JP5881828B2 - 親水性の変性アクリル樹脂膜 - Google Patents

Description

本発明は、防曇性、防汚性に優れ、透明性にも優れる親水性の変性アクリル樹脂膜および該変性アクリル樹脂膜が積層された積層体に関する。

近年、プラスチックなどの有機材料、及びガラスなどの無機材料から形成される基材の曇り、汚れに対する改善要求が高まってきている。

曇りの問題を解決する方法として、反応性界面活性剤、アクリル系オリゴマーを含む防曇塗料により、親水性、吸水性を向上する方法が提案されている（例えば、非特許文献１参照。）。また、汚れの問題を解決する手段として、材料表面の親水性を向上させることによって、外壁等に付着した外気疎水性物質などの汚れを散水又は降雨により浮き上がらせて除去する方法が提案されている（例えば、非特許文献２及び３参照。）。

また、基材の表面に架橋重合性モノマー組成物を塗布し紫外線照射量をコントロールして不完全に重合した架橋ポリマーを形成させ、次いで親水性モノマーを塗布し再び紫外線を照射する事により親水モノマーを架橋ポリマーの表面にブロック又はグラフト重合させる親水性材料が提案されている（特許文献１および特許文献２）。

しかしながら、上記の単純な基材表面に親水性モノマーをブロック又はグラフト重合させる方法は、親水性基が表面にしか存在しないため、耐久性が低く長期間の使用に耐えない問題を抱えていた。

本発明者らは、上記問題を解決する手段として、特定のアニオン性親水基が膜内部から膜表面へ傾斜（偏析）し、表面付近にアニオン性親水基が高濃度で存在する単層膜を先に提案している（特許文献３および特許文献４）。

特開２００１−９８００７号公報 特開２０１１−２２９７３４号公報 国際公開第２００７／０６４００３号公報 国際公開第２０１２／０１４８２９号公報

東亜合成研究年報、ＴＲＥＮＤ１９９９年 ２月号、３９〜４４頁 高分子，４４（５），３０７頁 未来材料，２（１），３６−４１頁

本発明者らは、先願（特許文献３および特許文献４）の親水性をさらに高めつつ耐久性も向上させることにより、長期間使用にも耐える高性能の防曇性、防汚性、結露防止性などを有する親水膜、該親水膜が積層された積層体を提供することを課題とする。

本発明者らは上記課題を解決すべく検討を重ねた結果、アニオン性親水基を有するアクリル樹脂系膜であって、表面におけるアニオン性親水基の濃度が、該アクリル樹脂系膜の表面から膜厚１／２の深さにおけるアニオン性親水基の濃度よりも高いアクリル樹脂系膜の、当該表面を、１分子内に１個以上のアニオン性親水基と１個以上の重合性炭素炭素二重結合を含む基、アミノ基、メルカプト基、または水酸基の何れかを有する化合物（Ａ）で処理すれば、さらに親水性が高くなるとともに耐久性をも向上させられることを見出し本発明に到達した。

すなわち、本発明は、アニオン性親水基を有するアクリル樹脂系膜であって、表面におけるアニオン性親水基の濃度が、該アクリル樹脂系膜の表面から膜厚１／２の深さにおけるアニオン性親水基の濃度よりも高いアクリル樹脂系膜の、当該表面を、１分子内にアニオン性親水基を１個以上と、重合性炭素炭素二重結合を含む基、アミノ基、メルカプト基、及び水酸基からなる群より選ばれる基を１個以上とを有する化合物（Ａ）で処理して得られる変性アクリル樹脂膜である。

本発明の親水膜は、親水性とともに耐久性も向上されており、長期間使用にも耐える高性能の防曇性、防汚性、結露防止性などを有する。

図１は、実施例における試料調製を説明するための図である。

本発明の変性アクリル樹脂膜は、アニオン性親水基を有するアクリル樹脂系膜から得られる変性アクリル樹脂膜であって、表面におけるアニオン性親水基の濃度が、該アクリル樹脂系膜の表面から膜厚１／２の深さにおけるアニオン性親水基の濃度よりも高いアクリル樹脂系膜の当該表面を、１分子内にアニオン性親水基を１個以上と重合性炭素炭素二重結合を含む基、アミノ基、メルカプト基、及び水酸基からなる群より選ばれる基を１個以上とを有する化合物（Ａ）で処理して得られる。

[表面におけるアニオン性親水基の濃度が、表面から膜厚１／２の深さにおけるアニオン性親水基の濃度よりも高いアクリル樹脂系膜]
本発明で用いられるアクリル樹脂系膜とは、表面におけるアニオン性親水基の濃度が、表面から膜厚１／２の深さにおけるアニオン性親水基の濃度よりも高いアクリル樹脂系膜であれば良い。本明細書ではこれを「アニオン性の親水基が傾斜した膜（傾斜膜）」ということがある。これらのアニオン性親水基が傾斜した膜としては、溶剤の蒸発を利用して表面にアニオン性親水基を傾斜させた高親水性の膜（特許文献３および特許文献４）が挙げられ、本発明の処理膜として好ましく用いられる。ここでアニオン性親水基とは、スルホン酸基、カルボキシル基またはリン酸基から選ばれる親水性の官能基を表し、これらの中では、表面の親水性が高くなるスルホン酸基が特に好ましい。

本発明に用いられる、表面におけるアニオン性親水基の濃度が、表面から膜厚１／２の深さにおけるアニオン性親水基の濃度よりも高いアクリル樹脂系膜（アニオン性親水基が傾斜した膜）のアニオン性親水基は、ＴＯＦ−ＳＩＭＳによって分析される。表面におけるアニオン性親水基の濃度が、表面から膜厚１／２の深さにおけるアニオン性親水基の濃度よりも高いことを通常以下のようにして表す。すなわち、アニオン濃度比（表面から膜厚の１／２の深さの地点のアニオン濃度Ｄａに対する膜表面のアニオン濃度Ｓａの濃度比）Ｓａ／Ｄａを用い、Ｓａ／Ｄａが１．０を超える場合に、表面におけるアニオン性親水基の濃度が、表面から膜厚１／２の深さにおけるアニオン性親水基の濃度よりも高い、とする。上記Ｓａ／Ｄａのことをアニオン性親水基の傾斜度ということがある。

本発明において、１分子内にアニオン性親水基を１個以上と重合性炭素炭素二重結合を含む基、アミノ基、メルカプト基、及び水酸基からなる群より選ばれる１個以上とを有する化合物（Ａ）で処理されるアクリル樹脂系膜は、アニオン性親水基の傾斜度（Ｓａ／Ｄａ）が１．１以上であるアクリル樹脂系の親水性傾斜膜が好ましく用いられる。また化合物（Ａ）で処理されるアクリル樹脂系傾斜膜の表面の親水性は高い方が好ましく、水接触角で表すと３０°以下が好ましく、２０°以下であればより好ましく、１０°以下であればさらに好ましい。

本発明に用いられる、表面におけるアニオン性親水基の濃度が、表面から膜厚１／２の深さにおけるアニオン性親水基の濃度よりも高いアクリル樹脂系膜は、特許文献３または特許文献４に記載の方法により得ることができる。たとえば、２個以上の（メタ）アクリロイル基を有する多価単量体（ＩＩ）、少なくとも１つのアニオン性親水基と、重合性炭素炭素二重結合を含む基、アミノ基、メルカプト基、及び水酸基からなる群より選ばれる少なくとも１個とを有する化合物（Ａ'）（但し前記多価単量体（ＩＩ）を除く）と、例えば溶解度パラメータσ（ｃａｌ／ｃｍ³）が９．３以上、好ましくは９．５以上の化合物を含有する溶剤を含む混合物を作製する工程、その混合物を基材表面の少なくとも一方に塗布する工程、塗布した混合物から溶剤の少なくとも一部を除去する工程、及び上記工程を経た混合物を重合する工程を含む製造方法により製造することができる。

本発明に用いられるアクリル系膜は、表面および表面付近内部にアニオン性親水基が高濃度で存在しているため、親水性の化合物（Ａ）で処理した場合に、親水性の化合物（Ａ）と馴染み易く、表面では欠損なく処理が行われて多くのアニオン性親水基がグラフトされるとともに、表面付近の膜内部まで浸透して処理され易く膜内部までアニオン性親水基がグラフトされると想定される。従って、他材料を親水性の化合物（Ａ）で処理した膜に比べて、アニオン性親水基が傾斜した膜を化合物（Ａ）で処理した膜の方が、表面及び表面付近のアニオン性親水基の濃度が高くなり易く、これによってより親水性が飛躍的に高くなるとともに、表面が多少劣化・分解しても、表面付近内部のアニオン性親水基が表面のバックアップをするため親水性の低下が抑えられる（耐久性向上）と考えられる。また親水性と透明性などの物性とのバランスも良いものと考えられる。また化合物（Ａ）から得られた部分と、前記アクリル系膜との密着性にも優れる。

[化合物（Ａ）]
本発明の処理に用いられる化合物は、１分子内にアニオン性親水基を１個以上と重合性炭素炭素二重結合を含む基、アミノ基、メルカプト基、及び水酸基からなる群より選ばれる基を１個以上とを有する化合物（Ａ）である。化合物（Ａ）に結合される重合性炭素炭素二重結合とは、例えば（メタ）アクリロイルオキシ基、（メタ）アクリロイルチオ基、（メタ）アクリルアミド基、アリル基、ビニル基、またはイソプロペニル基から選ばれるラジカル重合性の官能基を表す。

これら化合物（Ａ）の中で、比較的に好ましい化合物として、
一般式（１）

（上記式（１）中、Ｄ₁は（メタ）アクリロイルオキシ基（ｑが１の場合のみ）、（メタ）アクリロイルチオ基（ｑが１の場合のみ）、（メタ）アクリルアミド基（ｑが１の場合のみ）、ビニル基、アリル基、イソプロペニル基、スチリル基、メルカプト基、アミノ基、メチルアミノ基、またはエチルアミノ基を表し、Ｚは、水素イオン、アンモニウムイオン、アミンイオン、アルカリ金属イオン、または１／２原子のアルカリ土類金属イオンを表す。Ｒは炭素数１〜６００の２価の脂肪族炭化水素基であって、芳香環、脂肪族環状基、エーテル基、およびエステル基から選ばれる１つ以上の基を含んでいても良い。ｑは０または１を表す）
または一般式（２）

