JP5801847B2 - 定着機用ヒータ - Google Patents

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Description

本発明は、用紙にトナーを加熱定着させるための加熱定着機に用いられる定着機用ヒータに関するものである。
特許文献1には、基板と、基板上に形成された発熱体と、前記発熱体を覆うオーバーコートガラス(保護膜)とを有して形成されたプレートヒータに関する発明が開示されている。
特許文献1では、基板がガラス基板であり、ガラス基板は、SiO・Al・LiOよりなるガラス材料で形成されたものが記載されている。オーバーコートガラスは、低融点ガラスと低膨張フィラーよりなるガラス材料により形成されている。また、テフロンコーティング(テフロンは登録商標)がオーバーコートガラスの表面に重ねて形成されている。
特開2005−71843号公報
しかしながら、ガラス材料にアルカリ金属が含まれていると、発熱体に接続される電極パターンの配置位置によっては電極パターン間でマイグレーションが生じやすくなるという問題があった。
また、特許文献1に記載された発明では、基板の熱膨張率と、保護膜(オーバーコートガラス)の熱膨張率との違いが考慮されておらず、反りが発生しやすい課題がある。
さらに、特許文献1に記載された発明では、オーバーコートガラスに低膨張フィラーが含まれているが、この低膨張フィラーによりオーバーコートガラスの表面の平滑性が悪くなる(表面粗さが大きくなる)問題があった。そのため、オーバーコートガラスの表面に加熱ベルトが接触すると、オーバーコートガラスの表面の凹凸が大きいために加熱ベルトに損傷を与えやすくなる。
本発明は、上記従来の実情に鑑みてなされたものであり、その目的は、従来に比べて、マイグレーション及び反りを抑制するとともに表面の平滑性を向上させることが可能な定着機用ヒータを提供することにある。
本発明における定着機用ヒータは、
ガラス基板と、
前記ガラス基板上に形成された発熱体と、
前記ガラス基板上に形成され前記発熱体に接続される複数本の電極パターンと、
前記発熱体上及び前記電極パターン上に形成された第1保護層と、
前記第1保護層上に形成された第2保護層と、を有し、
前記ガラス基板は、アルカリ金属酸化物が加えられていない無アルカリガラスからなり、
前記第1保護層は、アルカリ金属酸化物が加えられておらず軟化点を前記ガラス基板の軟化点よりも低くする材料が加えられた第1のガラス粉末と、前記ガラス基板に用いられた前記無アルカリガラスよりも熱膨張率の低い第1のフィラーを混合した混合材料を焼成して形成されており、
前記第2保護層は、前記第1保護層に用いられる前記第1のフィラーを含まない材料にて形成されることを特徴とするものである。
本発明では、電極パターンが接触するガラス基板及び第1保護層にはともに、アルカリ金属酸化物が含まれていない。したがって従来に比べてマイグレーションの発生を抑制することができる。
また第1保護層に用いられる第1のガラス粉末は、ガラス基板上で焼成させるためにガラス基板よりも軟化点が低いものを選択しているが、熱膨張率が小さいもの(熱膨張率がガラス基板の熱膨張率に近いもの)は現在のところ存在しない。しかし、第1保護層に熱膨張率の低い第1のフィラーを混合したことで、第1保護層の熱膨張率をガラス基板の熱膨張率に近づけることができ、反りの発生を抑制することができる。
さらに、第1保護層には第1のフィラーが含まれているので、第1保護層の表面の凹凸は大きくなりやすいが、第1保護層に重ねて第2保護層を形成し、第2保護層には、第1保護層に用いられた第1のフィラーを入れないことで、第2保護層の表面の平滑性を向上させることができる。
また本発明では、前記第2保護層は、軟化点を前記ガラス基板の前記軟化点よりも低くする材料が加えられた第2のガラス粉末に、前記第1のフィラーを混合せずに焼成して形成されたものであることが好ましい。例えば特許文献1では、オーバーコートガラスの表面にテフロンコーティングを施しているが、発熱体が300℃程度にまで上昇するとテフロンコーティングでは耐熱性が十分でない。これに対して本発明では、第2保護層にガラスを用いることで、第2保護層の耐熱性を向上させることができる。
