JP5599230B2 - 湿潤時に表面が潤滑性を有する医療用具 - Google Patents

Description

本発明は、湿潤時に表面が潤滑性を有する医療用具に関する。

カテーテル、ガイドワイヤ、留置針等生体内に挿入される医療用具は、血管などの組織損傷を低減させ、かつ術者の操作性を向上させるため、優れた潤滑性を示すことが要求される。このため、潤滑性を有する親水性高分子を基材表面に被覆する方法が開発され実用化されている。このような医療用具において、親水性高分子が基材表面から溶出・剥離してしまうことは、安全性や操作性の維持といった点で問題である。

このような問題を防止するため、特許文献１には、水溶性または水膨潤性重合体を医療用具の基材が膨潤する溶媒に溶解して重合体溶液を作製し、この重合体溶液に医療用具の基材を浸漬して膨潤させ、さらに基材表面でこの重合体を架橋または高分子化させることによって、基材表面に表面潤滑層を形成した医療用具が開示されている。

上記特許文献１に記載の方法でも、表面潤滑層をある程度強固に基材に固定することができる。特に基材自身が親水性高分子溶液によって膨潤する場合、基材高分子と表面潤滑層をなす親水性高分子とが相互貫入網目構造を形成することにより、非常に強固な固定が可能である。一方、基材高分子が親水性高分子溶液によって膨潤しにくい場合、表面潤滑層をなす親水性高分子は架橋または高分子化による不溶化の効果によってのみ基材に固定化され、相互貫入網目構造を形成する高分子基材に比べると表面潤滑層が剥離するリスクが高い。このため、難膨潤性の高分子基材表面に親水性高分子をより強固に固定化できる被覆方法が求められている。

高分子基材表面に親水性高分子を多量かつ強固に固定化する方法として、特許文献２には、基材層をなす高分子材料が分子内に第１の高次構造と、該第１の高次構造の少なくとも一方の末端に設けられた第１の官能基と、を有し、親水性高分子が、分子内に前記第１の高次構造と相互作用し得る第２の高次構造と、該第２の高次構造の少なくとも一方の末端に設けられ前記第１の官能基と水素結合可能な第２の官能基と、を有することを特徴とする医療用具が開示されている。

特開平８−３３７０４号公報 特開２００７−２８９２９９号公報

しかしながら、上記特許文献２に記載の方法では、基材高分子と親水性高分子との組み合わせが限定されるという問題があった。

そこで本発明の目的は、上記した従来技術の問題点を解決し、種々の高分子基材と表面潤滑層とを、より簡便な手法で強固に固定化することにより、使用時の優れた表面潤滑性を永続的に発揮する医療用具を提供することである。

上記目的を達成するための本発明は、（１） 少なくとも表面が高分子材料からなる基材層と、該基材層の少なくとも一部に担持された、分子内に複数のチオール基を有する化合物と、該分子内に複数のチオール基を有する化合物を覆う、反応性官能基を有する親水性高分子からなる表面潤滑層と、を備え、該チオール基を有する化合物が酸素を含有するイオン化ガスプラズマを照射することにより基材層に担持されており、かつ該チオール基を有する化合物と、該反応性官能基を有する親水性高分子とを反応させることで表面潤滑層が基材層に結合している、湿潤時に表面が潤滑性を有する医療用具である。

また、上記目的を達成するための本発明は、（２） 前記チオール基を有する化合物を溶解した溶液を前記基材層表面に塗布し、その後酸素を含有するイオン化ガスプラズマを照射することによって、前記チオール基を有する化合物が基材層に担持されている、上記（１）に記載の医療用具である。

さらに、上記目的を達成するための本発明は、（３） 前記基材層表面に酸素を含有するイオン化ガスプラズマを照射し、その後前記チオール基を有する化合物を溶解した溶液を基材層表面に塗布することによって、前記チオール基を有する化合物が基材層に担持されている、上記（１）または（２）に記載の医療用具である。

さらにまた、上記目的を達成するための本発明は、（４） 前記チオール基を有する化合物を溶解した溶液を基材層表面に塗布した後に前記酸素を含有するイオン化ガスプラズマを照射し、その後加熱処理することによって、前記チオール基を有する化合物が基材層に担持されている、上記（２）または（３）に記載の医療用具である。

本発明によれば、種々の高分子基材と表面潤滑層とを、より簡便な手法で強固に固定化することにより、使用時の優れた表面潤滑性を永続的に発揮することができる。

本発明の湿潤時に表面が潤滑性を有する医療用具の代表的な実施形態の表面の積層構成を模式的に表した部分断面図である。 図１の実施形態の応用例として、表面の積層構成の異なる構成例を模式的に表した部分断面図である。 実施例１及び２ならびに比較例１で用いた表面潤滑維持性評価試験装置（摩擦測定機）の模式図である。 実施例１で得られたポリエチレンチューブ（１）（試料）の表面潤滑維持性評価試験結果（ｎ＝４）を示す図面である。 実施例２で得られたポリエチレンチューブ（２）（試料）の表面潤滑維持性評価試験結果（ｎ＝３）を示す図面である。 比較例１で得られた比較ポリエチレンチューブ（１）（試料）の表面潤滑維持性評価試験結果（ｎ＝３）を示す図面である。

本発明は、少なくとも表面が高分子材料からなる基材層（以下、単に「高分子基材層」ともいう）と、該基材層の少なくとも一部に担持された、分子内に複数のチオール基（−ＳＨ：メルカプト基・スルフヒドリル基・水硫基と呼称することもある）を有する化合物（以下、単に「チオール化合物」ともいう）と、該分子内に複数のチオール基を有する化合物を覆う、反応性官能基を有する親水性高分子からなる表面潤滑層と、を備え、該チオール基を有する化合物が酸素を含有するイオン化ガスプラズマを照射（以下、単に「プラズマ処理」ともいう）することにより基材層に担持（固定化）されており、かつ該チオール基を有する化合物と、該反応性官能基を有する親水性高分子とを反応させることで表面潤滑層が基材層に結合している、湿潤時に表面が潤滑性を有する医療用具を提供する。

通常、ポリアミドやポリエチレンなどの高分子材料は、チオール基と反応する官能基を有していない。したがって、上記のような高分子材料からなる基材層表面の場合、単にチオール化合物を塗布しただけでは、チオール化合物と反応し得ないため、チオール化合物を介して表面潤滑層を基材層に強固に固定化することは不可能である。これに対して、本発明によるように、酸素を含有するイオン化ガスプラズマを照射することにより、チオール化合物を介して表面潤滑層を基材層に強固に結合（固定化）できる。加えて、本発明の医療用具は、高分子基材層上に形成される膜の強度を向上できる。

上記したように、チオール化合物を介して表面潤滑層を基材層に強固に担持（固定化）するメカニズムは明らかではないが、下記のように推測される。なお、本発明は、下記推測によって限定されるものではない。すなわち、本発明の医療用具では、チオール化合物を塗布する前の基材層表面に酸素を含有するイオン化ガスプラズマ照射を行うことで、ポリアミドやポリエチレン等のチオール基と反応する官能基を持たない高分子材料からなる基材層であっても、その表面にカルボキシル基、ヒドロキシル基、パーオキサイド等の官能基を導入することができる。これによりチオール化合物を溶解した溶液に対する濡れ性が高まり、基材層表面にチオール化合物を均一に塗布することが可能になるとともに、基材層表面の上記官能基とチオール化合物のチオール基とが反応することによって、基材層表面にチオール化合物を強固に固定化することができる。あるいは、基材層表面にチオール化合物を塗布した後に酸素を含有するイオン化ガスプラズマ照射を行うことで、上記のような基材層表面に官能基を導入する効果に加えて、チオール基同士の酸化反応が促進され、チオール化合物同士がジスルフィド結合によって架橋した構造を形成させることができる。そして適度な架橋構造は基材層上の膜（ここではチオール化合物同士の架橋によって形成された膜）の強度を向上させ、その結果として基材層表面にチオール化合物を強固に固定化することができる。また、本発明に係るチオール化合物は複数のチオール基を有するため、基材層表面への担持（固定化）に寄与しない残存チオール基が存在する。この残存チオール基が親水性高分子の反応性官能基（例えば、エポキシ基、イソシアネート基等）と反応して、表面潤滑層が形成される。このようにして、本発明によると、チオール化合物を介して表面潤滑層を種々の高分子材料からなる基材層表面に簡便な手法で強固に固定化することができ、使用時の優れた表面潤滑性を永続的に発揮することができる。

