incorporated in the sensor part 14 and the barrier diaphragms 15a and 15b provided in the main body part 13, one surface of the sensor diaphragm 11-1 (first stopper member 11- 2) and the barrier diaphragm 15a communicate with each other through the communication path 16a, and the other surface of the sensor diaphragm 11-1 (the concave portion 11- of the second stopper member 11-3). 3a) and the barrier diaphragm 15b are communicated with each other by a communication passage 16b, and pressure transmission media 17a, 17b such as silicone oil are sealed in the communication passages 16a, 16b.

なお、本体部13の側面(下面)には、圧力伝達媒体17aを連通路16aに封入するための第1の封入孔18aと、圧力伝達媒体17bを連通路16bに封入するための第2の封入孔18bとが形成されている。この封入孔18aおよび18bは、連通路16aおよび16bへの圧力伝達媒体17aおよび17bの封入後、ネジ止め、抵抗溶接、プラズマ溶接などの手法で封止されている。この例では、図9に拡大して示すように、封入孔18a,18bに金属球19a,19bを溶接することによって、封入孔18a,18bを封止している。   The side surface (lower surface) of the main body 13 has a first sealing hole 18a for sealing the pressure transmission medium 17a in the communication path 16a and a second sealing hole for sealing the pressure transmission medium 17b in the communication path 16b. A sealing hole 18b is formed. The sealing holes 18a and 18b are sealed by a technique such as screwing, resistance welding, or plasma welding after the pressure transmission media 17a and 17b are sealed in the communication paths 16a and 16b. In this example, as shown in an enlarged view in FIG. 9, the sealing holes 18a and 18b are sealed by welding metal balls 19a and 19b to the sealing holes 18a and 18b.

この差圧発信器200では、プロセスからの第1の測定圧Paがバリアダイアフラム15aに印加され、プロセスからの第2の測定圧Pbがバリアダイアフラム15bに印加される。これにより、バリアダイアフラム15a,15bが変位し、その加えられた圧力Pa,Pbが連通路16a,16b中の圧力伝達媒体17a,17bを通して、センサチップ11のセンサダイアフラム11−1の一方の面および他方の面にそれぞれ導かれる。この結果、センサチップ11のセンサダイアフラム11−1は、その導かれた圧力Pa,Pbの差圧ΔPに相当する変位を呈することになる。   In the differential pressure transmitter 200, the first measured pressure Pa from the process is applied to the barrier diaphragm 15a, and the second measured pressure Pb from the process is applied to the barrier diaphragm 15b. As a result, the barrier diaphragms 15a and 15b are displaced, and the applied pressures Pa and Pb pass through the pressure transmission media 17a and 17b in the communication passages 16a and 16b, and one surface of the sensor diaphragm 11-1 of the sensor chip 11 and Each is led to the other side. As a result, the sensor diaphragm 11-1 of the sensor chip 11 exhibits a displacement corresponding to the differential pressure ΔP between the introduced pressures Pa and Pb.

これに対して、例えば、バリアダイアフラム15aに過大圧Poverが加わると、センサチップ11のセンサダイアフラム11−1が大きく変位し、その変位面の全体が第2のストッパ部材11−3の凹部11−3aの曲面(非球面(過大圧保護面))によって受け止められ、センサダイアフラム11−1のそれ以上の過度な変位が阻止される。バリアダイアフラム15bに過大圧Poverが加わった場合も、バリアダイアフラム15aに過大圧Poverが加わった場合と同様にして、センサチップ11のセンサダイアフラム11−1の変位面の全体が第1のストッパ部材11−2の凹部11−2aの曲面(非球面(過大圧保護面))によって受け止められ、センサダイアフラム11−1のそれ以上の過度な変位が阻止される。この結果、過大圧Poverの印加によるセンサチップ11の破損、すなわちセンサチップ11におけるセンサダイアフラム11−1の破損が未然に防止される。   On the other hand, for example, when an excessive pressure Pover is applied to the barrier diaphragm 15a, the sensor diaphragm 11-1 of the sensor chip 11 is greatly displaced, and the entire displacement surface thereof is the recess 11- of the second stopper member 11-3. It is received by the curved surface 3a (aspherical surface (overpressure protection surface)), and further excessive displacement of the sensor diaphragm 11-1 is prevented. Even when the overpressure Pover is applied to the barrier diaphragm 15b, the entire displacement surface of the sensor diaphragm 11-1 of the sensor chip 11 is the same as the first stopper member 11 in the same manner as when the overpressure Pover is applied to the barrier diaphragm 15a. -2 is received by the curved surface (aspheric surface (overpressure protection surface)) of the concave portion 11-2a, and further excessive displacement of the sensor diaphragm 11-1 is prevented. As a result, damage to the sensor chip 11 due to application of the excessive pressure Pover, that is, damage to the sensor diaphragm 11-1 in the sensor chip 11 is prevented.

