JP5637836B2 - 光学式変位計 - Google Patents
光学式変位計 Download PDFInfo
- Publication number
- JP5637836B2 JP5637836B2 JP2010281231A JP2010281231A JP5637836B2 JP 5637836 B2 JP5637836 B2 JP 5637836B2 JP 2010281231 A JP2010281231 A JP 2010281231A JP 2010281231 A JP2010281231 A JP 2010281231A JP 5637836 B2 JP5637836 B2 JP 5637836B2
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- light
- peak
- received
- unit
- peak position
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Expired - Fee Related
Links
Images
Classifications
-
- G—PHYSICS
- G01—MEASURING; TESTING
- G01B—MEASURING LENGTH, THICKNESS OR SIMILAR LINEAR DIMENSIONS; MEASURING ANGLES; MEASURING AREAS; MEASURING IRREGULARITIES OF SURFACES OR CONTOURS
- G01B11/00—Measuring arrangements characterised by the use of optical techniques
- G01B11/24—Measuring arrangements characterised by the use of optical techniques for measuring contours or curvatures
-
- G—PHYSICS
- G01—MEASURING; TESTING
- G01B—MEASURING LENGTH, THICKNESS OR SIMILAR LINEAR DIMENSIONS; MEASURING ANGLES; MEASURING AREAS; MEASURING IRREGULARITIES OF SURFACES OR CONTOURS
- G01B11/00—Measuring arrangements characterised by the use of optical techniques
- G01B11/02—Measuring arrangements characterised by the use of optical techniques for measuring length, width or thickness
- G01B11/026—Measuring arrangements characterised by the use of optical techniques for measuring length, width or thickness by measuring distance between sensor and object
-
- G—PHYSICS
- G01—MEASURING; TESTING
- G01S—RADIO DIRECTION-FINDING; RADIO NAVIGATION; DETERMINING DISTANCE OR VELOCITY BY USE OF RADIO WAVES; LOCATING OR PRESENCE-DETECTING BY USE OF THE REFLECTION OR RERADIATION OF RADIO WAVES; ANALOGOUS ARRANGEMENTS USING OTHER WAVES
- G01S17/00—Systems using the reflection or reradiation of electromagnetic waves other than radio waves, e.g. lidar systems
- G01S17/02—Systems using the reflection of electromagnetic waves other than radio waves
- G01S17/06—Systems determining position data of a target
- G01S17/46—Indirect determination of position data
- G01S17/48—Active triangulation systems, i.e. using the transmission and reflection of electromagnetic waves other than radio waves
-
- G—PHYSICS
- G01—MEASURING; TESTING
- G01S—RADIO DIRECTION-FINDING; RADIO NAVIGATION; DETERMINING DISTANCE OR VELOCITY BY USE OF RADIO WAVES; LOCATING OR PRESENCE-DETECTING BY USE OF THE REFLECTION OR RERADIATION OF RADIO WAVES; ANALOGOUS ARRANGEMENTS USING OTHER WAVES
- G01S7/00—Details of systems according to groups G01S13/00, G01S15/00, G01S17/00
- G01S7/48—Details of systems according to groups G01S13/00, G01S15/00, G01S17/00 of systems according to group G01S17/00
- G01S7/481—Constructional features, e.g. arrangements of optical elements
