JP5910226B2 - 微粒子の洗浄方法 - Google Patents

微粒子の洗浄方法 Download PDF

Info

Publication number
JP5910226B2
JP5910226B2 JP2012069366A JP2012069366A JP5910226B2 JP 5910226 B2 JP5910226 B2 JP 5910226B2 JP 2012069366 A JP2012069366 A JP 2012069366A JP 2012069366 A JP2012069366 A JP 2012069366A JP 5910226 B2 JP5910226 B2 JP 5910226B2
Authority
JP
Japan
Prior art keywords
water
fine particles
washing
cleaning
fine
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Active
Application number
JP2012069366A
Other languages
English (en)
Other versions
JP2013199413A (ja
Inventor
純一 井田
純一 井田
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Kurita Water Industries Ltd
Original Assignee
Kurita Water Industries Ltd
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by Kurita Water Industries Ltd filed Critical Kurita Water Industries Ltd
Priority to JP2012069366A priority Critical patent/JP5910226B2/ja
Publication of JP2013199413A publication Critical patent/JP2013199413A/ja
Application granted granted Critical
Publication of JP5910226B2 publication Critical patent/JP5910226B2/ja
Active legal-status Critical Current
Anticipated expiration legal-status Critical

Links

Landscapes

  • Silicon Compounds (AREA)

