JP5910226B2 - 微粒子の洗浄方法 - Google Patents
微粒子の洗浄方法 Download PDFInfo
- Publication number
- JP5910226B2 JP5910226B2 JP2012069366A JP2012069366A JP5910226B2 JP 5910226 B2 JP5910226 B2 JP 5910226B2 JP 2012069366 A JP2012069366 A JP 2012069366A JP 2012069366 A JP2012069366 A JP 2012069366A JP 5910226 B2 JP5910226 B2 JP 5910226B2
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- water
- fine particles
- washing
- cleaning
- fine
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Active
Links
- 239000010419 fine particle Substances 0.000 title claims description 60
- 238000004140 cleaning Methods 0.000 title claims description 27
- 238000000034 method Methods 0.000 title claims description 12
- XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N water Substances O XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 80
- 238000005406 washing Methods 0.000 claims description 29
- CBENFWSGALASAD-UHFFFAOYSA-N Ozone Chemical group [O-][O+]=O CBENFWSGALASAD-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 17
- XUIMIQQOPSSXEZ-UHFFFAOYSA-N Silicon Chemical compound [Si] XUIMIQQOPSSXEZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 16
- 229910052710 silicon Inorganic materials 0.000 claims description 16
- 239000010703 silicon Substances 0.000 claims description 16
- 230000002209 hydrophobic effect Effects 0.000 claims description 9
- 239000000463 material Substances 0.000 claims description 9
- 239000007800 oxidant agent Substances 0.000 claims description 8
- 230000001590 oxidative effect Effects 0.000 claims description 6
- 229910052751 metal Inorganic materials 0.000 description 23
- 239000002184 metal Substances 0.000 description 23
- 239000000243 solution Substances 0.000 description 9
- XEEYBQQBJWHFJM-UHFFFAOYSA-N Iron Chemical compound [Fe] XEEYBQQBJWHFJM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 8
- PXHVJJICTQNCMI-UHFFFAOYSA-N Nickel Chemical compound [Ni] PXHVJJICTQNCMI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 8
- 239000002245 particle Substances 0.000 description 8
- 239000006228 supernatant Substances 0.000 description 7
- 230000000052 comparative effect Effects 0.000 description 5
- VYZAMTAEIAYCRO-UHFFFAOYSA-N Chromium Chemical compound [Cr] VYZAMTAEIAYCRO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- RYGMFSIKBFXOCR-UHFFFAOYSA-N Copper Chemical compound [Cu] RYGMFSIKBFXOCR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- KRHYYFGTRYWZRS-UHFFFAOYSA-N Fluorane Chemical compound F KRHYYFGTRYWZRS-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- QAOWNCQODCNURD-UHFFFAOYSA-N Sulfuric acid Chemical compound OS(O)(=O)=O QAOWNCQODCNURD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- HCHKCACWOHOZIP-UHFFFAOYSA-N Zinc Chemical compound [Zn] HCHKCACWOHOZIP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- 239000002253 acid Substances 0.000 description 4
- 239000007864 aqueous solution Substances 0.000 description 4
- 229910052804 chromium Inorganic materials 0.000 description 4
- 239000011651 chromium Substances 0.000 description 4
- 229910052802 copper Inorganic materials 0.000 description 4
- 239000010949 copper Substances 0.000 description 4
- 239000007789 gas Substances 0.000 description 4
- 229910052742 iron Inorganic materials 0.000 description 4
- 239000007788 liquid Substances 0.000 description 4
- 229910052759 nickel Inorganic materials 0.000 description 4
- 238000003756 stirring Methods 0.000 description 4
- 239000011701 zinc Substances 0.000 description 4
- 229910052725 zinc Inorganic materials 0.000 description 4
- 238000007872 degassing Methods 0.000 description 3
