JP5899237B2 - 半導体装置、表示装置、ならびに半導体装置の製造方法 - Google Patents
半導体装置、表示装置、ならびに半導体装置の製造方法 Download PDFInfo
- Publication number
- JP5899237B2 JP5899237B2 JP2013544317A JP2013544317A JP5899237B2 JP 5899237 B2 JP5899237 B2 JP 5899237B2 JP 2013544317 A JP2013544317 A JP 2013544317A JP 2013544317 A JP2013544317 A JP 2013544317A JP 5899237 B2 JP5899237 B2 JP 5899237B2
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- layer
- opening
- insulating layer
- conductive layer
- transparent conductive
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Expired - Fee Related
Links
- 239000004065 semiconductor Substances 0.000 title claims description 146
- 238000004519 manufacturing process Methods 0.000 title claims description 15
- 239000010410 layer Substances 0.000 claims description 1020
- 239000010408 film Substances 0.000 claims description 143
- 239000000758 substrate Substances 0.000 claims description 110
- 239000011241 protective layer Substances 0.000 claims description 44
- 239000011229 interlayer Substances 0.000 claims description 39
- 239000004973 liquid crystal related substance Substances 0.000 claims description 37
- 238000000034 method Methods 0.000 claims description 37
- 239000010409 thin film Substances 0.000 claims description 28
- 239000011159 matrix material Substances 0.000 claims description 8
- 230000015572 biosynthetic process Effects 0.000 description 58
- 238000005530 etching Methods 0.000 description 38
- 229910052751 metal Inorganic materials 0.000 description 31
- 239000002184 metal Substances 0.000 description 31
- 230000008569 process Effects 0.000 description 23
- 230000002093 peripheral effect Effects 0.000 description 15
- 230000005684 electric field Effects 0.000 description 14
- 238000002834 transmittance Methods 0.000 description 14
- 239000000463 material Substances 0.000 description 12
- VYPSYNLAJGMNEJ-UHFFFAOYSA-N Silicium dioxide Chemical compound O=[Si]=O VYPSYNLAJGMNEJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 10
- 229910052814 silicon oxide Inorganic materials 0.000 description 10
- 229910052581 Si3N4 Inorganic materials 0.000 description 9
- QVGXLLKOCUKJST-UHFFFAOYSA-N atomic oxygen Chemical compound [O] QVGXLLKOCUKJST-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 9
- 239000001301 oxygen Substances 0.000 description 9
- 229910052760 oxygen Inorganic materials 0.000 description 9
- HQVNEWCFYHHQES-UHFFFAOYSA-N silicon nitride Chemical compound N12[Si]34N5[Si]62N3[Si]51N64 HQVNEWCFYHHQES-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 9
- 239000010949 copper Substances 0.000 description 8
- 238000010586 diagram Methods 0.000 description 8
- 239000010936 titanium Substances 0.000 description 8
- XUIMIQQOPSSXEZ-UHFFFAOYSA-N Silicon Chemical compound [Si] XUIMIQQOPSSXEZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 7
- 238000000059 patterning Methods 0.000 description 7
- 229910052710 silicon Inorganic materials 0.000 description 7
- 239000010703 silicon Substances 0.000 description 7
- 229910004298 SiO 2 Inorganic materials 0.000 description 6
- 229910021417 amorphous silicon Inorganic materials 0.000 description 6
- 239000011701 zinc Substances 0.000 description 6
- 101100016388 Arabidopsis thaliana PAS2 gene Proteins 0.000 description 5
- 101100060179 Drosophila melanogaster Clk gene Proteins 0.000 description 5
- 101100297150 Komagataella pastoris PEX3 gene Proteins 0.000 description 5
- 101150038023 PEX1 gene Proteins 0.000 description 5
- 101100315760 Saccharomyces cerevisiae (strain ATCC 204508 / S288c) PEX4 gene Proteins 0.000 description 5
- 230000008901 benefit Effects 0.000 description 5
- 239000003990 capacitor Substances 0.000 description 5
- 230000008859 change Effects 0.000 description 5
- 230000004048 modification Effects 0.000 description 5
- 238000012986 modification Methods 0.000 description 5
- 101150014555 pas-1 gene Proteins 0.000 description 5
- 238000004544 sputter deposition Methods 0.000 description 5
- 239000011651 chromium Substances 0.000 description 4
- 238000000206 photolithography Methods 0.000 description 4
- 229910052725 zinc Inorganic materials 0.000 description 4
- RYGMFSIKBFXOCR-UHFFFAOYSA-N Copper Chemical compound [Cu] RYGMFSIKBFXOCR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- 229910004286 SiNxOy Inorganic materials 0.000 description 3
- 229910020286 SiOxNy Inorganic materials 0.000 description 3
- RTAQQCXQSZGOHL-UHFFFAOYSA-N Titanium Chemical compound [Ti] RTAQQCXQSZGOHL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- 238000005229 chemical vapour deposition Methods 0.000 description 3
- 229910052802 copper Inorganic materials 0.000 description 3
- 230000003647 oxidation Effects 0.000 description 3
- 238000007254 oxidation reaction Methods 0.000 description 3
- 238000002161 passivation Methods 0.000 description 3
- 229920002120 photoresistant polymer Polymers 0.000 description 3
- 239000011347 resin Substances 0.000 description 3
- 229920005989 resin Polymers 0.000 description 3
- 229910052719 titanium Inorganic materials 0.000 description 3
- XLOMVQKBTHCTTD-UHFFFAOYSA-N zinc oxide Inorganic materials [Zn]=O XLOMVQKBTHCTTD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- 239000011787 zinc oxide Substances 0.000 description 3
- VYZAMTAEIAYCRO-UHFFFAOYSA-N Chromium Chemical compound [Cr] VYZAMTAEIAYCRO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- ZOKXTWBITQBERF-UHFFFAOYSA-N Molybdenum Chemical compound [Mo] ZOKXTWBITQBERF-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- HCHKCACWOHOZIP-UHFFFAOYSA-N Zinc Chemical compound [Zn] HCHKCACWOHOZIP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 229910007541 Zn O Inorganic materials 0.000 description 2
- 229910045601 alloy Inorganic materials 0.000 description 2
- 239000000956 alloy Substances 0.000 description 2
- 229910052782 aluminium Inorganic materials 0.000 description 2