また本発明では、前記第2保護層は、アルカリ金属酸化物を含んでもよい。これにより、熱膨張率を小さくすることができる。なお、電極パターンと第2保護層との間には第1保護層が介在するので、第2保護層にアルカリ金属酸化物を含めたことによるマイグレーションの問題は生じない。
また本発明では、前記第2保護層は、アルカリ金属酸化物を含み前記第2のガラス粉末よりも熱膨張率が低く前記ガラス基板の軟化点よりも低い温度で表面が軟化する第2のフィラー(ユーククリプタイト等)が加えられていてもよい。ユーククリプタイト等のアルカリ金属酸化物を含むフィラーであれば焼成時に表面を多少溶かすことができ、それにより平滑性を損なわないようにすることができる。
また本発明では、前記第1保護層に用いられる前記第1のガラス粉末と、前記第2保護層に用いられる前記第2のガラス粉末とは同じ材質であってもよい。これにより、耐熱性等の特性を第1保護層と第2保護層とでほぼ同じにできる。また、第1保護層と第2保護層との間の密着性を適切に向上させることができる。
また本発明では、前記第2保護層の軟化点は、前記第1保護層及び前記ガラス基板の各軟化点もよりも低くされていてもよい。
また本発明では、前記第2保護層は、前記発熱体と重なる位置であって前記電極パターンと重ならない位置に形成されることが好ましい。これにより発熱体と対向する表面を凸型にでき、加熱ベルトとの密着性を向上させることができる。また第2保護層の熱膨張率は、第1保護層やガラス基板よりも高くなるが、第2保護層を電極パターンと重ならいように形成することで、第1保護層の表面に占める第2保護層の面積を小さくでき、反りの発生を効果的に抑制することが可能になる。
また本発明では、前記第2保護層の体積は、前記第1保護層の体積よりも小さいことが好ましい。第2保護層の熱膨張率は第1保護層よりも高くなるが、第2保護層の体積を第1保護層よりも小さくすることで、第2保護層の熱膨張率の影響を小さくでき、反りを抑えることができる。
また本発明では、前記第1保護層に含まれる前記第1のフィラーは、溶融シリカであることが好ましい。溶融シリカを熱膨張率が極めて小さく、少ない混合量で第1保護層の熱膨張率を下げることができる。
また本発明では、前記第1保護層に占める前記溶融シリカの体積比が10%〜25%の範囲内であることが好ましい。ペースト状の混合材料を、発熱体上及び電極パターン上に形成したとき、流動性を維持することができ、第1保護層の熱膨張率をガラス基板の熱膨張率に近づけることができる。
また、本発明では、前記溶融シリカの粒径は、0.4〜1μmであることが好ましい。粒径が小さいとペーストの流動性が損なわれ、粒径が大きい平滑性が損なわれるが、このような範囲であれば流動性が損なわれず、かつ平滑性も損なわれない。
また本発明では、前記電極パターンは、前記ガラス基板上に間隔を空けて交互に配置されたプラス側電極及びマイナス側電極と、前記プラス側電極及び前記マイナス側電極のそれぞれに接続される配線層と、有して形成されており、
前記発熱体は、前記ガラス基板上から前記プラス側電極上及び前記マイナス側電極上にかけて形成され、前記配線層は、前記発熱体の両側から前記ガラス基板上に延出していることが好ましい。
本発明では、電極パターンが接触するガラス基板及び第1保護層にはともに、アルカリ金属酸化物が含まれていない。したがって従来に比べてマイグレーションの発生を抑制することができる。
また第1保護層に用いられる第1のガラス粉末は、ガラス基板上で焼成させるためにガラス基板よりも軟化点が低いものを選択しているが、熱膨張率が小さいもの(熱膨張率がガラス基板の熱膨張率に近いもの)は現在のところ存在しない。しかし、第1保護層に熱膨張率の低い第1のフィラーを混合したことで、第1保護層の熱膨張率をガラス基板の熱膨張率に近づけることができ、反りの発生を抑制することができる。