- VEXZGXHMUGYJMC-UHFFFAOYSA-N Hydrochloric acid Chemical compound Cl VEXZGXHMUGYJMC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- GRYLNZFGIOXLOG-UHFFFAOYSA-N Nitric acid Chemical compound O[N+]([O-])=O GRYLNZFGIOXLOG-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 238000007599 discharging Methods 0.000 description 2
- 229910017604 nitric acid Inorganic materials 0.000 description 2
- 239000011856 silicon-based particle Substances 0.000 description 2
- 239000000126 substance Substances 0.000 description 2
- 239000000919 ceramic Substances 0.000 description 1
- 230000000694 effects Effects 0.000 description 1
- 238000001914 filtration Methods 0.000 description 1
- 229910052732 germanium Inorganic materials 0.000 description 1
- GNPVGFCGXDBREM-UHFFFAOYSA-N germanium atom Chemical compound [Ge] GNPVGFCGXDBREM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- JEGUKCSWCFPDGT-UHFFFAOYSA-N h2o hydrate Chemical compound O.O JEGUKCSWCFPDGT-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- QOSATHPSBFQAML-UHFFFAOYSA-N hydrogen peroxide;hydrate Chemical compound O.OO QOSATHPSBFQAML-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 230000006698 induction Effects 0.000 description 1
- 239000000203 mixture Substances 0.000 description 1
- 238000000918 plasma mass spectrometry Methods 0.000 description 1
- 239000000843 powder Substances 0.000 description 1
- 239000008237 rinsing water Substances 0.000 description 1
- 229920006395 saturated elastomer Polymers 0.000 description 1
- 238000002604 ultrasonography Methods 0.000 description 1
Landscapes
- Silicon Compounds (AREA)
Description
微粒子としては、疎水性材料よりなるものが用いられる。疎水性材料とは、純水との接触角が25℃において10°以上特に20°以上のものを表わす。このような疎水性材料としては金属シリコン、金属ゲルマニウムなどが例示されるが、特に純度99.9%以上特に99.99%以上の金属シリコンが好適である。
酸化剤含有水としては、オゾン水又は過酸化水素水が好適であるが、特にオゾン水が好適である。オゾン水の濃度は1〜100ppm特に5〜20ppm程度が好適である。
本発明ではオゾン水で親水化処理した後、洗浄水で洗浄するが、この際、微粒子が浸漬されたオゾン水中に洗浄水を注入し、微粒子を大気に触れさせることなく洗浄水で洗浄することが好ましい。このように微粒子を大気に触れさせないことにより、微粒子に新たに気泡が付着することが防止される。なお、微粒子含有水の上澄水を排出した後、洗浄水を注入してもよい。このようにすれば、オゾン水を効率よく洗浄水に置換することができる。この洗浄に際して超音波を加えてもよい。
金属シリコン微粒子200gを500mL容のビーカーに分取し、オゾン濃度5mg/Lのオゾン水に10分間浸漬し、金属シリコン微粒子を親水化処理した。
実施例1において、6回目の脱気水による洗浄後、金属シリコン濾別前に、上澄水25mLを排出し、次いで硫酸水溶液を注入し硝酸濃度が10%になるようにした後、5min撹拌した。
実施例1において、オゾン水による親水化処理を行う代わりに脱気水に10分間浸漬させたこと以外は同様の洗浄を行った。洗浄後の金属(鉄、ニッケル、クロム、銅、亜鉛)の付着量を測定したところ、表−1に示すとおりであった。
実施例2において、オゾン水による親水化処理を行う代わりに脱気水に10分間浸漬させたこと以外は同様の洗浄を行った。洗浄後の金属(鉄、ニッケル、クロム、銅、亜鉛)の付着量を測定したところ、表−1に示すとおりであった。
Claims (3)
- 疎水性材料よりなる微粒子を水で洗浄する微粒子の洗浄方法において、
該微粒子はアスペクト比が2〜100の針状シリコン微粒子であり、
該微粒子を酸化剤含有水と接触させて微粒子の表面を親水化し、その後、微粒子を洗浄水で洗浄することを特徴とする微粒子の洗浄方法。 - 請求項1において、酸化剤含有水はオゾン水であることを特徴とする微粒子の洗浄方法。
- 請求項1又は2において、前記洗浄水は脱気水であることを特徴とする微粒子の洗浄方法。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2012069366A JP5910226B2 (ja) | 2012-03-26 | 2012-03-26 | 微粒子の洗浄方法 |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2012069366A JP5910226B2 (ja) | 2012-03-26 | 2012-03-26 | 微粒子の洗浄方法 |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JP2013199413A JP2013199413A (ja) | 2013-10-03 |
JP5910226B2 true JP5910226B2 (ja) | 2016-04-27 |
Family
ID=49519946
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP2012069366A Active JP5910226B2 (ja) | 2012-03-26 | 2012-03-26 | 微粒子の洗浄方法 |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JP5910226B2 (ja) |
Families Citing this family (4)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2016155118A (ja) * | 2015-02-24 | 2016-09-01 | 小林 光 | 水素水、その製造方法及び製造装置 |
BR112018015391B1 (pt) | 2016-01-29 | 2023-09-26 | Bosquet Silicon Corp | Preparação sólida oral, método para produzir uma preparação sólida oral e método para gerar hidrogênio |