- G01S7/4811—Constructional features, e.g. arrangements of optical elements common to transmitter and receiver
-
- G—PHYSICS
- G01—MEASURING; TESTING
- G01S—RADIO DIRECTION-FINDING; RADIO NAVIGATION; DETERMINING DISTANCE OR VELOCITY BY USE OF RADIO WAVES; LOCATING OR PRESENCE-DETECTING BY USE OF THE REFLECTION OR RERADIATION OF RADIO WAVES; ANALOGOUS ARRANGEMENTS USING OTHER WAVES
- G01S7/00—Details of systems according to groups G01S13/00, G01S15/00, G01S17/00
- G01S7/48—Details of systems according to groups G01S13/00, G01S15/00, G01S17/00 of systems according to group G01S17/00
- G01S7/481—Constructional features, e.g. arrangements of optical elements
- G01S7/4814—Constructional features, e.g. arrangements of optical elements of transmitters alone
- G01S7/4815—Constructional features, e.g. arrangements of optical elements of transmitters alone using multiple transmitters
Landscapes
- Physics & Mathematics (AREA)
- Engineering & Computer Science (AREA)
- General Physics & Mathematics (AREA)
- Computer Networks & Wireless Communication (AREA)
- Radar, Positioning & Navigation (AREA)
- Remote Sensing (AREA)
- Electromagnetism (AREA)
- Length Measuring Devices By Optical Means (AREA)
- Optical Radar Systems And Details Thereof (AREA)
Description
(12)ピーク位置検出部は、受光量分布取得部により取得された第1および第2の受光量分布のうち少なくとも一方に現れるピークの幅を算出し,算出されたピークの幅に基づいて、対象物の表面で1回反射した光による真のピークの可能性があるピークを特定してもよい。
(13)参考形態に係る光学式変位計は、対象物からの反射光のピーク位置を検出することにより三角測距方式で対象物の変位を検出する光学式変位計であって、対象物に光を照射する投光部と、第1の直線偏光成分を含む第1の光および第1の直線偏光成分と異なる第2の直線偏光成分を含む第2の光を互いに識別可能に受光する受光部と、受光部による第1の光の受光量分布を第1の受光量分布として取得するとともに、受光部による第2の光の受光量分布を第2の受光量分布として取得する受光量分布取得部と、受光量分布取得部により取得された第1および第2の受光量分布に基づいて、対象物の表面で複数回反射した光による偽のピーク位置と1回反射した光による真のピーク位置とを識別するための識別情報を算出し、算出された識別情報に基づいて真のピーク位置を特定するピーク位置検出部と、ピーク位置検出部により特定された真のピーク位置に対応する対象物の変位を算出する計測処理部とを備えるものである。
図1は、第1の実施の形態に係る光学式変位計の構成を示すブロック図である。図1に示すように、光学式変位計100は、投受光部100aおよび制御部100bを備える。投受光部100aは、投光部1および受光部2を含む。制御部100bは、投光制御部3、受光制御部4、波形処理部7、プロファイル生成部8、計測処理部9およびインターフェース部10を含む。
光学式変位計100の動作の概要について説明する。図2は、投受光部100aおよびワークWの外観斜視図である。図3および図4は、ワークWの表面における光の照射位置と受光素子21における光の入射位置との関係を示す図である。図2〜図4においては、水平面内で互いに直交する2方向をX方向およびY方向と定義し、矢印X,Yで示し、鉛直方向をZ方向と定義し、矢印Zで示す。また、図3および図4においては、受光素子21の受光面上で互いに直交する2方向をA1方向およびA2方向と定義し、矢印A1,A2で示す。ここで、受光面とは、受光素子21の複数の画素により形成される面である。
上記のように、照射領域T1で反射された光が受光素子21に入射することにより、照射領域T1の高さを表すピークが波形データに表れる。しかしながら、照射領域T1以外の部分で反射された光が受光素子21に入射することがある。この場合、照射領域T1の高さを示すピーク(以下、真ピークと呼ぶ)とは異なるピーク(以下、偽ピークと呼ぶ)が波形データに現れる。波形データの偽ピークが照射領域T1の高さを示すピークとして誤って選択されると、不正確なプロファイルデータが生成される。
本実施の形態では、互いに異なる偏光方向の2種類の光を用いることにより、偽ピークP2が誤って検出されることを防止することができる。以下、その詳細について説明する。