- XAGFODPZIPBFFR-UHFFFAOYSA-N aluminium Chemical compound [Al] XAGFODPZIPBFFR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- CXKCTMHTOKXKQT-UHFFFAOYSA-N cadmium oxide Inorganic materials [Cd]=O CXKCTMHTOKXKQT-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- CFEAAQFZALKQPA-UHFFFAOYSA-N cadmium(2+);oxygen(2-) Chemical compound [O-2].[Cd+2] CFEAAQFZALKQPA-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 229910052804 chromium Inorganic materials 0.000 description 2
- 230000006866 deterioration Effects 0.000 description 2
- 229910052733 gallium Inorganic materials 0.000 description 2
- 229910052738 indium Inorganic materials 0.000 description 2
- AMGQUBHHOARCQH-UHFFFAOYSA-N indium;oxotin Chemical compound [In].[Sn]=O AMGQUBHHOARCQH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 238000009413 insulation Methods 0.000 description 2
- 150000002739 metals Chemical class 0.000 description 2
- 229910052750 molybdenum Inorganic materials 0.000 description 2
- 239000011733 molybdenum Substances 0.000 description 2
- 150000004767 nitrides Chemical class 0.000 description 2
- 230000035699 permeability Effects 0.000 description 2
- 239000002356 single layer Substances 0.000 description 2
- 229910052715 tantalum Inorganic materials 0.000 description 2
- GUVRBAGPIYLISA-UHFFFAOYSA-N tantalum atom Chemical compound [Ta] GUVRBAGPIYLISA-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- WFKWXMTUELFFGS-UHFFFAOYSA-N tungsten Chemical compound [W] WFKWXMTUELFFGS-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 229910052721 tungsten Inorganic materials 0.000 description 2
- 239000010937 tungsten Substances 0.000 description 2
- 238000009825 accumulation Methods 0.000 description 1
- 239000003086 colorant Substances 0.000 description 1
- 230000007797 corrosion Effects 0.000 description 1
- 238000005260 corrosion Methods 0.000 description 1
- 239000013078 crystal Substances 0.000 description 1
- 238000009792 diffusion process Methods 0.000 description 1
- 238000001312 dry etching Methods 0.000 description 1
- 230000000694 effects Effects 0.000 description 1
- 239000007789 gas Substances 0.000 description 1
- 239000011521 glass Substances 0.000 description 1
- 239000012535 impurity Substances 0.000 description 1
- 239000011810 insulating material Substances 0.000 description 1
- 239000011777 magnesium Substances 0.000 description 1
- PNHVEGMHOXTHMW-UHFFFAOYSA-N magnesium;zinc;oxygen(2-) Chemical compound [O-2].[O-2].[Mg+2].[Zn+2] PNHVEGMHOXTHMW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000011368 organic material Substances 0.000 description 1
- 229910021420 polycrystalline silicon Inorganic materials 0.000 description 1
- 229920005591 polysilicon Polymers 0.000 description 1
- 230000001681 protective effect Effects 0.000 description 1
- 230000009467 reduction Effects 0.000 description 1
- 238000000926 separation method Methods 0.000 description 1
- 230000003746 surface roughness Effects 0.000 description 1
- XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N water Substances O XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 238000001039 wet etching Methods 0.000 description 1
- UMJICYDOGPFMOB-UHFFFAOYSA-N zinc;cadmium(2+);oxygen(2-) Chemical compound [O-2].[O-2].[Zn+2].[Cd+2] UMJICYDOGPFMOB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
Images
Classifications
-
- G—PHYSICS
- G02—OPTICS
- G02F—OPTICAL DEVICES OR ARRANGEMENTS FOR THE CONTROL OF LIGHT BY MODIFICATION OF THE OPTICAL PROPERTIES OF THE MEDIA OF THE ELEMENTS INVOLVED THEREIN; NON-LINEAR OPTICS; FREQUENCY-CHANGING OF LIGHT; OPTICAL LOGIC ELEMENTS; OPTICAL ANALOGUE/DIGITAL CONVERTERS
- G02F1/00—Devices or arrangements for the control of the intensity, colour, phase, polarisation or direction of light arriving from an independent light source, e.g. switching, gating or modulating; Non-linear optics
- G02F1/01—Devices or arrangements for the control of the intensity, colour, phase, polarisation or direction of light arriving from an independent light source, e.g. switching, gating or modulating; Non-linear optics for the control of the intensity, phase, polarisation or colour
- G02F1/13—Devices or arrangements for the control of the intensity, colour, phase, polarisation or direction of light arriving from an independent light source, e.g. switching, gating or modulating; Non-linear optics for the control of the intensity, phase, polarisation or colour based on liquid crystals, e.g. single liquid crystal display cells
- G02F1/133—Constructional arrangements; Operation of liquid crystal cells; Circuit arrangements
- G02F1/136—Liquid crystal cells structurally associated with a semi-conducting layer or substrate, e.g. cells forming part of an integrated circuit
- G02F1/1362—Active matrix addressed cells
- G02F1/1368—Active matrix addressed cells in which the switching element is a three-electrode device
-
- G—PHYSICS
- G02—OPTICS
- G02F—OPTICAL DEVICES OR ARRANGEMENTS FOR THE CONTROL OF LIGHT BY MODIFICATION OF THE OPTICAL PROPERTIES OF THE MEDIA OF THE ELEMENTS INVOLVED THEREIN; NON-LINEAR OPTICS; FREQUENCY-CHANGING OF LIGHT; OPTICAL LOGIC ELEMENTS; OPTICAL ANALOGUE/DIGITAL CONVERTERS
- G02F1/00—Devices or arrangements for the control of the intensity, colour, phase, polarisation or direction of light arriving from an independent light source, e.g. switching, gating or modulating; Non-linear optics
- G02F1/01—Devices or arrangements for the control of the intensity, colour, phase, polarisation or direction of light arriving from an independent light source, e.g. switching, gating or modulating; Non-linear optics for the control of the intensity, phase, polarisation or colour
- G02F1/13—Devices or arrangements for the control of the intensity, colour, phase, polarisation or direction of light arriving from an independent light source, e.g. switching, gating or modulating; Non-linear optics for the control of the intensity, phase, polarisation or colour based on liquid crystals, e.g. single liquid crystal display cells
- G02F1/133—Constructional arrangements; Operation of liquid crystal cells; Circuit arrangements
- G02F1/136—Liquid crystal cells structurally associated with a semi-conducting layer or substrate, e.g. cells forming part of an integrated circuit
