JP5643191B2 - 超音波探触子及び超音波撮像装置 - Google Patents
超音波探触子及び超音波撮像装置 Download PDFInfo
- Publication number
- JP5643191B2 JP5643191B2 JP2011510315A JP2011510315A JP5643191B2 JP 5643191 B2 JP5643191 B2 JP 5643191B2 JP 2011510315 A JP2011510315 A JP 2011510315A JP 2011510315 A JP2011510315 A JP 2011510315A JP 5643191 B2 JP5643191 B2 JP 5643191B2
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- substrate
- frequency
- ultrasonic probe
- ultrasonic
- medium
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Active
Links
- 239000000523 sample Substances 0.000 title claims description 49
- 238000003384 imaging method Methods 0.000 title description 16
- 239000000758 substrate Substances 0.000 claims description 210
- 230000035945 sensitivity Effects 0.000 claims description 57
- 230000005855 radiation Effects 0.000 claims description 47
- 239000000463 material Substances 0.000 claims description 41
- 239000012528 membrane Substances 0.000 claims description 21
- XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N water Substances O XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 12
- 239000000853 adhesive Substances 0.000 claims description 9
- 230000001070 adhesive effect Effects 0.000 claims description 8
- 230000001902 propagating effect Effects 0.000 claims description 6
- 230000000630 rising effect Effects 0.000 claims description 3
- 230000002093 peripheral effect Effects 0.000 claims description 2
- 239000011800 void material Substances 0.000 claims description 2
- 239000010408 film Substances 0.000 description 43
- 230000005540 biological transmission Effects 0.000 description 31
- 238000000034 method Methods 0.000 description 14
- XUIMIQQOPSSXEZ-UHFFFAOYSA-N Silicon Chemical compound [Si] XUIMIQQOPSSXEZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 12
- 229910052710 silicon Inorganic materials 0.000 description 12
- 239000010703 silicon Substances 0.000 description 12
- 239000010410 layer Substances 0.000 description 10
- 230000002238 attenuated effect Effects 0.000 description 7
- 238000010586 diagram Methods 0.000 description 6
- 230000000694 effects Effects 0.000 description 6
- 230000014509 gene expression Effects 0.000 description 6
- 238000006073 displacement reaction Methods 0.000 description 5
- 230000004044 response Effects 0.000 description 5
- 239000004065 semiconductor Substances 0.000 description 5
- 238000005452 bending Methods 0.000 description 4
- 238000011156 evaluation Methods 0.000 description 4
- 230000008569 process Effects 0.000 description 4
- 238000012545 processing Methods 0.000 description 4
- 239000012790 adhesive layer Substances 0.000 description 3
- 230000007423 decrease Effects 0.000 description 3
- 229910052581 Si3N4 Inorganic materials 0.000 description 2
- 239000003990 capacitor Substances 0.000 description 2
- 230000008859 change Effects 0.000 description 2
- 230000006835 compression Effects 0.000 description 2
- 238000007906 compression Methods 0.000 description 2