このような構造の差圧発信器200とすることにより、図5に示した差圧発信器100で必要としていたセンタダイアフラムや圧力緩衝室を不要として、またバリアダイアフラムの変位を規制するための凹部の作り込みを考慮する必要性をなくして、メータボディ12の小型化を図ることが可能となる。   By using the differential pressure transmitter 200 having such a structure, the center diaphragm and the pressure buffering chamber required in the differential pressure transmitter 100 shown in FIG. 5 are not required, and a recess for restricting the displacement of the barrier diaphragm is used. Therefore, the meter body 12 can be reduced in size.

特開2005−69736号公報JP 2005-69736 A

しかしながら、この種の差圧発信器では、耐環境性は厳しくないが、設置場所が狭いような現場やアプリケーションにも使用可能なように、さらなるボディの小型化が要求される。   However, this type of differential pressure transmitter is not strict in environmental resistance, but it is required to further reduce the size of the body so that it can be used in fields and applications where the installation site is small.

そこで、本出願人は、図8に示した差圧発信器200において、センサ部14にバリアダイアフラム15a,15bを設けることによって、メータボディ12の本体部13をなくすことを考えた。この場合、バリアダイアフラム15a,15bの小型化が必要となる。   Therefore, the present applicant has considered eliminating the main body portion 13 of the meter body 12 by providing the barrier diaphragms 15a and 15b in the sensor portion 14 in the differential pressure transmitter 200 shown in FIG. In this case, it is necessary to reduce the size of the barrier diaphragms 15a and 15b.

しかし、バリアダイアフラム15a,15bは金属製(例えば、ステンレス)であり、この金属製のバリアダイアフラム15a,15bの径を小さくするには、バネ強度を等しくするために、その厚みを薄くする必要がある。しかし、金属製のバリアダイアフラム15a,15bの厚みを薄くすると、測定流体によっては水素透過を生じる可能性がある。すなわち、金属製のバリアダイアフラムを持つボディでの小型化には必然的に限界がある。   However, the barrier diaphragms 15a and 15b are made of metal (for example, stainless steel). In order to reduce the diameters of the metal barrier diaphragms 15a and 15b, it is necessary to reduce the thickness in order to make the spring strength equal. is there. However, if the thickness of the metal barrier diaphragms 15a and 15b is reduced, hydrogen permeation may occur depending on the measurement fluid. That is, there is inevitably a limit to downsizing of a body having a metal barrier diaphragm.

なお、バリアダイアフラムを水素透過を起こしにくいSiN,サファイア,Si,SiC,石英,硼珪酸ガラスなどの半導体材料で構成することも考えられるが、ボディが金属製であるために、熱膨張係数などの差により、割れなどの問題が発生する。   The barrier diaphragm may be made of a semiconductor material such as SiN, sapphire, Si, SiC, quartz, or borosilicate glass, which hardly causes hydrogen permeation. However, since the body is made of metal, the thermal expansion coefficient, etc. Due to the difference, problems such as cracking occur.

本発明は、このような課題を解決するためになされたもので、その目的とするところは、水素透過や割れなどの問題を発生させることなく、受圧ダイアフラム(バリアダイアフラム)の径を小さくし、ボディのさらなる小型化を図ることが可能な差圧発信器を提供することにある。   The present invention was made in order to solve such problems, and the object of the present invention is to reduce the diameter of the pressure-receiving diaphragm (barrier diaphragm) without causing problems such as hydrogen permeation and cracking. An object of the present invention is to provide a differential pressure transmitter capable of further reducing the size of a body.