- G02F1/1362—Active matrix addressed cells
- G02F1/136227—Through-hole connection of the pixel electrode to the active element through an insulation layer
-
- G—PHYSICS
- G02—OPTICS
- G02F—OPTICAL DEVICES OR ARRANGEMENTS FOR THE CONTROL OF LIGHT BY MODIFICATION OF THE OPTICAL PROPERTIES OF THE MEDIA OF THE ELEMENTS INVOLVED THEREIN; NON-LINEAR OPTICS; FREQUENCY-CHANGING OF LIGHT; OPTICAL LOGIC ELEMENTS; OPTICAL ANALOGUE/DIGITAL CONVERTERS
- G02F1/00—Devices or arrangements for the control of the intensity, colour, phase, polarisation or direction of light arriving from an independent light source, e.g. switching, gating or modulating; Non-linear optics
- G02F1/01—Devices or arrangements for the control of the intensity, colour, phase, polarisation or direction of light arriving from an independent light source, e.g. switching, gating or modulating; Non-linear optics for the control of the intensity, phase, polarisation or colour
- G02F1/13—Devices or arrangements for the control of the intensity, colour, phase, polarisation or direction of light arriving from an independent light source, e.g. switching, gating or modulating; Non-linear optics for the control of the intensity, phase, polarisation or colour based on liquid crystals, e.g. single liquid crystal display cells
- G02F1/133—Constructional arrangements; Operation of liquid crystal cells; Circuit arrangements
- G02F1/136—Liquid crystal cells structurally associated with a semi-conducting layer or substrate, e.g. cells forming part of an integrated circuit
- G02F1/1362—Active matrix addressed cells
- G02F1/136286—Wiring, e.g. gate line, drain line
-
- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01L—SEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
- H01L21/00—Processes or apparatus adapted for the manufacture or treatment of semiconductor or solid state devices or of parts thereof
- H01L21/02—Manufacture or treatment of semiconductor devices or of parts thereof
- H01L21/04—Manufacture or treatment of semiconductor devices or of parts thereof the devices having potential barriers, e.g. a PN junction, depletion layer or carrier concentration layer
- H01L21/34—Manufacture or treatment of semiconductor devices or of parts thereof the devices having potential barriers, e.g. a PN junction, depletion layer or carrier concentration layer the devices having semiconductor bodies not provided for in groups H01L21/0405, H01L21/0445, H01L21/06, H01L21/16 and H01L21/18 with or without impurities, e.g. doping materials
- H01L21/46—Treatment of semiconductor bodies using processes or apparatus not provided for in groups H01L21/428
- H01L21/461—Treatment of semiconductor bodies using processes or apparatus not provided for in groups H01L21/428 to change their surface-physical characteristics or shape, e.g. etching, polishing, cutting
- H01L21/469—Treatment of semiconductor bodies using processes or apparatus not provided for in groups H01L21/428 to change their surface-physical characteristics or shape, e.g. etching, polishing, cutting to form insulating layers thereon, e.g. for masking or by using photolithographic techniques; After-treatment of these layers
- H01L21/4757—After-treatment
- H01L21/47573—Etching the layer
-
- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01L—SEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
- H01L27/00—Devices consisting of a plurality of semiconductor or other solid-state components formed in or on a common substrate
- H01L27/02—Devices consisting of a plurality of semiconductor or other solid-state components formed in or on a common substrate including semiconductor components specially adapted for rectifying, oscillating, amplifying or switching and having potential barriers; including integrated passive circuit elements having potential barriers
- H01L27/12—Devices consisting of a plurality of semiconductor or other solid-state components formed in or on a common substrate including semiconductor components specially adapted for rectifying, oscillating, amplifying or switching and having potential barriers; including integrated passive circuit elements having potential barriers the substrate being other than a semiconductor body, e.g. an insulating body
- H01L27/1214—Devices consisting of a plurality of semiconductor or other solid-state components formed in or on a common substrate including semiconductor components specially adapted for rectifying, oscillating, amplifying or switching and having potential barriers; including integrated passive circuit elements having potential barriers the substrate being other than a semiconductor body, e.g. an insulating body comprising a plurality of TFTs formed on a non-semiconducting substrate, e.g. driving circuits for AMLCDs
- H01L27/1222—Devices consisting of a plurality of semiconductor or other solid-state components formed in or on a common substrate including semiconductor components specially adapted for rectifying, oscillating, amplifying or switching and having potential barriers; including integrated passive circuit elements having potential barriers the substrate being other than a semiconductor body, e.g. an insulating body comprising a plurality of TFTs formed on a non-semiconducting substrate, e.g. driving circuits for AMLCDs with a particular composition, shape or crystalline structure of the active layer
- H01L27/1225—Devices consisting of a plurality of semiconductor or other solid-state components formed in or on a common substrate including semiconductor components specially adapted for rectifying, oscillating, amplifying or switching and having potential barriers; including integrated passive circuit elements having potential barriers the substrate being other than a semiconductor body, e.g. an insulating body comprising a plurality of TFTs formed on a non-semiconducting substrate, e.g. driving circuits for AMLCDs with a particular composition, shape or crystalline structure of the active layer with semiconductor materials not belonging to the group IV of the periodic table, e.g. InGaZnO