図8に示したY方向に延びる溝M1を有するワークWを例に、偏光方向と反射率との関係について説明する。図8(a)に示すように、X方向に偏光する光をP偏光とし、Y方向に偏光する光をS偏光とした場合、ワークWの表面でのX方向における光の反射率は、ワークWに照射された光がP偏光であるかまたはS偏光であるかによって異なる。図8に例示したワークWにおいては、X方向成分を含む方向に反射された光が他の領域でさらに反射され、多重反射が発生する。このとき、X方向を多重反射方向と定義すると、X方向に偏光するP偏光の多重反射方向における反射率が、Y方向に偏光するS偏光の多重反射方向における反射率よりも小さくなる。特に、正反射される場合の反射率の差は、拡散反射される場合の反射率の差よりも大幅に大きい。
図15は、波形処理部7によるピーク位置検出処理のフローチャートである。第1の光での撮像が完了すると、波形処理部7は、第1の光の受光量分布からなる複数の第1の波形データを生成する(ステップS1)。上述したように、第1の波形データは、図7のA2方向に沿った画素列毎にそれぞれ生成される。そのため、図7のA1方向に配列される複数の画素列分の複数の第1の波形データが順次生成される。
本実施の形態に係る光学式変位計100においては、照射部1からワークWに互いに偏光方向が異なる第1および第2の光が選択的に照射され、ワークWにおいて反射された第1および第2の光の受光量分布を示す第1および第2の波形データがそれぞれ生成される。生成された第1および第2の波形データの間で互いに対応するピークの比が算出され、算出された比に基づいて、第1および第2の波形データから1つのピークが選択される。
(1−8−1)
図16は、投光部1の他の例を示す図である。図16の投光部1が図12の投光部1と異なるのは次の点である。図16の投光部1においては、投光素子11a、コリメータレンズ12aおよびPBS14の代わりに、波長板駆動部17が設けられる。波長板駆動部17としては、例えばロータリソレノイドまたはモータが用いられる。
図17は、投光部1のさらに他の例を示す図である。図17の例が図12の例と異なるのは次の点である。図16の投光部1においては、投光素子11a、コリメータレンズ12a、半波長板13およびPBS14の代わりに、偏光方向制御部18が設けられる。偏光方向制御部18としては、例えば液晶スイッチ、EOM(Electro Optic Modulator:電気光学変調器)またはファラデー回転子(Faraday Rotator)が用いられる。
(1−9−1)
上記のように、第1の光の反射率は第2の光の反射率よりも小さいので、多重反射された第2の光の強度に対する同じ回数反射された第1の光の強度の比は、1回反射された第2の光の強度に対する1回反射された第1の光の強度の比よりも小さい。そのため、照射される第1および第2の光の強度が等しい場合、第1波形データと第2の波形データとの間で互いに対応する真ピークの値の差の絶対値は、互いに対応する偽ピークの値の差の絶対値よりも小さい。
図15のピーク位置検出処理のステップS7において、上記のように第1の波形データと第2の波形データとの間で互いに対応するピークの値の差が算出される場合に、予め定められた係数が各ピークの値に乗算され、乗算された値の差が算出されてもよい。
第1および第2の波形データの各々に現れるピークの数が多くなると、第1および第2の波形データの間で互いに対応するピークの値の比または差を算出する処理が煩雑になる。そこで、第1および第2の波形データに現れる各ピークの幅に基づいて、真ピークの可能性があるピークを特定し、特定されたピークに関してのみ比または差を算出してもよい。図18は、投光部1、受光素子21および受光レンズ22の位置関係を示す図である。図19は、真ピークおよび偽ピークの幅について説明するための図である。
上記の例では、波形データに基づいて真ピークが特定されるが、これに限らず、受光素子21の受光量分布に基づいて真ピークが特定されてもよい。
図8に示した例では、ワークWに照射される第1の光がワークWの表面に対してP偏光となり、ワークWに照射される第2の光がワークWの表面に対してS偏光となるように、投受光部100aおよびワークWが配置されているが、ワークWに照射される第1の光がワークWの表面に対してS偏光となり、ワークWに照射される第2の光がワークWの表面に対してP偏光となるように、投受光部100aおよびワークWが配置されている場合、多重反射方向への光の反射率の大小関係が逆転するため、相対値(第2の波形データのピークの値に対する第1の波形データのピークの値の比)が最小となるピーク位置を真のピーク位置として特定すべきである。あるいは、照射する第1の光と第2の光との偏光成分を逆転させることにより、相対値が最大となるピーク位置を真のピーク位置として認識することも可能である。
(2−1)
本発明の第2の実施の形態にかかる光学式変位計100について、上記第1の実施の形態に係る光学式変位計100と異なる点を説明する。図22は、第2の実施の形態に係る光学式変位計100の投光部および受光部の構成を示す図である。
本実施の形態に係る光学式変位計100においては、照射部1からワークWに共通の光が照射され、ワークWからの反射光が第1および第2の光として受光素子21に選択的に導かれる。この場合も、上記第1の実施の形態と同様に、第1および第2の波形データの間で互いに対応するピークの相対値に基づいて、第1および第2の波形データの各々において、真ピークを正確に選択することができる。したがって、ワークWの照射領域T1の高さを示す真のピーク位置を正確に検出することができる。その結果、ワークWの断面形状を正確に検出することができる。
図23は、投光部1および受光部2の他の例を示す図である。図23の投光部1および受光部2が図22の投光部1および受光部2と異なるのは、次の点である。
(3−1)
上記第1および第2の実施の形態では、第1の光の偏光方向と第2の光の偏光方向との角度が90°に調製されるが、これに限らない。第1の光の受光量分布と第2の光の受光量分布との間で互いに対応するピークの相対値に基づいて、真のピーク位置を選択することが可能であれば、第1の光の偏光方向と第2の光の偏光方向との角度が90°からずれていてもよい。また、第1および第2の光にP偏光成分およびS偏光成分以外の偏光成分が含まれてもよい。
上記第1および第2の実施の形態では、第1の光の受光量分布におけるピークの値と第2の光の受光量分布におけるピークの値との相対値として、比、差、または予め定められた係数を用いて演算された値が用いられるが、これに限らない。真ピークを正確に選択することが可能であれば、第1の光の受光量分布におけるピークの値および第2の光の受光量分布におけるピークの値を用いた種々の演算により得られる値が相対値として用いられてもよい。