以下、添付した図面を参照して本発明を適用した最良の実施形態を説明する。

図１は、本発明に係る代表的な実施形態の湿潤時に表面が潤滑性を有する医療用具（以下、単に医療用具とも略記する）の表面の積層構造を模式的に表した部分断面図である。図２は、本実施形態の応用例として、表面の積層構造の異なる構成例を模式的に表した部分断面図である。なお、図１及び図２中の各付号は、それぞれ、下記を表わす。１は、基材層を；１ａは、基材層コア部を；１ｂは、高分子表面層を；２は、分子内に複数のチオール基を有する化合物（チオール化合物）を；３は、表面潤滑層を；および１０は、湿潤時に表面が潤滑性を有する医療用具を、それぞれ、表わす。

図１、図２に示されるように、本実施形態の医療用具１０では、少なくとも表面が高分子材料からなる基材層１と、基材層１の少なくとも一部に担持された（図中では、図面内の基材層１表面の全体（全面）に担持された例を示す）分子内に複数のチオール基を有する化合物（チオール化合物）２と、分子内に複数のチオール基を有する化合物２を覆う反応性官能基を有する親水性高分子からなる表面潤滑層３と、を備え、該チオール基を有する化合物２が酸素を含有するイオン化ガスプラズマを照射することにより基材層１に担持（固定化）されており、かつ該チオール基を有する化合物２と、該反応性官能基を有する親水性高分子とを反応させることで表面潤滑層３がチオール化合物２を介して基材層１に結合している。

以下、本実施形態の医療用具を各構成部材ごとに詳しく説明する。

（１）基材層１
本実施形態の医療用具を構成する基材層１は、少なくとも表面が高分子材料からなるものである。

（１ａ）基材層１の構成
基材層１が「少なくとも表面が高分子材料からなる」とは、基材層１の少なくとも表面が高分子材料で構成されていればよく、基材層１全体（全部）が高分子材料で構成（形成）されているものに何ら制限されるものではない。従って、図２に示されるように、金属材料やセラミックス材料等の硬い補強材料で形成された基材層コア部１ａの表面に、金属材料等の補強材料に比して柔軟な高分子材料が適当な方法（浸漬（ディッピング）、噴霧（スプレー）、塗布・印刷等の従来公知の方法）で被覆（コーティング）あるいは基材層コア部１ａの金属材料等と表面高分子層１ｂの高分子材料とが複合化（適当な反応処理）されて、表面高分子層１ｂを形成しているものも、本発明の基材層１に含まれる。よって、基材層コア部１ａが、異なる材料を多層に積層してなる多層構造体、あるいは医療用具の部分ごとに異なる材料で形成された部材を繋ぎ合わせた構造（複合体）などであってもよい。また、基材層コア部１ａと表面高分子層１ｂとの間に、更に異なるミドル層（図示せず）が形成されていてもよい。更に、表面高分子層１ｂに関しても異なる高分子材料を多層に積層してなる多層構造体、あるいは医療用具の部分ごとに異なる高分子材料で形成された部材を繋ぎ合わせた構造（複合体）などであってもよい。

（１ｂ）基材層コア部１ａの構成
基材層コア部１ａに用いることができる材料としては、特に制限されるものではなく、カテーテル、ガイドワイヤ、留置針等の用途に応じて最適な基材層コア部１ａとしての機能を十分に発現し得る補強材料を適宜選択すればよい。例えば、ＳＵＳ３０４、ＳＵＳ３１６Ｌ、ＳＵＳ４２０Ｊ２、ＳＵＳ６３０などの各種ステンレス鋼（ＳＵＳ）、金、白金、銀、銅、ニッケル、コバルト、チタン、鉄、アルミニウム、スズおよびニッケル−チタン合金、コバルト−クロム合金、亜鉛−タングステン合金等のそれらの合金などの各種金属材料、各種セラミックス材料などの無機材料、更には金属−セラミックス複合体などが例示できるが、これらに何ら制限されるものではない。

（１ｃ）基材層１ないし表面高分子層１ｂの構成
基材層１ないし表面高分子層１ｂに用いることができる高分子材料としては、特に限定されるものではなく、例えば、ナイロン６、ナイロン１１、ナイロン１２、ナイロン６６（いずれも登録商標）などのポリアミド樹脂、直鎖状低密度ポリエチレン（ＬＬＤＰＥ）、低密度ポリエチレン（ＬＤＰＥ）、高密度ポリエチレン（ＨＤＰＥ）などのポリエチレン樹脂やポリプロピレン樹脂などのポリオレフィン樹脂、エポキシ樹脂、ウレタン樹脂、ジアリルフタレート樹脂（アリル樹脂）、ポリカーボネート樹脂、フッ素樹脂、アミノ樹脂（ユリア樹脂、メラミン樹脂、ベンゾグアナミン樹脂）、ポリエステル樹脂、スチロール樹脂、アクリル樹脂、ポリアセタール樹脂、酢酸ビニル樹脂、フェノール樹脂、塩化ビニル樹脂、シリコーン樹脂（ケイ素樹脂）などが挙げられる。これらは１種単独で使用してもよいし、２種以上を併用してもよい。上記高分子材料には、使用用途であるカテーテル、ガイドワイヤ、留置針等の高分子基材として最適な高分子材料を適宜選択すればよい。

（１ｄ）ミドル層の構成
また、上記ミドル層（図示せず）に用いることができる材料としては、特に制限されるものではなく、使用用途に応じて適宜選択すればよい。例えば、各種金属材料、各種セラミックス材料、さらには有機−無機複合体などが例示できるが、これらに何ら限定されるものではない。以下、「少なくとも表面が高分子材料からなる基材層１」を単に「高分子基材層１」、あるいは「基材層１」とも略称する。

（２）分子内に複数のチオール基を有する化合物２
本実施形態の医療用具を構成する分子内に複数のチオール基を有する化合物（以下、単に「チオール化合物」とも略称する）２は、高分子基材層１表面の少なくとも一部に担持されている。

ここで、チオール化合物２が、基材層１表面の少なくとも一部に担持されているとしたのは、使用用途であるカテーテル、ガイドワイヤ、留置針等の医療用具において、必ずしもこれらの医療用具の全ての表面（表面全体）が湿潤時に潤滑性を有する必要はなく、湿潤時に表面が潤滑性を有することが求められる表面部分（一部の場合もあれば全部の場合もある）のみにチオール化合物２が担持されていればよいためである。

なお、ここでいう「担持」とは、チオール化合物２が基材層１表面から容易に遊離しない状態に固定化された状態である。

チオール化合物２としては、分子内にチオール基を複数有する化合物であれば特に限定されないが、プラズマ処理及びその後の加熱処理等で基材層１表面の高分子材料と反応し強固に固定化した際に、残存するチオール基と表面潤滑層３の親水性高分子の反応性官能基が反応しやすいよう、チオール化合物２の最表面に残存するチオール基が露出しやすい構造を有していることが望ましい。かかる観点から、チオール化合物２としては、１分子内にチオール基を２個以上有する化合物であればよいが、好ましくは１分子内にチオール基を、２〜１０個、より好ましくは３〜６個有する化合物である。

