JP5527105B2 - Film forming ink, film forming method, and light emitting element manufacturing method - Google Patents
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Description
本発明は、成膜用インク、成膜方法および発光素子の製造方法に関するものである。 The present invention relates to a film forming ink, a film forming method, and a light emitting element manufacturing method .
有機エレクトロルミネッセンス素子(有機EL素子)は、陽極と陰極との間に少なくとも1層の発光性有機層(発光層)を介挿した構造を有する発光素子である。このような発光素子では、陰極と陽極との間に電界を印加することにより、発光層に陰極側から電子が注入されるとともに陽極側から正孔が注入され、発光層中で電子と正孔が再結合することにより励起子が生成し、この励起子が基底状態に戻る際に、そのエネルギー分が光として放出される。 An organic electroluminescence element (organic EL element) is a light emitting element having a structure in which at least one light emitting organic layer (light emitting layer) is interposed between an anode and a cathode. In such a light emitting device, by applying an electric field between the cathode and the anode, electrons are injected into the light emitting layer from the cathode side and holes are injected from the anode side, and electrons and holes are injected into the light emitting layer. Recombination generates excitons, and when the excitons return to the ground state, the energy is emitted as light.
一般に、有機EL素子では、陽極上に正孔注入層が設けられ、その正孔注入層上に正孔輸送層または発光層が設けられている。
これらの層を形成する方法(成膜方法)として、成膜材料を溶解または分散した成膜用インクを用いる方法が知られている(例えば、特許文献1参照)。
このような成膜方法は、フォトリソグラフィー法を用いずにパターンニングが可能であるため、製造プロセスが簡単なものとなるとともに、原材料の使用量も少なくて済むという利点がある。
一般に、有機EL素子の各層の構成材料にはπ共役系化合物が用いられる。
In general, in an organic EL element, a hole injection layer is provided on an anode, and a hole transport layer or a light emitting layer is provided on the hole injection layer.
As a method for forming these layers (film forming method), a method using a film forming ink in which a film forming material is dissolved or dispersed is known (for example, see Patent Document 1).
Since such a film forming method can be patterned without using a photolithography method, there is an advantage that the manufacturing process becomes simple and the amount of raw materials used is small.
In general, a π-conjugated compound is used as a constituent material of each layer of the organic EL element.
しかし、従来の成膜用インクでは、得られる膜のキャリア(正孔や電子)の輸送能が高くなりすぎてしまうという問題があった。かかる問題は、溶媒または分散媒中でπ共役系化合物同士がπ−πスタッキングの影響により凝集しやすいことによるものであると考えられる。また、有機EL素子を構成する層のキャリアの輸送能が高すぎると、正孔と電子の輸送バランスが崩れ、発光効率が低下してしまう。
したがって、このような成膜用インク用いて液滴吐出法により成膜すると、スピンコート法と異なり、π共役系化合物同士の凝集を防止する力が作用しないので、π共役系化合物同士が凝集しやすく、前述したような問題が顕著となる。
However, the conventional film-forming ink has a problem that the transport ability of carriers (holes and electrons) of the obtained film becomes too high. Such a problem is considered to be due to the fact that π-conjugated compounds tend to aggregate due to the influence of π-π stacking in a solvent or dispersion medium. Moreover, when the carrier transport capability of the layer constituting the organic EL element is too high, the transport balance between holes and electrons is lost, and the light emission efficiency is lowered.
Therefore, when the film is formed by the droplet discharge method using such a film forming ink, unlike the spin coating method, the force for preventing the aggregation of the π-conjugated compounds does not act. Therefore, the π-conjugated compounds are aggregated. It is easy and the problem as mentioned above becomes remarkable.
本発明の目的は、成膜材料としてπ共役系化合物を用いる場合において、π共役系化合物同士の凝集を防止して、優れた膜質を有する膜を形成することができる成膜用インク、成膜方法および発光素子の製造方法を提供することにある。 An object of the present invention is to form a film-forming ink capable of preventing the aggregation of π-conjugated compounds and forming a film having excellent film quality when a π-conjugated compound is used as a film-forming material. It is to provide a method of manufacturing methods and the light-emitting element.
このような目的は、下記の本発明により達成される。
本発明の成膜用インクは、π共役系化合物を含む成膜材料と、
前記成膜材料を溶解または分散させる液性媒体とを含み、
前記液性媒体は、1,2−ジブチルベンゼンを含むことを特徴とする成膜用インク。
Such an object is achieved by the present invention described below.
The film-forming ink of the present invention includes a film-forming material containing a π-conjugated compound,
A liquid medium for dissolving or dispersing the film-forming material,
The film-forming ink, wherein the liquid medium contains 1,2-dibutylbenzene .
かかる化合物は、分子の対称性が低いため、成膜インク中における分子の運動の異方性が高い。そのため、かかる化合物の芳香族環(ベンゼン環)は、π共役系化合物同士の間に介在した状態において、成膜材料に含まれるπ共役系化合物の芳香族環に対して非平行になりやすく、π共役系化合物のπ−πスタッキングの距離を大きくすることができる。そのため、このような化合物を溶媒または分散媒として含む成膜用インクは、液滴吐出法により基材上に付与しても、π共役系化合物同士の凝集を防止することができる。その結果、得られる膜のキャリア(正孔や電子)の輸送能を適度に抑えることができる。
また、かかる化合物は、R1〜R6の炭素数が比較的低く抑えられているので、複数(2〜4置換)のアルキル基を有しながらも、粘度を抑えることができる。そのため、本発明の成膜用インクは、高精度に成膜を行うことができる。
Since such a compound has low molecular symmetry, the anisotropy of molecular motion in the film-forming ink is high. Therefore, the aromatic ring (benzene ring) of such a compound is likely to be non-parallel to the aromatic ring of the π-conjugated compound contained in the film-forming material in a state of being interposed between the π-conjugated compounds, The π-π stacking distance of the π conjugated compound can be increased. Therefore, a film-forming ink containing such a compound as a solvent or a dispersion medium can prevent aggregation of π-conjugated compounds even when applied to a substrate by a droplet discharge method. As a result, the transport ability of carriers (holes and electrons) in the obtained film can be moderately suppressed.
Moreover, since the carbon number of R < 1 > -R < 6 > is restrained comparatively low, this compound can suppress a viscosity, even if it has multiple (2-4 substituted) alkyl groups. Therefore, the film-forming ink of the present invention can form a film with high accuracy.
本発明の成膜用インクでは、前記成膜材料は、有機エレクトロルミネッセンス素子の有機層を構成する材料またはその前駆体であることが好ましい。
一般に、有機EL素子の有機層の構成材料には、π共役系化合物が用いられる。したがって、本発明の成膜用インクを用いることにより、有機EL素子の有機層のキャリアの輸送能を適度に抑えることができる。これにより、有機EL素子の発光効率を優れたものとすることができる。
In the film-forming ink of the present invention, the film-forming material is preferably a material constituting the organic layer of the organic electroluminescence element or a precursor thereof.
In general, a π-conjugated compound is used as a constituent material of the organic layer of the organic EL element. Therefore, by using the film-forming ink of the present invention, the carrier transport ability of the organic layer of the organic EL element can be moderately suppressed. Thereby, the luminous efficiency of the organic EL element can be made excellent.
本発明の成膜用インクでは、基材に付与し、前記液性媒体を除去することにより、前記成膜材料を主材料として構成された膜を形成するのに用いることが好ましい。
これにより、成膜の目的とする膜またはその前駆体膜を形成することができる。
本発明の成膜用インクでは、液滴吐出法による成膜に用いることが好ましい。
これにより、微細な領域に対しても、所望の位置および領域に成膜用インクを付与することができる。また、液滴吐出法は、気相成膜法に比し、成膜プロセスが簡単なものとなるとともに、原材料(成膜材料)の使用量が少なくて済むという利点がある。
また、液滴吐出法では、成膜材料としてπ共役系化合物を用いた場合に、π共役系化合物同士がπ−πスタッキングにより凝集しやすいので、本発明を適用することによる効果が顕著となる。
The film-forming ink of the present invention is preferably used to form a film composed of the film-forming material as a main material by applying it to a substrate and removing the liquid medium.
As a result, a film intended for film formation or a precursor film thereof can be formed.
The film-forming ink of the present invention is preferably used for film formation by a droplet discharge method.
Thereby, the film-forming ink can be applied to a desired position and region even in a fine region. In addition, the droplet discharge method has an advantage that the film forming process is simpler than the vapor phase film forming method, and the amount of raw material (film forming material) used is small.
In the droplet discharge method, when a π-conjugated compound is used as a film forming material, the π-conjugated compounds easily aggregate together by π-π stacking, so that the effect of applying the present invention becomes remarkable. .
本発明の成膜方法は、本発明の成膜用インクを基材上に付与する工程と、
前記成膜用インクから前記液性媒体を除去して、膜を形成する工程とを有することを特徴とする。
これにより、成膜材料としてπ共役系化合物を用いる場合において、π共役系化合物同士の凝集を防止して、優れた膜質を有する膜を形成することができる。
The film forming method of the present invention comprises a step of applying the film forming ink of the present invention on a substrate,
By removing the liquid medium from the film-forming ink, and having a step of forming a film.
Thereby, in the case of using a π-conjugated compound as a film forming material, aggregation of the π-conjugated compounds can be prevented, and a film having excellent film quality can be formed.
本発明の発光素子の製造方法は、本発明の成膜用インクを基材上に付与する工程と、
前記成膜用インクから前記液性媒体を除去して、膜を形成する工程とを有することを特徴とする。
これにより、π共役系化合物同士の凝集を防止して、優れた膜質を有する有機層(正孔輸送層、発光層等)を形成することができる。
The method for producing a light emitting device of the present invention comprises a step of applying the film forming ink of the present invention on a substrate,
And removing the liquid medium from the film-forming ink, and having a step of forming a film.
Thereby, aggregation of π-conjugated compounds can be prevented, and an organic layer (hole transport layer, light emitting layer, etc.) having excellent film quality can be formed.
以下、本発明の成膜用インク、成膜方法、液滴吐出装置、発光素子の製造方法、発光素子、発光装置および電子機器を添付図面に示す好適な実施形態に基づいて説明する。
(発光素子)
図1は、本発明の発光素子の縦断面を模式的に示す図である。なお、以下では、説明の都合上、図1中の上側を「上」、下側を「下」として説明を行う。
DESCRIPTION OF THE PREFERRED EMBODIMENTS Hereinafter, a film forming ink, a film forming method, a droplet discharge device, a light emitting element manufacturing method, a light emitting element, a light emitting device, and an electronic apparatus according to the present invention will be described based on preferred embodiments shown in the accompanying drawings.
