JP5544553B2 - Process for producing pyripyropene derivative and its intermediate - Google Patents

Process for producing pyripyropene derivative and its intermediate Download PDF

Info

Publication number
JP5544553B2
JP5544553B2 JP2009528134A JP2009528134A JP5544553B2 JP 5544553 B2 JP5544553 B2 JP 5544553B2 JP 2009528134 A JP2009528134 A JP 2009528134A JP 2009528134 A JP2009528134 A JP 2009528134A JP 5544553 B2 JP5544553 B2 JP 5544553B2
Authority
JP
Japan
Prior art keywords
group
compound
formula
following formula
acetyl
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Active
Application number
JP2009528134A
Other languages
Japanese (ja)
Other versions
JPWO2009022702A1 (en
Inventor
公彦 後藤
一美 山本
政世 坂井
正明 三冨
孝 安藤
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
BASF SE
Original Assignee
BASF SE
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by BASF SE filed Critical BASF SE
Priority to JP2009528134A priority Critical patent/JP5544553B2/en
Publication of JPWO2009022702A1 publication Critical patent/JPWO2009022702A1/en
Application granted granted Critical
Publication of JP5544553B2 publication Critical patent/JP5544553B2/en
Active legal-status Critical Current
Anticipated expiration legal-status Critical

Links

Classifications

    • CCHEMISTRY; METALLURGY
    • C07ORGANIC CHEMISTRY
    • C07DHETEROCYCLIC COMPOUNDS
    • C07D493/00Heterocyclic compounds containing oxygen atoms as the only ring hetero atoms in the condensed system
    • C07D493/02Heterocyclic compounds containing oxygen atoms as the only ring hetero atoms in the condensed system in which the condensed system contains two hetero rings
    • C07D493/04Ortho-condensed systems
    • YGENERAL TAGGING OF NEW TECHNOLOGICAL DEVELOPMENTS; GENERAL TAGGING OF CROSS-SECTIONAL TECHNOLOGIES SPANNING OVER SEVERAL SECTIONS OF THE IPC; TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC CROSS-REFERENCE ART COLLECTIONS [XRACs] AND DIGESTS
    • Y02TECHNOLOGIES OR APPLICATIONS FOR MITIGATION OR ADAPTATION AGAINST CLIMATE CHANGE
    • Y02PCLIMATE CHANGE MITIGATION TECHNOLOGIES IN THE PRODUCTION OR PROCESSING OF GOODS
    • Y02P20/00Technologies relating to chemical industry
    • Y02P20/50Improvements relating to the production of bulk chemicals
    • Y02P20/55Design of synthesis routes, e.g. reducing the use of auxiliary or protecting groups

Description

関連出願の参照Reference to related applications

本特許出願は、先に出願された日本国における特許出願である特願2007−210804号(出願日:2007年8月13日)に基づく優先権の主張を伴うものである。この先の特許出願における全開示内容は、引用することにより本明細書の一部とされる。   This patent application is accompanied by a priority claim based on Japanese Patent Application No. 2007-210804 (application date: August 13, 2007) which is a previously filed Japanese patent application. The entire disclosure of this earlier patent application is hereby incorporated by reference.

発明の背景Background of the Invention

技術分野
本発明は、害虫防除剤として有用なピリピロペン誘導体の製造法に関するものであり、より詳細には、1位および11位にアシルオキシ基を有し、7位に水酸基を有するピリピロペン誘導体の製造法に関するものである。
TECHNICAL FIELD The present invention relates to a method for producing a pyripyropene derivative useful as a pest control agent, and more specifically, a method for producing a pyripyropene derivative having acyloxy groups at positions 1 and 11 and a hydroxyl group at position 7. It is about.

背景技術
1位および11位にアシルオキシ基を有し、7位が水酸基であるピリピロペン誘導体は、WO2006/129714に記載されるように、害虫に対して防除効果を示す化合物である。
BACKGROUND ART A pyripyropene derivative having an acyloxy group at the 1st and 11th positions and a hydroxyl group at the 7th position is a compound having a controlling effect against pests as described in WO2006 / 129714.

1位および11位にアシルオキシ基を有し、7位が水酸基であるピリピロペン誘導体の製造法としては、WO2006/129714および特開平8−259569号公報に、1,7,11−トリアシルオキシ体を原料とした非選択的なアシルオキシ基の加水分解によって生じる複数の生成物から精製または単離する方法が開示されている。しかし、この方法は低収率であり、大量合成に適用できないなどの問題がある。   As a method for producing a pyripyropene derivative having an acyloxy group at the 1-position and the 11-position and a hydroxyl group at the 7-position, WO2006 / 129714 and JP-A-8-2559569 are prepared using 1,7,11-triacyloxy derivatives as raw materials. A method for purifying or isolating from a plurality of products resulting from hydrolysis of a non-selective acyloxy group is disclosed. However, this method has a low yield and has a problem that it cannot be applied to mass synthesis.

また、特開平8−259569号公報には、ピリピロペン誘導体の合成に保護基を組み合わせて用いることが記載されており、Journal of Antibiotics 49巻11号1149頁1996年、Bioorganic Medicinal Chemistry Letter 5巻22号2683頁1995年、特開平8−269065号公報、およびWO2008/013336には、保護基を利用して7位にアシル基を導入した合成例が開示されている。しかし、1位および11位にアシルオキシ基を有し、7位が水酸基であるピリピロペン誘導体の製造に保護基を利用する具体的な方法は開示されていない。   Japanese Patent Application Laid-Open No. 8-259569 describes the use of a protecting group in combination with the synthesis of a pyripyropene derivative. Journal of Antibiotics 49 11 11 11996, Bioorganic Medicinal Chemistry Letter 5 22 On page 2683, 1995, JP-A-8-269065 and WO2008 / 013336 disclose synthesis examples in which an acyl group is introduced at the 7-position using a protecting group. However, a specific method using a protecting group for the production of a pyripyropene derivative having an acyloxy group at the 1-position and the 11-position and a hydroxyl group at the 7-position is not disclosed.

発明の概要Summary of the Invention

本発明者らは、適当な保護基を用いることによって、天然物として得られるピリピロペンA物質(特開平8−259569号公報;Bioorganic Medicinal Chemistry Letter 5巻22号2683頁1995年;WO2004/060065)から、1位および11位がアシルオキシ基であり、7位が水酸基であるピリピロペン誘導体を高収率で製造できることを見出した。本発明はこの知見に基づくものである。   From the pyripyropene A substance obtained as a natural product by using an appropriate protecting group (Japanese Patent Application Laid-Open No. 8-25969; Bioorganic Medicinal Chemistry Letter 5, Vol. 22, page 2683, 1995; WO 2004/060065). It has been found that a pyripyropene derivative in which the 1st and 11th positions are acyloxy groups and the 7th position is a hydroxyl group can be produced in high yield. The present invention is based on this finding.

従って、本発明の目的は、害虫防除剤として有用なピリピロペン誘導体の製造法、およびその製造中間体である化合物を提供することにある。   Accordingly, an object of the present invention is to provide a method for producing a pyripyropene derivative useful as a pest control agent, and a compound which is an intermediate for the production.

そして、本発明の第一の態様によれば、次式C:

Figure 0005544553
[式中、R’は、直鎖、分岐鎖、または環状のC2−6アルキルカルボニル基(この基のアルキル部分が分岐鎖または環状であるときは、C3−6アルキルカルボニル基)を表す]
で表される化合物Cを製造する方法が提供され、該方法は、
(a) 次式A1:
Figure 0005544553
[式中、Acは、アセチル基を表す]
で表される化合物A1の7位アセチル基を、塩基を用いて加水分解することにより選択的に脱アシル化した後、7位の水酸基を保護することによって、次式B1:
Figure 0005544553
[式中、
Acは、上記で定義したとおりであり、
1aは、置換されていてもよい直鎖C2−4アルキルカルボニル基、ハロゲン原子で置換されていてもよい−SiR基(ここで、R、RおよびRは、互いに独立して、直鎖もしくは分岐鎖状のC1−6アルキル基、またはフェニル基を表す)、ハロゲン原子で置換されていてもよいC1−6アルキルオキシ−C1−6アルキル基、ハロゲン原子で置換されていてもよいC1−6アルキルチオ−C1−6アルキル基、ハロゲン原子で置換されていてもよい直鎖、分岐鎖もしくは環状のC1−4アルキル基(この基が分岐鎖または環状であるときは、C3−4アルキル基)、ハロゲン原子で置換されていてもよいC2−6アルケニル基、ハロゲン原子で置換されていてもよいC2−6アルキニル基、置換されていてもよいベンジル基、または置換されていてもよい飽和もしくは不飽和の5もしくは6員の複素環基を表し、
ここで、R1aにおいて、アルキルカルボニル基が有してもよい置換基は、ハロゲン原子、C1−4アルキルオキシ基、C1−4ハロアルキルオキシ基、C1−4アルキルカルボニル基、C1−4ハロアルキルカルボニル基、C1−4アルキルカルボニルオキシ基およびC1−4ハロアルキルカルボニルオキシ基からなる群から選択されるものであり、複素環基およびベンジル基が有してもよい置換基は、ハロゲン原子、C1−4アルキル基、C1−4アルキルオキシ基、C1−4ハロアルキルオキシ基、C1−4アルキルチオ基、C1−4ハロアルキル基、C1−4アルキルカルボニル基、C1−4ハロアルキルカルボニル基、C1−4アルキルカルボニルオキシ基、C1−4ハロアルキルカルボニルオキシ基、ニトロ基およびシアノ基からなる群から選択されるものである]
で表される化合物B1を得た後、化合物B1の1位および11位のアセチル基を、塩基を用いて加水分解することにより脱アシル化することによって、次式Fa:
Figure 0005544553
[式中、R1aは、上記で定義したとおりである]
で表される化合物Faを得る工程、または
(a) 化合物A1または次式A4’:
Figure 0005544553
[式中、A’、A’およびA11’は、同一または異なっていてもよく、アセチル基またはプロピオニル基を表し、但し、A’、A’およびA11’が同時にアセチル基を表すことはない]
で表される化合物A4’の1位、7位および11位のアシル基を、塩基を用いて加水分解することにより脱アシル化した後、1位および11位の水酸基を保護することによって、次式D:
Figure 0005544553
[式中、2つのRは、互いに一緒になって、次式D−1、D−2、D−3およびD−4:
Figure 0005544553
(式中、Yは、水素原子またはC1−4アルキル基を表し、Xは、同一または異なってもよく、水素原子、C1−4アルコキシ基またはニトロ基を表し、nは0〜5を表す)から選択される基を表す]
で表される化合物Dを得た後、化合物Dの7位の水酸基を保護することにより、次式E:
Figure 0005544553
[式中、
1bは、ホルミル基、置換されていてもよい直鎖C1−4アルキルカルボニル基、置換されていてもよいベンジル基、ハロゲン原子で置換されていてもよい−SiR基(ここで、R、RおよびRは、互いに独立して、直鎖もしくは分岐鎖状のC1−6アルキル基、またはフェニル基を表す)、ハロゲン原子で置換されていてもよいC1−6アルキルオキシ−C1−6アルキル基、ハロゲン原子で置換されていてもよいC1−6アルキルチオ−C1−6アルキル基、ハロゲン原子で置換されていてもよい直鎖、分岐鎖もしくは環状のC1−4アルキル基(この基が分岐鎖または環状であるときは、C3−4アルキル基)、ハロゲン原子で置換されていてもよいC2−6アルケニル基、ハロゲン原子で置換されていてもよいC2−6アルキニル基、または置換されていてもよい飽和もしくは不飽和の5もしくは6員の複素環基を表し、
ここで、R1bにおいて、アルキルカルボニル基が有してもよい置換基は、ハロゲン原子、C1−4アルキルオキシ基、C1−4ハロアルキルオキシ基、C1−4アルキルカルボニル基、C1−4ハロアルキルカルボニル基、C1−4アルキルカルボニルオキシ基およびC1−4ハロアルキルカルボニルオキシ基からなる群から選択されるものであり、複素環基およびベンジル基が有してもよい置換基は、ハロゲン原子、C1−4アルキル基、C1−4アルキルオキシ基、C1−4ハロアルキルオキシ基、C1−4アルキルチオ基、C1−4ハロアルキル基、C1−4アルキルカルボニル基、C1−4ハロアルキルカルボニル基、C1−4アルキルカルボニルオキシ基、C1−4ハロアルキルカルボニルオキシ基、ニトロ基およびシアノ基からなる群から選択されるものであり、
は、上記で定義したとおりである]
で表される化合物Eを得て、さらに化合物Eにおける1位および11位の保護基を脱保護することによって、次式Fb:
Figure 0005544553
[式中、R1bは、上記で定義したとおりである]
で表される化合物Fbを得る工程、ならびに
(b) 化合物FaまたはFbにおける1位および11位の水酸基を目的とするR’に対応するアシル化剤でアシル化することによって、次式B2aまたはB2b:
Figure 0005544553
[式中、R1a、R1bおよびR’は、上記で定義したとおりである]
で表される化合物B2aまたは化合物B2bを得た後、化合物B2aまたは化合物B2bの7位の保護基を脱保護する工程
を含んでなる。And according to the first aspect of the present invention, the following formula C:
Figure 0005544553
[Wherein, R ′ represents a linear, branched, or cyclic C 2-6 alkylcarbonyl group (or a C 3-6 alkylcarbonyl group when the alkyl portion of this group is branched or cyclic). ]
A method for producing a compound C represented by the formula:
(A 1 ) The following formula A1:
Figure 0005544553
[In the formula, Ac represents an acetyl group]
The 7-position acetyl group of the compound A1 represented by formula (1) is selectively deacylated by hydrolysis using a base, and then the 7-position hydroxyl group is protected to give the following formula B1:
Figure 0005544553
[Where:
Ac is as defined above,
R 1a is a linear C 2-4 alkylcarbonyl group which may be substituted, —SiR 3 R 4 R 5 group which may be substituted with a halogen atom (where R 3 , R 4 and R 5 are , independently of one another, a linear or branched C 1-6 alkyl group or a phenyl group), C 1-6 optionally substituted by a halogen atom alkyloxy -C 1-6 alkyl group, C 1-6 alkylthio-C 1-6 alkyl group optionally substituted with a halogen atom, linear, branched or cyclic C 1-4 alkyl group optionally substituted with a halogen atom (this group is branched) When it is a chain or a cyclic group, a C 3-4 alkyl group), a C 2-6 alkenyl group optionally substituted with a halogen atom, a C 2-6 alkynyl group optionally substituted with a halogen atom, substituted The Also represent a 5 or 6-membered heterocyclic group which may benzyl group or a saturated optionally substituted or unsaturated, and,
Here, in R 1a , the substituent that the alkylcarbonyl group may have is a halogen atom, a C 1-4 alkyloxy group, a C 1-4 haloalkyloxy group, a C 1-4 alkylcarbonyl group, a C 1- A substituent selected from the group consisting of a 4 haloalkylcarbonyl group, a C 1-4 alkylcarbonyloxy group, and a C 1-4 haloalkylcarbonyloxy group, which the heterocyclic group and the benzyl group may have are halogen Atom, C 1-4 alkyl group, C 1-4 alkyloxy group, C 1-4 haloalkyloxy group, C 1-4 alkylthio group, C 1-4 haloalkyl group, C 1-4 alkylcarbonyl group, C 1- 4 haloalkylcarbonyl groups, C1-4 alkylcarbonyloxy groups, C1-4 haloalkylcarbonyloxy groups, nitro groups and Is selected from the group consisting of cyano groups]
And then deacylating the acetyl groups at the 1-position and 11-position of the compound B1 with a base to give the following formula Fa:
Figure 0005544553
[Wherein R 1a is as defined above]
Or (a 2 ) Compound A1 or the following formula A4 ′:
Figure 0005544553
[Wherein, A 1 ′, A 7 ′ and A 11 ′ may be the same or different and each represents an acetyl group or a propionyl group, provided that A 1 ′, A 7 ′ and A 11 ′ are acetyl groups at the same time. Does not represent]
The acyl groups at the 1-position, 7-position and 11-position of the compound A4 ′ represented by the following are deacylated by hydrolysis with a base, and then the hydroxyl groups at the 1-position and the 11-position are protected, Formula D:
Figure 0005544553
[Wherein two R 2 , taken together, have the following formulas D-1, D-2, D-3 and D-4:
Figure 0005544553
Wherein Y 1 represents a hydrogen atom or a C 1-4 alkyl group, X may be the same or different, and represents a hydrogen atom, a C 1-4 alkoxy group or a nitro group, and n is 0 to 5 Represents a group selected from
Then, by protecting the hydroxyl group at the 7-position of compound D, the following formula E:
Figure 0005544553
[Where:
R 1b is a formyl group, an optionally substituted linear C 1-4 alkylcarbonyl group, an optionally substituted benzyl group, an optionally substituted —SiR 3 R 4 R 5 group ( Here, R 3 , R 4 and R 5 each independently represent a linear or branched C 1-6 alkyl group or a phenyl group), C 1 optionally substituted with a halogen atom -6 alkyloxy-C 1-6 alkyl group, C 1-6 alkylthio-C 1-6 alkyl group optionally substituted with a halogen atom, straight chain, branched chain or cyclic optionally substituted with a halogen atom A C 1-4 alkyl group (when this group is branched or cyclic, a C 3-4 alkyl group), a C 2-6 alkenyl group optionally substituted with a halogen atom, or a halogen atom. An optionally substituted C 2-6 alkynyl group, or an optionally substituted saturated or unsaturated 5- or 6-membered heterocyclic group,
Here, in R 1b , the substituent that the alkylcarbonyl group may have is a halogen atom, a C 1-4 alkyloxy group, a C 1-4 haloalkyloxy group, a C 1-4 alkylcarbonyl group, a C 1- A substituent selected from the group consisting of a 4 haloalkylcarbonyl group, a C 1-4 alkylcarbonyloxy group, and a C 1-4 haloalkylcarbonyloxy group, which the heterocyclic group and the benzyl group may have are halogen Atom, C 1-4 alkyl group, C 1-4 alkyloxy group, C 1-4 haloalkyloxy group, C 1-4 alkylthio group, C 1-4 haloalkyl group, C 1-4 alkylcarbonyl group, C 1- 4 haloalkylcarbonyl groups, C1-4 alkylcarbonyloxy groups, C1-4 haloalkylcarbonyloxy groups, nitro groups and Is selected from the group consisting of cyano groups,
R 2 is as defined above]
In addition, by deprotecting the 1-position and 11-position protecting groups in Compound E, the following formula Fb:
Figure 0005544553
[Wherein R 1b is as defined above]
And (b) acylating the 1-position and 11-position hydroxyl groups in the compound Fa or Fb with an acylating agent corresponding to the target R ′, to obtain a compound Fb represented by the following formula B2a or B2b :
Figure 0005544553
[Wherein R 1a , R 1b and R ′ are as defined above]
And a step of deprotecting the protecting group at the 7-position of compound B2a or compound B2b.

本発明の第二の態様によれば、次式B2a:

Figure 0005544553
[式中、R1aは、上記で定義したとおりであり、R’は、環状のC3−6アルキルカルボニル基を表す]
で表される化合物B2aを製造する方法が提供され、該方法は、
前記化合物A1の7位アセチル基を、塩基を用いて加水分解することにより選択的に脱アシル化した後、7位の水酸基を保護することによって、次式B1:
Figure 0005544553
[式中、AcおよびR1aは、上記で定義したとおりである]
で表される化合物B1を得た後、化合物B1の1位および11位のアセチル基を、塩基を用いて加水分解することにより脱アシル化することによって、次式Fa:
Figure 0005544553
[式中、R1aは、上記で定義したとおりである]
で表される化合物Faを得て、次に、化合物Faにおける1位および11位の水酸基を目的とするR’に対応するアシル化剤でアシル化することを含んでなる。According to a second aspect of the present invention, the following formula B2a:
Figure 0005544553
[Wherein R 1a is as defined above, and R ′ represents a cyclic C 3-6 alkylcarbonyl group]
A method for producing a compound B2a represented by the formula:
The 7-position acetyl group of the compound A1 is selectively deacylated by hydrolysis with a base, and then the 7-position hydroxyl group is protected to give the following formula B1:
Figure 0005544553
[Wherein Ac and R 1a are as defined above]
And then deacylating the acetyl groups at the 1-position and 11-position of the compound B1 with a base to give the following formula Fa:
Figure 0005544553
[Wherein R 1a is as defined above]
And then acylating the hydroxyl groups at positions 1 and 11 in compound Fa with an acylating agent corresponding to the target R ′.

また、本発明の第三の態様によれば、前記化合物B2b(式B2b中のR’は環状のC3−6アルキルカルボニル基を表す)を製造する方法が提供され、該方法は、
次式A4:

Figure 0005544553
[式中、A、AおよびA11は、同一または異なっていてもよく、アセチル基またはプロピオニル基を表す]
で表される化合物A4の1位、7位および11位のアシル基を、塩基を用いて加水分解することにより脱アシル化した後、1位および11位の水酸基を保護することによって、前記化合物Dを得た後、化合物Dの7位の水酸基を保護することにより前記化合物Eを得て、さらに化合物Eにおける1位および11位の保護基を脱保護することによって前記化合物Fbを得て、次に、化合物Fbにおける1位および11位の水酸基をR’に対応するアシル化剤でアシル化することを含んでなる。According to a third aspect of the present invention, there is provided a method for producing the compound B2b (R ′ in formula B2b represents a cyclic C 3-6 alkylcarbonyl group), and the method comprises:
Formula A4:
Figure 0005544553
[Wherein A 1 , A 7 and A 11 may be the same or different and each represents an acetyl group or a propionyl group]
The acyl group at the 1-position, 7-position and 11-position of the compound A4 represented by the formula: After obtaining D, the compound E is obtained by protecting the hydroxyl group at the 7-position of the compound D, and the compound Fb is obtained by further deprotecting the 1- and 11-position protecting groups in the compound E. Next, the method comprises acylating the hydroxyl groups at the 1-position and the 11-position in the compound Fb with an acylating agent corresponding to R ′.

本発明の第四の態様によれば、前記化合物C(式C中のR’は環状のC3−6アルキルカルボニル基を表す)を製造する方法が提供され、該方法は、前記化合物Fbにおける1位および11位の水酸基をR’に対応するアシル化剤でアシル化することによって前記化合物B2bを得た後、化合物B2bの7位の保護基を脱保護することを含んでなる。According to a fourth aspect of the present invention, there is provided a method for producing the compound C (wherein R ′ in formula C represents a cyclic C 3-6 alkylcarbonyl group), which method is the same as in the compound Fb. After obtaining the compound B2b by acylating the hydroxyl groups at the 1-position and the 11-position with an acylating agent corresponding to R ′, deprotecting the 7-position protecting group of the compound B2b.

本発明の第五の態様によれば、前記化合物Cを製造する方法が提供され、該方法は、前記化合物A4の1位、7位および11位のアシル基を、塩基を用いて加水分解することにより脱アシル化した後、1位および11位の水酸基を保護することによって前記化合物Dを得た後、化合物Dの7位の水酸基を保護することにより前記化合物Eを得て、さらに化合物Eにおける1位および11位の保護基を脱保護することによって前記化合物Fbを得て、次に、化合物Fbにおける1位および11位の水酸基をR’に対応するアシル化剤でアシル化することによって前記化合物B2bを得た後、化合物B2bの7位の保護基を脱保護することを含んでなる。   According to a fifth aspect of the present invention, there is provided a method for producing the compound C, wherein the method hydrolyzes the 1-position, 7-position and 11-position acyl groups of the compound A4 using a base. The compound D is obtained by protecting the hydroxyl groups at the 1-position and the 11-position after being deacylated, and then the compound E is obtained by protecting the hydroxyl group at the 7-position of the compound D. By deprotecting the 1- and 11-position protecting groups in the compound Fb, and then acylating the 1- and 11-position hydroxyl groups in the compound Fb with an acylating agent corresponding to R ′ After obtaining the compound B2b, the method comprises deprotecting the protecting group at the 7-position of the compound B2b.

本発明の第六の態様によれば、1位および11位にアシルオキシ基を有し、7位に水酸基を有するピリピロペン誘導体の製造中間体として有用な化合物が提供され、該化合物は、次式B2b:

Figure 0005544553
[式中、R1bは、上記で定義したとおりであり、R’は、環状のC3−6アルキルカルボニル基を表す]
で表される。According to the sixth aspect of the present invention, there is provided a compound useful as an intermediate for producing a pyripyropene derivative having an acyloxy group at the 1-position and the 11-position and a hydroxyl group at the 7-position, the compound having the following formula B2b :
Figure 0005544553
[Wherein, R 1b is as defined above, and R ′ represents a cyclic C 3-6 alkylcarbonyl group]
It is represented by

本発明によれば、1位および11位にアシルオキシ基を有し、7位に水酸基を有する、害虫防除剤として有用なピリピロペン誘導体を高収率で製造することが可能となる。   According to the present invention, a pyripyropene derivative useful as a pest control agent having an acyloxy group at the 1-position and the 11-position and a hydroxyl group at the 7-position can be produced in high yield.

発明の具体的説明Detailed description of the invention

本明細書において、「ハロゲン」とは、フッ素、塩素、臭素、またはヨウ素を意味する。   In the present specification, “halogen” means fluorine, chlorine, bromine, or iodine.

本明細書において、置換基または置換基の一部としての「アルキル」、「アルケニル」または「アルキニル」という用語はそれぞれ、特に定義されていない限り、直鎖状、分岐鎖状、環状またはそれらの組み合わせのアルキル、アルケニルまたはアルキニルを意味する。   In this specification, the terms “alkyl,” “alkenyl,” or “alkynyl” as a substituent or part of a substituent, respectively, are straight chain, branched chain, cyclic, or their unless otherwise defined. Means a combination of alkyl, alkenyl or alkynyl.

本明細書において、置換基に付される「Ca−b」との記号は、その置換基に含まれる炭素原子の数がa個からb個までであることを意味する。また、「Ca−bアルキルカルボニル」という場合の「Ca−b」とは、カルボニル部分の炭素原子を除いた、アルキル部分の炭素原子の数がa個からb個までであることを意味する。In this specification, the symbol “C ab ” attached to a substituent means that the number of carbon atoms contained in the substituent is a to b. Furthermore, it means that the "C a-b" in the case of "C a-b alkylcarbonyl", excluding the carbon atom of the carbonyl moiety, the number of carbon atoms in the alkyl moiety is from a number to a number b To do.

