JP5578345B2 - 蒸着装置における蒸発源及び蒸着装置 - Google Patents
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Description
2 容器
3 基板
4 成膜面
5 蒸着材料収納本体部
6 蒸着材料通過孔
7 上面部
8 マイクロ波照射部
9 マイクロ波遮蔽箱体
10 遮蔽上面部
11 通過許容孔
12 シャッター部
14 貫通孔
25 基板駆動機構
Claims (6)
- 基板と対向状態に設ける容器に蒸着材料を収納し、この容器内の前記蒸着材料を加熱して蒸発させることで前記基板の成膜面に前記蒸着材料を付着させて成膜を行う蒸着装置における蒸発源であって、前記容器は、前記基板の前記成膜面と対向する上面部と蒸着材料収納本体部とから成る箱状に構成し、この上面部に、蒸発した前記蒸着材料が通過可能な蒸着材料通過孔を複数並設状態に設け、前記容器にマイクロ波吸収体を設け、前記容器にマイクロ波を照射して前記マイクロ波吸収体を発熱させるマイクロ波照射部と、前記容器全体を覆うように設けられ前記マイクロ波照射部から照射されるマイクロ波を内部に閉じ込めるマイクロ波遮蔽箱体とを備え、このマイクロ波遮蔽箱体に、前記容器の前記上面部と対向する前記マイクロ波遮蔽箱体の遮蔽上面部にして複数の前記蒸着材料通過孔と夫々対向する位置に、この蒸着材料通過孔を通過した蒸発した前記蒸着材料の通過を許容する通過許容孔を夫々設けた蒸発源を真空槽内に配設した蒸着装置において、前記マイクロ波遮蔽箱体と前記基板との間に、複数の前記通過許容孔と夫々対向する複数の貫通孔を有するシャッター部を前記基板と平行な方向に移動自在に設け、前記貫通孔と前記通過許容孔との位置を一致させた状態では前記基板への前記蒸着材料の通過を許容し、前記貫通孔と前記通過許容孔との位置を前記通過許容孔を通過した前記蒸着材料が前記貫通孔を通過し得ないズレた位置に移動させることで前記基板への前記蒸着材料の通過を阻止し得るように前記シャッター部を構成したことを特徴とする蒸着装置。
- 基板と対向状態に設ける容器に蒸着材料を収納し、この容器内の前記蒸着材料を加熱して蒸発させることで前記基板の成膜面に前記蒸着材料を付着させて成膜を行う蒸着装置における蒸発源であって、前記容器は、前記基板の前記成膜面と対向する上面部と蒸着材料収納本体部とから成る箱状に構成し、この上面部に、蒸発した前記蒸着材料が通過可能な蒸着材料通過孔を複数並設状態に設け、前記容器にマイクロ波吸収体を設け、前記容器にマイクロ波を照射して前記マイクロ波吸収体を発熱させるマイクロ波照射部と、前記容器全体を覆うように設けられ前記マイクロ波照射部から照射されるマイクロ波を内部に閉じ込めるマイクロ波遮蔽箱体とを備え、このマイクロ波遮蔽箱体に、前記容器の前記上面部と対向する前記マイクロ波遮蔽箱体の遮蔽上面部にして複数の前記蒸着材料通過孔と夫々対向する位置に、この蒸着材料通過孔を通過した蒸発した前記蒸着材料の通過を許容する通過許容孔を夫々設けた蒸発源を真空槽内に配設した蒸着装置において、前記マイクロ波遮蔽箱体にして前記通過許容孔を設けた前記遮蔽上面部を、前記基板と平行な方向に移動自在に構成し、この遮蔽上面部を、前記通過許容孔を前記蒸着材料通過孔を通過した前記蒸着材料が通過し得ないズレた位置となるように移動させることで、前記蒸着材料の前記基板への到達を阻止し得るように前記遮蔽上面部を構成したことを特徴とする蒸着装置。
- 前記容器の前記蒸着材料収納本体部に収納される前記蒸着材料の蒸発面の面積に対し、前記蒸着材料通過孔の開口面積の総和が十分小さくなるように前記容器を構成したことを特徴とする請求項1,2のいずれか1項に記載の蒸着装置。
- 前記蒸着材料通過孔は、隣り合う他の蒸着材料通過孔を通過する前記蒸着材料の照射領域が前記基板上で互いに重なり合う間隔で複数並設状態に設けたことを特徴とする請求項1〜3のいずれか1項に記載の蒸着装置。
- 前記蒸着材料通過孔は、前記基板の成膜面の略全面に同時に成膜できるように前記容器の前記上面部に縦横に複数並設状態に設けたことを特徴とする請求項4記載の蒸着装置。
- 前記基板をこの基板の前記成膜面の面方向と平行な方向に移動させる基板駆動機構を有することを特徴とする請求項1〜5のいずれか1項に記載の蒸着装置。
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