- 239000007772 electrode material Substances 0.000 description 2
- 238000005516 engineering process Methods 0.000 description 2
- 239000011521 glass Substances 0.000 description 2
- 238000007689 inspection Methods 0.000 description 2
- HFGPZNIAWCZYJU-UHFFFAOYSA-N lead zirconate titanate Chemical compound [O-2].[O-2].[O-2].[O-2].[O-2].[Ti+4].[Zr+4].[Pb+2] HFGPZNIAWCZYJU-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 229910052451 lead zirconate titanate Inorganic materials 0.000 description 2
- 230000007246 mechanism Effects 0.000 description 2
- 229910052751 metal Inorganic materials 0.000 description 2
- 239000002184 metal Substances 0.000 description 2
- 239000004033 plastic Substances 0.000 description 2
- 230000000644 propagated effect Effects 0.000 description 2
- HQVNEWCFYHHQES-UHFFFAOYSA-N silicon nitride Chemical compound N12[Si]34N5[Si]62N3[Si]51N64 HQVNEWCFYHHQES-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 239000010409 thin film Substances 0.000 description 2
- WFKWXMTUELFFGS-UHFFFAOYSA-N tungsten Chemical compound [W] WFKWXMTUELFFGS-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 229910052721 tungsten Inorganic materials 0.000 description 2
- 239000010937 tungsten Substances 0.000 description 2
- 229910000838 Al alloy Inorganic materials 0.000 description 1
- 229910000881 Cu alloy Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000004642 Polyimide Substances 0.000 description 1
- VYPSYNLAJGMNEJ-UHFFFAOYSA-N Silicium dioxide Chemical compound O=[Si]=O VYPSYNLAJGMNEJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 230000009471 action Effects 0.000 description 1
- 239000003570 air Substances 0.000 description 1
- 229910052782 aluminium Inorganic materials 0.000 description 1
- XAGFODPZIPBFFR-UHFFFAOYSA-N aluminium Chemical compound [Al] XAGFODPZIPBFFR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000003638 chemical reducing agent Substances 0.000 description 1
- 239000004020 conductor Substances 0.000 description 1
- 239000013078 crystal Substances 0.000 description 1
- 230000001419 dependent effect Effects 0.000 description 1
- 230000001066 destructive effect Effects 0.000 description 1
- 238000011161 development Methods 0.000 description 1
- 238000003745 diagnosis Methods 0.000 description 1
- 238000002059 diagnostic imaging Methods 0.000 description 1
- 238000009792 diffusion process Methods 0.000 description 1
- 239000006185 dispersion Substances 0.000 description 1
- 239000002019 doping agent Substances 0.000 description 1
- 239000013013 elastic material Substances 0.000 description 1
- 239000007789 gas Substances 0.000 description 1
- 239000012212 insulator Substances 0.000 description 1
- WABPQHHGFIMREM-UHFFFAOYSA-N lead(0) Chemical compound [Pb] WABPQHHGFIMREM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000007788 liquid Substances 0.000 description 1
- 238000005457 optimization Methods 0.000 description 1