(Light emitting element)
FIG. 1 is a diagram schematically showing a longitudinal section of a light emitting device of the present invention. In the following description, for convenience of explanation, the upper side in FIG. 1 will be described as “upper” and the lower side as “lower”.
図1に示す発光素子(エレクトロルミネッセンス素子)1は、R(赤色)、G(緑色)、B(青色)を発光させて、白色発光するものである。
このような発光素子1は、陽極3と陰極12との間に、正孔注入層4と正孔輸送層5と赤色発光層(第1の発光層)6と第1の中間層7Aと青色発光層(第2の発光層)8と第2の中間層7Bと緑色発光層(第3の発光層)9と電子輸送層10と電子注入層11と陰極12とがこの順に積層されてなるものである。
A light-emitting element (electroluminescence element) 1 shown in FIG. 1 emits white light by emitting R (red), G (green), and B (blue).
Such a
言い換えすれば、発光素子1は、正孔注入層4と正孔輸送層5と赤色発光層6と第1の中間層7Aと青色発光層8と第2の中間層7Bと緑色発光層9と電子輸送層10と電子注入層11とがこの順に積層で積層された積層体15が2つの電極間(陽極3と陰極12との間)に介挿されて構成されている。
なお、積層体15を構成する層(有機層)のうちの少なくとも1層は、後述する本発明の成膜用インクおよび成膜方法を用いて形成されている。
そして、発光素子1は、その全体が基板2上に設けられるとともに、封止部材13で封止されている。
In other words, the light-emitting
Note that at least one of the layers (organic layers) constituting the
The entire
このような発光素子1にあっては、赤色発光層6、青色発光層8、および緑色発光層9の各発光層に対し、陰極12側から電子が供給(注入)されるとともに、陽極3側から正孔が供給(注入)される。そして、各発光層では、正孔と電子とが再結合し、この再結合に際して放出されたエネルギーによりエキシトン(励起子)が生成し、エキシトンが基底状態に戻る際にエネルギー(蛍光やりん光)を放出するため、赤色発光層6、青色発光層8、および緑色発光層9がそれぞれ赤色、青色、および緑色に発光する。これにより、発光素子1は、白色発光する。
In such a
基板2は、陽極3を支持するものである。本実施形態の発光素子1は、基板2側から光を取り出す構成(ボトムエミッション型)であるため、基板2および陽極3は、それぞれ、実質的に透明(無色透明、着色透明または半透明)とされている。
基板2の構成材料としては、例えば、ポリエチレンテレフタレート、ポリエチレンナフタレート、ポリプロピレン、シクロオレフィンポリマー、ポリアミド、ポリエーテルサルフォン、ポリメチルメタクリレート、ポリカーボネート、ポリアリレートのような樹脂材料や、石英ガラス、ソーダガラスのようなガラス材料等が挙げられ、これらのうちの1種または2種以上を組み合わせて用いることができる。
このような基板2の平均厚さは、特に限定されないが、0.1〜30mm程度であるのが好ましく、0.1〜10mm程度であるのがより好ましい。
The
Examples of the constituent material of the
Although the average thickness of such a board |
なお、発光素子1が基板2と反対側から光を取り出す構成(トップエミッション型)の場合、基板2には、透明基板および不透明基板のいずれも用いることができる。
不透明基板としては、例えば、アルミナのようなセラミックス材料で構成された基板、ステンレス鋼のような金属基板の表面に酸化膜(絶縁膜)を形成したもの、樹脂材料で構成された基板等が挙げられる。
In the case where the
Examples of the opaque substrate include a substrate made of a ceramic material such as alumina, an oxide film (insulating film) formed on the surface of a metal substrate such as stainless steel, and a substrate made of a resin material. It is done.
以下、発光素子1を構成する各部を順次説明する。
(陽極)
陽極3は、後述する正孔注入層4を介して正孔輸送層5に正孔を注入する電極である。この陽極3の構成材料としては、仕事関数が大きく、導電性に優れる材料を用いるのが好ましい。
Hereinafter, each part which comprises the
(anode)
The
陽極3の構成材料としては、例えば、ITO(Indium Tin Oxide)、IZO(Indium Zinc Oxide)、In3O3、SnO2、Sb含有SnO2、Al含有ZnO等の酸化物、Au、Pt、Ag、Cuまたはこれらを含む合金等が挙げられ、これらのうちの1種または2種以上を組み合わせて用いることができる。
このような陽極3の平均厚さは、特に限定されないが、10〜200nm程度であるのが好ましく、50〜150nm程度であるのがより好ましい。
Examples of the constituent material of the
The average thickness of the
(陰極)
一方、陰極12は、後述する電子注入層11を介して電子輸送層10に電子を注入する電極である。この陰極12の構成材料としては、仕事関数の小さい材料を用いるのが好ましい。
陰極12の構成材料としては、例えば、Li、Mg、Ca、Sr、La、Ce、Er、Eu、Sc、Y、Yb、Ag、Cu、Al、Cs、Rbまたはこれらを含む合金等が挙げられ、これらのうちの1種または2種以上を組み合わせて(例えば、複数層の積層体等)用いることができる。
(cathode)
On the other hand, the
Examples of the constituent material of the
特に、陰極12の構成材料として合金を用いる場合には、Ag、Al、Cu等の安定な金属元素を含む合金、具体的には、MgAg、AlLi、CuLi等の合金を用いるのが好ましい。かかる合金を陰極12の構成材料として用いることにより、陰極12の電子注入効率および安定性の向上を図ることができる。
このような陰極12の平均厚さは、特に限定されないが、100〜10000nm程度であるのが好ましく、200〜500nm程度であるのがより好ましい。
なお、本実施形態の発光素子1は、ボトムエミッション型であるため、陰極12に、光透過性は、特に要求されない。
In particular, when an alloy is used as the constituent material of the
Although the average thickness of such a
In addition, since the
(正孔注入層)
正孔注入層4は、陽極3からの正孔注入効率を向上させる機能を有するものである。
また、この正孔注入層4は、π共役系化合物を含んで構成される場合、後に詳述するような本発明の成膜用インクおよび成膜方法を用いて形成することができる。
この正孔注入層4の構成材料(正孔注入材料)としては、特に限定されないが、例えば、ポリ(3,4−エチレンジオキシチオフェン/スチレンスルホン酸)(PEDOT/PSS)、PEDOT/PSS/Nafion(登録商標)、ポリチオフェンおよびその誘導体、ポリアニリンおよびその誘導体、ポリピロールおよびその誘導体、N,N,N’,N’−テトラフェニル−p−ジアミノベンゼンおよびその誘導体等が挙げられ、これらのうちの1種または2種以上を組み合わせて用いることができる。
このような正孔注入層4の平均厚さは、特に限定されないが、5〜150nm程度であるのが好ましく、10〜100nm程度であるのがより好ましい。
(Hole injection layer)
The hole injection layer 4 has a function of improving the hole injection efficiency from the
In addition, when the hole injection layer 4 includes a π-conjugated compound, it can be formed using the film-forming ink and film-forming method of the present invention as described in detail later.
The constituent material (hole injection material) of the hole injection layer 4 is not particularly limited. For example, poly (3,4-ethylenedioxythiophene / styrene sulfonic acid) (PEDOT / PSS), PEDOT / PSS / Nafion (registered trademark), polythiophene and derivatives thereof, polyaniline and derivatives thereof, polypyrrole and derivatives thereof, N, N, N ′, N′-tetraphenyl-p-diaminobenzene and derivatives thereof, and the like. One kind or a combination of two or more kinds can be used.
The average thickness of the hole injection layer 4 is not particularly limited, but is preferably about 5 to 150 nm, and more preferably about 10 to 100 nm.
(正孔輸送層)
正孔輸送層5は、陽極3から正孔注入層4を介して注入された正孔を赤色発光層6まで輸送する機能を有するものである。
また、この正孔輸送層5は、π共役系化合物を含んで構成される場合、後に詳述するような本発明の成膜用インクおよび成膜方法を用いて形成することができる。
この正孔輸送層5の構成材料には、各種p型の高分子材料や、各種p型の低分子材料を単独または組み合わせて用いることができる。
(Hole transport layer)
The hole transport layer 5 has a function of transporting holes injected from the
Further, when the hole transport layer 5 includes a π-conjugated compound, the hole transport layer 5 can be formed by using the film-forming ink and the film-forming method of the present invention as described in detail later.
As the constituent material of the hole transport layer 5, various p-type polymer materials and various p-type low-molecular materials can be used alone or in combination.
p型の高分子材料(有機ポリマー)としては、例えば、ポリ(2,7−(9,9−ジ−n−オクチルフルオレン)−(1,4−フェニレン−((4−sec−ブチルフェニル)イミノ)−1,4−フェニレン(TFB)等のポリアリールアミンのようなアリールアミン骨格を有するもの、フルオレン−ビチオフェン共重合体のようなフルオレン骨格を有するもの、フルオレン−アリールアミン共重合体のようなアリールアミン骨格およびフルオレン骨格の双方を有するもの、ポリ(N−ビニルカルバゾール)、ポリビニルピレン、ポリビニルアントラセン、ポリチオフェン、ポリアルキルチオフェン、ポリヘキシルチオフェン、ポリ(p−フェニレンビニレン)、ポリチニレンビニレン、ピレンホルムアルデヒド樹脂、エチルカルバゾールホルムアルデヒド樹脂またはその誘導体等が挙げられる。
このようなp型の高分子材料は、他の化合物との混合物として用いることもできる。一例として、ポリチオフェンを含有する混合物としては、ポリ(3,4−エチレンジオキシチオフェン/スチレンスルホン酸)(PEDOT/PSS)等が挙げられる。
Examples of the p-type polymer material (organic polymer) include poly (2,7- (9,9-di-n-octylfluorene)-(1,4-phenylene-((4-sec-butylphenyl)). Such as those having an arylamine skeleton such as a polyarylamine such as imino) -1,4-phenylene (TFB), those having a fluorene skeleton such as a fluorene-bithiophene copolymer, and a fluorene-arylamine copolymer Having both an arylamine skeleton and a fluorene skeleton, poly (N-vinylcarbazole), polyvinylpyrene, polyvinylanthracene, polythiophene, polyalkylthiophene, polyhexylthiophene, poly (p-phenylenevinylene), polytinylenevinylene, Pyrene formaldehyde resin, ethylcarbazole form Aldehyde resins or derivatives thereof.