本明細書において、「ハロアルキル基」との用語は、少なくとも一つのハロゲン原子で置換されたアルキル基を意味する。同様に、「ハロアルキルオキシ基」、「ハロアルキルカルボニル基」および「ハロアルキルカルボニルオキシ基」との用語は、それぞれ、少なくとも一つのハロゲン原子で置換されたアルキルオキシ基、アルキルカルボニル基およびアルキルカルボニルオキシ基を意味する。   In this specification, the term “haloalkyl group” means an alkyl group substituted with at least one halogen atom. Similarly, the terms “haloalkyloxy group”, “haloalkylcarbonyl group” and “haloalkylcarbonyloxy group” refer to an alkyloxy group, an alkylcarbonyl group and an alkylcarbonyloxy group each substituted with at least one halogen atom. means.

R’が表す、直鎖、分岐鎖または環状のC2−6アルキルカルボニル基(この基のアルキル部分が分岐鎖または環状であるときは、C3−6アルキルカルボニル基)の具体例としては、シクロプロパンカルボニル基、プロピオニル基等が挙げられる。このアルキルカルボニル基は、好ましくは環状のC3−6アルキルカルボニル基とされ、より好ましくはシクロプロパンカルボニル基とされる。Specific examples of the linear, branched or cyclic C 2-6 alkylcarbonyl group represented by R ′ (when the alkyl part of this group is branched or cyclic, a C 3-6 alkylcarbonyl group) include: A cyclopropanecarbonyl group, a propionyl group, etc. are mentioned. The alkylcarbonyl group is preferably a cyclic C 3-6 alkylcarbonyl group, and more preferably a cyclopropanecarbonyl group.

1aおよびR1bが表す−SiR基(ここで、R、RおよびRは、互いに独立して、直鎖もしくは分岐鎖状のC1−6アルキル基、またはフェニル基を表す)の具体例としては、トリメチルシリル基、トリエチルシリル基、トリイソプロピルシリル基、tert−ブチルジメチルシリル基、tert−ブチルジフェニルシリル基等が挙げられる。この−SiR基は置換されていてもよく、その置換基としてはハロゲン原子が挙げられる。この−SiR基は、R、RおよびRの全てが直鎖もしくは分岐鎖状のC1−6アルキル基を表すアルキルシリル基であることが好ましく、より好ましくはtert−ブチルジメチルシリル基とされる。—SiR 3 R 4 R 5 group represented by R 1a and R 1b (wherein R 3 , R 4 and R 5 are each independently a linear or branched C 1-6 alkyl group, or phenyl Specific examples of (representing a group) include trimethylsilyl group, triethylsilyl group, triisopropylsilyl group, tert-butyldimethylsilyl group, tert-butyldiphenylsilyl group and the like. The -SiR 3 R 4 R 5 group may be substituted, and examples of the substituent include a halogen atom. The -SiR 3 R 4 R 5 group is preferably an alkylsilyl group in which all of R 3 , R 4 and R 5 represent a linear or branched C 1-6 alkyl group, more preferably tert -A butyldimethylsilyl group.

1aおよびR1bが表す、直鎖、分岐鎖または環状のC1−4アルキル基(この基が分岐鎖または環状であるときは、C3−4アルキル基)の具体例としては、メチル基、エチル基、プロピル基、i−プロピル基、シクロプロピル基、n−ブチル基、i−ブチル基、tert−ブチル基等が挙げられる。このアルキル基は置換されていてもよく、その置換基としてはハロゲン原子が挙げられる。Specific examples of the linear, branched or cyclic C 1-4 alkyl group represented by R 1a and R 1b (or a C 3-4 alkyl group when this group is branched or cyclic) include a methyl group , Ethyl group, propyl group, i-propyl group, cyclopropyl group, n-butyl group, i-butyl group, tert-butyl group and the like. This alkyl group may be substituted, and examples of the substituent include a halogen atom.

1aおよびR1bが表すC2−6アルケニル基の具体例としては、ビニル基、(1−または2−)プロペニル基、(1−、2−または3−)ブテニル基、(1−、2−、3−または4−)ペンテニル基、(1−、2−、3−、4−または5−)ヘキセニル基等が挙げられる。このアルケニル基は置換されていてもよく、その置換基としてはハロゲン原子が挙げられる。Specific examples of the C 2-6 alkenyl group represented by R 1a and R 1b include a vinyl group, (1- or 2-) propenyl group, (1-, 2- or 3-) butenyl group, (1-2) -, 3- or 4-) pentenyl group, (1-, 2-, 3-, 4- or 5-) hexenyl group and the like. This alkenyl group may be substituted, and examples of the substituent include a halogen atom.

1aおよびR1bが表すC2−6アルキニル基の具体例としては、エチニル基、(1−または2−)プロピニル基、(1−、2−または3−)ブチニル基、(1−、2−、3−または4−)ペンチニル基、(1−、2−、3−、4−または5−)ヘキシニル基等が挙げられる。このアルキニル基は置換されていてもよく、その置換基としてはハロゲン原子が挙げられる。Specific examples of the C 2-6 alkynyl group represented by R 1a and R 1b include an ethynyl group, a (1- or 2-) propynyl group, a (1-, 2- or 3-) butynyl group, (1--2 -, 3- or 4-) pentynyl group, (1-, 2-, 3-, 4- or 5-) hexynyl group and the like. This alkynyl group may be substituted, and examples of the substituent include a halogen atom.

1aおよびR1bが表す、飽和または不飽和の5または6員の複素環基の具体例としては、テトラヒドロピラニル基、テトラヒドロチオピラニル基、テトラヒドロフラニル基、テトラヒドロチオフラニル基等が挙げられる。この複素環基は置換されていてもよく、その置換基としては、ハロゲン原子、C1−4アルキル基、C1−4アルキルオキシ基、C1−4ハロアルキルオキシ基、C1−4アルキルチオ基、C1−4ハロアルキル基、C1−4アルキルカルボニル基、C1−4ハロアルキルカルボニル基、C1−4アルキルカルボニルオキシ基、C1−4ハロアルキルカルボニルオキシ基、ニトロ基およびシアノ基が挙げられる。この複素環基は、好ましくはテトラヒドロピラニル基とされる。Specific examples of the saturated or unsaturated 5- or 6-membered heterocyclic group represented by R 1a and R 1b include a tetrahydropyranyl group, a tetrahydrothiopyranyl group, a tetrahydrofuranyl group, and a tetrahydrothiofuranyl group. It is done. This heterocyclic group may be substituted, and examples of the substituent include a halogen atom, a C1-4 alkyl group, a C1-4 alkyloxy group, a C1-4 haloalkyloxy group, and a C1-4 alkylthio group. C 1-4 haloalkyl group, C 1-4 alkylcarbonyl group, C 1-4 haloalkylcarbonyl group, C 1-4 alkylcarbonyloxy group, C 1-4 haloalkylcarbonyloxy group, nitro group and cyano group. . This heterocyclic group is preferably a tetrahydropyranyl group.

1aが表す、直鎖C2−4アルキルカルボニル基の具体例としては、プロピオニル基、プロピルカルボニル基、n−ブチルカルボニル基等が挙げられる。このアルキルカルボニル基は置換されていてもよく、その置換基としては、ハロゲン原子、C1−4アルキルオキシ基、C1−4ハロアルキルオキシ基、C1−4アルキルカルボニル基、C1−4ハロアルキルカルボニル基、C1−4アルキルカルボニルオキシ基およびC1−4ハロアルキルカルボニルオキシ基が挙げられる。Specific examples of the linear C 2-4 alkylcarbonyl group represented by R 1a include a propionyl group, a propylcarbonyl group, and an n-butylcarbonyl group. The alkylcarbonyl group may be substituted, and examples of the substituent include a halogen atom, a C1-4 alkyloxy group, a C1-4 haloalkyloxy group, a C1-4 alkylcarbonyl group, and a C1-4 haloalkyl. Examples include a carbonyl group, a C 1-4 alkylcarbonyloxy group, and a C 1-4 haloalkylcarbonyloxy group.

1bが表す、直鎖C1−4アルキルカルボニル基の具体例としては、アセチル基、プロピオニル基、プロピルカルボニル基、n−ブチルカルボニル基等が挙げられる。このアルキルカルボニル基は置換されていてもよく、その置換基としては、ハロゲン原子、C1−4アルキルオキシ基、C1−4ハロアルキルオキシ基、C1−4アルキルカルボニル基、C1−4ハロアルキルカルボニル基、C1−4アルキルカルボニルオキシ基およびC1−4ハロアルキルカルボニルオキシ基が挙げられる。Specific examples of the linear C 1-4 alkylcarbonyl group represented by R 1b include an acetyl group, a propionyl group, a propylcarbonyl group, and an n-butylcarbonyl group. The alkylcarbonyl group may be substituted, and examples of the substituent include a halogen atom, a C1-4 alkyloxy group, a C1-4 haloalkyloxy group, a C1-4 alkylcarbonyl group, and a C1-4 haloalkyl. Examples include a carbonyl group, a C 1-4 alkylcarbonyloxy group, and a C 1-4 haloalkylcarbonyloxy group.

1aおよびR1bが表すC1−6アルキルオキシ−C1−6アルキル基は置換されていてもよく、その置換基としては、ハロゲン原子が挙げられる。The C 1-6 alkyloxy-C 1-6 alkyl group represented by R 1a and R 1b may be substituted, and examples of the substituent include a halogen atom.

1aおよびR1bが表すC1−6アルキルチオ−C1−6アルキル基は置換されていてもよく、その置換基としては、ハロゲン原子が挙げられる。The C 1-6 alkylthio-C 1-6 alkyl group represented by R 1a and R 1b may be substituted, and examples of the substituent include a halogen atom.

1aおよびR1bが表すベンジル基は置換されていてもよく、その置換基としては、ハロゲン原子、C1−4アルキル基、C1−4アルキルオキシ基、C1−4ハロアルキルオキシ基、C1−4アルキルチオ基、C1−4ハロアルキル基、C1−4アルキルカルボニル基、C1−4ハロアルキルカルボニル基、C1−4アルキルカルボニルオキシ基、C1−4ハロアルキルカルボニルオキシ基、ニトロ基およびシアノ基が挙げられる。The benzyl group represented by R 1a and R 1b may be substituted. Examples of the substituent include a halogen atom, a C 1-4 alkyl group, a C 1-4 alkyloxy group, a C 1-4 haloalkyloxy group, C 1-4 alkylthio group, C 1-4 haloalkyl group, C 1-4 alkylcarbonyl group, C 1-4 haloalkylcarbonyl group, C 1-4 alkylcarbonyloxy group, C 1-4 haloalkylcarbonyloxy group, nitro group and A cyano group is mentioned.

1aは、好ましくはハロゲン原子で置換されていてもよい−SiR基(ここで、R、RおよびRは、互いに独立して、直鎖もしくは分岐鎖状のC1−6アルキル基、またはフェニル基を表す)、または置換されていてもよい飽和もしくは不飽和の5もしくは6員の複素環基とされ、より好ましくは−SiR基(ここで、R、RおよびRは、互いに独立して、直鎖もしくは分岐鎖状のC1−6アルキル基、またはフェニル基を表す)、または飽和もしくは不飽和の5もしくは6員の複素環基とされ、さらに好ましくは−SiR基(ここで、R、RおよびRは、互いに独立して、直鎖もしくは分岐鎖状のC1−6アルキル基、またはフェニル基を表す)、またはテトラヒドロピラニル基とされ、最も好ましくはtert−ブチルジメチルシリル基またはテトラヒドロピラニル基とされる。R 1a is preferably a —SiR 3 R 4 R 5 group which may be substituted with a halogen atom (wherein R 3 , R 4 and R 5 are each independently a linear or branched C A 1-6 alkyl group or a phenyl group), or a saturated or unsaturated 5- or 6-membered heterocyclic group which may be substituted, more preferably a —SiR 3 R 4 R 5 group (wherein , R 3 , R 4 and R 5 each independently represent a linear or branched C 1-6 alkyl group or a phenyl group), or a saturated or unsaturated 5- or 6-membered heterocyclic ring More preferably -SiR 3 R 4 R 5 group (wherein R 3 , R 4 and R 5 are each independently a linear or branched C 1-6 alkyl group, or phenyl Group) or tetra It is a hydropyranyl group, most preferably a tert-butyldimethylsilyl group or a tetrahydropyranyl group.

1bは、好ましくはアセチル基、クロロアセチル基、置換されていてもよい飽和もしくは不飽和の5もしくは6員の複素環基、またはハロゲン原子で置換されていてもよい−SiR基(ここで、R、RおよびRは、互いに独立して、直鎖もしくは分岐鎖状のC1−6アルキル基、またはフェニル基を表す)とされ、より好ましくはアセチル基、クロロアセチル基、またはハロゲン原子で置換されていてもよい−SiR基(ここで、R、RおよびRは、互いに独立して、直鎖もしくは分岐鎖状のC1−6アルキル基、またはフェニル基を表す)とされ、さらに好ましくはアセチル基、クロロアセチル基またはtert−ブチルジメチルシリル基とされ、最も好ましくはアセチル基またはクロロアセチル基とされる。R 1b is preferably an acetyl group, a chloroacetyl group, a saturated or unsaturated 5- or 6-membered heterocyclic group which may be substituted, or —SiR 3 R 4 R 5 which may be substituted with a halogen atom. A group (wherein R 3 , R 4 and R 5 each independently represents a linear or branched C 1-6 alkyl group or a phenyl group), more preferably an acetyl group, a chloro group, An acetyl group or a —SiR 3 R 4 R 5 group optionally substituted with a halogen atom (wherein R 3 , R 4 and R 5 are each independently a straight chain or branched C 1- 6 represents an alkyl group or a phenyl group), more preferably an acetyl group, a chloroacetyl group or a tert-butyldimethylsilyl group, and most preferably an acetyl group or a chloroacetate group. It is assumed to be a til group.

2つのR2が一緒になって表す置換基は、好ましくは次式D−1またはD−2:

Figure 0005544553
(式中、Yは、水素原子またはC1−4アルキル基を表し、Xは、同一または異なってもよく、水素原子、C1−4アルコキシ基またはニトロ基を表し、nは0〜5を表す)とされ、より好ましくはイソプロピリデン、ベンジリデンまたはp−メトキシベンジリデンとされる。他の実施態様によれば、2つのR2が一緒になって表す置換基は、好ましくはD−1とされ、より好ましくはイソプロピリデンとされる。The substituent represented by two R 2 taken together is preferably the following formula D-1 or D-2:
Figure 0005544553
Wherein Y 1 represents a hydrogen atom or a C 1-4 alkyl group, X may be the same or different, and represents a hydrogen atom, a C 1-4 alkoxy group or a nitro group, and n is 0 to 5 More preferably isopropylidene, benzylidene or p-methoxybenzylidene. According to another embodiment, the substituent represented by the two R 2 taken together is preferably D-1, more preferably isopropylidene.

、AおよびA11は、好ましくは共にアセチル基とされる。A 1 , A 7 and A 11 are preferably both acetyl groups.

本発明の好ましい実施態様によれば、第一の態様による方法または第五の態様による方法において、R’は、環状のC3−6アルキルカルボニル基とされる。According to a preferred embodiment of the present invention, in the method according to the first aspect or the method according to the fifth aspect, R ′ is a cyclic C 3-6 alkylcarbonyl group.

本発明の他の好ましい実施態様によれば、第一の態様による方法において、R1aは、ハロゲン原子で置換されていてもよい−SiR基(ここで、R、RおよびRは、互いに独立して、直鎖もしくは分岐鎖状のC1−6アルキル基、またはフェニル基を表す)、または置換されていてもよい飽和もしくは不飽和の5もしくは6員の複素環基とされる。According to another preferred embodiment of the present invention, in the method according to the first aspect, R 1a is a —SiR 3 R 4 R 5 group optionally substituted with a halogen atom (where R 3 , R 4 And R 5 each independently represent a linear or branched C 1-6 alkyl group or a phenyl group), or an optionally substituted saturated or unsaturated 5- or 6-membered heterocyclic ring Based on.

本発明の他の好ましい実施態様によれば、第一の態様による方法または第三の態様による方法において、R1bは、アセチル基、クロロアセチル基、またはハロゲン原子で置換されていてもよい−SiR基(ここで、R、RおよびRは、互いに独立して、直鎖もしくは分岐鎖状のC1−6アルキル基、またはフェニル基を表す)とされる。According to another preferred embodiment of the present invention, in the method according to the first aspect or the method according to the third aspect, R 1b may be substituted with an acetyl group, a chloroacetyl group or a halogen atom. 3 R 4 R 5 group (wherein R 3 , R 4 and R 5 independently of each other represent a linear or branched C 1-6 alkyl group or a phenyl group).

本発明の他の好ましい実施態様によれば、第一の態様による方法または第三の態様による方法において、2つのR2は、互いに一緒になって、次式のD−1またはD−2:

Figure 0005544553
(式中、Yは、水素原子またはC1−4アルキル基を表し、Xは、同一または異なってもよく、水素原子、C1−4アルコキシ基またはニトロ基を表し、nは0〜5を表す)
を表す。According to another preferred embodiment of the present invention, in the method according to the first aspect or the method according to the third aspect, two R 2 , taken together, have the following formula D-1 or D-2:
Figure 0005544553
Wherein Y 1 represents a hydrogen atom or a C 1-4 alkyl group, X may be the same or different, and represents a hydrogen atom, a C 1-4 alkoxy group or a nitro group, and n is 0 to 5 Represents
Represents.

本発明の他の好ましい実施態様によれば、第二の態様による方法において、R1aは、置換されていてもよい直鎖C2−4アルキルカルボニル基、ハロゲン原子で置換されていてもよい−SiR基(ここで、R、RおよびRは、互いに独立して、直鎖もしくは分岐鎖状のC1−6アルキル基、またはフェニル基を表す)、または置換されていてもよい飽和もしくは不飽和の5もしくは6員の複素環基とされる。According to another preferred embodiment of the present invention, in the method according to the second aspect, R 1a is an optionally substituted linear C 2-4 alkylcarbonyl group, optionally substituted with a halogen atom— SiR 3 R 4 R 5 group (wherein R 3 , R 4 and R 5 independently of each other represent a linear or branched C 1-6 alkyl group or a phenyl group), or substituted It may be a saturated or unsaturated 5- or 6-membered heterocyclic group which may be present.

本発明の他の好ましい実施態様によれば、第六の態様による化合物において、R1bは、アセチル基、クロロアセチル基、ハロゲン原子で置換されていてもよい−SiR基(ここで、R、RおよびRは、互いに独立して、直鎖もしくは分岐鎖状のC1−6アルキル基、またはフェニル基を表す)、または置換されていてもよい飽和もしくは不飽和の5もしくは6員の複素環基とされ、R’は、環状のC3−6アルキルカルボニル基とされる。According to another preferred embodiment of the present invention, in the compound according to the sixth aspect, R 1b is an acetyl group, a chloroacetyl group, a —SiR 3 R 4 R 5 group optionally substituted with a halogen atom (here R 3 , R 4 and R 5 each independently represent a linear or branched C 1-6 alkyl group or a phenyl group), or an optionally substituted saturated or unsaturated group It is a 5- or 6-membered heterocyclic group, and R ′ is a cyclic C 3-6 alkylcarbonyl group.

本発明のさらに別の好ましい実施態様としては、前記式B2a、式B2bおよび式CにおけるR’が、プロピオニル基またはシクロプロパンカルボニル基である、方法が挙げられる。   Yet another preferred embodiment of the present invention includes a method wherein R ′ in the formula B2a, formula B2b and formula C is a propionyl group or a cyclopropanecarbonyl group.

さらに別の好ましい実施態様としては、前記化合物Faを経由する方法であって、前記式B1、Fa、またはB2aにおけるR1aが、置換されていてもよい直鎖または分岐鎖状のアルキルシリル基、置換されていてもよい飽和もしくは不飽和の5または6員の複素環基である、方法が挙げられる。Yet another preferred embodiment is a method via the compound Fa, wherein R 1a in the formula B1, Fa, or B2a is an optionally substituted linear or branched alkylsilyl group, The method is a saturated or unsaturated 5- or 6-membered heterocyclic group which may be substituted.

さらに別の好ましい実施態様としては、前記化合物Fbを経由する方法であって、前記式E、Fbまたは、B2bにおけるR1bが、アセチル基、クロロアセチル基、または置換されていてもよい直鎖または分岐鎖状のアルキルシリル基である方法、が挙げられる。
さらに別の好ましい実施態様としては、前記化合物Fbを経由する方法であって、前記式DまたはEにおけるR2が、前記式D−3で示される基である、方法が挙げられる。
より好ましい実施態様としては、前記化合物D、E、FbおよびB2bを経由する方法であって、前記式DまたはEにおけるR2が、前記式D−3で示される基であり、前記式E、Fbまたは、B2bにおけるR1bが、アセチル基、クロロアセチル基、または置換されていてもよい直鎖または分岐鎖状のアルキルシリル基であり、前記式B2bおよび式CにおけるR’が、シクロプロパンカルボニル基である、方法が挙げられる。
Yet another preferred embodiment is a method via the compound Fb, wherein R 1b in the formula E, Fb or B2b is an acetyl group, a chloroacetyl group, or an optionally substituted straight chain or And a branched alkylsilyl group.
Yet another preferred embodiment is a method via the compound Fb, wherein R 2 in the formula D or E is a group represented by the formula D-3.
A more preferred embodiment is a method via the compounds D, E, Fb and B2b, wherein R 2 in the formula D or E is a group represented by the formula D-3, and the formula E, R 1b in Fb or B2b is an acetyl group, a chloroacetyl group, or an optionally substituted linear or branched alkylsilyl group, and R ′ in formula B2b and formula C is cyclopropanecarbonyl The method which is group is mentioned.

本発明のさらに好ましい態様によれば、
次式C:

Figure 0005544553
[式中、R’は、環状のC3−6アルキルカルボニル基を表す]
で表される化合物Cを製造する方法が提供され、該方法は、次式A4:
Figure 0005544553
[式中、A、A、A11は、同一または異なっていてもよく、アセチル基またはプロピオニル基を表す]
で表される化合物A4の1位、7位および11位のアシル基を、塩基を用いて加水分解することにより脱アシル化した後、1位および11位の水酸基を保護することによって、次式D:
Figure 0005544553
[式中、2つのRは、互いに一緒になって、次式D−1:
Figure 0005544553
(式中、Yは、水素原子またはC1−4アルキル基を表す)で表される基を表す]
で表される化合物Dを得た後、化合物Dの7位水酸基を保護することにより、次式E:
Figure 0005544553
[式中、R1bは、アセチル基またはクロロアセチル基を表し、Rは、上記で定義したとおりである]
で表される化合物Eを得て、さらに化合物Eにおける1位および11位の保護基を脱保護することによって、次式Fb:
Figure 0005544553
[式中、R1bは、上記で定義したとおりである]
で表される化合物Fbを得て、次に、化合物Fbにおける1位および11位の水酸基をR’に対応するアシル化剤でアシル化することによって、次式B2b:
Figure 0005544553
[式中、R1bおよびR’は、上記で定義したとおりである]
で表される化合物B2bを得た後、化合物B2bの7位の保護基を脱保護することを含んでなる。According to a further preferred embodiment of the present invention,
Formula C:
Figure 0005544553
[Wherein R ′ represents a cyclic C 3-6 alkylcarbonyl group]
A method for producing a compound C represented by the formula:
Figure 0005544553
[Wherein A 1 , A 7 and A 11 may be the same or different and each represents an acetyl group or a propionyl group]
The acyl groups at the 1-position, 7-position and 11-position of the compound A4 represented by the formula (1) are deacylated by hydrolysis with a base, and then the hydroxyl groups at the 1-position and the 11-position are protected, D:
Figure 0005544553
[Wherein the two R 2 s together form the following formula D-1:
Figure 0005544553
(Wherein Y 1 represents a hydrogen atom or a C 1-4 alkyl group)
And then protecting the 7-position hydroxyl group of compound D to give the following formula E:
Figure 0005544553
[Wherein R 1b represents an acetyl group or a chloroacetyl group, and R 2 is as defined above]
In addition, by deprotecting the 1-position and 11-position protecting groups in Compound E, the following formula Fb:
Figure 0005544553
[Wherein R 1b is as defined above]
And then acylating the hydroxyl groups at the 1-position and the 11-position in the compound Fb with an acylating agent corresponding to R ′:
Figure 0005544553
[Wherein R 1b and R ′ are as defined above]
And then deprotecting the protecting group at the 7-position of compound B2b.

本発明を、以下のスキームに沿ってさらに詳細に説明する。   The present invention will be described in further detail along the following scheme.

Figure 0005544553
Figure 0005544553

上記スキームにおいて、Ac、R1a、R1b、A 、A 、A11、およびRは、上記で定義したとおりであり、R’は、直鎖、分岐鎖または環状のC2−6アルキルカルボニル基(この基のアルキル部分が分岐鎖または環状であるときは、C3−6アルキルカルボニル基)を表す。In the above scheme, Ac, R 1a , R 1b , A 1 , A 7 , A 11 , and R 2 are as defined above, and R ′ is a linear, branched or cyclic C 2-6. Represents an alkylcarbonyl group (C 3-6 alkylcarbonyl group when the alkyl portion of this group is branched or cyclic).

各工程における生成物は、後処理することなく、次の工程に用いてもよい。   You may use the product in each process for the following process, without post-processing.

1−1:化合物A1からの化合物A3の製造
化合物A1は、例えば、特開平6−184158号公報、WO2004/060065、特開平8−259569号公報、またはBioorganic Medicinal Chemistry Letter 5巻22号2683頁に記載の方法で得ることができる。
1-1: Production of Compound A3 from Compound A1 Compound A1 is described in, for example, JP-A-6-184158, WO2004 / 060065, JP-A-8-2559569, or Bioorganic Medicinal Chemistry Letter Vol. It can be obtained by the method described.