（上記式（２）中、Ｒ₅およびＲ₆は水素原子またはメチル基、Ｒ₇は水素原子または炭素数１〜６のアルキル基を表す。Ｚは、水素イオン、アンモニウムイオン、アミンイオン、アルカリ金属イオン、または１／２原子のアルカリ土類金属イオンを表す。ｎ１は1〜１０の整数を表す。）
または、一般式（３）

（上記式（３）中、Ｄ₁は（メタ）アクリロイルオキシ基（ｑが１の場合のみ）、（メタ）アクリロイルチオ基（ｑが１の場合のみ）、（メタ）アクリルアミド基（ｑが１の場合のみ）、ビニル基、アリル基、イソプロペニル基、スチリル基、メルカプト基、アミノ基、メチルアミノ基、またはエチルアミノ基を表し、Ｚは、水素イオン、アンモニウムイオン、アミンイオン、アルカリ金属イオン、または１／２原子のアルカリ土類金属イオンを表す。Ｒは炭素数１〜６００の２価の脂肪族炭化水素基であって、芳香環、脂肪族環状基、エーテル基、およびエステル基から選ばれる１つ以上の基を含んでいても良い。ｑは０または１を表す）
または、一般式（４）

（上記式（４）中、Ｄ₂は（メタ）アクリロイルオキシ基、（メタ）アクリロイルチオ基、（メタ）アクリルアミド基、ビニル基、アリル基、イソプロペニル基、スチリル基、メルカプト基、アミノ基、メチルアミノ基、またはエチルアミノ基を表し、Ｚは、水素イオン、アンモニウムイオン、アミンイオン、アルカリ金属イオン、または１／２原子のアルカリ土類金属イオンを表す。Ｒは炭素数１〜６００の２価の脂肪族炭化水素基であって、芳香環、脂肪族環状基、エーテル基、およびエステル基から選ばれる１つ以上の基を含んでいても良い。ａおよびｂは１または２の整数を表し、ａ＋ｂ＝３を満足する。ａが２である場合、Ｄ₂同士、Ｒ同士は互いに同一でも異なっていても良い。ｂが２である場合、Ｚ同士は互いに同一でも異なっていても良い。）
または、一般式（５）

（上記式（５）中、Ｄ₃、Ｒ₃およびＳＯ₃Ｚは上記式中に含まれる環上の炭素に結合する基であり、Ｄ₃は、それぞれ独立して、ビニル基、アリル基、イソプロペニル基、スチリル基、メルカプト基、アミノ基、メチルアミノ基、エチルアミノ基、または水酸基を表し、Ｚは、水素イオン、アンモニウムイオン、アミンイオン、アルカリ金属イオン、または１／２原子のアルカリ土類金属イオンを表し、Ｒ₃は、それぞれ独立して、Ｈ，メチル基、エチル基、メトキシ基、エトキシ基、フッ素原子、塩素原子、臭素原子、またはヨウ素原子を表す。ｋは０〜１０の整数、ｌおよびｍは独立して１〜１１の整数を表す。但しｋ＋ｌ＋ｍ＝２〜６＋２ｎである。ｎは０〜３の整数を表す。ｌが２以上である場合、Ｄ₃同士は互いに同一でも異なっていてもよく、ｋが２以上である場合、Ｒ₃同士は互いに同一でも異なっていても良く、ｍが２以上である場合、Ｚ同士は互いに同一でも異なっていても良い。但し、一般式（１）で表される化合物は除かれることが望ましい。）
または、一般式（６）

（上記式（６）中、Ｄ₃、Ｒ₃およびＳＯ₃Ｚは上記式中に含まれる環上の炭素に結合する基であり、Ｄ₃は、それぞれ独立して、ビニル基、アリル基、イソプロペニル基、スチリル基、メルカプト基、アミノ基、メチルアミノ基、エチルアミノ基、または水酸基を表し、Ｚは、水素イオン、アンモニウムイオン、アミンイオン、アルカリ金属イオン、または１／２原子のアルカリ土類金属イオンを表し、Ｒ₃は、それぞれ独立して、Ｈ，メチル基、エチル基、メトキシ基、エトキシ基、フッ素原子、塩素原子、臭素原子、またはヨウ素原子を表す。ｒは０〜６の整数、ｑおよびｐは独立して１〜７の整数を表すが、ｐ＋ｑ＋ｒ＝２〜８の整数である。ｐが２以上の場合、Ｄ₃同士は互いに同一でも異なっていても良く、ｒが２以上の場合、Ｒ₃同士は互いに同一でも異なっていても良く、ｑが２以上の場合、Ｚ同士は互いに同一でも異なっていても良い。）
で表わされる化合物が挙げられる。

なお、上記式（５）中、ｋ、ｌ、ｍ、ｎについて言い換えると、ｎは０〜３の整数であり、ｎ＝０のとき、ｋは０〜４の整数、ｌおよびｍは独立して１〜５の整数、ただしｋ＋ｌ＋ｍは２〜６の整数であり；ｎ＝１のとき、ｋは０〜６の整数、ｌおよびｍは独立して１〜７の整数、ただしｋ＋ｌ＋ｍは２〜８の整数であり；ｎ＝２のとき、ｋは０〜８の整数、ｌおよびｍは独立して１〜９の整数、ただしｋ＋ｌ＋ｍは２〜１０の整数であり；ｎ＝３のとき、ｋは０〜１０の整数、ｌおよびｍは独立して１〜１１の整数、ただしｋ＋ｌ＋ｍは２〜１２の整数である。

一般式（１）で表される化合物の中で、より好ましい化合物として、一般式（７）

（上記式（７）中、Ｄ₁は（メタ）アクリロイルオキシ基（ｘまたはｙの何れかが１以上の場合）、（メタ）アクリロイルチオ基（ｘまたはｙの何れかが１以上の場合）、（メタ）アクリルアミド基（ｘまたはｙの何れかが１以上の場合）、ビニル基、アリル基、イソプロペニル基、スチリル基、メルカプト基、アミノ基、メチルアミノ基、またはエチルアミノ基を表し、Ｚは、水素イオン、アンモニウムイオン、アミンイオン、アルカリ金属イオン、または１／２原子のアルカリ土類金属イオンを表す。Ｒ₁〜Ｒ₄は、それぞれ独立して、水素原子、炭素数１〜６のアルキル基、または炭素数１〜６のアルコキシ基を表す。
ｖおよびｙは、独立して０〜１０の整数を表し、ｗは０または１を表す（但し、ｖまたはｙの何れかが０の場合、ｗも０である。）。ｘは０〜１０の整数を表す。ｖが２以上である場合、Ｒ₁同士、Ｒ₂同士は互いに同一でも異なっていても良く、ｙが２以上である場合、Ｒ₃同士、Ｒ₄同士は互いに同一でも異なっていても良い。ｘが２以上である場合、Ｒ₁同士、Ｒ₂同士は互いに同一でも異なっていても良い。）
で表される化合物が挙げられる。

一般式（７）で表される化合物の中で、ｖ＝ｗ＝ｘ＝０であり、ｙ＝１〜１０の整数である化合物が好ましく、ｖ＝ｗ＝ｘ＝０であり、ｙ＝１〜３の整数である化合物がより好ましく用いられる。

一般式（７）で表される代表的な化合物としては、例えば、２−（メタ）アクリロイルオキシエチルスルホン酸ナトリム、３−（メタ）アクリロイルオキシプロピルスルホン酸、３−（メタ）アクリロイルオキシプロピルスルホン酸リチウム、３−（メタ）アクリロイルオキシプロピルスルホン酸ナトリウム、３−（メタ）アクリロイルオキシプロピルスルホン酸カリウム、３−（メタ）アクリロイルオキシプロピルスルホン酸ルビジウム、３−（メタ）アクリロイルオキシプロピルスルホン酸アンモニウム、３−（メタ）アクリロイルオキシプロピルスルホン酸カルシウム、３−（メタ）アクリロイルオキシプロピルスルホン酸マクネシウム、５−（メタ）アクリロイルオキシ−３−オキサペンチルスルホン酸ナトリウム、２−（メタ）アクリロイルチオエチルスルホン酸ナトリム、２−（メタ）アクリルアミド−２−メチル−プロパンスルホン酸（（メタ）アクリルアミド−ｔ−ブチルスルホン酸）、２−（メタ）アクリルアミド−２−メチル−プロパンスルホン酸カリウム（（メタ）アクリルアミド−ｔ−ブチルスルホン酸カリウム）、ビニルスルホン酸ナトリウム、アリルスルホン酸カリウム、イソプロペニルスルホン酸、スチレンスルホン酸、スチレンスルホン酸ナトリウム、２−メルカプトエチルスルホン酸ナトリウム、３−メルカプトプロピルスルホン酸ナトリウム、８−メルカプト−３，６−ジオキサオクチルスルホン酸、アミノメタンスルホン酸、アミノメタンスルホン酸ナトリウム、アミノメタンスルホン酸カリウム、タウリン、タウリンナトリウム塩、タウリンカリウム塩、２−メチルアミノ−エタンスルホン酸ナトリウム、２−エチルアミノ−エタンスルホン酸ナトリウムなどが挙げられる。

一般式（２）で表される化合物として、例えば、２，２−ビス（（メタ）アクリロイルオキシメチル）酢酸−３−スルホプロピルエステル、２，２−ビス（（メタ）アクリロイルオキシメチル）酢酸−３−スルホプロピルエステルカリウム塩、２，２−ビス（（メタ）アクリロイルオキシメチル）酢酸−３−スルホエチルエステルカリウム塩、２，２−ビス（（メタ）アクリロイルオキシメチル）酢酸−３−スルホブチルエステルカリウム塩、２，２−ビス（（メタ）アクリロイルオキシメチル）酢酸−３−スルホヘキシルエステルカリウム塩、２，２−ビス（（メタ）アクリロイルオキシメチル）酢酸−３−スルホデシルエステルカリウム塩、２，２−ビス（（メタ）アクリロイルオキシメチル）プロピオン酸−２−スルホメチルエステルカリウム塩、２，２−ビス（（メタ）アクリロイルオキシメチル）プロピオン酸−２−スルホエチルエステルナトリウム塩、２，２−ビス（（メタ）アクリロイルオキシメチル）プロピオン酸−３−スルホプロピルエステル、２，２−ビス（（メタ）アクリロイルオキシメチル）プロピオン酸−３−スルホプロピルエステルナトリウム塩、２，２−ビス（（メタ）アクリロイルオキシメチル）プロピオン酸−３−スルホプロピルエステルカリウム塩、２，２−ビス（（メタ）アクリロイルオキシメチル）ブチルカルボン酸−３−スルホプロピルエステルカリウム塩、２，２−ビス（（メタ）アクリロイルオキシメチル）ヘキシルカルボン酸−３−スルホプロピルエステルカリウム塩などが挙げられる。