さらに、第1保護層にはフィラーが含まれているので、第1保護層の表面の凹凸は大きくなりやすいが、第1保護層に重ねて第2保護層を形成し、第2保護層には、第1保護層に用いられた第1のフィラーを入れないことで、第2保護層の表面の平滑性を向上させることができる。
本実施形態における定着機用ヒータの部分縦断面図である。 本実施形態における定着機用ヒータの平面図である。 実施例及び比較例のマイグレーション結果を示す実施結果である。
図1は、本実施形態における定着機用ヒータ1の部分縦断面図である。図2は、本実施形態における定着機用ヒータの平面図である。
図1に示す定着機用ヒータ1は、ガラス基板2と、ガラス基板2の表面に形成された発熱体3と、ガラス基板2上に形成され発熱体3に接続された複数本の電極パターン4と、発熱体3上及び電極パターン4上に形成された第1保護層5と、第1保護層5上に形成された第2保護層6とを有して構成される。
ガラス基板2は、アルカリ金属酸化物が加えられていない無アルカリガラスからなる。無アルカリガラスの組成は、例えば、SiO(約60%)・Al(約15%)・B(10%)・MgO(数%)・CaO(数%)である。
発熱体3は、ガラス粉末にRuO(20%)を混合したペーストを焼成して形成したものである。
電極パターン4は、ガラス基板2の表面に形成された共通電極7と、個別電極8とを備えている。共通電極7と個別電極8とは間隔を空けて交互に配置される。なお、各電極7、8の上に発熱体3が形成されることで発熱体3と各電極7,8とが電気的に接続されている。
各共通電極7は発熱体3の外側にて配線パターン9に繋がっており、各個別電極8は発熱体3の外側にて配線パターン10に繋がっている。
各配線パターン9,10もガラス基板2上に形成されている。
共通電極7及び個別電極8の一方がプラス側電極で他方がマイナス側電極である。
共通電極7及び個別電極8はともにAuレジネートを焼成して形成される。また、各配線パターン9,10はガラス粉末に銀粉末(90v%)を混合したペーストを焼成して形成したものである。
第1保護層5は、アルカリ金属酸化物が加えられておらず軟化点が前記ガラス基板の軟化点よりも低い第1のガラス粉末に、前記ガラス基板に用いられた前記無アルカリガラスよりも熱膨張率の低い第1のフィラーを混合した混合材料を焼成して形成したものである。
第1保護層5の第1のガラス粉末の組成は、ZnO・B・SiO又はBi23・B・SiOである。
また第1保護層5に含まれる第1のフィラーは、溶融シリカ(石英ガラス)である。溶融シリカは熱膨張率が極めて低く(0.56ppm/℃)、少ない混合量で第1保護層5の熱膨張率を下げることができる。
第1保護層5中に占める溶融シリカの体積比は15%〜25%であることが好適である。ペーストの流動性を維持しつつ、第1保護層5の熱膨張率をガラス基板2の熱膨張率に近づけることができる。
溶融シリカの粒径は0.4〜1μm程度である。粒径が小さいとペーストの流動性が損なわれ、粒径が大きいと平滑性が損なわれるが、0.4〜1μmの範囲であれば流動性が損なわれず、かつ平滑性も損なわれない。
また第1保護層5の厚みは20μm〜50μm程度である。
なお、第1保護層5のガラス粉末には、アルカリ金属酸化物でなく軟化点をガラス基板2の軟化点よりも低くする材料がガラス組成の一部として含まれていることが好ましい。そのような材料としては酸化亜鉛等が考えられる。これにより第1保護層5の軟化点を適切に低くすることができる。
第2保護層6は、第1保護層5に用いられる前記第1のフィラーを含まない材料にて形成される。
具体的には、第2保護層6は、軟化点をガラス基板2の軟化点よりも低くする材料として酸化亜鉛がガラス組成の一部として加えられた第2ガラス粉末に、前記第1のフィラーを混合せずに焼成して形成されたものである。例えば特許文献1では、オーバーコートガラスの表面にテフロンコーティングを施しているが、発熱体3が300℃程度にまで上昇するとテフロンコーティングでは耐熱性が十分でない。これに対して本実施形態では、第2保護層6にガラスを用いることで、第2保護層6の耐熱性を向上させることができる。