このような目的を達成するために、本発明に係る差圧発信器は、圧力差に応じた信号を出力するセンサダイアフラムと、このセンサダイアフラムの一方の面にその凹部を対峙させて設けられ当該センサダイアフラムの他方の面に過大圧が印加された時の過度な変位を阻止する第1のストッパ部材と、センサダイアフラムの他方の面にその凹部を対峙させて設けられ当該センサダイアフラムの一方の面に過大圧が印加された時の過度な変位を阻止する第2のストッパ部材とを備えたセンサチップと、センサチップを収容したボディと、ボディの側面に設けられプロセスからの第1の測定圧を受ける第1の受圧ダイアフラムと、ボディの側面に設けられプロセスからの第2の測定圧を受ける第2の受圧ダイアフラムと、ボディの内部に形成された第1の連通路に封入され、第1の受圧ダイアフラムが受けた圧力をセンサダイアフラムの一方の面に伝達する第1の圧力伝達媒体と、ボディの内部に形成された第2の連通路に封入され、第2の受圧ダイアフラムが受けた圧力をセンサダイアフラムの他方の面に伝達する第2の圧力伝達媒体とを備え、センサチップ、第1および第2の受圧ダイアフラム、ボディの全てが半導体材料で構成され、ボディは、第1の連通路に連通する第1の封入孔および第2の連通路に連通する第2の封入孔を側面に有し、第1の封入孔は、ボディの側面に開口する孔の縁面およびこの縁面につながる内壁面にメタルが成膜されており、第2の封入孔は、ボディの側面に開口する孔の縁面およびこの縁面につながる内壁面にメタルが成膜されており、第1の封入孔のボディの側面に開口する孔は、メタルが成膜された面に加熱溶解された第1の溶融金属によって塞がれ、第2の封入孔のボディの側面に開口する孔は、メタルが成膜された面に加熱溶解された第2の溶融金属によって塞がれ、第1の溶融金属によって塞がれた第1の封入孔には、第1の連通路の一部として第1の圧力伝達媒体が封止されており、第2の溶融金属によって塞がれた第2の封入孔には、第2の連通路の一部として第2の圧力伝達媒体が封止されていることを特徴とする。 In order to achieve such an object, a differential pressure transmitter according to the present invention is provided with a sensor diaphragm that outputs a signal corresponding to a pressure difference, and a concave portion of the sensor diaphragm that faces the concave portion. A first stopper member that prevents excessive displacement when an excessive pressure is applied to the other surface of the sensor diaphragm, and one surface of the sensor diaphragm that is provided with the recess facing the other surface of the sensor diaphragm Sensor chip having a second stopper member for preventing excessive displacement when an excessive pressure is applied to the body, a body housing the sensor chip, and a first measurement pressure from the process provided on the side of the body A first pressure receiving diaphragm that receives the pressure, a second pressure receiving diaphragm that is provided on a side surface of the body and receives a second measured pressure from the process, and is formed inside the body. A first pressure transmission medium that is enclosed in one communication path and transmits the pressure received by the first pressure receiving diaphragm to one surface of the sensor diaphragm, and a second communication path that is formed inside the body. And a second pressure transmission medium for transmitting the pressure received by the second pressure receiving diaphragm to the other surface of the sensor diaphragm, and the sensor chip, the first and second pressure receiving diaphragms, and the body are all made of a semiconductor material. The body has a first sealing hole communicating with the first communication path and a second sealing hole communicating with the second communication path on a side surface, and the first sealing hole opens on a side surface of the body. The metal is formed on the edge surface of the hole to be formed and the inner wall surface connected to the edge surface. The second sealing hole has the metal on the edge surface of the hole opened on the side surface of the body and the inner wall surface connected to the edge surface. The film is formed and the first encapsulation The hole opened in the side surface of the body is closed by the first molten metal heated and dissolved on the surface on which the metal film is formed, and the hole opened in the side surface of the body of the second sealing hole is formed by the metal. The first sealed hole closed by the second molten metal melted by heating and melted on the filmed surface and filled with the first molten metal has a first pressure as a part of the first communication path. The transmission medium is sealed, and the second pressure transmission medium is sealed as a part of the second communication path in the second sealing hole closed by the second molten metal. Features.

この発明において、第1および第2の受圧ダイアフラムは、半導体材料で構成されている。半導体材料(例えば、SiN,サファイア,Si,SiC,石英,硼珪酸ガラスなど)は水素透過を起こしにくい。これにより、水素透過の問題を発生させることなく、受圧ダイアフラムの径を小さくして、ボディの小型化を図ることが可能となる。   In the present invention, the first and second pressure receiving diaphragms are made of a semiconductor material. Semiconductor materials (eg, SiN, sapphire, Si, SiC, quartz, borosilicate glass, etc.) are less likely to cause hydrogen permeation. This makes it possible to reduce the diameter of the pressure receiving diaphragm and reduce the size of the body without causing the problem of hydrogen permeation.

また、この発明において、センサチップ、第1および第2の受圧ダイアフラム、ボディの全ては、半導体材料で構成されている。これにより、センサチップ、第1および第2の受圧ダイアフラム、ボディの熱膨張係数を近似させるなどして、割れなどの問題を生じさせないようにすることが可能となる。   In the present invention, the sensor chip, the first and second pressure receiving diaphragms, and the body are all made of a semiconductor material. As a result, it is possible to avoid problems such as cracking by approximating the thermal expansion coefficients of the sensor chip, the first and second pressure receiving diaphragms, and the body.

なお、本発明において、センサチップ、第1および第2の受圧ダイアフラム、ボディは半導体材料で構成されていればよく、第1および第2の受圧ダイアフラムとボディとが異種の材料で構成されていたりしてもよい。例えば、第1および第2の受圧ダイアフラムがサファイアで構成され、ボディがシリコンで構成されていたりしてもよい。
また、本発明において、第1の封入孔は、ボディの側面に開口する孔の縁面およびこの縁面につながる内壁面にメタルが成膜されており、この第1の封入孔のボディの側面に開口する孔は、メタルが成膜された面に加熱溶解された第1の溶融金属によって塞がれている。また、この第1の溶融金属によって塞がれた第1の封入孔には、第1の連通路の一部として第1の圧力伝達媒体が封止されている。
また、本発明において、第2の封入孔は、ボディの側面に開口する孔の縁面およびこの縁面につながる内壁面にメタルが成膜されており、この第2の封入孔のボディの側面に開口する孔は、メタルが成膜された面に加熱溶解された第2の溶融金属によって塞がれている。また、この第2の溶融金属によって塞がれた第2の封入孔には、第2の連通路の一部として第2の圧力伝達媒体が封止されている。
このような封止構造とすることで、機械的負荷や高熱負荷を与えずに、第1および第2の封入孔を封止することが可能となる。
In the present invention, the sensor chip, the first and second pressure receiving diaphragms, and the body may be made of a semiconductor material, and the first and second pressure receiving diaphragms and the body may be made of different materials. May be. For example, the first and second pressure receiving diaphragms may be made of sapphire and the body may be made of silicon.
In the present invention, the first sealing hole is formed by forming a metal film on the edge surface of the hole opened on the side surface of the body and the inner wall surface connected to the edge surface, and the side surface of the body of the first sealing hole. The hole opened in is closed by a first molten metal that is heated and dissolved on the surface on which the metal is formed. A first pressure transmission medium is sealed as a part of the first communication path in the first sealing hole closed by the first molten metal.
In the present invention, the second sealing hole is formed by depositing metal on the edge surface of the hole opened on the side surface of the body and the inner wall surface connected to the edge surface, and the side surface of the body of the second sealing hole. The hole opened in is closed by a second molten metal which is heated and dissolved on the surface on which the metal is formed. A second pressure transmission medium is sealed as a part of the second communication path in the second sealing hole closed by the second molten metal.
By setting it as such a sealing structure, it becomes possible to seal the 1st and 2nd enclosure hole, without giving a mechanical load and a high heat load.