一般式（３）で表される化合物の中で、より好ましい化合物として、一般式（８）

（上記式（８）中、Ｄ₁は（メタ）アクリロイルオキシ基（ｘまたはｙの何れかが１以上の場合）、（メタ）アクリロイルチオ基（ｘまたはｙの何れかが１以上の場合）、（メタ）アクリルアミド基（ｘまたはｙの何れかが１以上の場合）、ビニル基、アリル基、イソプロペニル基、スチリル基、メルカプト基、アミノ基、メチルアミノ基、またはエチルアミノ基を表し、Ｚは、水素イオン、アンモニウムイオン、アミンイオン、アルカリ金属イオン、または１／２原子のアルカリ土類金属イオンを表す。Ｒ₁〜Ｒ₂は、それぞれ独立して、水素原子、炭素数１〜６のアルキル基、または炭素数１〜６のアルコキシ基を表す。ｖおよびｙは、独立して０〜１０の整数を表し、ｗは０または１を表す（但し、ｖまたはｙの何れかが０の場合、ｗも０である。）。ｘは０〜１０の整数を表す。ｖが２以上である場合、Ｒ₁同士、Ｒ₂同士は互いに同一でも異なっていても良く、ｙが２以上である場合、Ｒ₃同士、Ｒ₄同士は互いに同一でも異なっていても良い。ｘが２以上である場合、Ｒ₁同士、Ｒ₂同士は互いに同一でも異なっていても良い。）
で表される化合物が挙げられる。

一般式（８）で表される化合物の中で、ｖ＝ｗ＝ｘ０である化合物を、好ましい態様の一例として挙げることができる。

一般式（８）で表される代表的な化合物として、例えば、（メタ）アクリル酸、（メタ）アクリル酸ナトリウム、（メタ）アクリル酸カリウム、（メタ）アクリロイルオキシエチルカルボン酸、（メタ）アクリロイルオキシエチルカルボン酸ナトリウム塩、（メタ）アクリルアミドエチルカルボン酸、アリルカルボン酸、イソプロペニルカルボン酸、スチリルカルボン酸、チオグリコール酸、チオグリコール酸ナトリウム、３−メルカプトプロピオン酸、３−メルカプトプロピオン酸ナトリウム、Ｌ−アスパラギン酸、Ｌ−アスパラギン酸カリウム、Ｄ−アスパラギン酸ナトリウム、β−アラニンナトリウム、Ｌ−アルギニンカリウム、グリシンナトリウム、Ｌ−グルタミン酸ナトリウムＬ−シスチンカリウム、Ｌ−セリンカリウム、グリシルグリシンナトリウムなどが挙げられる。

一般式（４）で表される化合物の中で、より好ましい化合物として、一般式（９）

（上記式（９）中、Ｄ₁は（メタ）アクリロイルオキシ基、（メタ）アクリロイルチオ基、（メタ）アクリルアミド基、ビニル基、アリル基、イソプロペニル基、スチリル基、メルカプト基、アミノ基、メチルアミノ基、またはエチルアミノ基を表し、Ｚは、水素イオン、アンモニウムイオン、アミンイオン、アルカリ金属イオン、または１／２原子のアルカリ土類金属イオンを表す。Ｒ₁〜Ｒ₄は、それぞれ独立して、水素原子、炭素数１〜６のアルキル基、または炭素数１〜６のアルコキシ基を表す。ａおよびｂは１または２を表し、ａ＋ｂ＝３を満足する。ｃは１〜２０の整数を表し、ｄは１〜１０の整数を表す。ｃが２以上である場合、Ｒ₁同士、Ｒ₂同士は互いに同一でも異なっていても良く、ｄが２以上である場合、Ｒ₁同士、Ｒ₂同士は互いに同一でも異なっていても良い。ａが２である場合、Ｄ₁同士、Ｒ₁同士、Ｒ₂同士は互いに同一でも異なっていても良い。ｂが２である場合、Ｚ同士は互いに同一でも異なっていても良い。）
で表される化合物が挙げられる。

一般式（９）で表される代表的な化合物としては、例えば、（メタ）アクリロイルオキシメチルリン酸ナトリウム、（メタ）アクリロイルオキシエチルリン酸、（メタ）アクリロイルオキシエチルリン酸ナトリウム、ビス｛（メタ）アクリロイルオキシエチル｝リン酸カリウム、５−（メタ）アクリロイルオキシ−３−オキサペンチルリン酸カリウム、８−（メタ）アクリロイルオキシ−３，６−ジオキサオクチルリン酸ナトリウム、１１−（メタ）アクリロイルオキシ−３，６，９−トリオキサウンデシルリン酸カリウム、スチリルオキシエチルリン酸ナトリウム等が挙げられる。

一般式（５）で表される化合物としては、例えば、３−アミノベンゼンスルホン酸、４−アミノベンゼンスルホン酸ナトリウム塩、５−アミノトルエン−２−スルホン酸、４−アミノ−３−メトキシベンゼンスルホン酸ナトリウム塩、３−アミノ−４−メトキシベンゼンスルホン酸カリウム塩、７−アミノ−１，３−ナフタレンジスルホン酸モノカリウム塩、８−アミノ−１，３−ナフタレンジスルホン酸モノナトリウム塩、７−アミノ−１，３，６−ナフタレントリスルホン酸ジナトリウム塩、８−アミノ−１，３，６−ナフタレントリスルホン酸トリナトリウム塩、４−ヒドロキシベンゼンスルホン酸ナトリウム塩、４−ヒドロキシ−３−メトキシベンゼンスルホン酸カリウム塩、１，２−ジヒドロキシ−３，５−ベンゼンジスルホン酸ジナトリウム塩、２−ヒドロキシ−６，８−ナフタレンスルホン酸ジカリウム塩、８−ヒドロキシピレン−１，３，６−トリスルホン酸トリナトリウム塩などが挙げられる。これら化合物の中でも、４−アミノベンゼンスルホン酸ナトリウム塩、５−アミノトルエン−２−スルホン酸ナトリウム塩、７−アミノ−１，３−ナフタレンジスルホン酸モノカリウム塩、８−アミノ−１，３，６−ナフタレントリスルホン酸トリナトリウム塩、４−ヒドロキシベンゼンスルホン酸ナトリウム塩が好ましい。

上記一般式（６）で表される化合物としては、例えば、１−アミノアントラキノン−２−スルホン酸ナトリウム、１−アミノアントラキノン−４−スルホン酸ナトリウム、１−アミノアントラキノン−８−スルホン酸ナトリウム、１−アミノ−４−ブロモアントラキノン−２−スルホン酸ナトリウム、１−アミノ−２，４−ジヒドロキシアントラキノン−３−スルホン酸ナトリウムなどが挙げられる。これら化合物の中でも、１−アミノ−４−ブロモアントラキノン−２−スルホン酸ナトリウム、１−アミノ−２，４−ジヒドロキシアントラキノン−３−スルホン酸ナトリウムが好ましい。

[化合物（Ａ）での処理]
表面におけるアニオン性親水基の濃度が、表面から膜厚１／２の深さにおけるアニオン性親水基の濃度よりも高いアクリル樹脂系膜に、アニオン性親水基を有する化合物（Ａ）を含む溶液を塗布し、放射線照射または加熱することにより、表面に化合物（Ａ）をグラフト反応させることにより、その表面および表面付近内部アニオン性親水基濃度を向上させることにより、親水性をさらに高め防曇性を向上させることができる。化合物（Ａ）の傾斜膜へのグラフト反応について、代表例を以下に掲載する。

本発明に用いられる、表面におけるアニオン性親水基の濃度が、表面から膜厚１／２の深さにおけるアニオン性親水基の濃度よりも高いアクリル樹脂系膜は、特許文献３または特許文献４に記載の方法により得ることができる。たとえば、２個以上の（メタ）アクリロイル基を有する多価単量体（ＩＩ）、少なくとも１つのアニオン性親水基と、重合性炭素炭素二重結合を含む基、アミノ基、メルカプト基、及び水酸基からなる群より選ばれる少なくとも１個とを有する化合物（Ａ'）（但し前記多価単量体（ＩＩ）を除く）と、例えば溶解度パラメータσ（ｃａｌ／ｃｍ³）が９．３以上、好ましくは９．５以上の化合物を含有する溶剤を含む混合物を作製する工程、その混合物を基材表面の少なくとも一方に塗布する工程、塗布した混合物から溶剤の少なくとも一部を除去する工程、及び上記工程を経た混合物を重合する工程を含む製造方法により製造することができる。このように、変性アクリル樹脂膜の製造方法は、基材上に前記アクリル樹脂系膜を形成する工程を含むことが好ましい。

また、本発明に用いられる前記アクリル系膜は、例えば化合物（A'）や多官能単量体（II）を含む混合物を１回だけ塗布して、得ることが可能である。このことを指して「単層膜」と呼ぶこともある。本発明では前記アクリル系膜は単層膜であることが好ましい。

また、上記工程を経て得られた基材とアクリル樹脂系膜との積層体から基材を分離し、得られたアクリル樹脂系膜を親水性フィルムとして、別の基材に貼付したり積層したりしても良い。

前記２個以上の（メタ）アクリロイル基を有する多価単量体（ＩＩ）において、（メタ）アクリロイル基としては、例えば（メタ）アクリロイルオキシ基、（メタ）アクリロイルチオ基、及び（メタ）アクリルアミド基等が挙げられ、特に（メタ）アクリロイルオキシ基及び（メタ）アクリロイルチオ基が好ましい。多価単量体（ＩＩ）の中でより好ましい化合物を挙げるならば、例えば、１分子内に１個以上の水酸基と２個以上の（メタ）アクリロイル基を有する化合物、１分子内に１個以上のエーテル結合若しくはチオエーテル結合と２個以上の（メタ）アクリロイル基を有する化合物、（メタ）アクリレート基以外に１分子内に１個以上のエステル結合と２個以上の（メタ）アクリロイル基を有する化合物、１分子内に１個以上の脂肪族または芳香族の環構造と２個以上の（メタ）アクリロイル基を有する化合物、１分子内に１個以上のヘテロ環構造と２個以上の（メタ）アクリロイル基を有する化合物等が挙げられる。