かかる観点から、上記チオール化合物としては、直鎖状、分岐鎖状、環状のいずれでもよく、例えば１，２−エタンジチオール、１，２−プロパンジチオール、１，３−プロパンジチオール、１，４−ブタンジチオール、２，３−ブタンジチオール、１，５−ペンタンジチオール、１，６−ヘキサンジチオール、１，８−オクタンジチオール、３，６−ジオキサ−１，８−オクタンジチオール、ビス（２−メルカプトエチル）エーテル、ビス（２−メルカプトエチル）スルフィド、１，２−ベンゼンジチオール、１，４−ベンゼンジチオール、１，４−ビス（メルカプトメチル）ベンゼン、トルエン−３，４−ジチオール、１，５−ジメルカプトナフタレン、４，４’−ビフェニルジチオール、４，４’−チオビスベンゼンチオール、テトラエチレングリコールビス（３−メルカプトプロピオネート）等の分子内にチオール基を２つ有する化合物、１，３，５−ベンゼントリチオール、トリス−［（３−メルカプトプロピオニルオキシ）−エチル］−イソシアヌレート（ＴＥＭＰＩＣ）、トリアジントリチオール、トリメチロールプロパントリス（３−メルカプトプロピオネート）（ＴＭＭＰ）等の分子内にチオール基を３つ有する化合物、ペンタエリスリトールテトラキス（メルカプトアセテート）、ペンタエリスリトールテトラキス（３−メルカプトプロピオネート）、ペンタエリスリトールテトラキス（３−メルカプトブチレート）等の分子内にチオール基を４つ有する化合物、ジペンタエリスリトールヘキサキス（３−メルカプトプロピオネート）等の分子内にチオール基を６つ有する化合物、およびそれらの誘導体や重合体などを好適に例示できる。これらは１種単独で使用してもよいし、２種以上を併用してもよい。好ましくは、基材層１表面にチオール基が固定化された際に、残存するチオール基と親水性高分子の反応性官能基が反応しやすいよう、最表面に残存チオール基が露出しやすい構造を有し、分子骨格が安定で、基材層１表面との親和性がよく、チオール基を３〜６個有する化合物である、トリス−［（３−メルカプトプロピオニルオキシ）−エチル］−イソシアヌレート（ＴＥＭＰＩＣ）、ジペンタエリスリトールヘキサキス（３−メルカプトプロピオネート）である。

また、本実施形態では、上記に例示したチオール化合物に何ら制限されるものではなく、本発明の作用効果を有効に発現し得るものであれば、他のチオール化合物も利用可能である。

（２ａ）チオール化合物２の固定法
本発明の医療用具では、酸素を含有するイオン化ガスプラズマを照射すること（プラズマ処理）によりチオール化合物２を基材層１に固定化させている。

チオール化合物２を基材層１に固定化させる具体的な形態としては、（ｉ）チオール基を有する化合物を溶解した溶液を基材層表面に塗布する前に、前記基材層表面に酸素を含有するイオン化ガスプラズマを照射することによって、前記チオール基を有する化合物を基材層に担持する形態が挙げられる。具体的には、チオール化合物を溶解した溶液（チオール化合物溶液）を基材層１表面に塗布する前（チオール化合物塗布前）に、予め基材層１表面をプラズマ処理することによって、表面を改質、活性化した後、チオール化合物溶液を塗布して、チオール化合物２と基材層１表面とを反応（担持／固定化）させる形態である。当該形態では、酸素を含有するプラズマ照射を行うことによって、基材層１表面にカルボキシル基、ヒドロキシル基、パーオキサイド等の官能基が導入される。これにより、チオール化合物溶液に対する濡れ性が高まり、基材層１表面にチオール化合物２を均一に塗布することがでるとともに、基材層１表面の上記官能基とチオール化合物２のチオール基とが反応することによって、基材層１表面にチオール化合物２を強固に固定化することができる。

また、上記（ｉ）の形態において、チオール化合物溶液を塗布した後、加熱処理等をしてもよい。チオール化合物溶液を塗布した後、加熱処理等をすることによって、基材層１表面とチオール化合物２の反応の促進、あるいはチオール化合物２自体を重合させることが可能である。このため、上記加熱処理等によって、チオール化合物を基材層表面により強固に固定化することができる。

また、（ｉｉ）チオール基を有する化合物を溶解した溶液を基材層表面に塗布し、その後酸素を含有するイオン化ガスプラズマを照射することによって、前記チオール基を有する化合物を基材層に担持する形態が挙げられる。具体的には、基材層１表面にチオール化合物溶液を塗布した後（チオール化合物塗布後）に、当該プラズマ処理を行うことで、チオール化合物２と基材層１表面とを反応（担持／固定化）させる形態である。当該形態では、酸素を含有するイオン化ガスプラズマ照射を行うことによって、上記のような基材層１表面に官能基を導入する効果に加えて、チオール基同士の酸化反応が促進され、チオール化合物同士がジスルフィド結合によって架橋した構造を形成させることができる。そして適度な架橋構造は基材層１上の膜（ここではチオール化合物２同士の架橋によって形成された膜）の強度を向上させ、その結果として基材層１表面にチオール化合物２を強固に固定化することができる。

また、上記（ｉｉ）の形態において、酸素を含有するイオン化ガスプラズマを照射した後、加熱処理等をしてもよい。プラズマ処理を行った後、加熱処理等をすることによって、基材層１表面とチオール化合物２の反応、あるいはチオール化合物２自体の架橋を促進させることが可能である。このため、上記加熱処理等によって、チオール化合物を基材層表面により強固に固定化することができる。

さらに、上記（ｉ）のチオール化合物塗布前と（ｉｉ）のチオール化合物塗布後のプラズマ処理を併用する形態、すなわち、（ｉｉｉ）基材層表面にイオン化ガスプラズマを照射し、前記チオール基を有する化合物を溶解した溶液を基材層表面に塗布し、再度イオン化ガスプラズマを照射することによって、前記チオール基を有する化合物を基材層に担持し、この際、上記２回のイオン化ガスプラズマの少なくとも一方が酸素を含有するイオン化ガスプラズマである形態が挙げられる。具体的には、チオール化合物塗布前に、基材層１表面をプラズマ処理することによって、表面を改質、活性化した後、チオール化合物溶液を塗布し、さらにその後再度プラズマ処理を行うことで、チオール化合物２と基材層１表面とを反応（担持／固定化）させ、この際、上記２回のイオン化ガスプラズマの少なくとも一方が酸素を含有するイオン化ガスプラズマである形態である。当該形態において、基材層表面へのチオール化合物の固定強度などを考慮すると、上記２回のイオン化ガスプラズマ（基材層にチオール化合物溶液を塗布する前のイオン化ガスプラズマ処理、チオール化合物溶液を塗布した後のイオン化ガスプラズマ処理）のうち、少なくとも、基材層にチオール化合物溶液を塗布した後に酸素を含有するイオン化ガスプラズマ処理を行うことが好ましい。より好ましくは、チオール化合物溶液の塗布前及び後の双方で酸素を含有するイオン化ガスプラズマ処理を行う。当該形態は、基材層１表面にチオール化合物２を非常に強固に固定化することができ、高分子基材層上に形成される膜の強度を向上できる点で優れている。特に上記２回のイオン化ガスプラズマが共に酸素を含有するイオン化ガスプラズマである場合には、上記効果がより一層達成しうる。

この際にも、再度プラズマ処理を行った後、加熱処理等をしてもよい。このような加熱処理によって、基材層１表面とチオール化合物２の反応、あるいはチオール化合物２自体の架橋を促進させることが可能である。このため、上記加熱処理等によって、チオール化合物を基材層表面により強固に固定化することができる。

なお、チオール化合物は複数のチオール基を有するため、基材層表面への担持（固定化）に寄与しない残存チオール基が存在する。この残存チオール基が後述の親水性高分子の反応性官能基（例えば、エポキシ基、イソシアネート基等）と反応して、表面潤滑層が形成される。このようにして、チオール化合物を介して表面潤滑層を種々の高分子材料からなる基材層表面に簡便な手法で強固に固定化することができ、使用時の優れた表面潤滑性を永続的に発揮することができる。