- 229910021420 polycrystalline silicon Inorganic materials 0.000 description 1
- 229920001721 polyimide Polymers 0.000 description 1
- 229920000642 polymer Polymers 0.000 description 1
- 230000002250 progressing effect Effects 0.000 description 1
- 239000011347 resin Substances 0.000 description 1
- 229920005989 resin Polymers 0.000 description 1
- 239000005060 rubber Substances 0.000 description 1
- 229910052594 sapphire Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000010980 sapphire Substances 0.000 description 1
- 230000008054 signal transmission Effects 0.000 description 1
- 229910052814 silicon oxide Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000007787 solid Substances 0.000 description 1
- 230000001629 suppression Effects 0.000 description 1
- 230000001360 synchronised effect Effects 0.000 description 1
- 238000012360 testing method Methods 0.000 description 1
- 230000005641 tunneling Effects 0.000 description 1
- 238000002604 ultrasonography Methods 0.000 description 1
- 238000012285 ultrasound imaging Methods 0.000 description 1
Images
Classifications
-
- B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
- B06—GENERATING OR TRANSMITTING MECHANICAL VIBRATIONS IN GENERAL
- B06B—METHODS OR APPARATUS FOR GENERATING OR TRANSMITTING MECHANICAL VIBRATIONS OF INFRASONIC, SONIC, OR ULTRASONIC FREQUENCY, e.g. FOR PERFORMING MECHANICAL WORK IN GENERAL
- B06B1/00—Methods or apparatus for generating mechanical vibrations of infrasonic, sonic, or ultrasonic frequency
- B06B1/02—Methods or apparatus for generating mechanical vibrations of infrasonic, sonic, or ultrasonic frequency making use of electrical energy
- B06B1/0292—Electrostatic transducers, e.g. electret-type
-
- G—PHYSICS
- G10—MUSICAL INSTRUMENTS; ACOUSTICS
- G10K—SOUND-PRODUCING DEVICES; METHODS OR DEVICES FOR PROTECTING AGAINST, OR FOR DAMPING, NOISE OR OTHER ACOUSTIC WAVES IN GENERAL; ACOUSTICS NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
- G10K9/00—Devices in which sound is produced by vibrating a diaphragm or analogous element, e.g. fog horns, vehicle hooters or buzzers
- G10K9/12—Devices in which sound is produced by vibrating a diaphragm or analogous element, e.g. fog horns, vehicle hooters or buzzers electrically operated
- G10K9/121—Flextensional transducers
-
- A—HUMAN NECESSITIES
- A61—MEDICAL OR VETERINARY SCIENCE; HYGIENE
- A61B—DIAGNOSIS; SURGERY; IDENTIFICATION
- A61B8/00—Diagnosis using ultrasonic, sonic or infrasonic waves
- A61B8/42—Details of probe positioning or probe attachment to the patient
- A61B8/4272—Details of probe positioning or probe attachment to the patient involving the acoustic interface between the transducer and the tissue
- A61B8/4281—Details of probe positioning or probe attachment to the patient involving the acoustic interface between the transducer and the tissue characterised by sound-transmitting media or devices for coupling the transducer to the tissue
-
- A—HUMAN NECESSITIES
- A61—MEDICAL OR VETERINARY SCIENCE; HYGIENE