より詳しくは特許文献３（国際公開第２００７／０６４００３号公報、出願人：三井化学株式会社、発明者：岡崎光樹他）の[００５７]〜[０１５０]に記載の化合物を挙げることができる。なお、この特許文献３に記載されている上記化合物の好ましい態様は本発明においても同様である。

また、少なくとも１つのアニオン性親水基と、重合性炭素炭素二重結合を含む基、アミノ基、メルカプト基、及び水酸基からなる群より選ばれる少なくとも１個とを有する化合物（Ａ'）としては、後述する化合物（Ａ）と同じ範囲のものを例として挙げることができ、（Ａ）における一般式（１）〜（６）と同じ範囲のものを好ましく挙げることができる。

またアクリル樹脂系膜の製造に当たっては、多価単量体（ＩＩ）、化合物（Ａ'）、上記溶剤とともに必要に応じて、重合開始剤、重合促進剤、紫外線吸収剤、ヒンダードアミン系光安定剤（ＨＡＬＳ）、触媒、紫外線吸収崎、ラジカル補足剤、内部離型剤、酸化防止剤、重合禁止剤、色素、バインダー、レベリング剤、等の添加剤が含まれていても良い。これら添加剤と多価単量体（ＩＩ）、化合物（Ａ'）、上記溶剤との合計１００重量部に対する、上記溶剤の割合は特に制限は無いが通常１重量部以上９９重量部以下であり、好ましくは５重量部以上９５重量部以下、更に好ましくは１０重量部以上９０重量部以下である。この段階で、上記以外に本発明の目的を損なわない範囲で、溶解度パラメータが前記範囲を満たさない溶媒がさらに含まれていても良い。また塗布した混合物から溶剤の少なくとも一部を除去する工程を経て、重合直前の（残存する全溶剤）の（塗布した混合物−除去された溶剤）に対する比は、好ましくは１０ｗｔ％以下、より好ましくは９ｗｔ％以下、さらにより好ましくは５ｗｔ％以下、特に好ましくは１ｗｔ％以下である。

通常の場合、例えば上記方法で得たアクリル系膜であれば、表面から膜厚１／２の深さの地点から膜表面方向に向かって、アニオン性親水基の濃度が高くなっていくと考えられる。

該傾斜膜に用いられている（Ａ'）としては、アニオン性親水基を有する（メタ）アクリレートとは、両親媒性の化合物であるよりもアルコールおよび水などの高極性溶剤のほうに溶け安い親水性化合物であることが好ましい。（Ａ'）としては、２５℃のシクロヘキサン：トルエン＝５：１（重量比）混合溶媒に対する溶解度が２４重量％以下、好ましくは１０重量％以下、さらに好ましくは３重量％以下であるものが、前記したいわゆる傾斜度（Ｓａ／Ｄａ）が前記範囲内であるものが容易に得られる点から好ましい。

これらアニオン性親水基を有する化合物（Ａ'）として好ましく用いられる化合物としては、例えば、一般式（１０）

（一般式（１０）中、Ｊは水素原子またはメチル基を表す。Ｒは炭素数１〜６００の２価の脂肪族炭化水素基であって、芳香環、脂肪族環状基、エーテル基、およびエステル基から選ばれる１つ以上の基を含んでいても良い。Ｚは、水素イオン、アンモニウムイオン、アミンイオン、アルカリ金属イオン、または１／２原子のアルカリ土類金属イオンを表す。）
で表される化合物、または一般式（１１）

（一般式（１１）中、Ｊは水素原子またはメチル基を表す。Ｒは炭素数１〜６００の２価の脂肪族炭化水素基であって、芳香環、脂肪族環状基、エーテル基、およびエステル基から選ばれる１つ以上の基を含んでいても良い。Ｚは、水素イオン、アンモニウムイオン、アミンイオン、アルカリ金属イオン、または１／２原子のアルカリ土類金属イオンを表す。ｎｎは０または１を表す。）
で表される化合物、または一般式（１２）

（一般式（１２）中、Ｊは水素原子またはメチル基を表す。Ｒは炭素数１〜６００の２価の脂肪族炭化水素基であって、芳香環、脂肪族環状基、エーテル基、およびエステル基から選ばれる１つ以上の基を含んでいても良い。Ｚは、水素イオン、アンモニウムイオン、アミンイオン、アルカリ金属イオン、または１／２原子のアルカリ土類金属イオンを表す。ａ、ｂはそれぞれ１または２を表し、ａ＋ｂ＝３である。ａが２の場合は、Ｊ同士，Ｒ同士は互いに同一でも異なっても良く、ｂが２である場合は、Ｚ同士は互いに同一でも異なっていても良い。）
で表される化合物などが挙げられる。

上記の一般式（１０）〜（１２）で表される化合物の中では、一般式（１０）で表される化合物が比較的に好ましい。

さらに、一般式（１０）で表される化合物の中でも、より好ましい化合物としては、例えば、一般式（１３）

（一般式（１３）中、Ｊは水素原子またはメチル基を表す。Ｒ₃およびＲ₄は、独立して、水素原子、メチル基、エチル基を表す。Ｚは、水素イオン、アンモニウムイオン、アミンイオン、アルカリ金属イオン、または１／２原子のアルカリ土類金属イオンを表す。ｍｍは１〜２０の整数を表す。ｍｍが２以上の場合、Ｒ₃同士、Ｒ₄同士は互いに同一でも異なっていても良い。ｍｍが例えば１〜１０、特には１〜３である化合物は、好ましい態様の一つである。）
で表される化合物、または一般式（１４）

（一般式（１４）中、Ｊは水素原子またはメチル基を表す。Ｒ₃およびＲ₄は、独立して、水素原子、メチル基、エチル基を表す。Ｚは、水素イオン、アンモニウムイオン、アミンイオン、アルカリ金属イオン、または１／２原子のアルカリ土類金属イオンを表す。ｍｍは１〜２０の整数を表し、ｌｌは２〜１０を表す。ｍｍが２以上の場合、Ｒ₃同士、Ｒ₄同士は互いに同一でも異なっていても良い。）
で表される化合物が挙げられる。

また、本発明に用いられる前記アクリル系膜（傾斜膜）の製造において、重合は、例えば照射線放射等により行うことができる。

また本発明で必要に応じて用いられる基材としては、例えば、ガラス、シリカ、金属、金属酸化物等の無基材料からなる基材、ポリメチルメタクリレート、ポリカーボネート、ポリエチレンテレフタレート、ポリエチレン、ポリプロピレン、ポリスチレン、ポリウレタン樹脂、エポキシ樹脂、塩化ビニル樹脂、シリコーン樹脂、紙、パルプ等の有基材料からなる基材、及びこれらの無機材料あるいは有基材料からなる基材の表面に塗装が施された、塗料硬化物層を有する基材等が挙げられる。

また、これら基材表面は必要に応じて、基材表面を活性化することを目的に、コロナ処理、オゾン処理、酸素ガスもしくは窒素ガス等を用いた低温プラズマ処理、グロー放電処理、化学薬品等による酸化処理、火炎処理等の物理的または化学的処理を施すこともできる。またこれら処理に替えてあるいはこれら処理に加えてプライマー処理、アンダーコート処理、アンカーコート処理を施してもよい。

上記プライマー処理、アンダーコート処理、アンカーコート処理に用いるコート剤としては、例えば、ポリエステル系樹脂、ポリアミド系樹脂、ポリウレタン系樹脂、エポキシ樹脂、フェノール系樹脂、（メタ）アクリル系樹脂、ポリ酢酸ビニル系樹脂、ポリエチレンおよびポリプロピレン等のポリオレフィン系樹脂またはその共重合体ないし変性樹脂、セルロース系樹脂等の樹脂をビヒクルの主成分とするコート剤を用いることができる。上記コート剤としては、溶剤型コート剤、水性型コート剤のいずれであってもよい。

これらコート剤の中でも、変性ポリオレフィン系コート剤、エチルビニルアルコール系コート剤、ポリエチレンイミン系コート剤、ポリブタジエン系コート剤、ポリウレタン系コート剤；
ポリエステル系ポリウレタンエマルジョンコート剤、ポリ塩化ビニルエマルジョンコート剤、ウレタンアクリルエマルジョンコート剤、シリコンアクリルエマルジョンコート剤、酢酸ビニルアクリルエマルジョンコート剤、アクリルエマルジョンコート剤；
スチレン−ブタジエン共重合体ラテックスコート剤、アクリルニトリル−ブタジエン共重合体ラテックスコート剤、メチルメタアクリレート−ブタジエン共重合体ラテックスコート剤、クロロプレンラテックスコート剤、ポリブタジェンラテックスのゴム系ラテックスコート剤、ポリアクリル酸エステルラテックスコート剤、ポリ塩化ビニリデンラテックスコート剤、ポリブタジエンラテックスコート剤、あるいはこれらラテックスコート剤に含まれる樹脂のカルボン酸変性物ラテックスもしくはディスパージョンからなるコート剤が好ましい。

これらコ−ト剤は、例えば、グラビアコ−ト法、リバ−スロ−ルコ−ト法、ナイフコ−ト法、キスコ−ト法などにより塗布することができ、基材への塗布量は、乾燥状態で、通常０．０５ｇ／ｍ²〜５ｇ／ｍ²である。

これらコート剤の中では、ポリウレタン系コート剤がより好ましい。ポリウレタン系のコート剤は、そのコート剤に含まれる樹脂の主鎖あるいは側鎖にウレタン結合を有するものである。ポリウレタン系コート剤は、例えば、ポリエステルポリオール、ポリエーテルポリオール、またはアクリルポリオールなどのポリオールとイソシアネート化合物とを反応させて得られるポリウレタンを含むコート剤である。

これらポリウレタン系コート剤の中でも、縮合系ポリエステルポリオール、ラクトン系ポリエステルポリオールなどのポリエステルポリオールとトリレンジイソシアネート、ヘキサメチレンジイソシアネート、キシレンジイソシアネート等のイソシアネート化合物とを混合して得られるポリウレタン系コート剤が、密着性に優れているため好ましい。

ポリオール化合物とイソシアネート化合物とを混合する方法は、特に限定されない。また配合比も特に制限されないが、イソシアネート化合物が少なすぎると硬化不良を引き起こす場合があるためポリオール化合物のＯＨ基とイソシアネート化合物のＮＣＯ基が当量換算で２／１〜１／４０の範囲であることが好適である。