-
- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01L—SEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
- H01L27/00—Devices consisting of a plurality of semiconductor or other solid-state components formed in or on a common substrate
- H01L27/02—Devices consisting of a plurality of semiconductor or other solid-state components formed in or on a common substrate including semiconductor components specially adapted for rectifying, oscillating, amplifying or switching and having potential barriers; including integrated passive circuit elements having potential barriers
- H01L27/12—Devices consisting of a plurality of semiconductor or other solid-state components formed in or on a common substrate including semiconductor components specially adapted for rectifying, oscillating, amplifying or switching and having potential barriers; including integrated passive circuit elements having potential barriers the substrate being other than a semiconductor body, e.g. an insulating body
- H01L27/1214—Devices consisting of a plurality of semiconductor or other solid-state components formed in or on a common substrate including semiconductor components specially adapted for rectifying, oscillating, amplifying or switching and having potential barriers; including integrated passive circuit elements having potential barriers the substrate being other than a semiconductor body, e.g. an insulating body comprising a plurality of TFTs formed on a non-semiconducting substrate, e.g. driving circuits for AMLCDs
- H01L27/124—Devices consisting of a plurality of semiconductor or other solid-state components formed in or on a common substrate including semiconductor components specially adapted for rectifying, oscillating, amplifying or switching and having potential barriers; including integrated passive circuit elements having potential barriers the substrate being other than a semiconductor body, e.g. an insulating body comprising a plurality of TFTs formed on a non-semiconducting substrate, e.g. driving circuits for AMLCDs with a particular composition, shape or layout of the wiring layers specially adapted to the circuit arrangement, e.g. scanning lines in LCD pixel circuits
-
- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01L—SEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
- H01L27/00—Devices consisting of a plurality of semiconductor or other solid-state components formed in or on a common substrate
- H01L27/02—Devices consisting of a plurality of semiconductor or other solid-state components formed in or on a common substrate including semiconductor components specially adapted for rectifying, oscillating, amplifying or switching and having potential barriers; including integrated passive circuit elements having potential barriers
- H01L27/12—Devices consisting of a plurality of semiconductor or other solid-state components formed in or on a common substrate including semiconductor components specially adapted for rectifying, oscillating, amplifying or switching and having potential barriers; including integrated passive circuit elements having potential barriers the substrate being other than a semiconductor body, e.g. an insulating body
- H01L27/1214—Devices consisting of a plurality of semiconductor or other solid-state components formed in or on a common substrate including semiconductor components specially adapted for rectifying, oscillating, amplifying or switching and having potential barriers; including integrated passive circuit elements having potential barriers the substrate being other than a semiconductor body, e.g. an insulating body comprising a plurality of TFTs formed on a non-semiconducting substrate, e.g. driving circuits for AMLCDs
- H01L27/1248—Devices consisting of a plurality of semiconductor or other solid-state components formed in or on a common substrate including semiconductor components specially adapted for rectifying, oscillating, amplifying or switching and having potential barriers; including integrated passive circuit elements having potential barriers the substrate being other than a semiconductor body, e.g. an insulating body comprising a plurality of TFTs formed on a non-semiconducting substrate, e.g. driving circuits for AMLCDs with a particular composition or shape of the interlayer dielectric specially adapted to the circuit arrangement
-
- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01L—SEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
- H01L27/00—Devices consisting of a plurality of semiconductor or other solid-state components formed in or on a common substrate
- H01L27/02—Devices consisting of a plurality of semiconductor or other solid-state components formed in or on a common substrate including semiconductor components specially adapted for rectifying, oscillating, amplifying or switching and having potential barriers; including integrated passive circuit elements having potential barriers
- H01L27/12—Devices consisting of a plurality of semiconductor or other solid-state components formed in or on a common substrate including semiconductor components specially adapted for rectifying, oscillating, amplifying or switching and having potential barriers; including integrated passive circuit elements having potential barriers the substrate being other than a semiconductor body, e.g. an insulating body
- H01L27/1214—Devices consisting of a plurality of semiconductor or other solid-state components formed in or on a common substrate including semiconductor components specially adapted for rectifying, oscillating, amplifying or switching and having potential barriers; including integrated passive circuit elements having potential barriers the substrate being other than a semiconductor body, e.g. an insulating body comprising a plurality of TFTs formed on a non-semiconducting substrate, e.g. driving circuits for AMLCDs
- H01L27/1259—Multistep manufacturing methods
-
- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01L—SEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