本発明によれば、センサチップ、第1および第2の受圧ダイアフラム、ボディの全てを半導体材料で構成するようにしたので、水素透過の問題を発生させることなく、受圧ダイアフラムの径を小さくすることが可能となり、また、センサチップ、第1および第2の受圧ダイアフラム、ボディの熱膨張係数を近似させるなどして、割れなどの問題を生じさせないようにすることが可能となり、ボディのさらなる小型化を図ることが可能となる。   According to the present invention, since the sensor chip, the first and second pressure receiving diaphragms, and the body are all made of a semiconductor material, the diameter of the pressure receiving diaphragm can be reduced without causing the problem of hydrogen permeation. In addition, the sensor chip, the first and second pressure-receiving diaphragms, and the thermal expansion coefficient of the body can be approximated to prevent problems such as cracks. Can be achieved.

本発明に係る差圧発信器の一実施の形態の概略構成を示す図である。It is a figure which shows schematic structure of one Embodiment of the differential pressure transmitter which concerns on this invention. この差圧発信器における圧力伝達媒体の封入孔に対する封止構造を拡大して示す図である。It is a figure which expands and shows the sealing structure with respect to the sealing hole of the pressure transmission medium in this differential pressure transmitter. 封止強度を補強するために半田プリフォームと金属プレートとを併用した構造を示す図である。It is a figure which shows the structure which used together the solder preform and the metal plate in order to reinforce sealing strength. メータボディ(ボディ)の上下面にバリアダイアフラムを設けるようにした例を示す図である。It is a figure which shows the example which provided the barrier diaphragm in the upper and lower surfaces of a meter body (body). 従来の差圧発信器の概略構成を示す図である。It is a figure which shows schematic structure of the conventional differential pressure transmitter. この差圧発信器の動作態様を模式的に示す図である。It is a figure which shows typically the operation | movement aspect of this differential pressure transmitter. 特許文献1に示された構造を採用したセンサチップの概略を示す図である。It is a figure which shows the outline of the sensor chip which employ | adopted the structure shown by patent document 1. FIG. このセンサチップをメータボディに組み込んで構成した差圧発信器の概略構成を示す図である。It is a figure which shows schematic structure of the differential pressure transmitter comprised incorporating this sensor chip in the meter body. この差圧発信器における圧力伝達媒体の封入孔に対する封止構造を拡大して示す図である。It is a figure which expands and shows the sealing structure with respect to the sealing hole of the pressure transmission medium in this differential pressure transmitter.

以下、本発明の実施の形態を図面に基づいて詳細に説明する。図1はこの発明に係る差圧発信器の一実施の形態の概略構成を示す図である。同図において、図8と同一符号は図8を参照して説明した構成要素と同一或いは同等構成要素を示し、その説明は省略する。   Hereinafter, embodiments of the present invention will be described in detail with reference to the drawings. FIG. 1 is a diagram showing a schematic configuration of an embodiment of a differential pressure transmitter according to the present invention. In FIG. 8, the same reference numerals as those in FIG. 8 denote the same or equivalent components as those described with reference to FIG.

図1において、20はセンサチップ11が組み込まれたメータボディであり、SiN,サファイア,Si,SiC,石英,硼珪酸ガラスなどの半導体材料で構成されている。本実施の形態において、メータボディ(以下、単にボディと呼ぶ)20は、シリコンによって構成されているものとする。   In FIG. 1, reference numeral 20 denotes a meter body in which the sensor chip 11 is incorporated, and is made of a semiconductor material such as SiN, sapphire, Si, SiC, quartz, or borosilicate glass. In the present embodiment, the meter body (hereinafter simply referred to as a body) 20 is assumed to be composed of silicon.