以下、上記（ｉ）、（ｉｉ）の形態を併用する上記（ｉｉｉ）の形態につき、説明する。なお、下記形態では、基材層にチオール化合物溶液を塗布する前のイオン化ガスプラズマ処理およびチオール化合物溶液を塗布した後のイオン化ガスプラズマ処理双方で酸素を含有するイオン化ガスプラズマ処理を行っているが、上記したように双方で行う必要はなく、少なくとも一方は酸素を含有しないイオン化ガスプラズマ処理を行ってもよい。ここで、「酸素を含有しないイオン化ガスプラズマ処理」とは、下記プラズマ処理に酸素を含ませない以外は、同様の操作、条件を適用できる。

（２ａ−１）チオール化合物塗布前のプラズマ処理
本形態では、基材層１にチオール化合物溶液を塗布する前（チオール化合物塗布前）に、予め基材層１表面に酸素を含有するイオン化ガスプラズマを照射するものである。これにより、基材層１表面を改質、活性化し、チオール化合物溶液に対する基材層１表面の濡れ性を向上させることができるため、チオール化合物溶液を基材層１表面に均一に塗布することができる。当該イオン化ガスプラズマ処理は、カテーテル、ガイドワイヤ、留置針等の医療用具の細く狭い内表面であっても、所望のプラズマ処理を施すことが可能である。

基材層１表面に酸素を含有するイオン化ガスプラズマ照射する前に、予め適当な方法で基材層１表面を洗浄しておくのが好ましい。なお、上記（ｉｉ）の形態のように、チオール化合物塗布前のプラズマ処理を行わずに、チオール化合物塗布を行う場合でも、当該洗浄処理は、チオール化合物溶液を塗布する前に実施しておくのが望ましい。

チオール化合物塗布前のプラズマ処理での圧力条件は、特に制限されるものではなく、減圧下、大気圧下のいずれでも可能であるが、自由な角度からプラズマガスの照射ができ、真空装置が必要なく装置が小型化でき、省スペース、低コストでのシステム構成が実現でき、経済的にも優れることから、大気圧下で行うのが好ましい。また、プラズマ照射ノズルをガイドワイヤなどの被処理物を中心にその周りを一回転させながらプラズマガスを照射することで、被処理物の全周をムラなく均一にプラズマ処理することもできる。

チオール化合物塗布前のプラズマ処理に用いることのできるイオン化ガスとしては、ヘリウム、ネオン、アルゴン、クリプトン、二酸化炭素、一酸化炭素、水蒸気、窒素および水素等が挙げられる。この際、上記イオン化ガスは、単独で使用されてもあるいは２種以上の混合ガスの形態で使用されてもよい。

ここで、上記イオン化ガスは、酸素を含有する。イオン化ガス中に酸素を含有させることにより、上記したように、表面潤滑層をチオール化合物を介して基材層表面に簡便な手法で強固に固定化できる。ここで、イオン化ガス中の酸素の含有量は、上記したような効果を奏する量であれば特に制限されない。

チオール化合物塗布前のプラズマ処理での照射時間は、１０分以下、好ましくは０．１秒〜５分、さらに好ましくは１秒〜３分の範囲である。該プラズマ照射時間の下限値は特に制限されるものではないが、０．１秒未満の場合、基材層１表面の濡れ性（改質、活性化）を十分に高めるだけの時間の確保が困難となる可能性があり、チオール化合物の薄い被膜の形成が困難となる可能性がある。一方、プラズマ照射時間が１０分を超える場合、基材層１表面の活性化が過度になるため、基材層１表面の高分子材料の結合の切断・再結合（分子構造の組み換えや架橋）が過剰に生じる可能性がある。

チオール化合物塗布前のプラズマ処理での被処理物（チオール化合物塗布前の基材層１）の温度は、該基材層１表面の高分子材料の融点より低い温度で、基材層１が変形しない温度範囲であれば特に制限されるものではなく、常温のほか、加熱または冷却して高温または低温にしてもよい。経済的な観点からは、加熱装置や冷却装置が不要な温度（５〜３５℃）がよい。

チオール化合物塗布前のプラズマ処理条件としては、被処理物の面積、さらには使用するプラズマ照射装置やイオン化ガス種に応じて印加電流やガス流量等の照射条件を適宜決定すればよく、特に制限されるものではない（例えば、実施例１参照のこと）。

チオール化合物塗布前のプラズマ処理に用いることのできるプラズマ照射装置（システム）としては、特に制限されるものではなく、例えば、ガス分子を導入し、これを励起してプラズマを発生するプラズマ発生管と、このプラズマ発生管の中のガス分子を励起する電極とを有し、プラズマ発生管の一端からプラズマを放出するような構成のプラズマ照射装置（システム）などが例示できるが、こうした構成（システム）に何ら制限されるものではない。例えば、既に市販されているものから、カテーテル、ガイドワイヤ、留置針等への照射に適しているイオン化ガスプラズマ照射装置（システム）、特に大気圧でのプラズマ照射装置（システム）を用いることができる。具体的には、ＴＲＩ−ＳＴＡＲ ＴＥＣＨＮＯＬＯＧＩＥＳ製のプラズマ照射装置：ＤＵＲＡＤＹＮＥ（商品名又は商標名）、ＤＩＥＮＥＲ ＥＬＥＣＴＲＯＮＩＣ製のプラズマ照射装置：ＰＬＡＳＭＡＢＥＡＭなどを利用できるが、これらに何ら制限されるものではない。

（２ａ−２）チオール化合物塗布
高分子基材層１にチオール化合物溶液を塗布する手法としては、特に制限されるものではなく、塗布・印刷法（コーティング法）、浸漬法（ディッピング法）、噴霧法（スプレー法）、スピンコート法、混合溶液含浸スポンジコート法など、従来公知の方法を適用することができる。

以下では、チオール化合物溶液中に高分子基材層１を浸漬し、乾燥して、該チオール化合物溶液を高分子基材層１表面に塗布した後、プラズマ処理し、さらに加熱処理等によって、高分子基材層１表面に該チオール化合物２が固定化されてなる形態を例にとり詳しく説明する。但し、本発明がこれらの形成法に何ら制限されるものでない。なお、この形態の場合、高分子基材層１をチオール化合物溶液中に浸漬した状態で、系内を減圧にして脱泡させることで、カテーテル、ガイドワイヤ、注射針等の医療用具の細く狭い内面に素早く溶液を浸透させてチオール化合物２の塗布を促進するようにしても良い。

また、高分子基材層１表面の一部にのみチオール化合物２を固定化する場合には、高分子基材層１の一部のみにチオール化合物溶液を塗布した（浸漬し、乾燥した）後、再度プラズマ処理を行い、さらに、必要に応じて加熱処理等を行うことで、高分子基材層１の所望の表面部位に、チオール化合物２を固定化することができる。

高分子基材層１表面の一部のみをチオール化合物溶液中に浸漬するのが困難な場合には、予めチオール化合物２を固定化しない高分子基材層１の表面部分を着脱（装脱着）可能な適当な部材や材料で保護（被覆等）してから、該基材層１をチオール化合物溶液中に浸漬し、乾燥させた後、再度プラズマ処理を行い、さらに、必要に応じて加熱処理等を行った後、チオール化合物２を固定化しない高分子基材層１の表面部分の保護部材（材料）を取り外すことで、該基材層１の所望の表面部位に、チオール化合物２を固定化することができる。但し、本発明では、これらの固定化法に何ら制限されるものではなく、従来公知の方法を適宜利用して、チオール化合物２を固定化することができる。例えば、基材層１の一部のみをチオール化合物溶液中に浸漬するのが困難な場合には、浸漬法に代えて、他のコーティング手法（例えば、塗布法や噴霧法など）を適用してもよい。但し、医療用具１０の構造上、円筒状の用具の外表面と内表面の双方が、湿潤時に該表面が潤滑性を有する必要があるような場合（図１、図２の構成を参照のこと）には、一度に外表面と内表面の双方をコーティングすることができる点で、浸漬法（ディッピング法）が優れている。

