JP5555144B2 - Method for manufacturing a display device - Google Patents

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この発明は表示装置の製造方法に関する。 The method for the preparation of the present invention is a display device.

立体的に画像を表示することができる立体表示装置としては、マイクロパターン偏光素子を備える立体表示装置が知られている(例えば、非特許文献1(サデグ・エム・ファリス(Sadeg M.Faris)著、「新種の立体画像表示へのマイクロ偏光子アレイ(Micro-Polarizer Arrays to a New Class of Stereoscopic Imaging)」、エス・アイ・ディー・91・ダイジェスト(SID 91 DIGEST)、1991年、p.840-843)参照。)。 The stereoscopic display device capable of displaying a three-dimensional images, it is known stereoscopic display device comprising a micro-pattern polarizing element (e.g., Non-Patent Document 1 (Sadegu M. Faris (Sadeg M.Faris) al , "micro-polarizer array of the new kind of three-dimensional image display (micro-polarizer arrays to a new Class of stereoscopic Imaging)", S. Ai Dee 91 digest (SID 91 dIGEST), 1991 years, p.840- 843) reference.). また、このようなマイクロパターン偏光素子としては、延伸した二色性ポリビニルアルコールフィルム上にレジストを塗布し、パターニングした後、苛性ソーダ水溶液で上記フィルムを溶解(除去)してパターン化した偏光素子を得、偏光軸の直交する二枚のパターン化偏光素子を重ね合わせて作製された偏光素子が知られている。 Moreover, such micro-pattern polarizing element obtained resist is applied onto the dichroic polyvinyl alcohol film stretched, after patterning, the polarizing element in aqueous sodium hydroxide solution patterning the above film dissolution (removed) to polarizing element is known which is produced by superposing two sheets of patterned polarizing elements are orthogonal polarization axes. また、このような偏光素子と表示素子が形成された基板(基板の主面に沿って複数の画素が配列されたもの。以下「表示素子基板」と呼ぶ。)とを貼り合わせて立体表示装置として機能する表示装置を製造する方法が知られている。 Moreover, such a polarizing element and a substrate which the display element is formed (as a plurality of pixels along the main surface of the substrate are arranged. Hereinafter referred to as "display element substrate".) And bonding to the three-dimensional display device method of manufacturing a display device functioning as is known.

従来の表示装置の製造方法では、偏光素子のパターンと表示装置が有する画素との間に位置ずれが生じやすいという問題があった。 In the conventional method of manufacturing a display device, the positional deviation between the pixel having the pattern and the display device of the polarizing element has a problem that tends to occur.

そこで、この発明の課題は、表示素子基板の主面に沿って、互いに遅相軸の方向が異なる複数の領域(これを「位相差領域」と呼ぶ。)を有する位相差層を具備した表示装置を簡便に製造することができ、かつ上記位相差層が有する上記複数の位相差領域と上記表示素子基板に配列された複数の画素との間の位置ずれを小さくすることができる表示装置の製造方法を提供することにある。 Accordingly, an object of the present invention along the main surface of the display device substrate, was provided with a retardation layer having a plurality of areas where the direction of the slow axis different (this is referred to as "retardation region".) Display device can be easily produced a and the display device position shift can be reduced between the plurality of pixels arranged in a plurality of retardation region and the display device substrate having the retardation layer It is to provide a manufacturing method.

上記課題を解決するため、この発明の表示装置の製造方法は、 To solve the above problems, a method of manufacturing a display device of the present invention,
主面に沿って配列された複数の画素を有する表示素子基板と、上記表示素子基板の光出射側に配置され、上記主面に沿った特定方向の透過軸をもつ偏光層と、上記偏光層の光出射側に配置され、上記主面に沿って、上記透過軸に対して互いに異なる角度で交差する遅相軸をもつ複数の位相差領域を有する位相差層とを備えた表示装置を製造する表示装置の製造方法であって、 A display element substrate having a plurality of pixels arranged along the main surface, is disposed on the light emitting side of the display device substrate, and a polarizing layer having a transmission axis of a specific direction along the main surface, the polarizing layer disposed in the light emitting side, along the main surface, producing a display device provided with a retardation layer having a plurality of phase difference regions with slow axes that intersect at different angles with respect to the transmission axis a manufacturing method of a display device,
次の工程(1)乃至(4)を含むことを特徴とする。 Characterized in that it comprises the following steps (1) to (4).
(1)上記表示素子基板の上記光出射側に、上記主面に沿って上記偏光層を形成する工程(2)上記工程(1)で形成された上記偏光層上で、上記表示素子基板の上記複数の画素の配列に対応した位置に、上記位相差層の材料となる液晶組成物の液晶性成分を上記遅相軸の方向に応じた互いに異なる配向方向に配列させる機能をもつ複数のパターン領域を有する配向膜を形成する工程(3)上記工程(2)で形成された上記配向膜上に重合性液晶化合物を含む液晶組成物を塗布して塗布膜を形成し、この塗布膜を上記液晶組成物の液晶性成分が液晶相を示す温度に保持して、上記配向膜の上記複数のパターン領域に対応する領域毎に、上記液晶性成分を互いに異なる配向方向に配列させる工程(4)上記工程(3)で形成された上記液晶性 (1) in the light-emitting side of the display element substrate, the step (2) forming the polarizing layer along the main surface in the step (1) the polarizing layer formed by, of the display device substrate at positions corresponding to the arrangement of the plurality of pixels, a plurality of patterns having a function of aligning a liquid crystalline component in a different alignment direction from each other depending on the direction of the slow axis of the liquid crystal composition serving as a material for the retardation layer on the alignment film formed in the step (3) above step (2) to form an alignment film having a region, by applying a liquid crystal composition to form a coating film containing a polymerizable liquid crystal compound, the coating film a liquid crystal component in the liquid crystal composition is held at a temperature showing a liquid crystal phase, for each region corresponding to the plurality of pattern regions of the alignment film, the step for arranging the different orientation direction of the liquid crystalline components (4 ) the liquid crystalline formed in the above step (3) 分をなす重合性液晶化合物を、上記配向方向を保持しながら重合させることにより、上記複数の位相差領域を有する上記位相差層を形成する工程 The polymerizable liquid crystal compound forming a minute, by polymerizing while maintaining the oriented direction, the step of forming the retardation layer having the plurality of retardation region

この発明の表示装置の製造方法によれば、上記位相差層が有する上記複数の位相差領域と上記表示素子基板に配列された複数の画素との間の位置ずれを小さくすることができる。 According to the manufacturing method of the display device of the present invention, it is possible to reduce the positional deviation between the plurality of pixels arranged in a plurality of retardation region and the display device substrate on which the retardation layer has. また、上記基板の熱膨張に起因して発生する位置ずれも抑制することができる。 Further, it is possible to suppress positional deviation caused by the thermal expansion of the substrate. これらにより、優れた立体画像を表示可能な表示装置を得ることができる。 These makes it possible to obtain a display capable of displaying device excellent stereoscopic image.

本明細書で、「表示素子基板」とは、基板の主面に沿って複数の画素が配列されたものを意味する。 In this specification, "display element substrate" refers to a structure in which a plurality of pixels are arranged along the main surface of the substrate.

表示素子基板の「主面」とは、基板の広がりをもつ面(端面とは異なる面)を意味する。 The "main surfaces" of the display device substrate, means (surface different from the end surface) faces with the spread of the substrate.

複数の「画素」とは、それぞれ電気的信号で駆動されることにより、光の透過、反射又は発光のオン/オフを行える素子を意味する。 A plurality of the "pixel", by being driven by the electrical signals, respectively, transmission of light, means a device capable of performing reflective or luminescent on / off. このような複数の画素を有する表示素子としては、液晶表示素子、有機エレクトロルミネッセンス(EL)表示素子、プラズマ表示素子、電界放出表示素子及び表面伝導型電子放出素子等の発光層を有する表示素子が挙げられる。 As a display device having such a plurality of pixels, the liquid crystal display device, an organic electroluminescence (EL) display device, a plasma display device, a display device having a light-emitting layer such as a field emission display and surface-conduction electron-emitting devices and the like.

表示素子基板の「光出射側」とは、製造された表示装置において上記表示素子基板から光が出射されるべき側を指す。 The "light emission side" of the display device substrate refers to the side to light is emitted from the display device substrate in manufactured display device. いずれが「光出射側」であるかは、上記工程(1)が実施される前に、上記表示素子基板の構成に応じて定まっている。 One is are either "light emitting side", before the step (1) is performed, and definite in accordance with the configuration of the display device substrate.

「偏光層」とは、自然光からある一方向(透過軸の方向)の直線偏光を選択的に透過する機能を有する物体のことをいう。 The term "polarizing" refers to an object having a function of selectively transmitting a linearly polarized light in one direction (the direction of the transmission axis) with natural light.

また、「位相差層」とは、光を透過し、複屈折性を有する物体をいう。 Further, the "retardation layer", transmits light, refers to an object having birefringence. 位相差層は、偏光層と組み合わせることで、直線偏光を円偏光や楕円偏光に変換したり、逆に円偏光又は楕円偏光を直線偏光に変換したりするために用いられる。 Retardation layer, combined with the polarizing layer, or convert linearly polarized light into circularly polarized light or elliptically polarized light, is used for or converted into linearly polarized light circularly polarized light or elliptically polarized light in the opposite.

一実施形態の表示装置の製造方法では、上記主面に沿った方向に関して、上記位相差層の上記複数の位相差領域の形状及び大きさが、それぞれ上記表示素子基板の複数の画素の配列の形状及び大きさと一致していることを特徴とする。 The method of manufacturing a display device of one embodiment, with respect to a direction along said main surface, the shape and size of the plurality of retardation region of the retardation layer is, each of the array of pixels of the display element substrate and wherein the match the shape and size.

この一実施形態の表示装置の製造方法によれば、上記複数の画素の配列に応じて、上記位相差層が有する上記複数の位相差領域と上記表示素子基板に配列された複数の画素との間の位置ずれを小さくすることができる。 According to the manufacturing method of the display device of this embodiment, according to the arrangement of the plurality of pixels, a plurality of pixels arranged in a plurality of retardation region and the display device substrate on which the retardation layer has it is possible to reduce the positional deviation between.

一実施形態の表示装置の製造方法では、上記工程(2)は次の工程(2a)乃至(2c)を含むことを特徴とする。 The method of manufacturing a display device according to an embodiment, the step (2) is characterized in that it comprises the following steps (2a) to (2c).
(2a)光配向性ポリマーを含む溶液を上記偏光層上に塗布して光配向性ポリマー膜を形成する工程(2b)上記工程(2a)で形成された上記光配向性ポリマー膜に、上記複数のパターン領域のうちの第1のパターン領域に対応した空隙部を有する第1のマスクを介して、第1の偏光方向を有する第1の偏光を照射して、上記第1のパターン領域の配向規制力の方向を上記第1の偏光方向に対応させる工程(2c)上記第1の偏光が照射された上記光配向性ポリマー膜の、上記第1のパターン領域とは異なる第2のパターン領域に、上記第2のパターン領域に対応した空隙部を有する第2のマスクを介して、上記第1の偏光方向とは異なる第2の偏光方向を有する第2の偏光を照射して、上記第2のパターン領域の配向規制力の方向を上記 (2a) to the optical alignment polymer film solution formed in step (2b) above step (2a) to form a photo-orientable polymer film was applied to the polarizing layer comprising a photo-orientable polymer, said plurality through the first first mask having a gap portion corresponding to the pattern area of ​​the pattern area is irradiated with the first polarized light having a first polarization direction, the orientation of the first pattern area the direction of the regulating force of the first step to correspond to the polarization direction (2c) of the first polarized light is irradiated said light oriented polymer film, the second pattern area different from the first pattern area , through a second mask having a gap portion corresponding to the second pattern region, and the first polarization direction is irradiated with a second polarized light having a second different polarization direction, the second above the direction of the alignment regulating force of the pattern area of 2の偏光方向に対応させる工程 Step to correspond to the second polarization direction

この一実施形態の表示装置の製造方法によれば、表示素子基板の主面に沿って、互いに遅相軸の方向が異なる複数の位相差領域を有する位相差層を具備した表示装置を簡便に製造することができる。 According to the manufacturing method of the display device of this embodiment, along the major surface of the display device substrate, conveniently a display device having a retardation layer having a plurality of retardation region in different directions of the slow axes from one another it can be produced.

一実施形態の表示装置の製造方法では、上記工程(2)は次の工程(2f)乃至(2h)を含むことを特徴とする。 The method of manufacturing a display device according to an embodiment, the step (2) is characterized in that it comprises the following step (2f) to (2h).
(2f)配向性ポリマーを含む溶液を上記偏光層上に塗布して配向性ポリマー膜を形成する工程(2g)上記工程(2f)で形成された上記配向性ポリマー膜の、上記光出射側の表面に、第1のラビング処理方向に沿って第1のラビング処理を行って、上記表面の配向規制力の方向を上記第1のラビング処理方向に対応させる工程(2h)上記工程(2g)により第1のラビング処理が行われた上記配向性ポリマー膜に、上記第2のパターン領域に対応した空隙部を有するマスクを介して、上記第1のラビング処理方向とは異なる第2のラビング処理方向に沿って第2のラビング処理を行って、上記第2のパターン領域の配向規制力の方向を変化させて上記第2のラビング処理方向に対応させる工程 (2f) A solution containing an oriented polymer of the oriented polymer film formed in the step (2 g) the step (2f) to form an oriented polymer film is coated on the polarizing layer, the light emission side on the surface, by performing a first rubbing along a first rubbing direction, the step of the direction of the alignment regulating force of the surface to correspond to the first rubbing direction (2h) above step (2 g) in the alignment polymer film first rubbing process is performed, the second through a mask having a gap portion corresponding to the pattern area, a second rubbing direction different from the first rubbing direction performing second rubbing along, the changing the direction of the orientation regulating force of the second pattern region step to correspond to the second rubbing direction

この一実施形態の表示装置の製造方法によれば、表示素子基板の主面に沿って、互いに遅相軸の方向が異なる複数の位相差領域を有する位相差層を具備した表示装置を簡便に製造することができる。 According to the manufacturing method of the display device of this embodiment, along the major surface of the display device substrate, conveniently a display device having a retardation layer having a plurality of retardation region in different directions of the slow axes from one another it can be produced.

一実施形態の表示装置の製造方法では、さらに、上記位相差層の上記光出射側に、外光の反射を防ぐ反射防止層を形成する工程を含むことを特徴とする。 The method of manufacturing a display device according to an embodiment, further, on the optical emission side of the retardation layer, characterized in that it comprises a step of forming an anti-reflection layer for preventing reflection of external light.

この一実施形態の表示装置の製造方法によれば、製造された表示装置において上記反射防止層によって、外光に由来する反射光の発生を軽減でき、また、表示素子基板からの本来の表示用の出射光と反射光との干渉も抑制することが可能となる。 According to the manufacturing method of the display device of this one embodiment, the anti-reflection layer in manufactured display device, can reduce the occurrence of the reflected light from the external light, also, for original display of the display device substrate also it is possible to suppress the emitted light interference between the reflected light. この結果、表示特性を改善できる。 As a result, it is possible to improve the display characteristics. さらに、上記反射防止層によって、上記位相差層を保護することができる。 Furthermore, the anti-reflection layer, it is possible to protect the retardation layer.

一実施形態の表示装置の製造方法では、上記表示素子基板の上記複数の画素は液晶表示素子を構成していることを特徴とする。 The method of manufacturing a display device according to an embodiment, the plurality of pixels of the display device substrate is characterized by constituting the liquid crystal display device.

この一実施形態の表示装置の製造方法によれば、優れた立体画像を表示可能な液晶表示装置が製造される。 According to the manufacturing method of the display device of this embodiment, excellent display can be a liquid crystal display device three-dimensional image is produced.

本発明の表示装置の製造方法によれば、表示素子基板の主面に沿って、互いに遅相軸の方向が異なる複数の位相差領域を有する位相差層を具備した表示装置を簡便に製造することができ、かつ上記位相差層が有する上記複数の位相差領域と上記表示素子基板に配列された複数の画素との間の位置ずれを小さくすることができる。 According to the manufacturing method of the display device of the present invention, along a main surface of the display device substrate, conveniently prepared a display device having a retardation layer having a plurality of retardation region in different directions of the slow axes from one another it can, and it is possible to reduce the positional deviation between the plurality of pixels arranged in a plurality of retardation region and the display device substrate on which the retardation layer has. また、上記基板の熱膨張に起因して発生する位置ずれも抑制することができる。 Further, it is possible to suppress positional deviation caused by the thermal expansion of the substrate. これらにより、優れた立体画像を表示可能な表示装置を得ることができる。 These makes it possible to obtain a display capable of displaying device excellent stereoscopic image.