ボディ20の大きさは、図8に示した差圧発信器200におけるセンサ部14と同程度の大きさとされており、このボディ20の側面(下面)に一対の受圧部をなすバリアダイアフラム(受圧ダイアフラム)21a,21bを設けている。   The body 20 has the same size as that of the sensor unit 14 in the differential pressure transmitter 200 shown in FIG. 8, and a barrier diaphragm (pressure receiving unit) that forms a pair of pressure receiving units on the side surface (lower surface) of the body 20. Diaphragms) 21a and 21b are provided.

本実施の形態において、バリアダイアフラム21a,21bは、ボディ20を加工することによって、ボディ20に対して一体的に設けられている。すなわち、本実施の形態において、バリアダイアフラム21a,21bはボディ20の一部として設けられ、ボディ20と同じシリコンによって構成されている。   In the present embodiment, the barrier diaphragms 21 a and 21 b are provided integrally with the body 20 by processing the body 20. That is, in the present embodiment, the barrier diaphragms 21 a and 21 b are provided as a part of the body 20 and are made of the same silicon as the body 20.

また、本実施の形態において、センサチップ11のセンサダイアフラム11−1、第1のストッパ部材11−2、第2のストッパ部材11−3は、何れもシリコンによって構成されているものとする。すなわち、本実施の形態において、センサチップ11、バリアダイアフラム21a,21b、ボディ20は全て半導体材料で構成され、しかもその半導体材料は同じシリコンとされている。   Further, in the present embodiment, the sensor diaphragm 11-1, the first stopper member 11-2, and the second stopper member 11-3 of the sensor chip 11 are all made of silicon. That is, in the present embodiment, the sensor chip 11, the barrier diaphragms 21a and 21b, and the body 20 are all made of a semiconductor material, and the semiconductor material is the same silicon.

ボディ20において、センサチップ11とバリアダイアフラム21a,21bとの間は、センサダイアフラム11−1の一方の面(第1のストッパ部材11−2の凹部11−2aが対峙している面)とバリアダイアフラム21aとの間が連通路22aによって連通され、センサダイアフラム11−1の他方の面(第2のストッパ部材11−3の凹部11−3aが対峙している面)とバリアダイアフラム21bとの間が連通路22bによって連通され、連通路22a,22bにシリコーンオイル等の圧力伝達媒体23a,23bが封入されている。   In the body 20, between the sensor chip 11 and the barrier diaphragms 21 a and 21 b, one surface of the sensor diaphragm 11-1 (the surface on which the concave portion 11-2 a of the first stopper member 11-2 faces) and the barrier. The diaphragm 21a communicates with the communication path 22a, and the other surface of the sensor diaphragm 11-1 (the surface on which the concave portion 11-3a of the second stopper member 11-3 faces) and the barrier diaphragm 21b. Are communicated by the communication passage 22b, and pressure transmission media 23a, 23b such as silicone oil are sealed in the communication passages 22a, 22b.

なお、ボディ20の側面には、圧力伝達媒体23aを連通路22aに封入するための第1の封入孔24aと、圧力伝達媒体23bを連通路22bに封入するための第2の封入孔24bとが形成されている。   Note that a side surface of the body 20 includes a first sealing hole 24a for sealing the pressure transmission medium 23a in the communication path 22a, and a second sealing hole 24b for sealing the pressure transmission medium 23b in the communication path 22b. Is formed.

この差圧発信器300では、プロセスからの第1の測定圧Paがバリアダイアフラム21aに印加され、プロセスからの第2の測定圧Pbがバリアダイアフラム21bに印加される。これにより、バリアダイアフラム21a,21bが変位し、その加えられた圧力Pa,Pbが連通路22a,22b中の圧力伝達媒体23a,23bを通して、センサチップ11のセンサダイアフラム11−1の一方の面および他方の面にそれぞれ導かれる。この結果、センサチップ11のセンサダイアフラム11−1は、その導かれた圧力Pa,Pbの差圧ΔPに相当する変位を呈することになる。   In this differential pressure transmitter 300, the first measured pressure Pa from the process is applied to the barrier diaphragm 21a, and the second measured pressure Pb from the process is applied to the barrier diaphragm 21b. As a result, the barrier diaphragms 21a and 21b are displaced, and the applied pressures Pa and Pb pass through the pressure transmission media 23a and 23b in the communication passages 22a and 22b, and one surface of the sensor diaphragm 11-1 of the sensor chip 11 and Each is led to the other side. As a result, the sensor diaphragm 11-1 of the sensor chip 11 exhibits a displacement corresponding to the differential pressure ΔP between the introduced pressures Pa and Pb.