チオール化合物２を固定化させる際に用いられるチオール化合物溶液の濃度は、特に限定されない。所望の厚さに均一に被覆する観点からは、チオール化合物溶液中のチオール化合物の濃度は、好ましくは０．００１〜２０ｗｔ％、より好ましくは０．０１〜１０ｗｔ％である。チオール化合物の濃度が０．００１ｗｔ％未満の場合、基材層１表面に十分な量のチオール化合物を固定化することができず、表面潤滑層３を基材層１に強固に固定することが困難な場合がある。また、チオール化合物の濃度が２０ｗｔ％を超える場合、チオール化合物溶液の粘度が高くなりすぎて、均一な厚さのチオール化合物を固定化できない可能性があり、カテーテル、ガイドワイヤ、注射針等の医療用具の細く狭い内面に素早く被覆するのが困難な場合がある。但し、上記範囲を外れても、本発明の作用効果に影響を及ぼさない範囲であれば、十分に利用可能である。

また、チオール化合物溶液に用いられる溶媒としては、例えば、水、メタノール、エタノール、イソプロパノール、エチレングリコール等のアルコール類、アセトン、メチルエチルケトン等のケトン類、酢酸エチル等のエステル類、クロロホルム等のハロゲン化物、ブタン、ヘキサン等のアルカン類、テトラヒドロフラン（ＴＨＦ）、ブチルエーテル等のエーテル類、ベンゼン、トルエン等の芳香族類、Ｎ，Ｎ−ジメチルホルムアミド（ＤＭＦ）等のアミド類などを例示することができるが、これらに何ら制限されるものではない。これらは１種単独で用いてもよいし、２種以上併用してもよい。

チオール化合物溶液の乾燥条件としては、特に制限されるものではない。即ち、本発明の対象となるカテーテル、ガイドワイヤ、留置針等の医療用具は非常に小さなものであり、乾燥にさほど時間がかからないことから、自然乾燥でも十分である。かかる観点から、チオール化合物溶液の乾燥条件における乾燥温度は、好ましくは２０〜１５０℃、より好ましくは２０〜１３０℃である。また、乾燥時間は、好ましくは１秒〜１時間、より好ましくは１〜３０分である。乾燥時間が１秒未満の場合、未乾燥状態のままチオール化合物塗布後のプラズマ処理を行うことで、残存する溶媒等の蒸発にプラズマエネルギーが吸収され、基材層１表面やチオール化合物の活性化（例えば、基材層１の表面エネルギーを高めたり、基材層１表面やチオール化合物の元素の励起・イオン化などにより官能基（活性点ないし活性部位）を創り出したりすることなど）を十分に図ることが難しくなる可能性があり、基材層表面との結合部の確保が十分に図れない可能性がある。一方、乾燥時間が１時間を超える場合には、上記時間を超えて乾燥することによる更なる効果が得られず不経済でありうる。

乾燥時の圧力条件も何ら制限されるものではなく、常圧（大気圧）下で行うことができるほか、加圧ないし減圧下で行ってもよい。

乾燥手段（装置）としては、例えば、オーブン、減圧乾燥機などを利用することができるが、自然乾燥の場合には、特に乾燥手段（装置）は不要である。

（２ａ−３）チオール化合物塗布後のプラズマ処理
本形態では、基材層１表面に上記チオール化合物溶液を塗布後、再度酸素を含有するイオン化ガスプラズマ照射するものである。かかるプラズマ処理によっても、チオール化合物２と基材層１表面を活性化して、チオール化合物２と基材層１表面とを反応させ、チオール化合物２を強固に固定化することができると共に、チオール化合物同士の酸化反応を促進し、高分子基材層上に形成される膜の強度を向上させることができる。

本形態のチオール化合物塗布後のプラズマ処理は、上述したチオール化合物塗布前のプラズマ処理と同じ条件で行うことができ、チオール化合物塗布前のプラズマ処理と同じプラズマ照射装置を用いて行うことができる。なお、本形態のチオール化合物塗布後のプラズマ処理条件は、チオール化合物塗布前のプラズマ処理に記載された好ましい範囲の条件であることが好ましいが、チオール化合物塗布前のプラズマ処理と同条件である必要はない。

（２ａ−４）チオール化合物２を固定化する際の加熱処理
チオール化合物２を基材層１表面に固定化する際、上記チオール化合物塗布後のプラズマ処理を行った後、さらに加熱処理等によって、基材層１表面とチオール化合物２の反応、あるいはチオール化合物２自体の架橋を促進させることも可能である。

かかる加熱処理としては、チオール化合物の反応が促進し得るものであればよく、基材層１表面の高分子材料の温度特性（耐熱性）に応じて適宜決定すればよい。

従って、加熱処理温度（加熱炉などの加熱装置の設定温度）の下限としては、チオール化合物の反応が促進し得る温度以上、好ましくは４０℃以上、より好ましくは５０℃以上である。チオール化合物の反応が促進し得る温度未満では、所望の反応が十分に促進せず、加熱処理に長持間を要し不経済であるか、あるいは加熱処理による反応が進まず、所望の効果が得られない可能性がある。

また、加熱処理温度の上限としては、基材層１表面の高分子材料の融点−５℃の温度以下、好ましくは融点−１０℃以下である。基材層１表面の高分子材料の融点−５℃の温度よりも高い温度の場合には、反応は十分促進される反面、加熱炉などの加熱装置内部の温度分布によっては設定温度以上となることもあり、基材層１表面の一部が溶融したり、変形を受ける可能性がある。

また、基材層１表面に用いる幾つかの高分子材料を例にとり、その加熱処理温度範囲を以下に例示するが、本形態の加熱処理温度の範囲は、これらに何ら制限されるものではない。例えば、基材層１表面の高分子材料が各種ナイロン（ナイロン６、１１、１２、６６等）の場合、加熱処理温度は、４０〜１５０℃、好ましくは６０〜１４０℃である。基材層１表面の高分子材料が各種ポリエチレン（ＬＤＰＥ、ＬＬＤＰＥ、ＨＤＰＥ等）の場合、加熱処理温度は、４０〜８５℃、好ましくは５０〜８０℃である。

加熱処理時間は、チオール化合物の反応が促進し得るものであればよく、特に制限されるものではないが、１５分〜２４時間、好ましくは３０分〜１２時間加熱処理するのが望ましい。加熱時間が１５分未満の場合には、反応が十分になされない可能性があり、未反応のチオール化合物量が増加する可能性があり、基材層１表面との結合部の確保やチオール化合物２自身の架橋による強度補填効果が十分に発現し得ない可能性がある。一方、加熱時間が２４時間を超える場合には、上記時間を超えて加熱することによる更なる効果が得られず不経済である。

但し、上記加熱処理温度や時間に関しては、チオール化合物塗布後のプラズマ処理を、例えば、低真空下で行う場合等では、プラズマ処理中に被処理物の温度が上昇し、プラズマ処理中に加熱処理と同じ反応が成される場合もあり、プラズマ処理条件も考慮して適宜決定するのが望ましいと言える。

加熱処理時の圧力条件も何ら制限されるものではなく、常圧（大気圧）下で行うことができるほか、加圧ないし減圧下で行ってもよい。

また、チオール化合物同士を架橋させる場合、該架橋を促進することができるように、熱重合開始剤などの添加剤を、チオール化合物溶液に適時適量を添加して用いてもよい。加熱手段（装置）としては、例えば、オーブン、ドライヤー、マイクロ波加熱装置などを利用することができる。