この発明の一実施形態の表示装置の製造方法で用いられるマスクの構成を示す図である。 It is a diagram showing a configuration of a mask used in the method of manufacturing a display device according to an embodiment of the present invention. 図1のマスクを用いて得られる配向膜の態様を示す図である。 It shows an aspect of an alignment film obtained by using the mask of Figure 1. 上記製造方法によって作製されるべき液晶表示装置の概略構成を示す図である。 It is a diagram showing a schematic configuration of a liquid crystal display device to be manufactured by the above manufacturing method. 上記製造方法によって作製されるべき別の液晶表示装置の概略構成を示す図である。 It is a diagram showing a schematic configuration of another liquid crystal display device to be manufactured by the above manufacturing method. 上記液晶表示装置において、表示素子基板に配列された複数の画素と偏光層と位相差層との間の配置の対応関係を模式的に示す図である。 In the liquid crystal display device, it is a diagram schematically illustrating the correspondence between the arrangement between the plurality of pixels and the polarization layer and the retardation layer arranged on the display device substrate. 上記製造方法によって作製されるべきさらに別の表示装置の概略構成を示す図である。 It is a diagram showing a schematic configuration of still another display device to be manufactured by the above manufacturing method. 上記製造方法によって作製されるべきさらに別の表示装置の概略構成を示す図である。 It is a diagram showing a schematic configuration of still another display device to be manufactured by the above manufacturing method.

以下、この発明を図示の実施の形態により詳細に説明する。 Hereinafter, described in detail by embodiments thereof illustrated in the accompanying drawings.

図3は、本発明の一実施形態の製造方法によって作製されるべき表示装置の一例としての液晶表示装置(全体を符号51Aで示す。)の概略断面構成を示している。 Figure 3 shows a schematic cross-sectional configuration of the liquid crystal display device as one example of a display device to be manufactured by the manufacturing method of an embodiment of the present invention (generally indicated by reference numeral 51A.).

この液晶表示装置51Aは、バックライト52側(背面ともいう)より順番に、偏光板53、液晶表示素子が形成された表示素子基板54、偏光層55、配向膜56及び位相差層57を配置して構成されている。 The liquid crystal display device 51A is disposed in order from the backlight 52 side (also referred to as the rear), the polarizer 53, the display device substrate 54 where the liquid crystal display element is formed, a polarizing layer 55, an alignment film 56 and the retardation layer 57 It is constructed by. 表示素子基板54の前後に偏光板53及び偏光層55があり、偏光層55の、表示素子基板54とは反対側(光出射側)に、配向膜56及び位相差層57が設けられている。 There are a polarizing plate 53 and the polarizing layer 55 around the display device substrate 54, the polarization layer 55, on the opposite side (light emission side), an alignment film 56 and the retardation layer 57 is provided with a display element substrate 54 .

バックライト52は、自然光を発する面光源であり、この例では公知の図示しない白色LED(発光ダイオード)及び光散乱板を含んでいる。 The backlight 52 is a surface light source which emits natural light, in this example contains a white LED (light emitting diode) and a light scattering plate, not known shown. 上記白色LEDに代えて、冷陰極線管が用いられても良い。 Instead of the white LED, a cold cathode ray tube may be used.

偏光板53は、板面に沿った特定方向の透過軸(図示せず)を有している。 Polarizer 53 has a specific direction of the transmission axis along the plate surface (not shown). この偏光板53は、バックライト52が発生した自然光のうち上記透過軸に沿った一方向の直線偏光を選択的に表示素子基板54側Fへ透過させる。 The polarizing plate 53, a backlight 52 for selectively transmitting to the display device substrate 54 side F in one direction of the linearly polarized light along the transmission axis of the natural light generated.

図5中に示すように、表示素子基板54は、主面50に沿ってマトリクス状に配列された複数の矩形の画素A1,A2,…;B1,B2,…を有している。 As shown in FIG. 5, the display device substrate 54, a plurality of rectangular pixels A1, A2 arranged in a matrix along the main surface 50, ...; B1, B2, and has a .... この例では、複数の画素A1,A2,…;B1,B2,…は、液晶表示素子を構成している。 In this example, a plurality of pixels A1, A2, ...; B1, B2, ... constitute the liquid crystal display device. これらの複数の画素A1,A2,…;B1,B2,…は、それぞれ電気的信号で駆動される。 These plurality of pixels A1, A2, ...; B1, B2, ... are respectively driven by the electric signal. これにより、偏光板53を透過して表示素子基板54に入射した直線偏光は、画素A1,A2,…;B1,B2,…毎に、表示素子基板54の光出射側Fへ透過しまたは遮断されるようになっている。 Thus, linearly polarized light incident on the display device substrate 54 is transmitted through the polarizing plate 53, the pixel A1, A2, ...; B1, B2, ... for each, transmitted or blocked to the light emission side F of the display device substrate 54 It is adapted to be.

偏光層55は、主面50に沿った特定方向の透過軸70a(図5中に模式的に示すように、水平方向に対して斜め45度に向いている。)を有している。 Polarization layer 55, (as shown schematically in FIG. 5,. That facing 45 degrees oblique with respect to the horizontal direction) the transmission axis 70a in a specific direction along a principal plane 50 have. この例では、偏光層55の透過軸70aは、上記偏光板53の透過軸(図示せず)に対して直交する向きに設定されている。 In this example, the transmission axis 70a of the polarizing layer 55 is set in a direction perpendicular to the transmission axis of the polarizing plate 53 (not shown). この偏光層55は、表示素子基板54を透過した光の、透過軸70aの方向に沿った成分を光出射側Fへ透過させる。 The polarizing layer 55, the light transmitted through the display device substrate 54, and transmits the component along the direction of the transmission axis 70a to the light emission side F.

また、位相差層57は、主面50に沿って、上記透過軸70aに対して互いに異なる角度で交差する遅相軸71a,71bをもつ複数の領域(位相差領域)71A,71Bを有している。 The phase difference layer 57, along the major surface 50 has a slow axis 71a intersecting at different angles with respect to the transmission axis 70a, a plurality of regions with 71b (retardation region) 71A, the 71B ing. 図5中に模式的に示すように、位相差領域71Aの遅相軸71aは鉛直方向に向く一方、位相差領域71Bの遅相軸71bは水平方向に向いている。 As shown schematically in FIG. 5, while the slow axis 71a of the retardation region 71A is oriented in the vertical direction, the slow axis 71b of the retardation region 71B is oriented in the horizontal direction. つまり、光出射側Fから見たとき、偏光層55の透過軸70aの方向(これを0度とする。)に対して、位相差領域71Aの遅相軸71aは45度に交差し、位相差領域71Bの遅相軸71bは135度に交差している。 That is, when viewed from the light exit side F, with respect to the direction of the transmission axis 70a of the polarizing layer 55 (referred to as 0 °.), The slow axis 71a of the retardation region 71A intersects the 45 degrees, positions the slow axis 71b of the retardation region 71B are crossed to 135 degrees. このような配置により、位相差領域71A,71Bは、偏光層55からの直線偏光を、互いに反対回りの円偏光に変換して、それぞれ光出射側Fへ出射する。 Such an arrangement, the retardation regions 71A, 71B is linearly polarized light from the polarization layer 55 is converted into the opposite circularly polarized light together, respectively emitted to the light emission side F. これにより、後述のように立体画像の表示が可能となる。 This allows three-dimensional image display as described below.

この例では、主面50に沿った方向に関して、位相差層57の位相差領域71A,71Bの形状及び大きさが、それぞれ表示素子基板54の複数の画素A1,A2,…;B1,B2,…の配列の形状及び大きさと一致している。 In this example, with respect to the direction along the main surface 50, a plurality of pixels A1, A2 of the retardation region 71A of the retardation layer 57, the shape and size of 71B, respectively display element substrate 54, ...; B1, B2, ... match the shape and size of the array of.

この液晶表示装置51Aは次の工程(1)乃至(4)によって作製される。 The liquid crystal display device 51A is fabricated by the following steps (1) to (4).

本発明の製造方法は、工程(1)として、表示素子基板54の光出射側に、偏光層55を形成する工程を含む。 Production method of the present invention, as the step (1), the light emitting side of the display device substrate 54, including the step of forming the polarization layer 55.

偏光層55としては、例えばフィルム状の偏光板を接着剤で貼合した層、及び二色性色素を含む液晶組成物を塗布して得られる層が挙げられる。 The polarization layer 55, for example, a film-like layer of polarizing plate was stuck with an adhesive, and a layer obtained by applying a liquid crystal composition containing a dichroic dye and the like.

偏光層55が貼合により形成される場合に用いられる偏光板としては、例えば、ポリビニルアルコール系フィルムにヨウ素を吸着・配向させたヨウ素系偏光板、ポリビニルアルコール系フィルムに二色性の染料を吸着・配向させた染料系偏光板、及びリオトロピック液晶状態の二色性染料をコーティングし、配向・固定化した塗布型偏光板等が挙げられる。 The polarizing plate for use in the case where the polarizing layer 55 is formed by bonding, for example, polyvinyl alcohol iodine polarizer was adsorbed and oriented iodine in the film, the polyvinyl alcohol film dichroic dye adsorbed - oriented so the dye-based polarizing plate, and coated with a dichroic dye lyotropic liquid crystal state, coating type polarizing plate or the like that is oriented and fixed. 中でも、偏光度及び透過率に優れるため、ヨウ素系偏光板が好ましい。 Among them, since excellent in polarization degree and transmittance, preferably iodine based polarizing plate. ヨウ素系偏光板としては、例えば、特許第3708062号や特許第4432487号に記載の偏光板等が挙げられる。 The iodine-based polarizing plate, for example, a polarizing plate etc. described in Japanese Patent No. 3708062 and Japanese Patent No. 4432487.

貼合に用いられる接着剤としては、例えば、ポリビニルアルコール樹脂、エポキシ樹脂、ウレタン樹脂、シアノアクリレート樹脂及びアクリルアミド樹脂等を接着成分とする接着剤が挙げられ、例えば、特許第4251060号や特開2006−77224号公報に記載の材料が挙げられる。 The adhesive used in bonding, for example, polyvinyl alcohol resins, epoxy resins, urethane resins, adhesives adhesive component cyanoacrylate resin and acrylamide resins. For example, Japanese Patent No. 4251060 and JP 2006 the material according to -77224 JP thereof. なお、偏光板を貼合する方法としては、接着剤層を偏光板側に設けてから貼合してもよいし、接着剤層を表示素子基板54側に設けてから貼合してもよい。 As a method for laminating the polarizing plate, to the adhesive layer may be pasted from the provided on the polarizing plate side may be pasted from providing an adhesive layer on the display device substrate 54 side . また、偏光板を貼合する方法としては、特開2010−276754号公報又は特開2010−276755号公報に記載の方法で行ってもよい。 Further, as a method for laminating the polarizing plate may be performed by the method described in JP-A 2010-276754 JP-or JP 2010-276755. 本明細書において、接着剤とは、粘着剤も包含する。 In the present specification, the adhesive also includes adhesive.

偏光層55が二色性色素を含む液晶組成物によって形成される場合、二色性色素を含む液晶組成物としては、液晶性を有する二色性色素を含む液晶組成物、液晶化合物及び二色性色素を含む液晶組成物が挙げられる。 If the polarization layer 55 is formed by a liquid crystal composition containing a dichroic dye, as a liquid crystal composition containing a dichroic dye, liquid crystal composition containing a dichroic dye having a liquid crystal, liquid crystal compound and dichroic the liquid crystal composition containing the sex dyes. 表示素子基板54に上記液晶組成物を塗布し、乾燥させることにより、上記偏光層55を形成することができる。 The liquid crystal composition is applied to the display device substrate 54, followed by drying, it is possible to form the polarizing layer 55. 液晶化合物及び/又は二色性色素が重合性基を有する化合物である場合、乾燥後の膜に対して光照射や加熱を行い、膜中の上記重合性基を有する化合物を重合させることが、偏光層55の耐久性の点で好ましい。 When the liquid crystal compound and / or a dichroic dye is a compound having a polymerizable group, performs light irradiation or heating to the film after drying, be polymerized compound having a polymerizable group in the film, preferable in terms of durability of the polarizing layer 55. 二色性色素を含む液晶組成物を用いて偏光層55を形成する方法としては、例えば、特表2007−510946号公報や特許第3492693号に記載の方法が挙げられる。 As a method for forming a polarizing layer 55 using a liquid crystal composition containing a dichroic dye, for example, a method described in JP-T publications and Patent No. 3492693 No. 2007-510946.

本発明の製造方法は、工程(2)として、上記工程(1)で形成された偏光層55上で、表示素子基板54の複数の画素A1,A2,…;B1,B2,…の配列に対応した位置に、複数のパターン領域13,12(図2参照)を有する配向膜(以下「パターン化配向膜」という場合がある)56を形成する工程を含む。 Production method of the present invention, as a step (2), on the polarizing layer 55 formed in the above step (1), a plurality of pixels A1, A2 of the display device substrate 54, ...; B1, B2, ... arranged in the the corresponding positions, comprising the step of forming a plurality of pattern regions 13, 12 (sometimes hereinafter referred to as "patterned alignment film") oriented film having a (see FIG. 2) 56.

上記複数のパターン領域13,12は、後工程で形成される位相差層57の材料となる液晶組成物の液晶性成分を、上記遅相軸71a,71bの方向に応じた互いに異なる配向方向に配列させる機能(配向規制力)をもつ。 The plurality of pattern regions 13, 12 is a liquid component of the liquid crystal composition as a material for the retardation layer 57 to be formed in a later step, the slow axis 71a, to each other in a different orientation direction corresponding to the direction of 71b function to arrange with the (orientation regulating force).

この例では、主面50に沿った方向に関して、パターン化配向膜56の複数のパターン領域13,12の形状及び大きさは、それぞれこの配向膜56上に形成すべき位相差層57の位相差領域71A,71Bの形状及び大きさと一致しており、したがって、それぞれ表示素子基板54の複数の画素A1,A2,…;B1,B2,…の配列の形状及び大きさと一致している。 In this example, with respect to the direction along the main surface 50, the shape and size of a plurality of pattern regions 13, 12 of the patterned alignment layer 56, each phase difference of the retardation layer 57 to be formed on the alignment film 56 region 71A, are coincident with the shape and size of 71B, therefore, a plurality of pixels A1, A2 of each display element substrate 54, ...; B1, B2, match the shape and size of ... sequences.

配向膜56を形成する方法としては、ラビングによって配向規制力が付与される配向性ポリマーを用いる方法(以下「ラビング法」という場合がある)、偏光を照射することにより配向規制力が付与される光配向性ポリマーを用いる方法(以下「光配向法」という場合がある)、基板表面に酸化ケイ素を斜方蒸着する方法、及びラングミュア・ブロジェット法(LB法)を用いて長鎖アルキル基を有する単分子膜を形成する方法等が挙げられる。 As a method of forming an alignment film 56, a method using an oriented polymer alignment regulating force is applied by rubbing (hereinafter sometimes referred to as "rubbing"), the alignment regulating force is applied by irradiating the polarized light a method using a photo-orientable polymer (hereinafter sometimes referred to as "photo-alignment method"), a method of oblique deposition of silicon oxide on the substrate surface, and Langmuir-Blodgett method a long-chain alkyl group with (LB method) and a method of forming a monomolecular film and the like having. 中でも、液晶組成物の配向均一性、処理時間及び処理コストの観点から、ラビング法及び光配向法が好ましく、光配向法がより好ましい。 Among them, the orientation uniformity of the liquid crystal composition, from the viewpoint of processing time and processing cost, are preferable rubbing method and photo-alignment method, photo-alignment method is more preferred. 配向膜56としては、その上に後工程で塗布される液晶組成物(後工程で形成される位相差層57の材料となる)に含まれる溶剤に溶解しない程度の耐溶剤性、溶剤の除去や液晶配向等の熱処理に対する耐熱性、下地に対する密着性を有することが好ましい。 As the alignment film 56, the degree of solvent resistance which is insoluble in the solvent contained in the liquid crystal composition is applied in a later step on it (as a material for the retardation layer 57 to be formed in a later step), removing the solvent heat resistance against or heat treatment of liquid crystal orientation and the like, preferably has an adhesion to substrates.

配向膜56がラビング法によって形成される場合、ラビング法に用いられる配向性ポリマーとしては、例えば分子内にアミド結合を有するポリアミドやゼラチン類、分子内にイミド結合を有するポリイミド及びその加水分解物であるポリアミック酸、ポリビニルアルコール、アルキル変性ポリビニルアルコール、ポリアクリルアミド、ポリオキサゾール、ポリエチレンイミン、ポリスチレン、ポリビニルピロリドン、ポリアクリル酸又はポリアクリル酸エステル類等のポリマーを挙げることができる。 If the alignment film 56 is formed by a rubbing method, the alignment polymer used in the rubbing method, for example, polyamides and gelatins having an amide bond in the molecule, a polyimide and a hydrolyzate thereof having an imide bond in the molecule there polyamic acid, polyvinyl alcohol, alkyl-modified polyvinyl alcohol, polyacrylamide, poly benzoxazole, polyethyleneimine, polystyrene, polyvinyl pyrrolidone, can be mentioned polymers such as polyacrylic acid or polyacrylic acid esters. サンエバー(登録商標、日産化学工業株式会社製)又はオプトマー(登録商標、JSR株式会社製)等の市販品を用いてもよい。 SUNEVER (registered trademark, manufactured by Nissan Chemical Industries, Ltd.) or OPTMER (registered trademark, JSR Corporation) may be a commercially available product such as.