Such a p-type polymer material can also be used as a mixture with other compounds. As an example, the polythiophene-containing mixture includes poly (3,4-ethylenedioxythiophene / styrene sulfonic acid) (PEDOT / PSS).
一方、p型の低分子材料としては、例えば、1,1−ビス(4−ジ−パラ−トリアミノフェニル)シクロへキサン、1,1’−ビス(4−ジ−パラ−トリルアミノフェニル)−4−フェニル−シクロヘキサンのようなアリールシクロアルカン系化合物、4,4’,4’’−トリメチルトリフェニルアミン、N,N,N’,N’−テトラフェニル−1,1’−ビフェニル−4,4’−ジアミン、N,N’−ジフェニル−N,N’−ビス(3−メチルフェニル)−1,1’−ビフェニル−4,4’−ジアミン(TPD1)、N,N’−ジフェニル−N,N’−ビス(4−メトキシフェニル)−1,1’−ビフェニル−4,4’−ジアミン(TPD2)、N,N,N’,N’−テトラキス(4−メトキシフェニル)−1,1’−ビフェニル−4,4’−ジアミン(TPD3)、N,N’−ビス(1−ナフチル)−N,N’−ジフェニル−1,1’−ビフェニル−4,4’−ジアミン(α−NPD)、TPTEのようなアリールアミン系化合物、N,N,N’,N’−テトラフェニル−パラ−フェニレンジアミン、N,N,N’,N’−テトラ(パラ−トリル)−パラ−フェニレンジアミン、N,N,N’,N’−テトラ(メタ−トリル)−メタ−フェニレンジアミン(PDA)のようなフェニレンジアミン系化合物、カルバゾール、N−イソプロピルカルバゾール、N−フェニルカルバゾールのようなカルバゾール系化合物、スチルベン、4−ジ−パラ−トリルアミノスチルベンのようなスチルベン系化合物、OxZのようなオキサゾール系化合物、トリフェニルメタン、m−MTDATAのようなトリフェニルメタン系化合物、1−フェニル−3−(パラ−ジメチルアミノフェニル)ピラゾリンのようなピラゾリン系化合物、ベンジン(シクロヘキサジエン)系化合物、トリアゾールのようなトリアゾール系化合物、イミダゾールのようなイミダゾール系化合物、1,3,4−オキサジアゾール、2,5−ジ(4−ジメチルアミノフェニル)−1,3,4,−オキサジアゾールのようなオキサジアゾール系化合物、アントラセン、9−(4−ジエチルアミノスチリル)アントラセンのようなアントラセン系化合物、フルオレノン、2,4,7,−トリニトロ−9−フルオレノン、2,7−ビス(2−ヒドロキシ−3−(2−クロロフェニルカルバモイル)−1−ナフチルアゾ)フルオレノンのようなフルオレノン系化合物、ポリアニリンのようなアニリン系化合物、シラン系化合物、1,4−ジチオケト−3,6−ジフェニル−ピロロ−(3,4−c)ピロロピロールのようなピロール系化合物、フローレンのようなフローレン系化合物、ポルフィリン、金属テトラフェニルポルフィリンのようなポルフィリン系化合物、キナクリドンのようなキナクリドン系化合物、フタロシアニン、銅フタロシアニン、テトラ(t−ブチル)銅フタロシアニン、鉄フタロシアニンのような金属または無金属のフタロシアニン系化合物、銅ナフタロシアニン、バナジルナフタロシアニン、モノクロロガリウムナフタロシアニンのような金属または無金属のナフタロシアニン系化合物、N,N’−ジ(ナフタレン−1−イル)−N,N’−ジフェニル−ベンジジン、N,N,N’,N’−テトラフェニルベンジジンのようなベンジジン系化合物等が挙げられる。
このような正孔輸送層5の平均厚さは、特に限定されないが、10〜150nm程度であるのが好ましく、10〜100nm程度であるのがより好ましい。
なお、この正孔輸送層5は、省略することができる。
On the other hand, examples of p-type low molecular weight materials include 1,1-bis (4-di-para-triaminophenyl) cyclohexane and 1,1′-bis (4-di-para-tolylaminophenyl). Arylcycloalkane compounds such as -4-phenyl-cyclohexane, 4,4 ′, 4 ″ -trimethyltriphenylamine, N, N, N ′, N′-tetraphenyl-1,1′-biphenyl-4 , 4′-diamine, N, N′-diphenyl-N, N′-bis (3-methylphenyl) -1,1′-biphenyl-4,4′-diamine (TPD1), N, N′-diphenyl- N, N′-bis (4-methoxyphenyl) -1,1′-biphenyl-4,4′-diamine (TPD2), N, N, N ′, N′-tetrakis (4-methoxyphenyl) -1, 1′-biphenyl-4,4′-diamine (TPD3), , N′-bis (1-naphthyl) -N, N′-diphenyl-1,1′-biphenyl-4,4′-diamine (α-NPD), arylamine compounds such as TPTE, N, N, N ′, N′-tetraphenyl-para-phenylenediamine, N, N, N ′, N′-tetra (para-tolyl) -para-phenylenediamine, N, N, N ′, N′-tetra (meta-) Phenylenediamine compounds such as (tolyl) -meta-phenylenediamine (PDA), carbazole compounds such as carbazole, N-isopropylcarbazole, N-phenylcarbazole, stilbene, and 4-di-para-tolylaminostilbene stilbene compounds, oxazole-based compounds such as O x Z, triphenylmethane, triphenylmethane compounds such as m-MTDATA, 1 Pyrazoline compounds such as phenyl-3- (para-dimethylaminophenyl) pyrazoline, benzine (cyclohexadiene) compounds, triazole compounds such as triazole, imidazole compounds such as imidazole, 1,3,4-oxa Diazole, oxadiazole compounds such as 2,5-di (4-dimethylaminophenyl) -1,3,4, -oxadiazole, anthracene, anthracene such as 9- (4-diethylaminostyryl) anthracene Compound, fluorenone, 2,4,7, -trinitro-9-fluorenone, 2,7-bis (2-hydroxy-3- (2-chlorophenylcarbamoyl) -1-naphthylazo) fluorenone such as fluorenone, polyaniline Aniline compounds such as sila Compounds, pyrrole compounds such as 1,4-dithioketo-3,6-diphenyl-pyrrolo- (3,4-c) pyrrolopyrrole, fluorene compounds such as fluorene, porphyrins, metal tetraphenylporphyrins and the like Porphyrin compounds, quinacridone compounds such as quinacridone, phthalocyanines, copper phthalocyanines, metal or metal-free phthalocyanine compounds such as tetra (t-butyl) copper phthalocyanine, iron phthalocyanines, copper naphthalocyanines, vanadyl naphthalocyanines, monochlorogallium Metallic or metal-free naphthalocyanine compounds such as naphthalocyanine, N, N′-di (naphthalen-1-yl) -N, N′-diphenyl-benzidine, N, N, N ′, N′-tetraphenyl Benzidine like benzidine Compounds, and the like.
The average thickness of the hole transport layer 5 is not particularly limited, but is preferably about 10 to 150 nm, and more preferably about 10 to 100 nm.
The hole transport layer 5 can be omitted.
(赤色発光層)
この赤色発光層(第1の発光層)6は、赤色(第1の色)に発光する赤色発光材料を含んで構成されている。
また、この赤色発光層6は、π共役系化合物を含んで構成される場合、後に詳述するような本発明の成膜用インクおよび成膜方法を用いて形成することができる。
このような赤色発光材料としては、特に限定されず、各種赤色蛍光材料、赤色燐光材料を1種または2種以上組み合わせて用いることができる。
(Red light emitting layer)
The red light emitting layer (first light emitting layer) 6 includes a red light emitting material that emits red light (first color).
Further, when the red
Such a red light emitting material is not particularly limited, and various red fluorescent materials and red phosphorescent materials can be used singly or in combination.
赤色蛍光材料としては、赤色の蛍光を発するものであれば特に限定されず、例えば、ペリレン誘導体、ユーロピウム錯体、ベンゾピラン誘導体、ローダミン誘導体、ベンゾチオキサンテン誘導体、ポルフィリン誘導体、ナイルレッド、2−(1,1−ジメチルエチル)−6−(2−(2,3,6,7−テトラヒドロ−1,1,7,7−テトラメチル−1H,5H−ベンゾ(ij)キノリジン−9−イル)エテニル)−4H−ピラン−4H−イリデン)プロパンジニトリル(DCJTB)、4−(ジシアノメチレン)−2−メチル−6−(p−ジメチルアミノスチリル)−4H−ピラン(DCM)、ポリ[2−メトキシ−5−(2−エチルヘキシロキシ)−1,4−(1−シアノビニレンフェニレン)]、ポリ[{9,9−ジヘキシル−2,7−ビス(1−シアノビニレン)フルオレニレン}オルト- コ- {2,5−ビス(N,N’-ジフェニルアミノ)−1,4−フェニレン}]、ポリ[{2−メトキシ−5−(2−エチルヘキシロキシ)−1,4−(1−シアノビニレンフェニレン)}−コ- {2,5−ビス(N,N’-ジフェニルアミノ)−1,4−フェニレン}]等を挙げられる。 The red fluorescent material is not particularly limited as long as it emits red fluorescence. For example, perylene derivatives, europium complexes, benzopyran derivatives, rhodamine derivatives, benzothioxanthene derivatives, porphyrin derivatives, Nile red, 2- (1, 1-dimethylethyl) -6- (2- (2,3,6,7-tetrahydro-1,1,7,7-tetramethyl-1H, 5H-benzo (ij) quinolidin-9-yl) ethenyl)- 4H-pyran-4H-ylidene) propanedinitrile (DCJTB), 4- (dicyanomethylene) -2-methyl-6- (p-dimethylaminostyryl) -4H-pyran (DCM), poly [2-methoxy-5 -(2-ethylhexyloxy) -1,4- (1-cyanovinylenephenylene)], poly [{9,9-dihexyl-2,7-bi (1-cyanovinylene) fluorenylene} ortho-co- {2,5-bis (N, N′-diphenylamino) -1,4-phenylene}], poly [{2-methoxy-5- (2-ethylhexyloxy) ) -1,4- (1-cyanovinylenephenylene)}-co- {2,5-bis (N, N′-diphenylamino) -1,4-phenylene}] and the like.