US11707063B2 (en) | 2016-08-23 | 2023-07-25 | Bosquet Silicon Corp. | Compound, production method therefor, and hydrogen supply method |
US11583483B2 (en) | 2016-08-23 | 2023-02-21 | Bosquet Silicon Corp. | Hydrogen supply material and production therefor, and hydrogen supply method |
Family Cites Families (6)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
DE19741465A1 (de) * | 1997-09-19 | 1999-03-25 | Wacker Chemie Gmbh | Polykristallines Silicium |
JP3534172B2 (ja) * | 1998-10-20 | 2004-06-07 | 三菱住友シリコン株式会社 | ポリシリコンの洗浄方法 |
US7759289B2 (en) * | 2002-07-30 | 2010-07-20 | Kuraray Chemical Co., Ltd. | Activated carbon, method for production thereof, polarizing electrode and electrical double layer capacitor |
JP4248257B2 (ja) * | 2003-01-15 | 2009-04-02 | 東京エレクトロン株式会社 | 超音波洗浄装置 |
JP2005126292A (ja) * | 2003-10-24 | 2005-05-19 | Araco Corp | 活性炭の製造方法 |
DE102007039626A1 (de) * | 2007-08-22 | 2009-02-26 | Wacker Chemie Ag | Verfahren zum Reinigen von polykristallinem Silicium |
-
2012
- 2012-03-26 JP JP2012069366A patent/JP5910226B2/ja active Active
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
JP2013199413A (ja) | 2013-10-03 |
Similar Documents
Publication | Publication Date | Title |
---|---|---|
JP5910226B2 (ja) | 微粒子の洗浄方法 | |
TW473403B (en) | Method for cleaning a surface | |
JP2007024644A5 (ja) | ||
JP2016092340A (ja) | 基板の洗浄方法及び装置 | |
JP4963984B2 (ja) | 汚染水中のヒ素除去法およびそれに用いる処理剤 | |
US10522341B2 (en) | Composition and method for removing residue from chemical-mechanical planarization substrate | |
JP2011071493A5 (ja) | 半導体基板の再生方法 | |
JP2015026814A5 (ja) | ||
JP5803830B2 (ja) | 銀粉の製造方法 | |
JP2008190033A (ja) | 陽極酸化被膜剥離液及び陽極酸化被膜の剥離方法 | |
EP3260420A1 (en) | Stannous oxide powder and method for producing stannous oxide powder | |
JP2009091168A5 (ja) | ||
TW200404919A (en) | Method of making oxide film by anodizing magnesium material | |
JP6222555B2 (ja) | 水処理方法及び水処理装置 | |
TWI435955B (zh) | 用於金屬植入物表面處理之電解液及利用該電解液進行表面處理之方法 | |
JP4554377B2 (ja) | 洗浄液および洗浄方法 | |
JP5509669B2 (ja) | 銅または銅合金の組織観察用エッチング液、エッチング方法および組織観察方法 | |
JP5758483B2 (ja) | 銀含有組成物用洗浄剤、銀含有組成物の除去方法、および銀の回収方法 | |
CN104768330B (zh) | 高密度线路柔性电路板镍金残留物处理方法 | |
JP5299321B2 (ja) | めっき方法 | |
JP5450233B2 (ja) | 鋼の凝固組織の検出方法 | |
JP2008297589A (ja) | 清浄銀微粒子の製造方法 | |
JP6842748B2 (ja) | エアコン用洗浄液及びその製造方法 | |
TW201600183A (zh) | 元件用Ge基板之洗淨方法,洗淨水供給裝置及洗淨裝置 | |
JP6881551B2 (ja) | 過硫酸成分を含む硫酸溶液中の酸化剤濃度の低下抑制方法 |
Legal Events
Date | Code | Title | Description |
---|---|---|---|
A621 | Written request for application examination |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A621 Effective date: 20150114 |
|
A977 | Report on retrieval |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A971007 Effective date: 20151016 |
|
A131 | Notification of reasons for refusal |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131 Effective date: 20151201 |
|
A521 | Request for written amendment filed |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523 Effective date: 20151225 |
|
TRDD | Decision of grant or rejection written | ||
A01 | Written decision to grant a patent or to grant a registration (utility model) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A01 Effective date: 20160301 |
|
A61 | First payment of annual fees (during grant procedure) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A61 Effective date: 20160314 |
|
R150 | Certificate of patent or registration of utility model |
Ref document number: 5910226 Country of ref document: JP Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R150 |
|
R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |