JP5636877B2 - Semiconductor laser device and manufacturing method thereof - Google Patents

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Description

本発明は、半導体レーザ素子、ミラー及びレンズを備える半導体レーザ装置及びその製造方法に関する。   The present invention relates to a semiconductor laser device including a semiconductor laser element, a mirror, and a lens, and a manufacturing method thereof.

従来の半導体レーザ装置として、レーザ発光源から送り出された光信号がプリズムの半透過ミラーで反射され、パッケージに一体的に取り付けられたレンズにより光信号を光ファイバに導くような光変換装置が挙げられる(例えば、特許文献1)。   As a conventional semiconductor laser device, there is an optical conversion device in which an optical signal sent from a laser emission source is reflected by a semi-transparent mirror of a prism, and the optical signal is guided to an optical fiber by a lens integrally attached to a package. (For example, Patent Document 1).

特開平8-166527号公報Japanese Unexamined Patent Publication No. 8-166527

従来の半導体レーザ装置においては、半導体レーザ素子から出射されミラーで反射されたレーザ光をレンズに通す場合、レンズを配置する位置に加えて、レンズの傾きについても調整し実装を行う必要がある。位置及び傾きの調整が正確でない場合には、レンズを通して取り出されるレーザ光の位置ずれやビームの傾きが起こる。また、このようなレンズの調整には、レーザ光の光軸上にレンズの中心を合わせる、レンズの距離を調整する、レンズの傾きを調整する、という複数の段階が必要であり、調芯操作が煩雑で調整時間を費やす必要がある。
そこで本願では、位置ずれやビームの傾きのない所望のレーザ光を取り出すことのできる半導体レーザ装置と、効率よくレンズを実装することのできる半導体レーザ装置の製造方法を提供することを目的とする。
In a conventional semiconductor laser device, when laser light emitted from a semiconductor laser element and reflected by a mirror is passed through a lens, it is necessary to adjust and mount the inclination of the lens in addition to the position where the lens is disposed. When the adjustment of the position and tilt is not accurate, the laser beam taken out through the lens is displaced and the beam is tilted. In addition, the adjustment of such a lens requires a plurality of steps of aligning the center of the lens on the optical axis of the laser beam, adjusting the distance of the lens, and adjusting the tilt of the lens. Is complicated and requires adjustment time.
Accordingly, it is an object of the present application to provide a semiconductor laser device that can extract desired laser light without positional deviation and beam tilt, and a method for manufacturing a semiconductor laser device that can efficiently mount a lens.

実施形態に係る半導体レーザ装置は、基板と、基板上に設けられた半導体レーザ素子と、該半導体レーザ素子から出射されたレーザ光を出射方向と異なる方向に反射するミラーと、該ミラーで反射されたレーザ光を制御するレンズとを備える半導体レーザ装置において、前記ミラーは前記基板上に設けられ、前記レンズは前記ミラー上に設けられる。
また、実施形態に係る半導体レーザ装置の製造方法は、基板上に、半導体レーザ素子と該半導体レーザ素子から出射されたレーザ光を出射方向と異なる方向に反射するミラーとを実装する工程と、前記ミラーで反射されたレーザ光を制御するレンズを光軸方向の位置を固定した状態で光軸と垂直な方向の位置合わせをして実装する工程とを備える。
The semiconductor laser device according to the embodiment includes a substrate, a semiconductor laser element provided on the substrate, a mirror that reflects laser light emitted from the semiconductor laser element in a direction different from the emission direction, and the mirror. And a lens that controls the laser beam, the mirror is provided on the substrate, and the lens is provided on the mirror.
Further, the method of manufacturing a semiconductor laser device according to the embodiment includes a step of mounting a semiconductor laser element and a mirror that reflects laser light emitted from the semiconductor laser element in a direction different from the emission direction on a substrate, And mounting a lens for controlling the laser light reflected by the mirror by aligning the lens in the direction perpendicular to the optical axis while fixing the position in the optical axis direction.

本願の半導体レーザ装置によれば、位置ずれやビームの傾きのないレーザ光を取り出すことができる。また、本願の半導体レーザ装置の製造方法によれば、効率よくレンズを実装することができる。   According to the semiconductor laser device of the present application, it is possible to take out laser light with no positional deviation or beam tilt. Moreover, according to the manufacturing method of the semiconductor laser device of the present application, the lens can be mounted efficiently.

実施形態の半導体レーザ装置の構造を説明するための概略斜視図である。It is a schematic perspective view for demonstrating the structure of the semiconductor laser apparatus of embodiment. 実施形態の半導体レーザ装置の構造を説明するための概略断面図である。It is a schematic sectional drawing for demonstrating the structure of the semiconductor laser apparatus of embodiment. 実施形態の半導体レーザ装置の構造を説明するための概略斜視図である。It is a schematic perspective view for demonstrating the structure of the semiconductor laser apparatus of embodiment. 実施形態の半導体レーザ装置の構造を説明するための概略斜視図である。It is a schematic perspective view for demonstrating the structure of the semiconductor laser apparatus of embodiment.

以下に図面を参照しながら実施形態を説明する。ただし、以下に示す形態は、本発明の技術思想を具体化するための半導体レーザ装置及びその製造方法を例示するものであって、本発明を以下に限定するものではない。また、実施の形態に記載されている構成部品の寸法、材質、形状、その相対的配置等は、特定的な記載がない限り、本発明の範囲をそれのみに限定する趣旨ではなく、単なる例示にすぎない。なお、各図面が示す部材の大きさや位置関係等は、説明を明確にするために誇張していることがある。   Embodiments will be described below with reference to the drawings. However, the form shown below exemplifies the semiconductor laser device and the manufacturing method thereof for embodying the technical idea of the present invention, and does not limit the present invention to the following. In addition, the dimensions, materials, shapes, relative arrangements, and the like of the component parts described in the embodiments are not intended to limit the scope of the present invention only to specific examples unless otherwise specified. Only. Note that the size, positional relationship, and the like of the members shown in each drawing may be exaggerated for clarity of explanation.

(実施形態1)
図1は、実施形態の半導体レーザ装置の斜視図であり、図2は、図1のA−A断面における断面図であり、Y軸方向から見た図である。
(Embodiment 1)
FIG. 1 is a perspective view of the semiconductor laser device according to the embodiment, and FIG. 2 is a cross-sectional view taken along a line AA in FIG. 1, as viewed from the Y-axis direction.

実施形態の半導体レーザ装置1では、基板2上に半導体レーザ素子3が配置され、同じ基板2上に半導体レーザ素子3から出射されたレーザ光Lを出射方向と異なる方向に反射するミラー4が配置されている。ミラー4上にはミラーで反射されたレーザ光を制御するレンズが設けられている。図1では、レンズ5a及び取り付け部5bからなるレンズが図示されている。なお、説明の便宜上、図1ではレンズ部5a及び取り付け部5bを透過させて図示している。また、レーザ光Lは基板と平行に出射され、X方向をレーザ光の出射方向、Y方向をX方向と垂直であって基板と平行な方向、Z方向をX方向及び基板と垂直な方向とする。   In the semiconductor laser device 1 of the embodiment, the semiconductor laser element 3 is disposed on the substrate 2, and the mirror 4 that reflects the laser light L emitted from the semiconductor laser element 3 in the direction different from the emission direction is disposed on the same substrate 2. Has been. A lens for controlling the laser beam reflected by the mirror is provided on the mirror 4. In FIG. 1, a lens including a lens 5a and a mounting portion 5b is shown. For convenience of explanation, FIG. 1 shows the lens portion 5a and the attachment portion 5b through the lens portion 5a. The laser light L is emitted in parallel with the substrate, the X direction is the laser light emission direction, the Y direction is perpendicular to the X direction and parallel to the substrate, the Z direction is the X direction, and the direction perpendicular to the substrate. To do.

このような半導体レーザ装置によれば、位置ずれやビームの傾きのないレーザ光を取り出すことができ効率よくレンズを実装することができる。以下に詳細を説明する。
半導体レーザ素子から出射されたレーザ光を光軸の位置ずれがないように外部に放出するには、光軸がレンズの中心を通過するように水平方向(X方向及びY方向)でのレンズの位置を決定する必要がある。また、光軸がレンズの中心を通過したとしても、レンズ自体が配置されるべき所定の位置から傾いて実装された場合にはビームが曲がってしまうので、レンズが光軸に対して垂直になるように配置される必要がある。
ミラー及びレンズを備えた半導体レーザ装置では、ミラー及びレンズを別に設ける場合と比較して装置を小型化できる一方で、許容可能な公差の範囲がごく小さく、装置の実装公差に対してマージンが小さくなってしまう。そのため、時間をかけずに高精度で実装することが非常に困難である。
そこで、実施形態の半導体レーザ装置では、レンズがミラー上に設けられることで、実装時にはレンズとミラーとが直接あるいは別部材を介して面で接触するので垂直方向(Z方向)の位置が決定され、レンズはX−Y平面に平行な平面、または、X−Y平面に対して一定の角度を持った平面上に保持される。そうすると、X軸及びY軸を回転軸として回転させて、すなわちレンズを傾けて調整する必要がなくなる。このように、レンズの傾きについて考慮する必要がなくなるので、水平方向のX方向及びY方向における位置のみを調整すればよい。その結果、これまでよりも簡単にレンズの実装を行うことができる。あるいは、これまでレンズの傾き調整に要していた時間をレンズの中心位置合わせに費やすことができるので、光軸位置合わせの精度を向上させることができ、位置ずれやビームの傾きのないレーザ光を取り出すことができる。
つまり、実施形態の半導体レーザ装置では、レンズをミラー上に設けるので、レンズはX−Y平面に平行な平面、または、X−Y平面に対して一定の角度を持った平面上に保持されZ軸方向の位置はあらかじめ決定されるため、傾きの調整が不要となる。したがって、X軸及びY軸における平面での位置合わせのみを行えばよく、レンズの実装位置調整の負荷を格段に軽減させることができ、効率よくレンズを実装することができる。
According to such a semiconductor laser device, it is possible to take out a laser beam with no positional deviation or beam tilt, and it is possible to mount a lens efficiently. Details will be described below.
In order to emit the laser light emitted from the semiconductor laser element to the outside so as not to shift the position of the optical axis, the lens in the horizontal direction (X direction and Y direction) so that the optical axis passes through the center of the lens. The position needs to be determined. Even if the optical axis passes through the center of the lens, if the lens itself is mounted at a predetermined position where it should be placed, the beam will bend, so the lens is perpendicular to the optical axis. Need to be arranged as follows.
In a semiconductor laser device having a mirror and a lens, the size of the device can be reduced as compared with a case where a mirror and a lens are separately provided, but an allowable tolerance range is very small, and a margin for a mounting tolerance of the device is small. turn into. Therefore, it is very difficult to mount with high accuracy without taking time.
Therefore, in the semiconductor laser device of the embodiment, since the lens is provided on the mirror, the lens and the mirror come into contact with each other directly or through a separate member at the time of mounting, so the position in the vertical direction (Z direction) is determined. The lens is held on a plane parallel to the XY plane or a plane having a certain angle with respect to the XY plane. Then, it is not necessary to rotate the X and Y axes as rotation axes, that is, to incline the lens for adjustment. In this way, since it is not necessary to consider the tilt of the lens, only the positions in the horizontal X and Y directions need be adjusted. As a result, it is possible to mount the lens more easily than before. Alternatively, the time required to adjust the tilt of the lens can be spent on the alignment of the center of the lens so that the accuracy of optical axis alignment can be improved, and laser light without misalignment or beam tilt can be achieved. Can be taken out.
That is, in the semiconductor laser device of the embodiment, since the lens is provided on the mirror, the lens is held on a plane parallel to the XY plane or a plane having a certain angle with respect to the XY plane. Since the position in the axial direction is determined in advance, it is not necessary to adjust the inclination. Therefore, it is only necessary to perform alignment on the plane in the X axis and the Y axis, the load for adjusting the mounting position of the lens can be remarkably reduced, and the lens can be mounted efficiently.

以下、実施形態の各構成について説明する。
(半導体レーザ素子3)
半導体レーザ素子3は、電圧が印加されてしきい値以上の電流が流れると、活性層及びその付近でレーザ発振が起こり、生成されたレーザ光が導波路領域を通って外部に放射されるものである。また、その半導体材料は、III−V族、II−VI族等の化合物を用いたもので、いずれの波長のレーザ光を出射するものであってもよい。半導体レーザ素子の構造としては、例えば、導電性又は絶縁性の基板上にn型半導体層、活性層及びp型半導体層の順に積層され、半導体層の表面に絶縁膜や電極が形成されたものが挙げられる。また、半導体レーザ装置内には単数又は複数の半導体レーザ素子を有していてもよい。
Hereinafter, each configuration of the embodiment will be described.
(Semiconductor laser element 3)
In the semiconductor laser element 3, when a voltage is applied and a current exceeding a threshold value flows, laser oscillation occurs in the active layer and its vicinity, and the generated laser light is emitted to the outside through the waveguide region. It is. Further, the semiconductor material is a compound using a compound such as III-V group or II-VI group, and may emit laser light of any wavelength. As a structure of the semiconductor laser element, for example, an n-type semiconductor layer, an active layer, and a p-type semiconductor layer are sequentially stacked on a conductive or insulating substrate, and an insulating film or an electrode is formed on the surface of the semiconductor layer. Is mentioned. Further, the semiconductor laser device may have one or a plurality of semiconductor laser elements.

(基板2)
本実施形態の半導体レーザ装置は、半導体レーザ素子及びミラーが基板上に載置されている。基板は、半導体レーザ素子で発生する熱を効率的に外部に放出するためにも利用される。
基板は、比較的熱伝導度が高い材料、例えば、20W/mK程度以上の材料によって形成されることが好ましい。具体的な材料としては、Cu、Al、Fe、Ni、Mo、CuW、CuMo等の金属や、AlN、SiC、アルミナなどのセラミックが挙げられる。これらの金属またはセラミックを母材とし、その表面の全面、または一部にAu、Ag、Al等でめっきが施されていてもよい。なかでも、表面が金めっきされた銅又は銅合金により形成されているものが好ましい。
(Substrate 2)
In the semiconductor laser device of this embodiment, a semiconductor laser element and a mirror are placed on a substrate. The substrate is also used to efficiently release the heat generated in the semiconductor laser element to the outside.
The substrate is preferably formed of a material having a relatively high thermal conductivity, for example, a material of about 20 W / mK or more. Specific materials include metals such as Cu, Al, Fe, Ni, Mo, CuW, and CuMo, and ceramics such as AlN, SiC, and alumina. These metals or ceramics may be used as a base material, and the entire surface or a part thereof may be plated with Au, Ag, Al, or the like. Especially, what is formed with the copper or copper alloy by which the surface was gold-plated is preferable.

基板の形状、大きさは特に限定されるものではなく、半導体レーザ装置の最終的に望まれる形状及び大きさ等によって、適宜調整することができる。平面形状としては、矩形をはじめとする多角形、円形、楕円形又はこれらに近似する形状のものを用いることができる。例えば、5〜50mm四方程度の矩形で平板状のものが挙げられる。その厚みとしては、0.5〜5mm程度であることが好ましい。また、基板は平板状のものには限定されず、その表面に凹部及び/又は凸部が設けられていてもよい。具体的には、半導体レーザ素子及び/又はミラーが載置される領域に凹部又は凸部が設けられているものが挙げられる。
また、図示していないが、基板は外部電源と接続するための端子が設けられていてもよい。端子としては、ガラスで形成され基板を貫通するように設けられた気密端子や、セラミックで形成され基板表面に設けられるものなどが挙げられる。また、基板表面や基板内部に配線パターンを有していてもよい。
The shape and size of the substrate are not particularly limited, and can be appropriately adjusted according to the final desired shape and size of the semiconductor laser device. As the planar shape, a polygonal shape including a rectangle, a circle, an ellipse, or a shape similar to these can be used. For example, a flat plate having a rectangular shape of about 5 to 50 mm square can be used. The thickness is preferably about 0.5 to 5 mm. Moreover, a board | substrate is not limited to a flat form, The recessed part and / or convex part may be provided in the surface. Specifically, a semiconductor laser element and / or a region where a mirror is placed is provided with a concave portion or a convex portion.
Although not shown, the substrate may be provided with a terminal for connecting to an external power source. Examples of the terminal include an airtight terminal formed of glass and provided so as to penetrate the substrate, and a terminal formed of ceramic and provided on the surface of the substrate. Further, a wiring pattern may be provided on the substrate surface or inside the substrate.

(ミラー4)
ミラー4は、半導体レーザ素子からのレーザ光を所望の方向に反射する、あるいは半導体レーザ素子からのレーザ光の光軸を調整して方向転換を行うものである。また、強度変調又は波長変換等を行う機能を備えていてもよい。
ミラーは、半導体レーザ素子の出射面と対向する位置に反射面が配置されている。例えば、半導体レーザ素子の出射面に対して45°傾斜した反射面を有し、その反射面によってレーザ光が反射され、半導体レーザ素子から出射されたレーザ光の光軸を90°方向転換するものが挙げられる。
ミラーの外形としては、図2に示すように、反射面4cを挟んで上面4a及び底面4bを有し、上面4a、底面4b、及び反射面4cは、各々が一定の角度を有している。底面4bは基板に接着され、底面と対向する上面4aに後述するレンズが接着されることが好ましい。このような構造とすることで、前記基板面に対して平行な方向に半導体レーザ素子から出射されたレーザ光を反射し、上方の一定の方向への光取出しが可能となるためである。また、基板に接着される底面4bと底面4bと略平行な上面4aとを有していることが好ましい。底面及び上面が略平行であることで、基板や半導体レーザ素子とも略平行にレンズを配置することができる。そのため、レンズをミラー上に配置するだけで位置合わせすることができ簡便に半導体レーザ装置を組み立てることができる。
ミラーは、レーザ光を反射することのできる材料であればよく、ガラス、石英、合成石英、サファイア、セラミック、プラスチック、金属、誘電体材料等で形成することができる。また、基板やレンズに接着するために、ミラーの底面、裏面にTi/Pt/Au、Ti/Ni/Au、Ni/Au、Ti/Ni/Ag等の薄膜が形成されていてもよい。
(Mirror 4)
The mirror 4 reflects the laser light from the semiconductor laser element in a desired direction, or changes the direction by adjusting the optical axis of the laser light from the semiconductor laser element. Moreover, you may provide the function to perform intensity modulation or wavelength conversion.
The mirror has a reflection surface disposed at a position facing the emission surface of the semiconductor laser element. For example, it has a reflection surface inclined by 45 ° with respect to the emission surface of the semiconductor laser element, the laser beam is reflected by the reflection surface, and the optical axis of the laser beam emitted from the semiconductor laser element is changed by 90 ° Is mentioned.
As shown in FIG. 2, the outer shape of the mirror has an upper surface 4a and a bottom surface 4b with the reflecting surface 4c interposed therebetween, and the upper surface 4a, the bottom surface 4b, and the reflecting surface 4c each have a certain angle. . The bottom surface 4b is preferably bonded to the substrate, and a lens described later is preferably bonded to the top surface 4a opposite to the bottom surface. With such a structure, it is possible to reflect the laser beam emitted from the semiconductor laser element in a direction parallel to the substrate surface and to extract light in a certain upper direction. Moreover, it is preferable to have the bottom face 4b bonded to the substrate and the top face 4a substantially parallel to the bottom face 4b. Since the bottom surface and the top surface are substantially parallel, the lens can be disposed substantially parallel to the substrate and the semiconductor laser element. Therefore, alignment can be performed simply by arranging the lens on the mirror, and the semiconductor laser device can be easily assembled.
The mirror may be any material that can reflect laser light, and can be formed of glass, quartz, synthetic quartz, sapphire, ceramic, plastic, metal, dielectric material, or the like. Further, in order to adhere to the substrate or the lens, thin films such as Ti / Pt / Au, Ti / Ni / Au, Ni / Au, Ti / Ni / Ag may be formed on the bottom and back surfaces of the mirror.

(レンズ5)
レンズ5は、レーザ光を制御する役割を果たすものである。「レーザ光を制御する」とは、レーザ光を平行光、集光もしくは拡散させることを意味する。レンズ5は、ミラーによって反射されたレーザ光の出射方向に配置されている。実施形態の半導体レーザ装置では、図2に示すように、レンズ5はミラーの基板に接着された底面4bと対向する上面4a上に配置され接着されている。
(Lens 5)
The lens 5 plays a role of controlling the laser light. “Controlling the laser beam” means that the laser beam is collimated, condensed or diffused. The lens 5 is disposed in the emission direction of the laser light reflected by the mirror. In the semiconductor laser device of the embodiment, as shown in FIG. 2, the lens 5 is disposed and bonded on the upper surface 4a facing the bottom surface 4b bonded to the mirror substrate.

レンズ部5aは、レーザ光を透過することのできる材料が用いられ、ガラス、石英、合成石英、サファイア、透明セラミック、プラスチック等、一般に用いられている材料によって形成することができる。種々のアプリケーションへの適用のため、半導体レーザ装置から取り出す光を平行光とすることが好ましく、そのため、レーザ光を半導体レーザ装置から平行光として出射させるために、コリメートレンズを用いることが好ましい。なお、レンズ部5aの形状は特に限定されず、円形または楕円形であることが好ましい。レンズ部5aの大きさとしては、最終的に半導体レーザ装置から取り出したいレーザ光に応じて任意に決定することができる。   The lens portion 5a is made of a material that can transmit laser light, and can be formed of a commonly used material such as glass, quartz, synthetic quartz, sapphire, transparent ceramic, plastic, or the like. For application to various applications, it is preferable that the light extracted from the semiconductor laser device is parallel light. Therefore, in order to emit the laser light as parallel light from the semiconductor laser device, it is preferable to use a collimating lens. In addition, the shape of the lens part 5a is not specifically limited, It is preferable that it is circular or elliptical. The size of the lens unit 5a can be arbitrarily determined according to the laser beam that is finally desired to be extracted from the semiconductor laser device.

レンズ5は、レンズ部5a及び取り付け部5bを一体的に成形したものが挙げられる。取り付け部5bは、ミラーとレンズとを決まった角度に固定する為、レンズ部5aと同じ材質で成型されることが好ましい。形状としては、取り付け部5bはミラーあるいは別部材に接着されるため平板状に成型されていることが好ましい。また、レンズ部5aと、レンズ部5aを保持する取り付け部5bとが別の材料で形成されるものであってもよい。取り付け部はレンズとミラーとを連結固定するための部材である。取り付け部を形成する材料は特に限定されず、金属、合金、セラミックス等の種々の材料が挙げられる。ミラーと溶接等によって連結固定する場合には、取り付け部は、これに適する材料、例えば、ステンレス鋼等によって形成されていることが好ましい。半導体レーザと同様の方法で接着するために、取り付け部の底面にTi/Pt/Au、Ti/Ni/Au、Ni/Au、Ti/Ni/Ag等の薄膜が形成されていてもよい。取り付け部は、レンズ部の位置に開口を有する板状であることが適している。
いずれの場合もレンズの平面形状は特に限定されず、例えば、矩形状のものが挙げられる。また、レンズ及び取り付け部の厚みは特に限定されない。
The lens 5 includes a lens portion 5a and a mounting portion 5b that are integrally molded. The mounting portion 5b is preferably molded from the same material as the lens portion 5a in order to fix the mirror and the lens at a fixed angle. As the shape, the attachment portion 5b is preferably molded into a flat plate shape because it is bonded to a mirror or another member. Moreover, the lens part 5a and the attachment part 5b holding the lens part 5a may be formed of different materials. The attachment portion is a member for connecting and fixing the lens and the mirror. The material for forming the attachment portion is not particularly limited, and various materials such as metals, alloys, and ceramics can be used. When connecting and fixing with a mirror by welding or the like, the attachment portion is preferably formed of a material suitable for this, for example, stainless steel. In order to adhere by the same method as the semiconductor laser, a thin film such as Ti / Pt / Au, Ti / Ni / Au, Ni / Au, Ti / Ni / Ag may be formed on the bottom surface of the attachment portion. The attachment portion is suitably a plate having an opening at the position of the lens portion.
In any case, the planar shape of the lens is not particularly limited, and examples thereof include a rectangular shape. Moreover, the thickness of a lens and an attaching part is not specifically limited.

以下、その他の構成について説明する。
半導体レーザ素子3は、サブマウント6を介して基板上に配置されていてもよい。サブマウントは放熱のために熱伝導性の高い部材が用いられることが好ましく、具体的には、AlN、CuW,ダイヤモンド,SiC、セラミックス等が挙げられる。その表面にTi/Pt/Au、Ni/Au等の薄膜が形成されていてもよい。また、ミラー4も同様のサブマウントを介して基板上に配置されていてもよい。その場合、半導体レーザ素子とミラーは同一のサブマウント上に配置されてもよいし、異なるサブマウント上に配置されてもよい。異なるサブマウント上に配置されることで、基板上に半導体レーザ素子及びミラーを配置する際に各々の部材の微調整がしやすく、組み立ての精度を向上させることができる。
また、ミラーとレンズの間にも別部材が設けられていてもよい。つまり、ミラーとレンズは直接あるいは別部材を介して設けられていてもよい。間に別の部材が設けられている場合も、ミラーとレンズが直接接触する場合と同様に、後述する方法でその部材とレンズとを接着すればよいが、実装精度を向上させるという観点から、ミラーとレンズは直接接着されていることが好ましい。
Hereinafter, other configurations will be described.
The semiconductor laser element 3 may be disposed on the substrate via the submount 6. For the submount, a member having high thermal conductivity is preferably used for heat dissipation, and specific examples include AlN, CuW, diamond, SiC, ceramics, and the like. A thin film such as Ti / Pt / Au or Ni / Au may be formed on the surface. The mirror 4 may also be disposed on the substrate via a similar submount. In that case, the semiconductor laser element and the mirror may be arranged on the same submount or may be arranged on different submounts. By disposing on the different submounts, it is easy to finely adjust each member when the semiconductor laser element and the mirror are disposed on the substrate, and the assembling accuracy can be improved.
Further, another member may be provided between the mirror and the lens. That is, the mirror and the lens may be provided directly or via separate members. Even when another member is provided in between, the member and the lens may be bonded by a method described later, as in the case where the mirror and the lens are in direct contact, but from the viewpoint of improving mounting accuracy, It is preferable that the mirror and the lens are directly bonded.

また、本願の半導体レーザ装置1は、半導体レーザ素子3を被覆するようにキャップ7が基板2に取り付けられ封止されていてもよい。発振波長が320〜530nm程度の短波長の半導体材料(例えば、窒化物半導体)を用いた半導体レーザ素子を用いる場合には、有機物や水分を集塵しやすいため、キャップを設けることでレーザ装置内の気密性を高め、防水性、防塵性を高めることができ好ましい。   In the semiconductor laser device 1 of the present application, the cap 7 may be attached to the substrate 2 and sealed so as to cover the semiconductor laser element 3. When a semiconductor laser element using a semiconductor material with a short wavelength of about 320 to 530 nm (for example, a nitride semiconductor) is used, it is easy to collect organic matter and moisture. This is preferable because it can improve the airtightness and improve the waterproofness and dustproofness.

具体的には、図4に示すように、基板に接着されたキャップはその頂部に開口部を有し、開口部には透光性部材が支持されているものを用いることができ、透光性部材からレーザ光を取り出すことができる。
キャップの形状は、有底の筒型(円柱又は多角形柱等)、錐台型(円錐台又は多角形錐台等)又はドーム型及びこれらの変形形状等が挙げられる。キャップは、熱伝導率が高い材料で形成されていることが好ましく、例えば、Ni、Co、Fe、Ni−Fe合金、コバール、真鍮等の材料を用いることができる。
キャップの上面又は側面のレーザ光の光出射部位に対応する部分には、レーザ光を通過させる開口部を有している。開口部は、キャップの上面に形成されていることが好ましい。透光性部材は、例えば、ガラス、サファイア、セラミックス、樹脂等により形成することができる。また、その表面に、レーザ光を好適に透過させることができるように光透過膜が設けられていてもよい。また、透光性部材は、波長変換部材、光拡散材等を含有していてもよい。
Specifically, as shown in FIG. 4, the cap bonded to the substrate can have an opening at the top, and a transparent member can be supported on the opening. The laser beam can be extracted from the sexual member.
Examples of the shape of the cap include a bottomed cylindrical shape (such as a cylinder or a polygonal column), a truncated cone shape (such as a truncated cone or a polygonal truncated cone), a dome shape, and a deformed shape thereof. The cap is preferably formed of a material having high thermal conductivity. For example, a material such as Ni, Co, Fe, Ni—Fe alloy, Kovar, or brass can be used.
A portion corresponding to the laser light emission part on the upper surface or side surface of the cap has an opening through which the laser light passes. The opening is preferably formed on the upper surface of the cap. The translucent member can be formed of, for example, glass, sapphire, ceramics, resin, or the like. Further, a light transmissive film may be provided on the surface so that the laser light can be suitably transmitted. Moreover, the translucent member may contain the wavelength conversion member, the light-diffusion material, etc.

また、半導体レーザ素子の出力をモニタするために基板上にフォトダイオードを配置してもよい。また、過大な電圧印加による素子破壊や性能劣化から半導体レーザ素子を保護するために保護素子を配置してもよい。   A photodiode may be disposed on the substrate in order to monitor the output of the semiconductor laser element. In addition, a protective element may be arranged to protect the semiconductor laser element from element destruction and performance deterioration due to excessive voltage application.

また、実施形態の半導体レーザ装置は、以下のようにして製造することができる。
まず、基板上に、半導体レーザ素子と該半導体レーザ素子から出射されたレーザ光を出射方向と異なる方向に反射するミラーとを実装する。
半導体レーザ素子の実装は、半導体レーザ素子と基板との接着面を合わせた後、所定の温度及び圧力下で保持することによって接着することができ、具体的には、熱圧着法、ダイレクトボンディング法等が挙げられる。半導体レーザ素子と基板の接合材としては、250℃以上の高融点材料、Au系低融点半田材(例えばAu/Sn、Ni/Au、Ni/Pd/Au等)、Ag系接合材料、接合樹脂を用いることができる。
In addition, the semiconductor laser device of the embodiment can be manufactured as follows.
First, a semiconductor laser element and a mirror that reflects laser light emitted from the semiconductor laser element in a direction different from the emission direction are mounted on the substrate.
The semiconductor laser element can be mounted by bonding the semiconductor laser element and the substrate after holding the bonding surfaces, and holding the semiconductor laser element under a predetermined temperature and pressure. Etc. As a bonding material for the semiconductor laser element and the substrate, a high melting point material of 250 ° C. or higher, an Au-based low melting point solder material (for example, Au / Sn, Ni / Au, Ni / Pd / Au, etc.), an Ag-based bonding material, a bonding resin Can be used.

半導体レーザ素子は、半導体レーザ素子の半導体層側を基板側に実装したフェイスダウン実装、半導体レーザ素子の基板側を基板側に実装したフェイスアップ実装等いずれの構造であってもよい。   The semiconductor laser element may have any structure such as face-down mounting in which the semiconductor layer side of the semiconductor laser element is mounted on the substrate side, and face-up mounting in which the substrate side of the semiconductor laser element is mounted on the substrate side.

サブマウントを用いる場合には、半導体レーザ素子をサブマウント上に載置して接着し、その後サブマウントを基板に接着する方法、基板上にサブマウントを載置して接着し、その後半導体レーザ素子をサブマウントに接着する方法等が挙げられる。半導体レーザ素子のサブマウントへの実装及びサブマウントの基板への実装も半導体レーザ素子の基板への実装と同様にして行うことができる。   When a submount is used, the semiconductor laser element is mounted on the submount and bonded, and then the submount is bonded to the substrate. The submount is mounted on the substrate and bonded, and then the semiconductor laser element is mounted. And a method of adhering to the submount. The mounting of the semiconductor laser element on the submount and the mounting of the submount on the substrate can be performed in the same manner as the mounting of the semiconductor laser element on the substrate.

その後、ミラーの実装を行うことが好ましい。半導体レーザ素子を先に実装し、続いてミラーを実装することで、レーザ光Lが適切な方向に反射されるようにミラーの位置を調整し、ミラーの実装を行うことができる。ミラーの実装も半導体レーザ素子と同様の方法で実装することができる。ミラーの位置を調整し、ミラーと基板との接着面を合わせた後、所定の温度及び圧力下で保持することで、ミラーを接着することができる。また、ミラーと基板の接着においては、UV硬化接着剤、熱硬化接着剤等によっても接着することができる。   Thereafter, it is preferable to mount a mirror. By mounting the semiconductor laser element first and then mounting the mirror, the position of the mirror can be adjusted so that the laser light L is reflected in an appropriate direction, and the mirror can be mounted. The mirror can also be mounted in the same manner as the semiconductor laser element. The mirror can be bonded by adjusting the position of the mirror and aligning the bonding surface between the mirror and the substrate and then holding the mirror and the substrate under a predetermined temperature and pressure. Further, in the bonding between the mirror and the substrate, the bonding can also be performed with a UV curable adhesive, a thermosetting adhesive or the like.

また、ミラーを先に実装し、その後に半導体レーザを実装してもよい。このような順序で実装する場合、ミラーを実装した後に半導体レーザ素子を実装することで、ミラーの位置をカメラ等で画像認識させ、ミラーの位置を基準として半導体レーザ素子の実装位置を決定することができ、簡便な方法で正確な位置に半導体レーザ素子及びミラーを実装することができる。
半導体レーザ素子及びミラーの実装後、各部材をダイボンディングもしくはワイヤーボンディングにより電気的に接続する。
Further, the mirror may be mounted first and then the semiconductor laser may be mounted. When mounting in this order, mounting the semiconductor laser element after mounting the mirror allows the position of the mirror to be recognized by a camera, etc., and determining the mounting position of the semiconductor laser element based on the mirror position The semiconductor laser element and the mirror can be mounted at an accurate position by a simple method.
After mounting the semiconductor laser element and the mirror, each member is electrically connected by die bonding or wire bonding.

続いて、レンズ5の位置合わせ及び接着を行う。レンズの取り付け部5bをミラーに接触させZ方向の位置を固定した状態でX方向及びY方向の位置合わせをする。このとき、半導体レーザ素子に電流を印加し、レーザ光の光軸方向を確認しながら調整する。そして、レーザ光の光軸が、レンズ部5aの適所を通過するようにレンズ5をX方向及びY方向に移動させて調整する。取り付け部をミラーに接触させていることで、X−Y平面上、あるいはX−Y平面に対して一定の角度を持った平面上においてのみレンズを動かすことができ、Z軸方向の位置ずれやレンズの傾きを考慮する必要がなく高精度で効率よく実装することができる。このようにしてレンズの実装の位置を決定し、エポキシ樹脂、アクリル樹脂等のUV硬化接着剤、熱硬化接着剤等を用いて取り付け部をミラーに固定する。ミラーと取り付け部の固定方法としては、ミラーと取り付け部の接合面を合わせた後、UV硬化接着剤の場合には、UV光を照射する。また、熱硬化接着剤においては、所定の温度及び圧力下で保持することによって、接着することができる。レーザ溶接等や、半導体レーザ素子の実装と同様の方法で接着することもできる。上述したようにミラーとレンズの間に別部材を介している場合にも同様に接着することが可能である。   Subsequently, the lens 5 is aligned and bonded. Positioning in the X and Y directions is performed with the lens mounting portion 5b in contact with the mirror and the position in the Z direction fixed. At this time, an adjustment is made while applying a current to the semiconductor laser element and confirming the optical axis direction of the laser beam. Then, adjustment is performed by moving the lens 5 in the X direction and the Y direction so that the optical axis of the laser beam passes through an appropriate position of the lens unit 5a. Since the attachment portion is in contact with the mirror, the lens can be moved only on the XY plane or on a plane having a certain angle with respect to the XY plane. It is not necessary to consider the tilt of the lens, and it can be mounted with high accuracy and efficiency. In this manner, the mounting position of the lens is determined, and the mounting portion is fixed to the mirror using a UV curable adhesive such as an epoxy resin or an acrylic resin, a thermosetting adhesive, or the like. As a method for fixing the mirror and the attachment portion, after joining the joining surfaces of the mirror and the attachment portion, UV light is irradiated in the case of a UV curable adhesive. Moreover, in a thermosetting adhesive, it can adhere | attach by hold | maintaining under predetermined temperature and pressure. Bonding can also be performed by a method similar to laser welding or the like or mounting of a semiconductor laser element. As described above, even when a separate member is interposed between the mirror and the lens, it is possible to bond them in the same manner.