赤色燐光材料としては、赤色の燐光を発するものであれば特に限定されず、例えば、イリジウム、ルテニウム、白金、オスミウム、レニウム、パラジウム等の金属錯体が挙げられ、これら金属錯体の配位子の内の少なくとも1つがフェニルピリジン骨格、ビピリジル骨格、ポルフィリン骨格等を持つものも挙げられる。より具体的には、トリス(1−フェニルイソキノリン)イリジウム、ビス[2−(2’−ベンゾ[4,5−α]チエニル)ピリジネート−N,C3’]イリジウム(アセチルアセトネート)(btp2Ir(acac))、2,3,7,8,12,13,17,18−オクタエチル−12H,23H−ポルフィリン−白金(II)、ビス[2−(2’−ベンゾ[4,5−α]チエニル)ピリジネート−N,C3’]イリジウム、ビス(2−フェニルピリジン)イリジウム(アセチルアセトネート)が挙げられる。 The red phosphorescent material is not particularly limited as long as it emits red phosphorescence, and examples thereof include metal complexes such as iridium, ruthenium, platinum, osmium, rhenium, and palladium. Among the ligands of these metal complexes, And those having at least one of phenylpyridine skeleton, bipyridyl skeleton, porphyrin skeleton and the like. More specifically, tris (1-phenylisoquinoline) iridium, bis [2- (2′-benzo [4,5-α] thienyl) pyridinate-N, C 3 ′] iridium (acetylacetonate) (btp2Ir ( acac)), 2,3,7,8,12,13,17,18-octaethyl-12H, 23H-porphyrin-platinum (II), bis [2- (2′-benzo [4,5-α] thienyl ) Pyridinate-N, C 3 '] iridium, bis (2-phenylpyridine) iridium (acetylacetonate).
また、赤色発光層6中には、前述した赤色発光材料の他に、赤色発光材料がゲスト材料として添加されるホスト材料を含んでいてもよい。
ホスト材料は、正孔と電子とを再結合して励起子を生成するとともに、その励起子のエネルギーを赤色発光材料に移動(フェルスター移動またはデクスター移動)させて、赤色発光材料を励起する機能を有する。このようなホスト材料を用いる場合、例えば、ゲスト材料である赤色発光材料をドーパントとしてホスト材料にドープして用いることができる。
Further, the red
The host material recombines holes and electrons to generate excitons, and the exciton energy is transferred to the red light-emitting material (Forster transfer or Dexter transfer) to excite the red light-emitting material. Have In the case of using such a host material, for example, a red light-emitting material that is a guest material can be used as a dopant by doping the host material.
このようなホスト材料としては、用いる赤色発光材料に対して前述したような機能を発揮するものであれば、特に限定されないが、赤色発光材料が赤色蛍光材料を含む場合、例えば、ナフタセン誘導体、ナフタレン誘導体、アントラセン誘導体のようなアセン誘導体(アセン系材料)、ジスチリルアリーレン誘導体、ペリレン誘導体、ジスチリルベンゼン誘導体、ジスチリルアミン誘導体、トリス(8−キノリノラト)アルミニウム錯体(Alq3)等のキノリノラト系金属錯体、トリフェニルアミンの4量体等のトリアリールアミン誘導体、オキサジアゾール誘導体、シロール誘導体、ジカルバゾール誘導体、オリゴチオフェン誘導体、ベンゾピラン誘導体、トリアゾール誘導体、ベンゾオキサゾール誘導体、ベンゾチアゾール誘導体、キノリン誘導体、4,4’−ビス(2,2’−ジフェニルビニル)ビフェニル(DPVBi)等が挙げられ、これらのうちの1種または2種以上を組み合わせて用いることもできる。 Such a host material is not particularly limited as long as it exhibits the functions described above with respect to the red light emitting material to be used. When the red light emitting material includes a red fluorescent material, for example, a naphthacene derivative, naphthalene, etc. Derivatives, acene derivatives such as anthracene derivatives (acene-based materials), distyrylarylene derivatives, perylene derivatives, distyrylbenzene derivatives, distyrylamine derivatives, quinolinolato-based metals such as tris (8-quinolinolato) aluminum complexes (Alq 3 ) Complexes, triarylamine derivatives such as tetraphenylamine tetramers, oxadiazole derivatives, silole derivatives, dicarbazole derivatives, oligothiophene derivatives, benzopyran derivatives, triazole derivatives, benzoxazole derivatives, benzothiazole derivatives, Norin derivatives, 4,4'-bis (2,2'-diphenylvinyl) biphenyl (DPVBi) and the like, may be used singly or in combination of two or more of them.
前述したような赤色発光材料(ゲスト材料)およびホスト材料を用いる場合、赤色発光層6中における赤色発光材料の含有量(ドープ量)は、0.01〜10wt%であるのが好ましく、0.1〜5wt%であるのがより好ましい。赤色発光材料の含有量をこのような範囲内とすることで、発光効率を最適化することができる。
このような赤色発光層6の平均厚さは、特に限定されないが、10〜150nm程度であるのが好ましく、10〜100nm程度であるのがより好ましい。
When the red light emitting material (guest material) and the host material as described above are used, the content (dope amount) of the red light emitting material in the red
The average thickness of the red
(第1の中間層)
この第1の中間層7Aは、前述した赤色発光層6と後述する青色発光層8との層間にこれらに接するように設けられている。そして、第1の中間層7Aは、発光性を有する材料を実質的に含まずに構成され、赤色発光層(第1の発光層)6と青色発光層(第2の発光層)8との間でキャリア(正孔および電子)の移動を調整する機能を有する。この機能により、赤色発光層6および青色発光層8をそれぞれ効率よく発光させることができる。
(First intermediate layer)
The first
また、この第1の中間層7Aは、π共役系化合物を含んで構成される場合、後に詳述するような本発明の成膜用インクおよび成膜方法を用いて形成することができる。
このような第1の中間層7Aの構成材料としては、前述したようなキャリア調整機能を発揮することができるものであれば、特に限定されないが、アセン系材料、アミン系材料等が好適に用いられる。
Further, when the first
The constituent material of the first
アセン系材料としては、アセン骨格を有し、かつ、前述したような効果を発揮するものであれば、特に限定されず、例えば、ナフタレン誘導体、アントラセン誘導体、テトラセン(ナフタセン)誘導体、ペンタセン誘導体、ヘキサセン誘導体、ヘプタセン誘導体等が挙げられ、これらのうち1種または2種以上を組み合わせて用いることができる。
このような第1の中間層7Aに用いられるアミン系材料としては、アミン骨格を有し、かつ、前述したような効果を発揮するものであれば、特に限定されず、例えば、前述した正孔輸送材料のうちのアミン骨格を有する材料を用いることができるが、ベンジジン系アミン誘導体を用いるのが好ましい。
The acene-based material is not particularly limited as long as it has an acene skeleton and exhibits the effects described above. For example, a naphthalene derivative, anthracene derivative, tetracene (naphthacene) derivative, pentacene derivative, hexacene Derivatives, heptacene derivatives and the like can be mentioned, and one or more of these can be used in combination.
The amine material used for the first
また、第1の中間層7Aの平均厚さは、特に限定されないが、1〜100nmであるのが好ましく、3〜50nmであるのがより好ましく、5〜30nmであるのがさらに好ましい。これにより、駆動電圧を抑えつつ、第1の中間層7Aが赤色発光層6と青色発光層8との間での正孔および電子の移動を確実に調整することができる。
なお、この第1の中間層7Aは、省略することができる。
The average thickness of the first
The first
(青色発光層)
青色発光層(第2の発光層)8は、青色(第2の色)に発光する青色発光材料を含んで構成されている。
また、この青色発光層8は、π共役系化合物を含んで構成される場合、後に詳述するような本発明の成膜用インクおよび成膜方法を用いて形成することができる。
このような青色発光材料としては、例えば、各種青色蛍光材料および青色燐光材料が挙げられ、これらのうちの1種または2種以上組み合わせて用いることができる。
(Blue light emitting layer)
The blue light emitting layer (second light emitting layer) 8 includes a blue light emitting material that emits blue light (second color).
Moreover, when this blue
Examples of such blue light-emitting materials include various blue fluorescent materials and blue phosphorescent materials, and one or more of these materials can be used in combination.
青色蛍光材料としては、青色の蛍光を発するものであれば、特に限定されず、例えば、ジスチリルジアミン系化合物等のジスチリルアミン誘導体、フルオランテン誘導体、ピレン誘導体、ペリレンおよびペリレン誘導体、アントラセン誘導体、ベンゾオキサゾール誘導体、ベンゾチアゾール誘導体、ベンゾイミダゾール誘導体、クリセン誘導体、フェナントレン誘導体、ジスチリルベンゼン誘導体、テトラフェニルブタジエン、4,4’−ビス(9−エチル−3−カルバゾビニレン)−1,1’−ビフェニル(BCzVBi)、ポリ[(9.9−ジオクチルフルオレン−2,7−ジイル)−コ−(2,5−ジメトキシベンゼン−1,4−ジイル)]、ポリ[(9,9−ジヘキシルオキシフルオレン−2,7−ジイル)−オルト−コ−(2−メトキシ−5−{2−エトキシヘキシルオキシ}フェニレン−1,4−ジイル)]、ポリ[(9,9−ジオクチルフルオレン−2,7−ジイル)−コ−(エチルニルベンゼン)]等が挙げられる。 The blue fluorescent material is not particularly limited as long as it emits blue fluorescence. For example, distyrylamine derivatives such as distyryldiamine compounds, fluoranthene derivatives, pyrene derivatives, perylene and perylene derivatives, anthracene derivatives, benzo Oxazole derivatives, benzothiazole derivatives, benzimidazole derivatives, chrysene derivatives, phenanthrene derivatives, distyrylbenzene derivatives, tetraphenylbutadiene, 4,4′-bis (9-ethyl-3-carbazovinylene) -1,1′-biphenyl (BCzVBi) ), Poly [(9.9-dioctylfluorene-2,7-diyl) -co- (2,5-dimethoxybenzene-1,4-diyl)], poly [(9,9-dihexyloxyfluorene-2, 7-diyl) -ortho-co- (2-me Xyl-5- {2-ethoxyhexyloxy} phenylene-1,4-diyl)], poly [(9,9-dioctylfluorene-2,7-diyl) -co- (ethylnylbenzene)] and the like. .