Description

本発明は微粒子を水で洗浄する方法に係り、特に、疎水性材料よりなる針状の微粒子を洗浄するのに好適な方法に関する。
金属シリコンの微粒子などのように疎水性の微粒子を純水、水溶液などの水で洗浄する場合、水中に微粒子を投入したり微粒子を収容した容器内に水を注入したときに、微粒子に付着した気泡が抜けにくく、洗浄が不十分となり易い。微粒子を水中に分散させる場合、超音波を加えることが周知であるが、特に、微粒子が針状であると、球形状微粒子に比べて気泡が付着残留し易い。
特開平7−167771には、セラミック粉末を水中に分散させるに際し、水として脱気水を用いることが記載されている。
特開平7−167771
微粒子を脱気水で洗浄する場合、気体が溶解し易いので、非脱気水に比べて気泡は残りにくくなるが、微粒子が疎水性材料よりなる場合には気泡が付着残留することがある。
本発明は、疎水性材料よりなる微粒子であっても気泡の付着残留を抑制し、微粒子を効率よく洗浄することができる微粒子の洗浄方法を提供することを目的とする。
本発明の微粒子の洗浄方法は、疎水性材料よりなる微粒子を水で洗浄する微粒子の洗浄方法において、該微粒子はアスペクト比が2〜100の針状シリコン微粒子であり、該微粒子を酸化剤含有水と接触させて微粒子の表面を親水化し、その後、微粒子を洗浄水で洗浄することを特徴とするものである。
酸化剤含有水としてはオゾン水が好適である。
洗浄水としては脱気水が好ましい。
本発明の微粒子の洗浄方法によると、微粒子の表面を酸化剤含有水によって親水化した後、該微粒子を水で洗浄するので水が微粒子間に速やかに浸透し、気泡が速やかに抜けるようになり、洗浄を効率良く行うことができる。
微粒子の表面を酸化剤含有水で親水化した後、脱気水で洗浄すると、気泡の付着残留が防止され、より効率的に洗浄を行うことができる。
以下、本発明についてさらに詳細に説明する。
[微粒子]
微粒子としては、疎水性材料よりなるものが用いられる。疎水性材料とは、純水との接触角が25℃において10°以上特に20°以上のものを表わす。このような疎水性材料としては金属シリコン、金属ゲルマニウムなどが例示されるが、特に純度99.9%以上特に99.99%以上の金属シリコンが好適である。
また、微粒子がアスペクト比2以上、例えば2〜100の針状である場合または不定形の塊状物またはこれらが凝集したものに本発明を適用すると効果的であり、特に針状の金属シリコン微粒子である場合に本発明を適用すると効果的である。針状微粒子の平均粒子長さは例えば0.1〜20mm特に0.5〜10mm程度とりわけ1〜5mm程度である。
[酸化剤含有水による親水化処理]
酸化剤含有水としては、オゾン水又は過酸化水素水が好適であるが、特にオゾン水が好適である。オゾン水の濃度は1〜100ppm特に5〜20ppm程度が好適である。
金属シリコン微粒子とオゾン水とを接触させると、該金属シリコン微粒子表面が酸化されて親水化される。オゾン水と金属シリコン微粒子とを接触させて親水化処理する場合、オゾン水と0.1〜60min特に1〜30min程度接触させるのが好ましく、この際、撹拌することが好ましい。
[親水化処理後の洗浄]
本発明ではオゾン水で親水化処理した後、洗浄水で洗浄するが、この際、微粒子が浸漬されたオゾン水中に洗浄水を注入し、微粒子を大気に触れさせることなく洗浄水で洗浄することが好ましい。このように微粒子を大気に触れさせないことにより、微粒子に新たに気泡が付着することが防止される。なお、微粒子含有水の上澄水を排出した後、洗浄水を注入してもよい。このようにすれば、オゾン水を効率よく洗浄水に置換することができる。この洗浄に際して超音波を加えてもよい。
また、この洗浄水として脱気水を用いることが好ましい。この脱気水であれば、微粒子に付着していた気泡が水中に容易に溶け込んで消失するので、洗浄効果が向上する。脱気水としては、溶け込んでいる各ガス成分の飽和溶解度に対する各ガスのしめる割合を百分率で示したときその合計が10%以下にまで膜式脱気装置等で脱気処理されたものが好適である。
脱気水で洗浄した後、他の洗浄液で洗浄してもよい。この洗浄液としては、金属シリコン微粒子表面の付着金属を溶解させるための酸の水溶液が例示される。酸としては硫酸、塩酸、硝酸、フッ酸及びこれらから選ばれる2種以上を含む混合物などが例示される。
この場合も、微粒子含有水中に洗浄液を注入し、微粒子を大気に触れさせることなく洗浄液で洗浄することが好ましい。なお、必要に応じ、微粒子含有水の上澄水を排出してもよい。
脱気水洗浄後に洗浄液を注入して微粒子を洗浄する場合、必要に応じ上澄水を排出後、目標洗浄液濃度よりも高い濃度の洗浄薬液を微粒子含有水に供給し、残留していた脱気水で洗浄薬液を希釈することにより目標洗浄液濃度としてもよい。
本発明では、オゾン水で親水化処理した後、直ちに微粒子含有オゾン水に対し酸水溶液などの洗浄液を注入してもよく、この洗浄液として、酸含有脱気水などの脱気洗浄液を用いてもよい。
洗浄液で洗浄した後は、純水などのリンス水で洗浄するのが好ましい。
以下、実施例及び比較例について説明する。なお、以下の実施例及び比較例では平均アスペクト比10、粒子平均長さ約3mmの針状金属シリコン微粒子と、アスペクト比2、粒子平均長さ約5mmの塊状(短い針状)金属シリコン微粒子を洗浄した。
<実施例1>
金属シリコン微粒子200gを500mL容のビーカーに分取し、オゾン濃度5mg/Lのオゾン水に10分間浸漬し、金属シリコン微粒子を親水化処理した。
次いで、上澄水250mLを排出した後、脱気水(全溶存ガス成分の各飽和度に対する百分率の合計が10%以下)250mLを注入した。5min撹拌した後、再度上澄水250mLを排出し、次いで脱気水250mLを注入し、5min撹拌した。
この上澄水排出 → 脱気水注入 → 撹拌よりなる工程を6回繰り返した。
その後、金属シリコンを濾別し、乾燥した後、金属シリコンに付着している金属(鉄、ニッケル、クロム、銅、亜鉛)の量をフッ酸中に金属を溶出させ誘導プラズマ質量分析によって測定したところ、表−1に示すとおりであった。
<実施例2>
実施例1において、6回目の脱気水による洗浄後、金属シリコン濾別前に、上澄水25mLを排出し、次いで硫酸水溶液を注入し硝酸濃度が10%になるようにした後、5min撹拌した。
その後、金属シリコンを濾別し、3Lの純水で洗浄し、乾燥後、同様にして、金属(鉄、ニッケル、クロム、銅、亜鉛)の付着量を測定したところ、表−1に示すとおりであった。
<比較例1>
実施例1において、オゾン水による親水化処理を行う代わりに脱気水に10分間浸漬させたこと以外は同様の洗浄を行った。洗浄後の金属(鉄、ニッケル、クロム、銅、亜鉛)の付着量を測定したところ、表−1に示すとおりであった。
<比較例2>
実施例2において、オゾン水による親水化処理を行う代わりに脱気水に10分間浸漬させたこと以外は同様の洗浄を行った。洗浄後の金属(鉄、ニッケル、クロム、銅、亜鉛)の付着量を測定したところ、表−1に示すとおりであった。
Figure 0005910226
以上の実施例及び比較例より、本発明によると微粒子が効率よく洗浄されることが認められた。

Claims (3)

  1. 疎水性材料よりなる微粒子を水で洗浄する微粒子の洗浄方法において、
    該微粒子はアスペクト比が2〜100の針状シリコン微粒子であり、
    該微粒子を酸化剤含有水と接触させて微粒子の表面を親水化し、その後、微粒子を洗浄水で洗浄することを特徴とする微粒子の洗浄方法。
  2. 請求項1において、酸化剤含有水はオゾン水であることを特徴とする微粒子の洗浄方法。
  3. 請求項1又は2において、前記洗浄水は脱気水であることを特徴とする微粒子の洗浄方法。
JP2012069366A 2012-03-26 2012-03-26 微粒子の洗浄方法 Active JP5910226B2 (ja)