- H01L27/00—Devices consisting of a plurality of semiconductor or other solid-state components formed in or on a common substrate
- H01L27/02—Devices consisting of a plurality of semiconductor or other solid-state components formed in or on a common substrate including semiconductor components specially adapted for rectifying, oscillating, amplifying or switching and having potential barriers; including integrated passive circuit elements having potential barriers
- H01L27/12—Devices consisting of a plurality of semiconductor or other solid-state components formed in or on a common substrate including semiconductor components specially adapted for rectifying, oscillating, amplifying or switching and having potential barriers; including integrated passive circuit elements having potential barriers the substrate being other than a semiconductor body, e.g. an insulating body
- H01L27/1214—Devices consisting of a plurality of semiconductor or other solid-state components formed in or on a common substrate including semiconductor components specially adapted for rectifying, oscillating, amplifying or switching and having potential barriers; including integrated passive circuit elements having potential barriers the substrate being other than a semiconductor body, e.g. an insulating body comprising a plurality of TFTs formed on a non-semiconducting substrate, e.g. driving circuits for AMLCDs
- H01L27/1259—Multistep manufacturing methods
- H01L27/1262—Multistep manufacturing methods with a particular formation, treatment or coating of the substrate
-
- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01L—SEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
- H01L29/00—Semiconductor devices specially adapted for rectifying, amplifying, oscillating or switching and having potential barriers; Capacitors or resistors having potential barriers, e.g. a PN-junction depletion layer or carrier concentration layer; Details of semiconductor bodies or of electrodes thereof ; Multistep manufacturing processes therefor
- H01L29/02—Semiconductor bodies ; Multistep manufacturing processes therefor
- H01L29/12—Semiconductor bodies ; Multistep manufacturing processes therefor characterised by the materials of which they are formed
- H01L29/24—Semiconductor bodies ; Multistep manufacturing processes therefor characterised by the materials of which they are formed including, apart from doping materials or other impurities, only semiconductor materials not provided for in groups H01L29/16, H01L29/18, H01L29/20, H01L29/22
-
- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01L—SEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
- H01L29/00—Semiconductor devices specially adapted for rectifying, amplifying, oscillating or switching and having potential barriers; Capacitors or resistors having potential barriers, e.g. a PN-junction depletion layer or carrier concentration layer; Details of semiconductor bodies or of electrodes thereof ; Multistep manufacturing processes therefor
- H01L29/66—Types of semiconductor device ; Multistep manufacturing processes therefor
- H01L29/66007—Multistep manufacturing processes
- H01L29/66969—Multistep manufacturing processes of devices having semiconductor bodies not comprising group 14 or group 13/15 materials
-
- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01L—SEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
- H01L29/00—Semiconductor devices specially adapted for rectifying, amplifying, oscillating or switching and having potential barriers; Capacitors or resistors having potential barriers, e.g. a PN-junction depletion layer or carrier concentration layer; Details of semiconductor bodies or of electrodes thereof ; Multistep manufacturing processes therefor
- H01L29/66—Types of semiconductor device ; Multistep manufacturing processes therefor
- H01L29/68—Types of semiconductor device ; Multistep manufacturing processes therefor controllable by only the electric current supplied, or only the electric potential applied, to an electrode which does not carry the current to be rectified, amplified or switched
- H01L29/76—Unipolar devices, e.g. field effect transistors
- H01L29/772—Field effect transistors
- H01L29/78—Field effect transistors with field effect produced by an insulated gate
- H01L29/786—Thin film transistors, i.e. transistors with a channel being at least partly a thin film
- H01L29/7869—Thin film transistors, i.e. transistors with a channel being at least partly a thin film having a semiconductor body comprising an oxide semiconductor material, e.g. zinc oxide, copper aluminium oxide, cadmium stannate
-
- G—PHYSICS
- G02—OPTICS
- G02F—OPTICAL DEVICES OR ARRANGEMENTS FOR THE CONTROL OF LIGHT BY MODIFICATION OF THE OPTICAL PROPERTIES OF THE MEDIA OF THE ELEMENTS INVOLVED THEREIN; NON-LINEAR OPTICS; FREQUENCY-CHANGING OF LIGHT; OPTICAL LOGIC ELEMENTS; OPTICAL ANALOGUE/DIGITAL CONVERTERS
- G02F1/00—Devices or arrangements for the control of the intensity, colour, phase, polarisation or direction of light arriving from an independent light source, e.g. switching, gating or modulating; Non-linear optics
- G02F1/01—Devices or arrangements for the control of the intensity, colour, phase, polarisation or direction of light arriving from an independent light source, e.g. switching, gating or modulating; Non-linear optics for the control of the intensity, phase, polarisation or colour
- G02F1/13—Devices or arrangements for the control of the intensity, colour, phase, polarisation or direction of light arriving from an independent light source, e.g. switching, gating or modulating; Non-linear optics for the control of the intensity, phase, polarisation or colour based on liquid crystals, e.g. single liquid crystal display cells
- G02F1/133—Constructional arrangements; Operation of liquid crystal cells; Circuit arrangements
- G02F1/1333—Constructional arrangements; Manufacturing methods
- G02F1/1343—Electrodes
- G02F1/134309—Electrodes characterised by their geometrical arrangement