青色燐光材料としては、青色の燐光を発するものであれば、特に限定されず、例えば、イリジウム、ルテニウム、白金、オスミウム、レニウム、パラジウム等の金属錯体が挙げられ、具体的には、ビス[4,6−ジフルオロフェニルピリジネート−N,C2’]−ピコリネート−イリジウム、トリス[2−(2,4−ジフルオロフェニル)ピリジネート−N,C2’]イリジウム、ビス[2−(3,5−トリフルオロメチル)ピリジネート−N,C2’]−ピコリネート−イリジウム、ビス(4,6−ジフルオロフェニルピリジネート−N,C2’)イリジウム(アセチルアセトネート)等が挙げられる。
また、青色発光層8中には、前述した青色発光材料の他に、青色発光材料がゲスト材料として添加されるホスト材料が含まれていてもよい。
このようなホスト材料としては、前述した赤色発光層(第1の発光層)6で説明したホスト材料と同様のものを用いることができる。
The blue phosphorescent material is not particularly limited as long as it emits blue phosphorescence. Examples thereof include metal complexes such as iridium, ruthenium, platinum, osmium, rhenium, and palladium. Specifically, bis [4 , 6-difluorophenyl pyridinium sulfonate -N, C 2 '] - picolinate - iridium, tris [2- (2,4-difluorophenyl) pyridinate -N, C 2'] iridium, bis [2- (3,5 - trifluoromethyl) pyridinate -N, C 2 '] - picolinate - iridium, bis (4,6-difluorophenyl pyridinium sulfonate -N, C 2') iridium (acetylacetonate) and the like.
In addition to the blue light emitting material described above, the blue
As such a host material, the same host material as described in the red light emitting layer (first light emitting layer) 6 described above can be used.
(第2の中間層)
この第2の中間層7Bは、前述した青色発光層8と後述する緑色発光層9との層間にこれらに接するように設けられている。そして、第2の中間層7Bは、発光性を有する材料を実質的に含まずに構成され、青色発光層(第2の発光層)8と緑色発光層(第3の発光層)9との間でキャリア(正孔および電子)の移動を調整する機能を有する。この機能により、青色発光層8と緑色発光層9との間での励起子のエネルギー移動を阻止することができることから、青色発光層8から緑色発光層9へのエネルギー移動を抑制して、青色発光層8および緑色発光層9をそれぞれ効率よく発光させることができる。
(Second intermediate layer)
The second intermediate layer 7B is provided between the blue
また、この第2の中間層7Bは、π共役系化合物を含んで構成される場合、後に詳述するような本発明の成膜用インクおよび成膜方法を用いて形成することができる。
このような第2の中間層7Bの構成材料としては、第2の中間層7Bが、青色発光層8のホスト材料および緑色発光層9のホスト材料のうちの少なくとも一方のホスト材料と同一または同種の材料を含み、かつ、発光性を有する材料を実質的に含まずに構成され、前述したようなキャリア調整機能を発揮することができるものであれば、特に限定されないが、前記ホスト材料と同種または同一の材料として、アセン系材料を含むものが好適に用いられる。
アセン系材料としては、前述した第1の中間層7Aで説明したのと同様のものを用いることができる。
Further, when the second intermediate layer 7B includes a π-conjugated compound, it can be formed by using the film-forming ink and film-forming method of the present invention described in detail later.
As a constituent material of the second intermediate layer 7B, the second intermediate layer 7B is the same as or the same type as at least one of the host material of the blue
As the acene-based material, the same materials as those described for the first
また、第2の中間層7Bの厚さは、特に限定されないが、2nm以上、10nm以下程度であるのが好ましく、3nm以上、7nm以下程度であるのがより好ましい。第2の中間層7Bの厚さをかかる範囲内に設定することにより、励起子(正孔および電子)の拡散を抑制または防止して、励起子の移動を確実に調整することができる。
なお、この第2の中間層7Bは、省略することができる。
The thickness of the second intermediate layer 7B is not particularly limited, but is preferably about 2 nm or more and 10 nm or less, and more preferably about 3 nm or more and 7 nm or less. By setting the thickness of the second intermediate layer 7B within such a range, diffusion of excitons (holes and electrons) can be suppressed or prevented, and exciton movement can be adjusted with certainty.
The second intermediate layer 7B can be omitted.
(緑色発光層)
緑色発光層(第3の発光層)9は、緑色(第3の色)に発光する緑色発光材料を含んで構成されている。
また、この緑色発光層9は、π共役系化合物を含んで構成される場合、後に詳述するような本発明の成膜用インクおよび成膜方法を用いて形成することができる。
このような緑色発光材料としては、特に限定されず、例えば、各種緑色蛍光材料および緑色燐光材料が挙げられ、これらのうちの1種または2種以上を組み合わせて用いることができる。
(Green light emitting layer)
The green light emitting layer (third light emitting layer) 9 includes a green light emitting material that emits green light (third color).
Moreover, when this green
Such a green light-emitting material is not particularly limited, and examples thereof include various green fluorescent materials and green phosphorescent materials, and one or more of them can be used in combination.
緑色蛍光材料としては、緑色の蛍光を発するものであれば特に限定されず、例えば、クマリン誘導体、キナクリドンおよびその誘導体、9,10−ビス[(9−エチル−3−カルバゾール)−ビニレニル]−アントラセン、ポリ(9,9−ジヘキシル−2,7−ビニレンフルオレニレン)、ポリ[(9,9−ジオクチルフルオレン−2,7−ジイル)−コ−(1,4−ジフェニレン−ビニレン−2−メトキシ−5−{2−エチルヘキシルオキシ}ベンゼン)]、ポリ[(9,9−ジオクチル−2,7−ジビニレンフルオレニレン)−オルト−コ−(2−メトキシ−5−(2−エトキシルヘキシルオキシ)−1,4−フェニレン)]、ポリ(9,9−ジオクチルフルオレン−co−ベンゾチアジアゾール(F8BT)等が挙げられる。 The green fluorescent material is not particularly limited as long as it emits green fluorescence. For example, coumarin derivatives, quinacridone and derivatives thereof, 9,10-bis [(9-ethyl-3-carbazole) -vinylenyl] -anthracene , Poly (9,9-dihexyl-2,7-vinylenefluorenylene), poly [(9,9-dioctylfluorene-2,7-diyl) -co- (1,4-diphenylene-vinylene-2-methoxy -5- {2-ethylhexyloxy} benzene)], poly [(9,9-dioctyl-2,7-divinylenefluorenylene) -ortho-co- (2-methoxy-5- (2-ethoxylhexyloxy) ) -1,4-phenylene)], poly (9,9-dioctylfluorene-co-benzothiadiazole (F8BT) and the like.
緑色燐光材料としては、緑色の燐光を発するものであれば特に限定されず、例えば、イリジウム、ルテニウム、白金、オスミウム、レニウム、パラジウム等の金属錯体が挙げられ、具体的には、ファク−トリス(2−フェニルピリジン)イリジウム(Ir(ppy)3)、ビス(2−フェニルピリジネート−N,C2’)イリジウム(アセチルアセトネート)、ファク−トリス[5−フルオロ−2−(5−トリフルオロメチル−2−ピリジン)フェニル−C,N]イリジウム等が挙げられる。
また、緑色発光層9中には、前述した緑色発光材料の他に、緑色発光材料がゲスト材料として添加されるホスト材料が含まれていてもよい。
このようなホスト材料としては、前述した赤色発光層(第1の発光層)6で説明したホスト材料と同様のものを用いることができる。
The green phosphorescent material is not particularly limited as long as it emits green phosphorescence, and examples thereof include metal complexes such as iridium, ruthenium, platinum, osmium, rhenium, and palladium. 2-phenylpyridine) iridium (Ir (ppy) 3), bis (2-phenyl-pyridinium sulfonate -N, C 2 ') iridium (acetylacetonate), fac - tris [5-fluoro-2- (5-tri Fluoromethyl-2-pyridine) phenyl-C, N] iridium and the like.
Further, the green
As such a host material, the same host material as described in the red light emitting layer (first light emitting layer) 6 described above can be used.
(電子輸送層)
電子輸送層10は、陰極12から電子注入層11を介して注入された電子を緑色発光層9に輸送する機能を有するものである。
電子輸送層10の構成材料(電子輸送材料)としては、例えば、トリス(8−キノリノラト)アルミニウム(Alq3)等の8−キノリノールなしいその誘導体を配位子とする有機金属錯体などのキノリン誘導体、オキサジアゾール誘導体、ペリレン誘導体、ピリジン誘導体、ピリミジン誘導体、キノキサリン誘導体、ジフェニルキノン誘導体、ニトロ置換フルオレン誘導体等が挙げられ、これらのうちの1種または2種以上を組み合わせて用いることができる。
(Electron transport layer)
The
As a constituent material (electron transport material) of the
また、この電子輸送層10は、π共役系化合物を含んで構成される場合、後に詳述するような本発明の成膜用インクおよび成膜方法を用いて形成することができる。
電子輸送層10の平均厚さは、特に限定されないが、0.5〜100nm程度であるのが好ましく、1〜50nm程度であるのがより好ましい。
なお、この電子輸送層10は、省略することができる。
Further, when the
Although the average thickness of the
The
(電子注入層)
電子注入層11は、陰極12からの電子注入効率を向上させる機能を有するものである。
この電子注入層11の構成材料(電子注入材料)としては、例えば、各種の無機絶縁材料、各種の無機半導体材料が挙げられる。
(Electron injection layer)
The
Examples of the constituent material (electron injection material) of the
このような無機絶縁材料としては、例えば、アルカリ金属カルコゲナイド(酸化物、硫化物、セレン化物、テルル化物)、アルカリ土類金属カルコゲナイド、アルカリ金属のハロゲン化物およびアルカリ土類金属のハロゲン化物等が挙げられ、これらのうちの1種または2種以上を組み合わせて用いることができる。これらを主材料として電子注入層を構成することにより、電子注入性をより向上させることができる。特にアルカリ金属化合物(アルカリ金属カルコゲナイド、アルカリ金属のハロゲン化物等)は仕事関数が非常に小さく、これを用いて電子注入層11を構成することにより、発光素子1は、高い輝度が得られるものとなる。
Examples of such inorganic insulating materials include alkali metal chalcogenides (oxides, sulfides, selenides, tellurides), alkaline earth metal chalcogenides, alkali metal halides, and alkaline earth metal halides. Of these, one or two or more of these can be used in combination. By forming the electron injection layer using these as main materials, the electron injection property can be further improved. In particular, alkali metal compounds (alkali metal chalcogenides, alkali metal halides, and the like) have a very small work function, and the light-emitting
アルカリ金属カルコゲナイドとしては、例えば、Li2O、LiO、Na2S、Na2Se、NaO等が挙げられる。
アルカリ土類金属カルコゲナイドとしては、例えば、CaO、BaO、SrO、BeO、BaS、MgO、CaSe等が挙げられる。
アルカリ金属のハロゲン化物としては、例えば、CsF、LiF、NaF、KF、LiCl、KCl、NaCl等が挙げられる。
アルカリ土類金属のハロゲン化物としては、例えば、CaF2、BaF2、SrF2、MgF2、BeF2等が挙げられる。
Examples of the alkali metal chalcogenide include Li 2 O, LiO, Na 2 S, Na 2 Se, and NaO.