配向膜56が光配向法によって形成される場合、光配向法に用いられる光配向性ポリマーとしては、感光性構造を有するポリマーが挙げられる。 If the alignment film 56 is formed by a photo-alignment method, as the optical alignment polymer used in the photo-alignment method, and a polymer having photosensitivity structure. 感光性構造を有するポリマーに偏光を照射すると、照射された部分の感光性構造が異性化又は架橋することで光配向性ポリマーが配向し、光配向性ポリマーからなる膜に配向規制力が付与される。 Upon irradiation with polarized polymer having photosensitivity structure and orientation photoalignment polymers by photosensitive structure of the irradiated portion is isomerized or crosslinking, alignment regulating force is applied to the film made of photo-orientable polymer that. 上記感光性構造としては、例えば、アゾベンゼン構造、マレイミド構造、カルコン構造、桂皮酸構造、1,2−ビニレン構造、1,2−アセチレン構造、スピロピラン構造、スピロベンゾピラン構造及びフルギド構造等が挙げられる。 As the photosensitive structure, for example, azobenzene structure, a maleimide structure, chalcone structure, cinnamic acid structure, 1,2-vinylene structure, 1,2-acetylene structures, spiropyran structure include Spirobenzopyran structure and fulgide structure etc. . これらのポリマーは、単独で用いてもよいし、2種類以上併用してもよい。 These polymers may be used alone or in combination of two or more. これらのポリマーは、感光性構造を有する単量体を用いて、脱水や脱アミン等による重縮合や、ラジカル重合、アニオン重合、カチオン重合等の連鎖重合、配位重合や開環重合等により得ることができる。 These polymers, by using a monomer having a photosensitive structure, obtained polycondensation or by dehydration and deamination like, radical polymerization, anionic polymerization, chain polymerization of cationic polymerization or the like, by coordination polymerization or ring-opening polymerization be able to. また、異なる感光性構造を有する複数種の単量体からなる共重合体であってもよい。 Further, it may be a copolymer composed of plural kinds of monomers having different photosensitive structure. このような光配向性ポリマーとしては、特許第4450261号、特許第4011652号、特開2010−49230号公報、特許第4404090号、特開2007−156439号公報、特開2007−232934号公報等に記載される光配向性ポリマーが挙げられる。 Such photo-orientable polymer, Japanese Patent No. 4450261, Japanese Patent No. 4011652, JP-2010-49230, JP-Patent No. 4404090, JP 2007-156439, JP-like in JP 2007-232934 photoalignable polymers described are exemplified.

上記配向性ポリマー及び光配向性ポリマーは、溶剤に溶解して、塗布することができる。 The alignment polymer and photo-orientable polymers can be dissolved in a solvent is applied. 溶剤は、特に制限はないが、具体的には、水、メタノール、エタノール、エチレングリコール、イソプロピルアルコール、プロピレングリコール、エチレングリコールメチルエーテル、エチレングリコールブチルエーテル又はプロピレングリコールモノメチルエーテル等のアルコール溶剤;酢酸エチル、酢酸ブチル、エチレングリコールメチルエーテルアセテート、γ−ブチロラクトン、プロピレングリコールメチルエーテルアセテート又は乳酸エチル等のエステル溶剤;アセトン、メチルエチルケトン、シクロペンタノン、シクロヘキサノン、2−ヘプタノン又はメチルイソブチルケトン等のケトン溶剤;ペンタン、ヘキサン又はヘプタン等の脂肪族炭化水素溶剤;トルエン又はキシレン等の芳香族炭化水素溶剤、アセトニトリル等のニト Solvent is not particularly limited, specifically, water, methanol, ethanol, ethylene glycol, isopropyl alcohol, propylene glycol, ethylene glycol methyl ether, alcohol solvents such as ethylene glycol butyl ether or propylene glycol monomethyl ether, ethyl acetate, butyl acetate, ethylene glycol methyl ether acetate, .gamma.-butyrolactone, ester solvents such as propylene glycol methyl ether acetate or ethyl lactate; acetone, methyl ethyl ketone, cyclopentanone, cyclohexanone, 2-heptanone or ketone solvents such as methyl isobutyl ketone; pentane, hexane or aliphatic hydrocarbon solvents such as heptane: toluene or an aromatic hydrocarbon solvent such as xylene, nits as acetonitrile ル溶剤;テトラヒドロフラン又はジメトキシエタン等のエーテル溶剤;クロロホルム又はクロロベンゼン等の塩素系溶剤;等が挙げられる。 Le solvent; chlorinated solvents chloroform or chlorobenzene; ethers solvent such as tetrahydrofuran or dimethoxyethane, and the like. これら有機溶剤は、単独で用いてもよいし、複数を組み合わせて用いてもよい。 These organic solvents may be used singly or may be used in combination.

配向膜56を形成するには、まず、工程(1)で形成された偏光層55上に、上記配向性ポリマー又は光配向性ポリマーの溶液を塗布する。 In order to form the alignment film 56, first, on the polarizing layer 55 formed in step (1), applying a solution of the oriented polymer or photo-orientable polymer. 塗布方法としては、例えば、押し出しコーティング法、ダイレクトグラビアコーティング法、リバースグラビアコーティング法、CAP(キャップ)コーティング法、ダイコーティング法、インクジェット法、ディップコーティング法、スリットコーティング法、スピンコーティング法及びバーコーターによる塗布等が挙げられる。 As the coating method, for example, extrusion coating, direct gravure coating, reverse gravure coating, CAP (cap) coating method, die coating method, an inkjet method, a dip coating method, a slit coating method, spin coating method and a bar coater coating, and the like. 中でも、表示素子の損傷を抑制できる点で、CAPコーティング法、インクジェット法、ディップコーティング法、スリットコーティング法及びバーコーターによる塗布が好ましい。 Among them, from the viewpoint of suppressing damage to the display device, CAP coating method, an inkjet method, a dip coating method, coating with a slit coating method and a bar coater is preferred.

配向性ポリマー又は光配向性ポリマーの溶液を塗布後、乾燥して、溶剤などの低沸点成分を塗布された膜から除去する。 After the solution of the oriented polymer or photo-orientable polymer coated, dried, removed from the film coated with low-boiling components such as solvent.

乾燥方法としては、例えば自然乾燥、通風乾燥、減圧乾燥等の方法が挙げられる。 The drying method is, for example natural drying, air drying, a method of drying under reduced pressure, and the like. 具体的な乾燥温度としては、10〜250℃であることが好ましく、25〜200℃であることがさらに好ましい。 Specific drying temperature is preferably from 10 to 250 ° C., more preferably from 25 to 200 ° C.. また乾燥時間としては、5秒間〜60分間であることが好ましく、10秒間〜30分間であることがより好ましい。 The drying time is preferably from 5 seconds to 60 minutes, more preferably 10 seconds to 30 minutes. 乾燥温度及び乾燥時間が上記範囲内であれば、表示素子基板54や偏光層55に対する損傷を抑制することができる。 If the drying temperature and the drying time within the above range, it is possible to suppress the damage to the display device substrate 54 and the polarizing layer 55.

次いで、配向膜56に液晶組成物を積層して配向させたとき、互いに配向規制力の方向が異なる複数のパターン領域13,12に分かれるように、上記乾燥された配向性ポリマー膜又は光配向性ポリマー膜に配向規制力を付与する。 Then, when oriented by laminating a liquid crystal composition in the alignment layer 56, so that the direction of the orientation regulating force to one another divided into a plurality of different pattern regions 13, 12, the dried oriented polymer film or photoorientable to give an orientation regulating force to the polymer film. 配向規制力を付与する方法としては、乾燥後の配向性ポリマー膜にラビング法及び光配向法を適用するのが好ましい。 As a method of imparting orientation regulating force, it is preferable to use a rubbing method and the photo-alignment method in oriented polymer film after drying.

ラビング法により配向規制力を付与するには、例えばラビング布が巻きつけられ、回転しているラビングロールを、ステージに載せられ、搬送されている乾燥後の配向性ポリマー膜に接触させる。 To impart an alignment regulating force by the rubbing method, for example rubbing cloth is wound, a rubbing roll is rotating, mounted on the stage, brought into contact with the orientation polymer film after drying being transported.

ラビング法によってパターン化配向膜56を形成するには、まず、乾燥後の配向性ポリマー膜の表面(光出射側)に、マスクを介さず、第1のラビング処理を施す。 To form a patterned alignment layer 56 by the rubbing method, first, on the surface (light emission side) of the alignment polymer film after drying, without passing through the mask is subjected to the first rubbing. この第1のラビング処理によって、上記表面全域の配向規制力の方向を第1のラビング処理方向に対応させる。 This first rubbing process, to correspond to the direction of the orientation regulating force of the entire surface in a first rubbing direction. 次いで、上記第1のラビング処理後の配向性ポリマー膜上に、例えば図1に示したマスク1(図2中の第2のパターン領域12に対応した空隙部2を有する)を積層し、上記第1のラビング処理方向とは異なる第2のラビング処理方向(この例では第1のラビング処理方向に対して垂直な方向)に沿って第2のラビング処理を施す。 Then, above the first rubbing after orientation polymer film, laminating eg, mask shown in FIG. 1 1 (having a gap portion 2 corresponding to the second pattern region 12 in FIG. 2), the (in this example the direction perpendicular to the first rubbing direction) the first second rubbing direction different from the rubbing direction subjected to a second rubbing along. この第2のラビング処理によって、第2のパターン領域12の配向規制力の方向を変化させて上記第2のラビング処理方向に対応させる。 This second rubbing, the direction of the orientation regulating force of the second pattern region 12 is varied to correspond to the second rubbing direction. この第2のラビング処理が行われても、上記配向性ポリマー膜の表面のうちマスク1の実部3に覆われた領域は、ラビングを受けないので配向規制力が維持される。 Be the second rubbing process is performed, the area covered by the real part 3 of the mask 1 of the surface of the oriented polymer film, the alignment regulating force is maintained because not subjected to rubbing. したがって、上記マスク1の実部3に覆われた領域の配向規制力の方向は、第1のラビング処理方向のままに維持される。 Therefore, the direction of the orientation regulating force of the area covered by the real part 3 of the mask 1 is maintained to the first rubbing direction. これにより、互いに配向規制力の方向が異なる複数のパターン領域13,12を有する配向膜56が得られる。 Thereby, an alignment film 56 having a plurality of pattern regions 13, 12 where the direction of the orientation regulating force different obtained.

なお、上記乾燥後の配向性ポリマー膜上に、図2中の第1のパターン領域13に対応した空隙部を有する第1のマスク(残りの領域は実部になっている)を積層して第1のラビング処理を行い、次いで、図2中の第2のパターン領域12に対応した空隙部2を有する第2のマスク(残りの領域は実部になっている)を積層して、第2のラビング処理を行うことによっても、パターン化配向膜56を形成することができる。 Incidentally, on the alignment polymer film after the drying, by laminating a first mask having a gap portion corresponding to the first pattern region 13 in FIG. 2 (remaining area is in the real part) performing a first rubbing treatment and then, by laminating the second mask (the remaining area is in the real part) having a void portion 2 corresponding to the second pattern region 12 in FIG. 2, the by performing the second rubbing process, it is possible to form a patterned alignment layer 56. さらに、3種類以上のマスクを介してラビング処理を繰り返し行うことにより、互いに配向規制力の方向が異なる3つ以上のパターン領域を有するパターン化配向膜を作成することもできる。 Further, by repeating the rubbing process through the three or more kinds of masks, it is also possible to create a patterned alignment layer having three or more pattern areas where different directions of orientation regulating forces from one another.

上記マスク1は、図1に示すように、ストライプ状の実部3とストライプ状の空隙部2とを、互いに同じ幅で、交互に並べて配置したパターンを有している。 The mask 1, as shown in FIG. 1, and a real part 3 and the stripe-shaped gap portion 2 of the stripe, together with the same width, and has a pattern arranged side by side alternately. 実部3と空隙部2の幅は、表示素子基板54の複数の画素A1,A2,…;B1,B2,…の行方向又は列方向の配列のピッチと等しく、例えば280μmに設定されている。 The width of the real part 3 and the gap portion 2, a plurality of pixels A1, A2, ... of the display device substrate 54; equal to B1, B2, ... row direction or pitch in the column direction of the array of, is set to, for example, 280μm . マスクの材料としては、SUS(ステンレス鋼)板、鉄板、アルミニウム板等の金属板、PMMA(ポリメタクリル酸メチル)、PET(ポリエチレンテレフタレート)、PP(ポリプロピレン)、PE(ポリエチレン)、PC(ポリカーボネート)等のプラスチック板等が挙げられ、ラビング処理により、破砕しない材料であればよい。 The material of the mask, SUS (stainless steel) plate, iron plate, metal plate aluminum plate or the like, PMMA (polymethylmethacrylate), PET (polyethylene terephthalate), PP (polypropylene), PE (polyethylene), PC (polycarbonate) plastic plate and the like and the like, by rubbing, may be a material that does not fracture. また、マスクの膜厚は、20μm〜5mmが好ましく、30μm〜1mmがより好ましい。 The thickness of the mask is preferably 20 m to 5 mm, 30Myuemu~1mm is more preferable.

光配向法により配向規制力を付与するには、乾燥後の光配向性ポリマー膜上に、偏光照射(例えば、直線偏光紫外線)を行う。 To impart an alignment regulating force by photo-alignment method has, on a photo-orientable polymer film after drying and polarized light irradiation (e.g., linearly polarized ultraviolet radiation). 偏光照射は、例えば、特開2006−323060号公報に記載される装置を用いて行うことができる。 Polarized light irradiation, for example, can be carried out using the apparatus described in JP 2006-323060. 例えば、乾燥後の光配向性ポリマー膜上で、例えば複数のカラーフィルタA1,A2,…の配列に対応した領域とカラーフィルタB1,B2,…の配列に対応した領域とを区別して、それらの領域毎にフォトマスクを介しての偏光照射(例えば、直線偏光紫外線)を繰り返し行うことにより、パターン化配向膜56を形成することができる。 For example, on the optical alignment polymer film after drying, for example, a plurality of color filters A1, A2, ... region and a color filter B1, B2 corresponding to the sequence of, and distinguish between corresponding regions ... sequences, their by repeating the polarized irradiation through a photomask for each region (e.g., linearly polarized ultraviolet), it is possible to form a patterned alignment layer 56. 上記フォトマスクとしては、例えば、石英ガラス、ソーダライムガラスまたはポリエステルなどのフィルム上に、遮光パターン(図1に示したマスク1の実部3に相当)を設けたものが挙げられる。 As the photomask, for example, quartz glass, on a film such as soda lime glass or polyester include those having a light-shielding pattern (corresponding to the real part 3 of the mask 1 shown in FIG. 1). 遮光パターンで覆われている部分は露光される光が遮断され、覆われていない空隙部は露光される光が透過される。 Portion covered by the light shielding pattern is interrupted light exposure, the gap portion which is not covered in light exposure is transmitted. 熱膨張の影響が小さいため、フォトマスクに用いられる基材としては石英ガラスが好ましい。 Since influence of thermal expansion is small, the quartz glass is preferably a base material used in the photomask.

光配向法によってパターン化配向膜56を形成するには、まず、乾燥後の光配向性ポリマー膜に、図2中の第1のパターン領域13に対応した空隙部を有する第1のマスク(残りの領域は遮光パターンになっている)を介して、第1の偏光方向を有する第1の偏光を照射する(第1の偏光照射)。 To form a patterned alignment layer 56 by the photo-alignment method, first, the optical alignment polymer film after drying, the first mask (the remainder having a gap portion corresponding to the first pattern region 13 in FIG. 2 region through to have) become light-shielding pattern, it is irradiated with the first polarized light having a first polarization direction (first polarization illumination). この第1の偏光照射によって、上記第1のパターン領域13の配向規制力の方向を上記第1の偏光方向に対応させる。 This first polarized light irradiation, the direction of the orientation regulating force of the first pattern region 13 to correspond to the first polarization direction. 次いで、図2中の第2のパターン領域12に対応した空隙部を有する第1のマスク(残りの領域は遮光パターンになっている)を介して、上記第1の偏光方向とは異なる第2の偏光方向(この例では第1の偏光方向に対して垂直な方向)を有する第2の偏光を照射する(第2の偏光照射)。 Then, through a first mask having a gap portion corresponding to the second pattern region 12 in FIG. 2 (remaining area is in a light-shielding pattern) different from the second and the first polarization direction polarization direction (in this example the direction perpendicular to the first polarization direction) irradiating a second polarized light having a (second polarized light irradiation). この第2の偏光照射によって、上記第2のパターン領域12の配向規制力の方向を上記第2の偏光方向に対応させる。 This second polarized light irradiation, the direction of the orientation regulating force of the second pattern region 12 is corresponding to the second polarization direction. これにより、互いに配向規制力の方向が異なる複数のパターン領域13,12を有する配向膜56が得られる。 Thereby, an alignment film 56 having a plurality of pattern regions 13, 12 where the direction of the orientation regulating force different obtained. さらに、3種類以上のマスクを介して偏光照射を繰り返し行うことにより、互いに配向規制力の方向が異なる3つ以上のパターン領域を有するパターン化配向膜を作成することもできる。 Further, by repeating the polarized irradiation through the three or more kinds of masks, it is also possible to create a patterned alignment layer having three or more pattern areas where different directions of orientation regulating forces from one another. 光配向性ポリマーの反応性の点で、各偏光照射とも、照射する光は紫外線であることが好ましい。 In terms of the reactivity of the photo-orientable polymer, it is preferred in each polarized irradiation light irradiated is UV.