本発明における基材では、上記表面活性化処理された基材面を含んでもよい。

本発明で用いるアクリル系膜は、通常表面の一方が、表面におけるアニオン性親水基の濃度が、表面から膜厚１／２の深さにおけるアニオン性親水基の濃度よりも高い。基材を使用した場合には、通常、基材と反対側の表面が、アニオン性親水基の濃度が、表面から膜厚１／２の深さにおけるアニオン性親水基の濃度よりも高い。いいかえると、通常、アクリル樹脂系膜は、基材と接している側と反対側の表面におけるアニオン性親水基の濃度が、該アクリル樹脂系膜の表面から膜厚１／２の深さにおけるアニオン性親水基の濃度よりも高い。

また本発明のＳａ／Ｄａは、１．２以上が好ましく、１．３以上がより好ましい。上限に制限は無く、通常は２０以下である。また本発明においてアクリル系膜のＳａ／Ｄａは、化合物（Ａ）による処理を行う前の値である。後述するように重合を完結しない状態で化合物（Ａ）による処理を行う場合は、Ｓａ／Ｄａは当該重合を完結しない状態での値である。

本発明の処理は、通常、上記傾斜膜表面に、化合物（Ａ）、溶剤、および必要に応じて界面活性剤（レベリング剤）が加えられた溶液を塗布し、溶剤乾燥後、放射線照射または加熱してグラフト化反応を行い、最後にグラフト反応に関与しなかった化合物（Ａ）を洗浄などにより除去することによって行われる。前記溶液の塗布に際しては、予め前記アクリル系膜（傾斜膜）に、放射線等を照射してラジカルを発生させてから前記溶液を塗布してもよく、前記アクリル系膜の製造時に、重合を完結させない状態にしておき、次に前記溶液を塗布しても良い。重合を完結させない状態とするには、例えば放射線量を、完全に硬化させる場合よりも適宜少なく抑えることで達成できる。

通常、（メタ）アクリル樹脂の重合度は残存（メタ）アクリル基の量から計算され、残存（メタ）アクリル基はＩＲにより＞Ｃ＝ＣＨ₂ピーク（８０８ｃｍ^-1の）を分析することにより定量可能である。

一般的に、（メタ）アクリル樹脂の重合度が凡そ１０ｍｏｌ％以下の著しく低い状態の膜では、グラフト処理の際に処理されるアクリル樹脂系膜が壊れてしまったり、グラフト処理液により膜表面および膜表面付近内部に傾斜したアニオン性親水基を有する親水性の（メタ）アクリレート（Ａ'）が溶出する場合があり好ましくない傾向にある。逆に、通常の放射線重合と同程度に重合を行い、重合度が例えば６０％を超えて高くなった状態の膜では、表面および表面付近内部のポリマーラジカル濃度が低下することによりグラフト化率が低下する（グラフト量の低下）傾向にあり、好ましくない。

従って、グラフト処理が行われるアクリル樹脂系傾斜膜の（メタ）アクリル基重合度は、凡そ３〜６０ｍｏｌ％が好ましく、２０〜６０ｍｏｌ％であればより好ましく、３５〜５５ｍｏｌ％であればさらに好ましい。

本発明で用いられる溶剤としては、溶解性の面から極性の高い溶剤が好ましく、例えば、メタノール、エタノール、イソプロパノール（ＩＰＡ）、ｎ−プロパノール、ｎ−ブタノール、エチレングリコールモノメチルエーテル（ＥＧＭ）、１，２−プロピレングリコールモノメチルエーテル（ＥＧＭ）等のアルコール、アセトニトリル、Ｎ，Ｎ−ジメチルホルムアミド（ＤＭＦ）等の含窒素溶剤、ジメチルスルホキシド（ＤＭＳＯ）、スルホラン等の含硫黄溶剤、水、及びそれらの混合溶剤などが挙げられる。これらの中では、溶解性が比較的に高いアルコール、水、およびこれらの混合溶剤が好ましく用いられる。さらに安全性の面も考慮すると、エタノール、水、およびそれらの混合溶剤がより好ましい。

溶剤に溶解される化合物（Ａ）の濃度は、選択した溶剤により異なるが、凡そ０．００１ｗｔ％〜飽和溶解度である。好ましくは０．０１〜５０ｗｔ％が好ましく、０．０１〜２０ｗｔ％がより好ましく、０．１〜１０ｗｔ％であればさらに好ましい。

必要に応じて用いられる界面活性剤（レベリング剤）は、主に塗液のハジキを防止する目的で添加される。例えば、アルキルカルボン酸およびそのアルカリ金属またはアルカリ土類金属塩、ポリオキシエチレンアルキルエーテルカルボン酸およびそのアルカリ金属またはアルカリ土類金属塩などのカルボン酸塩類、アルキルベンゼンスルホン酸およびそのアルカリ金属またはアルカリ土類金属塩、アルキルナフタレンスルホン酸およびそのアルカリ金属またはアルカリ土類金属塩、アルキルナフタレンスルホン酸のアルカリ金属またはアルカリ土類金属塩ホルマリン重縮合物、メラミンスルホン酸のアルカリ金属またはアルカリ土類金属塩ホルマリン重縮合物、ジアルキルスルホコハク酸エステルおよびそのアルカリ金属またはアルカリ土類金属塩、α−オレフィンスルホン酸およびそのアルカリ金属またはアルカリ土類金属塩、Ｎ−アシルッスルホン酸およびそのアルカリ金属またはアルカリ土類金属塩などのスルホン酸塩類、硫酸化油、アルキル硫酸のアルカリ金属またはアルカリ土類金属塩、アルキルエーテル硫酸のアルカリ金属またはアルカリ土類金属塩、ポリオキシエチレンアルキルエーテル硫酸のアルカリ金属またはアルカリ土類金属塩、アルキルアミド硫酸のアルカリ金属またはアルカリ土類金属塩などの硫酸エステル塩類、アルキルリン酸およびそのアルカリ金属またはアルカリ土類金属塩、ポリオキシエチレンアルキルエーテルリン酸およびそのアルカリ金属またはアルカリ土類金属塩、アルキルアリールエーテルリン酸およびそのアルカリ金属またはアルカリ土類金属塩などのリン酸エステル塩類、脂肪族アミン塩、４級アンモニウム塩、塩化ベンザルコニウム、塩化ベンゼトニウム、ピリジニウム塩、イミダゾリニウム塩などの陰イオン界面活性剤類、カルボキシベタイン、アミノカルボン酸塩、イミダゾリニウムベタイン、レシチン、アルキルアミンオキサイドなどの両性界面活性剤類、
ポリオキシエチレンアルキルおよびアリールエーテル、ポリオキシプロピレンアルキルおよびアリールエーテル、多価アルコールエステルのポリオキシエチレンアルキルおよびアリールエーテル、ポリエチレングリコール脂肪酸エステル、脂肪族アルカノールアミド、ポリオキシエチレン脂肪族アミドなどの非イオン界面活性剤、ＤＩＣ社製メガファック、三菱マテリアル電子化成社製エフトップ、旭硝子社製サーフロン、ネオス社製フタージェント、ダイキン工業社製ユニダイン、住友スリーエム社製フローラード、ディポン社製ゾニールなどのフッ素系界面活性剤、共栄社化学製アクアレン８０２０、アクアレンＨＳ−０１、アクアレンＳＢ−６３０、ポリフローＫＬ−１００、ポリフローＫＬ−８００、ポリフローＷＳ−３０などのシリコン系界面活性剤などが挙げられる。これらの中ではシリコン系界面活性剤が比較的に好ましい。

必要に応じて添加される界面活性剤の添加量は、化合物（Ａ）と溶剤の合計量に対して、凡そ０．０００１〜２０ｗｔ％、好ましくは０．００１〜１０ｗｔ％、さらに好ましくは０．０１〜５ｗｔ％の範囲である。

化合物（Ａ）が含まれる本発明の処理液は、化合物（Ａ）、溶剤、および界面活性剤（レベリング剤）の他に、例えば、ＵＶ重合開始剤、ラジカル（熱）重合開始剤、ＵＶ吸収剤、ＨＡＳＬＳ、フィラーなどの様々な有機化合物並びに無機化合物を本発明の目的を損なわない範囲で含んでもよい。

化合物（Ａ）が含まれる本発明の処理液を塗布する方法としては、例えば、デップコート法、かけ流しコート法、スプレーコート法、バーコート法、グラビアコート法、リバースロールコート法、ナイフコート法、キスコート法、スピンコート法など様々な方法が挙げられ、形状などに応じて適宜選択される。

塗布後の溶剤乾燥は、自然乾燥、エアガン、扇風機、ドライヤー、またはオーブンなど様々な方法が可能であるが、オーブンが好ましく用いられる傾向にある。オーブンを用いた場合の乾燥条件は凡そ３０〜１２０℃の範囲で例えば１分〜１０時間である。但し溶剤乾燥は必須ではなく、例えば、溶剤乾燥とグラフト化反応を同時に行ってもよいし、溶剤乾燥なしでグラフト化反応を行ってもよい。

アクリル樹脂系傾斜膜に化合物（Ａ）を放射線照射によりグラフトする場合、電子線または２００〜４００ｎｍの範囲のＵＶ（紫外線）が好ましく用いられ、凡そ１００〜５０００ｍＪ／ｃｍ²の照射エネルギー量でグラフト化される。

グラフト化反応を熱で行う場合、凡そ３０〜２５０℃の範囲で０．１〜２４時間加熱して行われる。

グラフト反応後に行われる処理膜（アクリル樹脂変性膜）の洗浄は、グラフト反応に関与しなかった化合物（Ａ）を処理膜（アクリル樹脂変性膜）から除く目的で行われ、水またはアルコールなどの高極性溶剤が好ましく用いられる。

本発明のアクリル樹脂系傾斜膜を化合物（Ａ）でグラフト処理することによって、アクリル樹脂系傾斜膜の親水性をさらに向上させ防曇性を向上させることができる。水接触角で表現すると凡そ１〜３０°の範囲で小さくする（親水化向上）ことができ、化合物（Ａ）で処理された変性アクリル樹脂膜の表面の水接触角は、通常１０°以下、好ましい場合は５°以下、より好ましい場合は４°以下となる。一般的に、非常に曇り易い脱衣場の化粧鏡などの曇り止めには、少なくとも水接触角５°以下の超親水化により水滴の生成を抑え（水薄膜化）、且つその状態を長時間維持しなければならない。

アニオン性親水基が傾斜したアクリル樹脂系親水性膜を化合物（Ａ）でグラフト処理する本発明の親水化処理により、水膜の形成が容易になり、且つその状態を比較的に長く保持できるため、高い防曇性が要求される防曇材料、防曇被膜（防曇コートとも言う）に有用である。また、本発明の変性アクリル系樹脂膜は、帯電防止性能も高いと考えられる。さらに耐擦傷性にも優れる傾向にあると考えられる。