- A61B—DIAGNOSIS; SURGERY; IDENTIFICATION
- A61B8/00—Diagnosis using ultrasonic, sonic or infrasonic waves
- A61B8/48—Diagnostic techniques
- A61B8/485—Diagnostic techniques involving measuring strain or elastic properties
Landscapes
- Engineering & Computer Science (AREA)
- Mechanical Engineering (AREA)
- Physics & Mathematics (AREA)
- Acoustics & Sound (AREA)
- Multimedia (AREA)
- Transducers For Ultrasonic Waves (AREA)
- Ultra Sonic Daignosis Equipment (AREA)
Description
flc≦fco≦fhc …(6)
ここで、flc及びfhcはトランスデューサの送受信感度G(f)の低域カットオフ周波数及び高域カットオフ周波数である。
図1は、第1実施形態のCMUT(10)の垂直断面図であり、図2はその平面図である。図2中のAA断面が図1に相当する。図2は図1の3Aの面上を表示している。なお、説明の便宜上、CMUT(10)が超音波を送信する方向、すなわち図1の上方、及び図2の紙面に対して垂直上方向を、z方向とする。また、図1及び図2の右手方向をx方向とし、図1の紙面に対して垂直下方向及び図2の上方向をy方向とする。
csub>c …(9)
の条件を満たすとき、式(8)の第1式の音響放射インピーダンスZ(f)が実数となり、音響放射として意味を持つ。従って、媒質への音響エネルギー放射は式(9)の条件を満たしたときのみ起こりうる。また、
csub=c …(10)
のとき、理論上音響放射インピーダンスは無限大に発散する。これは、横波の速度と媒質の音速が等しくなり、弾性板表面では常に横波と媒質の振動が同期した状態(位相が一致した状態)、いわゆる共振状態になるからである。この周波数をコインシデンス周波数fco(Coincidence frequency)と言う。実際には摩擦等の何らかの抵抗成分が存在することで無限大の放射効率はあり得ないが、コインシデンス周波数のときが横波の放射効率が最も高く、この周波数の横波は瞬時に基板からエネルギーを失い減衰する。一方、
csub<c …(11)
の条件では、式(8)より、Z(f)が虚数となり、理論的に外部に横波の音響エネルギーが放射されない。従って、横波はほとんど減衰されない。放射角はcsub及びcに依存し、csubは周波数及び基板の物理パラメータ(厚さ、ヤング率、密度、ポアソン比)によっても変化する。ある周波数の横波が1サイクル(1波)あたり媒質に放射するエネルギーは、式(8)の音響放射インピーダンスZ(f)に比例し、媒質へのエネルギー放射効率η(f)(Radiation energy efficiency)は放射インピーダンスZ(f)の係数(ρc/S)で規格化した以下の式で表現される。
逆に、コインシデンス周波数fcoをCMUTの送受感度の低域カットオフ周波数flcよりも極端に低くすると、横波を最も効率的に放射できる周波数帯と感度帯域が重ならず、非効率である。ここで言う極端な低い周波数について定義する。CMUTトランスデューサを医療用超音波診断機の探触子として使用することを仮定する。生体の撮像を目的とするならば、標準的な撮像領域は体表より深さ10cm程度であり、使用する探触子の低域カットオフ周波数は概ね10MHz以下である。生体の減衰係数は水とほぼ同じで0.5[dB/cm/MHz]である。従って、10MHzで10cmの深さまで撮像しようとするとき、探触子から送信された信号は、生体内の反射点からの往復で、0.5[dB/cm/MHz]×10[cm]×2×10[MHz]=100dBの減衰が起こる。従って、このような場合、探触子の持つ信号のダイナミックレンジは100dB程度要求される。このような理由から、通常、医療用超音波診断装置等では、送受感度のダイナミックレンジとして100dB程度は保持している。逆に、探触子の送受感度から−100dB以下となる低域側の周波数はほとんど場合においてノイズレベルに埋もれた信号となり、意味をなさない。従って、探触子の送受感度G(f)の最大値から−100dBとなる低周波側の周波数を低域限界周波数flminと定義し、本発明においては、少なくともfcoを低域限界周波数flmin以上とするように設定することが妥当である。
第1実施形態の説明では、媒質に音響レンズ(音速=1000m/s)を仮定した。しかし、実際の使用状況では、図13に示すように水や生体12が直接CMUTに接触する場合がある。なお、図13ではCMUTの振動部構造については図示を省略している。水や生体は縦波音速が1500[m/s]程度である。コインシデンス周波数は、基板1の横波音速と基板に接触している材料の音速で決まるため、接触している材料が変わると最適な基板厚も変わる。
上記2つの実施形態においては、媒質はCMUTの上部側(+z側)への横波のエネルギー放射を考えていた。超音波探触子の使用方法としては、図13に示すように、下部側(−z側)にはバッキング材13が接着される場合がある。バッキング材は主に音速が2000−3000[m/s]の樹脂や金属が使用されることが多い。第2実施形態と同様に、コインシデンス周波数は基板1の横波音速と接触している材料の音速で決まるため、接触している材料が変わると最適な基板厚も変わる。
第3実施形態においては、直接バッキング材が基板に密着している状態を想定している。しかし、実際は図16に示すように、何らかの接着剤14により基板とバッキング材を接着させる場合が多い。このとき、横波のバッキング材へのエネルギー放射は接着材を介して行われるため、第3実施形態とは若干異なる基板厚が最適な値となる。接着層の厚さは通常数μmから数十μmあり、またその音速は1000〜2000[m/s]程度のものが多い。このとき10[MHz]の波長は100〜200[μm]となる。従って、接着層の厚さは接着材内部の縦波の波長に対して十分薄いとはいえない。波長に対して十分薄くない場合、音響的には無視できず、接着層が媒質として機能してくる。このため、バッキング材が接着剤を介して基板に接着されている場合は、接着材の音速が重要になる。第2実施形態及び第3実施形態で述べたように、水の音速が1500[m/s]程度、またバッキング材の音速が2000〜3000[m/s]程度であるため、接着材の音速はこれらの中間的な値である。従って、最適な基板厚は水の場合とバッキング材の場合の間に含まれる。本発明による手順にしたがい、上記第1実施形態から第3実施形態同様の計算を行うと、概ね、15−300[μm]が横波エネルギーの放射にとって望ましい基板厚になる。