化合物A1から化合物A3を製造する工程において用いられる溶媒としては、メタノールなどの炭素数1〜4のアルコール溶媒、ジエチルエーテル、ジイソプロピルエーテル、テトラヒドロフラン、ジオキサンなどのエーテル系溶媒、N,N−ジメチルホルムアミド、ジメチルスルホキシド、N,N−ジメチルアセトアミド、アセトニトリルなどの非プロトン性極性有機溶媒、ジクロロメタン、クロロホルムなどのハロゲン系溶媒、または水、およびこれらの混合溶媒が挙げられる。   Examples of the solvent used in the step of producing compound A3 from compound A1 include alcohol solvents having 1 to 4 carbon atoms such as methanol, ether solvents such as diethyl ether, diisopropyl ether, tetrahydrofuran and dioxane, N, N-dimethylformamide, Examples thereof include aprotic polar organic solvents such as dimethyl sulfoxide, N, N-dimethylacetamide and acetonitrile, halogen solvents such as dichloromethane and chloroform, or water, and mixed solvents thereof.

用いられる塩基としては、炭酸ナトリウム、炭酸カリウム、炭酸水素ナトリウム、炭酸水素カリウム、水酸化ナトリウム、水酸化カリウム、水素化ナトリウム、水素化カリウム、シアン化ナトリウム、シアン化カリウム、水酸化マグネシウム、水酸化カルシウム、水酸化リチウム、水酸化バリウムなどの無機塩基、ナトリウムメトキシド、ナトリウムエトキシド、tert-ブトキシカリウムなどのアルカリ金属、アルカリ土類金属のアルコキシド、1,8−ジアザビシクロ[5.4.0]ウンデカ−7−エン、1,5−ジアザビシクロ[4.3.0]ノナ−5−エン、トリエチルアミン、ジイソプロピルエチルアミン、ピリジン、ヒドラジン、グアニジンなどの有機塩基が挙げられ、好ましくは、1,8−ジアザビシクロ[5.4.0]ウンデカ−7−エン、1,5−ジアザビシクロ[4.3.0]ノナ−5−エン、炭酸ナトリウム、炭酸カリウム、炭酸水素ナトリウム、炭酸水素カリウム、水酸化ナトリウム、水酸化カリウム、ナトリウムメトキシド、tert-ブトキシカリウムが挙げられ、特に好ましくは、1,8−ジアザビシクロ[5.4.0]ウンデカ−7−エン、tert-ブトキシカリウムとされる。   Examples of the base used include sodium carbonate, potassium carbonate, sodium bicarbonate, potassium bicarbonate, sodium hydroxide, potassium hydroxide, sodium hydride, potassium hydride, sodium cyanide, potassium cyanide, magnesium hydroxide, calcium hydroxide, Inorganic bases such as lithium hydroxide and barium hydroxide, alkali metals such as sodium methoxide, sodium ethoxide and potassium tert-butoxy, alkoxides of alkaline earth metals, 1,8-diazabicyclo [5.4.0] undeca Examples include organic bases such as 7-ene, 1,5-diazabicyclo [4.3.0] non-5-ene, triethylamine, diisopropylethylamine, pyridine, hydrazine, guanidine, and preferably 1,8-diazabicyclo [5. 4.0] Undeca-7-D 1,5-diazabicyclo [4.3.0] non-5-ene, sodium carbonate, potassium carbonate, sodium hydrogen carbonate, potassium hydrogen carbonate, sodium hydroxide, potassium hydroxide, sodium methoxide, tert-butoxy potassium Particularly preferred are 1,8-diazabicyclo [5.4.0] undec-7-ene and tert-butoxypotassium.

塩基の使用量は、化合物A1に対して0.01〜1.2等量用いることが好ましい。反応温度は、−20℃〜50℃の範囲とすることが好ましい。反応時間は、0.5時間〜7日間の範囲とすることが好ましい。   The amount of the base used is preferably 0.01 to 1.2 equivalents relative to compound A1. The reaction temperature is preferably in the range of −20 ° C. to 50 ° C. The reaction time is preferably in the range of 0.5 hours to 7 days.

1−2:化合物A3からの化合物B1の製造
化合物A3から化合物B1を製造する工程において、7位水酸基の保護は、目的とするR1aに対応するR1a−Hal(Halはハロゲン原子を表す)で表されるR1aのハロゲン化物、酸無水物、混合酸無水物、または3,4−ジヒドロピランを使用し、塩基の存在下、酸の存在下またはこれらの非存在下で、またはジシクロヘキシルカルボジイミド、1−エチル−3−(3−ジメチルアミノプロピル)カルボジイミド塩酸塩、カルボニルジイミダゾール、ジピリジルジスルフィド、ジイミダゾイルジスルフィド、1,3,5−トリクロロベンゾイルクロリド、1,3,5−トリクロロベンゾイル無水物、PyBop、PyBropなどの縮合剤を使用することによって行うことができる。
1-2: In the step of producing the compound B1 from Compound A3 of Compound B1 from compound A3, protection of the 7-position hydroxyl group, R 1a -Hal corresponding to R 1a of interest (the Hal represents a halogen atom) R 1a halides, acid anhydrides, mixed acid anhydrides or 3,4-dihydropyran represented by the formula: in the presence of a base, in the presence or absence of an acid, or dicyclohexylcarbodiimide 1-ethyl-3- (3-dimethylaminopropyl) carbodiimide hydrochloride, carbonyldiimidazole, dipyridyl disulfide, diimidazoyl disulfide, 1,3,5-trichlorobenzoyl chloride, 1,3,5-trichlorobenzoyl anhydride , PyBop, PyBrop, and the like.

この工程は無溶媒で実施することもできるが、溶媒を用いて実施することもできる。用いられる溶媒としては、アセトン、ジエチルケトンなどのケトン系溶媒、ジエチルエーテル、ジイソプロピルエーテル、テトラヒドロフランなどのエーテル系溶媒、酢酸エチル、酢酸ブチルなどのエステル系溶媒、N,N−ジメチルホルムアミド、N,N−ジメチルアセトアミド、ジメチルスルホキシド、アセトニトリルなどの非プロトン性極性有機溶媒、ピリジンなどの極性有機溶媒、ジクロロメタン、クロロホルムなどのハロゲン化炭化水素系溶媒、トルエンなどの芳香族炭化水素系溶媒およびこれらの混合溶媒が挙げられる。   This step can be carried out without solvent, but can also be carried out using a solvent. Solvents used include ketone solvents such as acetone and diethyl ketone, ether solvents such as diethyl ether, diisopropyl ether and tetrahydrofuran, ester solvents such as ethyl acetate and butyl acetate, N, N-dimethylformamide, N, N -Aprotic polar organic solvents such as dimethylacetamide, dimethylsulfoxide, acetonitrile, polar organic solvents such as pyridine, halogenated hydrocarbon solvents such as dichloromethane and chloroform, aromatic hydrocarbon solvents such as toluene, and mixed solvents thereof Is mentioned.

用いられる塩基としては、炭酸ナトリウム、炭酸カリウム、水素化ナトリウム、tert-ブトキシカリウム、ナトリウムメトキシド、ナトリウムエトキシド、ピリジン、ジメチルアミノピリジン、イミダゾール、1,8−ジアザビシクロ[5.4.0]ウンデカ−7−エン、1,5−ジアザビシクロ[4.3.0]ノナ−5−エン、トリエチルアミン、ジイソプロピルエチルアミンなどが挙げられる。   Examples of the base used include sodium carbonate, potassium carbonate, sodium hydride, tert-butoxypotassium, sodium methoxide, sodium ethoxide, pyridine, dimethylaminopyridine, imidazole, 1,8-diazabicyclo [5.4.0] undeca. -7-ene, 1,5-diazabicyclo [4.3.0] non-5-ene, triethylamine, diisopropylethylamine and the like.

用いられる酸としては、p−トルエンスルホン酸、p−トルエンスルホン酸1水和物、p−トルエンスルホン酸ピリジニウム塩、10−カンファースルホン酸、塩酸、硫酸などが挙げられる。   Examples of the acid used include p-toluenesulfonic acid, p-toluenesulfonic acid monohydrate, p-toluenesulfonic acid pyridinium salt, 10-camphorsulfonic acid, hydrochloric acid, sulfuric acid and the like.

反応温度は、−20℃〜50℃の範囲とすることが好ましい。反応時間は、0.5時間〜4日間の範囲とすることが好ましい。   The reaction temperature is preferably in the range of −20 ° C. to 50 ° C. The reaction time is preferably in the range of 0.5 hours to 4 days.

1−3:化合物B1からの化合物Faの製造
化合物B1から化合物Faを製造する工程において用いられる溶媒としては、メタノールなどの炭素数1〜4のアルコール溶媒、ジエチルエーテル、ジイソプロピルエーテル、テトラヒドロフラン、ジオキサンなどのエーテル系溶媒、N,N−ジメチルホルムアミド、ジメチルスルホキシド、N,N−ジメチルアセトアミド、アセトニトリルなどの非プロトン性極性有機溶媒、ジクロロメタン、クロロホルムなどのハロゲン系溶媒、または水、およびこれらの混合溶媒が挙げられる。
1-3: Production of Compound Fa from Compound B1 As a solvent used in the step of producing Compound Fa from Compound B1, an alcohol solvent having 1 to 4 carbon atoms such as methanol, diethyl ether, diisopropyl ether, tetrahydrofuran, dioxane and the like Ether solvents, N, N-dimethylformamide, dimethyl sulfoxide, N, N-dimethylacetamide, aprotic polar organic solvents such as acetonitrile, halogen solvents such as dichloromethane and chloroform, or water, and mixed solvents thereof Can be mentioned.

用いられる塩基としては、炭酸ナトリウム、炭酸カリウム、炭酸水素ナトリウム、炭酸水素カリウム、水酸化ナトリウム、水酸化カリウム、水素化ナトリウム、水素化カリウム、シアン化ナトリウム、シアン化カリウム、水酸化マグネシウム、水酸化カルシウム、水酸化リチウム、水酸化バリウムなどの無機塩基、ナトリウムメトキシド、ナトリウムエトキシド、tert-ブトキシカリウムなどのアルカリ金属、アルカリ土類金属のアルコキシド、1,8−ジアザビシクロ[5.4.0]ウンデカ−7−エン、1,5−ジアザビシクロ[4.3.0]ノナ−5−エン、トリエチルアミン、ジイソプロピルエチルアミン、ピリジン、ヒドラジン、グアニジンなどの有機塩基が挙げられ、好ましくは、1,8−ジアザビシクロ[5.4.0]ウンデカ−7−エン、1,5−ジアザビシクロ[4.3.0]ノナ−5−エン、炭酸ナトリウム、炭酸カリウム、炭酸水素ナトリウム、炭酸水素カリウム、水酸化ナトリウム、水酸化カリウムが挙げられ、特に好ましくは炭酸カリウムとされる。   Examples of the base used include sodium carbonate, potassium carbonate, sodium bicarbonate, potassium bicarbonate, sodium hydroxide, potassium hydroxide, sodium hydride, potassium hydride, sodium cyanide, potassium cyanide, magnesium hydroxide, calcium hydroxide, Inorganic bases such as lithium hydroxide and barium hydroxide, alkali metals such as sodium methoxide, sodium ethoxide and potassium tert-butoxy, alkoxides of alkaline earth metals, 1,8-diazabicyclo [5.4.0] undeca Examples include organic bases such as 7-ene, 1,5-diazabicyclo [4.3.0] non-5-ene, triethylamine, diisopropylethylamine, pyridine, hydrazine, guanidine, and preferably 1,8-diazabicyclo [5. 4.0] Undeca-7-D 1,5-diazabicyclo [4.3.0] non-5-ene, sodium carbonate, potassium carbonate, sodium bicarbonate, potassium bicarbonate, sodium hydroxide, potassium hydroxide, particularly preferably potassium carbonate Is done.

塩基の使用量は、化合物B1に対して0.01〜10等量用いることが好ましい。反応温度は、−20℃〜50℃の範囲とすることが好ましい。反応時間は、0.5時間〜48時間の範囲とすることが好ましい。   The base is preferably used in an amount of 0.01 to 10 equivalents relative to Compound B1. The reaction temperature is preferably in the range of −20 ° C. to 50 ° C. The reaction time is preferably in the range of 0.5 to 48 hours.

2−1:化合物A4からの化合物A2の製造
化合物A4および化合物A4’としては、例えば、特開平6−184158号公報、WO94/09147、特開平8−239385号公報などに記載の方法による天然物を用いることができ、あるいは、例えば特開平8−259569号公報に記載の方法による誘導体を用いることもできる。
2-1: Production of Compound A2 from Compound A4 As compound A4 and compound A4 ′, for example, natural products obtained by the methods described in JP-A-6-184158, WO94 / 09147, JP-A-8-239385, etc. Alternatively, for example, a derivative produced by the method described in JP-A-8-259569 can also be used.

化合物A4から化合物A2を製造する工程において用いられる溶媒としては、メタノールなどの炭素数1〜4のアルコール溶媒、ジエチルエーテル、ジイソプロピルエーテル、テトラヒドロフラン、ジオキサンなどのエーテル系溶媒、N,N−ジメチルホルムアミド、ジメチルスルホキシド、N,N−ジメチルアセトアミド、アセトニトリルなどの非プロトン性極性有機溶媒、ジクロロメタン、クロロホルムなどのハロゲン系溶媒、または水、およびこれらの混合溶媒が挙げられる。   Solvents used in the step of producing compound A2 from compound A4 include alcohol solvents having 1 to 4 carbon atoms such as methanol, ether solvents such as diethyl ether, diisopropyl ether, tetrahydrofuran and dioxane, N, N-dimethylformamide, Examples thereof include aprotic polar organic solvents such as dimethyl sulfoxide, N, N-dimethylacetamide and acetonitrile, halogen solvents such as dichloromethane and chloroform, or water, and mixed solvents thereof.

用いられる塩基としては、炭酸ナトリウム、炭酸カリウム、炭酸水素ナトリウム、炭酸水素カリウム、水酸化ナトリウム、水酸化カリウム、水素化ナトリウム、水素化カリウム、シアン化ナトリウム、シアン化カリウム、水酸化マグネシウム、水酸化カルシウム、水酸化リチウム、水酸化バリウムなどの無機塩基、ナトリウムメトキシド、ナトリウムエトキシド、tert-ブトキシカリウムなどのアルカリ金属、アルカリ土類金属のアルコキシド、1,8−ジアザビシクロ[5.4.0]ウンデカ−7−エン、1,5−ジアザビシクロ[4.3.0]ノナ−5−エン、トリエチルアミン、ジイソプロピルエチルアミン、ピリジン、ヒドラジン、グアニジンなどの有機塩基が挙げられ、好ましくは、1,8−ジアザビシクロ[5.4.0]ウンデカ−7−エン、1,5−ジアザビシクロ[4.3.0]ノナ−5−エン、炭酸ナトリウム、炭酸カリウム、炭酸水素ナトリウム、炭酸水素カリウム、水酸化ナトリウム、水酸化カリウムが挙げられ、特に好ましくは炭酸カリウムとされる。   Examples of the base used include sodium carbonate, potassium carbonate, sodium bicarbonate, potassium bicarbonate, sodium hydroxide, potassium hydroxide, sodium hydride, potassium hydride, sodium cyanide, potassium cyanide, magnesium hydroxide, calcium hydroxide, Inorganic bases such as lithium hydroxide and barium hydroxide, alkali metals such as sodium methoxide, sodium ethoxide and potassium tert-butoxy, alkoxides of alkaline earth metals, 1,8-diazabicyclo [5.4.0] undeca Examples include organic bases such as 7-ene, 1,5-diazabicyclo [4.3.0] non-5-ene, triethylamine, diisopropylethylamine, pyridine, hydrazine, guanidine, and preferably 1,8-diazabicyclo [5. 4.0] Undeca-7-D 1,5-diazabicyclo [4.3.0] non-5-ene, sodium carbonate, potassium carbonate, sodium bicarbonate, potassium bicarbonate, sodium hydroxide, potassium hydroxide, particularly preferably potassium carbonate Is done.

塩基の使用量は、化合物A4に対して0.01〜10等量用いることが好ましい。反応温度は、−20℃〜50℃の範囲とすることが好ましい。反応時間は、0.5時間〜48時間の範囲とすることが好ましい。   The amount of the base used is preferably 0.01 to 10 equivalents relative to Compound A4. The reaction temperature is preferably in the range of −20 ° C. to 50 ° C. The reaction time is preferably in the range of 0.5 to 48 hours.

この工程によれば、化合物A1または化合物A4’(化合物A4におけるA、AおよびA11がそれぞれA’、A’およびA11’である化合物)から化合物A2を同様に製造することができる。According to this step, compound A2 is similarly produced from compound A1 or compound A4 ′ (compounds in which A 1 , A 7 and A 11 in compound A4 are A 1 ′, A 7 ′ and A 11 ′, respectively). Can do.

2−2:化合物A2からの化合物Dを経た化合物Eの製造
化合物A2から化合物Dを製造する工程において用いられる溶媒としては、アセトン、ジエチルケトンなどのケトン系溶媒、ジエチルエーテル、ジイソプロピルエーテル、ジオキサン、テトラヒドロフランなどのエーテル系溶媒、酢酸エチル、酢酸ブチルなどのエステル系溶媒、N,N−ジメチルホルムアミド、N,N−ジメチルアセトアミド、ジメチルスルホキシド、アセトニトリルなどの非プロトン性極性有機溶媒、ジクロロメタン、クロロホルムなどのハロゲン化炭化水素系溶媒、トルエンなどの芳香族炭化水素系溶媒、およびこれらの混合溶媒が挙げられる。
2-2: Production of Compound E via Compound D from Compound A2 Solvents used in the step of producing compound D from compound A2 include ketone solvents such as acetone and diethyl ketone, diethyl ether, diisopropyl ether, dioxane, Ether solvents such as tetrahydrofuran, ester solvents such as ethyl acetate and butyl acetate, aprotic polar organic solvents such as N, N-dimethylformamide, N, N-dimethylacetamide, dimethyl sulfoxide and acetonitrile, dichloromethane and chloroform Examples include halogenated hydrocarbon solvents, aromatic hydrocarbon solvents such as toluene, and mixed solvents thereof.

1位および11位の水酸基の保護には、目的とするRに対応するジメトキシプロパン、アセトン、置換されていてもよいベンズアルデヒドまたはそのジメチルアセタール体、2−メトキシプロペン、2−エトキシプロペン、ホスゲン、トリホスゲン、トリクロロアセチルクロリド、p−ニトロベンジルオキシカルボニルクロリド、カルボニルジイミダゾールなどを用いることができる。また、p−トルエンスルホン酸、p−トルエンスルホン酸1水和物、p−トルエンスルホン酸ピリジニウム塩、10−カンファースルホン酸、フッ化水素、塩酸、臭化水素、硫酸、ヨウ素、塩化鉄、塩化スズ、塩化亜鉛、塩化アルミニウム、トリメチルクロロシラン、トリメチルシリルトリフレート、2,3−ジクロロ−5,6−ジシアノ−1,4−ベンゾキノンなどの酸触媒(好ましくはp−トルエンスルホン酸ピリジニウム塩およびp−トルエンスルホン酸)を、化合物A2に対して0.001〜20等量(より好ましくは0.01〜5等量、さらに好ましくは0.01〜0.04等量)の使用量で用いることが好ましい。1-position and 11-position of the protection of hydroxyl group, dimethoxypropane, acetone, optionally substituted benzaldehyde or a dimethyl acetal thereof corresponding to R 2 of interest, 2-methoxypropene, 2-ethoxy propene, phosgene, Triphosgene, trichloroacetyl chloride, p-nitrobenzyloxycarbonyl chloride, carbonyldiimidazole and the like can be used. P-toluenesulfonic acid, p-toluenesulfonic acid monohydrate, p-toluenesulfonic acid pyridinium salt, 10-camphorsulfonic acid, hydrogen fluoride, hydrochloric acid, hydrogen bromide, sulfuric acid, iodine, iron chloride, chloride Acid catalysts such as tin, zinc chloride, aluminum chloride, trimethylchlorosilane, trimethylsilyl triflate, 2,3-dichloro-5,6-dicyano-1,4-benzoquinone (preferably p-toluenesulfonic acid pyridinium salt and p-toluene (Sulphonic acid) is preferably used in an amount of 0.001 to 20 equivalents (more preferably 0.01 to 5 equivalents, more preferably 0.01 to 0.04 equivalents) relative to compound A2. .

反応温度は、好ましくは−20℃〜50℃の範囲とされ、より好ましくは室温〜50℃の範囲とされる。反応時間は、0.5時間〜48時間の範囲とすることが好ましい。   The reaction temperature is preferably in the range of −20 ° C. to 50 ° C., more preferably in the range of room temperature to 50 ° C. The reaction time is preferably in the range of 0.5 to 48 hours.

さらに詳しくは、例えば、RがD−1である化合物DおよびEを得る場合は、p−トルエンスルホン酸、p−トルエンスルホン酸1水和物、p−トルエンスルホン酸ピリジニウム塩、10−カンファースルホン酸などの酸触媒を、化合物A2に対して0.001〜20等量、好ましくは0.01〜5等量、より好ましくは0.01〜0.04等量の量で使用し、ジメトキシプロパン、2−メトキシプロペン、2−エトキシプロペンなどの保護基導入試薬と反応させるか、あるいはアセトン溶媒中でp−トルエンスルホン酸、p−トルエンスルホン酸ピリジニウム塩、硫酸または硫酸銅を、化合物A2に対して0.001〜20等量の量で使用して反応させることができる。More specifically, for example, when obtaining compounds D and E in which R 2 is D-1, p-toluenesulfonic acid, p-toluenesulfonic acid monohydrate, p-toluenesulfonic acid pyridinium salt, 10-camphor An acid catalyst such as sulfonic acid is used in an amount of 0.001 to 20 equivalents, preferably 0.01 to 5 equivalents, more preferably 0.01 to 0.04 equivalents relative to Compound A2, and dimethoxy The compound A2 is reacted with a protecting group-introducing reagent such as propane, 2-methoxypropene, 2-ethoxypropene, or p-toluenesulfonic acid, p-toluenesulfonic acid pyridinium salt, sulfuric acid or copper sulfate in an acetone solvent. It can be used and reacted in an amount of 0.001 to 20 equivalents.

がD−2である化合物DおよびEを得る場合は、p−トルエンスルホン酸、p−トルエンスルホン酸1水和物、p−トルエンスルホン酸ピリジニウム塩、塩化亜鉛などの酸触媒を、化合物A2に対して0.001〜20等量の量で使用し、置換されていてもよいベンズアルデヒドまたはそのジメチルアセタール体を反応させることができる。When compounds D and E in which R 2 is D-2 are obtained, an acid catalyst such as p-toluenesulfonic acid, p-toluenesulfonic acid monohydrate, p-toluenesulfonic acid pyridinium salt, zinc chloride is used as the compound. It can be used in an amount of 0.001 to 20 equivalents relative to A2, and can be reacted with an optionally substituted benzaldehyde or its dimethylacetal.

次に、化合物Dから化合物Eを製造する工程は無溶媒で実施することもできるが、溶媒を用いて実施することもできる。用いられる溶媒としては、アセトン、ジエチルケトンなどのケトン系溶媒、ジエチルエーテル、ジイソプロピルエーテル、ジオキサン、テトラヒドロフランなどのエーテル系溶媒、酢酸エチル、酢酸ブチルなどのエステル系溶媒、N,N−ジメチルホルムアミド、ジメチルスルホキシド、N,N−ジメチルアセトアミド、アセトニトリルなどの非プロトン性極性有機溶媒、ピリジンなどの極性有機溶媒、ジクロロメタン、クロロホルムなどのハロゲン化炭化水素系溶媒、トルエンなどの芳香族炭化水素系溶媒およびこれらの混合溶媒が挙げられる。   Next, although the process of manufacturing the compound E from the compound D can be implemented without a solvent, it can also be implemented using a solvent. Solvents used include ketone solvents such as acetone and diethyl ketone, ether solvents such as diethyl ether, diisopropyl ether, dioxane and tetrahydrofuran, ester solvents such as ethyl acetate and butyl acetate, N, N-dimethylformamide, dimethyl Aprotic polar organic solvents such as sulfoxide, N, N-dimethylacetamide, acetonitrile, polar organic solvents such as pyridine, halogenated hydrocarbon solvents such as dichloromethane and chloroform, aromatic hydrocarbon solvents such as toluene, and the like A mixed solvent is mentioned.

1bに相当する7位水酸基の保護基の導入は、R1b−Halで表されるR1bのハロゲン化物、R1bOH、R1bCl、(R1b2O、混合酸無水物、または3,4−ジヒドロピランを使用し、塩基の存在下、酸の存在下またはこれらの非存在下で、またはジシクロヘキシルカルボジイミド、1−エチル−3−(3−ジメチルアミノプロピル)カルボジイミド塩酸塩、カルボニルジイミダゾール、ジピリジルジスルフィド、ジイミダゾイルジスルフィド、1,3,5−トリクロロベンゾイルクロリド、1,3,5−トリクロロベンゾイル無水物、PyBop、PyBropなどの縮合剤を使用することによって行なうことができる。The introduction of protecting groups at the 7- hydroxyl groups corresponding to R 1b are the halides of R 1b represented by R 1b -Hal, R 1b OH, R 1b Cl, (R 1b) 2 O, mixed anhydride, or 3,4-dihydropyran is used, in the presence of a base, in the presence or absence of an acid, or dicyclohexylcarbodiimide, 1-ethyl-3- (3-dimethylaminopropyl) carbodiimide hydrochloride, It can be carried out by using a condensing agent such as imidazole, dipyridyl disulfide, diimidazoyl disulfide, 1,3,5-trichlorobenzoyl chloride, 1,3,5-trichlorobenzoyl anhydride, PyBop, PyBrop.

用いられる塩基としては、炭酸ナトリウム、炭酸カリウム、水素化ナトリウム、tert-ブトキシカリウム、ナトリウムメトキシド、ナトリウムエトキシド、ピリジン、ジメチルアミノピリジン、イミダゾール、1,8−ジアザビシクロ[5.4.0]ウンデカ−7−エン、1,5−ジアザビシクロ[4.3.0]ノナ−5−エン、トリエチルアミン、ジイソプロピルエチルアミンなどが挙げられる。   Examples of the base used include sodium carbonate, potassium carbonate, sodium hydride, tert-butoxypotassium, sodium methoxide, sodium ethoxide, pyridine, dimethylaminopyridine, imidazole, 1,8-diazabicyclo [5.4.0] undeca. -7-ene, 1,5-diazabicyclo [4.3.0] non-5-ene, triethylamine, diisopropylethylamine and the like.