Examples of the alkaline earth metal chalcogenide include CaO, BaO, SrO, BeO, BaS, MgO, and CaSe.
Examples of the alkali metal halide include CsF, LiF, NaF, KF, LiCl, KCl, and NaCl.
Examples of the alkaline earth metal halide include CaF 2 , BaF 2 , SrF 2 , MgF 2 , and BeF 2 .
また、無機半導体材料としては、例えば、Li、Na、Ba、Ca、Sr、Yb、Al、Ga、In、Cd、Mg、Si、Ta、SbおよびZnのうちの少なくとも1つの元素を含む酸化物、窒化物または酸化窒化物等が挙げられ、これらのうちの1種または2種以上を組み合わせて用いることができる。
電子注入層11の平均厚さは、特に限定されないが、0.1〜1000nm程度であるのが好ましく、0.2〜100nm程度であるのがより好ましく、0.2〜50nm程度であるのがさらに好ましい。
なお、この電子注入層11は、省略することができる。
In addition, as the inorganic semiconductor material, for example, an oxide including at least one element of Li, Na, Ba, Ca, Sr, Yb, Al, Ga, In, Cd, Mg, Si, Ta, Sb, and Zn , Nitrides, oxynitrides, and the like, and one or more of these can be used in combination.
The average thickness of the
The
(封止部材)
封止部材13は、陰極12を覆うように設けられ、陽極3、積層体15、および陰極12を気密的に封止し、酸素や水分を遮断する機能を有する。封止部材13を設けることにより、発光素子1の信頼性の向上や、変質・劣化の防止(耐久性向上)等の効果が得られる。
(Sealing member)
The sealing
封止部材13の構成材料としては、例えば、Al、Au、Cr、Nb、Ta、Tiまたはこれらを含む合金、酸化シリコン、各種樹脂材料等を挙げることができる。なお、封止部材13の構成材料として導電性を有する材料を用いる場合には、短絡を防止するために、封止部材13と陰極12との間には、必要に応じて、絶縁膜を設けるのが好ましい。
また、封止部材13は、平板状として、基板2と対向させ、これらの間を、例えば熱硬化性樹脂等のシール材で封止するようにしてもよい。
Examples of the constituent material of the sealing
Further, the sealing
(発光素子の製造方法)
次に、本発明の成膜用インクおよび成膜方法について、前述した発光素子1の製造に適用した場合を例に説明する。なお、以下では、正孔輸送層5を本発明の成膜用インクおよび成膜方法を用いて形成する場合を例に説明する。
以上のような発光素子1は、例えば、次のようにして製造することができる。
(Manufacturing method of light emitting element)
Next, the case where the ink for film formation and the film formation method of the present invention are applied to the manufacture of the
The above
[1] まず、基板2を用意し、この基板2上に陽極3を形成する。
陽極3は、例えば、プラズマCVD、熱CVDのような化学蒸着法(CVD)、真空蒸着等の乾式メッキ法、電解メッキ等の湿式メッキ法、溶射法、ゾル・ゲル法、MOD法、金属箔の接合等を用いて形成することができる。
[2] 次に、陽極3上に正孔注入層4を形成する。
正孔注入層4は、例えば、CVD法や、真空蒸着、スパッタリング等の乾式メッキ法等を用いた気相プロセスにより形成することができる。
この正孔注入層4は、正孔注入材料を溶媒に溶解または分散媒に分散してなる正孔注入層形成用材料(インク)を、陽極3上に供給した後、乾燥(脱溶媒または脱分散媒)することにより形成することができる。
[1] First, the
The
[2] Next, the hole injection layer 4 is formed on the
The hole injection layer 4 can be formed by, for example, a vapor phase process using a CVD method, a dry plating method such as vacuum deposition or sputtering, or the like.
The hole injection layer 4 is formed by supplying a hole injection layer forming material (ink) obtained by dissolving a hole injection material in a solvent or dispersing in a dispersion medium onto the
正孔注入層形成用材料の供給方法としては、例えば、スピンコート法、ロールコート法、インクジェット印刷法(液滴吐出法)等の各種塗布法を用いることもできる。かかる塗布法を用いることにより、正孔注入層4を比較的容易に形成することができる。
正孔注入層形成用材料の調製に用いる溶媒または分散媒としては、例えば、各種無機溶媒や、各種有機溶媒、または、これらを含む混合溶媒等が挙げられる。
As a method for supplying the material for forming the hole injection layer, for example, various coating methods such as a spin coating method, a roll coating method, and an ink jet printing method (droplet discharge method) can be used. By using such a coating method, the hole injection layer 4 can be formed relatively easily.
Examples of the solvent or dispersion medium used for the preparation of the hole injection layer forming material include various inorganic solvents, various organic solvents, or mixed solvents containing these.
なお、乾燥は、例えば、大気圧または減圧雰囲気中での放置、加熱処理、不活性ガスの吹付け等により行うことができる。
また、本工程に先立って、陽極3の上面には、酸素プラズマ処理を施すようにしてもよい。これにより、陽極3の上面を親液性を付与すること、陽極3の上面に付着する有機物を除去(洗浄)すること、陽極3の上面付近の仕事関数を調整すること等を行うことができる。
ここで、酸素プラズマ処理の条件としては、例えば、プラズマパワー100〜800W程度、酸素ガス流量50〜100mL/min程度、被処理部材(陽極3)の搬送速度0.5〜10mm/sec程度、被処理部材を支持する支持体の温度70〜90℃程度とするのが好ましい。
The drying can be performed, for example, by standing in an atmospheric pressure or a reduced pressure atmosphere, heat treatment, or blowing an inert gas.
Prior to this step, the upper surface of the
Here, the oxygen plasma treatment conditions include, for example, a plasma power of about 100 to 800 W, an oxygen gas flow rate of about 50 to 100 mL / min, a conveyance speed of the member to be treated (anode 3) of about 0.5 to 10 mm / sec, It is preferable that the temperature of the support for supporting the treatment member is about 70 to 90 ° C.
[3] 次に、正孔注入層4上に正孔輸送層5を形成する。
この正孔輸送層5は、前述した正孔輸送材料を溶媒に溶解または分散媒に分散してなる正孔輸送層形成用材料(本発明の成膜用インク)を、正孔注入層4上に供給した後、乾燥(脱溶媒または脱分散媒)することにより形成される。
特に、正孔注入層形成用材料(成膜用インク)の供給方法としては、例えば、後述するような液滴吐出装置によるインクジェット印刷法(液滴吐出法)を用いる。
[3] Next, the hole transport layer 5 is formed on the hole injection layer 4.
This hole transport layer 5 is formed by using a hole transport layer forming material (film-forming ink of the present invention) obtained by dissolving the above-described hole transport material in a solvent or dispersing in a dispersion medium on the hole injection layer 4. And then dried (desolvent or dedispersion medium).
In particular, as a method for supplying the hole injection layer forming material (film-forming ink), for example, an inkjet printing method (droplet discharge method) using a droplet discharge device as described later is used.
(液滴吐出装置)
ここで、正孔輸送層5の成膜に用いる液滴吐出装置について説明する。
図2は、液滴吐出装置(インクジェット装置)の好適な実施形態の一例を示す斜視図、図3は、図2の液滴吐出装置に備えられた液滴吐出ヘッド(インクジェットヘッド)の概略構成を説明するための模式図である。
(Droplet discharge device)
Here, a droplet discharge device used for forming the hole transport layer 5 will be described.
FIG. 2 is a perspective view illustrating an example of a preferred embodiment of a droplet discharge device (inkjet device), and FIG. 3 is a schematic configuration of a droplet discharge head (inkjet head) provided in the droplet discharge device of FIG. It is a schematic diagram for demonstrating.
図2に示すように、液滴吐出装置200は、液滴吐出ヘッド(インクジェットヘッド。以下、単にヘッドと呼ぶ)110と、ベース130と、テーブル140と、インク貯留部(図示せず)と、テーブル位置決め手段170と、ヘッド位置決め手段180と、制御装置190とを有している。
ベース130は、テーブル140、テーブル位置決め手段170、およびヘッド位置決め手段180等の液滴吐出装置200の各構成部材を支持する台である。
As shown in FIG. 2, the
The
テーブル140は、テーブル位置決め手段170を介してベース130に設置されている。また、テーブル140は、基材S(本実施形態では、基板20と陽極3と正孔注入層4からなる積層体)を載置するものである。
また、テーブル140の裏面には、ラバーヒータ(図示せず)が配設されている。テーブル140上に載置された基材Sは、その上面全体がラバーヒータにて所定の温度に加熱されるようになっている。
The table 140 is installed on the
A rubber heater (not shown) is disposed on the back surface of the table 140. The base material S placed on the table 140 is heated to a predetermined temperature by a rubber heater on the entire upper surface thereof.