- G02F1/134372—Electrodes characterised by their geometrical arrangement for fringe field switching [FFS] where the common electrode is not patterned
-
- G—PHYSICS
- G02—OPTICS
- G02F—OPTICAL DEVICES OR ARRANGEMENTS FOR THE CONTROL OF LIGHT BY MODIFICATION OF THE OPTICAL PROPERTIES OF THE MEDIA OF THE ELEMENTS INVOLVED THEREIN; NON-LINEAR OPTICS; FREQUENCY-CHANGING OF LIGHT; OPTICAL LOGIC ELEMENTS; OPTICAL ANALOGUE/DIGITAL CONVERTERS
- G02F1/00—Devices or arrangements for the control of the intensity, colour, phase, polarisation or direction of light arriving from an independent light source, e.g. switching, gating or modulating; Non-linear optics
- G02F1/01—Devices or arrangements for the control of the intensity, colour, phase, polarisation or direction of light arriving from an independent light source, e.g. switching, gating or modulating; Non-linear optics for the control of the intensity, phase, polarisation or colour
- G02F1/13—Devices or arrangements for the control of the intensity, colour, phase, polarisation or direction of light arriving from an independent light source, e.g. switching, gating or modulating; Non-linear optics for the control of the intensity, phase, polarisation or colour based on liquid crystals, e.g. single liquid crystal display cells
- G02F1/133—Constructional arrangements; Operation of liquid crystal cells; Circuit arrangements
- G02F1/1333—Constructional arrangements; Manufacturing methods
- G02F1/1345—Conductors connecting electrodes to cell terminals
- G02F1/13458—Terminal pads
-
- G—PHYSICS
- G02—OPTICS
- G02F—OPTICAL DEVICES OR ARRANGEMENTS FOR THE CONTROL OF LIGHT BY MODIFICATION OF THE OPTICAL PROPERTIES OF THE MEDIA OF THE ELEMENTS INVOLVED THEREIN; NON-LINEAR OPTICS; FREQUENCY-CHANGING OF LIGHT; OPTICAL LOGIC ELEMENTS; OPTICAL ANALOGUE/DIGITAL CONVERTERS
- G02F2202/00—Materials and properties
- G02F2202/10—Materials and properties semiconductor
Landscapes
- Engineering & Computer Science (AREA)
- Physics & Mathematics (AREA)
- Power Engineering (AREA)
- Microelectronics & Electronic Packaging (AREA)
- General Physics & Mathematics (AREA)
- Computer Hardware Design (AREA)
- Condensed Matter Physics & Semiconductors (AREA)
- Nonlinear Science (AREA)
- Chemical & Material Sciences (AREA)
- Crystallography & Structural Chemistry (AREA)
- Mathematical Physics (AREA)
- Optics & Photonics (AREA)
- Manufacturing & Machinery (AREA)
- Ceramic Engineering (AREA)
- Liquid Crystal (AREA)
- Thin Film Transistor (AREA)
- Electrodes Of Semiconductors (AREA)
Description
本発明による半導体装置の実施形態1は、アクティブマトリクス型の液晶表示装置に使用されるTFT基板である。以下では、FFSモードの表示装置に使用されるTFT基板を例に説明する。なお、本実施形態の半導体装置は、TFTと2層の透明導電層とを基板上に有していればよく、他の動作モードの液晶表示装置、液晶表示装置以外の各種表示装置や電子機器などに用いられるTFT基板を広く含むものとする。
本実施形態の半導体装置100は画素毎にTFT101、およびTFT101と画素電極とを接続するコンタクト部105とを有している。本実施形態では、コンタクト部105もトランジスタ形成領域101Rに設けられる。
従来の構成(例えば特許文献2に開示された構成)によると、ドレイン電極と共通電極とを接続するコンタクト部と、共通電極と画素電極とを接続するコンタクト部とを別個に形成する必要があり、コンタクト部に要する面積を小さくできないという問題がある。また、1つのコンタクトホール内で、ドレイン電極を、共通電極を介して画素電極と接続させようとすると、コンタクトホール内に2層の透明導電層が配置されることになり、コンタクトホールに要する面積は大きくなる。
特許文献1〜3に開示された構造では、基板の法線方向から見たとき、ドレイン電極と画素電極とを接続するコンタクト部は、画素内の光を透過する領域内に配置され、ゲート配線とは重なっていない(例えば特許文献1の図12、特許文献2の図1、特許文献3の図5など)。このため、コンタクト部に起因して、画素の開口率(透過率)が低下する。
上述したように、本実施形態では、第1透明導電層15の開口部15p内に、コンタクト部105が形成される。このため、上述したように、第1絶縁層12でドレイン電極11dの表面を覆った状態で誘電体層17の形成まで行い、第2透明導電層19aを形成する直前に、誘電体層17および第1絶縁層12を同時にエッチングしてドレイン電極11dを露出させることができる。このようなプロセスを用いると、ドレイン電極11dを露出させた状態で複数工程を行う必要がなく、ドレイン電極11dの表面に生じるプロセスダメージを抑制できる。この結果、より低抵抗で、安定したコンタクト部105を形成できる。
本実施形態では、第2透明導電層19aの少なくとも一部が、誘電体層17を介して第1透明導電層15と重なるように配置され、容量を形成している。この容量は補助容量として機能する。誘電体層17の材料および厚さ、容量を形成する部分の面積などを適宜調整することにより、所望の容量を有する補助容量が得られる。このため、画素内に、例えばソース配線と同じ金属膜などを利用して補助容量を別途形成する必要がない。従って、金属膜を用いた補助容量の形成による開口率の低下を抑制できる。
図3(a)および(b)は、それぞれ、本実施形態におけるCOM−G接続部形成領域104Rの一部を示す平面図および断面図である。
図4(a)および(b)は、それぞれ、本実施形態におけるS−G接続部形成領域103Rの一部を示す平面図および断面図である。
図5(a)および(b)は、それぞれ、本実施形態における端子部形成領域102Rの一部を示す平面図および断面図である。
ここで、本実施形態の半導体装置100を用いた液晶表示装置の構成を説明する。図24は、本実施形態の液晶表示装置1000を例示する模式的な断面図である。
以下、図面を参照しながら、本実施形態の半導体装置100の製造方法の一例を説明する。
まず、基板1上に、図示しないゲート配線用金属膜(厚さ:例えば50nm以上500nm以下)を形成する。ゲート配線用金属膜は、基板1の上にスパッタ法などによって形成される。
次に、図7、図10、図13および図16の(a2)、(b2)に示すように、基板1上に、ゲート電極3a、下部導電層3t、3sg、3cgを覆うように、ゲート絶縁層5を形成する。この後、ゲート絶縁層5の上に半導体膜を形成し、これをパターニングすることにより、半導体層7aを形成する。半導体層7aは、トランジスタ形成領域101Rにおいて、少なくとも一部がゲート電極3a(ここではゲート電極3aはゲート配線3の一部である)と重なるように配置される。基板1の法線方向から見たとき、半導体層7aは、その全体が、ゲート絶縁層5を介してゲート配線層、好ましくはゲート配線3と重なるように配置されてもよい。図示するように、端子部、S−G接続部およびCOM−G接続部形成領域102R、103R、104Rでは、半導体膜は除去されてもよい。
次に、図7、図10、図13および図16の(a3)、(b3)に示すように、半導体層7aおよびゲート絶縁層5の上に、保護層(厚さ:例えば30nm以上200nm以下)9を形成する。続いて、レジストマスク(図示せず)を用いて、保護層9およびゲート絶縁層5のエッチングを行う。このとき、保護層9およびゲート絶縁層5がエッチングされ、かつ、半導体層7aがエッチングされないように、各層の材料に応じて、エッチング条件が選択される。ここでいうエッチング条件とは、ドライエッチングを用いる場合、エッチングガスの種類、基板1の温度、チャンバー内の真空度などを含む。また、ウェットエッチングを用いる場合、エッチング液の種類やエッチング時間などを含む。
次に、図8、図11、図14および図17の(a4)、(b4)に示すように、保護層9の上、および開口部9p、9q、9r、9u内に、ソース配線用金属膜(厚さ:例えば50nm以上500nm以下)11を形成する。ソース配線用金属膜は、例えばスパッタ法などによって形成される。
次に、図8、図11、図14および図17の(a5)、(b5)に示すように、TFT101および上部導電層11t、11sg、11cgを覆うように第1絶縁層12および第2絶縁層13をこの順で形成する。本実施形態では、第1絶縁層12として、例えばCVD法により、無機絶縁層(パッシベーション膜)を形成する。次いで、第1絶縁層12の上に、第2絶縁層13として、例えば有機絶縁層を形成する。この後、第2絶縁層13のパターニングを行う。
次に、絶縁層13上および開口部13p、13u内に、例えばスパッタ法により透明導電膜(図示せず)を形成し、これをパターニングする。パターニングには、公知のフォトリソグラフィを用いることができる。
次に、基板1の表面全体を覆うように、例えばCVD法により、誘電体層17を形成する。次いで、誘電体層17の上にレジストマスク(図示せず)を形成し、誘電体層17および第1絶縁層12のエッチングを行う。このとき、誘電体層17および第1絶縁層12がエッチングされ、かつ、第2絶縁層13がエッチングされないように、各絶縁層の材料に応じて、エッチング条件を選択する。
続いて、誘電体層17の上、コンタクトホールCH1、CH2内、および開口部17q、17v内に、例えばスパッタ法により透明導電膜(図示せず)を形成し、これをパターニングする。パターニングには、公知のフォトリソグラフィを用いることができる。
・コンタクト部105のバリエーション
半導体装置100におけるコンタクト部105、端子部102、S−G接続部103およびCOM−G接続部104の構成は、上述した構成に限定されず、適宜変形され得る。以下、各部の変形例を説明する。なお、以下に示す変形例は、何れも、図6に示すフローに沿って製造され得る。
図21(a)は、COM−G接続部104のバリエーションを例示する平面図である。また、図21(b)は、COM−S接続部を例示する平面図である。また、図21(c)に示すCOM−G接続部104(2)は、図3に示すCOM−G接続部104と同じである。
図22(a)および(b)は、それぞれ、S−G接続部103のバリエーションを例示する平面図である。ただし、図22(a)に示すS−G接続部103(1)は、図4に示すS−G接続部103と同じである。
図23(a)〜(e)は、それぞれ、端子部102のバリエーションを例示する平面図である。ただし、図23(c)に示す端子部102(3)は、図5に示す端子部102と同じである。
3 ゲート配線
3a ゲート電極
3t、3sg、3cg 下部導電層
5 ゲート絶縁層
7a 半導体層
9 保護層
11 ソース配線
11s ソース電極
11d ドレイン電極
11t、11sg、11cg 上部導電層
12 第1絶縁層