用いられる酸としては、p−トルエンスルホン酸、p−トルエンスルホン酸1水和物、p−トルエンスルホン酸ピリジニウム塩、10−カンファースルホン酸、塩酸、硫酸などが挙げられる。   Examples of the acid used include p-toluenesulfonic acid, p-toluenesulfonic acid monohydrate, p-toluenesulfonic acid pyridinium salt, 10-camphorsulfonic acid, hydrochloric acid, sulfuric acid and the like.

反応温度は、−20℃〜50℃の範囲とすることが好ましい。反応時間は、0.5時間〜7日間の範囲とすることが好ましい。   The reaction temperature is preferably in the range of −20 ° C. to 50 ° C. The reaction time is preferably in the range of 0.5 hours to 7 days.

さらに詳しくは、例えば、R1bをハロゲン原子で置換されていてもよい直鎖C1−4アルキルカルボニル基(例えば、アセチル基、クロロアセチル基)とする場合は、無溶媒か、あるいはテトラヒドロフラン、ジクロロメタン、N,N−ジメチルホルムアミドまたはピリジンおよびこれらの混合溶媒中で、R1bClまたは(R1b2Oを化合物Dに対して1〜20等量の量で使用し、塩基としてピリジン、ジメチルアミノピリジンまたはトリエチルアミンを化合物Dに対して0.1〜20等量の量で使用して、−20℃〜50℃で反応させることができる。More specifically, for example, when R 1b is a linear C 1-4 alkylcarbonyl group (for example, acetyl group, chloroacetyl group) optionally substituted with a halogen atom, it is solvent-free, tetrahydrofuran, dichloromethane , N, N-dimethylformamide or pyridine and a mixed solvent thereof, R 1b Cl or (R 1b ) 2 O is used in an amount of 1 to 20 equivalents relative to Compound D, and pyridine, dimethylamino as a base Pyridine or triethylamine can be used in an amount of 0.1 to 20 equivalents relative to Compound D and reacted at −20 ° C. to 50 ° C.

1bをハロゲン原子で置換されていてもよい−SiR基(ここで、R、RおよびRは、互いに独立して、直鎖もしくは分岐鎖状のC1−6アルキル基、またはフェニル基を表す)とする場合は、ジクロロメタン、クロロホルム、N,N−ジメチルホルムアミド、N,N−ジメチルアセトアミド、またはこれらの混合溶媒中で、R1bのハロゲン化物を化合物Dに対して1〜10等量の量で使用し、塩基としてイミダゾールを化合物Dに対して1〜10等量の量で使用して、−20℃〜50℃で反応させることができる。R 1b may be substituted with a halogen atom —SiR 3 R 4 R 5 group (wherein R 3 , R 4 and R 5 are independently of each other linear or branched C 1-6 In the case of dichloromethane, chloroform, N, N-dimethylformamide, N, N-dimethylacetamide, or a mixed solvent thereof, the halide of R 1b with respect to compound D In an amount of 1 to 10 equivalents, and imidazole as a base can be used in an amount of 1 to 10 equivalents relative to Compound D and reacted at -20 ° C to 50 ° C.

2−3:化合物Eからの化合物Fbの製造
化合物Eから化合物Fbを製造する工程において用いられる溶媒としては、メタノールなどの炭素数1〜4のアルコール溶媒、アセトン、ジエチルケトンなどのケトン系溶媒、ジエチルエーテル、ジイソプロピルエーテル、テトラヒドロフラン、ジオキサンなどのエーテル系溶媒、N,N−ジメチルホルムアミド、ジメチルスルホキシド、N,N−ジメチルアセトアミド、アセトニトリルなどの非プロトン性極性有機溶媒、ジクロロメタン、クロロホルムなどのハロゲン系溶媒、または水、およびこれらの混合溶媒が挙げられる。
2-3: Production of Compound Fb from Compound E As a solvent used in the step of producing Compound Fb from Compound E, alcohol solvents having 1 to 4 carbon atoms such as methanol, ketone solvents such as acetone and diethyl ketone, Ether solvents such as diethyl ether, diisopropyl ether, tetrahydrofuran and dioxane, aprotic polar organic solvents such as N, N-dimethylformamide, dimethyl sulfoxide, N, N-dimethylacetamide and acetonitrile, and halogen solvents such as dichloromethane and chloroform Or water and a mixed solvent thereof.

部分の脱保護には、保護基のタイプに合わせて、酢酸、トリフルオロ酢酸、トリフルオロ酢酸無水物、フッ化水素、塩酸、臭化水素、硫酸、p−トルエンスルホン酸、p−トルエンスルホン酸1水和物、p−トルエンスルホン酸ピリジニウム塩、10−カンファースルホン酸などの有機酸、または塩化ホウ素、臭化マグネシウム、ジニトロ亜鉛、塩化ビスマス、塩化セリウム、塩化鉄、塩化スズ、塩化亜鉛、塩化アルミニウム、パラジウムカーボン、水酸化パラジウムなどの水素化触媒を、化合物Eに対して0.01〜20等量の量で使用することができる。For deprotection of the R 2 moiety, acetic acid, trifluoroacetic acid, trifluoroacetic anhydride, hydrogen fluoride, hydrochloric acid, hydrogen bromide, sulfuric acid, p-toluenesulfonic acid, p-toluene, depending on the type of protecting group Sulfonic acid monohydrate, p-toluenesulfonic acid pyridinium salt, organic acid such as 10-camphorsulfonic acid, or boron chloride, magnesium bromide, dinitrozinc, bismuth chloride, cerium chloride, iron chloride, tin chloride, zinc chloride Hydrogenation catalysts such as aluminum chloride, palladium carbon and palladium hydroxide can be used in an amount of 0.01 to 20 equivalents relative to Compound E.

反応温度は、−20℃〜50℃の範囲とすることが好ましい。反応時間は、0.5時間〜48時間の範囲とすることが好ましい。   The reaction temperature is preferably in the range of −20 ° C. to 50 ° C. The reaction time is preferably in the range of 0.5 to 48 hours.

さらに詳しくは、例えば、化合物EにおけるRがD−1である場合は、水、メタノール、テトラヒドロフラン、ジクロロメタン、クロロホルム、N,N−ジメチルホルムアミド、アセトニトリルもしくは酢酸、またはこれらの混合溶媒中で、塩酸、酢酸、p−トルエンスルホン酸、p−トルエンスルホン酸1水和物、p−トルエンスルホン酸ピリジニウム塩、またはジニトロ亜鉛、塩化ビスマス(好ましくは、塩酸、酢酸、p−トルエンスルホン酸ピリジニウム塩)を、化合物Eに対して0.01〜20等量の量で使用して、−20℃〜50℃、好ましくは室温〜40℃で反応させることによって、化合物Fbを得ることができる。More specifically, for example, when R 2 in compound E is D-1, hydrochloric acid in water, methanol, tetrahydrofuran, dichloromethane, chloroform, N, N-dimethylformamide, acetonitrile or acetic acid, or a mixed solvent thereof. , Acetic acid, p-toluenesulfonic acid, p-toluenesulfonic acid monohydrate, p-toluenesulfonic acid pyridinium salt, or dinitrozinc, bismuth chloride (preferably hydrochloric acid, acetic acid, p-toluenesulfonic acid pyridinium salt) Using the compound E in an amount of 0.01 to 20 equivalents, the compound Fb can be obtained by reacting at −20 ° C. to 50 ° C., preferably room temperature to 40 ° C.

がD−2である場合は、水、メタノール、テトラヒドロフランもしくはクロロホルム、またはこれらの混合溶媒中で、10−カンファースルホン酸を、化合物Eに対して0.01〜20等量の量で使用して、−20℃〜50℃、好ましくは室温〜40℃で反応させることによって、化合物Fbを得ることができる。When R 2 is D-2, 10-camphorsulfonic acid is used in an amount of 0.01 to 20 equivalents relative to Compound E in water, methanol, tetrahydrofuran or chloroform, or a mixed solvent thereof. Then, the compound Fb can be obtained by reacting at −20 ° C. to 50 ° C., preferably at room temperature to 40 ° C.

3:化合物Faからの化合物B2aの製造および化合物Fbからの化合物B2bの製造
化合物Faから化合物B2aを製造する工程、および化合物Fbから化合物B2bを製造する工程は、無溶媒で実施することもできるが、溶媒を用いて実施することもできる。用いられる溶媒としては、アセトン、ジエチルケトンなどのケトン系溶媒、ジエチルエーテル、ジイソプロピルエーテル、テトラヒドロフランなどのエーテル系溶媒、酢酸エチル、酢酸ブチルなどのエステル系溶媒、N,N−ジメチルホルムアミド、N,N−ジメチルアセトアミド、ジメチルスルホキシド、アセトニトリルなどの非プロトン性極性有機溶媒、ジクロロメタン、クロロホルムなどのハロゲン化炭化水素系溶媒、トルエンなどの芳香族炭化水素系溶媒およびこれらの混合溶媒が挙げられる。
3: Production of Compound B2a from Compound Fa and Production of Compound B2b from Compound Fb The step of producing Compound B2a from Compound Fa and the step of producing Compound B2b from Compound Fb can be carried out without solvent. It can also be carried out using a solvent. Solvents used include ketone solvents such as acetone and diethyl ketone, ether solvents such as diethyl ether, diisopropyl ether and tetrahydrofuran, ester solvents such as ethyl acetate and butyl acetate, N, N-dimethylformamide, N, N -Aprotic polar organic solvents such as dimethylacetamide, dimethylsulfoxide and acetonitrile, halogenated hydrocarbon solvents such as dichloromethane and chloroform, aromatic hydrocarbon solvents such as toluene, and mixed solvents thereof.

1位および11位へのR’基の導入は、目的とするR’に対応するR’OH、R’Cl、(R’)2O、または混合酸無水物を使用し、塩基の存在下または非存在下で、またはジシクロヘキシルカルボジイミド、1−エチル−3−(3−ジメチルアミノプロピル)カルボジイミド塩酸塩、カルボニルジイミダゾール、ジピリジルジスルフィド、ジイミダゾイルジスルフィド、1,3,5−トリクロロベンゾイルクロリド、1,3,5−トリクロロベンゾイル無水物、PyBop、PyBropなどの縮合剤を用いることによって行うことができる。The introduction of the R ′ group at the 1-position and the 11-position is carried out using R′OH, R′Cl, (R ′) 2 O, or a mixed acid anhydride corresponding to the target R ′ in the presence of a base. Or in the absence, or dicyclohexylcarbodiimide, 1-ethyl-3- (3-dimethylaminopropyl) carbodiimide hydrochloride, carbonyldiimidazole, dipyridyl disulfide, diimidazolyl disulfide, 1,3,5-trichlorobenzoyl chloride, 1 , 3,5-trichlorobenzoyl anhydride, PyBop, PyBrop, and the like.

用いられる塩基としては、炭酸ナトリウム、炭酸カリウム、水素化ナトリウム、tert-ブトキシカリウム、ナトリウムメトキシド、ナトリウムエトキシド、ピリジン、4−ジメチルアミノピリジン、イミダゾール、1,8−ジアザビシクロ[5.4.0]ウンデカ−7−エン、1,5−ジアザビシクロ[4.3.0]ノナ−5−エン、トリエチルアミン、ジイソプロピルエチルアミン(好ましくは、ピリジン)などが挙げられる。   As the base to be used, sodium carbonate, potassium carbonate, sodium hydride, tert-butoxy potassium, sodium methoxide, sodium ethoxide, pyridine, 4-dimethylaminopyridine, imidazole, 1,8-diazabicyclo [5.4.0] ] Undec-7-ene, 1,5-diazabicyclo [4.3.0] non-5-ene, triethylamine, diisopropylethylamine (preferably pyridine) and the like.

反応温度は、好ましくは−20℃〜50℃の範囲とされ、より好ましくは0℃〜30℃の範囲とされる。反応時間は、好ましくは0.5時間〜48時間の範囲とされる。   The reaction temperature is preferably in the range of −20 ° C. to 50 ° C., more preferably in the range of 0 ° C. to 30 ° C. The reaction time is preferably in the range of 0.5 hours to 48 hours.

4:化合物B2aまたは化合物B2bからの化合物Cの製造
化合物B2aまたは化合物B2bから化合物Cを製造する工程において用いられる溶媒としては、メタノールなどの炭素数1〜4のアルコール溶媒、ジエチルエーテル、ジイソプロピルエーテル、テトラヒドロフラン、ジオキサンなどのエーテル系溶媒、N,N−ジメチルホルムアミド、N,N−ジメチルアセトアミド、ジメチルスルホキシド、アセトニトリルなどの非プロトン性極性有機溶媒、ジクロロメタン、クロロホルムなどのハロゲン化炭化水素系溶媒、トルエンなどの芳香族炭化水素系溶媒、水およびこれらの混合溶媒が挙げられる。
4: Production of Compound C from Compound B2a or Compound B2b As a solvent used in the step of producing Compound C from Compound B2a or Compound B2b, an alcohol solvent having 1 to 4 carbon atoms such as methanol, diethyl ether, diisopropyl ether, Ether solvents such as tetrahydrofuran and dioxane, aprotic polar organic solvents such as N, N-dimethylformamide, N, N-dimethylacetamide, dimethyl sulfoxide and acetonitrile, halogenated hydrocarbon solvents such as dichloromethane and chloroform, toluene and the like Aromatic hydrocarbon solvents, water and mixed solvents thereof.

化合物B2bにおけるR1bの脱保護は、保護基の種類に応じて行うことができる。例えば、R1bがホルミル基、アセチル基、またはクロロアセチル基である場合は、塩基として、炭酸ナトリウム、炭酸カリウム、炭酸水素ナトリウム、炭酸水素カリウム、水酸化ナトリウム、水酸化カリウム、水素化ナトリウム、水素化カリウム、シアン化ナトリウム、シアン化カリウム、水酸化マグネシウム、水酸化カルシウム、水酸化リチウム、水酸化バリウムなどの無機塩基、ナトリウムメトキシド、ナトリウムエトキシド、tert-ブトキシカリウムなどのアルカリ金属、アルカリ土類金属のアルコキシド、1,8−ジアザビシクロ[5.4.0]ウンデカ−7−エン、1,5−ジアザビシクロ[4.3.0]ノナ−5−エン、トリエチルアミン、ジイソプロピルエチルアミン、ピリジン、ヒドラジン、グアニジンなどの有機塩基(好ましくは、ナトリウムメトキシド、水酸化ナトリウム、炭酸ナトリウムまたは炭酸水素ナトリウム)などを、化合物B2bに対して0.01〜10等量、好ましくは0.1〜2等量の量で使用することができる。Deprotection of R 1b in compound B2b can be carried out depending on the type of protecting group. For example, when R 1b is a formyl group, an acetyl group, or a chloroacetyl group, the base is sodium carbonate, potassium carbonate, sodium hydrogen carbonate, potassium hydrogen carbonate, sodium hydroxide, potassium hydroxide, sodium hydride, hydrogen Inorganic bases such as potassium halide, sodium cyanide, potassium cyanide, magnesium hydroxide, calcium hydroxide, lithium hydroxide and barium hydroxide, alkali metals such as sodium methoxide, sodium ethoxide and potassium tert-butoxy, alkaline earth metals Alkoxides, 1,8-diazabicyclo [5.4.0] undec-7-ene, 1,5-diazabicyclo [4.3.0] non-5-ene, triethylamine, diisopropylethylamine, pyridine, hydrazine, guanidine, etc. Organic base (preferably Can be used in an amount of 0.01-10 equivalents, preferably 0.1-2 equivalents, relative to compound B2b. .

1bがハロゲン原子で置換されていてもよいC1−6アルキルオキシ−C1−6アルキル基、ハロゲン原子で置換されていてもよいC1−6アルキルチオ−C1−6アルキル基、ハロゲン原子で置換されていてもよい直鎖、分岐鎖、または環状のC1−4アルキル基、ハロゲン原子で置換されていてもよいC2−6アルケニル基、ハロゲン原子で置換されていてもよいC2−6アルキニル基または、置換されていてもよい飽和もしくは不飽和の5もしくは6員の複素環、置換されていてもよいベンジル基、またはハロゲン原子で置換されていてもよい−SiR基である場合は、p−トルエンスルホン酸、p−トルエンスルホン酸1水和物、p−トルエンスルホン酸ピリジニウム塩、フッ化水素-ピリジン、トリフッ化水素−トリエチルアミン、酢酸、塩化酢酸、トリフルオロ酢酸、トリフルオロ酢酸無水物、フッ化水素、塩酸、臭化水素、硫酸、チオフェノール、10−カンファースルホン酸などの有機酸、または塩化ホウ素、臭化ホウ素、臭化マグネシウム、塩化セリウム、塩化銅、硫酸銅、塩化リチウム、塩化鉄、塩化スズ、塩化亜鉛、臭化亜鉛、塩化アルミニウム、塩化チタン、パラジウムカーボン、水酸化パラジウム、塩化パラジウムなどの水素化触媒、トリメチルクロロシラン、トリメチルヨードシラン、トリメチルシリルトリフレート、2,3−ジクロロ−5,6−ジシアノ−1,4−ベンゾキノンなどを、化合物B2bに対して0.1〜10等量の量で使用することができる。R 1b may be a C 1-6 alkyloxy-C 1-6 alkyl group optionally substituted with a halogen atom, a C 1-6 alkylthio-C 1-6 alkyl group optionally substituted with a halogen atom, a halogen atom A linear, branched or cyclic C 1-4 alkyl group which may be substituted with C 2-6 alkenyl group which may be substituted with a halogen atom, or C 2 which may be substituted with a halogen atom A -6 alkynyl group or an optionally substituted saturated or unsaturated 5- or 6-membered heterocyclic ring, an optionally substituted benzyl group, or an optionally substituted -SiR 3 R 4 R If it is 5 group, p- toluenesulfonic acid, p- toluenesulfonic acid monohydrate, p- toluenesulfonate pyridinium salt, hydrogen fluoride - pyridine, trifluoride Kamizu -Organic acids such as triethylamine, acetic acid, chloroacetic acid, trifluoroacetic acid, trifluoroacetic anhydride, hydrogen fluoride, hydrochloric acid, hydrogen bromide, sulfuric acid, thiophenol, 10-camphorsulfonic acid, or boron chloride, boron bromide , Magnesium bromide, cerium chloride, copper chloride, copper sulfate, lithium chloride, iron chloride, tin chloride, zinc chloride, zinc bromide, aluminum chloride, titanium chloride, palladium carbon, palladium hydroxide, palladium chloride, etc. , Trimethylchlorosilane, trimethyliodosilane, trimethylsilyl triflate, 2,3-dichloro-5,6-dicyano-1,4-benzoquinone, etc. are used in an amount of 0.1 to 10 equivalents relative to compound B2b. Can do.

反応温度は、好ましくは−20℃〜50℃の範囲とされ、より好ましくは0℃〜室温の範囲とされる。反応時間は、好ましくは0.5時間〜7日間の範囲とされる。   The reaction temperature is preferably in the range of −20 ° C. to 50 ° C., more preferably in the range of 0 ° C. to room temperature. The reaction time is preferably in the range of 0.5 hours to 7 days.

この工程によれば、化合物B2aから化合物Cを同様に製造することができる。   According to this step, compound C can be similarly produced from compound B2a.

本発明の具体例を以下に示すが、本発明はそれらに限定されるものではない。   Specific examples of the present invention are shown below, but the present invention is not limited thereto.

実施例1:
7−デアセチルピリピロペンAの合成
ピリピロペンA(30mg)を80%メタノール水溶液(2mL)に溶解し、1,8−ジアザビシクロ[5.4.0]−ウンデカ−7−エン(9mg)を加え、室温で1時間半撹拌した。反応溶液に酢酸を加え反応を止めた後、減圧下で溶媒を留去して、残渣に水を加え、酢酸エチルで抽出した。酢酸エチル層を飽和食塩水で洗浄し、無水硫酸マグネシウムで乾燥後、減圧下で溶媒を留去して、7−デアセチルピリピロペンAの粗生成物を得た。これを分取薄層カラムクロマトグラフィー(Merck シリカゲル60F254 0.5 mm、アセトン:ヘキサン=1:1)にて精製して、7−デアセチルピリピロペンA(17mg、収率61%)を得た。ESI−MSおよびH−NMRの測定結果より、特開平08−259569号公報に記載されているPR−7であることを確認した。
Example 1:
Synthesis of 7-deacetylpyripyropene A Pyripyropene A (30 mg) was dissolved in 80% aqueous methanol (2 mL), and 1,8-diazabicyclo [5.4.0] -undec-7-ene (9 mg) was added. And stirred at room temperature for 1.5 hours. Acetic acid was added to the reaction solution to stop the reaction, the solvent was distilled off under reduced pressure, water was added to the residue, and the mixture was extracted with ethyl acetate. The ethyl acetate layer was washed with saturated brine, dried over anhydrous magnesium sulfate, and then the solvent was distilled off under reduced pressure to obtain a crude product of 7-deacetylpyripyropene A. This was purified by preparative thin-layer column chromatography (Merck silica gel 60F 254 0.5 mm, acetone: hexane = 1: 1) to obtain 7-deacetylpyripyropene A (17 mg, 61% yield). . From the measurement results of ESI-MS and 1 H-NMR, it was confirmed that it was PR-7 described in JP-A-08-2559569.

実施例2:
7−O−tert−ブチルジメチルシリル−7−デアセチルピリピロペンAの合成
実施例1の方法で合成した7−デアセチルピリピロペンA(30mg)をN,N−ジメチルホルムアミド(5mL)に溶解し、イミダゾール(113mg)、tert−ブチルジメチルクロロシラン(250mg)を加えた。室温で24時間撹拌後、反応溶液を水にあけ、酢酸エチルで抽出した。酢酸エチル層を飽和食塩水で洗浄し、無水硫酸マグネシウムで乾燥後、減圧下で溶媒を留去して、7−O−tert−ブチルジメチルシリル−7−デアセチルピリピロペンAの粗生成物(470mg)を得た。
Example 2:
Synthesis of 7-O-tert-butyldimethylsilyl-7-deacetylpyripyropene A 7-deacetylpyripyropene A (30 mg) synthesized by the method of Example 1 was added to N, N-dimethylformamide (5 mL). After dissolution, imidazole (113 mg) and tert-butyldimethylchlorosilane (250 mg) were added. After stirring at room temperature for 24 hours, the reaction solution was poured into water and extracted with ethyl acetate. The ethyl acetate layer was washed with saturated brine, dried over anhydrous magnesium sulfate, and the solvent was distilled off under reduced pressure to give a crude product of 7-O-tert-butyldimethylsilyl-7-deacetylpyridopopenen A. (470 mg) was obtained.

ESI-MS:m/z 656 (M+H)+
1H-NMR (CDCl3):δ 0.11 (3H, s), 0.16 (3H, s), 0.90 (3H,s), 0.96 (9H, s), 1.30-1.38 (1H, m), 1.32-1.37 (1H, m), 1.41 (3H, s), 1.60 (3H,s), 1.61-1.69 (2H, m), 1.77-1.92 (1H, m), 2.05 (6H, s), 2.15 (1H, m), 2.89 (1H,d, J = 2.4 Hz), 3.64-3.70 (2H, m), 3.73 (1H, d, J = 11.6 Hz), 3.83 (1H, d, J = 11.6 Hz), 4.78 (1H, dd, J = 4.8, 11.2 Hz), 4.99 (1H, m), 6.36 (1H, s), 7.42 (1H,dd, J = 4.8, 8.0 Hz), 8.11 (1H, d, J = 8.0 Hz), 8.70 (1H, d, J = 4.4 Hz), 9.00 (1H, d, J = 2.0 Hz).
ESI-MS: m / z 656 (M + H) + ;
1 H-NMR (CDCl 3 ): δ 0.11 (3H, s), 0.16 (3H, s), 0.90 (3H, s), 0.96 (9H, s), 1.30-1.38 (1H, m), 1.32-1.37 (1H, m), 1.41 (3H, s), 1.60 (3H, s), 1.61-1.69 (2H, m), 1.77-1.92 (1H, m), 2.05 (6H, s), 2.15 (1H, m ), 2.89 (1H, d, J = 2.4 Hz), 3.64-3.70 (2H, m), 3.73 (1H, d, J = 11.6 Hz), 3.83 (1H, d, J = 11.6 Hz), 4.78 (1H , dd, J = 4.8, 11.2 Hz), 4.99 (1H, m), 6.36 (1H, s), 7.42 (1H, dd, J = 4.8, 8.0 Hz), 8.11 (1H, d, J = 8.0 Hz) 8.70 (1H, d, J = 4.4 Hz), 9.00 (1H, d, J = 2.0 Hz).

実施例3:
7−O−tert−ブチルジメチルシリル−1,7,11−トリデアセチルピリピロペンAの合成
実施例2で得た7−O−tert−ブチルジメチルシリル−7−デアセチルピリピロペンA(470mg)を88%メタノール水溶液(40mL)に溶解し、炭酸カリウム(307mg)を加え、室温で19時間半撹拌した。減圧下で溶媒を留去して、残渣に水、酢酸エチルを加えた。溶解しない固形物をろ取することで、7−O−tert−ブチルジメチルシリル−1,7,11−トリデアセチルピリピロペンA(65mg)を得た。母液を酢酸エチルで抽出した後、酢酸エチル層を飽和食塩水で洗浄し、無水硫酸マグネシウムで乾燥した。減圧下で溶媒を留去して、7−O−tert−ブチルジメチルシリル−1,7,11−トリデアセチルピリピロペンA(235mg)を得た。あわせて300mg(実施例2から2段階の収率95%)の7−O−tert−ブチルジメチルシリル−1,7,11−トリデアセチルピリピロペンAを得た。
Example 3:
Synthesis of 7-O-tert-butyldimethylsilyl-1,7,11-trideacetylpyripyropene A 7-O-tert-butyldimethylsilyl-7-deacetylpyripyropene A (470 mg) obtained in Example 2 ) Was dissolved in 88% aqueous methanol (40 mL), potassium carbonate (307 mg) was added, and the mixture was stirred at room temperature for 19 hours and half. The solvent was distilled off under reduced pressure, and water and ethyl acetate were added to the residue. 7-O-tert-butyldimethylsilyl-1,7,11-trideacetylpyripyropene A (65 mg) was obtained by filtering the solid substance which does not melt | dissolve. The mother liquor was extracted with ethyl acetate, and then the ethyl acetate layer was washed with saturated brine and dried over anhydrous magnesium sulfate. The solvent was distilled off under reduced pressure to obtain 7-O-tert-butyldimethylsilyl-1,7,11-trideacetylpyripyropene A (235 mg). In addition, 300 mg (yield of 95% of the two steps from Example 2) of 7-O-tert-butyldimethylsilyl-1,7,11-trideacetylpyripyropene A was obtained.