これに対して、例えば、バリアダイアフラム21aに過大圧Poverが加わると、センサチップ11のセンサダイアフラム11−1が大きく変位し、その変位面の全体が第2のストッパ部材11−3の凹部11−3aの曲面(非球面(過大圧保護面))によって受け止められ、センサダイアフラム11−1のそれ以上の過度な変位が阻止される。バリアダイアフラム21bに過大圧Poverが加わった場合も、バリアダイアフラム21aに過大圧Poverが加わった場合と同様にして、センサチップ11のセンサダイアフラム11−1の変位面の全体が第1のストッパ部材11−2の凹部11−2aの曲面(非球面(過大圧保護面))によって受け止められ、センサダイアフラム11−1のそれ以上の過度な変位が阻止される。この結果、過大圧Poverの印加によるセンサチップ11の破損、すなわちセンサチップ11におけるセンサダイアフラム11−1の破損が未然に防止される。   On the other hand, for example, when an excessive pressure Pover is applied to the barrier diaphragm 21a, the sensor diaphragm 11-1 of the sensor chip 11 is greatly displaced, and the entire displacement surface thereof is the recess 11- of the second stopper member 11-3. It is received by the curved surface 3a (aspherical surface (overpressure protection surface)), and further excessive displacement of the sensor diaphragm 11-1 is prevented. When the overpressure Pover is applied to the barrier diaphragm 21b, the entire displacement surface of the sensor diaphragm 11-1 of the sensor chip 11 is the same as the first stopper member 11 in the same manner as when the overpressure Pover is applied to the barrier diaphragm 21a. -2 is received by the curved surface (aspheric surface (overpressure protection surface)) of the concave portion 11-2a, and further excessive displacement of the sensor diaphragm 11-1 is prevented. As a result, damage to the sensor chip 11 due to application of the excessive pressure Pover, that is, damage to the sensor diaphragm 11-1 in the sensor chip 11 is prevented.

この差圧発信器300では、受圧ダイアフラム21aおよび21bがシリコンで構成されているので、水素透過を起こしにくい。これにより、本実施の形態では、水素透過の問題を発生させることなく、受圧ダイアフラム21aおよび21bの径を小さくして、ボディ20の小型化を図ることができている。   In this differential pressure transmitter 300, since the pressure receiving diaphragms 21a and 21b are made of silicon, hydrogen permeation hardly occurs. Thereby, in this Embodiment, the diameter of the pressure receiving diaphragms 21a and 21b can be made small and the size of the body 20 can be achieved, without generating the problem of hydrogen permeation.

また、この差圧発信器300では、センサチップ11、受圧ダイアフラム21aおよび21b、ボディ20の全てがシリコンで構成されている。この場合、センサチップ11、受圧ダイアフラム21aおよび21b、ボディ20の熱膨張係数が等しいので、割れなどの問題が生じないものとなる。   In the differential pressure transmitter 300, the sensor chip 11, the pressure receiving diaphragms 21a and 21b, and the body 20 are all made of silicon. In this case, since the thermal expansion coefficients of the sensor chip 11, the pressure receiving diaphragms 21a and 21b, and the body 20 are equal, problems such as cracking do not occur.

また、受圧ダイアフラム21aおよび21bとセンサダイアフラム11−1とが同じシリコンで構成されているので、両者の熱膨張係数が等しくなり、差圧の測定精度に対する熱の影響を小さくすることも可能となる。   Further, since the pressure receiving diaphragms 21a and 21b and the sensor diaphragm 11-1 are made of the same silicon, the thermal expansion coefficients of both are equal, and the influence of heat on the measurement accuracy of the differential pressure can be reduced. .

この差圧発信器300では、ボディ20をシリコンで構成しているので、封入孔24a,24bからの連通路22a,22bへの圧力伝達媒体23a,23bの封入後、封入孔24a,24bをネジ止め・抵抗溶接・プラズマ溶接などで封止するという手法をとることができない。   In the differential pressure transmitter 300, since the body 20 is made of silicon, the sealing holes 24a and 24b are screwed after the pressure transmission media 23a and 23b are sealed into the communication paths 22a and 22b from the sealing holes 24a and 24b. It is impossible to take a method of sealing by stopping, resistance welding, plasma welding, or the like.

そこで、本実施の形態では、図2に拡大して示すように、封入孔24aの縁面24a1およびこの縁面24a1につながる内壁面(入口付近の側壁部)24a2にTi−Pt−AuやNb−Pt−Auなどの密着性の高いメタルを成膜し(図2参照)、連通路22aへの圧力伝達媒体23aの封入後、そのメタルが成膜された面(メタル成膜面)24a3にボール状の半田(半田プリフォーム)25aを置いて加熱溶解させ、かつ入口のメタルの薄膜になじませることによって、封入孔24aを封止している。封入孔24bについても封入孔24aと同様にして半田プリフォーム25bを用いて封止している。   Therefore, in the present embodiment, as shown in an enlarged view in FIG. 2, the edge surface 24a1 of the sealing hole 24a and the inner wall surface (side wall portion near the entrance) 24a2 connected to the edge surface 24a1 are connected to Ti—Pt—Au or Nb. After depositing a metal with high adhesion such as -Pt-Au (see FIG. 2) and sealing the pressure transmission medium 23a into the communication path 22a, the metal is deposited on the surface (metal deposition surface) 24a3. The encapsulating hole 24a is sealed by placing a ball-like solder (solder preform) 25a, heating and melting it, and making it conform to the metal thin film at the entrance. The sealing hole 24b is also sealed using the solder preform 25b in the same manner as the sealing hole 24a.