また、第1保護層5に用いられる第1のガラス粉末と、第2保護層6に用いられる第2のガラス粉末とは同じ材質であることが好ましい。これにより、耐熱性等の特性を第1保護層5と第2保護層6とでほぼ同じにできる。また、第1保護層5と第2保護層6との間の密着性を適切に向上させることができる。
本実施形態では、第2保護層6は、アルカリ金属酸化物を含んでもよい。たとえば、第2のガラス粉末はアルカリ金属酸化物を組成の一部とするものでもよい。これにより、熱膨張率を小さくすることができる。なお、電極パターンと第2保護層との間には第1保護層が介在するので、第2保護層にアルカリ金属酸化物を含めたことによるマイグレーションの問題は生じない。
また、本実施形態では、第2保護層6は、アルカリ金属酸化物を含み第2のガラス粉末よりも熱膨張率が低くガラス基板の軟化点よりも低い温度で表面が軟化する第2のフィラーが加えられていてもよい。例えば第2保護層6にはユークリプタイト(LiO−Al−SiO)が重量比で約20%加えられている。これにより、第2保護層6の熱膨張率を小さくすることができる。また、ユークリプトタイトであれば焼成時に表面を多少溶かすことができ、それにより平滑性を損なわないようにすることができる。なお、電極パターン4と第2保護層6との間には第1保護層5が介在するので、第2保護層6にアルカリ金属酸化物を含めたことによるマイグレーションの問題は生じない。なお、ユークリプタイト以外の材料としては、例えばスポジュメン(LiAlSi)等が考えられる。
また本実施形態では、第2保護層6の軟化点は、第1保護層5及びガラス基板2の各軟化点もよりも低くされていることが好ましい。
また、第2保護層6は、発熱体3と重なる位置であって、発熱体3の外側に延出する電極パターン4(配線パターン9,10)と重ならない位置に形成されることが好ましい。これにより発熱体3と対向する表面を凸型にでき、加熱ベルトとの密着性を向上させることができる。また第2保護層6の熱膨張率は、第1保護層5やガラス基板2よりも高くなるが、第2保護層6を電極パターンと重ならいように形成することで、第1保護層5の表面に占める第2保護層6の面積を小さくでき、反りの発生を効果的に抑制することが可能になる。
また本実施形態では、第2保護層6の体積は、第1保護層5の体積よりも小さいことが好ましい。第2保護層6の熱膨張率は第1保護層5よりも高くなるが、第2保護層6の体積を第1保護層5よりも小さくすることで、第2保護層6の熱膨張率の影響を小さくでき、反りを抑えることができる。
第2保護層6の厚みは、5〜10μm程度である。
本実施形態の定着機用ヒータ1によれば、電極パターン4が接触するガラス基板2及び第1保護層5にはともに、アルカリ金属酸化物が含まれていない。したがって従来に比べてマイグレーションの発生を抑制することができる。
また第1保護層5に用いられる第1のガラス粉末は、ガラス基板よりも軟化点が低いため、ガラス粉末の熱膨張率は、ガラス基板2の熱膨張率よりも高くなるが、第1保護層5に熱膨張率の低い第1のフィラーを混合したことで、第1保護層5の熱膨張率をガラス基板2の熱膨張率に近づけることができ、反りの発生を抑制することができる。
さらに、第1保護層5には第1のフィラーが含まれているので、第1保護層5の表面の凹凸は大きくなりやすいが、第1保護層5に重ねて第2保護層6を形成し、第2保護層6には、第1保護層5に用いられた第1のフィラーを入れないことで、第2保護層6の表面の平坦性を向上させることができる。
100mm角のガラス基板に、25μm程度のオーバーコートを全面形成したときの反り量及びマイグレーションを測定した。
実施例ではオーバーコートとして、第1のフィラーとして溶融シリカ(粒径0.7μm)を20%混合した無アルカリガラスを用いた。
また比較例ではオーバーコートとして、第2のフィラーとしてユークリプタイト(低膨張フィラーLi含有)を15%混合したガラスを用いた。