本発明においては、図17に示すようにCMUT下部側に電子回路15を装着することができる。CMUTに接触する部分の電子回路の材質が一般的なプラスチック基板の場合、音速は上記第3実施形態もしくは第4実施形態で記載した接着剤やバッキング材料程度であるので、最適基板厚も第3実施形態もしくは第4実施形態程度となる。一方、電子回路を半導体プロセスにより直接基板直下に構築させる場合は、電子回路の音速はシリコン基板に近いものとなり、相当高速(たとえば8000[m/s])となる。この場合、通常のCMUTの送受感度帯域内にコインシデンス周波数が収まらなくなるため、横波エネルギーの多くは前面より放射させるしなかい。この場合、最適基板厚は第1実施形態もしくは第2実施形態で記載のものとなる。
上記の第1実施形態から第5実施形態においては、単一の音響媒質と基板との関係しか述べていない。しかし、実際に探触子として使用されるCMUTは前面及び背面の両側に音響媒質が接触している場合が多い。この場合、横波のエネルギーは前面と背面の両側に放射されることになる。前面と背面の音響媒質が異なる場合、特に音速が異なる場合は、当然ながら前面と背面にとっての最適な基板厚が異なる。このような複数の音響媒質にCMUTが接しているときの基板厚の設定方法について以下に提示する。図19に本実施形態の概念図を示す。二つの異なる音響媒質がCMUTの前面及び背面に接触しているとき、それぞれの音響媒質への横波のエネルギー放射効率をη1(f)及びη2(f)で表す。それぞれの音響媒質の音速が異なる場合、それぞれのコインシデンス周波数fco1及びfco2も異なり、その結果、送受感度G(f)と重なる範囲も異なる。このような場合、横波エネルギーの放射効率の最大化の観点からは、以下の条件を満たすときが望ましい。
第6実施形態において、複数のコインシデンス周波数が必ずしもすべて同時にCMUTの送受感度帯域内に入るとは限らない。このような場合、背面材側のコインシデンス周波数が感度帯域内に入ることを優先すべきである。なぜならば、前面に放射された横波のエネルギーが撮像対象物内の何らかの反射源から音としてエネルギーが反射され、不要な信号成分になる可能性があるからである。従って、前面及び背面でコインシデンス周波数が大きく異なり、両者が同時にCMUTの送受信感度帯域内に収まらない場合は、撮像対象物とは反対である基板の背面に接する媒質に対応するコインシデンス周波数が、式(13)に従って最適となるように基板厚を設定すべきである。
2:下部電極
3A:上部電極
3B:上部電極
3C:上部電極
4:絶縁膜
5:振動膜
6:媒質
7:空隙層
8:支持壁
9:バッキング材
10:静電容量型マイクロマシン超音波トランスデューサ
12:前面媒質
13:背面材(バッキング材)
14:接着剤
15:電子回路
30:コネクタ部
31:引出線
32:上部電極接続パッド
33:下部電極接続パッド
40:送受切替スイッチ
41:電圧リミッター
42:電源
43:送信アンプ
44:受信アンプ
45:直流電源
46:D/Aコンバータ
47:A/Dコンバータ
48:送信ビームフォーマ
49:受信ビームフォーマ
50:制御部
51:信号処理部
52:スキャンコンバータ
53:表示部
54:ユーザインターフェース
70:アーチファクト領域
80:横波による媒質への音響放射によって形成される音波の波面
91:感度帯域
100:コインシデンス周波数と基板厚の関係(媒質が音響レンズ)
110:コインシデンス周波数と基板厚の関係(媒質が水)
120:コインシデンス周波数と基板厚の関係(媒質がバッキング材)
210:音響レンズ
220:音響整合層
240:導電性膜
300:超音波トランスデューサアレイ
400:焦点
2000:超音波探触子(プローブ)
G(f):感度周波数特性
ηA (f):コインシデンス周波数が感度帯域の低域カットオフ付近の横波エネルギー放射効率特性
ηB (f):コインシデンス周波数が感度帯域の高域カットオフ付近の横波エネルギー放射効率特性
F(f):横波エネルギー放射の評価関数
η1 (f):媒質1に対するコインシデンス周波数
η2 (f):媒質2に対するコインシデンス周波数
Claims (15)
- 第1の電極を備える基板と第2の電極を備える振動膜を有し、前記振動膜は前記基板から立ち上がった支持壁によって周縁部が前記基板に固定され、前記基板と前記振動膜の間に空隙層が形成されている静電容量型マイクロマシン超音波トランスデューサを備える超音波探触子において、
前記基板内を伝搬する横波音速は、当該超音波探触子の感度帯域内の少なくとも一部の周波数帯域において前記基板又は前記振動膜に接する媒質の縦波音速以上であることを特徴とする超音波探触子。 - 請求項1に記載の超音波探触子において、前記基板あるいは前記振動膜と接する媒質に対する前記基板のコインシデンス周波数が前記感度帯域内に存在することを特徴とする超音波探触子。
- 請求項1に記載の超音波探触子において、前記基板あるいは前記振動膜と接する媒質に対する前記基板のコインシデンス周波数が前記感度帯域の低域限界周波数以上、高域カットオフ周波数以下であることを特徴とする超音波探触子。
- 請求項1に記載の超音波探触子において、前記基板あるいは前記振動膜と接する媒質に対する前記基板のコインシデンス周波数が1MHz以上、20MHz以下であることを特徴とする超音波探触子。
- 請求項1に記載の超音波探触子において、前記超音波トランスデューサの音響放射面に音響レンズを備えることを特徴とする超音波探触子。
- 請求項5に記載の超音波探触子において、前記基板は厚さが3.8μm以上70μm以下であることを特徴とする超音波探触子。
- 請求項1に記載の超音波探触子において、使用時、前記超音波トランスデューサの音響放射面に水又は生体を接触させることを特徴とする超音波探触子。
- 請求項7に記載の超音波探触子において、前記基板は厚さが12μm以上170μm以下であることを特徴とする超音波探触子。
- 請求項1に記載の超音波探触子において、前記超音波トランスデューサは基板側にバッキング材を備えることを特徴とする超音波探触子。
- 請求項1に記載の超音波探触子において、前記超音波トランスデューサの音響放射面に音響レンズもしくは水もしくは生体を接触させ、かつ基板側にバッキング材を備えることを特徴とする超音波探触子。
- 請求項9又は10に記載の超音波探触子において、前記基板は厚さが12μm以上440μm以下であることを特徴とする超音波探触子。
- 請求項1に記載の超音波探触子において、前記超音波トランスデューサの基板側に接着剤によってバッキング材を接着したことを特徴とする超音波探触子。