13 第2絶縁層
14 層間絶縁層
15 第1透明導電層
17 誘電体層
19a 第2透明導電層
100 半導体装置
101 TFT
102 端子部
103 S−G接続部
104 COM−G接続部
104’ COM−S接続部
105 コンタクト部
1000 液晶表示装置
Claims (16)
- 基板と、前記基板に保持された薄膜トランジスタ、ゲート配線層およびソース配線層とを備え、
前記ゲート配線層は、ゲート配線と、前記薄膜トランジスタのゲート電極とを含み、
前記ソース配線層は、ソース配線と、前記薄膜トランジスタのソース電極およびドレイン電極とを含み、
前記薄膜トランジスタは、前記ゲート電極と、前記ゲート電極の上に形成されたゲート絶縁層と、前記ゲート絶縁層の上に形成された半導体層と、前記ソース電極と、前記ドレイン電極とを有する、半導体装置であって、
前記ソース電極及び前記ドレイン電極の上に形成され、少なくとも前記ドレイン電極の表面と接する第1絶縁層を含む層間絶縁層と、
前記層間絶縁層の上に形成され、第1開口部を有する第1透明導電層と、
前記第1透明導電層上に形成され、前記第1透明導電層の前記第1開口部側の側面を覆う誘電体層と
前記誘電体層上に、前記誘電体層を介して前記第1透明導電層の少なくとも一部と重なるように形成された第2透明導電層と
をさらに備え、
前記層間絶縁層は、前記第1絶縁層と前記第1透明導電層との間に位置する第2絶縁層をさらに有し、前記第1絶縁層は無機絶縁層であり、前記第2絶縁層は有機絶縁層であり、
前記誘電体層は第2開口部を有し、前記第1絶縁層は第3開口部を有し、前記第2絶縁層は第4開口部を有し、
前記層間絶縁層および前記誘電体層は第1コンタクトホールを有し、
前記第1コンタクトホールの側壁は、前記第2開口部の側面と前記第3開口部の側面と前記第4開口部の側面とを含み、かつ、前記第2開口部の側面と前記第3開口部の側面とが整合する第1の側壁部分と、前記第4開口部の側面と前記第3開口部の側面とが整合する第2の側壁部分とを有しており、
前記第2透明導電層は、前記第1コンタクトホール内で、前記ドレイン電極と接し、これによって、前記第2透明導電層と前記ドレイン電極とが接するコンタクト部が形成されており、
前記基板の法線方向から見たとき、前記コンタクト部の少なくとも一部は、前記ゲート配線層と重なっている半導体装置。 - 前記基板の法線方向から見たとき、前記誘電体層の前記第2開口部の輪郭と、前記第2絶縁層の前記第4開口部の輪郭とは2点で交差している請求項1に記載の半導体装置。
- 基板と、前記基板に保持された薄膜トランジスタ、ゲート配線層、ソース配線層および第1接続部とを備え、
前記ゲート配線層は、ゲート配線と、前記薄膜トランジスタのゲート電極と、第1下部導電層とを含み、
前記ソース配線層は、ソース配線と、前記薄膜トランジスタのソース電極およびドレイン電極と、前記第1下部導電層に接して形成された第1上部導電層とを含み、
前記薄膜トランジスタは、前記ゲート電極と、前記ゲート電極の上に形成されたゲート絶縁層と、前記ゲート絶縁層の上に形成された半導体層と、前記ソース電極と、前記ドレイン電極とを有する、半導体装置であって、
前記ソース電極及び前記ドレイン電極の上に形成され、少なくとも前記ドレイン電極の表面と接する第1絶縁層を含む層間絶縁層と、
前記層間絶縁層の上に形成され、第1開口部を有する第1透明導電層と、
前記第1透明導電層上に形成され、前記第1透明導電層の前記第1開口部側の側面を覆う誘電体層と
前記誘電体層上に、前記誘電体層を介して前記第1透明導電層の少なくとも一部と重なるように形成された第2透明導電層と
をさらに備え、
前記誘電体層は第2開口部を有し、前記第1絶縁層は第3開口部を有し、
前記層間絶縁層および前記誘電体層は第1コンタクトホールを有し、前記第1コンタクトホールの側壁は、前記第2開口部の側面と前記第3開口部の側面とを含み、前記第3開口部の側面の少なくとも一部は、前記第2開口部の側面と整合しており、
前記第2透明導電層は、前記第1コンタクトホール内で、前記ドレイン電極と接し、これによって、前記第2透明導電層と前記ドレイン電極とが接するコンタクト部が形成されており、
前記基板の法線方向から見たとき、前記コンタクト部の少なくとも一部は、前記ゲート配線層と重なっており、
前記第1接続部は、前記第1下部導電層と、前記第1上部導電層と、前記第1上部導電層の上に延設された前記層間絶縁層および前記誘電体層と、前記誘電体層の上に形成され、前記第2透明導電層と同一の導電膜から形成された上部透明接続層と、前記層間絶縁層と前記誘電体層との間に形成され、前記第1透明導電層と同一の導電膜から形成された下部透明接続層とを備え、
前記層間絶縁層および前記誘電体層は第2コンタクトホールを有し、前記上部透明接続層は、前記第2コンタクトホール内で前記第1上部導電層の一部と接し、
前記誘電体層は第3コンタクトホールを有し、前記上部透明接続層は、前記第3コンタクトホール内で前記下部透明接続層の一部と接している半導体装置。 - 前記誘電体層は第5開口部を有し、前記第1絶縁層は第6開口部を有し、
前記第2コンタクトホールの側壁は、前記第5開口部の側面と前記第6開口部の側面とを含み、前記第6開口部の側面の少なくとも一部は、前記第5開口部の側面と整合している請求項3に記載の半導体装置。 - 前記半導体層は酸化物半導体層である請求項1から4のいずれかに記載の半導体装置。
- 前記酸化物半導体層はIGZO層である請求項5に記載の半導体装置。
- 前記基板の法線方向から見たとき、前記コンタクト部の全体が、前記ゲート配線層と重なっている請求項1から6のいずれかに記載の半導体装置。
- 前記基板上に形成された端子部をさらに備え、
前記ゲート配線層は第2下部導電層を含み、
前記ソース配線層は、前記第2下部導電層に接して形成された第2上部導電層を含み、
前記端子部は、前記第2下部導電層と、前記第2上部導電層と、前記第2上部導電層の上に延設された前記第1絶縁層および前記誘電体層と、前記誘電体層の上に形成され、前記第2透明導電層と同一の導電膜から形成された外部接続層とを備え、
前記第1絶縁層および前記誘電体層は第4コンタクトホールを有し、前記第4コンタクトホールの側壁において、前記第1絶縁層および前記誘電体層の側面は整合しており、
前記外部接続層は、前記第4コンタクトホール内で前記第2上部導電層の一部と接している請求項1から7のいずれかに記載の半導体装置。 - 前記半導体層と前記ソースおよびドレイン電極との間に、前記半導体層の少なくともチャネル領域となる部分と接して形成された保護層をさらに備える請求項1から8のいずれかに記載の半導体装置。
- 前記基板の法線方向から見たとき、前記コンタクト部の少なくとも一部は、前記ゲート配線または前記ゲート電極と重なっている請求項1から9のいずれかに記載の半導体装置。
- 請求項1から10のいずれかに記載の半導体装置と、
前記半導体装置と対向するように配置された対向基板と、
前記対向基板と前記半導体装置との間に配置された液晶層と
を備え、
マトリクス状に配置された複数の画素を有し、
前記第2透明導電層は、画素毎に分離され、画素電極として機能する表示装置。 - 前記第1透明導電層は、各画素の略全体を占めている請求項11に記載の表示装置。
- 前記第2透明導電層は、画素内に、スリット状の複数の開口部を有し、
前記第1透明導電層は、少なくとも前記複数の開口部の下方に存在し、共通電極として機能する請求項11または12に記載の表示装置。 - 薄膜トランジスタを備えた半導体装置の製造方法であって、
(A)基板上に薄膜トランジスタを形成する工程であって、ゲート配線およびゲート電極を含むゲート配線層と、前記ゲート電極の上に形成されたゲート絶縁層と、前記ゲート絶縁層の上に形成された半導体層と、ソース電極及びドレイン電極を含むソース配線層とを形成する工程を含む、工程と、
(B)前記薄膜トランジスタを覆う層間絶縁層を形成する工程であって、前記層間絶縁層は、少なくとも前記ドレイン電極と接する第1絶縁層と、第2絶縁層とを含んでおり、
無機絶縁膜を用いて前記第1絶縁層を形成する工程と、
前記第1絶縁層上に、有機絶縁膜を用いて前記第2絶縁層を形成する工程と、
前記第2絶縁層に、前記第1絶縁層の一部を露出する第4開口部を形成する工程と
を含む、工程と、
(C)前記層間絶縁層の上に、第1開口部を有する第1透明導電層を形成する工程と、
(D)前記第1透明導電層上、前記第1開口部内および前記第4開口部内に、誘電体層を形成する工程と、
(E)前記誘電体層および前記第1絶縁層がエッチングされ、かつ、前記第2絶縁層はエッチングされない条件で、前記誘電体層および前記第1絶縁層を同時にエッチングすることにより、前記誘電体層に第2開口部、前記第1絶縁層に第3開口部をそれぞれ形成し、これにより、前記ドレイン電極の一部を露出する第1コンタクトホールを形成する工程であって、
前記第1コンタクトホールの側壁は、前記第2開口部の側面、前記第3開口部の側面および前記第4開口部の側面を含み、かつ、前記第2開口部の側面と前記第3開口部の側面とが整合する第1の側壁部分と、前記第4開口部の側面と前記第3開口部の側面とが整合する第2の側壁部分とを有しており、前記第1開口部の側面は前記誘電体層で覆われて、前記第1コンタクトホールの側壁に露出しない、工程と、
(F)前記誘電体層上および前記第1コンタクトホール内に、前記第1コンタクトホール内で前記ドレイン電極と接する第2透明導電層を形成する工程と
を包含し、
前記基板の法線方向から見たとき、前記第1コンタクトホール内における前記ドレイン電極と前記第2透明導電層とが接するコンタクト部の少なくとも一部は、前記ゲート配線層と重なっている半導体装置の製造方法。 - 前記半導体層は酸化物半導体層である請求項14に記載の半導体装置の製造方法。
- 前記酸化物半導体層はIGZO層である請求項15に記載の半導体装置の製造方法。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2013544317A JP5899237B2 (ja) | 2011-11-18 | 2012-11-15 | 半導体装置、表示装置、ならびに半導体装置の製造方法 |
Applications Claiming Priority (4)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2011253342 | 2011-11-18 | ||
JP2011253342 | 2011-11-18 | ||
JP2013544317A JP5899237B2 (ja) | 2011-11-18 | 2012-11-15 | 半導体装置、表示装置、ならびに半導体装置の製造方法 |
PCT/JP2012/079669 WO2013073619A1 (ja) | 2011-11-18 | 2012-11-15 | 半導体装置、表示装置、ならびに半導体装置の製造方法 |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JPWO2013073619A1 JPWO2013073619A1 (ja) | 2015-04-02 |
JP5899237B2 true JP5899237B2 (ja) | 2016-04-06 |
Family
ID=48429673
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP2013544317A Expired - Fee Related JP5899237B2 (ja) | 2011-11-18 | 2012-11-15 | 半導体装置、表示装置、ならびに半導体装置の製造方法 |
Country Status (5)
Country | Link |
---|---|
US (2) | US9599871B2 (ja) |
JP (1) | JP5899237B2 (ja) |
CN (1) | CN103946742B (ja) |
TW (1) | TWI536578B (ja) |
WO (1) | WO2013073619A1 (ja) |
Families Citing this family (25)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
KR102198111B1 (ko) | 2013-11-04 | 2021-01-05 | 삼성디스플레이 주식회사 | 박막 트랜지스터 표시판 및 그 제조 방법 |
KR102354376B1 (ko) * | 2013-11-04 | 2022-01-21 | 삼성디스플레이 주식회사 | 박막 트랜지스터 표시판 및 그 제조 방법 |
KR102256312B1 (ko) * | 2014-02-12 | 2021-05-27 | 삼성디스플레이 주식회사 | 박막 트랜지스터 기판, 이를 갖는 액정 표시 패널 및 이의 제조방법 |
CN106415801B (zh) | 2014-06-03 | 2019-12-13 | 夏普株式会社 | 半导体装置及其制造方法 |
US9869917B2 (en) * | 2014-08-07 | 2018-01-16 | Sharp Kabushiki Kaisha | Active matrix substrate and method for manufacturing the same |
CN104216186B (zh) * | 2014-08-15 | 2018-01-26 | 京东方科技集团股份有限公司 | 阵列基板及其制造方法、显示装置 |
JP6259120B2 (ja) | 2014-11-28 | 2018-01-10 | シャープ株式会社 | 半導体装置およびその製造方法 |