ESI-MS:m/z 572 (M+H)+
1H-NMR (CD3OD):δ 0.08 (3H, s), 0.13 (3H, s), 0.64 (3H,s), 0.90 (9H, s), 1.19 (1H, dt, J = 3.6, 12.8 Hz), 1.31 (3H, s), 1.33-1.36 (2H,m), 1.48 (1H, t, J = 12.0 Hz), 1.53 (3H, s), 1.62-1.80 (3H, m), 1.99-2.03 (1H, m), 3.16 (1H, d, J = 10.8 Hz), 3.44 (1H, d, J = 10.8 Hz), 3.56 (1H, dd, J = 4.8,11.6 Hz), 3.76 (1H, dd, J = 5.2, 11.2 Hz), 4.86 (1H, d, J = 3.2 Hz), 6.47 (1H, s), 7.47 (1H, ddd, J = 0.8, 4.8, 8.0 Hz), 8.17 (1H, dt, J = 2.0, 8.4 Hz), 8.55 (1H, dd, J = 2.0, 4.8 Hz), 8.91 (1H, dd, J = 0.8, 2.4 Hz).
ESI-MS: m / z 572 (M + H) + ;
1 H-NMR (CD 3 OD): δ 0.08 (3H, s), 0.13 (3H, s), 0.64 (3H, s), 0.90 (9H, s), 1.19 (1H, dt, J = 3.6, 12.8 Hz), 1.31 (3H, s), 1.33-1.36 (2H, m), 1.48 (1H, t, J = 12.0 Hz), 1.53 (3H, s), 1.62-1.80 (3H, m), 1.99-2.03 (1H, m), 3.16 (1H, d, J = 10.8 Hz), 3.44 (1H, d, J = 10.8 Hz), 3.56 (1H, dd, J = 4.8, 11.6 Hz), 3.76 (1H, dd, J = 5.2, 11.2 Hz), 4.86 (1H, d, J = 3.2 Hz), 6.47 (1H, s), 7.47 (1H, ddd, J = 0.8, 4.8, 8.0 Hz), 8.17 (1H, dt, J = 2.0, 8.4 Hz), 8.55 (1H, dd, J = 2.0, 4.8 Hz), 8.91 (1H, dd, J = 0.8, 2.4 Hz).

実施例4:
7−O−tert−ブチルジメチルシリル−1,11−O−ジシクロプロパンカルボニル−1,7,11−トリデアセチルピリピロペンAの合成
実施例3の方法で合成した7−O−tert−ブチルジメチルシリル−1,7,11−トリデアセチルピリピロペンA(57mg)をN,N−ジメチルホルムアミド(2mL)に溶解し、0℃でピリジン(0.5mL)を加え、同温で30分撹拌し、シクロプロパンカルボニルクロリド(62mg)を加えた。同温で3時間撹拌後、反応溶液を水にあけ、クロロホルムで抽出した。クロロホルム層を飽和食塩水で洗浄し、無水硫酸ナトリウムで乾燥後、減圧下で溶媒を留去して、7−O−tert−ブチルジメチルシリル−1,11−O−ジシクロプロパンカルボニル−1,7,11−トリデアセチルピリピロペンAの粗生成物(87mg)を得た。これを分取薄層カラムクロマトグラフィー(Merck シリカゲル60F254 0.5mm、クロロホルム:メタノール=30:1)にて精製して、7−O−tert−ブチルジメチルシリル−1,11−O−ジシクロプロパンカルボニル−1,7,11−トリデアセチルピリピロペンA(67mg、収率95%)を得た。
Example 4:
Synthesis of 7-O-tert-butyldimethylsilyl-1,11-O-dicyclopropanecarbonyl-1,7,11-trideacetylpyrilopene A 7-O-tert-butyl synthesized by the method of Example 3 Dimethylsilyl-1,7,11-trideacetylpyrilopene A (57 mg) is dissolved in N, N-dimethylformamide (2 mL), pyridine (0.5 mL) is added at 0 ° C., and the mixture is stirred at the same temperature for 30 minutes. And cyclopropanecarbonyl chloride (62 mg) was added. After stirring at the same temperature for 3 hours, the reaction solution was poured into water and extracted with chloroform. The chloroform layer was washed with saturated brine, dried over anhydrous sodium sulfate, the solvent was distilled off under reduced pressure, and 7-O-tert-butyldimethylsilyl-1,11-O-dicyclopropanecarbonyl-1, A crude product (87 mg) of 7,11-trideacetylpyripyropene A was obtained. This was purified by preparative thin-layer column chromatography (Merck silica gel 60F 254 0.5 mm, chloroform: methanol = 30: 1), and 7-O-tert-butyldimethylsilyl-1,11-O-dicyclopropane. Carbonyl-1,7,11-trideacetylpyripyropene A (67 mg, 95% yield) was obtained.

ESI-MS:m/z 708 (M+H)+
1H-NMR (CDCl3):δ 0.11 (3H, s), 0.15 (3H, s), 0.85-0.88(4H, m), 0.91 (3H, s), 0.96 (9H, s), 0.92-1.01 (4H, m), 1.25-1.36 (1H, m), 1.42(3H, s), 1.45-1.47 (1H, m), 1.53-1.65 (5H, m), 1.58 (3H, s), 1.80-1.93 (2H, m),2.12-2.16 (1H, m), 2.81 (1H, d, J = 2.0 Hz), 3.65 (1H, d, J = 12.0 Hz), 3.70 (1H, m), 3.91 (1H, d, J = 11.6 Hz), 4.81 (1H, dd, J = 4.8, 11.6 Hz), 4.98 (1H, m),6.36 (1H, s), 7.41 (1H, dd, J = 4.8, 8.0 Hz), 8.10 (1H, dt, J = 2.0, 8.4 Hz), 8.69 (1H, dd, J = 1.6, 4.8 Hz), 9.00 (1H, d, J = 2.0 Hz).
ESI-MS: m / z 708 (M + H) + ;
1 H-NMR (CDCl 3 ): δ 0.11 (3H, s), 0.15 (3H, s), 0.85-0.88 (4H, m), 0.91 (3H, s), 0.96 (9H, s), 0.92-1.01 (4H, m), 1.25-1.36 (1H, m), 1.42 (3H, s), 1.45-1.47 (1H, m), 1.53-1.65 (5H, m), 1.58 (3H, s), 1.80-1.93 (2H, m), 2.12-2.16 (1H, m), 2.81 (1H, d, J = 2.0 Hz), 3.65 (1H, d, J = 12.0 Hz), 3.70 (1H, m), 3.91 (1H, d, J = 11.6 Hz), 4.81 (1H, dd, J = 4.8, 11.6 Hz), 4.98 (1H, m), 6.36 (1H, s), 7.41 (1H, dd, J = 4.8, 8.0 Hz), 8.10 (1H, dt, J = 2.0, 8.4 Hz), 8.69 (1H, dd, J = 1.6, 4.8 Hz), 9.00 (1H, d, J = 2.0 Hz).

実施例5:
1,11−O−ジシクロプロパンカルボニル−1,7,11−トリデアセチルピリピロペンAの合成
実施例4の方法で合成した7−O−tert−ブチルジメチルシリル−1,11−O−ジシクロプロパンカルボニル−1,7,11−トリデアセチルピリピロペンA(100mg)をテトラヒドロフラン(1.5mL)に溶解し、0℃でピリジン(0.6mL)、フッ化水素・ピリジン(0.9mL)を加えた。同温で4日間撹拌後、炭酸水素ナトリウム水溶液を加え、クロロホルムで抽出した。クロロホルム層を飽和食塩水で洗浄し、無水硫酸ナトリウムで乾燥後、減圧下で溶媒を留去して、1,11−O−ジシクロプロパンカルボニル−1,7,11−トリデアセチルピリピロペンAの粗生成物(92mg)を得た。これを分取薄層カラムクロマトグラフィー(Merck シリカゲル60F254 0.5 mm、クロロホルム:メタノール=20:1)にて精製して、1,11−O−ジシクロプロパンカルボニル−1,7,11−トリデアセチルピリピロペンA(79mg、収率95%)を得た。
Example 5:
Synthesis of 1,11-O-dicyclopropanecarbonyl-1,7,11-trideacetylpyripyropene A 7-O-tert-butyldimethylsilyl-1,11-O-di synthesized by the method of Example 4 Cyclopropanecarbonyl-1,7,11-trideacetylpyripyropene A (100 mg) is dissolved in tetrahydrofuran (1.5 mL), and pyridine (0.6 mL), hydrogen fluoride / pyridine (0.9 mL) at 0 ° C. Was added. After stirring at the same temperature for 4 days, an aqueous sodium hydrogen carbonate solution was added, and the mixture was extracted with chloroform. The chloroform layer was washed with saturated brine, dried over anhydrous sodium sulfate, and then the solvent was distilled off under reduced pressure to obtain 1,11-O-dicyclopropanecarbonyl-1,7,11-trideacetylpyripyropene A. Of crude product (92 mg) was obtained. This was purified by preparative thin-layer column chromatography (Merck Silica Gel 60F 254 0.5 mm, chloroform: methanol = 20: 1) to give 1,11-O-dicyclopropanecarbonyl-1,7,11-trideacetyl. Pyripyropene A (79 mg, 95% yield) was obtained.

ESI-MS:m/z 594 (M+H)+
1H-NMR (CDCl3):δ 0.85-0.88 (4H, m), 0.92 (3H, s), 0.96-1.01 (4H, m), 1.35 (1H, dt, J = 4.0, 12.6 Hz), 1.42 (3H, s), 1.45-1.50 (2H, m),1.56-1.63 (3H, m), 1.66 (3H, s), 1.79-1.93 (3H, m), 2.14 (1H, m), 2.17 (1H, d, J = 3.6 Hz), 2.85 (1H, d, J = 2.0 Hz), 3.74 (1H, d, J = 12.0 Hz), 3.78-3.82(1H, m), 3.86 (1H, d, J = 11.6 Hz), 4.82 (1H, dd, J = 5.2, 11.6 Hz), 4.99 (1H, m), 6.52 (1H, s), 7.42 (1H, dd, J = 4.8, 8.0 Hz), 8.11 (1H, dt, J = 1.9, 8.1 Hz), 8.70(1H, dd, J = 1.6, 4.8 Hz), 9.00 (1H, d, J = 2.0 Hz).
ESI-MS: m / z 594 (M + H) + ;
1 H-NMR (CDCl 3 ): δ 0.85-0.88 (4H, m), 0.92 (3H, s), 0.96-1.01 (4H, m), 1.35 (1H, dt, J = 4.0, 12.6 Hz), 1.42 (3H, s), 1.45-1.50 (2H, m), 1.56-1.63 (3H, m), 1.66 (3H, s), 1.79-1.93 (3H, m), 2.14 (1H, m), 2.17 (1H , d, J = 3.6 Hz), 2.85 (1H, d, J = 2.0 Hz), 3.74 (1H, d, J = 12.0 Hz), 3.78-3.82 (1H, m), 3.86 (1H, d, J = 11.6 Hz), 4.82 (1H, dd, J = 5.2, 11.6 Hz), 4.99 (1H, m), 6.52 (1H, s), 7.42 (1H, dd, J = 4.8, 8.0 Hz), 8.11 (1H, dt, J = 1.9, 8.1 Hz), 8.70 (1H, dd, J = 1.6, 4.8 Hz), 9.00 (1H, d, J = 2.0 Hz).

実施例6:
7−デアセチル−7−O−テトラヒドロピラニルピリピロペンAの合成
実施例1の方法で得た7−デアセチルピリピロペンA(500mg)をジクロロメタン(10mL)に溶解し、3,4−ジヒドロピラン(372mg)、p−トルエンスルホン酸ピリジニウム塩(348mg)を加えた。室温で73時間半撹拌後、反応溶液を水にあけ、クロロホルムで抽出した。クロロホルム層を飽和食塩水で洗浄し、無水硫酸マグネシウムで乾燥後、減圧下で溶媒を留去して、7−デアセチル−7−O−テトラヒドロピラニルピリピロペンA(742mg)の粗生成物を得た。ESI−MSおよびH−NMRの測定結果より、特開平08−259569号公報に記載されているPR−44であることを確認した。
Example 6:
Synthesis of 7-deacetyl-7-O-tetrahydropyranylpyrpyropenpen A 7-deacetylpyripyropene A (500 mg) obtained by the method of Example 1 was dissolved in dichloromethane (10 mL), and 3,4-dihydro Pyran (372 mg) and p-toluenesulfonic acid pyridinium salt (348 mg) were added. After stirring at room temperature for 73 hours and a half, the reaction solution was poured into water and extracted with chloroform. The chloroform layer was washed with saturated brine, dried over anhydrous magnesium sulfate, and then the solvent was distilled off under reduced pressure to give a crude product of 7-deacetyl-7-O-tetrahydropyranylpyripyropene A (742 mg). Obtained. From the measurement results of ESI-MS and 1 H-NMR, it was confirmed that it was PR-44 described in JP-A-08-2559569.

実施例7:
1,7,11−トリデアセチル−7−O−テトラヒドロピラニルピリピロペンAの合成
実施例6で得た7−デアセチル−7−O−テトラヒドロピラニルピリピロペンA(742mg)を66%メタノール水溶液(9mL)に溶解し、炭酸カリウム(511mg)を加え、室温で4時間撹拌した。水を加え、溶解しない固形物をろ取することで、1,7,11−トリデアセチル−7−O−テトラヒドロピラニルピリピロペンA(453mg、実施例6から2段階の収率90%)を得た。
Example 7:
Synthesis of 1,7,11-trideacetyl-7-O-tetrahydropyranyl pyripyropene A 7-deacetyl-7-O-tetrahydropyranyl pyropyropene A (742 mg) obtained in Example 6 was dissolved in 66% methanol. It melt | dissolved in aqueous solution (9 mL), potassium carbonate (511 mg) was added, and it stirred at room temperature for 4 hours. 1,7,11-Trideacetyl-7-O-tetrahydropyranylpyrilopene A (453 mg, 90% yield in two steps from Example 6) was obtained by adding water and filtering out the insoluble solid. Got.

ESI-MS:m/z 542 (M+H)+ESI-MS: m / z 542 (M + H) + .

実施例8:
1,11−O−ジシクロプロパンカルボニル−1,7,11−トリデアセチル−7−O−テトラヒドロピラニルピリピロペンAの合成
実施例7の方法で合成した1,7,11−トリデアセチル−7−O−テトラヒドロピラニルピリピロペンA(450mg)をN,N−ジメチルホルムアミド(6mL)に溶解し、0℃でピリジン(3mL)を加え、同温で10分撹拌し、シクロプロパンカルボニルクロリド(525mg)を加えた。同温で1時間撹拌後、反応溶液を水にあけ、クロロホルムで抽出した。クロロホルム層を飽和食塩水で洗浄し、無水硫酸マグネシウムで乾燥後、減圧下で溶媒を留去して、1,11−O−ジシクロプロパンカルボニル−1,7,11−トリデアセチル−7−O−テトラヒドロピラニルピリピロペンAの粗生成物(800mg)を得た。
Example 8:
Synthesis of 1,11-O-dicyclopropanecarbonyl-1,7,11-trideacetyl-7-O-tetrahydropyranyl pyripyropene A 1,7,11-trideacetyl- synthesized by the method of Example 7 Dissolve 7-O-tetrahydropyranyl pyripyropene A (450 mg) in N, N-dimethylformamide (6 mL), add pyridine (3 mL) at 0 ° C., stir at the same temperature for 10 minutes, and cyclopropanecarbonyl chloride. (525 mg) was added. After stirring at the same temperature for 1 hour, the reaction solution was poured into water and extracted with chloroform. The chloroform layer was washed with saturated brine, dried over anhydrous magnesium sulfate, the solvent was distilled off under reduced pressure, and 1,11-O-dicyclopropanecarbonyl-1,7,11-trideacetyl-7-O. -Crude product (800 mg) of tetrahydropyranylpyripyropene A was obtained.

ESI-MS:m/z 678 (M+H)+ESI-MS: m / z 678 (M + H) + .

実施例9:
1,11−O−ジシクロプロパンカルボニル−1,7,11−トリデアセチルピリピロペンAの合成
実施例8で得た1,11−O−ジシクロプロパンカルボニル−1,7,11−トリデアセチル−7−O−テトラヒドロピラニルピリピロペンA(800mg)をメタノール(8mL)に溶解し、0℃でp−トルエンスルホン酸1水和物(142mg)を加えた。同温で21時間半撹拌後、炭酸水素ナトリウム水溶液を加え、減圧下でメタノールを留去して酢酸エチルで抽出した。酢酸エチル層を飽和食塩水で洗浄し、無水硫酸マグネシウムで乾燥後、減圧下で溶媒を留去して、1,11−O−ジシクロプロパンカルボニル−1,7,11−トリデアセチルピリピロペンAの粗生成物(570mg)を得た。これをシリカゲルクロマトグラフィー(Mega Bond Elut (Varian)、アセトン:ヘキサン=3:5)にて精製して、1,11−O−ジシクロプロパンカルボニル−1,7,11−トリデアセチルピリピロペンA(346mg、実施例8から2段階の収率70%)を得た。実施例5のESI−MSデータおよびH−NMRデータと一致した。
Example 9:
Synthesis of 1,11-O-dicyclopropanecarbonyl-1,7,11-trideacetylpyripyropene A 1,11-O-dicyclopropanecarbonyl-1,7,11-trideacetyl obtained in Example 8 -7-O-tetrahydropyranylpyripyropene A (800 mg) was dissolved in methanol (8 mL), and p-toluenesulfonic acid monohydrate (142 mg) was added at 0 ° C. After stirring at the same temperature for 21 hours and a half, an aqueous sodium hydrogen carbonate solution was added, methanol was distilled off under reduced pressure, and the mixture was extracted with ethyl acetate. The ethyl acetate layer was washed with saturated brine, dried over anhydrous magnesium sulfate, and then the solvent was distilled off under reduced pressure to give 1,11-O-dicyclopropanecarbonyl-1,7,11-trideacetylpyripyropene. A crude product of A (570 mg) was obtained. This was purified by silica gel chromatography (Mega Bond Elut (Varian), acetone: hexane = 3: 5), and 1,11-O-dicyclopropanecarbonyl-1,7,11-trideacetylpyripyropene A (346 mg, 2-step yield 70% from Example 8). It was in agreement with the ESI-MS data and 1 H-NMR data of Example 5.

実施例10:
1,7,11−トリデアセチルピリピロペンAの合成
ピリピロペンA(1g)を66%メタノール水溶液(15mL)に溶解し、炭酸カリウム(355mg)を加え、室温で20時間撹拌した。減圧下で溶媒を留去し、酢酸エチルと水を加え、溶解しない結晶をろ取することで、1,7,11−トリデアセチルピリピロペンA(737mg、収率94%)を得た。ESI−MSおよびH−NMRの測定結果より、特開平08−259569号公報に記載されているPR−3であることを確認した。
Example 10:
Synthesis of 1,7,11-trideacetylpyripyropene A Pyripyropene A (1 g) was dissolved in 66% aqueous methanol (15 mL), potassium carbonate (355 mg) was added, and the mixture was stirred at room temperature for 20 hours. The solvent was distilled off under reduced pressure, ethyl acetate and water were added, and crystals that were not dissolved were collected by filtration to obtain 1,7,11-trideacetylpyripyropene A (737 mg, 94% yield). From the measurement results of ESI-MS and 1 H-NMR, it was confirmed that it was PR-3 described in JP-A No. 08-259569.

実施例11:
1,7,11−トリデアセチル−1,11−O−イソプロピリデンピリピロペンAの合成
実施例10の方法で合成した1,7,11−トリデアセチルピリピロペンA(200mg)をN,N−ジメチルホルムアミド(2mL)に溶解し、アセトンジメチルアセタール(456mg)、p−トルエンスルホン酸ピリジニウム塩(550mg)を加えた。室温で25時間半撹拌後、反応溶液を水にあけ、クロロホルムで抽出した。クロロホルム層を飽和炭酸水素ナトリウム水溶液、飽和食塩水で洗浄し、無水硫酸ナトリウムで乾燥後、減圧下で溶媒を留去して、1,7,11−トリデアセチル−1,11−O−イソプロピリデンピリピロペンAの粗生成物を得た。これを分取薄層カラムクロマトグラフィー(Merck シリカゲル60F254 0.5 mm、クロロホルム:メタノール=10:1)にて精製して、1,7,11−トリデアセチル−1,11−O−イソプロピリデンピリピロペンA(171mg、収率79%)を得た。ESI−MSおよびH−NMRの測定結果より、特開平08−269065号公報に記載されているPR−16であることを確認した。
Example 11:
Synthesis of 1,7,11-trideacetyl-1,11-O-isopropylidenepyripyropene A 1,7,11- trideacetylpyripyropene A (200 mg) synthesized by the method of Example 10 was converted to N, N -Dissolved in dimethylformamide (2 mL), acetone dimethyl acetal (456 mg) and p-toluenesulfonic acid pyridinium salt (550 mg) were added. After stirring for 25 and a half hours at room temperature, the reaction solution was poured into water and extracted with chloroform. The chloroform layer was washed with a saturated aqueous sodium hydrogen carbonate solution and saturated brine, dried over anhydrous sodium sulfate, and the solvent was distilled off under reduced pressure to obtain 1,7,11-trideacetyl-1,11-O-isopropylidene. A crude product of pyripyropene A was obtained. This was purified by preparative thin-layer column chromatography (Merck silica gel 60F 254 0.5 mm, chloroform: methanol = 10: 1), and 1,7,11-trideacetyl-1,11-O-isopropylidenepyripyro Pen A (171 mg, 79% yield) was obtained. From the measurement results of ESI-MS and 1 H-NMR, it was confirmed that it was PR-16 described in JP-A-08-269065.

実施例12:
7−O−tert−ブチルジメチルシリル−1,7,11−トリデアセチル−1,11−O−イソプロピリデンピリピロペンAの合成
実施例11の方法で合成した1,7,11−トリデアセチル−1,11−O−イソプロピリデンピリピロペンA(168mg)をN,N−ジメチルホルムアミド(2mL)に溶解し、イミダゾール(92mg)、tert−ブチルジメチルクロロシラン(204mg)を加えた。室温で22時間撹拌後、反応溶液を水にあけ、クロロホルムで抽出した。クロロホルム層を飽和食塩水で洗浄し、無水硫酸ナトリウムで乾燥後、減圧下で溶媒を留去して、7−O−tert−ブチルジメチルシリル−1,7,11−トリデアセチル−1,11−O−イソプロピリデンピリピロペンAの粗生成物(193mg)を得た。これを分取薄層カラムクロマトグラフィー(Merck シリカゲル60F254 0.5 mm、クロロホルム:メタノール=20:1)にて精製して、7−O−tert−ブチルジメチルシリル−1,7,11−トリデアセチル−1,11−O−イソプロピリデンピリピロペンA(187mg、収率90%)を得た。
Example 12:
Synthesis of 7-O-tert-butyldimethylsilyl-1,7,11-trideacetyl-1,11-O-isopropylidenepyridopenpen A 1,7,11-trideacetyl- synthesized by the method of Example 11 1,11-O-isopropylidene pyripyropene A (168 mg) was dissolved in N, N-dimethylformamide (2 mL), and imidazole (92 mg) and tert-butyldimethylchlorosilane (204 mg) were added. After stirring at room temperature for 22 hours, the reaction solution was poured into water and extracted with chloroform. The chloroform layer was washed with saturated brine, dried over anhydrous sodium sulfate, the solvent was distilled off under reduced pressure, and 7-O-tert-butyldimethylsilyl-1,7,11-trideacetyl-1,11- A crude product (193 mg) of O-isopropylidenepyrpyropenne A was obtained. This was purified by preparative thin-layer column chromatography (Merck silica gel 60F 254 0.5 mm, chloroform: methanol = 20: 1), and 7-O-tert-butyldimethylsilyl-1,7,11-trideacetyl- 1,11-O-isopropylidene pyripyropene A (187 mg, 90% yield) was obtained.

ESI-MS:m/z 612 (M+H)+
1H-NMR (CDCl3):δ 0.11 (3H, s), 0.16 (3H, s), 0.96 (9H,s), 1.03 (1H, m), 1.10 (3H, s), 1.33 (1H, dt, J = 3.6, 12.8 Hz), 1.40 (3H, s), 1.43 (3H, s), 1.44 (3H, s), 1.39-1.44 (1H, m), 1.55-1.58 (2H, m), 1.58 (3H, s), 1.64 (1H, q, J = 12.0 Hz), 1.81 (1H, dq, J = 3.6, 12.8 Hz), 2.20 (1H, dt, J = 3.2, 12.8 Hz), 2.81 (1H, d, J = 1.6 Hz), 3.42 (1H, d, J = 10.8 Hz), 3.51 (1H, d, J= 10.4 Hz), 3.50-3.53 (1H, m), 3.72 (1H, dd, J = 4.8, 11.2 Hz), 4.97 (1H, m), 6.35 (1H, s), 7.41 (1H, dd, J = 4.8, 8.0 Hz), 8.10 (1H, dt, J = 1.6, 8.0 Hz), 8.69 (1H, dd, J = 1.6, 4.8 Hz), 9.00 (1H, d, J = 2.0 Hz).
ESI-MS: m / z 612 (M + H) + ;
1 H-NMR (CDCl 3 ): δ 0.11 (3H, s), 0.16 (3H, s), 0.96 (9H, s), 1.03 (1H, m), 1.10 (3H, s), 1.33 (1H, dt , J = 3.6, 12.8 Hz), 1.40 (3H, s), 1.43 (3H, s), 1.44 (3H, s), 1.39-1.44 (1H, m), 1.55-1.58 (2H, m), 1.58 ( 3H, s), 1.64 (1H, q, J = 12.0 Hz), 1.81 (1H, dq, J = 3.6, 12.8 Hz), 2.20 (1H, dt, J = 3.2, 12.8 Hz), 2.81 (1H, d , J = 1.6 Hz), 3.42 (1H, d, J = 10.8 Hz), 3.51 (1H, d, J = 10.4 Hz), 3.50-3.53 (1H, m), 3.72 (1H, dd, J = 4.8, 11.2 Hz), 4.97 (1H, m), 6.35 (1H, s), 7.41 (1H, dd, J = 4.8, 8.0 Hz), 8.10 (1H, dt, J = 1.6, 8.0 Hz), 8.69 (1H, dd, J = 1.6, 4.8 Hz), 9.00 (1H, d, J = 2.0 Hz).