パターン化配向膜56の膜厚は、例えば10nm〜10000nmであり、好ましくは10nm〜1000nmである。 The film thickness of the patterned alignment layer 56 is, for example, 10Nm~10000nm, preferably 10 nm to 1000 nm. このような範囲とすれば、後工程で液晶組成物に含まれる液晶性成分を所望の角度に配向させることができる。 With such a range, the liquid component contained in the liquid crystal composition in a later step can be oriented at a desired angle.

本発明の製造方法は、工程(3)として、上記工程(2)で形成された配向膜56上に、重合性液晶化合物を含む液晶組成物を塗布して塗布膜を形成し、この塗布膜を上記液晶組成物の液晶性成分が液晶相を示す温度に保持して、上記配向膜56の上記複数のパターン領域13,12に対応する領域毎に、上記液晶性成分を互いに異なる配向方向に配列させる工程を含む。 Production method of the present invention, as the step (3), on the alignment film 56 formed in the above step (2), by applying a liquid crystal composition to form a coating film containing a polymeric liquid crystal compound, the coating film the holding temperature shown liquid component is a liquid crystal phase of the liquid crystal composition, each region corresponding to the plurality of pattern regions 13, 12 of the alignment film 56, a different orientation direction of the liquid crystalline components comprising the step of arranging.

上記液晶組成物は、重合性液晶化合物のほか、重合開始剤及び溶媒等を含むことが好ましい。 The liquid crystal composition, in addition to the polymerizable liquid crystal compound preferably contains a polymerization initiator and a solvent, and the like. そのような場合、この工程(3)においては、上記液晶組成物を塗布して得られた塗布膜から溶剤が除去された膜が形成され、次いで、その溶剤が除去された膜に含まれる液晶性成分が配向される。 In such a case, in the step (3), the solvent from the coating film obtained liquid crystal composition is coated is removed film is formed and then, the liquid crystal contained in the film in which the solvent is removed gender component is oriented.

上記液晶組成物に含まれる重合性液晶化合物としては、液晶便覧(液晶便覧編集委員会編、丸善(株)平成12年10月30日発行)の3章 分子構造と液晶性の、3.2 ノンキラル棒状液晶分子、3.3 キラル棒状液晶分子に記載された化合物の中で重合性基を有する化合物、特開2010−31223号で開示されている重合性液晶化合物等が挙げられる。 As the polymerizable liquid crystal compound contained in the liquid crystal composition, liquid crystal Handbook Chapter 3 of the molecular structure of the liquid crystal of the (liquid crystal Handbook edited by the Editorial Committee, Maruzen Co., Ltd., 2000 October 30 issue), 3.2 Nonkiraru rod-like liquid crystal molecules, 3.3 compound having a polymerizable group in the compounds described in a chiral rod-like liquid crystal molecules, polymerizable liquid crystal compound disclosed in JP 2010-31223, and the like. これらの重合性液晶化合物は、単独で用いてもよいし、複数を組み合わせて用いてもよい。 These polymerizable liquid crystal compound may be used singly or may be used in combination.

本発明の製造方法に用いられる液晶組成物は、上述のように、溶剤を含むことが好ましい。 The liquid crystal composition used in the production process of the present invention, as described above, preferably contains a solvent.

溶剤としては、液晶組成物に含まれる成分を溶解し、重合性液晶化合物の重合反応に不活性な溶剤であればよく、具体的には、メタノール、エタノール、エチレングリコール、イソプロピルアルコール、プロピレングリコール、エチレングリコールメチルエーテル、エチレングリコールブチルエーテル、プロピレングリコールモノメチルエーテル又はフェノール等のアルコール溶剤;酢酸エチル、酢酸ブチル、エチレングリコールメチルエーテルアセテート、γ−ブチロラクトン、プロピレングリコールメチルエーテルアセテート又は乳酸エチル等のエステル溶剤;アセトン、メチルエチルケトン、シクロペンタノン、シクロヘキサノン、2−ヘプタノン又はメチルイソブチルケトン等のケトン溶剤;ペンタン、ヘキサン又はヘプタン等の脂 As the solvent, dissolve the components contained in the liquid crystal composition may be any inert solvent in the polymerization reaction of the polymerizable liquid crystal compound, specifically, methanol, ethanol, ethylene glycol, isopropyl alcohol, propylene glycol, ethylene glycol methyl ether, ethylene glycol butyl ether, alcohol solvents such as propylene glycol monomethyl ether or phenol, ethyl acetate, butyl acetate, ethylene glycol methyl ether acetate, .gamma.-butyrolactone, ester solvents such as propylene glycol methyl ether acetate or ethyl lactate; acetone , methyl ethyl ketone, cyclopentanone, cyclohexanone, ketones solvent such as 2-heptanone and methyl isobutyl ketone; pentane, such as hexane or heptane fat 族炭化水素溶剤;トルエン又はキシレン等の芳香族炭化水素溶剤、アセトニトリル等のニトリル溶剤;テトラヒドロフラン又はジメトキシエタン等のエーテル溶剤;クロロホルム又はクロロベンゼン等の塩素系溶剤;等が挙げられる。 Family hydrocarbon solvent; toluene or an aromatic hydrocarbon solvent such as xylene, nitrile solvents such as acetonitrile; ethers solvent such as tetrahydrofuran or dimethoxyethane; chlorinated solvents chloroform or chlorobenzene; and the like. これらの溶剤は、単独で用いてもよいし、複数を組み合わせて用いてもよい。 These solvents may be used singly or may be used in combination.

溶剤の使用量は、液晶組成物に対して、50〜95質量%が好ましい。 The amount of solvent used, the liquid crystal composition, preferably 50 to 95 wt%. 逆にいえば、液晶組成物における固形分は、5〜50質量%が好ましい。 Conversely, solid content in the liquid crystal composition is preferably 5 to 50 mass%. 固形分の濃度が5質量%以上であると、得られる位相差層57の膜厚が薄くなりすぎず、偏光変換に必要な複屈折率が与えられる傾向がある。 If the concentration of the solid content is 5 mass% or more, not too thin the film thickness of the retardation layer 57 to be obtained, there is a tendency that the birefringence is given necessary polarization conversion. また50質量%以下であると、液晶組成物の粘度が低いことから、位相差層57の膜厚にムラが生じにくくなる傾向がある。 Also If it is 50 wt% or less, since the viscosity of the liquid crystal composition is low, tends to uneven thickness of the retardation layer 57 is less likely to occur. ここで、固形分とは、組成物全量に対する、組成物から溶剤を除いた成分の含有量である。 Here, the solid content, relative to the total amount of the composition, a content of components excluding the solvent from the composition.

液晶組成物の粘度は、塗布しやすいように、好ましくは10mPa・s以下、より好ましくは0.1〜7mPa・sに調整する。 The viscosity of the liquid crystal composition is so easy coating, preferably 10 mPa · s or less, more preferably adjusted to 0.1~7mPa · s.

本発明の製造方法に用いられる液晶組成物は、上述のように、重合開始剤を含むことが好ましい。 The liquid crystal composition used in the production process of the present invention, as described above, preferably contains a polymerization initiator.

重合開始剤としては、熱重合開始剤、光重合開始剤等が挙げられ、低温で重合性液晶化合物を重合できる傾向があるため、光重合開始剤であることが好ましい。 As the polymerization initiator, thermal polymerization initiator, include photopolymerization initiators and the like, because they tend to be polymerizing the polymerizable liquid crystal compounds at low temperature, it is preferably a photopolymerization initiator.

光重合開始剤としては、例えばベンゾイン化合物、ベンゾフェノン化合物、アルキルフェノン化合物、アシルホスフィンオキサイド化合物、トリアジン化合物、ヨードニウム塩又はスルホニウム塩等が挙げられる。 Examples of the photopolymerization initiator include benzoin compounds, benzophenone compounds, alkyl phenone compound, an acylphosphine oxide compound, a triazine compound include iodonium salts or sulfonium salts and the like.

光重合開始剤としては、イルガキュア(Irgacure)907、イルガキュア184、イルガキュア651、イルガキュア819、イルガキュア250、イルガキュア369(以上、全てチバ・ジャパン(株)製)、セイクオールBZ、セイクオールZ、セイクオールBEE(以上、全て精工化学(株)製)、カヤキュアー(kayacure)BP100(日本化薬(株)製)、カヤキュアーUVI−6992(ダウ社製)、アデカオプトマーSP−152、アデカオプトマーSP−170(以上、全て(株)ADEKA製)、TAZ−A、TAZ−PP(以上、日本シイベルヘグナー社製)又はTAZ−104(三和ケミカル社製)等、市販の光重合開始剤も用いることもできる。 As the photopolymerization initiator, Irgacure (Irgacure) 907, Irgacure 184, Irgacure 651, Irgacure 819, Irgacure 250, Irgacure 369 (above all by Ciba Japan KK), Seikuoru BZ, Seikuoru Z, Seikuoru BEE (more , all from Seiko chemical Co.), Kayacure (KAYACURE) BP100 (manufactured by Nippon Kayaku Co., Ltd.), KAYACURE UVI-6992 (manufactured by Dow), Adekaoptomer SP-152, Adekaoptomer SP-170 (or more all Ltd. ADEKA), TAZ-a, TAZ-PP (or, Nippon SiberHegner KK) or TAZ-104 (manufactured by Sanwa Chemical Co., Ltd.), can also be used commercially available photo polymerization initiator.

本発明の製造方法に用いられる液晶組成物は、必要に応じて、カイラル剤、重合禁止剤、光増感剤及びレベリング剤等の添加剤を含有していてもよい。 The liquid crystal composition used in the production process of the present invention may optionally chiral agent, polymerization inhibitor, it may contain additives such as photosensitizers and leveling agents.

カイラル剤としては、『液晶デバイスハンドブック』(第3章4−3項、TN、STN用カイラル剤、199頁、日本学術振興会第142委員会編、1989)、特開2007−269640号公報、特開2007−269639号公報、特開2007−176870号公報、特開2003−137887号公報、特表2000−515496号公報、特開2007−169178号公報、特表平9−506088号公報等に記載されている化合物が挙げられる。 As the chiral agent, "Liquid Crystal Device Handbook" (Chapter 3, Section 4-3, TN, STN for chiral agent, 199 pp., Japan Society for the Promotion of Science, Committee 142, ed., 1989), Japanese Unexamined Patent Publication No. 2007-269640, JP 2007-269639, JP 2007-176870, JP 2003-137887, JP-Kohyo 2000-515496, JP 2007-169178 and JP Kohyo 9-506088, etc. the compounds described can be mentioned.

重合禁止剤としては、例えばハイドロキノン又はアルキルエーテル等の置換基を有するハイドロキノン類、ブチルカテコール等のアルキルエーテル等の置換基を有するカテコール類、ピロガロール類、2,2、6,6−テトラメチル−1−ピペリジニルオキシラジカル等のラジカル補足剤、チオフェノール類、β−ナフチルアミン類或いはβ−ナフトール類等を挙げることができる。 Examples of the polymerization inhibitor include hydroquinones having a substituent such as hydroquinone or alkyl ethers, catechols having a substituent such as an alkyl ethers such as butyl catechol, pyrogallol compounds, 2,2,6,6-tetramethyl -1 - radical scavengers such as piperidinyloxy radical, thiophenols, can be mentioned β- naphthylamines or β- naphthols and the like.

光増感剤としては、例えばキサントン及びチオキサントン等のキサントン類、アントラセン及びアルキルエーテル等の置換基を有するアントラセン類、フェノチアジン或いはルブレンを挙げることができる。 As examples of the photosensitizer, xanthone and xanthone such as thioxanthone, anthracene having a substituent such as anthracene and alkyl ether, and phenothiazine or rubrene.

レベリング剤としては、例えば放射線硬化塗料用添加剤(ビックケミージャパン製:BYK−352,BYK−353,BYK−361N)、塗料添加剤(東レ・ダウコーニング(株)製:SH28PA、DC11PA、ST80PA)、塗料添加剤(信越化学工業(株)製:KP321、KP323、X22−161A、KF6001)又はフッ素系添加剤(DIC(株)製:F−445、F−470、F−479)等を挙げることができる。 As the leveling agent, such as radiation curable coating additives (BYK Chemie Japan Ltd.: BYK-352, BYK-353, BYK-361N), coating additives (manufactured by Dow Corning Toray Co., Ltd.: SH28PA, DC11PA, ST80PA) , paint additives (Shin-Etsu Chemical Co., Ltd.: KP321, KP323, X22-161A, KF6001) or fluorine-based additive (DIC Corp.: F-445, F-470, F-479) cited like be able to.

上記工程(3)において、液晶組成物を塗布する方法としては、上記配向膜56を塗布する方法と同じ方法が挙げられる。 In the step (3), as a method of applying a liquid crystal composition, the same method as the method for applying the alignment film 56 and the like. 中でも、表示素子の損傷を抑制できる点で、CAPコーティング法、インクジェット法、ディップコーティング法、スリットコーティング法及びバーコーターによる塗布が好ましい。 Among them, from the viewpoint of suppressing damage to the display device, CAP coating method, an inkjet method, a dip coating method, coating with a slit coating method and a bar coater is preferred.

液晶組成物を塗布後、上述のように液晶組成物に含まれる溶剤を除去することが好ましい。 After coating the liquid crystal composition, it is preferred to remove the solvent contained in the liquid crystal composition as described above.

液晶組成物を塗布して得られた塗布膜(好ましくは、上記塗布膜から溶剤が除去された膜)を、上記液晶組成物の液晶性成分が液晶相を示す温度に保持する。 Coating film obtained by coating a liquid crystal composition (preferably, a film solvent has been removed from the coating film) The liquid crystal component of the liquid crystal composition is held at a temperature showing a liquid crystal phase. 上記塗布膜が液晶相を示す温度に保持することで、上記塗布膜に含まれる液晶性成分を配向させ、複屈折性を付与することができる。 By the coating film is maintained at a temperature showing a liquid crystal phase, to align the liquid crystalline components contained in the coating film, it is possible to impart birefringence. 配向させる温度としては、0〜250℃が好ましく、10〜150℃がより好ましい。 The temperature of orienting, preferably 0 to 250 ° C., more preferably from 10 to 150 ° C..

このようにして、パターン化配向膜56の複数のパターン領域13,12に対応する領域毎に、パターン領域13,12のそれぞれの配向規制力の方向に応じて、上記液晶性成分を互いに異なる配向方向に配列させる。 Thus, for each area corresponding to a plurality of pattern regions 13, 12 of the patterned alignment layer 56, depending on the direction of each of the alignment regulating force of the pattern area 13 and 12, different orientations of the liquid crystalline components It is arranged in a direction.

各位相差領域71A,71B内では、上記液晶性成分がモノドメイン配向していることが好ましい。 Each phase difference region 71A, in the 71B, it is preferable that the liquid component are aligned monodomain.

本発明の製造方法は、工程(4)として、上記工程(3)で形成された上記液晶性成分をなす重合性液晶化合物を、上記配向方向を保持しながら重合させることにより、上記複数の位相差領域71A,71Bを有する位相差層57を形成する工程を含む。 Production method of the present invention, as the step (4), the polymerizable liquid crystal compound constituting the liquid crystal component which is formed in the above step (3), by polymerizing while maintaining the oriented direction, said plurality of positions retardation region 71A, including the step of forming the retardation layer 57 having a 71B.

上記液晶組成物に含まれた重合性液晶化合物が光重合性基を有する重合性液晶化合物である場合は、光重合法で重合させることが好ましい。 When included in the liquid crystal composition polymerizable liquid crystal compound is a polymerizable liquid crystal compound having a photopolymerizable group, it is preferable to polymerize in photopolymerization. また、上記液晶組成物に含まれた重合性液晶化合物が熱重合性基を有する重合性液晶化合物である場合は、熱重合法で重合させることが好ましい。 Furthermore, if included in the liquid crystal composition polymerizable liquid crystal compound is a polymerizable liquid crystal compound having a heat-polymerizable group, it is preferable to polymerize in thermal polymerization. ここで、光重合性基とは、光照射により化合物を重合させうる基、あるいは、光照射で重合開始剤から発生した活性ラジカル又は活性酸により化合物を重合させうる基のことをいう。 Here, the photopolymerizable groups, groups capable of polymerizing a compound by light irradiation, or refers to a group by active radical or active acid generated from the polymerization initiator by light irradiation capable of polymerizing a compound. 熱重合性基とは、熱の作用により化合物を重合させうる基、あるいは、熱の作用で重合開始剤から発生した活性ラジカル又は活性酸により化合物を重合させうる基のことをいう。 The thermally polymerizable groups, groups capable of polymerizing a compound by the action of heat, or refers to a group capable of polymerizing a compound by active radicals or active acid generated from the polymerization initiator by the action of heat. 重合を、膜に含まれる成分が配向した状態、すなわち膜に含まれる成分が液晶相を示した状態で行うことにより、液晶相(つまり配向方向)を保持した硬化膜として、位相差層57を得ることができる。 The polymerization conditions in which the components oriented to be contained in the membrane, i.e. components contained in the film by making a state of a liquid crystal phase, a cured film was held a liquid crystal phase (i.e. alignment direction), the phase difference layer 57 it is possible to obtain.