このような封止構造とすることで、機械的負荷や高熱負荷を与えずに、封入孔24a,24bを封止することが可能となる。なお、図3に示すように、封止強度を補強するために、半田プリフォーム25a(25b)と金属プレート26a(26b)とを併用する構造としてもよい。また、必ずしも半田プリフォームを用いなくてもよく、他の溶融金属を用いて封止するようにしてもよい。 With such a sealing structure, it is possible to seal the sealing holes 24a and 24b without applying a mechanical load or a high heat load. In addition, as shown in FIG. 3, it is good also as a structure which uses solder preform 25a (25b) and the metal plate 26a (26b) together in order to reinforce sealing strength. Further, it is not always necessary to use a solder preform, and sealing may be performed using another molten metal.

上述した実施の形態では、ボディ20の側面としてボディ20の下面にバリアダイアフラム21a,21bを設けた構造としたが、図4に示すように、ボディ20の上下面にバリアダイアフラム21a,21bを設けた構造とするなどしてもよい。   In the above-described embodiment, the barrier diaphragms 21a and 21b are provided on the lower surface of the body 20 as the side surface of the body 20, but the barrier diaphragms 21a and 21b are provided on the upper and lower surfaces of the body 20 as shown in FIG. The structure may be changed.

また、上述した実施の形態では、バリアダイアフラム21a,21bとボディ20とを同じシリコンで構成するようにしたが、例えば、バリアダイアフラム21a,21bをサファイアで構成し、ボディ20をシリコンで構成するなどとしてもよい。シリコンとサファイアでは熱膨張係数が異なるが、同じ半導体材料であるので熱膨張係数は近似しており、熱膨張係数の差は小さく、割れなどの問題が発生する虞はない。   In the above-described embodiment, the barrier diaphragms 21a and 21b and the body 20 are made of the same silicon. For example, the barrier diaphragms 21a and 21b are made of sapphire and the body 20 is made of silicon. It is good. Although silicon and sapphire have different coefficients of thermal expansion, since they are the same semiconductor material, the coefficients of thermal expansion are close, the difference in coefficient of thermal expansion is small, and there is no risk of problems such as cracking.

また、上述した実施の形態において、バリアダイアフラム21a,21bに対するボディ20の凹部27a,27bの底面を過大圧保護面として機能させ、過大圧が加わった時のバリアダイアフラム21a,21bの変位を規制するようにしてもよい。   Further, in the above-described embodiment, the bottom surfaces of the recesses 27a and 27b of the body 20 with respect to the barrier diaphragms 21a and 21b function as an overpressure protection surface, thereby restricting the displacement of the barrier diaphragms 21a and 21b when an overpressure is applied. You may do it.

また、上述した実施の形態では、センサダイアフラム11−1を圧力変化に応じて抵抗値が変化する歪抵抗ゲージを形成したタイプとしているが、静電容量式のセンサチップとしてもよい。静電容量式のセンサチップは、所定の空間(容量室)を備えた基板と、その基板の空間上に配置されたダイアフラムと、基板に形成された固定電極と、ダイアフラムに形成された可動電極とを備えている。ダイアフラムが圧力を受けて変形することで、可動電極と固定電極との間隔が変化してその間の静電容量が変化する。   In the above-described embodiment, the sensor diaphragm 11-1 is a type in which a strain resistance gauge whose resistance value changes according to a change in pressure is formed. However, a capacitive sensor chip may be used. A capacitance type sensor chip includes a substrate having a predetermined space (capacitance chamber), a diaphragm disposed in the space of the substrate, a fixed electrode formed on the substrate, and a movable electrode formed on the diaphragm. And. When the diaphragm is deformed by receiving pressure, the distance between the movable electrode and the fixed electrode changes, and the capacitance between them changes.

〔実施の形態の拡張〕
以上、実施の形態を参照して本発明を説明したが、本発明は上記実施の形態に限定されるものではない。本発明の構成や詳細には、本発明の技術思想の範囲内で当業者が理解し得る様々な変更をすることができる。
[Extension of the embodiment]
The present invention has been described above with reference to the embodiment, but the present invention is not limited to the above embodiment. Various changes that can be understood by those skilled in the art can be made to the configuration and details of the present invention within the scope of the technical idea of the present invention.

11…センサチップ、11−1…センサダイアフラム、11−2,11−3…ストッパ部材、11−2a,11−3a…凹部、11−2b,11−3b…圧力導入孔、20…メータボディ(ボディ)、21a,21b…バリアダイアフラム(受圧ダイアフラム)、22a,22b…連通路、23a,23b…圧力伝達媒体、24a,24b…封入孔、24a1,24b1…縁面、24a2,24b2…内壁面、24a3,24b3…メタル成膜面、25a,25b…ボール状の半田(半田プリフォーム)、26a,26b…金属プレート、27a,27b…凹部、300…差圧発信器。   DESCRIPTION OF SYMBOLS 11 ... Sensor chip, 11-1 ... Sensor diaphragm, 11-2, 11-3 ... Stopper member, 11-2a, 11-3a ... Recessed part, 11-2b, 11-3b ... Pressure introduction hole, 20 ... Meter body ( Body), 21a, 21b ... barrier diaphragm (pressure receiving diaphragm), 22a, 22b ... communication path, 23a, 23b ... pressure transmission medium, 24a, 24b ... sealed hole, 24a1, 24b1 ... edge face, 24a2, 24b2 ... inner wall face, 24a3, 24b3... Metal deposition surface, 25a and 25b... Ball-shaped solder (solder preform), 26a and 26b... Metal plate, 27a and 27b.