本発明の実施の形態は、光切断方式によりワークWの断面形状を検出する光学式変位計100に限定されない。例えば、点状の光を対象物上に走査し、反射光の受光量分布に基づいて対象物の変位を2次元で検出する光走査式の光学式変位計、または線状の光を対象物に照射し、反射光に基づいてワークWの変位を一次元で検出する光学式変位計において、上記第1および第2の実施の形態と同様の構成を用いてもよい。この場合も、対象物において1回反射された光によるピークの位置を正確に検出することができる。それにより、対象物の変位を正確に検出することができる。
以下、請求項の各構成要素と実施の形態の各部との対応の例について説明するが、本発明は下記の例に限定されない。
2 受光部
6 波形生成部
7 波形処理部
8 プロファイル生成部
11a,11b 投光素子
12a,12b コリメータレンズ
13 半波長板
14 PBS
15,16 拡張光学系
17 波長板駆動部
18 偏光方向制御部
22 受光レンズ
23a,23b 偏光板
24 偏光板切替部
100 光学式変位計
100a 投受光部
100b 制御部
W ワーク
Claims (12)
- 対象物からの反射光のピーク位置を検出することにより三角測距方式で対象物の変位を検出する光学式変位計であって、
直線偏光であって偏光方向が互いに異なり、対象物の表面での反射率が異なる2種類の光を対象物に選択的に照射する投光部と、
第1の直線偏光成分を含む第1の光および前記第1の直線偏光成分と異なる第2の直線偏光成分を含む第2の光を互いに識別可能に受光する受光部と、
前記受光部による前記第1の光の受光量分布を第1の受光量分布として取得するとともに、前記受光部による前記第2の光の受光量分布を第2の受光量分布として取得する受光量分布取得部と、
前記受光量分布取得部により取得された前記第1および第2の受光量分布に基づいて、対象物の表面で複数回反射した光による偽のピーク位置と1回反射した光による真のピーク位置とを識別するための識別情報を算出し、算出された前記識別情報に基づいて前記真のピーク位置を特定するピーク位置検出部と、
前記ピーク位置検出部により特定された前記真のピーク位置に対応する対象物の変位を算出する計測処理部とを備えることを特徴とする光学式変位計。 - 前記ピーク位置検出部は、前記受光量分布取得部により取得された前記第1の受光量分布におけるピーク位置を第1のピーク位置として検出し、前記第2の受光量分布におけるピーク位置を第2のピーク位置として検出し、互いに対応する第1および第2のピーク位置の受光量の相対値を前記識別情報として算出することを特徴とする請求項1記載の光学式変位計。
- 前記ピーク位置検出部は、前記受光量分布取得部により取得された前記第1および第2の受光量分布の相対関係を前記識別情報として算出することを特徴とする請求項1記載の光学式変位計。
- 前記投光部は、前記第1および前記第2の光を前記対象物に選択的に照射するように構成されたことを特徴とする請求項1〜3のいずれか記載の光学式変位計。
- 前記投光部は、
光を発生する第1および第2の投光素子と、
前記第1の投光素子により発生される光を前記第1の光として前記対象物に導く第1の光学系と、
前記第2の投光素子により発生される光を前記第2の光として前記対象物に導く第2の光学系とを含むことを特徴とする請求項4記載の光学式変位計。 - 前記投光部は、
光を発生する共通の投光素子と、
前記共通の投光素子により発生される光の偏光成分を制御することにより前記第1および第2の光を前記対象物に照射する偏光成分制御部とを含むことを特徴とする請求項4記載の光学式変位計。 - 前記投光部は、前記第1および第2の直線偏光成分を含む共通の光を前記対象物に照射するように構成され、
前記受光部は、
受光素子と、
前記対象物により反射された前記共通の光を第1および第2の光として選択的に前記受光素子に導く受光選択部をさらに備えたことを特徴とする請求項1〜3のいずれかに記載の光学式変位計。 - 前記識別情報は、前記第1の受光量分布に現れるピークの値と前記第2の受光量分布に現れるピークの値との比を含むことを特徴とする請求項1〜7のいずれかに記載の光学式変位計。
- 前記識別情報は、前記第1の受光量分布に現れるピークの値と前記第2の受光量分布に現れるピークの値との差を含むことを特徴とする請求項1〜7のいずれかに記載の光学式変位計。
- 前記識別情報は、前記第1および第2の受光量分布に現れるピークの値および予め定められた係数を用いた演算により得られる値を含むことを特徴とする請求項1〜7のいずれかに記載の光学式変位計。
- 前記第1の光の偏光方向と前記第2の光の偏光方向とは互いに90度異なることを特徴とする請求項1〜10のいずれかに記載の光学式変位計。
- 前記ピーク位置検出部は、前記受光量分布取得部により取得された前記第1および第2の受光量分布のうち少なくとも一方に現れるピークの幅を算出し,算出されたピークの幅に基づいて、対象物の表面で1回反射した光による真のピークの可能性があるピークを特定することを特徴とする請求項1〜11のいずれかに記載の光学式変位計。
Priority Applications (4)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2010281231A JP5637836B2 (ja) | 2010-12-17 | 2010-12-17 | 光学式変位計 |
US13/304,749 US8675209B2 (en) | 2010-12-17 | 2011-11-28 | Optical displacement meter |
DE102011088693A DE102011088693A1 (de) | 2010-12-17 | 2011-12-15 | Optisches Abstandsmessgerät |
