JP5734624B2 - 半導体パッケージの製造方法 - Google Patents
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Description
[第1の実施の形態に係る半導体パッケージの構造]
図4は、第1の実施の形態に係る半導体パッケージを例示する断面図である。図4を参照するに、半導体パッケージ10は、半導体チップ20及び封止樹脂30を基体とし、その上に極薄の配線構造体40が形成され、更に配線構造体40上に外部接続端子49が形成された構造を有する。
続いて、第1の実施の形態に係る半導体パッケージの製造方法について説明する。図5〜図16は、第1の実施の形態に係る半導体パッケージの製造工程を例示する図である。なお、図5〜図9において、(a)は平面図、(b)は(a)のB−B線に沿う断面図である。
第1の実施の形態では、図5に示す工程において、支持体50に複数の貫通孔50xを形成する例を示した。第1の実施の形態の変形例1では、支持体50に複数の凹部50yを形成する例を示す。なお、第1の実施の形態の変形例1において、第1の実施の形態と同一構成部品についての説明は省略する。
第1の実施の形態では、図5に示す工程において、支持体50に複数の貫通孔50xを形成する例を示した。又、第1の実施の形態の変形例1では、支持体50に複数の凹部50yを形成する例を示した。第1の実施の形態の変形例2では、支持体50に複数の凸部50zを形成する例を示す。なお、第1の実施の形態の変形例2において、第1の実施の形態と同一構成部品についての説明は省略する。
20 半導体チップ
21 半導体基板
22 電極パッド
23 突起電極
30 封止樹脂
30x、50z 凸部
30z、50y、51x 凹部
40 配線構造体
41 第1絶縁層
41x 第1ビアホール
42 第1配線層
43 第2絶縁層
43x 第2ビアホール
44 第2配線層
45 第3絶縁層
45x 第3ビアホール
46 第3配線層
47 ソルダーレジスト層
47x 開口部
49 外部接続端子
50 支持体
50x 貫通孔
51 粘着層
57 ダイシングブレード
T1、T2 厚さ
W1 幅
Claims (7)
- 支持体に複数の転写部作製部を形成し、前記複数の転写部作製部を含む前記支持体の一方の面を粘着層で被覆し、前記粘着層を押圧して、前記一方の面の前記複数の転写部作製部が形成されている位置に、前記粘着層と一体的に形成された凸又は凹形状の複数の基準マーク転写部を形成する第1工程と、
前記一方の面に、前記粘着層を介して、回路形成面が前記一方の面と対向するように半導体チップを配置する第2工程と、
前記一方の面に、前記半導体チップ及び前記複数の基準マーク転写部を被覆する封止樹脂を形成し、前記封止樹脂の前記粘着層と接する主面に、凸又は凹形状の前記複数の基準マーク転写部の形に倣った形状の凹又は凸形状の複数の基準マークを形成する第3工程と、
前記支持体及び前記粘着層と共に前記複数の基準マーク転写部を除去し、前記回路形成面と、前記複数の基準マークが形成された前記主面とを露出させる第4工程と、
前記回路形成面上及び前記主面上に、前記複数の基準マークを基に前記半導体チップと電気的に接続される配線層を含む配線構造体を形成する第5工程と、を有する半導体パッケージの製造方法。 - 前記第1工程では、前記複数の転写部作製部として、前記支持体を貫通する複数の貫通孔を形成する請求項1記載の半導体パッケージの製造方法。
- 前記第1工程では、前記複数の転写部作製部として、前記支持体の一方の面側に複数の凹部を形成する請求項1記載の半導体パッケージの製造方法。
- 前記第1工程では、前記複数の転写部作製部として、前記支持体の一方の面側に複数の凸部を形成する請求項1記載の半導体パッケージの製造方法。
- 前記第5工程では、前記回路形成面上及び前記主面上に、前記回路形成面側に設けられた電極を被覆する絶縁層を形成する第5A工程と、
前記絶縁層に、前記電極の上面を露出する貫通孔を形成する第5B工程と、
前記貫通孔内に充填されたビア配線、及び前記絶縁層上に形成された配線パターンを含む配線層を形成する第5C工程と、を含み、
前記第5B工程では、前記複数の基準マークの位置を基準として、前記電極に対する前記貫通孔の形成位置を決定し、
前記第5C工程では、前記複数の基準マークの位置を基準として、前記電極に対する前記配線層の形成位置を決定する請求項1乃至4の何れか一項記載の半導体パッケージの製造方法。 - 前記第5C工程では、前記複数の基準マークの位置を基準として、前記絶縁層上に前記配線層の一部として新たな基準マークを形成する請求項5記載の半導体パッケージの製造方法。
- 前記2工程では、前記一方の面の前記複数の基準マーク転写部が形成されていない領域に、各回路形成面が前記一方の面と対向するように複数の半導体チップを配置し、
前記第5工程では、前記複数の半導体チップの各回路形成面上及び前記主面上に、各半導体チップと電気的に接続される配線層を含む配線構造体を形成する請求項1乃至6の何れか一項記載の半導体パッケージの製造方法。
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