実験では、加熱温度500℃、Au電極とAg電極との間隔を0.5mmとし、ルテニウム抵抗体の抵抗値変化を測定した。
その実験結果が以下の表1及び図3に示されている。
Figure 0005801847
表1に示す比較例では、実施例に比べて反りが大きくなった。
またマイグレーションを起こすと電極間でショートし抵抗値が下がるので、図3に示すように、比較例ではマイグレーションが発生していることがわかった。一方、実施例では抵抗値変化率の変化が小さく、マイグレーションを抑制できたことがわかった。
1 定着機用ヒータ
2 ガラス基板
3 発熱体
4 電極パターン
5 第1保護層
6 第2保護層

Claims (13)

  1. ガラス基板と、
    前記ガラス基板上に形成された発熱体と、
    前記ガラス基板上に形成され前記発熱体に接続される複数本の電極パターンと、
    前記発熱体上及び前記電極パターン上に形成された第1保護層と、
    前記第1保護層上に形成された第2保護層と、を有し、
    前記ガラス基板は、アルカリ金属酸化物が加えられていない無アルカリガラスからなり、
    前記第1保護層は、アルカリ金属酸化物が加えられておらず軟化点を前記ガラス基板の軟化点よりも低くする材料が加えられた第1のガラス粉末と、前記ガラス基板に用いられた前記無アルカリガラスよりも熱膨張率の低い第1のフィラーを混合した混合材料を焼成して形成されており、
    前記第2保護層は、前記第1保護層に用いられる前記第1のフィラーを含まない材料にて形成されることを特徴とする定着機用ヒータ。
  2. 前記第2保護層は、軟化点を前記ガラス基板の前記軟化点よりも低くする材料が加えられた第2のガラス粉末に、前記第1のフィラーを混合せずに焼成して形成されたものである請求項1に記載の定着機用ヒータ。
  3. 前記第2保護層は、アルカリ金属酸化物を含むことを特徴とする請求項2に記載の定着機用ヒータ。
  4. 前記第2保護層は、アルカリ金属酸化物を含み前記第2のガラス粉末よりも熱膨張率が低く前記ガラス基板の軟化点よりも低い温度で表面が軟化する第2のフィラーが加えられたことを特徴とする請求項3に記載の定着機用ヒータ。
  5. 前記第2のフィラーは、ユークリプタイトであることを特徴とする請求項4に記載の定着機用ヒータ。
  6. 前記第1保護層に用いられる前記第1のガラス粉末と、前記第2保護層に用いられる前記第2のガラス粉末とは同じ材質である請求項2ないし5のいずれか1項に記載の定着機用ヒータ。
  7. 前記第2保護層の軟化点は、前記第1保護層及び前記ガラス基板の各軟化点もよりも低くされている請求項2ないし5のいずれか1項に記載の定着機用ヒータ。
  8. 前記第2保護層は、前記発熱体と重なる位置であって前記電極パターンと重ならない位置に形成される請求項1ないし7のいずれか1項に記載の定着機用ヒータ。
  9. 前記第2保護層の体積は、前記第1保護層の体積よりも小さい請求項1ないし8のいずれか1項に記載の定着機用ヒータ。
  10. 前記第1保護層に含まれる前記第1のフィラーは、溶融シリカである請求項1ないし9のいずれか1項に記載の定着機用ヒータ。
  11. 前記第1保護層に占める前記溶融シリカの体積比が10%〜25%の範囲内である請求項10記載の定着機用ヒータ。
  12. 前記溶融シリカの粒径は、0.4〜1μmであることを特徴とする請求項10または11記載の定着機用ヒータ。
  13. 前記電極パターンは、前記ガラス基板上に間隔を空けて交互に配置されたプラス側電極及びマイナス側電極と、前記プラス側電極及び前記マイナス側電極のそれぞれに接続される配線層と、有して形成されており、
    前記発熱体は、前記ガラス基板上から前記プラス側電極上及び前記マイナス側電極上にかけて形成され、前記配線層は、前記発熱体の両側から前記ガラス基板上に延出している請求項1ないし12のいずれか1項に記載の定着機用ヒータ。
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