JP5783893B2 - 半導体装置 - Google Patents
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Description
本発明の実施の形態1に係る半導体装置として、IGBTを例に挙げ、その第1の例について説明する。
ここでは、IGBTの第2の例について説明する。図11は、本発明の実施の形態2に係る半導体装置の平面図であり、図12は、図11に示す断面線XII−XIIにおける断面図である。図11および図12に示すように、pウェル層5の角部の領域に、相対的に不純物濃度の低いp低濃度層21が形成されている。エミッタ電極33はp低濃度層21に接触せず、エミッタ電極33とp低濃度層21との間に層間絶縁膜31が介在する。なお、これ以外の構成については、図1および図2に示す構成と同様なので、同一部材には同一符号を付しその説明を繰り返さないこととする。
ここでは、IGBTの第3の例について説明する。図13は、本発明の実施の形態3に係る半導体装置の平面図であり、図14は、図13に示す断面線XIV−XIVにおける断面図である。図13および図14に示すように、pウェル層5の角部の領域では、pウェル層5は、n−層1に部分的に形成されて、pウェル層5が形成されていないn−層1の部分(n−層22)が、角部の丸みに沿って円弧状に位置している。エミッタ電極33は、このn−層22には接触せず、また、このn−層22の外側に位置するpウェル層5の部分にも接触していない。
ここでは、IGBTの第4の例について説明する。図15は、本発明の実施の形態4に係る半導体装置の平面図であり、図16は、図15に示す断面線XVI−XVIにおける断面図である。図15および図16に示すように、pウェル層5の角部の領域では、pウェル層5は、櫛状のpウェル層24として、n−層1に部分的に形成されて、pウェル層24が形成されていない櫛状のn−層1の部分(n−層23)が、角部の丸みに沿って円弧状に位置している。角部の丸みに沿ってそれぞれ延在する櫛状のn−層23と櫛状のpウェル層24とは、丸みの接線方向と略直交する方向に交互に配置されている。
ここでは、IGBTの第5の例について説明する。図17は、本発明の実施の形態5に係る半導体装置の平面図であり、図18は、図17に示す枠A内を拡大した部分拡大平面図であり、図19は、図17に示す断面線XIX−XIXにおける断面図である。図17、図18および図19に示すように、pウェル層5の角部の領域では、pウェル層5は、pウェル層25として、n−層1に格子状に部分的に形成されて、pウェル層25が形成されていないn−層1の部分(n−層26)が格子状に位置する。なお、これ以外の構成については、図1および図2に示す構成と同様なので、同一部材には同一符号を付しその説明を繰り返さないこととする。
ここでは、IGBTの第6の例について説明する。図20は、本発明の実施の形態6に係る半導体装置の平面図であり、図21は、図20に示す枠A内を拡大した部分拡大平面図であり、図22は、図20に示す断面線XXII−XXIIにおける断面図である。図20、図21および図22に示すように、pウェル層5の角部の領域では、pウェル層5は、pウェル層25として、n−層1に格子状に部分的に形成されて、pウェル層25が形成されていないn−層1の部分(n−層26)が格子状に位置する。角部の丸みの接線方向と略直交する方向に位置するpウェル層25の互いの間隔は、エミッタ(pベース層3)から遠ざかるほど広く設定されている。なお、これ以外の構成については、図1および図2に示す構成と同様なので、同一部材には同一符号を付しその説明を繰り返さないこととする。
Claims (6)
- 半導体基板における一方の表面に形成された第1電極と、他方の表面に形成された第2電極との間で電流の導通が図られる半導体装置であって、
互いに対向する第1主表面および第2主表面を有する半導体基板と、
前記半導体基板の前記第1主表面側において、前記第1主表面から第1の深さにわたり形成された第1導電型の第1領域と、
角部を含む平面パターンを有し、前記第1領域における所定の領域の表面から前記第1の深さよりも浅い第2の深さにわたり形成された、所定の不純物濃度を有する第2導電型の第2領域と、
前記第2領域とは距離を隔てられるように前記第2領域を周方向から取り囲み、前記第1領域の表面から第3の深さにわたり形成された第2導電型の第3領域と、
前記第2領域に電気的に接続されるように形成された第1電極と、
前記半導体基板の前記第2主表面に接触するように形成された第2電極と
を備え、
前記第2領域における前記角部では、実効的な不純物濃度が前記所定の不純物濃度よりも低い低不純物濃度領域が形成され、
前記低濃度不純物領域では、前記第2領域は前記第1領域に部分的に形成されて、第1導電型の前記第1領域の部分と第2導電型の前記第2領域の部分とが位置する、半導体装置。 - 前記第1電極と前記低不純物濃度領域との間に絶縁膜を介在させた、請求項1記載の半導体装置。
- 前記低不純物濃度領域は、前記第1領域の部分と前記第2領域の部分とが円弧状に形成された部分を含む、請求項1または2に記載の半導体装置。
- 前記低不純物濃度領域は、前記第1領域の部分と前記第2領域の部分とが格子状に形成された部分を含む、請求項1〜3のいずれか1項に記載の半導体装置。
- 前記角部の接線方向を第1方向として前記第1方向と交差する方向を第2方向とすると、前記低不純物濃度領域における、前記第2方向の第2導電型の不純物濃度プロファイルの傾斜が、前記角部に繋がる前記第2領域の部分の第2導電型の不純物濃度プロファイルの傾斜よりも緩やかに設定された、請求項1または2に記載の半導体装置。
- 前記半導体基板の前記第2主表面から前記第1領域に達するように形成された第2導電型の第4領域を備え、
前記第2電極は前記第4領域に電気的に接続された、請求項1〜5のいずれかに記載の半導体装置。
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