- 請求項12に記載の超音波探触子において、前記基板は厚さが15μm以上300μm以下であることを特徴とする超音波探触子。
- 請求項1に記載の超音波探触子において、前記超音波トランスデューサの基板側に電子回路を備えることを特徴とする超音波探触子。
- 請求項14に記載の超音波探触子において、前記基板は厚さが15μm以上300μm以下であることを特徴とする超音波探触子。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2011510315A JP5643191B2 (ja) | 2009-04-21 | 2010-04-19 | 超音波探触子及び超音波撮像装置 |
Applications Claiming Priority (4)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2009103271 | 2009-04-21 | ||
JP2009103271 | 2009-04-21 | ||
PCT/JP2010/056938 WO2010122982A1 (ja) | 2009-04-21 | 2010-04-19 | 超音波探触子及び超音波撮像装置 |
JP2011510315A JP5643191B2 (ja) | 2009-04-21 | 2010-04-19 | 超音波探触子及び超音波撮像装置 |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JPWO2010122982A1 JPWO2010122982A1 (ja) | 2012-10-25 |
JP5643191B2 true JP5643191B2 (ja) | 2014-12-17 |
Family
ID=43011099
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP2011510315A Active JP5643191B2 (ja) | 2009-04-21 | 2010-04-19 | 超音波探触子及び超音波撮像装置 |
Country Status (5)
Country | Link |
---|---|
US (1) | US8760974B2 (ja) |
EP (1) | EP2424273B1 (ja) |
JP (1) | JP5643191B2 (ja) |
CN (1) | CN102405653B (ja) |
WO (1) | WO2010122982A1 (ja) |
Families Citing this family (12)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP5409138B2 (ja) * | 2009-06-19 | 2014-02-05 | キヤノン株式会社 | 電気機械変換装置、電気機械変換装置の感度ばらつき検出方法、及び補正方法 |
KR101525336B1 (ko) * | 2011-01-06 | 2015-06-02 | 가부시키가이샤 히타치 메디코 | 초음파 탐촉자 |
US10293375B2 (en) * | 2013-09-24 | 2019-05-21 | Koninklijke Philips N.V. | CMUT device manufacturing method, CMUT device and apparatus |
JP6274652B2 (ja) * | 2014-02-20 | 2018-02-07 | 信越ポリマー株式会社 | 超音波診断装置用音響レンズ及び超音波診断装置用プローブ |
JP6331513B2 (ja) * | 2014-03-13 | 2018-05-30 | コニカミノルタ株式会社 | 音響センサー、超音波探触子及び超音波診断装置 |
JP2015223640A (ja) * | 2014-05-26 | 2015-12-14 | セイコーエプソン株式会社 | Mems構造体、電子機器および移動体 |
JP6424507B2 (ja) * | 2014-07-28 | 2018-11-21 | コニカミノルタ株式会社 | 超音波トランスデューサ及び超音波診断装置 |
FR3030943B1 (fr) * | 2014-12-17 | 2017-07-21 | St Microelectronics Tours Sas | Dispositif acoustique d'isolation galvanique |
JP6429759B2 (ja) * | 2015-10-24 | 2018-11-28 | キヤノン株式会社 | 静電容量型トランスデューサ及びそれを備える情報取得装置 |
CN107182018B (zh) * | 2017-06-13 | 2019-10-11 | 山西宇翔信息技术有限公司 | 一种声音传感器 |
US20190069842A1 (en) * | 2017-09-07 | 2019-03-07 | Butterfly Network, Inc. | Wrist bound ultrasound-on-a-chip device |
US10387111B1 (en) * | 2018-12-06 | 2019-08-20 | Nanning Fugui Precision Industrial Co., Ltd. | Electronic device and method for adjusting sound |
Citations (3)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2006319712A (ja) * | 2005-05-13 | 2006-11-24 | Olympus Medical Systems Corp | 静電容量型超音波振動子とその製造方法 |
JP2007229327A (ja) * | 2006-03-03 | 2007-09-13 | Olympus Medical Systems Corp | 超音波振動子及びそれを搭載した体腔内超音波診断装置 |
JP2008193357A (ja) * | 2007-02-02 | 2008-08-21 | Hitachi Medical Corp | 超音波探触子 |
Family Cites Families (13)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
US6295247B1 (en) * | 1998-10-02 | 2001-09-25 | The Board Of Trustees Of The Leland Stanford Junior University | Micromachined rayleigh, lamb, and bulk wave capacitive ultrasonic transducers |