本発明により得られる高親水性の変性アクリル樹脂膜は、ＰＥＴ、ＰＣ、ＰＭＭＡ、およびガラスなどの様々な基材に積層可能で、例えば該皮膜が積層された親水フィルムを防曇フィルムなどとして、ガラス、脱衣場、浴室などの鏡、ディスプレイ、テレビなどの表示画面、看板、広告、案内板などの表示板、鉄道、道路などの標識、建物の外壁及び内壁、窓ガラス等に容易に貼付することができる。

本発明により得られる変性アクリル樹脂膜は親水性に優れているため、防曇材料、防汚材料、結露防止材料、水滴防止材料、帯電防止材料などとしても有用である。例えば、ボディー、ホイール、外装材料、及び内装材料などの自動車、船舶、航空機に代表される輸送機器材料；外壁材料、内壁材料、床材料、家具材料、浴室材料、洗面化粧台材料、換気扇などのキッチン用資材材料、トイレ用資材料、配管内面および外面などの建築材料及び住宅資材；高速道路などに設置される遮音板などの建設材料；衣服、布及び繊維などの衣料材料；窓、鏡、光学フィルム、光ディスク、眼鏡、コンタクトレンズ、ゴーグル、反射フィルム、及び反射板などの光学材料；ランプ及びライトなどの照明材料；冷却フィンなどの産業資材；電化製品材料、配線材料、タッチパネルフラットパネルなどのディスプレイ材料、及びフォトレジストなどの電気・電子材料；インクジェット記録版、印刷・印字用プライマーなどの印刷基材；化粧品容器などの日用品材料；及びデンチャー等の歯科材料などの用途に用いることができる。

以上より、本発明は以下に関する。
［１］
アニオン性親水基を有するアクリル樹脂系膜から得られる変性アクリル樹脂膜であって、表面におけるアニオン性親水基の濃度が、該アクリル樹脂系膜の表面から膜厚１／２の深さにおけるアニオン性親水基の濃度よりも高いアクリル樹脂系膜の当該表面を、１分子内にアニオン性親水基を１個以上と重合性炭素炭素二重結合を含む基、アミノ基、メルカプト基、及び水酸基からなる群より選ばれる基を１個以上とを有する化合物（Ａ）で処理して得られる変性アクリル樹脂膜。
［２］
前記処理がグラフト処理である［１］記載の変性アクリル樹脂膜。
［３］
化合物（Ａ）が、一般式（１）〜（６）で表される化合物から選ばれる１種以上である［１］または［２］に記載の変性アクリル樹脂膜；
一般式（１）

（上記式（１）中、Ｄ１は（メタ）アクリロイルオキシ基（ｑが１の場合のみ）、（メタ）アクリロイルチオ基（ｑが１の場合のみ）、（メタ）アクリルアミド基（ｑが１の場合のみ）、ビニル基、アリル基、イソプロペニル基、スチリル基、メルカプト基、アミノ基、メチルアミノ基、またはエチルアミノ基を表し、Ｚは、水素イオン、アンモニウムイオン、アミンイオン、アルカリ金属イオン、または１／２原子のアルカリ土類金属イオンを表す。Ｒは炭素数１〜６００の２価の脂肪族炭化水素基であって、芳香環、脂肪族環状基、エーテル基、およびエステル基から選ばれる１つ以上の基を含んでいても良い。ｑは０または１を表す。）、
一般式（２）

（上記式（２）中、Ｒ₅およびＲ₆は水素原子またはメチル基、Ｒ₇は水素原子または炭素数１〜６のアルキル基を表す。Ｚは、水素イオン、アンモニウムイオン、アミンイオン、アルカリ金属イオン、または１／２原子のアルカリ土類金属イオンを表す。ｎ１は1〜１０の整数を表す。）、
一般式（３）

（上記式（３）中、Ｄ１は（メタ）アクリロイルオキシ基（ｑが１の場合のみ）、（メタ）アクリロイルチオ基（ｑが１の場合のみ）、（メタ）アクリルアミド基（ｑが１の場合のみ）、ビニル基、アリル基、イソプロペニル基、スチリル基、メルカプト基、アミノ基、メチルアミノ基、またはエチルアミノ基を表し、Ｚは、水素イオン、アンモニウムイオン、アミンイオン、アルカリ金属イオン、または１／２原子のアルカリ土類金属イオンを表す。Ｒは炭素数１〜６００の２価の脂肪族炭化水素基であって、芳香環、脂肪族環状基、エーテル基、およびエステル基から選ばれる１つ以上の基を含んでいても良い。ｑは０または１を表す。）、
一般式（４）

（上記式（４）中、Ｄ₂は（メタ）アクリロイルオキシ基、（メタ）アクリロイルチオ基、（メタ）アクリルアミド基、ビニル基、アリル基、イソプロペニル基、スチリル基、メルカプト基、アミノ基、メチルアミノ基、またはエチルアミノ基を表し、Ｚは、水素イオン、アンモニウムイオン、アミンイオン、アルカリ金属イオン、または１／２原子のアルカリ土類金属イオンを表す。Ｒは炭素数１〜６００の２価の脂肪族炭化水素基であって、芳香環、脂肪族環状基、エーテル基、およびエステル基から選ばれる１つ以上の基を含んでいても良い。ａおよびｂは１または２の整数を表し、ａ＋ｂ＝３を満足する。ａが２である場合、Ｄ₂同士、Ｒ同士は互いに同一でも異なっていても良い。ｂが２である場合、Ｚ同士は互いに同一でも異なっていても良い。）、
一般式（５）

（上記式（５）中、Ｄ₃、Ｒ₃およびＳＯ₃Ｚは上記式中に含まれる環上の炭素に結合する基であり、Ｄ₃は、それぞれ独立して、ビニル基、アリル基、イソプロペニル基、スチリル基、メルカプト基、アミノ基、メチルアミノ基、エチルアミノ基、または水酸基を表し、Ｚは、水素イオン、アンモニウムイオン、アミンイオン、アルカリ金属イオン、または１／２原子のアルカリ土類金属イオンを表し、Ｒ₃は、それぞれ独立して、Ｈ，メチル基、エチル基、メトキシ基、エトキシ基、フッ素原子、塩素原子、臭素原子、またはヨウ素原子を表す。ｋは０〜１０の整数、ｌおよびｍは独立して１〜１１の整数を表す。但しｋ＋ｌ＋ｍ＝２〜６＋２ｎである。ｎは０〜３の整数を表す。ｌが２以上である場合、Ｄ₃同士は互いに同一でも異なっていてもよく、ｋが２以上である場合、Ｒ₃同士は互いに同一でも異なっていても良く、ｍが２以上である場合、Ｚ同士は互いに同一でも異なっていても良い。）、
一般式（６）

（上記式（６）中、Ｄ₃、Ｒ₃およびＳＯ₃Ｚは上記式中に含まれる環上の炭素に結合する基であり、Ｄ₃は、それぞれ独立して、ビニル基、アリル基、イソプロペニル基、スチリル基、メルカプト基、アミノ基、メチルアミノ基、エチルアミノ基、または水酸基を表し、Ｚは、水素イオン、アンモニウムイオン、アミンイオン、アルカリ金属イオン、または１／２原子のアルカリ土類金属イオンを表し、Ｒ₃は、それぞれ独立して、Ｈ，メチル基、エチル基、メトキシ基、エトキシ基、フッ素原子、塩素原子、臭素原子、またはヨウ素原子を表す。ｒは０〜６の整数、ｑおよびｐは独立して１〜７の整数を表すが、ｐ＋ｑ＋ｒ＝２〜８の整数である。ｐが２以上の場合、Ｄ₃同士は互いに同一でも異なっていても良く、ｒが２以上の場合、Ｒ₃同士は互いに同一でも異なっていても良く、ｑが２以上の場合、Ｚ同士は互いに同一でも異なっていても良い。）
［４］
一般式（１）で表される化合物が、一般式（７）

（上記式（７）中、Ｄ１は（メタ）アクリロイルオキシ基（ｘまたはｙの何れかが１以上の場合）、（メタ）アクリロイルチオ基（ｘまたはｙの何れかが１以上の場合）、（メタ）アクリルアミド基（ｘまたはｙの何れかが１以上の場合）、ビニル基、アリル基、イソプロペニル基、スチリル基、メルカプト基、アミノ基、メチルアミノ基、またはエチルアミノ基を表し、Ｚは、水素イオン、アンモニウムイオン、アミンイオン、アルカリ金属イオン、または１／２原子のアルカリ土類金属イオンを表す。Ｒ₁〜Ｒ₄は、それぞれ独立して、水素原子、炭素数１〜６のアルキル基、または炭素数１〜６のアルコキシ基を表す。ｖおよびｙは、独立して０〜１０の整数を表し、ｗは０または１を表す（但し、ｖまたはｙの何れかが０の場合、ｗも０である。）。ｘは０〜１０の整数を表す。ｖが２以上である場合、Ｒ₁同士、Ｒ₂同士は互いに同一でも異なっていても良く、ｙが２以上である場合、Ｒ₃同士、Ｒ₄同士は互いに同一でも異なっていても良い。ｘが２以上である場合、Ｒ₁同士、Ｒ₂同士は互いに同一でも異なっていても良い。）
で表される化合物である［３］記載の変性アクリル樹脂膜。
［５］
基材と、［１］〜［４］のいずれかに記載の変性アクリル樹脂膜との積層体。
［６］
アニオン性親水基を有するアクリル樹脂系膜であって、表面におけるアニオン性親水基の濃度が、該アクリル樹脂系膜の表面から膜厚１／２の深さにおけるアニオン性親水基の濃度よりも高いアクリル樹脂系膜の、当該表面を、１分子内にアニオン性親水基を１個以上と重合性炭素炭素二重結合を含む基、アミノ基、メルカプト基、及び水酸基からなる群より選ばれる基を１個以上とを有する化合物（Ａ）で処理することを特徴とする、変性アクリル樹脂膜の製造方法。
［７］
基材上に前記アクリル樹脂系膜を形成する工程を含む［６］記載の変性アクリル樹脂膜の製造方法。
［８］
前記アクリル樹脂系膜は、基材と接している側と反対側の表面におけるアニオン性親水基の濃度が、該アクリル樹脂系膜の表面から膜厚１／２の深さにおけるアニオン性親水基の濃度よりも高いものである［７］記載の変性アクリル樹脂膜の製造方法。