CN201110424359.8A CN102564316B (zh) | 2010-12-17 | 2011-12-16 | 光学位移计 |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2010281231A JP5637836B2 (ja) | 2010-12-17 | 2010-12-17 | 光学式変位計 |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JP2012127887A JP2012127887A (ja) | 2012-07-05 |
JP5637836B2 true JP5637836B2 (ja) | 2014-12-10 |
Family
ID=46234005
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP2010281231A Expired - Fee Related JP5637836B2 (ja) | 2010-12-17 | 2010-12-17 | 光学式変位計 |
Country Status (4)
Country | Link |
---|---|
US (1) | US8675209B2 (ja) |
JP (1) | JP5637836B2 (ja) |
CN (1) | CN102564316B (ja) |
DE (1) | DE102011088693A1 (ja) |
Families Citing this family (25)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
US8665442B2 (en) | 2011-08-18 | 2014-03-04 | Li-Cor, Inc. | Cavity enhanced laser based isotopic gas analyzer |
DE102012015324A1 (de) * | 2012-08-02 | 2014-02-06 | Kuka Roboter Gmbh | Verfahren zum Ermitteln der Position eines Objekts |
JP6142501B2 (ja) * | 2012-10-30 | 2017-06-07 | オムロン株式会社 | 光学式センサ |
JP6079697B2 (ja) | 2013-07-11 | 2017-02-15 | 株式会社村田製作所 | 電子部品の厚さ測定方法、これを用いる電子部品連の製造方法、これによって製造された電子部品連、および、電子部品の検査装置 |
DE102013214997A1 (de) * | 2013-07-31 | 2015-02-05 | Siemens Aktiengesellschaft | Anordnung zur dreidimensionalen Erfassung eines länglichen Innenraumes |
US9116047B2 (en) * | 2013-10-11 | 2015-08-25 | Li-Cor, Inc. | Systems and methods for controlling the optical path length between a laser and an optical cavity |
US10152998B2 (en) * | 2014-04-07 | 2018-12-11 | Seagate Technology Llc | Features maps of articles with polarized light |
US20170135617A1 (en) * | 2014-07-14 | 2017-05-18 | Heptagon Micro Optics Pte. Ltd. | Optoelectronic modules operable to distinguish between signals indicative of reflections from an object of interest and signals indicative of a spurious reflection |
WO2018221049A1 (ja) * | 2017-05-31 | 2018-12-06 | シャープ株式会社 | 光レーダー装置 |
EP3683542B1 (en) * | 2017-09-13 | 2023-10-11 | Sony Group Corporation | Distance measuring module |
CN111164459A (zh) * | 2017-09-28 | 2020-05-15 | 索尼半导体解决方案公司 | 设备和方法 |
EP3732508A1 (en) * | 2017-12-27 | 2020-11-04 | AMS Sensors Singapore Pte. Ltd. | Optoelectronic modules and methods for operating the same |
JP6965784B2 (ja) * | 2018-02-13 | 2021-11-10 | 株式会社リコー | 距離測定装置、およびこれを用いた移動体 |
DE102018114022B4 (de) * | 2018-06-12 | 2020-07-09 | Fraunhofer-Gesellschaft zur Förderung der angewandten Forschung e.V. | Verfahren und Vorrichtung zum optischen Vermessen eines ersten Oberflächenabschnitts eines Prüflings |
JP7117189B2 (ja) | 2018-08-13 | 2022-08-12 | 株式会社キーエンス | 光学式変位計 |
JP7064404B2 (ja) * | 2018-08-13 | 2022-05-10 | 株式会社キーエンス | 光学式変位計 |
JP7202964B2 (ja) * | 2019-04-26 | 2023-01-12 | 株式会社キーエンス | 光学式変位計 |
JP7319083B2 (ja) * | 2019-04-26 | 2023-08-01 | 株式会社キーエンス | 光学式変位計 |
JP7319084B2 (ja) * | 2019-04-26 | 2023-08-01 | 株式会社キーエンス | 光学式変位計 |