チオール化合物の反応を促進させるための加熱処理以外の他の方法としては、例えば、ＵＶ照射、電子線照射などが例示できるが、これらに何ら制限されるものではない。

チオール化合物２を固定化後、余剰のチオール化合物を、適用な溶剤で洗浄し、高分子基材層１表面に固定化したチオール化合物のみを残存させることも可能である。

（３）表面潤滑層３
本実施形態の医療用具を構成する表面潤滑層３は、チオール化合物２表面を覆う反応性官能基を有する親水性高分子からなるものである。

ここで、表面潤滑層３を構成する反応性官能基を有する親水性高分子（以下、単に「親水性高分子」とも略記する）は、チオール化合物２表面（全体）を覆うように形成されていればよい。ただし、チオール化合物２が湿潤時に表面が潤滑性を有することが求められる表面部分を含めた基材層１表面全体に形成されている場合には、チオール化合物２表面のうち、湿潤時に表面が潤滑性を有することが求められる表面部分（一部の場合もあれば全部の場合もある）のみに表面潤滑層３が形成されていてもよい。

（３ａ）表面潤滑層３の厚さ
本実施形態の医療用具を構成する表面潤滑層３の厚さとしては、使用時の優れた表面潤滑性を永続的に発揮することができるだけの厚さを有していればよく、特に制限されない。未膨潤時の表面潤滑層３の厚さは、好ましくは０．５〜５μｍ、より好ましくは１〜５μｍ、さらにより好ましくは１〜３μｍの範囲である。未膨潤時の表面潤滑層３の厚さが０．５μｍ未満の場合、均一な被膜を形成するのが困難であり、湿潤時に表面の潤滑性を十分発揮し得ない場合がある。一方、未膨潤時の表面潤滑層３の厚さが５μｍを超える場合、高厚な表面潤滑層が膨潤することで、該医療用具１０を生体内の血管等に挿入する際に、血管等と該医療用具とのクリアランスが小さい部位（例えば、末梢血管内部等）を通す際、こうした血管等の内部組織を損傷したり、該医療用具を通しにくくなる可能性がある。

（３ｂ）親水性高分子
表面潤滑層３を構成する反応性官能基を有する親水性高分子は、特に制限されないが、例えば、反応性官能基を分子内に有する単量体と親水性単量体とを共重合することにより得ることができる。

（３ｂ−１）反応性官能基を有する単量体
上記反応性官能基を有する単量体としては、チオール基と反応性を有するものであればよく、特に制限されない。具体的には、グリシジルアクリレートやグリシジルメタクリレートなどのエポキシ基を有する単量体、アクリロイルオキシエチルイソシアネートなどのイソシアネート基を分子内に有する単量体等を例示できる。なかでも、チオール基との反応性に優れることから反応性官能基がエポキシ基であり、反応が熱により促進され、さらに架橋構造を形成することで不溶化して容易に表面潤滑層を形成させることができ、取り扱いも比較的容易であるグリシジルアクリレートやグリシジルメタクリレートなどのエポキシ基を有する単量体が好ましい。エポキシ基を有する単量体を用いた親水性高分子は、イソシアネート基を分子内に有する単量体を用いた親水性高分子に比べて、加熱操作（加熱処理）等で反応させる際の反応速度が穏やか（適当な速度）である。そのため、加熱操作等で反応させる際、チオール化合物との反応や反応性官能基同士の架橋反応の際に、すぐに反応してゲル化したり、固まって表面潤滑層の架橋密度が上昇し潤滑性が低下するのを抑制・制御することができる程度に反応速度が穏やか（適当な速度）であることから、取り扱い性が良好であるといえる。これらの反応性官能基を有する単量体は、１種単独で使用してもよいし、２種以上を併用してもよい。

（３ｂ−２）親水性単量体
上記親水性単量体としては、体液や水系溶媒中において潤滑性を発現すればいかなるものであってもよく、特に制限されない。具体的には、アクリルアミドやその誘導体、ビニルピロリドン、アクリル酸やメタクリル酸及びそれらの誘導体、糖、リン脂質を側鎖に有する単量体を例示できる。例えば、Ｎ−メチルアクリルアミド、Ｎ，Ｎ−ジメチルアクリルアミド、アクリルアミド、アクリロイルモルホリン、Ｎ，Ｎ−ジメチルアミノエチルアクリレート、ビニルピロリドン、２−メタクリロイルオキシエチルフォスフォリルコリン、２−メタクリロイルオキシエチル−Ｄ−グリコシド、２−メタクリロイルオキシエチル−Ｄ−マンノシド、ビニルメチルエーテル、ヒドロキシエチルメタクリレートなどを好適に例示できる。合成の容易性や操作性の観点から、好ましくは、Ｎ，Ｎ−ジメチルアクリルアミドである。これらの親水性単量体は、１種単独で使用してもよいし、２種以上を併用してもよい。

（３ｂ−３）親水性高分子の好適な形態
良好な潤滑性を発現するためには反応性官能基を有する単量体が集まって反応性ドメインを形成し、かつ親水性単量体が集まって親水性ドメインを形成しているブロックもしくはグラフトコポリマーであることが望ましい。こうしたブロックもしくはグラフトコポリマーであると、表面潤滑層の強度や潤滑性において良好な結果が得られる。

これらの親水性高分子の製造法（重合法）については、特に制限されるものではなく、例えば、リビングラジカル重合法、マクロモノマーを用いた重合法、マクロアゾ開始剤等の高分子開始剤を用いた重合法、重縮合法など、従来公知の重合法を適用して製造可能である。

（３ｃ）表面潤滑層３の形成法（基材層１−表面潤滑層３間の結合形態）
本実施形態では、上記した基材層１、チオール化合物２、表面潤滑層３を備え、上述したように前記チオール化合物２が酸素を含有するイオン化ガスプラズマを照射することにより基材層１に固定化されており、さらにチオール化合物の残存チオール基と親水性高分子の反応性官能基とを反応させることで表面潤滑層３が基材層１に結合していることを特徴とするものである。

そのため、表面潤滑層３を形成させる場合、親水性高分子を溶解した溶液（以下、「親水性高分子溶液」とも略記する）中に、チオール化合物２を固定化した基材層１を浸漬した後、乾燥させ、加熱処理等することにより、親水性高分子の反応性官能基（例えば、エポキシ基）とチオール化合物２の残存チオール基とを反応させることで、表面潤滑層３を形成すると同時に、表面潤滑層３が基材層１に結合（固定化）することができるものである。なお、チオール化合物２を固定化した基材層１を親水性高分子溶液中に浸漬した状態で、系内を減圧にして脱泡させることで、カテーテル、ガイドワイヤ、注射針等の医療用具の細く狭い内面に素早く溶液を浸透させて表面潤滑層３の形成を促進するようにしても良い。

なお、チオール化合物２の一部にのみ表面潤滑層３を形成させる場合には、基材層１に固定化されたチオール化合物２の一部のみを親水性高分子溶液中に浸漬した後、加熱処理等することで、チオール化合物２の所望の表面部位に親水性高分子からなる表面潤滑層３を形成することができる。

基材層１に固定化されたチオール化合物２の一部のみを親水性高分子溶液中に浸漬するのが困難な場合には、予め表面潤滑層３を形成しないチオール化合物２の表面部分を着脱（装脱着）可能な適当な部材や材料で保護（被覆等）した上で、基材層１に固定化されたチオール化合物２を親水性高分子溶液中に浸漬してから、表面潤滑層３を形成しないチオール化合物２の表面部分の保護部材（材料）を取り外し、その後、加熱処理等することで、チオール化合物２の所望の表面部位に親水性高分子からなる表面潤滑層３を形成することができる。但し、本発明では、これらの形成法に何ら制限されるものではなく、従来公知の方法を適宜利用して、表面潤滑層３を形成することができる。

なお、上記親水性高分子溶液中にチオール化合物２を固定化した基材層１を浸漬する方法（浸漬法ないしディッピング法）に代えて、例えば、塗布・印刷法、噴霧法（スプレー法）、スピンコート法、混合溶液含浸スポンジコート法など、従来公知の方法を適用することができる。