テーブル位置決め手段170は、第1移動手段171と、モータ172とを有している。テーブル位置決め手段170は、ベース130におけるテーブル140の位置を決定し、これにより、ベース130における基材Sの位置を決定する。
第1移動手段171は、Y方向と略平行に設けられた2本のレールと、当該レール上を移動する支持台とを有している。第1移動手段171の支持台は、モータ172を介してテーブル140を支持している。そして、支持台がレール上を移動することにより、基材Sを載置するテーブル140は、Y方向に移動および位置決めされる。
The
The first moving means 171 has two rails provided substantially parallel to the Y direction and a support base that moves on the rails. The support base of the first moving means 171 supports the table 140 via the
モータ172は、テーブル140を支持しており、θz方向にテーブル140を揺動および位置決めする。
ヘッド位置決め手段180は、第2移動手段181と、リニアモータ182と、モータ183、184、185とを有している。ヘッド位置決め手段180は、ヘッド110の位置を決定する。
The
The
第2移動手段181は、ベース130から立設する2本の支持柱と、当該支持柱同士の間に当該支持柱に支持されて設けられ、2本のレールを有するレール台と、レールに沿って移動可能でヘッド110を支持する支持部材(図示せず)とを有している。そして、支持部材がレールに沿って移動することにより、ヘッド110は、X方向に移動および位置決めされる。
The second moving means 181 is provided with two support pillars standing from the
リニアモータ182は、支持部材付近に設けられており、ヘッド110のZ方向の移動および位置決めをすることができる。
モータ183、184、185は、ヘッド110を、それぞれα,β,γ方向に揺動および位置決めする。
以上のようなテーブル位置決め手段170およびヘッド位置決め手段180とにより、液滴吐出装置200は、ヘッド110のインク吐出面115Pと、テーブル140上の基材Sとの相対的な位置および姿勢を、正確にコントロールできるようになっている。
The
By the
図2に示すように、ヘッド110は、インクジェット方式(液滴吐出方式)によって成膜用インク300をノズル(突出部)118から吐出するものである。本実施形態では、ヘッド110は、圧電体素子としてのピエゾ素子113を用いてインクを吐出させるピエゾ方式を用いている。ピエゾ方式は、成膜用インク300に熱を加えないため、材料の組成に影響を与えないなどの利点を有する。
As shown in FIG. 2, the
ヘッド110は、ヘッド本体111と、振動板112と、ピエゾ素子113とを有している。
ヘッド本体111は、本体114と、その下端面にノズルプレート115とを有している。そして、本体114を板状のノズルプレート115と振動板112とが挟み込むことにより、空間としてのリザーバ116およびリザーバ116から分岐した複数のインク室117が形成されている。
The
The head main body 111 has a
リザーバ116には、図示しないインク貯留部から成膜用インク300が供給される。リザーバ116は、各インク室117に成膜用インク300を供給するための流路を形成している。
また、ノズルプレート115は、本体114の下端面に装着されており、インク吐出面115Pを構成している。このノズルプレート115には、成膜用インク300を吐出する複数のノズル118が、各インク室117に対応して開口されている。そして、各インク室117から対応するノズル(吐出部)118に向かって、インク流路が形成されている。
The
The
振動板112は、ヘッド本体111の上端面に装着されており、各インク室117の壁面を構成している。振動板112は、ピエゾ素子113の振動に応じて振動可能となっている。
ピエゾ素子113は、その振動板112のヘッド本体111と反対側に、各インク室117に対応して設けられている。ピエゾ素子113は、水晶等の圧電材料を一対の電極(不図示)で挟持したものである。その一対の電極は、駆動回路191に接続されている。
The
The
そして、駆動回路191からピエゾ素子113に電気信号を入力すると、ピエゾ素子113が膨張変形または収縮変形する。ピエゾ素子113が収縮変形すると、インク室117の圧力が低下して、リザーバ116からインク室117に成膜用インク300が流入する。また、ピエゾ素子113が膨張変形すると、インク室117の圧力が増加して、ノズル118から成膜用インク300が吐出される。なお、印加電圧を変化させることにより、ピエゾ素子113の変形量を制御することができる。また、印加電圧の周波数を変化させることにより、ピエゾ素子113の変形速度を制御することができる。すなわち、ピエゾ素子113への印加電圧を制御することにより、成膜用インク300の吐出条件を制御し得るようになっている。
制御装置190は、液滴吐出装置200の各部位を制御する。例えば、駆動回路191で生成する印加電圧の波形を調節して成膜用インク300の吐出条件を制御したり、ヘッド位置決め手段180およびテーブル位置決め手段170を制御したりすることにより基材Sへの成膜用インク300の吐出位置を制御する。
When an electric signal is input from the
The
(成膜用インク)
本発明の成膜用インク300は、成膜材料と、その成膜材料が溶解または分散される液性媒体とを有する。
この成膜用インク300は、基材S(本実施形態では正孔注入層4)に付与し、前記液性媒体を除去することにより、前記成膜材料を主材料として構成された膜(本実施形態では正孔輸送層5)を形成するのに用いるものである。これにより、成膜の目的とする膜(本実施形態では正孔輸送層5)またはその前駆体膜を形成することができる。
(Ink for film formation)
The film-forming
The film-forming
特に、かかる成膜用インク300は、前述したような液滴吐出装置200を用いた成膜、すなわち液滴吐出法による成膜に用いるものである。これにより、微細な領域に対しても、所望の位置および領域に成膜用インク300を付与することができる。また、液滴吐出法は、気相成膜法に比し、成膜プロセスが簡単なものとなるとともに、原材料(成膜材料)の使用量が少なくて済むという利点がある。
また、液滴吐出法では、成膜材料としてπ共役系化合物を用いた場合に、π共役系化合物同士がπ−πスタッキングにより凝集しやすいので、本発明を適用することによる効果が顕著となる。
In particular, the film-forming
In the droplet discharge method, when a π-conjugated compound is used as a film forming material, the π-conjugated compounds easily aggregate together by π-π stacking, so that the effect of applying the present invention becomes remarkable. .
以下、本発明の成膜用インク300の各成分を詳細に説明する。
(成膜材料)
本発明の成膜用インク300に含まれる成膜材料は、成膜の目的とする膜(本実施形態では正孔輸送層5)の構成材料またはその前駆体である。
成膜用インク300中において、成膜材料は、後述する液性媒体に溶解しているものであってもよいし、分散しているものであってもよいが、成膜材料が液性媒体中に分散しているものである場合、成膜材料の平均粒径は、20〜200nmであるのが好ましく、5〜90nmであるのがより好ましい。これにより、成膜用インク300中における成膜材料の分散安定性を優れたものとすることができる。
Hereinafter, each component of the film-forming
(Deposition material)
The film-forming material contained in the film-forming
In the film-forming
成膜材料は、非水系溶媒に可溶なものであるのが好ましい。このような成膜材料は、液性媒体に溶解させることができる。そのため、高分子材料を成膜材料として用いた場合においても、均質な膜を形成することができる。
本実施形態では、成膜材料は、有機エレクトロルミネッセンス素子の正孔輸送層を構成する材料またはその前駆体である。
The film forming material is preferably soluble in a non-aqueous solvent. Such a film forming material can be dissolved in a liquid medium. Therefore, even when a polymer material is used as a film forming material, a homogeneous film can be formed.
In the present embodiment, the film forming material is a material constituting the hole transport layer of the organic electroluminescence element or a precursor thereof.
前述した発光素子1では、陽極3上に正孔注入層4が設けられ、その正孔注入層4上に正孔輸送層5が設けられている。そして、正孔輸送層5を形成する際には、水系の溶媒または分散媒を用いて形成された正孔注入層4上に、正孔輸送層5の構成材料またはその前駆体を非水系の溶媒または分散媒に溶解または分散させた成膜用インク300を塗布することとなる。このような場合、正孔輸送層5の形成に本発明の成膜用インク300を用いると、成膜用インク300を正孔注入層4上に濡れ拡がらせることができる。
In the
なお、発光素子1においては、前述したように正孔輸送層5を省略することができる。したがって、その場合には、その正孔注入層4上に発光層(赤色発光層6)が設けられることになる。そして、この場合、赤色発光層6を形成する際には、正孔注入層4上に、赤色発光層6の構成材料またはその前駆体を非水系の溶媒または分散媒に溶解または分散させた成膜用インクを塗布することとなる。
In the
成膜用インク300中における成膜材料の含有率は、成膜用インク300の用途に応じて決められるものであり、特に限定されないが、例えば、0.01〜20wt%であるのが好ましく、0.05〜15wt%であるのがより好ましい。成膜材料の含有率が前記範囲内の値であると、成膜用の液滴吐出ヘッド(インクジェットヘッド)からの吐出性(吐出安定性)を特に優れたものとすることができる。
The content rate of the film forming material in the
(液性媒体)
本発明の成膜用インク300に含まれる液性媒体は、前述した成膜材料を溶解または分散させるもの、すなわち、溶媒または分散媒である。この液性媒体は、後述する成膜過程において、その大部分が除去されるものである。
特に、かかる液性媒体は、下記式(I)で表わされる化合物を含んでいる。
(Liquid medium)
The liquid medium contained in the film-forming
In particular, such a liquid medium contains a compound represented by the following formula (I).
かかる化合物(アルキルベンゼン)は、分子の対称性が低いため、成膜インク中における分子の運動の異方性が高い。そのため、かかる化合物の芳香族環(ベンゼン環)は、π共役系化合物同士の間に介在した状態において、成膜材料に含まれるπ共役系化合物の芳香族環に対して非平行になりやすく、π共役系化合物のπ−πスタッキングの距離を大きくすることができる。そのため、このような化合物を溶媒または分散媒として含む成膜用インクは、液滴吐出法により基材S上に付与しても、π共役系化合物同士の凝集を防止することができる。その結果、得られる膜のキャリア(正孔や電子)の輸送能を適度に抑えることができる。 Since such a compound (alkylbenzene) has low molecular symmetry, the anisotropy of molecular motion in the film-forming ink is high. Therefore, the aromatic ring (benzene ring) of such a compound is likely to be non-parallel to the aromatic ring of the π-conjugated compound contained in the film-forming material in a state of being interposed between the π-conjugated compounds, The π-π stacking distance of the π conjugated compound can be increased. Therefore, the film-forming ink containing such a compound as a solvent or dispersion medium can prevent aggregation of π-conjugated compounds even when applied to the substrate S by a droplet discharge method. As a result, the transport ability of carriers (holes and electrons) in the obtained film can be moderately suppressed.