［実施例］
以下、実施例等により本発明をさらに詳細に説明するが、本発明がこれら実施例のみに限定されるものではない。

なお、本発明において被膜の物性評価は、下記のようにして行った。

＜アクリル樹脂系膜(グラフトされる樹脂膜)の重合度の測定＞
アクリル樹脂系コーティング液を基材に塗布して溶剤乾燥し、ＵＶ照射前後の８０８ｃｍ^-1の＞Ｃ＝ＣＨ₂ピーク強度（ベースライン法）を測定し、以下の計算式により重合度を算出した。

重合度（ｍｏｌ％）＝（ＵＶ照射前のピーク強度−ＵＶ照射後のピーク強度）／ＵＶ照射前のピーク強度×１００
＜アニオン及びカチオン濃度比の測定＞
図１に示す試料調製の通りサンプルを斜めに切断し、飛行時間型２次イオン質量分析装置(ＴＯＦ−ＳＩＭＳ)を用いて、上記外表面のアニオン濃度（Ｓａ）と上記中間地点とのアニオン濃度（Ｄａ）とを測定し、その値から外気に接する膜の外表面と膜の内表面と外表面との中間地点のアニオン濃度比（Ｓａ／Ｄａ）を求めた。
（分析装置と測定条件）
ＴＯＦ−ＳＩＭＳ； ＩＯＮ・ＴＯＦ社製 ＴＯＦ−ＳＩＭＳ5
1次イオン； Ｂｉ₃₂ ⁺ (加速電圧２５ｋＶ)
測定面積； ４００μｍ²
測定には帯電補正用中和銃を使用
（試料調製等）
図１に示す通りに、基材１０の表面にコート層２０が設けられたサンプルを切削方向３０に向かって、精密斜め切削を行った後、１０×１０ｍｍ²程度の大きさに切り出し、測定面にメッシュを当て、サンプルホルダーに固定し、外気と接するコート層表面４０および膜の内部であるコート層内部５０（膜厚１／２の地点、基材１０に接するコート層の内表面）で飛行時間型２次イオン質量分析装置(ＴＯＦ−ＳＩＭＳ)を用いてアニオン濃度を測定した。
（評価）
評価は以下の計算式で行った。尚、各測定点のイオン濃度は、相対強度（トータル検出イオンに対する）を用いた。

Ｓａ／Ｄａ（アニオン濃度比，傾斜度）＝コート層表面４０でのアニオン濃度／コート層２０の膜厚１／２の地点でのアニオン濃度
＜水接触角の測定＞
協和界面科学社製の水接触角測定装置ＣＡ−Ｖ型を用いて、１サンプルについて３箇所測定し、これら値の平均値を水接触角の値とした。

＜ヘーズの測定＞
日本電色工業社製のヘーズメーターＮＤＨ２０００を用いて、１サンプルについて４箇所測定し、これら値の平均値をヘーズの値とした。

＜密着性の評価＞
碁盤目剥離試験により評価した。

＜防汚性の評価＞
ゼブラ（株）製の油性マーカー「マッキー極細」（黒，品番MO-120-MC-BK）でマークし、その上に水滴を垂らして３０秒間放置し、テッシュペーパーでふき取る。マークがふき取れた場合を〇、ふき取れずに残った場合を×とした。

＜呼気防曇性の評価＞
呼気により曇らなかった場合を〇、曇った場合を×とした。

＜ＡＦＡ−１による防曇性の評価＞
防曇性評価装置（協和界面科学，防曇性評価装置「ＡＦＡ−１」）を用い測定を行った。尚、評価は測定中に防曇指数が全て２以下を維持した場合を○、防曇指数が１回でも２を超えた場合を×とした。
ＡＦＡ−１の測定条件
水蒸気温度： ３５℃
測定室温度： １６℃
測定方法： １回／３秒の間隔で防曇指数を測定，０〜１５秒まではスタート時の状態を保持→１５秒〜１分１５秒は３５℃蒸気を連続吹きつけ→１分１５秒〜２分１５秒は蒸気を停止して強制乾燥
〔製造例１〕アニオン性親水基を有するコーティング表面（親水性膜）の製造
（コーティング溶液１の調製）
表１の配合比に従い、固形分６５ｗｔ％の均一なコーティング液１を調製した。

＜シクロヘキサン：トルエン＝５：１（重量比）に対する溶解度測定＞
シクロヘキサン８．３ｇとトルエン１．７ｇの混合溶液１０．０ｇに、本発明の傾斜膜を形成する親水性化合物ＳＰＡ−Ｋ：３−スルホプロピルアクリレートカリウム塩１．０ｇを添加して２５℃で１時間攪拌し、０．４５μｍのメンブランフィルターで濾過した。

得られた濾液を蒸発皿に入れて、１５０℃で２時間加熱乾燥し、室温まで冷却後、残渣の重量を測定した。

最後に、以下の計算式によりシクロヘキサン：トルエン＝５：１（重量比）に対する溶解度を求めた。

溶解度（ｗｔ％）＝残渣量（ｇ）／｛１０．０（ｇ）＋残渣量（ｇ）｝×１００
結果、溶解度は＜１ｗｔ％であった。
（表面におけるアニオン性親水基の濃度が、表面から膜厚１／２の深さ（以下「深部」ということがある）におけるアニオン性親水基の濃度よりも高い（いわゆる傾斜膜）の形成）
コーティング溶液１を基材となるポリカーボネート製シート（以下ＰＣ板と略す。）に、室温（２６℃−２０％ＲＨ）でバーコーター＃６で塗布して１分間静置（乾燥）し、ＵＶコンベアー（フュージョンＵＶシステムズ・ジャパン株式会社，無電極放電ランプ Ｈバルブ，出力５０％，コンベアー速度３０ｍ／分）を１回通過させて（積算光量９０ｍＪ／ｃｍ²）、ＰＣ板上に膜厚約５μｍの傾斜膜を形成させた。このコーティング膜のアクリル基重合度は５０ｍｏｌ％で、その他に物性測定およびＴＯＦ−ＳＩＭＳによる分析を行った。結果を表２に示す。

〔実施例１〕
先ず、製造例１で得られた膜表面をグラフト処理するための処理液を表３に従い調製した。

得られたグラフト処理液を製造例１のコーティング膜表面にバーコーター＃２０で塗布し、４０〜５０℃の温風乾燥機で２〜３分間乾燥した後、ＵＶコンベアー（フュージョンＵＶシステムズ・ジャパン株式会社，無電極放電ランプ Ｈバルブ，出力１００％，コンベアー速度６ｍ／分）を１回通過させて（積算光量９００ｍＪ／ｃｍ²）、コーティング膜表面のグラフト処理を行うとともに完全に膜を硬化させた。最後に得られた塗膜表面をポリウレタン製のスポンジで軽くこすりながら流水洗浄し、温風乾燥機で乾燥した後、室温まで冷却して被膜を完成させた。結果を表６に示す。

〔比較例１〕
グラフト処理液の塗布を行わずに、実施例１と同様に試験を行った。結果を表６に示す。

〔比較例２〕表面におけるアニオン性親水基の濃度が、表面から膜厚１／２の深さ（以下「深部」ということがある）におけるアニオン性親水基の濃度よりも高くない（傾斜していない）膜へのグラフト処理試験１
参考： 特開２００１−９８００７号公報， 川村理化学研究所
（使用化合物の説明）
「Ｍ−１１４」：ノニルフェノキシポリエチレングリコール（ｎ＝８）アクリレート（東亜合成化学株式会社製の「Ｍ−１１４」、ＨＬＢ値：１１．２５）
「Ｖ−４２６３」：平均分子量約２０００の３官能ウレタンアクリレートオリゴマー（大日本インキ化学工業株式会社製の「ユニディックＶ−４２６３」）
「ＨＤＤＡ」：１，６−ヘキサンジオールジアクリレート（第一工業製薬株式会社製の「ニューフロンティアＨＤＤＡ」）
「ＭＲ２００」：２−メタクリロイルオキシエチルアシッドホスフェート
（大八化学工業社製の「ＭＲ２００」）
「ＰＭＮＥ１０」：ポリエチレングリコールモノ−４−ノニルフェニルエーテル（ｎ′＝１０）（東京化成工業株式会社製の「ポリエチレングリコールモノ−４−ノニルフェニルエーテル（ｎ′＝１０）」）
「Ｉｒｇ．１８４」：１−ヒドロキシシクロヘキシルフェニルケトン（チバガイギー社製の「イルガキュアー１８４」）
（コーティング液の調製）
架橋重合性化合物として「Ｖ−４２６３」２０部および「ＨＤＤＡ」２０部、重合性化合物として「Ｍ１１４」６０部、ならびに光重合開始剤として「Ｉｒｇ．１８４」５部を混合してコーティング液を調製した。
（グラフト処理液の調製）
「ＰＭＮＥ１０」５部、親水性化合物として「ＭＲ２００」５部、および水９０部からなる溶液を調製し、親水性層形成材料とした。
（グラフト処理用コーティング膜の作製）
上記コーティング液を、 厚さ２ｍｍのＰＣ板にバーコーターで塗布し、実施例１の紫外線照射装置で２００ｍＪ／ｃｍ²（積算光量）紫外線を照射し、ＰＣ板上に塗膜を得た。

この塗膜のアクリル基重合度は６０ｍｏｌ％であった。
（グラフト処理）
次に、この塗膜が積層されたＰＣ板を上記で調製されたグラフト処理液中に１分間投入し、引き上げた後、再度上記の紫外線を１５００ｍＪ／ｃｍ²（積算光量）照射し、塗膜を完全に硬化させた。

得られた塗膜を流水で洗浄し、温風乾燥機で乾燥させて、室温まで冷却して被膜を完成させた。結果を表６に掲載する。

〔比較例３〕表面におけるアニオン性親水基の濃度が、表面から膜厚１／２の深さ（以下「深部」ということがある）におけるアニオン性親水基の濃度よりも高くない（傾斜していない）膜へのグラフト処理試験２
参考： 特開２０１１−２２９７３４号公報， 積水ホームテクノ
（コーティング液の調整）
下表４に従い、コーティング液を調製した。

（コーティング膜の作製）
上記の下塗り用コーティング液をスプレーガンで、設定乾燥膜厚が１２μｍ（ａｓ ｄｒｙ）になるように基材ＰＣ板上に塗布し、室温で３分間放置後、８０℃温風乾燥機に３分間設置して乾燥し、実施例１と同様にＵＶ照射（ランプ出力５０％，コンベアー速度３０ｍ／分，積算光量９０ｍＪ／ｃｍ²）、ＰＣ上コーティング膜を得た。
この膜アクリル基重合度は５０ｍｏｌ％であった。
（グラフト処理液の調製）
下記表５に従いグラフト処理液を調製した。