JP7399686B2 (ja) * | 2019-11-08 | 2023-12-18 | 株式会社キーエンス | 光学式変位計 |
JP7503412B2 (ja) * | 2020-04-10 | 2024-06-20 | 株式会社キーエンス | 光学式変位センサ |
JP2022138028A (ja) | 2021-03-09 | 2022-09-22 | 株式会社キーエンス | 光学式変位計測システム、処理装置、光学式変位計測方法および光学式変位計測プログラム |
JP2023015886A (ja) | 2021-07-20 | 2023-02-01 | 株式会社キーエンス | 形状検査装置、処理装置、高さ画像処理方法および高さ画像処理プログラム |
JP7531037B1 (ja) | 2023-08-30 | 2024-08-08 | 株式会社キーエンス | 光学式変位計 |
JP7531038B1 (ja) | 2023-08-30 | 2024-08-08 | 株式会社キーエンス | 光学式変位計 |
Family Cites Families (14)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2582107B2 (ja) * | 1988-02-09 | 1997-02-19 | シチズン時計株式会社 | レーザ光を用いた微小寸法計測装置 |
JPH03111707A (ja) * | 1989-09-26 | 1991-05-13 | Fujitsu Ltd | 物体形状検出方法 |
JP2595821B2 (ja) * | 1991-03-12 | 1997-04-02 | 日本電気株式会社 | 三次元形状測定装置 |
JPH0914935A (ja) * | 1995-06-30 | 1997-01-17 | Matsushita Electric Ind Co Ltd | 3次元物体の測定装置 |
US5920394A (en) * | 1995-09-01 | 1999-07-06 | Research Corporation Technologies, Inc. | Optical coordinate measuring machine |
US6476943B1 (en) * | 1999-02-23 | 2002-11-05 | Virtual Pro, Inc. | Distance measurement apparatus |
JP4209709B2 (ja) * | 2003-03-20 | 2009-01-14 | 株式会社キーエンス | 変位計 |
JP4142592B2 (ja) * | 2004-01-07 | 2008-09-03 | シャープ株式会社 | 光学式移動情報検出装置およびそれを備えた電子機器 |
JP5307387B2 (ja) | 2004-09-30 | 2013-10-02 | 江崎グリコ株式会社 | 高分岐かつ高分子量のグリコーゲン |
JP4830061B2 (ja) * | 2005-06-07 | 2011-12-07 | コニカミノルタセンシング株式会社 | 3次元位置計測方法および3次元位置計測に用いる装置 |
US7523021B2 (en) * | 2006-03-08 | 2009-04-21 | Tokyo Electron Limited | Weighting function to enhance measured diffraction signals in optical metrology |
JP5086596B2 (ja) | 2006-10-05 | 2012-11-28 | 株式会社キーエンス | 光学式変位計、光学式変位測定方法、光学式変位測定プログラム及びコンピュータで読み取り可能な記録媒体並びに記録した機器 |
JP5072336B2 (ja) * | 2006-12-07 | 2012-11-14 | 株式会社キーエンス | 光学式変位センサ及び光学式変位計 |
JP5188229B2 (ja) * | 2008-03-25 | 2013-04-24 | 株式会社キーエンス | 接触式変位計 |
-
2010
- 2010-12-17 JP JP2010281231A patent/JP5637836B2/ja not_active Expired - Fee Related
-
2011
- 2011-11-28 US US13/304,749 patent/US8675209B2/en not_active Expired - Fee Related
- 2011-12-15 DE DE102011088693A patent/DE102011088693A1/de not_active Ceased
- 2011-12-16 CN CN201110424359.8A patent/CN102564316B/zh not_active Expired - Fee Related
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
JP2012127887A (ja) | 2012-07-05 |
US8675209B2 (en) | 2014-03-18 |
US20120154807A1 (en) | 2012-06-21 |
DE102011088693A1 (de) | 2012-06-21 |
CN102564316A (zh) | 2012-07-11 |
CN102564316B (zh) | 2016-05-25 |
Similar Documents
Publication | Publication Date | Title |
---|---|---|
JP5637836B2 (ja) | 光学式変位計 | |
US11054506B2 (en) | Spatially self-similar patterned illumination for depth imaging | |
US7075625B2 (en) | Range finder and method | |
CN112469361B (zh) | 用于在共焦相机中生成动态投影图案的设备、方法和系统 | |