US6262946B1 (en) | 1999-09-29 | 2001-07-17 | The Board Of Trustees Of The Leland Stanford Junior University | Capacitive micromachined ultrasonic transducer arrays with reduced cross-coupling |
US6359367B1 (en) | 1999-12-06 | 2002-03-19 | Acuson Corporation | Micromachined ultrasonic spiral arrays for medical diagnostic imaging |
US6862254B2 (en) | 2000-10-19 | 2005-03-01 | Sensant Corporation | Microfabricated ultrasonic transducer with suppressed substrate modes |
US7332850B2 (en) * | 2003-02-10 | 2008-02-19 | Siemens Medical Solutions Usa, Inc. | Microfabricated ultrasonic transducers with curvature and method for making the same |
US7321181B2 (en) * | 2004-04-07 | 2008-01-22 | The Board Of Trustees Of The Leland Stanford Junior University | Capacitive membrane ultrasonic transducers with reduced bulk wave generation and method |
US7545075B2 (en) * | 2004-06-04 | 2009-06-09 | The Board Of Trustees Of The Leland Stanford Junior University | Capacitive micromachined ultrasonic transducer array with through-substrate electrical connection and method of fabricating same |
JP5275565B2 (ja) * | 2004-06-07 | 2013-08-28 | オリンパス株式会社 | 静電容量型超音波トランスデューサ |
WO2006040962A1 (ja) * | 2004-10-15 | 2006-04-20 | Olympus Medical Systems Corp. | 超音波振動子およびその製造方法 |
JP5348844B2 (ja) * | 2004-10-15 | 2013-11-20 | 株式会社日立メディコ | 超音波診断装置 |
US7037746B1 (en) * | 2004-12-27 | 2006-05-02 | General Electric Company | Capacitive micromachined ultrasound transducer fabricated with epitaxial silicon membrane |
US7741686B2 (en) * | 2006-07-20 | 2010-06-22 | The Board Of Trustees Of The Leland Stanford Junior University | Trench isolated capacitive micromachined ultrasonic transducer arrays with a supporting frame |
JP4776691B2 (ja) * | 2006-09-28 | 2011-09-21 | 株式会社日立製作所 | 超音波探触子及び超音波撮像装置 |
-
2010
- 2010-04-19 CN CN201080017042.6A patent/CN102405653B/zh active Active
- 2010-04-19 US US13/265,455 patent/US8760974B2/en active Active
- 2010-04-19 EP EP10767039.0A patent/EP2424273B1/en active Active
- 2010-04-19 JP JP2011510315A patent/JP5643191B2/ja active Active
- 2010-04-19 WO PCT/JP2010/056938 patent/WO2010122982A1/ja active Application Filing
Patent Citations (3)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2006319712A (ja) * | 2005-05-13 | 2006-11-24 | Olympus Medical Systems Corp | 静電容量型超音波振動子とその製造方法 |
JP2007229327A (ja) * | 2006-03-03 | 2007-09-13 | Olympus Medical Systems Corp | 超音波振動子及びそれを搭載した体腔内超音波診断装置 |
JP2008193357A (ja) * | 2007-02-02 | 2008-08-21 | Hitachi Medical Corp | 超音波探触子 |
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
EP2424273A1 (en) | 2012-02-29 |
EP2424273A4 (en) | 2017-05-17 |
JPWO2010122982A1 (ja) | 2012-10-25 |
US20120038242A1 (en) | 2012-02-16 |
EP2424273B1 (en) | 2020-11-25 |
CN102405653B (zh) | 2015-06-03 |
WO2010122982A1 (ja) | 2010-10-28 |
CN102405653A (zh) | 2012-04-04 |
US8760974B2 (en) | 2014-06-24 |
Similar Documents