本発明の製造方法においては、光重合法により重合性液晶化合物を重合させることが好ましい。 In the production method of the present invention, it is preferable to polymerize the polymerizable liquid crystal compound by photopolymerization method. 光重合法によれば高温に加熱せずに重合させることができるので、偏光層(偏光板)55の熱による変形を防ぐことができる。 It is possible to polymerize without heating to a high temperature according to the optical polymerization method, it is possible to prevent deformation due to heat of the polarizing layer (polarizing plate) 55. また工業的にも製造が容易となる。 In addition it is easy to manufacture in industrial. また成膜性の観点からも光重合法が好ましい。 The photopolymerization method from the viewpoint of film forming property are preferred. 光重合法で用いられる光源としては、可視光、紫外光又はレーザー光が挙げられる。 As a light source used in the photopolymerization method, the visible light include ultraviolet light or laser light. 取り扱いの観点から、紫外光が好ましい。 From the point of view of handling, ultraviolet light is preferable. 光照射は、膜に含まれる成分が液晶相を示す温度で行ってもよい。 Light irradiation, components contained in the film may be carried out at a temperature showing a liquid crystal phase. この際、マスキング等によってさらに多くの領域にパターン化された位相差層57を得ることもできる。 At this time, it is also possible to obtain a retardation layer 57 which is patterned into more regions by masking or the like.

上記工程(4)で形成された位相差層57がλ/4板(4分の1波長板)である場合、互いに遅相軸の方向が異なる複数の位相差領域71A,71Bのいずれにおいても、位相差値(リタデーション値)Re(550nm)が113〜163nm、好ましくは135〜140nm、特に好ましくは約137.5nmになるように、位相差層57の膜厚を調整する。 If it is the step (4) The formed retardation layer 57 is lambda / 4 plate (quarter wave plate), a plurality of retardation region 71A where the direction of the slow axis different, in any of the 71B retardation value (retardation value) Re (550 nm) is 113~163Nm, preferably 135~140Nm, particularly preferably to be about 137.5 nm, adjusting the thickness of the retardation layer 57. また、上記工程(4)で形成された位相差層57がλ/2(2分の1波長板)板である場合、互いに遅相軸の方向が異なる複数の位相差領域71A,71Bのいずれにおいても、位相差値Re(550nm)が250〜300nm、好ましくは273〜277nm、特に好ましくは約275nmとなるように位相差層57の膜厚を調整する。 Further, when the phase difference layer 57 formed in the above step (4) is a plate (a half-wave plate) lambda / 2, the direction of the slow axis a plurality of different retardation regions 71A, either 71B in even retardation value Re (550 nm) is 250 to 300 nm, preferably 273~277Nm, particularly preferably to adjust the thickness of the retardation layer 57 to be about 275 nm.

位相差層57における位相差値Re(λ)は、液晶組成物の塗布量や、液晶組成物中の重合性液晶化合物の含有量を適宜変更することにより、調整することができる。 Retardation value in the retardation layer 57 Re (λ) is the coating amount and the liquid crystal composition, by appropriately changing the content of the polymerizable liquid crystal compounds in the liquid crystal composition can be adjusted. また、得られる位相差層57の位相差値Re(λ)は、次の式(X)のように決定されることから、所望の位相差値Re(λ)を得るためには、位相差層57の膜厚dを調整すればよい。 Further, retardation value of the retardation layer 57 obtained Re (lambda), since it is determined by the following equation (X), in order to obtain a desired retardation value Re (lambda) is the phase difference it may be adjusted thickness d of the layer 57.
Re(λ)=d×Δn(λ) …(X) Re (λ) = d × Δn (λ) ... (X)
(式中、Re(λ)は、波長λ(nm)における位相差値を表し、dは膜厚を表し、Δn(λ)は波長λ(nm)における複屈折率を表す。) (Wherein, Re (lambda) represents a retardation value at a wavelength lambda (nm), d represents the film thickness, [Delta] n (lambda) denotes the birefringence index at a wavelength lambda (nm).)

ただし、調整される位相差層57の膜厚は、0.1〜10μmが好ましく、0.5〜3μmがより好ましい。 However, the thickness of the retardation layer 57 to be adjusted, 0.1 to 10 [mu] m is preferable, 0.5 to 3 [mu] m is more preferable.

上記工程(1)乃至(4)の結果、表示素子基板54の光出射側に、偏光層55及び位相差層57がこの順に設けられる。 The step (1) to (4) of the result, the light emitting side of the display device substrate 54, the polarizing layer 55 and the retardation layer 57 is provided in this order.

図3に示す液晶表示装置51Aは、表示素子基板54の光出射側に、上述の製造方法によって偏光層55、配向膜56及び位相差層57を設ける一方、表示素子基板54の光出射側とは反対の側に、公知の手法によって偏光板53及びバックライト52を設けて作製される。 The liquid crystal display device 51A shown in FIG. 3, the light emitting side of the display device substrate 54, while the polarization layer 55, providing the alignment film 56 and the retardation layer 57 by the manufacturing method described above, the light emitting side of the display device substrate 54 on the opposite side, it is fabricated by providing a polarizing plate 53 and the backlight 52 by known techniques.

本発明の製造方法は、上記工程(4)で形成された位相差層57の光出射側に、さらに、外光の反射を防ぐ反射防止層を形成する工程を含むことが好ましい。 Production method of the present invention, the light emitting side of the retardation layer 57 formed in the above step (4) preferably further comprises a step of forming an anti-reflection layer for preventing reflection of external light. 図4は、そのような反射防止層58を備えた液晶表示装置(全体を符号51Bで示す。)の概略断面構成を示している。 Figure 4 shows a schematic cross-sectional configuration of the liquid crystal display device having such a reflection preventing layer 58 (generally indicated by reference numeral 51B.). 図4において、図3中の構成要素と同一の構成要素には同一の符号を付して、重複する説明を省略する。 4, the same components as in FIG. 3 description is omitted with the same reference numerals, duplicate.

反射防止層58を構成する材料としては特に限定されず、例えば、金属、金属酸化物、金属フッ化物、微粒子及び高分子材料等からなる群から選ばれる少なくとも一種で構成される層、並びに、公知の反射防止(AR)フィルム、低反射(LR)フィルム、モスアイ型反射防止フィルム及びこれらが有する反射防止層等が挙げられる。 Is not particularly limited as the material constituting the antireflection layer 58, for example, metal, metal oxide, metal fluoride, layers composed of at least one member selected from the group consisting of fine particles and polymer materials, as well as known antireflection (AR) films, low-reflection (LR) film, moth-eye type antireflection film and an antireflection layer such as they have the like.

金属としては、例えば、銀等が挙げられ、金属酸化物としては、例えば、酸化ケイ素、酸化アルミニウム、酸化チタン、酸化タンタル、酸化イットリウム、酸化ジルコニウム等が挙げられ、金属フッ化物としては、例えば、弗化カルシウム、弗化マグネシウム等が挙げられる。 The metal, e.g., silver and the like, and metal oxides, for example, silicon oxide, aluminum oxide, titanium oxide, tantalum oxide, yttrium oxide, zirconium oxide and the like, and metal fluoride, for example, calcium fluoride, magnesium fluoride and the like.

微粒子としては、硫酸バリウム、タルク、カオリン、硫酸カルシウム、シリカゲル、金属微粒子含有シリカゲル等の無機微粒子;ポリメタアクリル酸メチルアクリレート樹脂微粒子、アクリルスチレン樹脂微粒子、ポリメチルメタクリレート樹脂微粒子、シリコン樹脂微粒子、ポリスチレン樹脂微粒子、ポリカーボネート樹脂微粒子、ベンゾグアナミン樹脂微粒子、メラミン樹脂微粒子、ポリオレフィン樹脂微粒子、ポリエステル樹脂微粒子、ポリアミド樹脂微粒子、ポリイミド樹脂微粒子、またはポリ弗化エチレン樹脂微粒子等の有機微粒子;特開2010−84018号公報に記載される中空有機−無機ハイブリッド微粒子等が挙げられる。 As the fine particles, barium sulfate, talc, kaolin, calcium sulfate, silica gel, inorganic fine particles such as metal fine particles containing silica gel; polymethacrylic acid methyl acrylate resin fine particles, acrylic-styrene resin particles, polymethylmethacrylate resin particles, silicone resin particles, polystyrene JP 2010-84018 JP; resin fine particles, polycarbonate resin particles, benzoguanamine resin particles, melamine resin particles, polyolefin resin particles, polyester resin particles, polyamide resin particles, polyimide resin particles or organic fine particles such as polyfluoroethylene resin particles, hollow organic described - inorganic hybrid particles, and the like.

高分子材料としては、シロキサンポリマー、ビス(4−メタクリロイルチオフェニル)スルフィド、ビニルナフタレン、ビニルフェニルスルフィド及び4−メタクリロキシフェニル−4'−メトキシフェニルチオエーテル、含フッ素(メタ)アクリレート、含フッ素イタコン酸エステル、含フッ素マレイン酸エステル、含フッ素珪素化合物等の重合体、ポリビニルアルコール樹脂、ポリビニルブチラールやポリビニルホルマール等のポリビニルアセタール樹脂、セルロースアセテートブチレート等のセルロース樹脂、ブチルアクリレート等の(メタ)アクリル樹脂、ウレタン樹脂、ポリエステル樹脂、エポキシ樹脂等が挙げられる。 As the polymer material, a siloxane polymer, bis (4-methacryloylthiophenyl) sulfide, vinylnaphthalene, vinylphenyl sulfide and 4-methacryloxyphenyl-4'-methoxyphenyl thioether, fluoro (meth) acrylate, a fluorinated itaconate esters, fluorine-containing maleate, polymers such as fluorine-containing silicon compound, polyvinyl alcohol resins, polyvinyl butyral and polyvinyl formal and polyvinyl acetal resins, cellulose resins such as cellulose acetate butyrate, and butyl acrylate (meth) acrylic resin , urethane resins, polyester resins, epoxy resins and the like. 高分子材料により薄膜を形成して反射防止層とする。 And anti-reflective layer to form a thin film of a polymer material.

この反射防止層58は、単層であってもよいし、2層、3層、4層又はそれ以上の層からなる多層であってもよい。 The anti-reflection layer 58 may be a single layer, two layers, three layers, or a multilayer consisting of 4 or more layers. 反射防止層58の厚みや、それが多層である場合の各層の厚みは、その層数、各層に用いる物質の屈折率等により、適宜選択される。 The thickness and the antireflection layer 58, it the thickness of each layer in the case of a multilayer, the number of layers, the refractive index or the like of the material used in each layer is appropriately selected. 反射防止層58は、上記材料を含む溶液を位相差層57上に塗布する方法、又は、上記材料から形成された層を有するフィルムを位相差層57上に貼合する方法により、形成することができる。 Antireflective layer 58, a method of coating a solution containing the material on the retardation layer 57, or by a method of laminating a film having a layer formed from the material on the retardation layer 57, formed by can. 反射防止層58を形成する方法としては、例えば特開2003−114302号公報、特開平7−56002号公報、特許第4190337号、特許第4259957号、特許第4032771号、特開2010−122599号公報記載の方法が挙げられる。 As a method for forming an antireflection layer 58, for example, Japanese 2003-114302, JP-A No. 7-56002, JP-Patent No. 4190337, Japanese Patent No. 4259957, Japanese Patent No. 4032771, JP-A-2010-122599 the method according the like. 表示装置51Bが上記反射防止層58を有することで、外光に由来する反射光の発生を軽減でき、また、表示素子基板54からの本来の表示用の出射光と反射光との干渉も抑制することが可能となる。 By the display device 51B has the anti-reflection layer 58, can reduce the occurrence of the reflected light from the external light, also the interference between the reflected light and output light for original display from the display device substrate 54 suppressed it is possible to become. この結果、表示特性を改善できる。 As a result, it is possible to improve the display characteristics. さらに、反射防止層58によって、位相差層57を保護することができる。 Furthermore, the anti-reflection layer 58 can protect the retardation layer 57.

さらに、反射防止層58の光出射側に、必要に応じて、公知の防汚層、帯電防止層、ハードコート層を形成してもよい。 Furthermore, on the light emission side of the antireflection layer 58, as necessary, a known antifouling layer, an antistatic layer may be formed hard coat layer.

図4に示す液晶表示装置51Bは、表示素子基板54の光出射側に、上述の製造方法によって偏光層55、配向膜56、位相差層57及び反射防止層58を設ける一方、表示素子基板54の光出射側とは反対の側に、公知の手法によって偏光板53及びバックライト52を設けて作製される。 The liquid crystal display device 51B shown in FIG. 4, the light emitting side of the display device substrate 54, the polarizing layer 55 by the manufacturing method described above, the alignment film 56, providing the retardation layer 57 and the antireflection layer 58 while the display device substrate 54 the light emitting side to the opposite side is made by providing a polarizing plate 53 and the backlight 52 by known techniques.

図3、図4の液晶表示装置51A,51Bは次のように動作する。 3, the liquid crystal display device 51A of FIG. 4, 51B operates as follows.

上記液晶表示装置51A,51Bでは、バックライト52が自然光を発生する。 In the liquid crystal display device 51A, 51B, the backlight 52 to generate a natural light. 偏光板53は、バックライト52が発生した自然光のうち一方向の直線偏光を選択的に表示素子基板54側へ透過させる。 Polarizer 53, a backlight 52 for selectively transmitting to the display device substrate 54 side linearly polarized light of one direction out of the natural light generated. 図5によって既に説明したように、偏光板53を透過して表示素子基板54に入射した直線偏光は、画素A1,A2,…;B1,B2,…毎に、液晶層(図示せず)の光出射側Fへ透過しまたは遮断されるようになっている。 As already described by FIG. 5, linearly polarized light incident on the display device substrate 54 is transmitted through the polarizing plate 53, the pixel A1, A2, ...; B1, B2, ... for each liquid crystal layer (not shown) It is adapted to be transmitted or blocked to the light emission side F. 偏光層55は、表示素子基板54を透過した光の、透過軸70aの方向に沿った成分を光出射側Fへ透過させる。 Polarization layer 55, the light transmitted through the display device substrate 54, and transmits the component along the direction of the transmission axis 70a to the light emission side F. ここで、光出射側Fから見たとき、偏光層55の透過軸70aの方向(これを0度とする。)に対して、位相差領域71Aの遅相軸71aは45度に交差し、位相差領域71Bの遅相軸71bは135度に交差している。 Here, when viewed from the light exit side F, with respect to the direction of the transmission axis 70a of the polarizing layer 55 (referred to as 0 °.), The slow axis 71a of the retardation region 71A intersects the 45 degrees, the slow axis 71b of the retardation region 71B intersects the 135 degrees. このような配置により、位相差領域71A,71Bは、偏光層55からの直線偏光を、互いに反対回りの円偏光に変換して、それぞれ光出射側Fへ出射する。 Such an arrangement, the retardation regions 71A, 71B is linearly polarized light from the polarization layer 55 is converted into the opposite circularly polarized light together, respectively emitted to the light emission side F. この例では、偏光層55を通過した後、位相差領域71Aを通過した光は、左円偏光となって出射される一方で、偏光層55を通過した後、位相差領域71Bを通過した光は、右円偏光となって出射される。 In this example, after passing through the polarization layer 55, the light passing through the retardation region 71A, while being emitted as a left circularly polarized light, after passing through the polarization layer 55, the light passing through the retardation region 71B It is emitted as right-circularly polarized light.

より詳しくは、左目用画像を表示する画素(例えばA1,A2,…)、上記偏光層55及び上記位相差層57の位相差領域71Aをこの順で通過した光は、左円偏光となる。 More specifically, pixels displaying left eye image (for example A1, A2, ...), the light phase difference region 71A passes in this order of the polarizing layer 55 and the retardation layer 57 is a left circularly polarized light. 一方、右目用画像を表示する画素(例えばB1,B2,…)、上記偏光層55及び上記位相差層57の位相差領域71Bをこの順で通過した光は、右円偏光となる。 Meanwhile, pixel displaying the right eye image (e.g. B1, B2, ...), the light phase difference region 71B passes in this order of the polarizing layer 55 and the retardation layer 57 is a right circularly polarized light.

観察者が、右円偏光を直線偏光に変換する円偏光板、及び左円偏光を直線偏光に変換する円偏光板を、それぞれのレンズに有する眼鏡(図示せず)を使用することで、上記表示装置から出射された画像を立体的な画像として観察することができる。 Observer, circular polarizer that converts the right-handed circularly polarized light into linearly polarized light, and the circularly polarizing plate for converting a left-circularly polarized light into linearly polarized light, the use of eyeglasses (not shown) having the respective lenses, the it is possible to observe an image emitted from the display device as a stereoscopic image.

このように、上記液晶表示装置51A,51Bによれば、立体画像を表示可能な表示装置を提供することができる。 Thus, the liquid crystal display device 51A, according to 51B, it is possible to provide a display device capable of displaying a stereoscopic image.

また、この例では、主面50に沿った方向に関して、位相差層57の位相差領域71A,71Bの形状及び大きさが、それぞれ表示素子基板54の複数の画素A1,A2,…;B1,B2,…の配列の形状及び大きさと一致して、ストライプ状に形成されている。 Further, in this example, with respect to the direction along the main surface 50, a plurality of pixels A1, A2 of the retardation region 71A of the retardation layer 57, the shape and size of 71B, respectively display element substrate 54, ...; B1, B2, ... sequence shape and size and matched to the of, are formed in stripes. これにより、立体画像を表示可能な表示装置を好ましく構成することができる。 Thus, it is possible to preferably constituting viewable display a stereoscopic image.