実施例13:
7−O−tert−ブチルジメチルシリル−1,7,11−トリデアセチルピリピロペンAの合成
実施例12の方法で合成した7−O−tert−ブチルジメチルシリル−1,7,11−トリデアセチル−1,11−O−イソプロピリデンピリピロペンA(116mg)をテトラヒドロフラン(1mL)に溶解し、0℃で63%酢酸(4mL)を加えた。室温で24時間撹拌後、炭酸水素ナトリウム水溶液を加え、クロロホルムで抽出した。クロロホルム層を飽和炭酸水素ナトリウム水溶液、飽和食塩水で洗浄し、無水硫酸ナトリウムで乾燥後、減圧下で溶媒を留去して、7−O−tert−ブチルジメチルシリル−1,7,11−トリデアセチルピリピロペンAの粗生成物(101mg)を得た。これを分取薄層カラムクロマトグラフィー(Merck シリカゲル60F254 0.5 mm、クロロホルム:メタノール=10:1)にて精製して、7−O−tert−ブチルジメチルシリル−1,7,11−トリデアセチルピリピロペンA(91mg、収率84%)を得た。
Example 13:
7-O-tert-butyldimethylsilyl -1,7,11- tri-deacetyl pyridinium pyromellitic pen A 7-O-tert- butyldimethylsilyl was synthesized by the method of Example 12 of -1,7,11- Torideasechiru -1,11-O-isopropylidenepyridopene A (116 mg) was dissolved in tetrahydrofuran (1 mL), and 63% acetic acid (4 mL) was added at 0 ° C. After stirring at room temperature for 24 hours, an aqueous sodium hydrogen carbonate solution was added, and the mixture was extracted with chloroform. The chloroform layer was washed with a saturated aqueous sodium hydrogen carbonate solution and saturated brine, dried over anhydrous sodium sulfate, and then the solvent was distilled off under reduced pressure to obtain 7-O-tert-butyldimethylsilyl-1,7,11-tride. A crude product (101 mg) of acetylpyripyropene A was obtained. This was purified by preparative thin-layer column chromatography (Merck Silica Gel 60F 254 0.5 mm, chloroform: methanol = 10: 1) to give 7-O-tert-butyldimethylsilyl-1,7,11-trideacetylpyridine. Piloten A (91 mg, 84% yield) was obtained.

ESI-MS:m/z 572 (M+H)+
1H-NMR (CD3OD):δ 0.08 (3H, s), 0.13 (3H, s), 0.64 (3H,s), 0.90 (9H, s), 1.19 (1H, dt, J = 3.6, 12.8 Hz), 1.31 (3H, s), 1.33-1.36 (2H,m), 1.48 (1H, t, J = 12.0 Hz), 1.53 (3H, s), 1.62-1.80 (3H, m), 1.99-2.03 (1H, m), 3.16 (1H, d, J = 10.8 Hz), 3.44 (1H, d, J = 10.8 Hz), 3.56 (1H, dd, J = 4.8,11.6 Hz), 3.76 (1H, dd, J = 5.2, 11.2 Hz), 4.86 (1H, d, J = 3.2 Hz), 6.47 (1H, s), 7.47 (1H, ddd, J = 0.8, 4.8, 8.0 Hz), 8.17 (1H, dt, J = 2.0, 8.4 Hz), 8.55 (1H, dd, J = 2.0, 4.8 Hz), 8.91 (1H, dd, J = 0.8, 2.4 Hz).
ESI-MS: m / z 572 (M + H) + ;
1 H-NMR (CD 3 OD): δ 0.08 (3H, s), 0.13 (3H, s), 0.64 (3H, s), 0.90 (9H, s), 1.19 (1H, dt, J = 3.6, 12.8 Hz), 1.31 (3H, s), 1.33-1.36 (2H, m), 1.48 (1H, t, J = 12.0 Hz), 1.53 (3H, s), 1.62-1.80 (3H, m), 1.99-2.03 (1H, m), 3.16 (1H, d, J = 10.8 Hz), 3.44 (1H, d, J = 10.8 Hz), 3.56 (1H, dd, J = 4.8, 11.6 Hz), 3.76 (1H, dd, J = 5.2, 11.2 Hz), 4.86 (1H, d, J = 3.2 Hz), 6.47 (1H, s), 7.47 (1H, ddd, J = 0.8, 4.8, 8.0 Hz), 8.17 (1H, dt, J = 2.0, 8.4 Hz), 8.55 (1H, dd, J = 2.0, 4.8 Hz), 8.91 (1H, dd, J = 0.8, 2.4 Hz).

実施例14:
1,11−ジデアセチル−1,11−O−イソプロピリデンピリピロペンAの合成
実施例11の方法で合成した1,7,11−トリデアセチル−1,11−O−イソプロピリデンピリピロペンA(100mg)をジクロロメタン(2mL)に溶解し、トリエチルアミン(61mg)、4−ジメチルアミノピリジン(7mg)、無水酢酸(26mg)を加えた。室温で4時間撹拌後、反応溶液を水にあけ、クロロホルムで抽出した。クロロホルム層を飽和食塩水で洗浄し、無水硫酸ナトリウムで乾燥後、減圧下で溶媒を留去して、1,11−ジデアセチル−1,11−O−イソプロピリデンピリピロペンAの粗生成物(120mg)を得た。これを分取薄層カラムクロマトグラフィー(Merck シリカゲル60F2540.5 mm、クロロホルム:メタノール=20:1)にて精製して、1,11−ジデアセチル−1,11−O−イソプロピリデンピリピロペンA(103mg、収率95%)を得た。ESI−MSおよびH−NMRの測定結果より、特開平08−269065号公報に記載されているPR−43であることを確認した。
Example 14:
Synthesis of 1,11-dideacetyl-1,11-O-isopropylidenepyrpyropenpen A 1,7,11-trideacetyl-1,11-O-isopropylidenepyrpyropenpen A synthesized by the method of Example 11 ( 100 mg) was dissolved in dichloromethane (2 mL), and triethylamine (61 mg), 4-dimethylaminopyridine (7 mg), and acetic anhydride (26 mg) were added. After stirring at room temperature for 4 hours, the reaction solution was poured into water and extracted with chloroform. The chloroform layer was washed with saturated brine, dried over anhydrous sodium sulfate, and the solvent was distilled off under reduced pressure to give a crude product of 1,11-dideacetyl-1,11-O-isopropylidenepyridopopenen A ( 120 mg) was obtained. This was purified by preparative thin-layer column chromatography (Merck Silica Gel 60F 254 0.5 mm, chloroform: methanol = 20: 1) to give 1,11-dideacetyl-1,11-O-isopropylidenepyripyropene A ( 103 mg, 95% yield). From the measurement results of ESI-MS and 1 H-NMR, it was confirmed that it was PR-43 described in JP-A-08-269065.

実施例15:
1,11−ジデアセチルピリピロペンAの合成
実施例14の方法で合成した1,11−ジデアセチル−1,11−O−イソプロピリデンピリピロペンA(99mg)をテトラヒドロフラン(1.2mL)、メタノール(2.4mL)に溶解し、p−トルエンスルホン酸ピリジニウム塩(185mg)を加えた。室温で30時間撹拌後、トリエチルアミンを加え、減圧下で溶媒を留去した。残渣にクロロホルム、水を加え、クロロホルムで抽出した。クロロホルム層を飽和食塩水で洗浄し、無水硫酸ナトリウムで乾燥後、減圧下で溶媒を留去して、1,11−ジデアセチルピリピロペンAの粗生成物(85mg)を得た。これを分取薄層カラムクロマトグラフィー(Merck シリカゲル60F254 0.5 mm、クロロホルム:メタノール=60:1)にて精製して、1,11−ジデアセチルピリピロペンA(64mg、収率72%)を得た。ESI−MSおよびH−NMRの測定結果より、特開平08−259569号公報に記載されているPR−5であることを確認した。
Example 15:
Synthesis of 1,11-dideacetylpyridopopenen A 1,11-dideacetyl-1,11-O-isopropylidenepyridopopenen A (99 mg) synthesized by the method of Example 14 was added to tetrahydrofuran (1.2 mL) and methanol. (2.4 mL) and p-toluenesulfonic acid pyridinium salt (185 mg) was added. After stirring at room temperature for 30 hours, triethylamine was added, and the solvent was distilled off under reduced pressure. Chloroform and water were added to the residue, and the mixture was extracted with chloroform. The chloroform layer was washed with saturated brine, dried over anhydrous sodium sulfate, and then the solvent was distilled off under reduced pressure to obtain a crude product (85 mg) of 1,11-dideacetylpyrpyropenne A. This was purified by preparative thin-layer column chromatography (Merck Silica Gel 60F 254 0.5 mm, chloroform: methanol = 60: 1) to give 1,11-dideacetylpyripyropene A (64 mg, yield 72%). Obtained. From the measurement results of ESI-MS and 1 H-NMR, it was confirmed that it was PR-5 described in JP-A No. 08-259569.

実施例15a:
1,11−ジデアセチルピリピロペンAの合成
1,7,11−トリデアセチルピリピロペンA(9.67g)をN,N−ジメチルホルムアミド(48mL)に懸濁させ、アセトンジメチルアセタール(6.61g)、p−トルエンスルホン酸一水和物(0.08g)を加えて38〜41℃で4時間撹拌した。4−ジメチルアミノピリジン(0.08g)を加えて減圧下1時間半留去した後、0℃に冷却した。同溶液にトリエチルアミン(2.57g)、無水酢酸(2.37g)を加えて同温で16時間撹拌後、反応溶液に水(96g)を加えて5%塩酸でpHを7.17に調整した。析出した淡黄色粉末を濾過して、水(20g)で2回洗浄した。得られた粗生成物をメタノール(48mL)に懸濁させ、15%塩酸(4.7g)を加えて25〜27℃で2時間攪拌した。水(33mL)を加えて不溶物を濾過した後、5%水酸化ナトリウム水溶液でpHを4.41に調整した。さらに水(31mL)を加えて析出した淡黄色粉末を濾過して、30%メタノール水(20mL)で2回洗浄した。40℃で23時間乾燥して1,11−ジデアセチルピリピロペンAを8.62g得た。H−NMRの測定結果は実施例15の化合物の測定結果と一致した。
Example 15a:
Synthesis of 1,11-dideacetylpyripyropene A 1,7,11-trideacetylpyrilopene A (9.67 g) was suspended in N, N-dimethylformamide (48 mL), and acetone dimethyl acetal (6. 61 g) and p-toluenesulfonic acid monohydrate (0.08 g) were added and stirred at 38-41 ° C. for 4 hours. 4-Dimethylaminopyridine (0.08 g) was added and evaporated under reduced pressure for 1 hour and a half, and then cooled to 0 ° C. Triethylamine (2.57 g) and acetic anhydride (2.37 g) were added to the solution, and the mixture was stirred at the same temperature for 16 hours. Water (96 g) was added to the reaction solution, and the pH was adjusted to 7.17 with 5% hydrochloric acid. . The precipitated pale yellow powder was filtered and washed twice with water (20 g). The obtained crude product was suspended in methanol (48 mL), 15% hydrochloric acid (4.7 g) was added, and the mixture was stirred at 25 to 27 ° C. for 2 hr. Water (33 mL) was added and insolubles were filtered, and then the pH was adjusted to 4.41 with 5% aqueous sodium hydroxide solution. Further, water (31 mL) was added, and the precipitated pale yellow powder was filtered and washed twice with 30% aqueous methanol (20 mL). It dried at 40 degreeC for 23 hours, and obtained 8.11g of 1,11-dideacetyl pyripyropene A. The measurement result of 1 H-NMR coincided with the measurement result of the compound of Example 15.

実施例16:
1,11−O−ジシクロプロパンカルボニル−1,11−ジデアセチルピリピロペンAの合成
実施例15の方法で合成した1,11−ジデアセチルピリピロペンA(61mg)をN,N−ジメチルホルムアミド(1.2mL)に溶解し、0℃でピリジン(0.3mL)を加え、同温で10分撹拌し、シクロプロパンカルボニルクロリド(77mg)を加えた。同温で1時間半撹拌後、反応溶液を水にあけ、クロロホルムで抽出した。クロロホルム層を飽和食塩水で洗浄し、無水硫酸マグネシウムで乾燥後、減圧下で溶媒を留去して、1,11−O−ジシクロプロパンカルボニル−1,11−ジデアセチルピリピロペンAの粗生成物(97mg)を得た。これを分取薄層カラムクロマトグラフィー(Merck シリカゲル60F254 0.5 mm、クロロホルム:メタノール=20:1)にて精製して、1,11−O−ジシクロプロパンカルボニル−1,11−ジデアセチルピリピロペンA(73mg、収率93%)を得た。
Example 16:
Synthesis of 1,11-O-dicyclopropanecarbonyl-1,11-dideacetylpyrpyropenne A Dissolved in formamide (1.2 mL), pyridine (0.3 mL) was added at 0 ° C., stirred at the same temperature for 10 minutes, and cyclopropanecarbonyl chloride (77 mg) was added. After stirring for 1.5 hours at the same temperature, the reaction solution was poured into water and extracted with chloroform. The chloroform layer was washed with saturated brine, dried over anhydrous magnesium sulfate, and the solvent was distilled off under reduced pressure to give crude 1,11-O-dicyclopropanecarbonyl-1,11-dideacetylpyridopopenen A. The product (97 mg) was obtained. This was purified by preparative thin-layer column chromatography (Merck Silica Gel 60F 254 0.5 mm, chloroform: methanol = 20: 1) to give 1,11-O-dicyclopropanecarbonyl-1,11-dideacetylpyripyro. Pen A (73 mg, 93% yield) was obtained.

ESI-MS:m/z 636 (M+H)+
1H-NMR (CDCl3):δ 0.84-0.89 (4H, m), 0.89 (3H, s), 0.90-1.06 (4H, m), 1.37 (1H, dt, J = 3.8, 13.2 Hz), 1.45 (3H, s), 1.53 (1H, d, J = 4.0 Hz), 1.55-1.67 (4H, m), 1.70 (3H, s), 1.79-1.87 (2H, m), 1.89-1.94 (2H, m), 2.14-2.18 (1H, m), 2.16 (3H, s), 2.97 (1H, d, J = 2.0 Hz), 3.77 (2H, s), 4.81 (1H, dd, J = 4.8, 11.7 Hz), 5.00 (1H, m), 5.02 (1H, dd, J = 5.0, 11.4 Hz), 6.46 (1H, s), 7.40 (1H, dd, J = 4.9, 8.0 Hz), 8.09 (1H, dt, J = 1.9, 8.1 Hz), 8.68 (1H, dd, J = 1.6, 4.8 Hz), 9.00 (1H, d, J = 2.0 Hz).
ESI-MS: m / z 636 (M + H) + ;
1 H-NMR (CDCl 3 ): δ 0.84-0.89 (4H, m), 0.89 (3H, s), 0.90-1.06 (4H, m), 1.37 (1H, dt, J = 3.8, 13.2 Hz), 1.45 (3H, s), 1.53 (1H, d, J = 4.0 Hz), 1.55-1.67 (4H, m), 1.70 (3H, s), 1.79-1.87 (2H, m), 1.89-1.94 (2H, m ), 2.14-2.18 (1H, m), 2.16 (3H, s), 2.97 (1H, d, J = 2.0 Hz), 3.77 (2H, s), 4.81 (1H, dd, J = 4.8, 11.7 Hz) , 5.00 (1H, m), 5.02 (1H, dd, J = 5.0, 11.4 Hz), 6.46 (1H, s), 7.40 (1H, dd, J = 4.9, 8.0 Hz), 8.09 (1H, dt, J = 1.9, 8.1 Hz), 8.68 (1H, dd, J = 1.6, 4.8 Hz), 9.00 (1H, d, J = 2.0 Hz).

実施例16a:
1,11−0−ジシクロプロパンカルボニル−1,11−ジデアセチルピリピロペンAの合成
1,11−ジデアセチルピリピロペンA(25.76g)を酢酸エチル(130mL)に懸濁させ、ピリジン(15.84g)を加えて10〜15℃に冷却した。シクロプロパンカルボニルクロリド(15.70g)を滴下して加え、25〜30℃で3時間撹拌した。再び10〜15℃に冷却して水(50mL)を滴下して加えて5N−塩酸でpHを2.59に調整した。分液して得られた有機層を5%重曹水(50mL)、10%食塩水(50mL)で順次洗浄した。得られた酢酸エチル溶液を減圧下留去してさらにメタノールに置換して約130mLに液量を調整した。水(130mL)を滴下して加えて析出した淡黄色粉末を濾過して、50%メタノール水(40mL)で2回洗浄した。40℃で23時間乾燥して1,11−0−ジシクロプロパンカルボニル−1,11−ジデアセチルピリピロペンAを30.80g得た。H−NMRの測定結果は実施例16の化合物の測定結果と一致した。
Example 16a:
Synthesis of 1,11-0-dicyclopropanecarbonyl-1,11-dideacetylpyripyropene A 1,11-dideacetylpyripyropene A (25.76 g) was suspended in ethyl acetate (130 mL) and pyridine was added. (15.84 g) was added and cooled to 10-15 ° C. Cyclopropanecarbonyl chloride (15.70 g) was added dropwise and stirred at 25-30 ° C. for 3 hours. The mixture was cooled again to 10 to 15 ° C., water (50 mL) was added dropwise, and the pH was adjusted to 2.59 with 5N hydrochloric acid. The organic layer obtained by liquid separation was washed successively with 5% aqueous sodium bicarbonate (50 mL) and 10% brine (50 mL). The obtained ethyl acetate solution was distilled off under reduced pressure and further replaced with methanol to adjust the liquid volume to about 130 mL. Water (130 mL) was added dropwise and the pale yellow powder deposited was filtered and washed twice with 50% aqueous methanol (40 mL). It dried at 40 degreeC for 23 hours, and obtained 30.80g of 1,11-0-dicyclopropane carbonyl- 1,11-dideacetyl pyripyropene A. The measurement result of 1 H-NMR coincided with the measurement result of the compound of Example 16.

実施例17:
1,11−O−ジシクロプロパンカルボニル−1,7,11−トリデアセチルピリピロペンAの合成
実施例16の方法で合成した1,11−O−ジシクロプロパンカルボニル−1,11−ジデアセチルピリピロペンA(67mg)を95%メタノール水溶液(0.07mL)に溶解し、0℃で炭酸ナトリウム(22mg)を加えた。同温で4日間撹拌後、酢酸を加え、減圧下でメタノールを留去してクロロホルムで抽出した。クロロホルム層を飽和食塩水で洗浄し、無水硫酸ナトリウムで乾燥後、減圧下で溶媒を留去して、1,11−O−ジシクロプロパンカルボニル−1,7,11−トリデアセチルピリピロペンAの粗生成物(74mg)を得た。これを分取薄層カラムクロマトグラフィー(Merck シリカゲル60F254 0.5 mm、クロロホルム:メタノール=10:1)にて精製して、1,11−O−ジシクロプロパンカルボニル−1,7,11−トリデアセチルピリピロペンA(47mg、収率76%)を得た。実施例5のESI−MSデータおよびH−NMRデータと一致した。
Example 17:
1, 11-O-di-cyclopropanecarbonyl -1,7,11- tri-deacetyl pyridinium pyromellitic pen A 1, 11-O-di-cyclopropanecarbonyl was synthesized by the method of Example 16 1,11 Jideasechiru Pyripyropene A (67 mg) was dissolved in 95% aqueous methanol (0.07 mL), and sodium carbonate (22 mg) was added at 0 ° C. After stirring at the same temperature for 4 days, acetic acid was added, methanol was distilled off under reduced pressure, and extracted with chloroform. The chloroform layer was washed with saturated brine, dried over anhydrous sodium sulfate, and then the solvent was distilled off under reduced pressure to obtain 1,11-O-dicyclopropanecarbonyl-1,7,11-trideacetylpyripyropene A. Of crude product (74 mg) was obtained. This was purified by preparative thin-layer column chromatography (Merck silica gel 60F 254 0.5 mm, chloroform: methanol = 10: 1), and 1,11-O-dicyclopropanecarbonyl-1,7,11-trideacetyl. Pyripyropene A (47 mg, yield 76%) was obtained. It was in agreement with the ESI-MS data and 1 H-NMR data of Example 5.

実施例17a:
1,11−0−ジシクロプロパンカルボニル−1,7,11−トリデアセチルピリピロペンAの合成
1,11−0−ジシクロプロパンカルボニル−1,11−ジデアセチルピリピロペンA(30.00g)を水(20mL)とメタノール(190mL)の混液に懸濁させ、0〜5℃に冷却した。ナトリウムメトキシドの1M−メタノール溶液(4.49mL)を加えて同温で23時間撹拌した。1.2%塩酸(20mL)を加えて0.5μmのフィルターで濾過した。減圧下留去して液量を約90mLに調整した。メタノール/水=2/1の混液(120mL)を加えて約150mLに液量を調整し、さらにメタノール/水=2/1の混液(120mL)を加えて約180mLに液量を調整した。1時間室温にて攪拌したのち5℃に冷却して17時間攪拌した。析出した淡黄色粉末を濾過して、30%メタノール水(50mL)で2回洗浄した。40℃で22時間乾燥して1,11−0−ジシクロプロパンカルボニル−1,7,11−トリデアセチルピリピロペンAを23.82g得た。H−NMRの測定結果は実施例17の化合物の測定結果と一致した。
Example 17a:
Synthesis of 1,11-0-dicyclopropanecarbonyl-1,7,11-trideacetylpyripyropene A 1,11-0-dicyclopropanecarbonyl-1,11-dideacetylpyripyropene A (30.00 g ) Was suspended in a mixture of water (20 mL) and methanol (190 mL) and cooled to 0-5 ° C. Sodium methoxide in 1M-methanol (4.49 mL) was added and stirred at the same temperature for 23 hours. 1.2% hydrochloric acid (20 mL) was added and the mixture was filtered through a 0.5 μm filter. The liquid volume was adjusted to about 90 mL by distilling off under reduced pressure. A liquid mixture of methanol / water = 2/1 (120 mL) was added to adjust the liquid volume to about 150 mL, and a liquid mixture of methanol / water = 2/1 (120 mL) was further added to adjust the liquid volume to about 180 mL. The mixture was stirred for 1 hour at room temperature, then cooled to 5 ° C. and stirred for 17 hours. The precipitated pale yellow powder was filtered and washed twice with 30% aqueous methanol (50 mL). It dried at 40 degreeC for 22 hours, and obtained 23.82g of 1,11-0-dicyclopropanecarbonyl-1,7,11-trideacetyl pyripyropene A. The measurement result of 1 H-NMR coincided with the measurement result of the compound of Example 17.

実施例18:
7−O−クロロアセチル−1,7,11−トリデアセチル−1,11−O−イソプロピリデンピリピロペンAの合成
実施例11の方法で合成した1,7,11−トリデアセチル−1,11−O−イソプロピリデンピリピロペンA(100mg)をテトラヒドロフラン(2mL)に溶解し、トリエチルアミン(61mg)、クロロ酢酸無水物(103mg)を加えた。室温で3時間半撹拌後、反応溶液を水にあけ、クロロホルムで抽出した。クロロホルム層を飽和食塩水で洗浄し、無水硫酸ナトリウムで乾燥後、減圧下で溶媒を留去して、7−O−クロロアセチル−1,7,11−トリデアセチル−1,11−O−イソプロピリデンピリピロペンAの粗生成物(118mg)を得た。これを分取薄層カラムクロマトグラフィー(Merck シリカゲル60F254 0.5 mm、クロロホルム:メタノール=20:1)にて精製して、7−O−クロロアセチル−1,7,11−トリデアセチル−1,11−O−イソプロピリデンピリピロペンA(80mg、収率70%)を得た。
Example 18:
Synthesis of 7-O-chloroacetyl-1,7,11-trideacetyl-1,11-O-isopropylidene pyripyropene A 1,7,11-trideacetyl-1,11 synthesized by the method of Example 11 -O-isopropylidene pyripyropene A (100 mg) was dissolved in tetrahydrofuran (2 mL), and triethylamine (61 mg) and chloroacetic anhydride (103 mg) were added. After stirring for 3.5 hours at room temperature, the reaction solution was poured into water and extracted with chloroform. The chloroform layer was washed with saturated brine, dried over anhydrous sodium sulfate, the solvent was distilled off under reduced pressure, and 7-O-chloroacetyl-1,7,11-trideacetyl-1,11-O-isopropylate was removed. A crude product (118 mg) of redenpyrilopene A was obtained. This was purified by preparative thin-layer column chromatography (Merck silica gel 60F 254 0.5 mm, chloroform: methanol = 20: 1), and 7-O-chloroacetyl-1,7,11-trideacetyl-1,11. -O-isopropylidenepyridopopenen A (80 mg, 70% yield) was obtained.

ESI-MS:m/z 574 (M+H)+
1H-NMR (CDCl3):δ 1.11 (3H, s), 1.16 (1H, dd, J = 2.4, 12.6 Hz), 1.33-1.41 (1H, m), 1.44 (3H, s), 1.45 (3H, s), 1.52 (1H, d, J = 4.0 Hz), 1.58-1.65 (1H, m), 1.62 (3H, s), 1.70 (3H, s), 1.66-1.75 (2H, m), 1.77-1.86 (1H, m), 2.22 (1H, m), 2.90 (1H, d, J = 2.0 Hz), 3.48 (2H, s), 3.54 (1H, dd, J = 3.6, 12.0 Hz), 4.19 (2H, d, J = 4.0 Hz), 5.00 (1H, m), 5.09 (1H, dd, J = 5.6, 11.6 Hz), 6.45 (1H, s), 7.41 (1H, dd, J = 4.8, 8.0 Hz), 8.10 (1H, dt, J = 1.6, 8.0Hz), 8.70 (1H, dd, J = 1.6, 4.8 Hz), 9.02 (1H, d, J = 1.6 Hz).
ESI-MS: m / z 574 (M + H) + ;
1 H-NMR (CDCl 3 ): δ 1.11 (3H, s), 1.16 (1H, dd, J = 2.4, 12.6 Hz), 1.33-1.41 (1H, m), 1.44 (3H, s), 1.45 (3H , s), 1.52 (1H, d, J = 4.0 Hz), 1.58-1.65 (1H, m), 1.62 (3H, s), 1.70 (3H, s), 1.66-1.75 (2H, m), 1.77- 1.86 (1H, m), 2.22 (1H, m), 2.90 (1H, d, J = 2.0 Hz), 3.48 (2H, s), 3.54 (1H, dd, J = 3.6, 12.0 Hz), 4.19 (2H , d, J = 4.0 Hz), 5.00 (1H, m), 5.09 (1H, dd, J = 5.6, 11.6 Hz), 6.45 (1H, s), 7.41 (1H, dd, J = 4.8, 8.0 Hz) 8.10 (1H, dt, J = 1.6, 8.0Hz), 8.70 (1H, dd, J = 1.6, 4.8 Hz), 9.02 (1H, d, J = 1.6 Hz).