Publication | Publication Date | Title |
---|---|---|
JP5643191B2 (ja) | 超音波探触子及び超音波撮像装置 | |
JP5342005B2 (ja) | 超音波探触子及び超音波撮像装置 | |
JP4909279B2 (ja) | 超音波探触子 | |
JP5961246B2 (ja) | 基板に対して抑制された音響結合を持つ超音波cmut | |
US11800806B2 (en) | Method for manufacturing a multi-cell transducer | |
WO2007046180A1 (ja) | 超音波トランスデューサ、超音波探触子および超音波撮像装置 | |
EP2401966A1 (en) | Ultrasound probe and ultrasound imaging apparatus | |
JP4740770B2 (ja) | 超音波探触子及び超音波撮像装置 | |
JPWO2011105269A1 (ja) | 超音波探触子とそれを用いた超音波撮像装置 | |
JP5406374B2 (ja) | 超音波探触子およびそれを用いた超音波診断装置 | |
JP2008119318A (ja) | 超音波探触子及び超音波診断装置 | |
JP6782649B2 (ja) | 超音波撮像装置 | |
KR101955787B1 (ko) | 바늘형 초음파 수신기가 적용된 집속 초음파 트랜스듀서 및 그 작동방법 | |
JP4842010B2 (ja) | 超音波探触子及び超音波診断装置 | |
JP2020115940A (ja) | 超音波プローブ、及び超音波診断装置 | |
CN108889589A (zh) | 超声换能器及超声装置 | |
Asano et al. | 1Pb4-5 Basic Study of Low-frequency Airborne Ultrasonic Emitter with an Annular Piezoelectric Element | |
JP2006262149A (ja) | 超音波探触子及び超音波診断装置 | |
Liu et al. | Capacitive micromachined ultrasonic focusing device for ultrasound applications |
Legal Events
Date | Code | Title | Description |
---|---|---|---|
A131 | Notification of reasons for refusal |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131 Effective date: 20131008 |
|
A521 | Request for written amendment filed |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523 Effective date: 20131205 |
|
TRDD | Decision of grant or rejection written | ||
A01 | Written decision to grant a patent or to grant a registration (utility model) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A01 Effective date: 20140930 |
|
A61 | First payment of annual fees (during grant procedure) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A61 Effective date: 20141030 |
|
R150 | Certificate of patent or registration of utility model |
Ref document number: 5643191 Country of ref document: JP Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R150 |
|
S111 | Request for change of ownership or part of ownership |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R313111 |
|
S533 | Written request for registration of change of name |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R313533 |
|
R350 | Written notification of registration of transfer |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R350 |
|
R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
|
S111 | Request for change of ownership or part of ownership |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R313111 |
|
R350 | Written notification of registration of transfer |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R350 |
|
R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
|
R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
|
S111 | Request for change of ownership or part of ownership |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R313111 |
|
R350 | Written notification of registration of transfer |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R350 |