Claims (2)

圧力差に応じた信号を出力するセンサダイアフラムと、このセンサダイアフラムの一方の面にその凹部を対峙させて設けられ当該センサダイアフラムの他方の面に過大圧が印加された時の過度な変位を阻止する第1のストッパ部材と、前記センサダイアフラムの他方の面にその凹部を対峙させて設けられ当該センサダイアフラムの一方の面に過大圧が印加された時の過度な変位を阻止する第2のストッパ部材とを備えたセンサチップと、
前記センサチップを収容したボディと、
前記ボディの側面に設けられプロセスからの第1の測定圧を受ける第1の受圧ダイアフラムと、
前記ボディの側面に設けられプロセスからの第2の測定圧を受ける第2の受圧ダイアフラムと、
前記ボディの内部に形成された第1の連通路に封入され、前記第1の受圧ダイアフラムが受けた圧力を前記センサダイアフラムの一方の面に伝達する第1の圧力伝達媒体と、
前記ボディの内部に形成された第2の連通路に封入され、前記第2の受圧ダイアフラムが受けた圧力を前記センサダイアフラムの他方の面に伝達する第2の圧力伝達媒体とを備え、
前記センサチップ、前記第1および第2の受圧ダイアフラム、前記ボディの全てが半導体材料で構成され、
前記ボディは、前記第1の連通路に連通する第1の封入孔および前記第2の連通路に連通する第2の封入孔を側面に有し、
前記第1の封入孔は、前記ボディの側面に開口する孔の縁面およびこの縁面につながる内壁面にメタルが成膜されており、
前記第2の封入孔は、前記ボディの側面に開口する孔の縁面およびこの縁面につながる内壁面にメタルが成膜されており、
前記第1の封入孔の前記ボディの側面に開口する孔は、前記メタルが成膜された面に加熱溶解された第1の溶融金属によって塞がれ、
前記第2の封入孔の前記ボディの側面に開口する孔は、前記メタルが成膜された面に加熱溶解された第2の溶融金属によって塞がれ、
前記第1の溶融金属によって塞がれた前記第1の封入孔には、前記第1の連通路の一部として前記第1の圧力伝達媒体が封止されており、
前記第2の溶融金属によって塞がれた前記第2の封入孔には、前記第2の連通路の一部として前記第2の圧力伝達媒体が封止されている
ことを特徴とする差圧発信器。
A sensor diaphragm that outputs a signal corresponding to a pressure difference, and a concave part on one side of the sensor diaphragm that faces the concave part prevents excessive displacement when an excessive pressure is applied to the other side of the sensor diaphragm. And a second stopper for preventing excessive displacement when an excessive pressure is applied to one surface of the sensor diaphragm. A sensor chip comprising a member;
A body containing the sensor chip;
A first pressure receiving diaphragm that is provided on a side surface of the body and receives a first measured pressure from a process;
A second pressure receiving diaphragm provided on a side surface of the body and receiving a second measured pressure from a process;
A first pressure transmission medium enclosed in a first communication path formed inside the body and transmitting the pressure received by the first pressure receiving diaphragm to one surface of the sensor diaphragm;
A second pressure transmission medium enclosed in a second communication path formed inside the body and transmitting the pressure received by the second pressure receiving diaphragm to the other surface of the sensor diaphragm;
The sensor chip, the first and second pressure receiving diaphragms, and the body are all made of a semiconductor material,
The body has a first sealing hole communicating with the first communication path and a second sealing hole communicating with the second communication path on a side surface,
In the first sealing hole, a metal film is formed on an edge surface of the hole opened on the side surface of the body and an inner wall surface connected to the edge surface,
In the second sealing hole, a metal film is formed on an edge surface of the hole opened on the side surface of the body and an inner wall surface connected to the edge surface,
The hole that opens in the side surface of the body of the first sealing hole is closed by the first molten metal that is heated and dissolved on the surface on which the metal is formed,
The hole that opens in the side surface of the body of the second sealing hole is blocked by a second molten metal that is heated and dissolved on the surface on which the metal is formed,
The first pressure transmission medium is sealed as a part of the first communication path in the first sealing hole closed by the first molten metal,
The second pressure transmission medium is sealed as a part of the second communication path in the second sealing hole blocked by the second molten metal. Transmitter.
請求項1に記載された差圧発信器において、
前記センサチップ、前記第1および第2の受圧ダイアフラム、前記ボディの熱膨張係数が近似している
ことを特徴とする差圧発信器。
In the differential pressure transmitter according to claim 1,
The sensor chip, the first and second pressure receiving diaphragms, and the body have approximate thermal expansion coefficients.
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