また、半導体レーザ装置をキャップにより封止する場合は、抵抗溶接又は半田付け等で基板に接着することができる。封止する際は、露点−10℃以下の乾燥した大気中や窒素雰囲気中で封止することが好ましい。また、各部材をアッシング若しくは熱処理等の方法を用いて前処理し、各部材に付着した水分や有機物の除去を行ってもよい。   When the semiconductor laser device is sealed with a cap, it can be bonded to the substrate by resistance welding or soldering. When sealing, it is preferable to seal in dry air or nitrogen atmosphere having a dew point of −10 ° C. or lower. In addition, each member may be pretreated using a method such as ashing or heat treatment to remove moisture and organic substances attached to each member.

(実施形態2)
図3に基づいて、本実施形態について説明する。なお、実施形態1と同様の部材については同様の番号を用いており、重複した説明は省略する。
本実施形態では、半導体レーザ装置内に複数の半導体レーザ素子を有している。この場合は、同じ波長帯の半導体レーザ素子を用いてもよいし、異なる波長帯の半導体レーザを用いてもよい。同じ波長帯の半導体レーザ素子を複数用いることで高出力のレーザ装置を得ることができる。
また、複数の半導体レーザ素子は、単一のサブマウント上に所定の間隔で実装されている。各半導体レーザ素子のビームに対応するレンズは、単一の取り付け部に各ビームを透過するための複数のレンズを備えている。
実施形態の半導体レーザ装置では、複数の半導体レーザ素子を用いたマルチエミッタタイプの半導体レーザ装置が得られ、高出力の半導体レーザ装置を得ることができる。
また、レーザ光は通常拡散光なので、マルチエミッタタイプの半導体レーザ装置では、隣接するビーム同士が干渉し合うことで、得られるビーム形状や出力に影響を及ぼすことがある。しかし本実施形態では、ミラーとレンズが近接して設けられるので、レーザ光が出射されてからレンズに到達するまでの距離が短く隣接するビーム同士が干渉し合うことを抑制することができる。つまり、マルチエミッタタイプの半導体レーザ装置であってもレーザ光の干渉を抑制することができ出力やビーム形状への影響を軽減することができる。
本実施形態の半導体レーザ装置の製造方法としては、実施形態1の製造方法に加え、複数の半導体レーザ素子の配列方向と各部材が平行になるように配置する。
まず半導体レーザ素子では、各々の半導体レーザ素子のビームが略平行に出射されるように半導体レーザ素子を配置する。例えば、基板やサブマウントをカメラ等で画像認識させ、その表面に設けられたパターン等を基準として所定の位置に半導体レーザ素子を実装することができる。
ミラーは、半導体レーザ素子の配列方向(図3ではY方向)とミラーの反射面が略平行になるようにミラーを配置する。ミラーの位置決めの方法としては、半導体レーザ素子の場合と同様に、画像認識によって位置を決定することができる。
レンズは、複数の半導体レーザ素子の配列方向と複数のレンズ部の配列方向が略平行になるように配置する。位置決めの方法としては、上述したように画像認識によって調整してもよいし、半導体レーザ素子を駆動させ、レーザ光の光軸方向を確認しながら位置を調整してもよい。その後は、実施形態1と同様に、レンズの位置合わせ及び接着を行うことで実施形態2の半導体レーザ装置を得ることができる。
(Embodiment 2)
The present embodiment will be described based on FIG. In addition, about the member similar to Embodiment 1, the same number is used and the overlapping description is abbreviate | omitted.
In this embodiment, the semiconductor laser device has a plurality of semiconductor laser elements. In this case, semiconductor laser elements having the same wavelength band may be used, or semiconductor lasers having different wavelength bands may be used. By using a plurality of semiconductor laser elements of the same wavelength band, a high-power laser device can be obtained.
The plurality of semiconductor laser elements are mounted at a predetermined interval on a single submount. A lens corresponding to the beam of each semiconductor laser element includes a plurality of lenses for transmitting each beam through a single mounting portion.
In the semiconductor laser device of the embodiment, a multi-emitter type semiconductor laser device using a plurality of semiconductor laser elements can be obtained, and a high-power semiconductor laser device can be obtained.
In addition, since the laser light is usually diffused light, in a multi-emitter type semiconductor laser device, adjacent beams may interfere with each other to affect the obtained beam shape and output. However, in the present embodiment, since the mirror and the lens are provided close to each other, it is possible to prevent the adjacent beams from interfering with each other with a short distance from when the laser light is emitted until reaching the lens. That is, even in a multi-emitter type semiconductor laser device, interference of laser light can be suppressed and influence on output and beam shape can be reduced.
As a manufacturing method of the semiconductor laser device of the present embodiment, in addition to the manufacturing method of the first embodiment, the arrangement direction of the plurality of semiconductor laser elements and each member are arranged in parallel.
First, in the semiconductor laser element, the semiconductor laser elements are arranged so that the beams of the respective semiconductor laser elements are emitted substantially in parallel. For example, an image of a substrate or a submount can be recognized by a camera or the like, and a semiconductor laser element can be mounted at a predetermined position on the basis of a pattern or the like provided on the surface thereof.
The mirror is arranged so that the arrangement direction of the semiconductor laser elements (Y direction in FIG. 3) and the reflecting surface of the mirror are substantially parallel. As a method for positioning the mirror, the position can be determined by image recognition as in the case of the semiconductor laser element.
The lenses are arranged so that the arrangement direction of the plurality of semiconductor laser elements and the arrangement direction of the plurality of lens portions are substantially parallel. As a positioning method, adjustment may be performed by image recognition as described above, or the position may be adjusted while driving the semiconductor laser element and confirming the optical axis direction of the laser beam. Thereafter, as in the first embodiment, the semiconductor laser device of the second embodiment can be obtained by aligning and bonding the lenses.

