JP5743939B2 - 基板液処理装置及び基板液処理方法 - Google Patents
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- 239000000758 substrate Substances 0.000 title claims description 234
- 239000007788 liquid Substances 0.000 title claims description 124
- 238000003672 processing method Methods 0.000 title claims description 9
- 239000003795 chemical substances by application Substances 0.000 claims description 168
- 239000005871 repellent Substances 0.000 claims description 102
- XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N water Substances O XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 97
- 230000002940 repellent Effects 0.000 claims description 94
- 239000012190 activator Substances 0.000 claims description 80
- 238000002156 mixing Methods 0.000 claims description 22
- 238000003756 stirring Methods 0.000 claims description 17
- 230000003213 activating effect Effects 0.000 claims description 7
- 238000007599 discharging Methods 0.000 claims 1
- 238000000034 method Methods 0.000 description 16
- KFZMGEQAYNKOFK-UHFFFAOYSA-N Isopropanol Chemical compound CC(C)O KFZMGEQAYNKOFK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 9
- 230000000694 effects Effects 0.000 description 9
- 238000001035 drying Methods 0.000 description 7
- 230000032258 transport Effects 0.000 description 7
- 238000006467 substitution reaction Methods 0.000 description 5
- 238000011144 upstream manufacturing Methods 0.000 description 4
- 239000011259 mixed solution Substances 0.000 description 3
- 239000000203 mixture Substances 0.000 description 3
- 239000004065 semiconductor Substances 0.000 description 3
- 238000003860 storage Methods 0.000 description 3
- 239000000969 carrier Substances 0.000 description 2
- 238000004140 cleaning Methods 0.000 description 2
- 238000010586 diagram Methods 0.000 description 2
- 238000005530 etching Methods 0.000 description 2
- 238000011068 loading method Methods 0.000 description 2
- 239000000243 solution Substances 0.000 description 2
- 238000010129 solution processing Methods 0.000 description 2
- 239000000126 substance Substances 0.000 description 2
- 235000012431 wafers Nutrition 0.000 description 2
- 239000013543 active substance Substances 0.000 description 1
- 238000013019 agitation Methods 0.000 description 1
- 238000006073 displacement reaction Methods 0.000 description 1
- 238000005304 joining Methods 0.000 description 1
- 239000004973 liquid crystal related substance Substances 0.000 description 1
- 238000004519 manufacturing process Methods 0.000 description 1
- 238000006884 silylation reaction Methods 0.000 description 1
- 239000002352 surface water Substances 0.000 description 1
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Landscapes
- Cleaning Or Drying Semiconductors (AREA)
Description
6 基板
37 撥水剤吐出ノズル(ノズルブロック)
41 シリル化剤供給流路
45 活性剤供給流路
48 合流部
49 第1混合流部
53 撹拌混合部
74 第2混合流部
Claims (4)
- 基板にシリル化剤を供給するシリル化剤供給流路と、
前記シリル化剤を活性させるための活性剤を供給する活性剤供給流路と、
前記シリル化剤供給流路の中途部に前記活性剤供給流路を接続した合流部と、
前記合流部でシリル化剤に活性剤を旋回させながら撹拌混合することでシリル化剤と活性剤とを合流させて生成した撥水剤をシリル化剤が活性剤の作用で活性した状態を維持したまま前記基板に供給するノズルブロックと、
を有することを特徴とする基板液処理装置。 - 前記ノズルブロックは、ノズル上部構成体とノズル下部構成体とで構成し、ノズル上部構成体の下部に凸部を形成し、ノズル下部構成体の上部に内径が前記凸部の外径よりも大きい凹部を形成し、前記凸部にシリル化剤供給流路を連通し、前記凹部に活性剤供給流路を連通し、前記凸部と凹部との間の環状の間隙で前記活性剤を旋回させるとともに、前記凸部の下端で前記シリル化剤に前記活性剤を撹拌混合させることを特徴とする請求項1に記載の基板液処理装置。
- 基板にシリル化剤を供給する途中で前記シリル化剤を活性させるための活性剤を旋回させながら撹拌混合することで添加して撥水剤を生成し、前記撥水剤をシリル化剤が活性剤の作用で活性した状態を維持したまま基板に向けて吐出することを特徴とする基板液処理方法。
- ノズル上部構成体とノズル下部構成体とで構成したノズルブロックから前記基板に向けて前記撥水剤を吐出し、前記ノズルブロックは、ノズル上部構成体の下部に凸部を形成し、ノズル下部構成体の上部に内径が前記凸部の外径よりも大きい凹部を形成し、前記凸部にシリル化剤供給流路を連通し、前記凹部に活性剤供給流路を連通し、前記凸部と凹部との間の環状の間隙で前記活性剤を旋回させるとともに、前記凸部の下端で前記シリル化剤に前記活性剤を撹拌混合させることを特徴とする請求項3に記載の基板液処理方法。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2012071156A JP5743939B2 (ja) | 2012-03-27 | 2012-03-27 | 基板液処理装置及び基板液処理方法 |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2012071156A JP5743939B2 (ja) | 2012-03-27 | 2012-03-27 | 基板液処理装置及び基板液処理方法 |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JP2013206929A JP2013206929A (ja) | 2013-10-07 |
JP5743939B2 true JP5743939B2 (ja) | 2015-07-01 |
Family
ID=49525762
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP2012071156A Active JP5743939B2 (ja) | 2012-03-27 | 2012-03-27 | 基板液処理装置及び基板液処理方法 |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JP5743939B2 (ja) |
Families Citing this family (3)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP6484144B2 (ja) * | 2014-10-17 | 2019-03-13 | 東京エレクトロン株式会社 | 基板液処理装置及び基板液処理方法並びに基板液処理プログラムを記憶したコンピュータ読み取り可能な記憶媒体 |
JP6465744B2 (ja) * | 2015-05-15 | 2019-02-06 | 株式会社Screenホールディングス | 基板処理装置および基板処理方法 |
KR102604556B1 (ko) * | 2021-10-05 | 2023-11-22 | 이준호 | 약액 혼합장치 및 이를 구비하는 노즐 |
Family Cites Families (3)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2001129495A (ja) * | 1999-08-25 | 2001-05-15 | Shibaura Mechatronics Corp | 基板の処理方法及びその装置 |
JP5663160B2 (ja) * | 2009-09-28 | 2015-02-04 | 東京応化工業株式会社 | 表面処理剤及び表面処理方法 |
JP5404364B2 (ja) * | 2009-12-15 | 2014-01-29 | 株式会社東芝 | 半導体基板の表面処理装置及び方法 |
-
2012
- 2012-03-27 JP JP2012071156A patent/JP5743939B2/ja active Active
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
JP2013206929A (ja) | 2013-10-07 |
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