（グラフト処理）
ＰＣ上に作製されたコーティング膜表面に、表５のグラフト処理液で実施例１と同様に処理し、被膜を完成させた。結果を表６に掲載する。

〔参考例１〕コーティング液１からアニオン性親水モノマーを除いて行った試験
表１のコーティング溶液１の代わりに表７のコーティング溶液２を用いて実施例１と同様に試験を行った（グラフト処理前の膜のアクリル基重合度は５０ｍｏｌ％であった。）。

ＰＣ上に形成されたグラフト処理膜を有する積層体について、９０℃の熱水に浸漬して耐熱水性の評価を行った。実施例１および比較例１の積層体の結果とあわせて表８に掲載する。

実施例１、比較例１および参考例１で得られた膜について、９０°の熱水に１日、４日、９日または１４日浸漬して水接触角およびヘーズを測定した結果を表８に示す。

〔実施例２〜１７〕
表３のグラフト処理液を構成するアニオン性親水基を有する化合物（グラフト化合物）を変更して、実施例１と同様に試験した。結果を表９に掲載する。

〔参考例１〜６〕
表３のグラフト処理液を構成するアニオン性親水基を有する化合物（グラフト化合物）を変更して、参考例１と同様に試験した。結果を表１０に掲載する。

１０： 基材
２０： コート層
３０： 切削方向
４０： コート層表面
５０： コート層内部

Claims (8)

1. アニオン性親水基を有するアクリル樹脂系膜から得られる変性アクリル樹脂膜であって、表面におけるアニオン性親水基の濃度が、該アクリル樹脂系膜の表面から膜厚１／２の深さにおけるアニオン性親水基の濃度よりも高いアクリル樹脂系膜の当該表面を、１分子内にアニオン性親水基を１個以上と重合性炭素炭素二重結合を含む基、アミノ基、メルカプト基、及び水酸基からなる群より選ばれる基を１個以上とを有する化合物（Ａ）で処理して得られる変性アクリル樹脂膜。
2. 前記処理がグラフト処理である請求項１記載の変性アクリル樹脂膜。
3. 化合物（Ａ）が、一般式（１）〜（６）で表される化合物から選ばれる１種以上である請求項１または２に記載の変性アクリル樹脂膜；
   一般式（１）
   

   

   （上記式（１）中、Ｄ₁は（メタ）アクリロイルオキシ基（ｑが１の場合のみ）、（メタ）アクリロイルチオ基（ｑが１の場合のみ）、（メタ）アクリルアミド基（ｑが１の場合のみ）、ビニル基、アリル基、イソプロペニル基、スチリル基、メルカプト基、アミノ基、メチルアミノ基、またはエチルアミノ基を表し、Ｚは、水素イオン、アンモニウムイオン、アミンイオン、アルカリ金属イオン、または１／２原子のアルカリ土類金属イオンを表す。Ｒは炭素数１〜６００の２価の脂肪族炭化水素基であって、芳香環、脂肪族環状基、エーテル基、およびエステル基から選ばれる１つ以上の基を含んでいても良い。ｑは０または１を表す。）、
   一般式（２）
   

   

   （上記式（２）中、Ｒ₅およびＲ₆は水素原子またはメチル基、Ｒ₇は水素原子または炭素数１〜６のアルキル基を表す。Ｚは、水素イオン、アンモニウムイオン、アミンイオン、アルカリ金属イオン、または１／２原子のアルカリ土類金属イオンを表す。ｎ１は1〜１０の整数を表す。）、
   一般式（３）
   

   

   （上記式（３）中、Ｄ₁は（メタ）アクリロイルオキシ基（ｑが１の場合のみ）、（メタ）アクリロイルチオ基（ｑが１の場合のみ）、（メタ）アクリルアミド基（ｑが１の場合のみ）、ビニル基、アリル基、イソプロペニル基、スチリル基、メルカプト基、アミノ基、メチルアミノ基、またはエチルアミノ基を表し、Ｚは、水素イオン、アンモニウムイオン、アミンイオン、アルカリ金属イオン、または１／２原子のアルカリ土類金属イオンを表す。Ｒは炭素数１〜６００の２価の脂肪族炭化水素基であって、芳香環、脂肪族環状基、エーテル基、およびエステル基から選ばれる１つ以上の基を含んでいても良い。ｑは０または１を表す。）、
   一般式（４）
   

   

   （上記式（４）中、Ｄ₂は（メタ）アクリロイルオキシ基、（メタ）アクリロイルチオ基、（メタ）アクリルアミド基、ビニル基、アリル基、イソプロペニル基、スチリル基、メルカプト基、アミノ基、メチルアミノ基、またはエチルアミノ基を表し、Ｚは、水素イオン、アンモニウムイオン、アミンイオン、アルカリ金属イオン、または１／２原子のアルカリ土類金属イオンを表す。Ｒは炭素数１〜６００の２価の脂肪族炭化水素基であって、芳香環、脂肪族環状基、エーテル基、およびエステル基から選ばれる１つ以上の基を含んでいても良い。ａおよびｂは１または２の整数を表し、ａ＋ｂ＝３を満足する。ａが２である場合、Ｄ₂同士、Ｒ同士は互いに同一でも異なっていても良い。ｂが２である場合、Ｚ同士は互いに同一でも異なっていても良い。）、
   一般式（５）
   

   

   （上記式（５）中、Ｄ₃、Ｒ₃およびＳＯ₃Ｚは上記式中に含まれる環上の炭素に結合する基であり、Ｄ₃は、それぞれ独立して、ビニル基、アリル基、イソプロペニル基、スチリル基、メルカプト基、アミノ基、メチルアミノ基、エチルアミノ基、または水酸基を表し、Ｚは、水素イオン、アンモニウムイオン、アミンイオン、アルカリ金属イオン、または１／２原子のアルカリ土類金属イオンを表し、Ｒ₃は、それぞれ独立して、Ｈ，メチル基、エチル基、メトキシ基、エトキシ基、フッ素原子、塩素原子、臭素原子、またはヨウ素原子を表す。ｋは０〜１０の整数、ｌおよびｍは独立して１〜１１の整数を表す。但しｋ＋ｌ＋ｍ＝２〜６＋２ｎである。ｎは０〜３の整数を表す。ｌが２以上である場合、Ｄ₃同士は互いに同一でも異なっていてもよく、ｋが２以上である場合、Ｒ₃同士は互いに同一でも異なっていても良く、ｍが２以上である場合、Ｚ同士は互いに同一でも異なっていても良い。）、
   一般式（６）
   

   

   （上記式（６）中、Ｄ₃、Ｒ₃およびＳＯ₃Ｚは上記式中に含まれる環上の炭素に結合する基であり、Ｄ₃は、それぞれ独立して、ビニル基、アリル基、イソプロペニル基、スチリル基、メルカプト基、アミノ基、メチルアミノ基、エチルアミノ基、または水酸基を表し、Ｚは、水素イオン、アンモニウムイオン、アミンイオン、アルカリ金属イオン、または１／２原子のアルカリ土類金属イオンを表し、Ｒ₃は、それぞれ独立して、Ｈ，メチル基、エチル基、メトキシ基、エトキシ基、フッ素原子、塩素原子、臭素原子、またはヨウ素原子を表す。ｒは０〜６の整数、ｑおよびｐは独立して１〜７の整数を表すが、ｐ＋ｑ＋ｒ＝２〜８の整数である。ｐが２以上の場合、Ｄ₃同士は互いに同一でも異なっていても良く、ｒが２以上の場合、Ｒ₃同士は互いに同一でも異なっていても良く、ｑが２以上の場合、Ｚ同士は互いに同一でも異なっていても良い。）
4. 一般式（１）で表される化合物が、一般式（７）
   

   

   （上記式（７）中、Ｄ₁は（メタ）アクリロイルオキシ基（ｘまたはｙの何れかが１以上の場合）、（メタ）アクリロイルチオ基（ｘまたはｙの何れかが１以上の場合）、（メタ）アクリルアミド基（ｘまたはｙの何れかが１以上の場合）、ビニル基、アリル基、イソプロペニル基、スチリル基、メルカプト基、アミノ基、メチルアミノ基、またはエチルアミノ基を表し、Ｚは、水素イオン、アンモニウムイオン、アミンイオン、アルカリ金属イオン、または１／２原子のアルカリ土類金属イオンを表す。Ｒ₁〜Ｒ₄は、それぞれ独立して、水素原子、炭素数１〜６のアルキル基、または炭素数１〜６のアルコキシ基を表す。ｖおよびｙは、独立して０〜１０の整数を表し、ｗは０または１を表す（但し、ｖまたはｙの何れかが０の場合、ｗも０である。）。ｘは０〜１０の整数を表す。ｖが２以上である場合、Ｒ₁同士、Ｒ₂同士は互いに同一でも異なっていても良く、ｙが２以上である場合、Ｒ₃同士、Ｒ₄同士は互いに同一でも異なっていても良い。ｘが２以上である場合、Ｒ₁同士、Ｒ₂同士は互いに同一でも異なっていても良い。）
   で表される化合物である請求項３記載の変性アクリル樹脂膜。
5. 基材と、請求項１〜４のいずれかに記載の変性アクリル樹脂膜との積層体。
6. アニオン性親水基を有するアクリル樹脂系膜であって、表面におけるアニオン性親水基の濃度が、該アクリル樹脂系膜の表面から膜厚１／２の深さにおけるアニオン性親水基の濃度よりも高いアクリル樹脂系膜の、当該表面を、１分子内にアニオン性親水基を１個以上と重合性炭素炭素二重結合を含む基、アミノ基、メルカプト基、及び水酸基からなる群より選ばれる基を１個以上とを有する化合物（Ａ）で処理することを特徴とする、変性アクリル樹脂膜の製造方法。
7. 基材上に前記アクリル樹脂系膜を形成する工程を含む請求項６記載の変性アクリル樹脂膜の製造方法。
8. 前記アクリル樹脂系膜は、基材と接している側と反対側の表面におけるアニオン性親水基の濃度が、該アクリル樹脂系膜の表面から膜厚１／２の深さにおけるアニオン性親水基の濃度よりも高いものである請求項７記載の変性アクリル樹脂膜の製造方法。

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