上記表示素子基板として既に説明したように液晶表示素子が形成されたものを用いる場合は、その表示素子基板は、2枚の基板の間に表示媒体である低分子液晶組成物を充填して形成される。 When using those to which the display device liquid crystal display device as previously described as a substrate is formed, the display device substrate is filled with a low-molecular liquid crystal composition is a display medium between two substrates forming It is. 上記2枚の基板のうち一方の基板には、ブラックマトリクス、カラーフィルタ、対向電極、フォトスペーサ、配向膜等が設けられ、もう一方の基板には、液晶駆動電極、配線パターン、薄膜トランジスタ、配向膜等が設けられる。 On one substrate of the two substrates, a black matrix, a color filter, a counter electrode, photo-spacers, alignment film are provided. On the other substrate, the liquid crystal drive electrodes, the wiring pattern, a thin film transistor, alignment film etc. is provided.

液晶表示装置としては、透過型、反射型、半透過型が挙げられる。 As the liquid crystal display device, a transmission type, reflective type, transflective type and the like. 液晶セルの動作モードに特に制限はなく、ねじれネマチック(Twisted Nematic)、垂直配(Vertical Alignment)、OCB(Optically Compensated)、IPS(In−Plane Swiching)等のいずれでもよい。 There is no particular limitation on the operation mode of the liquid crystal cell, the twisted nematic (Twisted Nematic), vertical distribution (Vertical Alignment), OCB (Optically Compensated), may be any one of such IPS (In-Plane Swiching).

本発明の製造方法により製造される表示装置としては、既述の液晶表示装置の他に、有機エレクトロルミネッセンス(EL)表示装置、プラズマディスプレイ、電界放出表示装置(フィールドエミッションディスプレイ)、表面伝導型電子放出素子を有する表示装置(SED)、電子ペーパー等が挙げられる。 The display device produced by the production method of the present invention, in addition to the aforementioned liquid crystal display device, an organic electroluminescence (EL) display device, a plasma display, field emission display (field emission display), a surface conduction electron a display device having a release element (SED), and an electron paper and the like. 本発明の製造方法をこれらの他の表示装置に適用する場合、工程(1)で用いる表示素子基板として、これらの他の表示装置を構成する表示素子が形成されたもの(複数の画素が配列されたもの)を用いる。 When applying the production method of the present invention to these other display device, as a display device substrate used in step (1), which display elements constituting these other display devices are formed (a plurality of pixels are arranged has been one) is used.

図6は、本発明の製造方法により作製される表示装置の一例として、液晶表示装置以外の表示装置(全体を符号61Aで示す。)の概略断面構成を示している。 Figure 6 is an example of a display device manufactured by the manufacturing method of the present invention, it shows a schematic cross-sectional configuration of a display device other than the liquid crystal display device (generally indicated by reference numeral 61A.). 液晶表示装置以外の表示装置61Aとしては、有機EL表示装置、プラズマディスプレイ、電界放出表示装置、表面伝導型電子放出素子を有する表示装置、電子ペーパー等が挙げられる。 The display device 61A other than the liquid crystal display device, an organic EL display device, a plasma display, a field emission display device, a display device having a surface conduction electron-emitting devices, and electronic paper and the like. これらの表示装置を構成する表示素子が形成された(複数の画素が配列された)表示素子基板62の光出射側に、上記工程(1)〜(4)により偏光層63、配向膜64及び位相差層65をこの順に形成する。 Display elements constituting these display devices are formed on the light emitting side of (a plurality of pixels are arranged) display element substrate 62, a polarizing layer 63 in the above step (1) to (4), the alignment films 64 and the phase difference layer 65 are formed in this order. これにより、立体表示が可能な表示装置61Aを製造することができる。 Thus, it is possible to manufacture the display device 61A capable of stereoscopic display.

上記表示素子基板として有機EL表示素子が形成されたものを用いる場合は、まず透明電極を備えたガラス基板に、陽極、発光層等の有機膜及び陰極を蒸着によって積層し、有機EL素子及び配線パターンを形成する。 When used as an organic EL display element is formed as the display element substrate, a glass substrate having a first transparent electrode, an anode, and deposited by depositing an organic film and a cathode such as a light emitting layer, the organic EL elements and wirings to form a pattern. 次に、例えば、SUSやAl等によって形成された金属製キャップ(保護板)を透明電極ガラスに積層された各有機EL素子に被せ、接着剤によって透明電極ガラスに接着する。 Then, for example, put on the organic EL elements stacked metal cap formed (protective plate) on the transparent electrode glass by SUS or Al or the like, to adhere to the transparent electrode glass by an adhesive. 最後に、透明電極ガラスを有機EL素子毎に分割する。 Finally, divide the transparent electrode glass for each organic EL element. 有機EL表示素子が形成された表示素子基板を製造する方法としては、例えば特許第3626728号に記載の方法が挙げられる。 As a method of manufacturing a display device substrate in which an organic EL display element is formed, for example, it includes a method described in Japanese Patent No. 3626728. 有機EL表示素子が形成された表示素子基板62の光出射側に、上記工程(1)〜(4)により偏光層(偏光板)63、配向膜64及び位相差層65を形成する。 On the light emitting side of the display device substrate 62 of the organic EL display element is formed, to form the step (1) to (4) by the polarization layer (polarizing plate) 63, an alignment film 64 and the retardation layer 65. 有機EL表示素子が形成された表示素子基板に、上記工程(1)において形成される偏光層(偏光板)63は、外光反射を抑制することができるため、円偏光板であってもよい。 The display device substrate in which an organic EL display element is formed, a polarizing layer which is formed in the step (1) (polarizing plate) 63, it is possible to suppress reflection of external light may be a circularly polarizing plate .

上記表示素子基板としてプラズマ表示素子が形成されたものを用いる場合は、その表示素子基板は、面放電を行う走査電極及び維持電極を配列して形成したガラス基板からなる前面板と、データ電極を配列して形成したガラス基板からなる背面板とで構成される。 When used as a plasma display element is formed as the display element substrate, the display device substrate has a front plate comprising a glass substrate formed by arranging scanning electrodes and sustain electrodes performing surface discharge, data electrodes composed of a back plate made of a glass substrate formed by arranging. 走査電極及び維持電極とデータ電極とは、マトリックスを組むように、かつ間隙に放電空間を形成するように平行に対向配置される。 The scan electrodes and the sustain electrodes and the data electrodes are facing each so as to form a discharge space, and the gap as Crossed matrix. その外周部は、ガラスフリット等の封着材によって封着されている。 The outer peripheral portion is sealed by a sealing material such as glass frit. そして、前面板と背面板との両基板間には、隔壁によって区画された放電セルが設けられ、この隔壁間のセル空間に蛍光体層が形成される。 And, between the substrates of the front panel and the rear panel, the discharge cells are provided which are divided by the barrier ribs, phosphor layer is formed in the cell space between the partition wall. このような構成のプラズマ表示素子においては、ガス放電により紫外線を発生させ、この紫外線で赤色(R)、緑色(G)、及び青色(B)の各色の蛍光体を励起して発光させることにより、カラー表示を行っており、代表的には、特許第4226648号等が挙げられる。 In the plasma display device having such a structure, gas discharge generates ultraviolet light, red in the ultraviolet (R), green (G), and by emitting light by exciting the respective phosphors of blue (B) , and performs color display, typically, and the like can be mentioned Japanese Patent No. 4226648. このようなプラズマ表示素子が形成された表示素子基板62の光出射側に、上記工程(1)〜(4)により偏光層(偏光板)63、配向膜64及び位相差層65を形成する。 On the light emitting side of the display device substrate 62 such plasma display devices are formed, to form the step (1) to (4) by the polarization layer (polarizing plate) 63, an alignment film 64 and the retardation layer 65.

電界放出表示装置は、各画素領域内に電子放出源である多数の微小なカソード電極(マイクロチップ)を形成し、所定の電気信号に応じて対応する画素領域のマイクロチップを励起させることでアノード電極側に設けられた蛍光体を発光させるものであり、例えば特開平10−125262号記載の表示装置が挙げられる。 The field emission display device, an anode by a number of minute cathode electrode is an electron emitting source in each pixel region (microtip) is formed to excite a microchip pixel regions corresponding in response to a predetermined electrical signal is intended to emit a phosphor provided on the electrode side, for example, a display device of JP-a 10-125262 Patent describes the like. 表面伝導型電子放出素子を有する表示装置は、超微粒子膜により作ったナノオーダーのスリット間に電圧をかけトンネル効果により電子を放出させることで蛍光体を発光させる。 A display device having a surface conduction electron-emitting device, by the tunnel effect a voltage is applied between the slits of the nano-order made by ultrafine particle film to the phosphor to emit light by causing electrons are emitted. 上記表示素子基板として電界放出表示装置を構成するものを用いる場合は、このような表示装置を構成する表示素子基板62の光出射側に、上記工程(1)〜(4)により偏光層(偏光板)63、配向膜64及び位相差層65を形成する。 In the case of using what constitutes a field emission display device as the display device substrate, on the light emitting side of the display device substrate 62 constituting such a display device, the step (1) to (4) by a polarizing layer (polarizing plate) 63, to form the alignment film 64 and the retardation layer 65.

電子ペーパーとしては、コレステリック液晶等の液晶を用いる方法、有機EL、反射フィルム反射型表示、電気泳動、ツイストボール、エレクトロクロミック方式、メカニカル反射型表示が挙げられる。 The electronic paper, a method of using a liquid crystal such as a cholesteric liquid crystal, organic EL, reflective film reflective display, electrophoresis, a twist ball, an electro-chromic method, a mechanical reflective display and the like. 上記表示素子基板としていずれの方式の電子ペーパーを用いる場合も、上記電子ペーパーを構成する表示素子基板62の光出射側に、上記工程(1)〜(4)により偏光層(偏光板)63、配向膜64及び位相差層65を形成する。 Even when using the electronic paper of any type as the display element substrate, on the light emitting side of the display device substrate 62 constituting the electronic paper, the step (1) to (4) by the polarization layer (polarizing plate) 63, forming an orientation film 64 and the retardation layer 65.

既述の図4に示した液晶表示装置51Bの例と同様に、図7に示すように、液晶表示装置以外の表示装置(全体を符号61Bで示す。)においても、上記工程(4)で形成された位相差層65の光出射側に、さらに、外光の反射を防ぐ反射防止層66を形成する工程を含むことが好ましい。 As in the example of the liquid crystal display device 51B shown in FIG. 4 described above, as shown in FIG. 7, in the display device other than the liquid crystal display device (generally indicated by reference numeral 61B.), In the step (4) the formed light exit side of the retardation layer 65 preferably further contains a step of forming an antireflection layer 66 to prevent reflection of external light. これにより、外光に由来する反射光の発生を軽減でき、この結果、表示素子基板62からの本来の表示用の出射光と反射光との干渉も抑制することが可能となる。 This can reduce the occurrence of the reflected light from the external light, as a result, it is possible to interfere suppression of the original emitted light and the reflected light for display from the display device substrate 62. さらに位相差層65を保護することができる。 It is possible to further protect the retardation layer 65.

以下、実施例によって本発明をより詳細に説明する。 The following examples illustrate the invention in more detail. 例中の「%」及び「部」は、特記ない限り、質量%及び質量部である。 "%" In Examples and "parts", unless otherwise specified, are percent by weight and parts by weight.

(実施例1) (Example 1)
〔光配向性ポリマーの製造〕 Production of light oriented polymer]
式(A)で示される光配向性ポリマーを、Macromol. Chem. Phys. 197,1919-1935 (1996)に記載される方法で製造し、数平均分子量23000の重合体を得た。 Photoorientable polymer represented by the formula (A), Macromol. Chem. Phys. Prepared by the method described in 197,1919-1935 (1996), to obtain a polymer having a number average molecular weight 23000.

〔液晶組成物の調整〕 [Adjustment of the liquid crystal composition]
表1に記載される成分を混合して、液晶組成物(符号Eで表す。)を調整した。 By mixing the components described in Table 1, to prepare a liquid crystal composition (expressed by symbol E.).
重合性液晶化合物:LC242(BASF社製、下記式で表される化合物) Polymerizable liquid crystal compound: LC242 (BASF Corporation, represented by the following compound)
重合性開始剤:イルガキュア369(BASFジャパン社製) Polymerization initiator: Irgacure 369 (manufactured by BASF Japan Ltd.)
レベリング剤:BYK361N(ビックケミージャパン製) Leveling agent: BYK361N (manufactured by BYK Chemie Japan)
溶剤:PGMEA(プロピレングリコール1−モノメチルエーテル2−アセタート、東京化成工業(株)製) Solvent: PGMEA (propylene glycol 1-monomethyl ether 2-acetate, Tokyo Chemical Industry Co., Ltd.)

〔位相差層の作製〕 Preparation of retardation layer]
ガラス基板上に、SUS製の280μmの線幅のパターンが刻まれた図1に示すマスク1を置き、スプレーでインクを塗布して乾燥し、マスク1のパターンが転写されたパターン付きガラス基板を作製した。 On a glass substrate, placing a mask 1 shown in FIG. 1, a pattern of a line width of 280μm made of SUS engraved, ink is applied by drying with a spray, a patterned glass substrate onto which the pattern of the mask 1 is transferred It was produced. 得られたパターン付き基板のインクを塗布した面の反対の面に、偏光板(ヨウ素系偏光板;TRW842AP7;住友化学(株)製)を粘着剤を用いて貼合して偏光層55,63を形成した。 The ink of the resulting patterned substrate to the opposite surface of the surface coated with a polarizing plate (an iodine-based polarizing plate; TRW842AP7; Sumitomo Chemical Co., Ltd.) was pasted using an adhesive polarizing layer 55, 63 It was formed. 上記偏光層55,63上に式(A)で示される光配向性ポリマーの1質量%シクロペンタノン溶液を塗布し、乾燥して、厚さ200nmの膜を形成した。 1 wt% cyclopentanone solution of a photo-orientable polymer represented by the formula (A) on the polarizing layer 55 and 63 was coated and dried to form a film having a thickness of 200 nm. 次いで、得られた膜上に図1に示すマスク1を置き、ガラス基板面に対して垂直方向から、偏光UV照射冶具付きスポットキュア(SP−7、ウシオ電機(株)製)を用いて20mW/cm の強度で5分間、偏光層55,63の透過軸70aに対して45度の方向の直線偏光を照射した。 Then placed mask 1 shown in FIG. 1 on the resulting film, the direction perpendicular to the glass substrate surface, polarized UV irradiation jig with a spot-cured using a (SP-7, manufactured by Ushio Co.) 20 mW / intensity of cm 2 5 minutes, and irradiated with linearly polarized light in the direction of 45 degrees to the transmission axis 70a of the polarizing layer 55, 63. 次に、図1に示すマスク1を線幅の分だけ幅方向にずらし、第1の偏光UV未照射部とマスク1の空隙部2とが重なるように置き、第2の偏光UVを照射した。 Then, shifting to the amount corresponding width direction of the line width of the mask 1 shown in FIG. 1, placed such that the first and the polarized UV unirradiated portion and the gap portion 2 of the mask 1 overlap, and irradiated with second polarized UV . 第2の偏光UVは、20mW/cm の強度で5分間、偏光層55,63の透過軸70aに対して135度の方向の直線偏光を照射することによりパターン化配向膜56,64を形成した。 Second polarized UV may form a patterned alignment layer 56, 64 by irradiation for 5 minutes at an intensity of 20 mW / cm 2, the linearly polarized light in the direction of 135 degrees with respect to the transmission axis 70a of the polarizing layer 55, 63 did. マスク1を外したあと、上記パターン化配向膜56,64上に、液晶組成物Eをバーコーターを用いて塗布し、100℃に加熱し、液晶相に配向させた膜を得た。 After removing the mask 1, on the patterned alignment films 56 and 64, the liquid crystal composition E was coated using a bar coater, and heated to 100 ° C., to obtain a film has been oriented to a liquid crystal phase. その後、室温まで冷却した状態で紫外線をユニキュア(VB−15201BY−A、ウシオ電機(株)製)を用いて波長365nmにおいて40mW/cm の強度で1分間照射することにより、位相差層57,65を作製した。 Thereafter, by irradiation for 1 minute at an intensity of 40 mW / cm 2 at a wavelength of 365nm using a Yunikyua (VB-15201BY-A, manufactured by Ushio Inc.) with ultraviolet rays while cooling to room temperature, the retardation layer 57, to prepare a 65. 次いで、反射防止フィルム(大日本印刷(株)製)を位相差層57,65の上に貼合することで、パターン付きガラス基板、偏光層55,63、パターン化配向膜56,64、位相差層57,65及び反射防止層58,66が積層された積層体を得た。 Then, an antireflection film (Dai Nippon Printing Co., Ltd.) by bonding onto the retardation layer 57,65, a glass substrate with a pattern, polarizing layer 55, 63, the patterned alignment layer 56 and 64, position retardation layers 57,65 and an antireflection layer 58 and 66 to obtain a laminate that is laminated.