実施例19:
7−O−クロロアセチル−1,7,11−トリデアセチルピリピロペンAの合成
実施例18の方法で合成した7−O−クロロアセチル−1,7,11−トリデアセチル−1,11−O−イソプロピリデンピリピロペンA(35mg)をテトラヒドロフラン(0.6mL)、メタノール(1.2mL)に溶解し、p−トルエンスルホン酸ピリジニウム塩(61mg)を加えた。室温で31時間撹拌後、反応溶液を水にあけ、クロロホルムで抽出した。クロロホルム層を飽和食塩水で洗浄し、無水硫酸ナトリウムで乾燥後、減圧下で溶媒を留去して、7−O−クロロアセチル−1,7,11−トリデアセチルピリピロペンAの粗生成物(30mg)を得た。これを分取薄層カラムクロマトグラフィー(Merck シリカゲル60F254 0.5 mm、クロロホルム:メタノール=10:1)にて精製して、7−O−クロロアセチル−1,7,11−トリデアセチルピリピロペンA(24mg、収率74%)を得た。
Example 19:
7-O-chloroacetyl -1,7,11- tri-deacetyl pyridinium pyro pen was synthesized by the method of Example 18 of A 7-O-chloroacetyl -1,7,11- Torideasechiru -1,11-O -Isopropylidenepyripyropene A (35 mg) was dissolved in tetrahydrofuran (0.6 mL) and methanol (1.2 mL), and p-toluenesulfonic acid pyridinium salt (61 mg) was added. After stirring at room temperature for 31 hours, the reaction solution was poured into water and extracted with chloroform. The chloroform layer was washed with saturated brine, dried over anhydrous sodium sulfate, and the solvent was distilled off under reduced pressure to give a crude product of 7-O-chloroacetyl-1,7,11-trideacetylpyripyropene A. (30 mg) was obtained. This was purified by preparative thin-layer column chromatography (Merck Silica Gel 60F 254 0.5 mm, chloroform: methanol = 10: 1), and 7-O-chloroacetyl-1,7,11-trideacetylpyripyropene A (24 mg, 74% yield) was obtained.

ESI-MS:m/z 534 (M+H)+
1H-NMR (CD3OD):δ 0.74 (3H, s), 1.32 (1H, m), 1.44 (3H,s), 1.54 (2H, m), 1.69-1.75 (2H, m), 1.75 (3H, s), 1.79-1.86 (1H, m), 1.91-1.94(1H, m), 2.12 (1H, m), 3.26 (1H, d, J = 11.6 Hz), 3.52 (1H, d, J = 10.8 Hz), 3.67 (1H, dd, J = 5.2, 11.6 Hz), 4.33 (2H, d, J = 2.4 Hz), 4.98 (1H, m), 5.15 (1H,dd, J = 5.2, 11.6 Hz), 6.79 (1H, s), 7.55 (1H, dd, J = 4.8, 8.0 Hz), 8.28 (1H, dt, J = 2.4, 8.0 Hz), 8.62 (1H, dd, J = 1.6, 4.8 Hz), 9.02 (1H, d, J = 2.4 Hz).
ESI-MS: m / z 534 (M + H) + ;
1 H-NMR (CD 3 OD): δ 0.74 (3H, s), 1.32 (1H, m), 1.44 (3H, s), 1.54 (2H, m), 1.69-1.75 (2H, m), 1.75 ( 3H, s), 1.79-1.86 (1H, m), 1.91-1.94 (1H, m), 2.12 (1H, m), 3.26 (1H, d, J = 11.6 Hz), 3.52 (1H, d, J = 10.8 Hz), 3.67 (1H, dd, J = 5.2, 11.6 Hz), 4.33 (2H, d, J = 2.4 Hz), 4.98 (1H, m), 5.15 (1H, dd, J = 5.2, 11.6 Hz) , 6.79 (1H, s), 7.55 (1H, dd, J = 4.8, 8.0 Hz), 8.28 (1H, dt, J = 2.4, 8.0 Hz), 8.62 (1H, dd, J = 1.6, 4.8 Hz), 9.02 (1H, d, J = 2.4 Hz).

実施例20:
7−O−クロロアセチル−1,11−O−ジシクロプロパンカルボニル−1,7,11−トリデアセチルピリピロペンAの合成
実施例19の方法で合成した7−O−クロロアセチル−1,7,11−トリデアセチルピリピロペンA(21mg)をN,N−ジメチルホルムアミド(1.2mL)に溶解し、0℃でピリジン(0.3mL)、シクロプロパンカルボニルクロリド(25mg)を加えた。同温で2時間半撹拌後、反応溶液を水にあけ、クロロホルムで抽出した。クロロホルム層を飽和食塩水で洗浄し、無水硫酸マグネシウムで乾燥後、減圧下で溶媒を留去して、7−O−クロロアセチル−1,11−O−ジシクロプロパンカルボニル−1,7,11−トリデアセチルピリピロペンAの粗生成物(37mg)を得た。これを分取薄層カラムクロマトグラフィー(Merck シリカゲル60F254 0.5 mm、クロロホルム:メタノール=30:1)にて精製して、7−O−クロロアセチル−1,11−O−ジシクロプロパンカルボニル−1,7,11−トリデアセチルピリピロペンA(16mg、収率58%)を得た。
Example 20:
Synthesis of 7-O-chloroacetyl-1,11-O-dicyclopropanecarbonyl-1,7,11-trideacetylpyripyropene A 7-O-chloroacetyl-1,7 synthesized by the method of Example 19 , 11-Trideacetylpyripyropene A (21 mg) was dissolved in N, N-dimethylformamide (1.2 mL), and pyridine (0.3 mL) and cyclopropanecarbonyl chloride (25 mg) were added at 0 ° C. After stirring for 2.5 hours at the same temperature, the reaction solution was poured into water and extracted with chloroform. The chloroform layer was washed with saturated brine, dried over anhydrous magnesium sulfate, the solvent was distilled off under reduced pressure, and 7-O-chloroacetyl-1,11-O-dicyclopropanecarbonyl-1,7,11. -Crude product (37 mg) of trideacetyl pyripyropene A was obtained. This was purified by preparative thin layer column chromatography (Merck Silica Gel 60F 254 0.5 mm, chloroform: methanol = 30: 1) to give 7-O-chloroacetyl-1,11-O-dicyclopropanecarbonyl-1 , 7,11-Trideacetylpyripyropene A (16 mg, 58% yield) was obtained.

ESI-MS:m/z 670 (M+H)+
1H-NMR (CDCl3):δ 0.85-0.90 (4H, m), 0.91 (3H, s), 0.96-1.08 (4H, m), 1.38 (1H, dt, J = 4.0, 12.6 Hz), 1.45 (3H, s), 1.54-1.67 (5H, m),1.72 (3H, s), 1.81-1.95 (3H, m), 2.17 (1H, m), 2.89 (1H, d, J = 1.6 Hz), 3.78 (2H, s), 4.17 (2H, d, J = 2.8 Hz), 4.82 (1H, dd, J = 4.8, 11.6 Hz), 5.01 (1H, m),5.09 (1H, dd, J = 5.2, 11.6 Hz), 6.45 (1H, s), 7.41 (1H, dd, J = 4.8, 8.0 Hz), 8.10 (1H, dt, J = 1.6, 8.0 Hz), 8.69 (1H, dd, J = 1.6, 4.8 Hz), 9.02 (1H, d, J =1.6 Hz).
ESI-MS: m / z 670 (M + H) + ;
1 H-NMR (CDCl 3 ): δ 0.85-0.90 (4H, m), 0.91 (3H, s), 0.96-1.08 (4H, m), 1.38 (1H, dt, J = 4.0, 12.6 Hz), 1.45 (3H, s), 1.54-1.67 (5H, m), 1.72 (3H, s), 1.81-1.95 (3H, m), 2.17 (1H, m), 2.89 (1H, d, J = 1.6 Hz), 3.78 (2H, s), 4.17 (2H, d, J = 2.8 Hz), 4.82 (1H, dd, J = 4.8, 11.6 Hz), 5.01 (1H, m), 5.09 (1H, dd, J = 5.2, 11.6 Hz), 6.45 (1H, s), 7.41 (1H, dd, J = 4.8, 8.0 Hz), 8.10 (1H, dt, J = 1.6, 8.0 Hz), 8.69 (1H, dd, J = 1.6, 4.8 Hz), 9.02 (1H, d, J = 1.6 Hz).

実施例21:
1,11−O−ジシクロプロパンカルボニル−1,7,11−トリデアセチルピリピロペンAの合成
実施例20の方法で合成した7−O−クロロアセチル−1,11−O−ジシクロプロパンカルボニル−1,7,11−トリデアセチルピリピロペンA(14mg)を95%メタノール水溶液(1.4mL)に溶解し、炭酸水素ナトリウム(1.9mg)を加えた。室温で3時間撹拌後、酢酸を加え、減圧下でメタノールを留去して、1,11−O−ジシクロプロパンカルボニル−1,7,11−トリデアセチルピリピロペンAの粗生成物を得た。これを分取薄層カラムクロマトグラフィー(Merck シリカゲル60F254 0.5 mm、クロロホルム:メタノール=10:1)にて精製して、1,11−O−ジシクロプロパンカルボニル−1,7,11−トリデアセチルピリピロペンA(12mg、収率94%)を得た。実施例5のESI−MSデータおよびH−NMRデータと一致した。
Example 21:
Synthesis of 1,11-O-dicyclopropanecarbonyl-1,7,11-trideacetylpyripyropene A 7-O-chloroacetyl-1,11-O-dicyclopropanecarbonyl synthesized by the method of Example 20 -1,7,11-trideacetylpyripyropene A (14 mg) was dissolved in 95% aqueous methanol (1.4 mL), and sodium bicarbonate (1.9 mg) was added. After stirring at room temperature for 3 hours, acetic acid was added, and methanol was distilled off under reduced pressure to obtain a crude product of 1,11-O-dicyclopropanecarbonyl-1,7,11-trideacetylpyripyropene A. It was. This was purified by preparative thin-layer column chromatography (Merck silica gel 60F 254 0.5 mm, chloroform: methanol = 10: 1), and 1,11-O-dicyclopropanecarbonyl-1,7,11-trideacetyl. Pyripyropene A (12 mg, 94% yield) was obtained. It was in agreement with the ESI-MS data and 1 H-NMR data of Example 5.

実施例22:
1,11−O−ベンジリデン−1,7,11−トリデアセチルピリピロペンAの合成
実施例10の方法で合成した1,7,11−トリデアセチルピリピロペンA(1.0g)をN,N−ジメチルホルムアミド(10mL)に溶解し、p−トルエンスルホン酸ピリジニウム塩(2.75g)、ベンズアルデヒドジメチルアセタール(3.3g)を加えた。室温で5時間撹拌後、反応溶液を水にあけ、酢酸エチルで抽出した。酢酸エチル層を飽和食塩水で洗浄し、無水硫酸ナトリウムで乾燥後、減圧下で溶媒を留去して、1,11−O−ベンジリデン−1,7,11−トリデアセチルピリピロペンAの粗生成物を得た。これをシリカゲルクロマトグラフィー(Mega Bond Elut (Varian)、アセトン:クロロホルム=1:10)にて精製して、1,11−O−ベンジリデン−1,7,11−トリデアセチルピリピロペンA(887mg、収率74%)を得た。ESI−MSおよびH−NMRの測定結果より、特開平08−269065号公報に記載されているPR−93であることを確認した。
Example 22:
Synthesis of 1,11-O-benzylidene-1,7,11-trideacetylpyripyropene A 1,7,11-trideacetylpyripyropene A (1.0 g) synthesized by the method of Example 10 It melt | dissolved in N-dimethylformamide (10 mL), p-toluenesulfonic acid pyridinium salt (2.75 g) and benzaldehyde dimethyl acetal (3.3 g) were added. After stirring at room temperature for 5 hours, the reaction solution was poured into water and extracted with ethyl acetate. The ethyl acetate layer was washed with saturated brine, dried over anhydrous sodium sulfate, and the solvent was distilled off under reduced pressure to give crude 1,11-O-benzylidene-1,7,11-trideacetylpyripyropene A The product was obtained. This was purified by silica gel chromatography (Mega Bond Elut (Varian), acetone: chloroform = 1: 10) to give 1,11-O-benzylidene-1,7,11-trideacetylpyripyropene A (887 mg, Yield 74%) was obtained. From the measurement results of ESI-MS and 1 H-NMR, it was confirmed that it was PR-93 described in JP-A-08-269065.

実施例23:
1,11−O−ベンジリデン−7−O−クロロアセチル−1,7,11−トリデアセチルピリピロペンAの合成
実施例22の方法で合成した1,11−O−ベンジリデン−1,7,11−トリデアセチルピリピロペンA(1.0g)をピリジン(2.5mL)に溶解し、0℃でクロロ酢酸無水物(206mg)を加えた。同温で1時間半撹拌後、反応溶液を水にあけ、酢酸エチルで抽出した。酢酸エチル層を飽和食塩水で洗浄し、無水硫酸ナトリウムで乾燥後、減圧下で溶媒を留去して、1,11−O−ベンジリデン−7−O−クロロアセチル−1,7,11−トリデアセチルピリピロペンAの粗生成物を得た。これをシリカゲルクロマトグラフィー(Mega Bond Elut (Varian)、アセトン:ヘキサン=1:100)にて精製して、1,11−O−ベンジリデン−7−O−クロロアセチル−1,7,11−トリデアセチルピリピロペンA(359mg、収率72%)を得た。
Example 23:
Synthesis of 1,11-O-benzylidene-7-O-chloroacetyl-1,7,11-trideacetylpyripyropene A 1,11-O-benzylidene-1,7,11 synthesized by the method of Example 22 -Trideacetyl pyripyropene A (1.0 g) was dissolved in pyridine (2.5 mL) and chloroacetic anhydride (206 mg) was added at 0 ° C. After stirring at the same temperature for 1.5 hours, the reaction solution was poured into water and extracted with ethyl acetate. The ethyl acetate layer was washed with saturated brine, dried over anhydrous sodium sulfate, and the solvent was evaporated under reduced pressure to give 1,11-O-benzylidene-7-O-chloroacetyl-1,7,11-tride. A crude product of acetylpyripyropene A was obtained. This was purified by silica gel chromatography (Mega Bond Elut (Varian), acetone: hexane = 1: 100) to give 1,11-O-benzylidene-7-O-chloroacetyl-1,7,11-trideacetyl. Pyripyropene A (359 mg, 72% yield) was obtained.

ESI-MS:m/z 622 (M+H)+
1H-NMR (CDCl3):δ 1.19-1.22 (1H, m), 1.25 (3H, s), 1.41(1H, m), 1.48 (3H, s), 1.53-1.56 (1H, m), 1.70 (3H, s), 1.70-1.84 (3H, m), 1.95(1H, m), 2.27 (1H, m), 2.88 (1H, d, J = 1.6 Hz), 3.49 (1H, d, J = 10.4 Hz), 3.50-3.53 (1H, m), 3.89 (1H, d, J = 10.4 Hz), 4.20 (2H, d, J = 3.2 Hz), 5.02 (1H, m), 5.12 (1H, dd, J = 5.2, 11.6 Hz), 5.54 (1H, s), 6.46 (1H, s), 7.33-7.43 (4H, m), 7.51 (2H, dd, J = 1.6, 8.0 Hz), 8.11 (1H, dt, J = 2.0, 8.0 Hz), 8.70 (1H, dd, J = 1.6, 4.8 Hz), 9.02 (1H, d, J = 2.0 Hz).
ESI-MS: m / z 622 (M + H) + ;
1 H-NMR (CDCl 3 ): δ 1.19-1.22 (1H, m), 1.25 (3H, s), 1.41 (1H, m), 1.48 (3H, s), 1.53-1.56 (1H, m), 1.70 (3H, s), 1.70-1.84 (3H, m), 1.95 (1H, m), 2.27 (1H, m), 2.88 (1H, d, J = 1.6 Hz), 3.49 (1H, d, J = 10.4 Hz), 3.50-3.53 (1H, m), 3.89 (1H, d, J = 10.4 Hz), 4.20 (2H, d, J = 3.2 Hz), 5.02 (1H, m), 5.12 (1H, dd, J = 5.2, 11.6 Hz), 5.54 (1H, s), 6.46 (1H, s), 7.33-7.43 (4H, m), 7.51 (2H, dd, J = 1.6, 8.0 Hz), 8.11 (1H, dt, J = 2.0, 8.0 Hz), 8.70 (1H, dd, J = 1.6, 4.8 Hz), 9.02 (1H, d, J = 2.0 Hz).

実施例24:
7−O−クロロアセチル−1,7,11−トリデアセチルピリピロペンAの合成
実施例23の方法で合成した1,11−O−ベンジリデン−7−O−クロロアセチル−1,7,11−トリデアセチルピリピロペンA(10mg)をクロロホルム(1mL)、メタノール(9mL)に溶解し、10−カンファースルホン酸(3mg)を加えた。室温で5日間撹拌後、反応溶液を水にあけ、クロロホルムで抽出した。クロロホルム層を飽和食塩水で洗浄し、無水硫酸ナトリウムで乾燥後、減圧下で溶媒を留去して、7−O−クロロアセチル−1,7,11−トリデアセチルピリピロペンAの粗生成物を得た。これをシリカゲルクロマトグラフィー(Mega Bond Elut (Varian)、アセトン:クロロホルム=1:10)にて精製して、7−O−クロロアセチル−1,7,11−トリデアセチルピリピロペンA(8mg、収率100%)を得た。実施例19のESI−MSデータおよびH−NMRデータと一致した。
Example 24:
Synthesis of 7-O-chloroacetyl-1,7,11-trideacetylpyripyropene A 1,11-O-benzylidene-7-O-chloroacetyl-1,7,11- synthesized by the method of Example 23 Trideacetyl pyripyropene A (10 mg) was dissolved in chloroform (1 mL) and methanol (9 mL), and 10-camphorsulfonic acid (3 mg) was added. After stirring at room temperature for 5 days, the reaction solution was poured into water and extracted with chloroform. The chloroform layer was washed with saturated brine, dried over anhydrous sodium sulfate, and the solvent was distilled off under reduced pressure to give a crude product of 7-O-chloroacetyl-1,7,11-trideacetylpyripyropene A. Got. This was purified by silica gel chromatography (Mega Bond Elut (Varian), acetone: chloroform = 1: 10) to give 7-O-chloroacetyl-1,7,11-trideacetylpyripyropene A (8 mg, yield). 100%). Consistent with the ESI-MS data and 1 H-NMR data of Example 19.

実施例25:
1,7,11−トリデアセチル−1,11−O−p−メトキシベンジリデンピリピロペンAの合成
実施例10の方法で合成した1,7,11−トリデアセチルピリピロペンA(1.0g)をN,N−ジメチルホルムアミド(22mL)に溶解し、p−トルエンスルホン酸ピリジニウム塩(2.76g)、p−メトキシベンズアルデヒドジメチルアセタール(0.4g)を加えた。室温で4時間撹拌後、反応溶液を水にあけ、酢酸エチルで抽出した。酢酸エチル層を飽和食塩水で洗浄し、無水硫酸ナトリウムで乾燥後、減圧下で溶媒を留去して、1,7,11−トリデアセチル−1,11−O−p−メトキシベンジリデンピリピロペンAの粗生成物を得た。これをシリカゲルクロマトグラフィー(Mega Bond Elut (Varian)、アセトン:クロロホルム=1:10)にて精製して、1,7,11−トリデアセチル−1,11−O−p−メトキシベンジリデンピリピロペンA(520mg、収率41%)を得た。ESI−MSおよびH−NMRの測定結果より、特開平08−269065号公報に記載されているPR−124であることを確認した。
Example 25:
Synthesis of 1,7,11-trideacetyl-1,11-O-p-methoxybenzylidenepyripyropene A 1,7,11-trideacetylpyrilopene A (1.0 g) synthesized by the method of Example 10 Was dissolved in N, N-dimethylformamide (22 mL), and p-toluenesulfonic acid pyridinium salt (2.76 g) and p-methoxybenzaldehyde dimethyl acetal (0.4 g) were added. After stirring at room temperature for 4 hours, the reaction solution was poured into water and extracted with ethyl acetate. The ethyl acetate layer was washed with saturated brine, dried over anhydrous sodium sulfate, and then the solvent was distilled off under reduced pressure to obtain 1,7,11-trideacetyl-1,11-Op-methoxybenzylidenepyrpyropen. A crude product of A was obtained. This was purified by silica gel chromatography (Mega Bond Elut (Varian), acetone: chloroform = 1: 10) to obtain 1,7,11-trideacetyl-1,11-Op-methoxybenzylidenepyripyropene A. (520 mg, 41% yield) was obtained. From the measurement results of ESI-MS and 1 H-NMR, it was confirmed that it was PR-124 described in JP-A-08-269065.

実施例26:
7−O−クロロアセチル−1,7,11−トリデアセチル−1,11−O−p−メトキシベンジリデンピリピロペンAの合成
実施例25の方法で合成した1,7,11−トリデアセチル−1,11−O−p−メトキシベンジリデンピリピロペンA(100mg)をテトラヒドロフラン(2mL)に溶解し、トリエチルアミン(50mg)、クロロ酢酸無水物(60mg)を加えた。室温で2時間半撹拌後、反応溶液を水にあけ、クロロホルムで抽出した。クロロホルム層を飽和食塩水で洗浄し、無水硫酸ナトリウムで乾燥後、減圧下で溶媒を留去して、7−O−クロロアセチル−1,7,11−トリデアセチル−1,11−O−p−メトキシベンジリデンピリピロペンAの粗生成物を得た。これをメタノールと酢酸エチルで再結晶化、さらにシリカゲルクロマトグラフィー(Mega Bond Elut (Varian)、アセトン:クロロホルム=1:30)にて精製して、7−O−クロロアセチル−1,7,11−トリデアセチル−1,11−O−p−メトキシベンジリデンピリピロペンA(83mg、収率75%)を得た。
Example 26:
Synthesis of 7-O-chloroacetyl-1,7,11-trideacetyl-1,11-O-p-methoxybenzylidenepyrpyropenpen A 1,7,11-trideacetyl-1 synthesized by the method of Example 25 , 11-O-p-methoxybenzylidenepyripyropene A (100 mg) was dissolved in tetrahydrofuran (2 mL), and triethylamine (50 mg) and chloroacetic anhydride (60 mg) were added. After stirring at room temperature for 2.5 hours, the reaction solution was poured into water and extracted with chloroform. The chloroform layer was washed with saturated brine, dried over anhydrous sodium sulfate, and the solvent was distilled off under reduced pressure to give 7-O-chloroacetyl-1,7,11-trideacetyl-1,11-Op. -A crude product of methoxybenzylidenepyripyropene A was obtained. This was recrystallized from methanol and ethyl acetate, further purified by silica gel chromatography (Mega Bond Elut (Varian), acetone: chloroform = 1: 30), and 7-O-chloroacetyl-1,7,11- Obtained trideacetyl-1,11-Op-methoxybenzylidene pyripyropene A (83 mg, 75% yield).

ESI-MS:m/z 652 (M+H)+
1H-NMR (CDCl3):δ 1.20 (1H, m), 1.24 (3H, s), 1.40 (1H,m), 1.47 (3H, s), 1.54 (1H, d, J = 3.6 Hz), 1.72 (3H, s), 1.66-1.80 (3H, m), 1.93 (1H, m), 2.26 (1H, m), 2.87 (1H, d, J = 2.0 Hz), 3.47 (1H, d, J = 10.0 Hz), 3.47-3.51 (1H, m), 3.80 (3H, s), 3.87 (1H, d, J = 10.4 Hz), 4.20 (2H, d, J = 3.2 Hz), 5.01 (1H, m), 5.12 (1H, dd, J = 5.6, 11.6 Hz), 5.50 (1H, s), 6.46 (1H, s), 6.90 (2H, d, J = 8.8 Hz), 7.41 (1H, dd, J = 4.8, 12.0 Hz), 7.43 (2H, d, J = 8.8 Hz), 8.10 (1H, dt, J = 2.0, 8.4 Hz), 8.70 (1H, dd, J = 2.4, 4.8 Hz), 9.02 (1H, d, J = 2.0 Hz).
ESI-MS: m / z 652 (M + H) + ;
1 H-NMR (CDCl 3 ): δ 1.20 (1H, m), 1.24 (3H, s), 1.40 (1H, m), 1.47 (3H, s), 1.54 (1H, d, J = 3.6 Hz), 1.72 (3H, s), 1.66-1.80 (3H, m), 1.93 (1H, m), 2.26 (1H, m), 2.87 (1H, d, J = 2.0 Hz), 3.47 (1H, d, J = 10.0 Hz), 3.47-3.51 (1H, m), 3.80 (3H, s), 3.87 (1H, d, J = 10.4 Hz), 4.20 (2H, d, J = 3.2 Hz), 5.01 (1H, m) , 5.12 (1H, dd, J = 5.6, 11.6 Hz), 5.50 (1H, s), 6.46 (1H, s), 6.90 (2H, d, J = 8.8 Hz), 7.41 (1H, dd, J = 4.8 , 12.0 Hz), 7.43 (2H, d, J = 8.8 Hz), 8.10 (1H, dt, J = 2.0, 8.4 Hz), 8.70 (1H, dd, J = 2.4, 4.8 Hz), 9.02 (1H, d , J = 2.0 Hz).