Priority Applications (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP2012069366A JP5910226B2 (ja) 2012-03-26 2012-03-26 微粒子の洗浄方法

Applications Claiming Priority (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP2012069366A JP5910226B2 (ja) 2012-03-26 2012-03-26 微粒子の洗浄方法

Publications (2)

Publication Number Publication Date
JP2013199413A JP2013199413A (ja) 2013-10-03
JP5910226B2 true JP5910226B2 (ja) 2016-04-27

Family

ID=49519946

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
JP2012069366A Active JP5910226B2 (ja) 2012-03-26 2012-03-26 微粒子の洗浄方法

Country Status (1)

Country Link
JP (1) JP5910226B2 (ja)

Families Citing this family (4)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2016155118A (ja) * 2015-02-24 2016-09-01 小林 光 水素水、その製造方法及び製造装置
BR112018015391B1 (pt) 2016-01-29 2023-09-26 Bosquet Silicon Corp Preparação sólida oral, método para produzir uma preparação sólida oral e método para gerar hidrogênio
US11707063B2 (en) 2016-08-23 2023-07-25 Bosquet Silicon Corp. Compound, production method therefor, and hydrogen supply method
US11583483B2 (en) 2016-08-23 2023-02-21 Bosquet Silicon Corp. Hydrogen supply material and production therefor, and hydrogen supply method

Family Cites Families (6)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
DE19741465A1 (de) * 1997-09-19 1999-03-25 Wacker Chemie Gmbh Polykristallines Silicium
JP3534172B2 (ja) * 1998-10-20 2004-06-07 三菱住友シリコン株式会社 ポリシリコンの洗浄方法
US7759289B2 (en) * 2002-07-30 2010-07-20 Kuraray Chemical Co., Ltd. Activated carbon, method for production thereof, polarizing electrode and electrical double layer capacitor
JP4248257B2 (ja) * 2003-01-15 2009-04-02 東京エレクトロン株式会社 超音波洗浄装置
JP2005126292A (ja) * 2003-10-24 2005-05-19 Araco Corp 活性炭の製造方法
DE102007039626A1 (de) * 2007-08-22 2009-02-26 Wacker Chemie Ag Verfahren zum Reinigen von polykristallinem Silicium

Also Published As

Publication number Publication date
JP2013199413A (ja) 2013-10-03

Similar Documents

Publication Publication Date Title
JP5910226B2 (ja) 微粒子の洗浄方法
TW473403B (en) Method for cleaning a surface
JP2007024644A5 (ja)
JP2016092340A (ja) 基板の洗浄方法及び装置
JP4963984B2 (ja) 汚染水中のヒ素除去法およびそれに用いる処理剤
US10522341B2 (en) Composition and method for removing residue from chemical-mechanical planarization substrate
JP2011071493A5 (ja) 半導体基板の再生方法
JP2015026814A5 (ja)
JP5803830B2 (ja) 銀粉の製造方法
JP2008190033A (ja) 陽極酸化被膜剥離液及び陽極酸化被膜の剥離方法
EP3260420A1 (en) Stannous oxide powder and method for producing stannous oxide powder
JP2009091168A5 (ja)
TW200404919A (en) Method of making oxide film by anodizing magnesium material
JP6222555B2 (ja) 水処理方法及び水処理装置
TWI435955B (zh) 用於金屬植入物表面處理之電解液及利用該電解液進行表面處理之方法
JP4554377B2 (ja) 洗浄液および洗浄方法
JP5509669B2 (ja) 銅または銅合金の組織観察用エッチング液、エッチング方法および組織観察方法
JP5758483B2 (ja) 銀含有組成物用洗浄剤、銀含有組成物の除去方法、および銀の回収方法
CN104768330B (zh) 高密度线路柔性电路板镍金残留物处理方法
JP5299321B2 (ja) めっき方法
JP5450233B2 (ja) 鋼の凝固組織の検出方法
JP2008297589A (ja) 清浄銀微粒子の製造方法
JP6842748B2 (ja) エアコン用洗浄液及びその製造方法
TW201600183A (zh) 元件用Ge基板之洗淨方法,洗淨水供給裝置及洗淨裝置
JP6881551B2 (ja) 過硫酸成分を含む硫酸溶液中の酸化剤濃度の低下抑制方法

Legal Events

Date Code Title Description
A621 Written request for application examination

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A621

Effective date: 20150114

A977 Report on retrieval

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A971007

Effective date: 20151016

A131 Notification of reasons for refusal

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131

Effective date: 20151201

A521 Request for written amendment filed

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523

Effective date: 20151225

TRDD Decision of grant or rejection written
A01 Written decision to grant a patent or to grant a registration (utility model)

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A01

Effective date: 20160301

A61 First payment of annual fees (during grant procedure)

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A61

Effective date: 20160314

R150 Certificate of patent or registration of utility model

Ref document number: 5910226

Country of ref document: JP

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R150

R250 Receipt of annual fees

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250