CN110262149B (zh) * | 2015-02-12 | 2022-06-21 | 群创光电股份有限公司 | 显示面板 |
KR102356827B1 (ko) * | 2015-03-04 | 2022-02-03 | 삼성디스플레이 주식회사 | 박막 트랜지스터 기판 및 그 제조 방법 |
CN104777650B (zh) * | 2015-04-22 | 2018-10-30 | 京东方科技集团股份有限公司 | Tft阵列基板、其制作方法、液晶显示面板及显示装置 |
CN105097834B (zh) * | 2015-07-06 | 2017-10-17 | 合肥京东方光电科技有限公司 | 一种阵列基板及其制造方法、显示装置 |
CN108028202B (zh) * | 2015-09-24 | 2021-05-25 | 夏普株式会社 | 半导体装置及其制造方法 |
TWI597830B (zh) * | 2016-05-13 | 2017-09-01 | 群創光電股份有限公司 | 顯示裝置 |
US20210294138A1 (en) * | 2016-09-27 | 2021-09-23 | Sharp Kabushiki Kaisha | Active matrix substrate and method for manufacturing same |
WO2018074324A1 (ja) * | 2016-10-19 | 2018-04-26 | シャープ株式会社 | アクティブマトリクス基板およびその製造方法 |
CN106756877B (zh) * | 2016-12-13 | 2019-02-19 | 武汉华星光电技术有限公司 | C轴结晶igzo薄膜及其制备方法 |
TWI621250B (zh) * | 2017-04-19 | 2018-04-11 | 友達光電股份有限公司 | 軟性面板及其製作方法 |
CN107422509B (zh) * | 2017-06-20 | 2019-06-04 | 武汉华星光电技术有限公司 | 阵列基板、显示面板及显示器 |
CN107481686B (zh) * | 2017-08-21 | 2020-03-10 | 武汉华星光电技术有限公司 | 改善液晶面板显示状态的方法、液晶面板及液晶显示器 |
KR102544031B1 (ko) * | 2017-12-29 | 2023-06-16 | 엘지디스플레이 주식회사 | 표시장치용 어레이 기판 및 그 제조 방법 |
TWI668823B (zh) * | 2018-08-09 | 2019-08-11 | 欣興電子股份有限公司 | 散熱基板及其製作方法與晶片封裝結構 |
US10989946B2 (en) * | 2019-02-21 | 2021-04-27 | Innolux Corporation | Electronic modulating device |
JP6884839B2 (ja) * | 2019-10-21 | 2021-06-09 | 株式会社ジャパンディスプレイ | 液晶表示装置 |
JP7284121B2 (ja) * | 2020-03-23 | 2023-05-30 | 株式会社東芝 | アイソレータ |
KR102490030B1 (ko) * | 2020-12-28 | 2023-01-18 | 삼성디스플레이 주식회사 | 박막 트랜지스터 표시판 및 그 제조 방법 |
Family Cites Families (17)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
KR100482468B1 (ko) | 2000-10-10 | 2005-04-14 | 비오이 하이디스 테크놀로지 주식회사 | 프린지 필드 구동 액정 표시 장치 |
JP4162890B2 (ja) * | 2001-12-27 | 2008-10-08 | 株式会社日立製作所 | 液晶表示装置 |
KR100966453B1 (ko) * | 2005-12-30 | 2010-06-28 | 엘지디스플레이 주식회사 | 액정표시소자 제조방법 |
JP2007248903A (ja) * | 2006-03-16 | 2007-09-27 | Epson Imaging Devices Corp | 液晶表示装置及び液晶表示装置の製造方法 |
JP4449953B2 (ja) | 2006-07-27 | 2010-04-14 | エプソンイメージングデバイス株式会社 | 液晶表示装置 |
JP4356750B2 (ja) * | 2007-01-25 | 2009-11-04 | エプソンイメージングデバイス株式会社 | 液晶表示装置及びその製造方法 |
CN101373299B (zh) * | 2007-08-21 | 2010-11-10 | 北京京东方光电科技有限公司 | Ffs薄膜晶体管液晶显示器像素结构及其制造方法 |
TWI341033B (en) * | 2007-10-31 | 2011-04-21 | Au Optronics Corp | Pixel structure and method for manufacturing the same |
JP5192941B2 (ja) * | 2008-08-25 | 2013-05-08 | 株式会社ジャパンディスプレイイースト | 液晶表示装置 |
JP5553513B2 (ja) * | 2009-02-09 | 2014-07-16 | 株式会社ジャパンディスプレイ | 液晶表示装置及びその製造方法 |
JP2010230744A (ja) | 2009-03-26 | 2010-10-14 | Videocon Global Ltd | 液晶表示装置及びその製造方法 |
CN101957529B (zh) * | 2009-07-16 | 2013-02-13 | 北京京东方光电科技有限公司 | Ffs型tft-lcd阵列基板及其制造方法 |
CN102473734B (zh) | 2009-07-31 | 2015-08-12 | 株式会社半导体能源研究所 | 半导体装置及其制造方法 |
KR102389975B1 (ko) * | 2009-09-04 | 2022-04-25 | 가부시키가이샤 한도오따이 에네루기 켄큐쇼 | 발광 장치 및 발광 장치를 제작하기 위한 방법 |
JP5280988B2 (ja) * | 2009-11-09 | 2013-09-04 | 株式会社ジャパンディスプレイ | 液晶表示装置の製造方法 |
KR101284709B1 (ko) * | 2010-09-20 | 2013-07-16 | 엘지디스플레이 주식회사 | 액정 표시장치와 이의 제조방법 |
KR20200052993A (ko) | 2010-12-03 | 2020-05-15 | 가부시키가이샤 한도오따이 에네루기 켄큐쇼 | 산화물 반도체막 및 반도체 장치 |
-
2012
- 2012-11-15 CN CN201280056837.7A patent/CN103946742B/zh active Active
- 2012-11-15 WO PCT/JP2012/079669 patent/WO2013073619A1/ja active Application Filing
- 2012-11-15 JP JP2013544317A patent/JP5899237B2/ja not_active Expired - Fee Related
- 2012-11-15 US US14/358,778 patent/US9599871B2/en active Active
- 2012-11-16 TW TW101142935A patent/TWI536578B/zh not_active IP Right Cessation
-
2017
- 2017-02-03 US US15/423,759 patent/US10288965B2/en active Active
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
TWI536578B (zh) | 2016-06-01 |
TW201330276A (zh) | 2013-07-16 |
JPWO2013073619A1 (ja) | 2015-04-02 |
CN103946742B (zh) | 2016-08-31 |
CN103946742A (zh) | 2014-07-23 |
US9599871B2 (en) | 2017-03-21 |
US10288965B2 (en) | 2019-05-14 |
US20150168758A1 (en) | 2015-06-18 |
WO2013073619A1 (ja) | 2013-05-23 |
US20170146838A1 (en) | 2017-05-25 |
Similar Documents
Publication | Publication Date | Title |
---|---|---|
JP5899237B2 (ja) | 半導体装置、表示装置、ならびに半導体装置の製造方法 | |
WO2013073635A1 (ja) | 半導体装置及び表示装置 | |
JP6026433B2 (ja) | 半導体装置、表示装置、ならびに半導体装置の製造方法 | |
EP2511896B1 (en) | Semiconductor device and method for producing same | |
KR101055011B1 (ko) | 액티브 매트릭스 기판 및 그것을 구비한 액정 표시 장치 | |
US9583510B2 (en) | Semiconductor device, display device, and method for manufacturing semiconductor device | |
JP5392670B2 (ja) | 液晶表示装置及びその製造方法 | |
US20130222726A1 (en) | Liquid crystal display device and method of fabricating the same | |
JP6526215B2 (ja) | 半導体装置およびその製造方法 | |
KR101323477B1 (ko) | 액정표시장치 및 그 제조 방법 | |
WO2017090477A1 (ja) | 半導体装置および半導体装置の製造方法 | |
JP2015145907A (ja) | 表示装置の製造方法 | |
TWI490615B (zh) | 用於邊緣電場切換模式液晶顯示裝置的陣列基板及其製造方法 | |
KR20120007323A (ko) | 고 개구율을 갖는 액정표시장치 및 그 제조 방법 | |
KR20070115235A (ko) | 개구율이 향상된 표시 장치 및 그 제조 방법 | |
TW201843515A (zh) | 薄膜電晶體及其形成方法與應用其之畫素結構 | |
KR20090051944A (ko) | 액정표시장치용 어레이기판의 제조방법 |
Legal Events
Date | Code | Title | Description |
---|---|---|---|
A131 | Notification of reasons for refusal |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131 Effective date: 20150331 |
|
A521 | Request for written amendment filed |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523 Effective date: 20150528 |
|
A131 | Notification of reasons for refusal |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131 Effective date: 20151104 |
|
A521 | Request for written amendment filed |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523 Effective date: 20151210 |
|
TRDD | Decision of grant or rejection written | ||
A01 | Written decision to grant a patent or to grant a registration (utility model) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A01 Effective date: 20160209 |
|
A61 | First payment of annual fees (during grant procedure) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A61 Effective date: 20160307 |
|
R150 | Certificate of patent or registration of utility model |
Ref document number: 5899237 Country of ref document: JP Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R150 |
|
LAPS | Cancellation because of no payment of annual fees |