US20170322019A1 (en) | Displacement sensor, displacement detection apparatus, and displacement detection method | |
US20150109423A1 (en) | Three-Dimensional Image Processing Apparatus, Three-Dimensional Image Processing Method, Three-Dimensional Image Processing Program, Computer-Readable Recording Medium, And Recording Device | |
WO2015129907A1 (en) | Distance measuring device and parallax calculation system | |
US7502100B2 (en) | Three-dimensional position measurement method and apparatus used for three-dimensional position measurement | |
EP3071930B1 (en) | Apparatus and method for selectively inspecting component sidewalls | |
KR20120101520A (ko) | 범위 기초 감지 | |
EP2463618A1 (en) | Surface profile inspection device | |
EP2813809A1 (en) | Device and method for measuring the dimensions of an objet and method for producing an item using said device | |
JP2015018205A5 (ja) | ||
KR102125483B1 (ko) | 공초점 계측 장치 | |
JP6056798B2 (ja) | エッジ検出装置 | |
JP6168383B2 (ja) | 欠陥検査装置及び欠陥検査方法 | |
JP6906837B2 (ja) | レーザー加工装置 | |
KR20240115789A (ko) | 표면 변형들의 이미지 기반 계측 | |
JP4721685B2 (ja) | 形状測定方法及び形状測定装置 | |
TWI731993B (zh) | 測量裝置 | |
JP2004110804A (ja) | 3次元画像撮影装置及び方法 | |
JP2007225384A (ja) | 反射特性測定装置 | |
JP2016166747A (ja) | 光学検出システム | |
US20230241710A1 (en) | Method for Analyzing a Workpiece Surface for a Laser Machining Process and Analysis Device for Analyzing a Workpiece Surface | |
TWI840592B (zh) | 用於缺陷偵測之系統及方法 |
Legal Events
Date | Code | Title | Description |
---|---|---|---|
A621 | Written request for application examination |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A621 Effective date: 20130917 |
|
A977 | Report on retrieval |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A971007 Effective date: 20140226 |
|
A131 | Notification of reasons for refusal |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131 Effective date: 20140304 |
|
A521 | Written amendment |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523 Effective date: 20140423 |
|
A977 | Report on retrieval |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A971007 Effective date: 20140424 |
|
TRDD | Decision of grant or rejection written | ||
A01 | Written decision to grant a patent or to grant a registration (utility model) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A01 Effective date: 20141014 |
|
A61 | First payment of annual fees (during grant procedure) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A61 Effective date: 20141021 |
|
R150 | Certificate of patent or registration of utility model |
Ref document number: 5637836 Country of ref document: JP Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R150 |
|
R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
|
LAPS | Cancellation because of no payment of annual fees |