(実施例2) (Example 2)
〔位相差層の作製〕 Preparation of retardation layer]
実施例1と同様にして、パターン付きガラス基板を得、その上に偏光層55,63を形成した。 In the same manner as in Example 1, to obtain a patterned glass substrate to form a polarizing layer 55, 63 thereon. 上記偏光層55,63上にポリビニルアルコール(ポリビニルアルコール1000完全ケン化型、和光純薬工業(株)製)の2質量%水溶液を塗布し、乾燥後、厚さ89nmの膜を形成した。 The polarizing layer 55, 63 on the polyvinyl alcohol coated with 2% by weight aqueous solution of polyvinyl alcohol (1000 fully saponified, manufactured by Wako Pure Chemical Industries, Ltd.), dried to form a film having a thickness of 89 nm. 続いて、得られた膜の表面に第1のラビング処理を施した。 Subsequently, the surface of the film obtained were subjected to the first rubbing. 第1のラビング処理は、半自動ラビング装置(商品名:LQ−008型、常陽工学株式会社製)を用いて、布(商品名:YA−20−RW、吉川化工(株)製)によって、押し込み量0.15mm、回転数500rpm、16.7mm/sの条件で、マスクを介さず、偏光層55,63の透過軸70aに対して45度の方向に行った。 The first of rubbing treatment, semi-automatic rubbing apparatus (trade name: LQ-008 type, Joyo Engineering Co., Ltd.) using a cloth: by (trade name YA-20-RW, Yoshikawa made Kako Co., Ltd.), push the amount 0.15 mm, number of revolutions 500 rpm, under the conditions of 16.7 mm / s, without passing through the mask was carried out in the direction of 45 degrees to the transmission axis 70a of the polarizing layer 55, 63. 第1のラビング処理を施した面にSUS製の280μmの線幅のパターンを有する図1に示すマスク1を置き、偏光層55,63の透過軸70aの方向に対して135度の方向に、第2のラビング処理を施すことによりパターン化配向膜56,64を形成した。 The surface subjected to the first rubbing process puts the mask 1 shown in FIG. 1 having a pattern of a line width of 280μm made of SUS, in the direction of 135 degrees with respect to the direction of the transmission axis 70a of the polarizing layer 55, 63, the second rubbing process to form a patterned alignment layer 56, 64 by applying. 第2のラビング処理は、半自動ラビング装置(商品名:LQ−008型、常陽工学(株)製)を用いて、布(商品名:YA−20−RW、吉川化工(株)製)によって、押し込み量0.10mm、回転数500rpm、16.7mm/sの条件で行った。 The second of rubbing treatment, semi-automatic rubbing apparatus (trade name: LQ-008 type, Joyo Engineering Co., Ltd.) using a cloth: by (trade name YA-20-RW, Yoshikawa made Kako Co., Ltd.), push-in amount 0.10 mm, rotation speed 500 rpm, was carried out under the conditions of 16.7 mm / s. マスク1を外したあと、上記パターン化配向膜56,64上に、液晶組成物Eをバーコーターを用いて塗布し、100℃に加熱し、液晶相に配向させた膜を得た。 After removing the mask 1, on the patterned alignment films 56 and 64, the liquid crystal composition E was coated using a bar coater, and heated to 100 ° C., to obtain a film has been oriented to a liquid crystal phase. その後、室温まで冷却した状態で紫外線をユニキュア(VB−15201BY−A、ウシオ電機(株)製)を用いて波長365nmにおいて40mW/cm の強度で1分間照射した。 Then irradiated for 1 minute at an intensity of 40 mW / cm 2 of ultraviolet cooled state Yunikyua at a wavelength 365nm using (VB-15201BY-A, manufactured by Ushio Co.) to room temperature. これにより、位相差層57,65を作製した。 Thus, to prepare a retardation layer 57,65. 次いで、反射防止フィルム(大日本印刷(株)製)を位相差層57,65の上に貼合することで、パターン付きガラス基板、偏光層55,63、パターン化配向膜56,64、位相差層57,65及び反射防止層58,66が積層された積層体を得た。 Then, an antireflection film (Dai Nippon Printing Co., Ltd.) by bonding onto the retardation layer 57,65, a glass substrate with a pattern, polarizing layer 55, 63, the patterned alignment layer 56 and 64, position retardation layers 57,65 and an antireflection layer 58 and 66 to obtain a laminate that is laminated.

(実施例3) (Example 3)
第2のラビング処理の条件を、押し込み量0.10mm、回転数500rpm、8.35mm/sに変更したこと以外は、実施例1と同様にして、パターン付きガラス基板、偏光層55,63、パターン化配向膜56,64、位相差層57,65及び反射防止層58,66が積層された積層体を得た。 The conditions of the second rubbing process, the pressing amount 0.10 mm, number of revolutions 500 rpm, was changed to 8.35 mm / s, in the same manner as in Example 1, a glass substrate with a pattern, the polarization layer 55, 63, patterned alignment layer 56 and 64, the retardation layer 57,65 and an antireflection layer 58 and 66 to obtain a laminate that is laminated.

<光学特性の測定> <Measurement of optical properties>
上記で得られた積層体について、位相差層57,65の位相差値(nm)と配向角とを測定機(KOBRA−WPR、王子計測機器社製)で測定した。 For laminate obtained above was measured and the phase difference value of the retardation layer 57,65 and (nm) orientation angle measuring instrument (KOBRA-WPR, manufactured by Oji Scientific Instruments). 位相差層57,65中の液晶性成分の配向角と波長549nmにおける位相差値(リタデーション値)Re(nm)の測定結果を表2に示す。 Retardation value in the orientation angle and wavelength 549nm of liquid components in the phase difference layer 57,65 The measurement results of (retardation value) Re (nm) shown in Table 2. 例えば図5中に示した位相差層57,65の位相差領域71Aと位相差領域71Bとにおいて配向角が異なる場合、互いに異なる遅相軸の方向を有する領域であることを意味する。 For example, when the orientation angle in the retardation region 71A of the retardation layer 57,65 shown in FIG. 5 and the retardation region 71B are different, each represent the region having a direction different slow axis from each other. また、表2中の配向角は、偏光層55,63の透過軸70aの方向を0度としているため、配向角が略45度又は略135度を示す。 Also, the orientation angle in Table 2, since the direction of the transmission axis 70a of the polarizing layer 55, 63 and 0 degrees, orientation angle indicates 45 degrees or approximately 135 degrees approximately. 位相差値Reがλ/4(即ち135nm)に近いほど、偏光層55,63と位相差層57,65とを通過する自然光が、より円偏光に近い光に変換される。 Higher retardation value Re is close to lambda / 4 (i.e. 135 nm), natural light passing through the polarization layer 55 and 63 and the retardation layer 57,65 is converted into light closer to circularly polarized light. 配向角が45度であれば、出射側から位相差層57,65をみて左向きに回転する円偏光(左円偏光)を示し、135度であれば右向きに回転する円偏光(右円偏光)を示す。 If the orientation angle of 45 degrees, circular polarization to turn left from the exit side viewed retardation layer 57,65 shown (left circularly polarized light), circular polarized light to turn right if 135 degrees (right circularly polarized light) It is shown.

<位置ずれの測定> <Measurement of the positional deviation>
形成された位相差層57,65のパターンとガラス基板にインクで形成されたパターンとのずれを、偏光顕微鏡(BX51、オリンパス株式会社製)を用いて計測した。 The deviation between the pattern formed on the glass substrate of the retardation layer 57,65 is formed with the ink pattern, polarization microscope (BX51, Olympus Co., Ltd.) was measured using a. 基板にマスク1を載せた状態でのパターン領域の境界線と、液晶化合物の配向角が変わる境界線との位置ずれを計測した結果を表3に示す。 And border of the pattern area in a state carrying the mask 1 on the substrate, the result of the positional deviation is measured with the orientation angle is changed boundary of the liquid crystal compounds shown in Table 3.

(実施例4) (Example 4)
〔液晶表示装置の作製〕 [Production of Liquid Crystal Display Device]
液晶表示素子が形成された表示素子基板54(図4参照)の光出射側に、粘着剤を用いて偏光板を貼合して偏光層55を形成する。 On the light emitting side of the display device substrate 54 where the liquid crystal display element is formed (see FIG. 4), to form a combined and polarization layer 55 adhered the polarizing plate using an adhesive. 続いて、上記液晶表示素子の画素と同じ幅のストライプパターンが形成されているマスク1を用い、かつ上記画素の配列と配向膜56に形成されるパターンとが一致するようにマスク1を設置する以外は、実施例1と同様の方法でパターン化配向膜56を形成する。 Subsequently, using a mask 1, stripe pattern having the same width as the pixel of the liquid crystal display element is formed, and placing the mask 1 so that the pattern formed on the alignment film 56 and the sequence of the pixels are identical Otherwise, to form a patterned alignment layer 56 in the same manner as in example 1. マスク1を外したあと、上記パターン化配向膜56上に、液晶組成物Eをスリットコーターを用いて位相差値が135nmとなるような膜厚に塗布し、100℃に加熱することで、液晶相に配向させた膜を得る。 After removing the mask 1, on the patterned alignment layer 56, by a retardation value of the liquid crystal composition E with slit coater was applied in a film thickness such that 135 nm, heated to 100 ° C., the liquid crystal obtain a film was oriented in phase. その後、室温まで冷却した状態で実施例1と同様の条件で紫外線を照射し、位相差層57を形成する。 Thereafter, it was irradiated with ultraviolet rays under the same conditions as in Example 1 while cooling to room temperature, to form the retardation layer 57. 次いで、反射防止フィルム(大日本印刷(株)製)を位相差層57の上に貼合することで、液晶表示素子基板54、偏光層55、パターン化配向膜56、位相差層57及び反射防止層58が積層された液晶表示装置51Bを得る。 Then, an antireflection film by laminating (Dai Nippon Printing Co., Ltd.) on the retardation layer 57, the liquid crystal display element substrate 54, a polarizing layer 55, the patterned alignment layer 56, the retardation layer 57 and the reflective prevention layer 58 to obtain a liquid crystal display device 51B stacked.

このようにして作製された液晶表示装置51Bでは、遅相軸の方向が異なる2つの位相差領域71A,71Bを有する位相差層57において、上記位相差領域71A,71Bから出射する光がそれぞれ左円偏光、右円偏光であることが確認できる。 In this manner, the liquid crystal display device was manufactured 51B, 2 two retardation region 71A where the direction of the slow axis is different, in the retardation layer 57 having a 71B, left the retardation region 71A, the light emitted from 71B respectively circularly polarized light, it can be confirmed that a right circularly polarized light. また、上記位相差領域71A,71Bと画素A1,A2,…;B1,B2,…との位置ずれは10μm未満である。 Further, the retardation regions 71A, 71B and the pixel A1, A2, ...; positional deviation of the B1, B2, ... and is less than 10 [mu] m.

(実施例5) (Example 5)
〔有機EL表示装置の作製〕 Preparation of the organic EL display device]
有機EL表示素子が形成された表示素子基板62(図7参照)の光出射側に、偏光板を粘着剤を用いて貼合して偏光層63を形成する。 On the light emitting side of the display device substrate 62 of the organic EL display element is formed (see FIG. 7), to form a polarizing layer 63 pasted with the polarizing plate using an adhesive. 続いて、上記有機EL表示素子の画素と同じ幅のストライプパターンが形成されているマスク1を用い、かつ上記画素の配列と配向膜64に形成されるパターンとが一致するようにマスク1を設置する以外は、実施例1と同様の方法でパターン化配向膜64を形成する。 Subsequently, using a mask 1, stripe pattern having the same width as the pixel of the organic EL display element is formed, and the mask 1 so that the pattern formed on the array and the orientation film 64 of the pixel matches the installation except that forms a patterned alignment layer 64 in the same manner as in example 1. マスク1を外したあと、上記パターン化配向膜64上に、液晶組成物Eをスリットコーターを用いて位相差値が135nmとなるような膜厚に塗布し、100℃に加熱することで、液晶相に配向させた膜を得る。 After removing the mask 1, on the patterned alignment layer 64, by a retardation value of the liquid crystal composition E with slit coater was applied in a film thickness such that 135 nm, heated to 100 ° C., the liquid crystal obtain a film was oriented in phase. その後、室温まで冷却した状態で実施例1と同様の条件で紫外線を照射し、位相差層65を形成する。 Thereafter, it was irradiated with ultraviolet rays under the same conditions as in Example 1 while cooling to room temperature, to form the retardation layer 65. 次いで、反射防止フィルム(大日本印刷(株)製)を位相差層65の上に貼合することで、有機EL表示素子が形成された表示素子基板62、偏光層63、パターン化配向膜64、位相差層65及び反射防止層66が積層された有機EL表示装置を得る。 Then, an antireflection film (Dai Nippon Printing Ltd. Co.) by bonding onto the retardation layer 65, the display device substrate 62 of the organic EL display element is formed, a polarizing layer 63, the patterned alignment layer 64 to obtain an organic EL display device in which the phase difference layer 65 and the antireflection layer 66 are stacked.

このようにして作製された有機EL表示装置では、遅相軸の方向が異なる2つの位相差領域71A,71Bを有する位相差層65において、上記位相差領域71A,71Bから出射する光がそれぞれ左円偏光、右円偏光であることが確認できる。 In such organic EL display device manufactured in the slow axis direction are two different retardation region 71A, in the phase difference layer 65 having 71B, left the retardation region 71A, the light emitted from 71B respectively circularly polarized light, it can be confirmed that a right circularly polarized light. また、上記位相差領域71A,71Bと画素との位置ずれは10μm未満である。 Further, the retardation region 71A, the misalignment between 71B and the pixel is less than 10 [mu] m.

(実施例6) (Example 6)
〔プラズマディスプレイの作製〕 Preparation of plasma display]
プラズマ表示素子が形成された表示素子基板62(図7参照)の光出射側に、偏光板を粘着剤を用いて貼合して偏光層63を形成する。 On the light emitting side of the display device substrate 62 in which the plasma display devices are formed (see FIG. 7), to form a polarizing layer 63 pasted with the polarizing plate using an adhesive. 実施例1記載の光配向性ポリマーの1wt%シクロペンタノン溶液を塗布する。 The 1 wt% cyclopentanone solution of a photo-orientable polymer of Example 1 according to the coating. 続いて、上記プラズマ表示素子が有する画素と同じ幅のストライプパターンが形成されているマスク1を用い、かつ上記画素の配列と配向膜64に形成されるパターンとが一致するようにマスク1を設置する以外は、実施例1と同様の方法でパターン化配向膜64を形成する。 Subsequently, the mask 1 so that with the mask 1 stripe pattern having the same width as the pixel in which the plasma display device has is formed, and is a pattern formed on the array and the orientation film 64 of the pixel matching installation except that forms a patterned alignment layer 64 in the same manner as in example 1. マスク1を外したあと、上記パターン化配向膜64上に、液晶組成物Eをスリットコーターを用いて位相差値が135nmとなるような膜厚に塗布し、100℃に加熱することで、液晶相に配向させた膜を得る。 After removing the mask 1, on the patterned alignment layer 64, by a retardation value of the liquid crystal composition E with slit coater was applied in a film thickness such that 135 nm, heated to 100 ° C., the liquid crystal obtain a film was oriented in phase. その後、室温まで冷却した状態で実施例1と同様の条件で紫外線を照射し、位相差層65を形成する。 Thereafter, it was irradiated with ultraviolet rays under the same conditions as in Example 1 while cooling to room temperature, to form the retardation layer 65. 次いで、反射防止フィルム(大日本印刷(株)製)を位相差層65の上に貼合することで、プラズマ表示素子が形成された表示素子基板62、偏光層63、パターン化配向膜64、位相差層65及び反射防止層66が積層されたプラズマディスプレイを得る。 Then, an antireflection film (Dai Nippon Printing Ltd. Co.) by bonding onto the retardation layer 65, the display device substrate 62 in which the plasma display device is formed, a polarizing layer 63, the patterned alignment layer 64, obtaining a plasma display retardation layer 65 and the antireflection layer 66 are stacked.

このようにして作製されたプラズマディスプレイでは、遅相軸の方向が異なる2つの位相差領域71A,71Bを有する位相差層65において、上記位相差領域71A,71Bから出射する光がそれぞれ左円偏光、右円偏光であることが確認できる。 In such a plasma display which have been fabricated in a slow axis direction are two different retardation region 71A, in the phase difference layer 65 having 71B, the retardation region 71A, the light is respectively left-handed circularly polarized light emitted from 71B , it can be confirmed that a right circularly polarized light. また、上記位相差領域71A,71Bと画素との位置ずれは10μm未満である。 Further, the retardation region 71A, the misalignment between 71B and the pixel is less than 10 [mu] m.