また、チオール化合物と親水性高分子とを反応させる手法としても、特に制限されるものではなく、例えば、加熱処理、光照射、電子線照射、放射線照射など、従来公知の方法を適用することができる。

以下では、基材層１に固定化されたチオール化合物２を親水性高分子溶液中に浸漬し、該親水性高分子溶液（コーティング溶液）をチオール化合物２表面にコーティング（被覆）した後、加熱操作によって、チオール化合物の残存チオール基と親水性高分子の反応性官能基とを反応させることで、表面潤滑層３を形成する形態を例にとり詳しく説明する。但し、本発明がこれらのコーティング及び反応処理操作に何ら制限されるものでない。

（３ｃ−１）親水性高分子溶液の濃度
表面潤滑層３を形成させる際に用いられる親水性高分子溶液の濃度は、特に限定されない。所望の厚さに均一に被覆する観点からは、親水性高分子溶液中の親水性高分子の濃度は、０．１〜２０ｗｔ％、好ましくは０．５〜１５ｗｔ％、より好ましくは１〜１０ｗｔ％である。親水性高分子溶液の濃度が０．１ｗｔ％未満の場合、所望の厚さの表面潤滑層３を得るために、上記した浸漬操作を複数回繰り返す必要が生じるなど、生産効率が低くなる可能性がある。一方、親水性高分子溶液の濃度が２０ｗｔ％を超える場合、親水性高分子溶液の粘度が高くなりすぎて、均一な膜をコーティングできない可能性があり、またカテーテル、ガイドワイヤ、注射針等の医療用具の細く狭い内面に素早く被覆するのが困難となる可能性がある。但し、上記範囲を外れても、本発明の作用効果に影響を及ぼさない範囲であれば、十分に利用可能である。

（３ｃ−２）親水性高分子溶液に用いられる溶媒
また、親水性高分子を溶解するのに用いられる溶媒としては、例えば、Ｎ，Ｎ−ジメチルホルムアミド（ＤＭＦ）、クロロホルム、アセトン、テトラヒドロフラン（ＴＨＦ）、ジオキサン、ベンゼンなどを例示することができるが、これらに何ら制限されるものではない。これらは１種単独で用いてもよいし、２種以上併用してもよい。

（３ｃ−３）表面潤滑層３を形成させる際の反応条件（加熱条件）
また本発明は、表面潤滑層３を形成させる際に、加熱処理等により親水性高分子の反応性官能基（例えば、エポキシ基）とチオール化合物２の残存チオール基とを反応させることで、表面潤滑層３を基材層１に結合させるものである。

かかる加熱処理の条件（反応条件）としては、親水性高分子の反応性官能基とチオール化合物２の残存チオール基との反応が進行（促進）し得るものであればよく、基材層１表面の高分子材料の温度特性（耐熱性）に応じて適宜決定すればよい。

従って、加熱処理温度（加熱炉などの加熱装置の設定温度）の下限としては、親水性高分子の反応性官能基とチオール化合物２の残存チオール基との反応が促進し得る温度以上、好ましくは４０℃以上、より好ましくは５０℃以上である。親水性高分子の反応性官能基とチオール化合物２の残存チオール基との反応が促進し得る温度未満では、所望の反応が十分に促進せず、加熱処理に長持間を要し不経済であるか、あるいは加熱処理による所望の反応が進まず、所期の効果が得られない可能性がある。

また、加熱処理温度の上限としては、基材層１表面の高分子材料の融点−５℃の温度以下、好ましくは融点−１０℃以下である。基材層１表面の高分子材料の融点−５℃の温度よりも高い温度の場合には、所望の反応が十分促進される反面、加熱炉などの加熱装置内部の温度分布によっては設定温度以上となることもあり、基材層１表面の一部が溶融したり、変形を受ける可能性がある。

また、基材層１表面に用いる幾つかの高分子材料を例にとり、その加熱処理温度範囲を以下に例示するが、本形態の加熱処理温度の範囲は、これらに何ら制限されるものではない。例えば、基材層１表面の高分子材料が各種ナイロン（ナイロン６、１１、１２、６６等）の場合、加熱処理温度は、４０〜１５０℃、好ましくは６０〜１４０℃である。基材層１表面の高分子材料が各種ポリエチレン（ＬＤＰＥ、ＬＬＤＰＥ、ＨＤＰＥ等）の場合、加熱処理温度は、４０〜８５℃、好ましくは５０〜８０℃である。

加熱処理時間は、親水性高分子の反応性官能基とチオール化合物２の残存チオール基との反応が促進し得るものであればよく、特に制限されるものではないが、１５分〜１５時間、好ましくは３０分〜１０時間であるのが好ましい。加熱時間が１５分未満の場合、反応がほとんど進行せず未反応の親水性高分子が増加する可能性があり、表面潤滑性を長期間維持するのが困難となる場合がある。一方、加熱時間が１５時間を超える場合、加熱による更なる効果が得られず不経済である。

加熱処理時の圧力条件も何ら制限されるものではなく、常圧（大気圧）下で行うことができるほか、加圧ないし減圧下で行ってもよい。また、親水性高分子の反応性官能基がエポキシ基の場合、チオール化合物２の残存チオール基との反応を促進することができるように、トリアルキルアミン系化合物やピリジン等の３級アミン系化合物などの反応触媒を、親水性高分子溶液に適時適量添加して用いてもよい。加熱手段（装置）としては、例えば、オーブン、ドライヤー、マイクロ波加熱装置などを利用することができる。

また、加熱処理以外にも親水性高分子の反応性官能基とチオール化合物２の残存チオール基との反応を促進させる方法としては、光、電子線、放射線などが例示できるが、これらに何ら制限されるものではない。

表面潤滑層３を形成させた後、余剰の親水性高分子を、適用な溶剤で洗浄し、表面潤滑層３が基材層１に強固に固定化されてなる親水性高分子のみを残存させることも可能である。

こうして形成された表面潤滑層３は、患者の体温（３０〜４０℃）において吸水し、潤滑性を発現するものである。

（４）本発明の医療用具１０の用途
本発明の湿潤時に表面が潤滑性を有する医療用具１０は、体液や血液などと接触して用いる器具のことであり、体液や生理食塩水などの水系液体中において表面が潤滑性を有し、操作性の向上や組織粘膜の損傷の低減が可能なものである。具体的には、血管内で使用されるカテーテル、ガイドワイヤ、留置針等が挙げられるが、その他にも以下の医療用具が示される。

（４ａ）胃管カテーテル、栄養カテーテル、経管栄養用チューブなどの経口もしくは経鼻的に消化器官内に挿入ないし留置されるカテーテル類。

（４ｂ）酸素カテーテル、酸素カヌラ、気管内チューブのチューブやカフ、気管切開チューブのチューブやカフ、気管内吸引カテーテルなどの経口または経鼻的に気道ないし気管内に挿入ないし留置されるカテーテル類。

（４ｃ）尿道カテーテル、導尿カテーテル、尿道バルーンカテーテルのカテーテルやバルーンなどの尿道ないし尿管内に挿入ないし留置されるカテーテル類。

（４ｄ）吸引カテーテル、排液カテーテル、直腸カテーテルなどの各種体腔、臓器、組織内に挿入ないし留置されるカテーテル類。

（４ｅ）留置針、ＩＶＨカテーテル、サーモダイリューションカテーテル、血管造影用カテーテル、血管拡張用カテーテルおよびダイレーターあるいはイントロデューサーなどの血管内に挿入ないし留置されるカテーテル類、あるいは、これらのカテーテル用のガイドワイヤ、スタイレットなど。