本発明の窒化物半導体レーザ装置は、光ディスク、光通信システム、プロジェクタ、ディスプレイ、印刷機又は測定器等全てのデバイスに利用することができる。   The nitride semiconductor laser device of the present invention can be used for all devices such as an optical disk, an optical communication system, a projector, a display, a printer, or a measuring instrument.

1:半導体レーザ装置
2:基板
3:半導体レーザ素子
4:ミラー
4a:上面
4b:底面
4c:反射面
5:レンズ
5a:レンズ部
5b:取り付け部
6:サブマウント
7:キャップ
1: Semiconductor laser device 2: Substrate 3: Semiconductor laser element 4: Mirror 4a: Upper surface 4b: Bottom surface 4c: Reflecting surface 5: Lens 5a: Lens portion 5b: Mounting portion 6: Submount 7: Cap

Claims (8)

基板と、前記基板上に設けられた半導体レーザ素子と、該半導体レーザ素子から出射されたレーザ光を出射方向と異なる方向に反射するミラーと、該ミラーで反射されたレーザ光を制御するレンズと、前記基板上に設けられた複数のサブマウントを備える半導体レーザ装置において、
前記半導体レーザ素子および前記ミラーは、それぞれ異なるサブマウント上に設けられ、
前記レンズは前記ミラー上に設けられる半導体レーザ装置。
A substrate, a semiconductor laser element provided on the substrate, a mirror for reflecting in a direction different from the emitted and the emission direction laser beam from the semiconductor laser element, a lens for controlling the laser beam reflected by the mirror In a semiconductor laser device comprising a plurality of submounts provided on the substrate ,
The semiconductor laser element and the mirror are provided on different submounts,
The lens is a semiconductor laser device provided on the mirror.
前記ミラーは前記基板に接着される底面と該底面と略平行な上面とを有し、前記レンズはレンズの光軸と垂直な平面を有し、前記ミラーの上面に前記レンズの平面が接着される請求項1に記載の半導体レーザ装置。   The mirror has a bottom surface bonded to the substrate and a top surface substantially parallel to the bottom surface, the lens has a plane perpendicular to the optical axis of the lens, and the plane of the lens is bonded to the top surface of the mirror. The semiconductor laser device according to claim 1. 前記半導体レーザ素子は、前記基板上に複数設けられる請求項1又は2に記載の半導体レーザ装置。   The semiconductor laser device according to claim 1, wherein a plurality of the semiconductor laser elements are provided on the substrate. 前記半導体レーザ素子、前記ミラー及び前記レンズを覆うキャップが前記基板に接着されている請求項1乃至3のいずれか1項に記載の半導体レーザ装置。   The semiconductor laser device according to claim 1, wherein a cap that covers the semiconductor laser element, the mirror, and the lens is bonded to the substrate. 基板上に設けられた複数のサブマウント上に、半導体レーザ素子と該半導体レーザ素子から出射されたレーザ光を出射方向と異なる方向に反射するミラーとを、それぞれ異なるサブマウント上に実装する工程と、
前記ミラーで反射されたレーザ光を制御するレンズを光軸方向の位置を固定した状態で光軸と垂直な方向の位置合わせをして実装する工程とを備える半導体レーザ装置の製造方法。
On a plurality of sub-mount provided on a substrate, a step of mounting a mirror for reflecting the laser beam emitted from the semiconductor laser element and the semiconductor laser element in a direction different from the emission direction, on different submounts ,
A method of manufacturing a semiconductor laser device, comprising: mounting a lens for controlling the laser light reflected by the mirror in a state in which the position in the optical axis direction is fixed and in a direction perpendicular to the optical axis.
前記レンズは、前記ミラーに接触させることによって光軸方向の位置を固定する請求項5に記載の半導体レーザ装置の製造方法。   6. The method of manufacturing a semiconductor laser device according to claim 5, wherein the lens is fixed in position in the optical axis direction by being brought into contact with the mirror. 前記レンズは、レンズ部および取り付け部からなり、The lens consists of a lens part and a mounting part,
前記ミラーと前記取り付け部が、溶接されていることを特徴とする、請求項1乃至4のいずれか1項に記載の半導体レーザ装置。  5. The semiconductor laser device according to claim 1, wherein the mirror and the attachment portion are welded. 6.
前記半導体レーザ素子および前記ミラーを実装する工程において、In the step of mounting the semiconductor laser element and the mirror,
前記半導体レーザ素子を先に実装し、続いて前記ミラーを実装することを特徴とする、請求項5乃至6のいずれか1項に記載の半導体レーザ装置の製造方法。  The method of manufacturing a semiconductor laser device according to claim 5, wherein the semiconductor laser element is mounted first, and then the mirror is mounted.
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* Cited by examiner, † Cited by third party
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JP6361293B2 (en) * 2014-05-30 2018-07-25 日亜化学工業株式会社 Semiconductor laser device
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JP6288132B2 (en) * 2015-05-20 2018-03-07 日亜化学工業株式会社 Light emitting device
US10439358B2 (en) 2016-04-28 2019-10-08 Nichia Corporation Manufacturing method of light-emitting device
JP6648712B2 (en) * 2016-04-28 2020-02-14 日亜化学工業株式会社 Light emitting device manufacturing method
JP7244745B2 (en) 2019-02-15 2023-03-23 日亜化学工業株式会社 Light-emitting device and optical device
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Family Cites Families (5)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
EP0660467B1 (en) * 1993-12-22 1997-03-19 Siemens Aktiengesellschaft Optoelectronical element and method of making the same
JPH08166527A (en) * 1994-12-13 1996-06-25 Sony Corp Optical conversion device
JPH10126002A (en) * 1996-10-23 1998-05-15 Matsushita Electron Corp Optical transmission module
DE19844701C1 (en) * 1998-09-29 2000-07-06 Siemens Ag Method for adjusting an optoelectronic component and component
US7543999B2 (en) * 2004-09-13 2009-06-09 Hymite A/S Optical module hermetically packaged in micro-machined structures

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