実施例27:
7−O−クロロアセチル−1,7,11−トリデアセチルピリピロペンAの合成
実施例26の方法で合成した7−O−クロロアセチル−1,7,11−トリデアセチル−1,11−O−p−メトキシベンジリデンピリピロペンA(30mg)をクロロホルム(5mL)、メタノール(1mL)に溶解し、10−カンファースルホン酸(3mg)を加えた。室温で5日間撹拌後、反応溶液を水にあけ、クロロホルムで抽出した。クロロホルム層を飽和食塩水で洗浄し、無水硫酸ナトリウムで乾燥後、減圧下で溶媒を留去して、7−O−クロロアセチル−1,7,11−トリデアセチルピリピロペンAの粗生成物を得た。これをシリカゲルクロマトグラフィー(Mega Bond Elut (Varian)、アセトン:クロロホルム=1:5)にて精製して、7−O−クロロアセチル−1,7,11−トリデアセチルピリピロペンA(14mg、収率69%)を得た。実施例19のESI−MSデータおよびH−NMRデータと一致した。
Example 27:
7-O-chloroacetyl -1,7,11- tri-deacetyl pyridinium pyro pen was synthesized by the method of Example 26 of A 7-O-chloroacetyl -1,7,11- Torideasechiru -1,11-O -P-Methoxybenzylidenepyripyropene A (30 mg) was dissolved in chloroform (5 mL) and methanol (1 mL), and 10-camphorsulfonic acid (3 mg) was added. After stirring at room temperature for 5 days, the reaction solution was poured into water and extracted with chloroform. The chloroform layer was washed with saturated brine, dried over anhydrous sodium sulfate, and the solvent was distilled off under reduced pressure to give a crude product of 7-O-chloroacetyl-1,7,11-trideacetylpyripyropene A. Got. This was purified by silica gel chromatography (Mega Bond Elut (Varian), acetone: chloroform = 1: 5) to give 7-O-chloroacetyl-1,7,11-trideacetylpyripyropene A (14 mg, yield). Yield 69%). Consistent with the ESI-MS data and 1 H-NMR data of Example 19.

Claims (6)

次式C:
Figure 0005544553
[式中、R’は、環状のC3−6アルキルカルボニル基を表す]で表される化合物Cを製造する方法であって、
(a) 次式A1:
Figure 0005544553
[式中、Acは、アセチル基を表す]
で表される化合物A1の7位アセチル基を、塩基を用いて加水分解することにより選択的に脱アシル化した後、7位の水酸基を保護することによって、次式B1:
Figure 0005544553
[式中、
Acは、上記で定義したとおりであり、
1aは、ハロゲン原子で置換されていてもよい−SiR基(ここで、R、RおよびRは、互いに独立して、直鎖もしくは分岐鎖状のC1−6アルキル基、またはフェニル基を表す)、またはテトラヒドロピラニル基を表す]
で表される化合物B1を得た後、化合物B1の1位および11位のアセチル基を、塩基を用いて加水分解することにより脱アシル化することによって、次式Fa:
Figure 0005544553
[式中、R1aは、上記で定義したとおりである]
で表される化合物Faを得る工程、または
(a) 化合物A1または次式A4’:
Figure 0005544553
[式中、A’、A’およびA11’は、同一または異なっていてもよく、アセチル基またはプロピオニル基を表し、但し、A’、A’およびA11’が同時にアセチル基を表すことはない]
で表される化合物A4’の1位、7位および11位のアシル基を、塩基を用いて加水分解することにより脱アシル化した後、1位および11位の水酸基を保護することによって、次式D:
Figure 0005544553
[式中、2つのRは、互いに一緒になって、次式D−1、D−2、D−3およびD−4:
Figure 0005544553
(式中、Yは、水素原子またはC1−4アルキル基を表し、Xは、同一または異なってもよく、水素原子、C1−4アルコキシ基またはニトロ基を表し、nは0〜5を表す)から選択される基を表す]
で表される化合物Dを得た後、化合物Dの7位の水酸基を保護することにより、次式E:
Figure 0005544553
[式中、
1bは、アセチル基、クロロアセチル基、ハロゲン原子で置換されていてもよい−SiR基(ここで、R、RおよびRは、互いに独立して、直鎖もしくは分岐鎖状のC1−6アルキル基、またはフェニル基を表す)、またはテトラヒドロピラニル基を表し、
は、上記で定義したとおりである]
で表される化合物Eを得て、さらに化合物Eにおける1位および11位の保護基を脱保護することによって、次式Fb:
Figure 0005544553
[式中、R1bは、上記で定義したとおりである]
で表される化合物Fbを得る工程、ならびに
(b) 化合物FaまたはFbにおける1位および11位の水酸基を目的とするR’に対応するアシル化剤でアシル化することによって、次式B2aまたはB2b:
Figure 0005544553
[式中、R1a、R1bおよびR’は、上記で定義したとおりである]で表される化合物B2aまたは化合物B2bを得た後、化合物B2aまたは化合物B2bの7位の保護基を脱保護する工程
を含んでなる、方法。
Formula C:
Figure 0005544553
[In the formula, R ′ represents a cyclic C 3-6 alkylcarbonyl group]
(A 1 ) The following formula A1:
Figure 0005544553
[In the formula, Ac represents an acetyl group]
The 7-position acetyl group of the compound A1 represented by formula (1) is selectively deacylated by hydrolysis using a base, and then the 7-position hydroxyl group is protected to give the following formula B1:
Figure 0005544553
[Where:
Ac is as defined above,
R 1a is a —SiR 3 R 4 R 5 group which may be substituted with a halogen atom (wherein R 3 , R 4 and R 5 are each independently a linear or branched C 1- 6 represents an alkyl group or a phenyl group), or represents a tetrahydropyranyl group ]
And then deacylating the acetyl groups at the 1-position and 11-position of the compound B1 with a base to give the following formula Fa:
Figure 0005544553
[Wherein R 1a is as defined above]
Or (a 2 ) Compound A1 or the following formula A4 ′:
Figure 0005544553
[Wherein, A 1 ′, A 7 ′ and A 11 ′ may be the same or different and each represents an acetyl group or a propionyl group, provided that A 1 ′, A 7 ′ and A 11 ′ are acetyl groups at the same time. Does not represent]
The acyl groups at the 1-position, 7-position and 11-position of the compound A4 ′ represented by the following are deacylated by hydrolysis with a base, and then the hydroxyl groups at the 1-position and the 11-position are protected, Formula D:
Figure 0005544553
[Wherein two R 2 , taken together, have the following formulas D-1, D-2, D-3 and D-4:
Figure 0005544553
Wherein Y 1 represents a hydrogen atom or a C 1-4 alkyl group, X may be the same or different, and represents a hydrogen atom, a C 1-4 alkoxy group or a nitro group, and n is 0 to 5 Represents a group selected from
Then, by protecting the hydroxyl group at the 7-position of compound D, the following formula E:
Figure 0005544553
[Where:
R 1b is an acetyl group, a chloroacetyl group, or a —SiR 3 R 4 R 5 group optionally substituted with a halogen atom (wherein R 3 , R 4 and R 5 are each independently a straight chain or A branched C 1-6 alkyl group or a phenyl group), or a tetrahydropyranyl group ,
R 2 is as defined above]
In addition, by deprotecting the 1-position and 11-position protecting groups in Compound E, the following formula Fb:
Figure 0005544553
[Wherein R 1b is as defined above]
And (b) acylating the 1-position and 11-position hydroxyl groups in the compound Fa or Fb with an acylating agent corresponding to the target R ′, to obtain a compound Fb represented by the following formula B2a or B2b :
Figure 0005544553
[In the formula, R 1a , R 1b and R ′ are as defined above] After obtaining compound B2a or compound B2b, the protecting group at position 7 of compound B2a or compound B2b is deprotected. A method comprising the step of:
1bが、アセチル基、クロロアセチル基、またはハロゲン原子で置換されていてもよい−SiR基(ここで、R、RおよびRは、互いに独立して、直鎖もしくは分岐鎖状のC1−6アルキル基、またはフェニル基を表す)である、請求項1に記載の方法。 R 1b may be substituted with an acetyl group, a chloroacetyl group, or a halogen atom, -SiR 3 R 4 R 5 group (wherein R 3 , R 4 and R 5 are each independently a straight chain Or a branched C 1-6 alkyl group or a phenyl group). 2つのR2が、互いに一緒になって、次式のD−1またはD−2:
Figure 0005544553
(式中、Yは、水素原子またはC1−4アルキル基を表し、Xは、同一または異なってもよく、水素原子、C1−4アルコキシ基またはニトロ基を表し、nは0〜5を表す)を表す、請求項1に記載の方法。
Two R 2 , taken together, can be represented by the following formula D-1 or D-2:
Figure 0005544553
Wherein Y 1 represents a hydrogen atom or a C 1-4 alkyl group, X may be the same or different, and represents a hydrogen atom, a C 1-4 alkoxy group or a nitro group, and n is 0 to 5 The method according to claim 1, which represents
次式C:
Figure 0005544553
[式中、R’は、環状のC3−6アルキルカルボニル基を表す]
で表される化合物Cを製造する方法であって、
次式Fb:
Figure 0005544553
[式中、
1bは、アセチル基、クロロアセチル基、ハロゲン原子で置換されていてもよい−SiR基(ここで、R、RおよびRは、互いに独立して、直鎖もしくは分岐鎖状のC1−6アルキル基、またはフェニル基を表す)、またはテトラヒドロピラニル基を表す]
で表される化合物Fbにおける1位および11位の水酸基をR’に対応するアシル化剤でアシル化することによって、次式B2b:
Figure 0005544553
[式中、R1bおよびR’は、上記で定義したとおりである]
で表される化合物B2bを得た後、化合物B2bの7位の保護基を脱保護することを含んでなる、方法。
Formula C:
Figure 0005544553
[Wherein R ′ represents a cyclic C 3-6 alkylcarbonyl group]
A compound C represented by the formula:
Formula Fb:
Figure 0005544553
[Where:
R 1b is an acetyl group, a chloroacetyl group, or a —SiR 3 R 4 R 5 group optionally substituted with a halogen atom (wherein R 3 , R 4 and R 5 are each independently a straight chain or A branched C 1-6 alkyl group or a phenyl group), or a tetrahydropyranyl group ]
In the compound Fb represented by formula (1), the hydroxyl groups at the 1-position and the 11-position are acylated with an acylating agent corresponding to R ′ to give the following formula B2b:
Figure 0005544553
[Wherein R 1b and R ′ are as defined above]
And then deprotecting the protecting group at the 7-position of compound B2b.
次式C:
Figure 0005544553
[式中、R’は、環状のC3−6アルキルカルボニル基を表す]で表される化合物Cを製造する方法であって、
次式A4:
Figure 0005544553
[式中、A、AおよびA11は、同一または異なっていてもよく、アセチル基またはプロピオニル基を表す]
で表される化合物A4の1位、7位および11位のアシル基を、塩基を用いて加水分解することにより脱アシル化した後、1位および11位の水酸基を保護することによって、次式D:
Figure 0005544553
[式中、2つのRは、互いに一緒になって、次式D−1、D−2、D−3およびD−4:
Figure 0005544553
(式中、Yは、水素原子またはC1−4アルキル基を表し、Xは、同一または異なってもよく、水素原子、C1−4アルコキシ基またはニトロ基を表し、nは0〜5を表す)から選択される基を表す]
で表される化合物Dを得た後、化合物Dの7位の水酸基を保護することにより、次式E:
Figure 0005544553
[式中、
1bは、アセチル基、クロロアセチル基、ハロゲン原子で置換されていてもよい−SiR基(ここで、R、RおよびRは、互いに独立して、直鎖もしくは分岐鎖状のC1−6アルキル基、またはフェニル基を表す)、またはテトラヒドロピラニル基を表し、
は、上記で定義したとおりである]
で表される化合物Eを得て、さらに化合物Eにおける1位および11位の保護基を脱保護することによって、次式Fb:
Figure 0005544553
[式中、R1bは、上記で定義したとおりである]
で表される化合物Fbを得て、次に、化合物Fbにおける1位および11位の水酸基をR’に対応するアシル化剤でアシル化することによって、次式B2b:
Figure 0005544553
[式中、R1bおよびR’は、上記で定義したとおりである]
で表される化合物B2bを得た後、化合物B2bの7位の保護基を脱保護することを含んでなる、方法。
Formula C:
Figure 0005544553
[In the formula, R ′ represents a cyclic C 3-6 alkylcarbonyl group]
Formula A4:
Figure 0005544553
[Wherein A 1 , A 7 and A 11 may be the same or different and each represents an acetyl group or a propionyl group]
The acyl groups at the 1-position, 7-position and 11-position of the compound A4 represented by the formula (1) are deacylated by hydrolysis with a base, and then the hydroxyl groups at the 1-position and the 11-position are protected, D:
Figure 0005544553
[Wherein two R 2 , taken together, have the following formulas D-1, D-2, D-3 and D-4:
Figure 0005544553
Wherein Y 1 represents a hydrogen atom or a C 1-4 alkyl group, X may be the same or different, and represents a hydrogen atom, a C 1-4 alkoxy group or a nitro group, and n is 0 to 5 Represents a group selected from
Then, by protecting the hydroxyl group at the 7-position of compound D, the following formula E:
Figure 0005544553
[Where:
R 1b is an acetyl group, a chloroacetyl group, or a —SiR 3 R 4 R 5 group optionally substituted with a halogen atom (wherein R 3 , R 4 and R 5 are each independently a straight chain or A branched C 1-6 alkyl group or a phenyl group), or a tetrahydropyranyl group ,
R 2 is as defined above]
In addition, by deprotecting the 1-position and 11-position protecting groups in Compound E, the following formula Fb:
Figure 0005544553
[Wherein R 1b is as defined above]
And then acylating the hydroxyl groups at the 1-position and the 11-position in the compound Fb with an acylating agent corresponding to R ′:
Figure 0005544553
[Wherein R 1b and R ′ are as defined above]
And then deprotecting the protecting group at the 7-position of compound B2b.
次式B2bで表される化合物:
Figure 0005544553
[式中、
1bは、アセチル基、クロロアセチル基、ハロゲン原子で置換されていてもよい−SiR基(ここで、R、RおよびRは、互いに独立して、直鎖もしくは分岐鎖状のC1−6アルキル基、またはフェニル基を表す)、またはテトラヒドロピラニル基を表し、
R’は、環状のC3−6アルキルカルボニル基である]。
Compound represented by the following formula B2b:
Figure 0005544553
[Where:
R 1b is an acetyl group, a chloroacetyl group, or a —SiR 3 R 4 R 5 group optionally substituted with a halogen atom (wherein R 3 , R 4 and R 5 are each independently a straight chain or A branched C 1-6 alkyl group or a phenyl group), or a tetrahydropyranyl group ,
R ′ is a cyclic C 3-6 alkylcarbonyl group].
JP2009528134A 2007-08-13 2008-08-13 Process for producing pyripyropene derivative and its intermediate Active JP5544553B2 (en)

Priority Applications (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP2009528134A JP5544553B2 (en) 2007-08-13 2008-08-13 Process for producing pyripyropene derivative and its intermediate

Applications Claiming Priority (4)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP2007210804 2007-08-13
JP2007210804 2007-08-13
JP2009528134A JP5544553B2 (en) 2007-08-13 2008-08-13 Process for producing pyripyropene derivative and its intermediate
PCT/JP2008/064520 WO2009022702A1 (en) 2007-08-13 2008-08-13 Method for producing pyripyropene derivative and production intermediate thereof

Publications (2)

Publication Number Publication Date
JPWO2009022702A1 JPWO2009022702A1 (en) 2010-11-18
JP5544553B2 true JP5544553B2 (en) 2014-07-09

Family

ID=40350754

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
JP2009528134A Active JP5544553B2 (en) 2007-08-13 2008-08-13 Process for producing pyripyropene derivative and its intermediate

Country Status (16)

Country Link
US (2) US8263778B2 (en)
EP (2) EP2186815A4 (en)
JP (1) JP5544553B2 (en)
KR (1) KR101570887B1 (en)
CN (1) CN101821272B (en)
AU (1) AU2008287799B2 (en)
BR (1) BRPI0814980B1 (en)
CA (1) CA2696039C (en)
EC (1) ECSP10010019A (en)
IL (1) IL203698B (en)
MX (1) MX2010001609A (en)
NZ (1) NZ583710A (en)
RU (1) RU2494101C2 (en)
TW (1) TWI422333B (en)
WO (1) WO2009022702A1 (en)
ZA (1) ZA201001744B (en)

Families Citing this family (24)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
KR101690802B1 (en) 2008-07-24 2016-12-28 메이지 세이카 파루마 가부시키가이샤 Pyripyropene a biosynthetic gene
EP2426124B1 (en) * 2009-05-13 2013-08-07 Meiji Seika Pharma Co., Ltd. Process for producing pyripyropene derivative
JP5554330B2 (en) * 2009-06-23 2014-07-23 学校法人北里研究所 Hydroxyl-containing pyripyropene derivative showing ACAT2 inhibitory activity
WO2011093187A1 (en) 2010-01-26 2011-08-04 明治製菓株式会社 Method for producing pyripyropene derivative by enzymatic process
NZ601951A (en) 2010-01-26 2015-01-30 Meiji Seika Pharma Co Ltd Nucleic acid construct comprising pyripyropene biosynthetic gene cluster and marker gene
DK2530164T3 (en) 2010-01-26 2017-10-16 Meiji Seika Pharma Co Ltd Process for producing a pyripyropene.
UA111151C2 (en) * 2010-03-01 2016-04-11 Мейдзі Сейка Фарма Ко., Лтд. METHOD OF PREPARATION OF PYRIPYROPENE DERIVATIVES
US20130131091A1 (en) 2010-05-24 2013-05-23 Kimihiko Goto Harmful organism control agent
JP5782116B2 (en) 2010-05-28 2015-09-24 ビーエーエスエフ ソシエタス・ヨーロピアBasf Se Pesticide mixture
PE20130631A1 (en) 2010-05-28 2013-05-29 Basf Se PESTICIDE MIXTURES
JP2013166704A (en) * 2010-06-16 2013-08-29 Meiji Seikaファルマ株式会社 Novel insecticide
WO2011161132A1 (en) 2010-06-25 2011-12-29 Basf Se Pesticidal mixtures
WO2011161131A1 (en) 2010-06-25 2011-12-29 Basf Se Herbicidal mixtures
CN110294765A (en) 2010-09-14 2019-10-01 巴斯夫欧洲公司 Composition containing pyridine Nan Ping insecticide and auxiliary agent
JP5877202B2 (en) 2010-09-14 2016-03-02 ビーエーエスエフ ソシエタス・ヨーロピアBasf Se Composition comprising a pyripyropene insecticide and a base
MX363611B (en) * 2012-03-12 2019-03-28 Basf Se Method for producing an aqueous suspension concentrate formulation of a pyripyropene insecticide.
CN104159449B (en) 2012-03-12 2017-05-24 巴斯夫欧洲公司 Liquid concentrate formulation containing a pyripyropene insecticide I
JP6088551B2 (en) 2012-03-12 2017-03-01 ビーエーエスエフ ソシエタス・ヨーロピアBasf Se Liquid concentrate formulation II containing pyripyropene insecticide
ES2575503T3 (en) 2012-03-13 2016-06-29 Basf Se Concentrated liquid formulation containing a pyripyropene insecticide III
CA2898115C (en) 2013-01-16 2021-03-02 Basf Se Method for preparing a pyripyropene compound
WO2014111395A1 (en) 2013-01-16 2014-07-24 Basf Se Method for producing a liquid emulsifiable formulation comprising a pyripyropene pesticide
WO2014114738A1 (en) 2013-01-25 2014-07-31 Basf Se Method for producing aqueous suspension concentrate formulations
DK2978852T3 (en) 2013-03-28 2019-02-18 Basf Se MANUFACTURING PYRIPYROPENES FROM DRY BIOMASS
CN113735924A (en) * 2021-09-01 2021-12-03 河北威远生物化工有限公司 Preparation method of 23-ketone avermectin B2a/B2B derivative

Citations (4)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPH08259569A (en) * 1995-03-27 1996-10-08 Kitasato Inst:The Pyripropene derivative
JPH08269065A (en) * 1995-04-03 1996-10-15 Kitasato Inst:The Pyripyropnene derivative
WO2006129714A1 (en) * 2005-06-01 2006-12-07 Meiji Seika Kaisha, Ltd. Pest control agent
WO2008066153A1 (en) * 2006-11-30 2008-06-05 Meiji Seika Kaisha, Ltd. Pest control agent

Family Cites Families (6)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPS5111171B1 (en) * 1971-06-28 1976-04-09 Sumitomo Chemical Co
JP3233476B2 (en) 1992-10-22 2001-11-26 社団法人北里研究所 FO-1289 substance and method for producing the same
JPH08239385A (en) 1995-03-03 1996-09-17 Kitasato Inst:The Fo-1289 substance and its production
KR100522446B1 (en) 2003-01-07 2005-10-18 한국생명공학연구원 AGENT FOR KILLING INSECTS COMPRISING COMPOUNDS HAVING ACYL CoA:CHOLESTEROL ACYLTRANSFERASE INHIBITORY OR SALT THEREOF
US7491738B2 (en) * 2005-06-01 2009-02-17 Meiji Seika Kaisha, Ltd. Pest control agents
KR100943983B1 (en) 2006-07-27 2010-02-26 한국생명공학연구원 Pyripyropene derivatives and insecticidal compositions comprising them

Patent Citations (4)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPH08259569A (en) * 1995-03-27 1996-10-08 Kitasato Inst:The Pyripropene derivative
JPH08269065A (en) * 1995-04-03 1996-10-15 Kitasato Inst:The Pyripyropnene derivative
WO2006129714A1 (en) * 2005-06-01 2006-12-07 Meiji Seika Kaisha, Ltd. Pest control agent
WO2008066153A1 (en) * 2006-11-30 2008-06-05 Meiji Seika Kaisha, Ltd. Pest control agent

Non-Patent Citations (2)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Title
JPN6013022742; Journal of Antibiotics Vol.49, No.11, 1996, p.1149-1156 *
JPN6013022743; Bioorganic & Medicinal Chemistry Letters Vol.5, No.22, 1995, p.2683-2688 *

Also Published As

Publication number Publication date
US8759529B2 (en) 2014-06-24
CA2696039C (en) 2015-11-24
BRPI0814980A2 (en) 2015-02-03
CA2696039A1 (en) 2009-02-19
ZA201001744B (en) 2011-06-29
BRPI0814980B1 (en) 2022-05-31
RU2494101C2 (en) 2013-09-27
ECSP10010019A (en) 2010-06-29
US20120330021A1 (en) 2012-12-27
US20100160640A1 (en) 2010-06-24
WO2009022702A1 (en) 2009-02-19
KR20100051857A (en) 2010-05-18
EP2592084B1 (en) 2014-07-09
RU2010109368A (en) 2011-09-20
KR101570887B1 (en) 2015-11-20
TWI422333B (en) 2014-01-11
IL203698B (en) 2018-04-30
JPWO2009022702A1 (en) 2010-11-18
MX2010001609A (en) 2010-03-15
AU2008287799B2 (en) 2013-10-31
BRPI0814980A8 (en) 2016-07-26
US8263778B2 (en) 2012-09-11
NZ583710A (en) 2012-03-30
AU2008287799A1 (en) 2009-02-19
TW200915987A (en) 2009-04-16
EP2186815A4 (en) 2012-01-25
EP2186815A1 (en) 2010-05-19
CN101821272A (en) 2010-09-01
EP2592084B8 (en) 2014-08-27
CN101821272B (en) 2013-03-27
EP2592084A1 (en) 2013-05-15

Similar Documents

Publication Publication Date Title
JP5544553B2 (en) Process for producing pyripyropene derivative and its intermediate
BR112012018232B1 (en) FURO [3,2-B] PYRAN DERIVATIVE COMPOUNDS USEFUL IN THE SYNTHESIS OF HALICONDRIN B ANALOGS AND ER-80402 AND ERIBULIN SYNTHESIS METHODS
JP2000109497A (en) Spiro ring type c-glycoside
JP5781432B2 (en) Method for producing pyripyropene derivative
JP5717752B2 (en) Method for producing pyripyropene derivative
WO2014056442A1 (en) (2r)-2-deoxy-2,2-disubstitute-1,4-ribose lactone and preparation method and use thereof
CN110511197B (en) N-furanone aryl sulfonyl hydrazone compound and synthetic method and application thereof
US20200231622A1 (en) Method for preparing steroid derivative fxr agonist
KR101794970B1 (en) Novel derivatives of nucleosides
US20090281301A1 (en) Manufacturing Process of 2' ,2' - Difluoronucleoside and Intermediate
RU2738408C1 (en) Methods for selective introduction of protective groups into resorcinol derivatives
KR100741310B1 (en) Naphthalene 2-carboxylate derivative useful for synthesizing gemcitabine and a method for preparing the same
AU2010347354B9 (en) Process for producing pyripyropene derivatives
JP2003252891A (en) Intermediate for synthesizing cytosaminomycin and method for producing the same

Legal Events

Date Code Title Description
A621 Written request for application examination

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A621

Effective date: 20110517

A131 Notification of reasons for refusal

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131

Effective date: 20130514

A521 Request for written amendment filed

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523

Effective date: 20130712

A02 Decision of refusal

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A02

Effective date: 20131206

A521 Request for written amendment filed

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523

Effective date: 20140214

A911 Transfer to examiner for re-examination before appeal (zenchi)

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A911

Effective date: 20140225

TRDD Decision of grant or rejection written
A01 Written decision to grant a patent or to grant a registration (utility model)

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A01

Effective date: 20140318

A711 Notification of change in applicant

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A711

Effective date: 20140417

A61 First payment of annual fees (during grant procedure)

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A61

Effective date: 20140417

A521 Request for written amendment filed

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A821

Effective date: 20140417

R150 Certificate of patent or registration of utility model

Ref document number: 5544553

Country of ref document: JP

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R150

R250 Receipt of annual fees

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250

R250 Receipt of annual fees

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250

R250 Receipt of annual fees

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250

R250 Receipt of annual fees

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250

R250 Receipt of annual fees

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250

R250 Receipt of annual fees

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250

R250 Receipt of annual fees

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250