(実施例7) (Example 7)
〔電界放出表示装置の作製〕 Preparation of a field emission display device]
電界放出表示素子が形成された表示素子基板62(図7参照)の光出射側に、偏光板を粘着剤を用いて貼合して偏光層63を形成する。 On the light emitting side of the display device substrate 62 field emission display devices are formed (see FIG. 7), to form a polarizing layer 63 pasted with the polarizing plate using an adhesive. 実施例1記載の光配向性ポリマーの1wt%シクロペンタノン溶液を塗布する。 The 1 wt% cyclopentanone solution of a photo-orientable polymer of Example 1 according to the coating. 次に、上記電界放出素子の画素と同じ幅のストライプパターンが形成されているマスク1を用い、かつ上記画素の配列と配向膜64に形成されるパターンとが一致するようにマスク1を設置する以外は、実施例1と同様の方法でパターン化配向膜64を形成する。 Next, using the mask 1 stripe pattern having the same width as the pixel of the field emission devices are formed, and placing the mask 1 so that the pattern formed on the alignment film 64 and the sequence of the pixels are identical Otherwise, to form a patterned alignment layer 64 in the same manner as in example 1. マスク1を外したあと、上記パターン化配向膜64上に、液晶組成物Eをスリットコーターを用いて位相差値が135nmとなるような膜厚に塗布し、100℃に加熱することで、液晶相に配向させた膜を得る。 After removing the mask 1, on the patterned alignment layer 64, by a retardation value of the liquid crystal composition E with slit coater was applied in a film thickness such that 135 nm, heated to 100 ° C., the liquid crystal obtain a film was oriented in phase. その後、室温まで冷却した状態で実施例1と同様の条件で紫外線を照射し、位相差層65を形成する。 Thereafter, it was irradiated with ultraviolet rays under the same conditions as in Example 1 while cooling to room temperature, to form the retardation layer 65. 次いで、反射防止フィルム(大日本印刷(株)製)を位相差層65の上に貼合することで、電界放出表示素子が形成された表示素子基板62、偏光層63、パターン化配向膜64、位相差層65及び反射防止層66が積層された電界放出表示装置を得る。 Then, an antireflection film (Dai Nippon Printing Ltd. Co.) by bonding onto the retardation layer 65, the display device substrate 62 field emission display element is formed, a polarizing layer 63, the patterned alignment layer 64 to obtain a field emission display device in which the phase difference layer 65 and the antireflection layer 66 are stacked.

このようにして作製された電界放出表示装置では、遅相軸の方向が異なる2つの位相差領域71A,71Bを有する位相差層65において、上記位相差領域71A,71Bから出射する光がそれぞれ左円偏光、右円偏光であることが確認できる。 In this field emission display device fabricated in the slow axis direction are two different retardation region 71A, in the phase difference layer 65 having 71B, left the retardation region 71A, the light emitted from 71B respectively circularly polarized light, it can be confirmed that a right circularly polarized light. また、上記位相差領域71A,71Bと画素との位置ずれは10μm未満である。 Further, the retardation region 71A, the misalignment between 71B and the pixel is less than 10 [mu] m.

(実施例8) (Example 8)
〔表面伝導型電子放出素子を有する表示装置の作製〕 Preparation of a display device having a surface conduction electron-emitting device]
表面伝導型電子放出表示素子が形成された表示素子基板62(図7参照)の光出射側に、偏光板を粘着剤を用いて貼合して偏光層63を形成する。 On the light emitting side of the display device substrate 62 surface conduction electron-emitting display devices are formed (see FIG. 7), to form a polarizing layer 63 pasted with the polarizing plate using an adhesive. 次に、上記表面伝導型電子放出表示素子の画素と同じ幅のストライプパターンが形成されているマスク1を用い、かつ上記画素の配列と配向膜64に形成されるパターンとが一致するようにマスク1を設置する以外は、実施例1と同様の方法でパターン化配向膜64を形成する。 Next, a mask such that the pattern stripes of the same width as the pixel of the surface conduction type electron emission display device using the mask 1 is formed, and is formed on the alignment film 64 and the sequence of the pixels are identical except installing a 1 forms a patterned alignment layer 64 in the same manner as in example 1. マスク1を外したあと、上記パターン化配向膜64上に、液晶組成物Eをスリットコーターを用いて位相差値が135nmとなるような膜厚に塗布し、100℃に加熱することで、液晶相に配向させた膜を得る。 After removing the mask 1, on the patterned alignment layer 64, by a retardation value of the liquid crystal composition E with slit coater was applied in a film thickness such that 135 nm, heated to 100 ° C., the liquid crystal obtain a film was oriented in phase. その後、室温まで冷却した状態で実施例1と同様の条件で紫外線を照射し、位相差層65を形成する。 Thereafter, it was irradiated with ultraviolet rays under the same conditions as in Example 1 while cooling to room temperature, to form the retardation layer 65. 次いで、反射防止フィルム(大日本印刷(株)製)を位相差層65の上に貼合することで、表面伝導型電子放出表示素子が形成された表示素子基板62、偏光層63、パターン化配向膜64、位相差層65及び反射防止層66が積層された表面伝導型電子放出素子を有する表示装置を得る。 Then, an antireflection film by laminating (Dai Nippon Printing Co., Ltd.) on the retardation layer 65, the display device substrate 62 surface conduction electron-emitting display devices are formed, a polarizing layer 63, patterned the alignment film 64, the retardation layer 65 and an antireflection layer 66 to obtain a display device having a surface conduction electron-emitting devices stacked.

このようにして作製された表面伝導型電子放出素子を有する表示装置では、遅相軸の方向が異なる2つの位相差領域71A,71Bを有する位相差層65において、上記位相差領域71A,71Bから出射する光がそれぞれ左円偏光、右円偏光であることが確認できる。 In the display device having the thus prepared surface conduction electron-emitting devices, two retardation region 71A where the direction of the slow axis is different in the phase difference layer 65 having 71B, the retardation region 71A, the 71B the emitted light is left circularly polarized light respectively, it can be confirmed that a right circularly polarized light. また、上記位相差領域71A,71Bと画素との位置ずれは10μm未満である。 Further, the retardation region 71A, the misalignment between 71B and the pixel is less than 10 [mu] m.

(実施例9) (Example 9)
〔電子ペーパーの作製〕 Preparation of electronic paper]
出射する光が非偏光である、電子ペーパー構成する表示素子基板62(図7参照)をガラス板上に載せ、上記表示素子基板の光出射側に粘着剤を用いて偏光板を貼合する。 The emitted light is unpolarized, the display device substrate 62 to the electronic paper structure (see FIG. 7) placed on a glass plate, laminating a polarizing plate with an adhesive on the light emitting side of the display device substrate. 続いて、次に、電子ペーパー表示素子の画素と同じ幅のストライプパターンが形成されているマスク1を用い、かつ上記画素の配列と配向膜64に形成されるパターンとが一致するようにマスク1を設置する以外は、実施例1と同様の方法でパターン化配向膜64を形成する。 Subsequently, then, the mask so that the pattern matches the stripes of the same width as the pixel of the electronic paper display device using a mask 1 formed, and is formed on the alignment film 64 and the arrangement of the pixel 1 except for installing form a patterned alignment layer 64 in the same manner as in example 1. マスク1を外したあと、上記パターン化配向膜64上に、液晶組成物Eをスリットコーターを用いて位相差値が135nmとなるような膜厚に塗布し、100℃に加熱することで、液晶相に配向させた膜を得る。 After removing the mask 1, on the patterned alignment layer 64, by a retardation value of the liquid crystal composition E with slit coater was applied in a film thickness such that 135 nm, heated to 100 ° C., the liquid crystal obtain a film was oriented in phase. その後、室温まで冷却した状態で実施例1と同様の条件で紫外線を照射し、位相差層65を形成する。 Thereafter, it was irradiated with ultraviolet rays under the same conditions as in Example 1 while cooling to room temperature, to form the retardation layer 65. 次いで、反射防止フィルム(大日本印刷(株)製)を位相差層65の上に貼合し、保持のために用いたガラス基板を剥離することで、表示素子基板62、偏光層63、パターン化配向膜64、位相差層65及び反射防止層66が積層された電子ペーパーを得る。 Then, an antireflection film (Dai Nippon Printing Co., Ltd.) pasted on the phase difference layer 65, by peeling off the glass substrate used for holding the display device substrate 62, a polarizing layer 63, the pattern of the alignment film 64, to obtain an electronic paper retardation layer 65 and the antireflection layer 66 are stacked.

このようにして作製された電子ペーパーでは、遅相軸の方向が異なる2つの位相差領域71A,71Bを有する位相差層65において、上記位相差領域71A,71Bから出射する光がそれぞれ左円偏光、右円偏光であることが確認できる。 The electronic paper is fabricated in this manner, the slow axis direction is different from the two retardation region 71A, in the phase difference layer 65 having 71B, the retardation region 71A, the light is respectively left-handed circularly polarized light emitted from 71B , it can be confirmed that a right circularly polarized light. また、上記位相差領域71A,71Bと画素との位置ずれは10μm未満である。 Further, the retardation region 71A, the misalignment between 71B and the pixel is less than 10 [mu] m.

本発明の表示装置の製造方法は、様々なタイプの表示装置、特に立体的に画像を表示可能な表示装置を製造するのに適用され得る。 Method of manufacturing a display device of the present invention, various types of display devices may be particularly sterically applied to produce viewable display image.

1 マスク 2 空隙部 3 実部 51A,51B 液晶表示装置 52 バックライト 53 偏光板 54,62 表示素子基板 55,63 偏光層 56,64 配向膜 57,65 位相差層 58,66 反射防止層 61 表示装置 70a 透過軸 71A,71B 位相差領域 71a,71b 遅相軸 1 mask 2 void 3 the real part 51A, 51B liquid crystal display device 52 backlight 53 polarizing plate 54 and 62 display element substrate 55, 63 polarization layer 56, 64 alignment film 57,65 retardation layer 58, 66 an anti-reflection layer 61 display device 70a transmission axis 71A, 71B retardation regions 71a, 71b slow axis

Claims (6)

  1. 主面に沿って配列された複数の画素を有する表示素子基板と、上記表示素子基板の光出射側に配置され、上記主面に沿った特定方向の透過軸をもつ偏光層と、上記偏光層の光出射側に配置され、上記主面に沿って、上記透過軸に対して互いに異なる角度で交差する遅相軸をもつ複数の位相差領域を有する位相差層とを備えた表示装置を製造する表示装置の製造方法であって、 A display element substrate having a plurality of pixels arranged along the main surface, is disposed on the light emitting side of the display device substrate, and a polarizing layer having a transmission axis of a specific direction along the main surface, the polarizing layer disposed in the light emitting side, along the main surface, producing a display device provided with a retardation layer having a plurality of phase difference regions with slow axes that intersect at different angles with respect to the transmission axis a manufacturing method of a display device,
    次の工程(1)乃至(4)を含むことを特徴とする表示装置の製造方法。 Method for manufacturing a display device which comprises the following steps of (1) to (4).
    (1)上記表示素子基板の上記光出射側に、上記主面に沿って上記偏光層を形成する工程(2)上記工程(1)で形成された上記偏光層上で、上記表示素子基板の上記複数の画素の配列に対応した位置に、上記位相差層の材料となる液晶組成物の液晶性成分を上記遅相軸の方向に応じた互いに異なる配向方向に配列させる機能をもつ複数のパターン領域を有する配向膜を形成する工程(3)上記工程(2)で形成された上記配向膜上に重合性液晶化合物を含む液晶組成物を塗布して塗布膜を形成し、この塗布膜を上記液晶組成物の液晶性成分が液晶相を示す温度に保持して、上記配向膜の上記複数のパターン領域に対応する領域毎に、上記液晶性成分を互いに異なる配向方向に配列させる工程(4)上記工程(3)で形成された上記液晶性 (1) in the light-emitting side of the display element substrate, the step (2) forming the polarizing layer along the main surface in the step (1) the polarizing layer formed by, of the display device substrate at positions corresponding to the arrangement of the plurality of pixels, a plurality of patterns having a function of aligning a liquid crystalline component in a different alignment direction from each other depending on the direction of the slow axis of the liquid crystal composition serving as a material for the retardation layer on the alignment film formed in the step (3) above step (2) to form an alignment film having a region, by applying a liquid crystal composition to form a coating film containing a polymerizable liquid crystal compound, the coating film a liquid crystal component in the liquid crystal composition is held at a temperature showing a liquid crystal phase, for each region corresponding to the plurality of pattern regions of the alignment film, the step for arranging the different orientation direction of the liquid crystalline components (4 ) the liquid crystalline formed in the above step (3) 分をなす重合性液晶化合物を、上記配向方向を保持しながら重合させることにより、上記複数の位相差領域を有する上記位相差層を形成する工程 The polymerizable liquid crystal compound forming a minute, by polymerizing while maintaining the oriented direction, the step of forming the retardation layer having the plurality of retardation region
  2. 請求項1に記載の表示装置の製造方法において、 The method of manufacturing a display device according to claim 1,
    上記主面に沿った方向に関して、上記位相差層の上記複数の位相差領域の形状及び大きさが、それぞれ上記表示素子基板の複数の画素の配列の形状及び大きさと一致していることを特徴とする表示装置の製造方法。 In the direction along the main surface, characterized in that the shape and size of the plurality of retardation region of the retardation layer, respectively match the shape and size of the array of pixels of the display element substrate method of manufacturing a display device according to.
  3. 請求項1又は2に記載の表示装置の製造方法において、 The method of manufacturing a display device according to claim 1 or 2,
    上記工程(2)は次の工程(2a)乃至(2c)を含むことを特徴とする表示装置の製造方法。 Method for manufacturing a display device the step (2) is characterized in that it comprises the following steps (2a) to (2c).
    (2a)光配向性ポリマーを含む溶液を上記偏光層上に塗布して光配向性ポリマー膜を形成する工程(2b)上記工程(2a)で形成された上記光配向性ポリマー膜に、上記複数のパターン領域のうちの第1のパターン領域に対応した空隙部を有する第1のマスクを介して、第1の偏光方向を有する第1の偏光を照射して、上記第1のパターン領域の配向規制力の方向を上記第1の偏光方向に対応させる工程(2c)上記第1の偏光が照射された上記光配向性ポリマー膜の、上記第1のパターン領域とは異なる第2のパターン領域に、上記第2のパターン領域に対応した空隙部を有する第2のマスクを介して、上記第1の偏光方向とは異なる第2の偏光方向を有する第2の偏光を照射して、上記第2のパターン領域の配向規制力の方向を上記 (2a) to the optical alignment polymer film solution formed in step (2b) above step (2a) to form a photo-orientable polymer film was applied to the polarizing layer comprising a photo-orientable polymer, said plurality through the first first mask having a gap portion corresponding to the pattern area of ​​the pattern area is irradiated with the first polarized light having a first polarization direction, the orientation of the first pattern area the direction of the regulating force of the first step to correspond to the polarization direction (2c) of the first polarized light is irradiated said light oriented polymer film, the second pattern area different from the first pattern area , through a second mask having a gap portion corresponding to the second pattern region, and the first polarization direction is irradiated with a second polarized light having a second different polarization direction, the second above the direction of the alignment regulating force of the pattern area of 2の偏光方向に対応させる工程 Step to correspond to the second polarization direction
  4. 請求項1又は2に記載の表示装置の製造方法において、 The method of manufacturing a display device according to claim 1 or 2,
    上記工程(2)は次の工程(2f)乃至(2h)を含むことを特徴とする表示装置の製造方法。 Method for manufacturing a display device the step (2) is characterized in that it comprises the following step (2f) to (2h).
    (2f)配向性ポリマーを含む溶液を上記偏光層上に塗布して配向性ポリマー膜を形成する工程(2g)上記工程(2f)で形成された上記配向性ポリマー膜の、上記光出射側の表面に、第1のラビング処理方向に沿って第1のラビング処理を行って、上記光出射側の表面の配向規制力の方向を上記第1のラビング処理方向に対応させる工程(2h)上記工程(2g)により第1のラビング処理が行われた上記配向性ポリマー膜に、上記第2のパターン領域に対応した空隙部を有するマスクを介して、上記第1のラビング処理方向とは異なる第2のラビング処理方向に沿って第2のラビング処理を行って、上記第2のパターン領域の配向規制力の方向を変化させて上記第2のラビング処理方向に対応させる工程 (2f) A solution containing an oriented polymer of the oriented polymer film formed in the step (2 g) the step (2f) to form an oriented polymer film is coated on the polarizing layer, the light emission side on the surface, by performing a first rubbing along a first rubbing direction, step (2h) the step of the orientation of the alignment regulating force of the light emitting side of the surface to correspond to the first rubbing direction in the alignment polymer film first rubbing treatment is performed by (2 g), through a mask having a gap portion corresponding to the second pattern area, different from the second and the first rubbing direction step of second rubbing in the rubbing treatment direction conducted, the changing the direction of the orientation regulating force of the second pattern regions to correspond to the second rubbing direction
  5. 請求項1から4までのいずれか一つに記載の表示装置の製造方法において、さらに、 The method of manufacturing a display device according to any one of claims 1 to 4, further
    上記位相差層の上記光出射側に、外光の反射を防ぐ反射防止層を形成する工程を含むことを特徴とする表示装置の製造方法。 In the light emission side of the retardation layer, manufacturing method of a display apparatus which comprises a step of forming an anti-reflection layer for preventing reflection of external light.
  6. 請求項1から5までのいずれか一つに記載の表示装置の製造方法において、 The method of manufacturing a display device according to any one of claims 1 to 5,
    上記表示素子基板の上記複数の画素は液晶表示素子を構成していることを特徴とする表示装置の製造方法。 Method for manufacturing a display device the plurality of pixels of the display device substrate, characterized by constituting the liquid crystal display device.
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