（４ｆ）人工気管、人工気管支など。

（４ｇ）体外循環治療用の医療器（人工肺、人工心臓、人工腎臓など）やその回路類。

［実施例１］
ポリエチレン（直鎖状低密度ポリエチレン；ニポロン−Ｚ（登録商標） ＺＦ−２６０、東ソー株式会社製）の中空チューブ（内径 ０．８６ｍｍ，外径 １．０５ｍｍ）をアセトン中で超音波洗浄した後、プラズマ照射装置（ＤＵＲＡＤＹＮＥ、ＴＲＩ−ＳＴＡＲ ＴＥＣＨＮＯＬＯＧＩＥＳ製）を用いて、大気圧下で酸素混合アルゴンイオンガスプラズマ処理を２５秒行った（チオール化合物塗布前のプラズマ処理）。この際、プラズマ処理は、酸素ガスとアルゴンガスとを１：５０（＝酸素ガス：アルゴンガスの体積比）で混合したガスを用いて行った。

上記チオール化合物塗布前のプラズマ処理を施したポリエチレンチューブを、５重量％の濃度に調節したトリス−［（３−メルカプトプロピオニルオキシ）−エチル］−イソシアヌレート（ＴＥＭＰＩＣ）（ＳＣ有機化学製）のＴＨＦ溶液に浸漬し、室温で乾燥した後、上記プラズマ照射装置を用いて、再度大気圧下で酸素混合アルゴンイオンガスプラズマ照射を２５秒行った（チオール化合物塗布後のプラズマ処理）。この際、プラズマ処理は、酸素ガスとアルゴンガスとを１：５０（＝酸素ガス：アルゴンガスの体積比）で混合したガスを用いて行った。その後、８０℃のオーブンで５時間加熱することでポリエチレンチューブ表面にＴＥＭＰＩＣを固定化した。さらに、ＴＥＭＰＩＣを固定化したポリエチレンチューブをＴＨＦ中で超音波洗浄することにより、チューブ表面に固定化されていない余剰のＴＥＭＰＩＣを取り除いた。これにより基材層１（ポリエチレンチューブ）表面全体を覆うＴＥＭＰＩＣからなるチオール化合物２を形成（固定化）した。

親水性ドメインとしてポリジメチルアクリルアミド（ＤＭＡＡ）を、反応性ドメインとしてポリグリシジルメタクリレート（ＧＭＡ）を有するブロックコポリマー［ｐ（ＤＭＡＡ−ｂ−ＧＭＡ）］（ＤＭＡＡ：ＧＭＡ（モル比）＝１１．５：１）を３．５重量％の割合で溶解したＴＨＦ溶液（ブロックコポリマー溶液）に、ＴＥＭＰＩＣを固定化したポリエチレンチューブを浸漬後、室温で乾燥させ、８０℃のオーブン中で５時間反応させることで表面潤滑層を形成させた。これにより、基材層１（ポリエチレンチューブ）表面に固定化されたＴＥＭＰＩＣからなるチオール化合物２表面を覆うように、上記ブロックコポリマー（親水性高分子）からなる厚さ（未膨潤時）が２μｍの表面潤滑層３を形成した（ポリエチレンチューブ（１））。

［実施例２］
実施例１において、チオール化合物塗布前のプラズマ処理時間およびチオール化合物塗布後のプラズマ処理時間を、それぞれ、１２５秒に変更する以外は、実施例１と同様の操作を行ない、基材層１（ポリエチレンチューブ）表面に固定化されたＴＥＭＰＩＣからなるチオール化合物２表面を覆うように、ブロックコポリマー［ｐ（ＤＭＡＡ−ｂ−ＧＭＡ）］（親水性高分子）からなる厚さ（未膨潤時）が２μｍの表面潤滑層３を形成した（ポリエチレンチューブ（２））。

［比較例１］
実施例１と同様のポリエチレンチューブ（高分子基材層１）を、アセトン中で超音波洗浄した後、実施例１と同じブロックコポリマー溶液に浸漬し、室温で乾燥させ、８０℃のオーブン中で５時間反応させることで、基材層１（ポリエチレンチューブ）表面を覆うように、上記ブロックコポリマー（親水性高分子）からなる厚さ（未膨潤時）が２μｍの表面潤滑層３を形成した（比較ポリエチレンチューブ（１））。

［表面潤滑維持性評価］
上記実施例１，２で得られたポリエチレンチューブ（１）、（２）および比較例１で得られた比較ポリエチレンチューブ（１）について、下記方法にしたがって、図３に示される摩擦測定機（トリニティーラボ社製、ハンディートライボマスターＴＬ２０１）２０を用いて、表面潤滑維持性を評価した。

すなわち、上記各ポリエチレンチューブ１６に、ステンレス棒１３（φ０．８ｍｍ）を通したものを、シャーレ１２中に貼り付け、ポリエチレンチューブ１６全体が浸る高さの水中に浸漬した。このシャーレを、図３に示される摩擦測定機２０に載置して、下記条件下で、チューブ表面を繰り返し１０回摺動させたときの摺動抵抗値を測定した。この際、実施例１で得られたポリエチレンチューブ（１）は４回試験を行い、その結果を図４に示す。また、実施例２で得られたポリエチレンチューブ（２）および比較例１で得られた比較ポリエチレンチューブ（１）はそれぞれ３回試験を行い、その結果を、それぞれ、図５および図６に示す。

＜摺動抵抗値の測定条件＞
速度：１,０００ｍｍ／ｍｉｎ
荷重：５０ｇ
移動距離：２５ｍｍ
端子：ポリエチレン
図４〜６に示されるように、実施例１及び２で得られたポリエチレンチューブ（１）及び（２）は、比較例１で得られた比較ポリエチレンチューブ（１）に比べて、１０回の繰り返し摺動に対して摺動抵抗値を低く維持することができ、表面潤滑層の耐久性が良好だった。

１…基材層、
１ａ…基材層コア部、
１ｂ…高分子表面層、
２…チオール化合物、
３…表面潤滑層、
１０…医療用具、
１１…水、
１２…シャーレ、
１３…ステンレス棒、
１４…端子、
１５…重り、
１６…ポリエチレンチューブ（試料）、
２０…摩擦測定機。

Claims (5)

1. 少なくとも表面が高分子材料からなる基材層と、
   該基材層の少なくとも一部に担持された、分子内に３〜６個のチオール基を有する化合物と、
   該分子内に複数のチオール基を有する化合物を覆う、反応性官能基を有する親水性高分子からなる表面潤滑層と、を備え、
   該チオール基を有する化合物が酸素を含有するイオン化ガスプラズマを照射することにより基材層に担持されており、かつ該チオール基を有する化合物と、該反応性官能基を有する親水性高分子とを反応させることで表面潤滑層が基材層に結合している、湿潤時に表面が潤滑性を有する医療用具。
2. 前記チオール基を有する化合物を溶解した溶液を前記基材層表面に塗布し、その後酸素を含有するイオン化ガスプラズマを照射することによって、前記チオール基を有する化合物が基材層に担持されている、請求項１に記載の医療用具。
3. 前記基材層表面に酸素を含有するイオン化ガスプラズマを照射し、その後前記チオール基を有する化合物を溶解した溶液を基材層表面に塗布することによって、前記チオール基を有する化合物が基材層に担持されている、請求項１または２に記載の医療用具。
4. 前記チオール基を有する化合物を溶解した溶液を基材層表面に塗布した後に前記酸素を含有するイオン化ガスプラズマを照射し、その後加熱処理することによって、前記チオール基を有する化合物が基材層に担持されている、請求項２または３に記載の医療用具。
5. 前記チオール基を有する化合物が、１，３，５−ベンゼントリチオール、トリス−［（３−メルカプトプロピオニルオキシ）−エチル］−イソシアヌレート（ＴＥＭＰＩＣ）、トリアジントリチオール、トリメチロールプロパントリス（３−メルカプトプロピオネート）（ＴＭＭＰ）、ペンタエリスリトールテトラキス（メルカプトアセテート）、ペンタエリスリトールテトラキス（３−メルカプトプロピオネート）、ペンタエリスリトールテトラキス（３−メルカプトブチレート）、およびジペンタエリスリトールヘキサキス（３−メルカプトプロピオネート）からなる群より選択される少なくとも一種である、請求項１〜４のいずれか１項に記載の医療用具。