また、かかる化合物は、R1〜R6の各炭素数が比較的低く抑えられているので、複数(2〜4置換)のアルキル基を有しながらも、粘度を抑えることができる。そのため、本発明の成膜用インク300は、高精度に成膜を行うことができる。
また、かかる化合物は、R2〜R6の炭素数を抑えつつ、R1の炭素数を多くしているので、アルキル基の炭素数を多くしながらも、粘度を抑えることができる。そのため、本発明の成膜用インク300は、高精度に成膜を行うことができる。
In addition, since the number of carbon atoms of R 1 to R 6 is relatively low in such a compound, the viscosity can be suppressed while having a plurality of (2 to 4 substituted) alkyl groups. Therefore, the film-forming
Moreover, such compounds, while suppressing the number of carbon atoms of R 2 to R 6, since by increasing the number of carbon atoms in R 1, while increasing the number of carbon atoms in the alkyl group, it is possible to suppress the viscosity. Therefore, the film-forming
また、かかる化合物は、極性基を含まないので、得られる正孔輸送層5中に残留したとしても、正孔輸送層5の電気的特性に与える悪影響を少なくすることができる。さらに、かかる化合物は、成膜材料に対する攻撃性が低く、この点でも、得られる正孔輸送層5の特性悪化を防止することができる。
また、上記式(I)に示す化合物は、1種または2種以上を組み合わせて用いることができる。
Moreover, since such a compound does not contain a polar group, even if it remains in the obtained hole transport layer 5, adverse effects on the electrical characteristics of the hole transport layer 5 can be reduced. Further, such a compound has a low aggressiveness to the film forming material, and in this respect as well, it is possible to prevent deterioration of characteristics of the obtained hole transport layer 5.
Moreover, the compound shown to the said formula (I) can be used 1 type or in combination of 2 or more types.
また、上記式(I)で表わされる化合物が2置換のアルキルベンゼンである場合、上記式(I)において、R1、R2は、それぞれ独立して、炭素数3または4の直鎖または枝分かれのアルキル基であり、R3、R4は、それぞれ、水素であるのが好ましい。すなわち、成膜用インク300に含まれる液性媒体は、下記式(1)で表わされる化合物を含んでいるのが好ましい。
When the compound represented by the above formula (I) is a disubstituted alkylbenzene, in the above formula (I), R 1 and R 2 are each independently a linear or branched group having 3 or 4 carbon atoms. It is an alkyl group, and R 3 and R 4 are each preferably hydrogen. That is, the liquid medium contained in the film-forming
これにより、上記式(I)の化合物が2置換のアルキルベンゼンである場合において、かかる化合物の非対称性を高めることができる。また、アルキル基の数を抑え、成膜用インク300の脱溶媒性または脱分散媒性を良好なものとすることができる。
また、上記式(I)で表わされる化合物が3置換のアルキルベンゼンである場合、上記式(I)において、R1、R2、R4は、それぞれ独立して、炭素数1または2のアルキル基であり、R3は、それぞれ、水素であるのが好ましい。すなわち、成膜用インク300に含まれる液性媒体は、下記式(2)で表わされる化合物を含んでいるのが好ましい。
Thereby, when the compound of the said formula (I) is a disubstituted alkylbenzene, the asymmetry of this compound can be improved. In addition, the number of alkyl groups can be reduced, and the film-developing
When the compound represented by the above formula (I) is a trisubstituted alkylbenzene, in the above formula (I), R 1 , R 2 and R 4 are each independently an alkyl group having 1 or 2 carbon atoms. And each R 3 is preferably hydrogen. That is, it is preferable that the liquid medium contained in the film-forming
これにより、上記式(I)の化合物が3置換のアルキルベンゼンである場合において、かかる化合物の非対称性を高めることができる。
また、上記式(I)で表わされる化合物が4置換のアルキルベンゼンである場合、上記式(I)において、R1、R2、R3、R4は、それぞれ独立して、炭素数1または2のアルキル基であるのが好ましい。すなわち、成膜用インク300に含まれる液性媒体は、下記式(3)で表わされる化合物を含んでいるのが好ましい。
Thereby, when the compound of the said formula (I) is trisubstituted alkylbenzene, the asymmetry of this compound can be improved.
In the case where the compound represented by the formula (I) is a tetrasubstituted alkylbenzene, in the formula (I), R 1 , R 2 , R 3 , and R 4 each independently represent 1 or 2 carbon atoms. It is preferable that it is an alkyl group. That is, it is preferable that the liquid medium contained in the film-forming
これにより、上記式(I)の化合物が4置換のアルキルベンゼンである場合において、かかる化合物の非対称性を高めることができる。また、アルキル基の炭素数を抑えることにより、仮にかかる化合物が膜中に残存しても、膜に対する電気的特性の低下を抑えることができる。
また、上記式(I)に示す化合物において、全てのアルキル基の炭素数の合計が多いほど、成膜材料に含まれるπ共役系化合物同士の間に介在しやすくなるので、これらのπ−πスタッキングの距離を大きくすることができるが、融点・沸点が大きくなり、脱溶媒性・脱分散媒性が低下する傾向を示す。
Thereby, when the compound of the said formula (I) is a tetrasubstituted alkylbenzene, the asymmetry of this compound can be improved. In addition, by suppressing the number of carbon atoms in the alkyl group, even if such a compound remains in the film, it is possible to suppress a decrease in electrical characteristics of the film.
Further, in the compound represented by the above formula (I), the larger the total number of carbon atoms of all alkyl groups, the easier it is to interpose between π-conjugated compounds contained in the film forming material. Although the stacking distance can be increased, the melting point / boiling point increases, and the solvent removal / dispersion medium tendency tends to decrease.
全てのアルキル基の炭素数の合計を多くするには、アルキル基の置換数を増やす方法と、各アルキル基の炭素数を増やす方法とが挙げられ、これらを単独または組み合わせて用いることができる。
アルキル基の置換数を増やす方が各アルキル基の炭素数を増やすよりも融点・沸点の上昇量が大きい。すなわち、アルキル基の置換基数を増やすよりも各アルキル基の炭素数を増やす方が融点・沸点を小さく抑えることができ、脱溶媒性・脱分散媒性を良好なものとすることができる。
In order to increase the total number of carbon atoms of all alkyl groups, there are a method of increasing the number of substitutions of the alkyl group and a method of increasing the number of carbon atoms of each alkyl group, and these can be used alone or in combination.
Increasing the number of alkyl group substitutions increases the melting point and boiling point more than increasing the number of carbon atoms in each alkyl group. That is, increasing the number of carbon atoms of each alkyl group can suppress the melting point / boiling point to be smaller than increasing the number of substituents of the alkyl group, and the desolvating property and dedispersing medium property can be improved.
また、かかる化合物の非対称性が高い(すなわち対称性が低い)ほど、成膜用インク中における分子運動の異方性が高くなるものと推察される。分子運動の異方性が高いほど、成膜材料に含まれるπ共役系化合物の芳香族環に対して非平行になりやすく、π共役系化合物のπ−πスタッキングの距離を大きくすることができる。
また、液性媒体中における上記式(I)に示す化合物の含有量は、50wt%以上100wt%以下であればよいが、70wt%以上100wt%以下であるのが好ましい。
Further, it is presumed that the higher the asymmetry of this compound (that is, the lower the symmetry), the higher the molecular motion anisotropy in the film-forming ink. The higher the anisotropy of molecular motion, the more likely it becomes non-parallel to the aromatic ring of the π-conjugated compound contained in the film-forming material, and the π-π stacking distance of the π-conjugated compound can be increased. .
Further, the content of the compound represented by the above formula (I) in the liquid medium may be 50 wt% or more and 100 wt% or less, but is preferably 70 wt% or more and 100 wt% or less.
また、液性媒体中には、上記式(I)に示す化合物以外の化合物が含まれていてもよい。液性媒体に含有可能な化合物としては、例えば、ベンゼン(Benzene、沸点80.1℃、融点5.5℃)、トルエン(Toluene、沸点110.6℃、融点-93℃)、o−キシレン(o-Xylene (p-,m-)、沸点144℃、融点-25℃)、トリメチルベンゼン(Trimethylbenzene、沸点165℃、融点-45℃)、テトラリン(テトラヒドロナフタレン:Tetralin、沸点208℃、融点-35.8℃)、シクロヘキシルベンゼン(cyclohexylbenzene、沸点237.5℃、融点5℃)、1,4−ジクロロベンゼン(1,4-dchlorobenzene、沸点174℃、融点53.5℃)、1,2,3−トリクロロベンゼン(1,2,3-Trichlorobenzene、沸点221℃、融点52.6℃)、テトラヒドロフラン(Tetrahydrofuran、沸点66℃、融点-108.5℃)、ジエチルエーテル(diethyl ether、沸点35℃、融点-116℃)、ジイソプロピルエーテル(Diisopropyl ether、沸点69℃、融点-85.6℃)、エチレングリコール(ethylene glycol、沸点197.3℃、融点-12.9℃)、エチレングリコールジエチルエーテル(Ethylene glycol diethyl ether、沸点190℃、融点-44.3℃)、ジオキサン(Dioxane、沸点101.1℃、融点11.8℃)、アニソール(メトキシベンゼン:Anisole、沸点154℃、融点-37℃)、ジクロロメタン(dichloromethane、沸点40℃、融点-96.7℃)、トリクロロメタン(trichloromethane、沸点61.2℃、融点-64℃)、塩化炭素四塩化炭素(tetrachloromethane、沸点76.7℃、融点-28.6℃)、ペンタン(pentane、沸点36℃、融点-131℃)、ヘキサン(Hexane、沸点69℃、融点-95℃)、シクロヘキサン(cyclohexane、沸点81℃、融点7℃)、アセトン(Acetone、沸点56.5℃、融点-94℃)、1−メチル−2−ピロリジノン(NMP:1-Methyl-2-pyrrolidinone、沸点204℃、融点-24℃)、メチルエチルケトン(methylethylketone、沸点79.6℃、融点-86℃)、アルファ−テトラロン(Alpha-tetralone、沸点257℃、融点7℃)、シクロヘキサノン(Cyclohexanone、沸点157℃、融点-45℃)、酢酸エチル(ethyl acetate、沸点77.1℃、融点-83.6℃)、酢酸ブチル(butyl acetate、沸点126℃、融点-74℃)、メタノール(methanol、沸点67℃、融点-97℃)、エタノール(ethanol、沸点78.4℃、融点-114.3℃)、イソプロピルアルコール(Isopropyl alcohol、沸点82.4℃、融点-89.5℃)、1−プロパノール(1-Propanol、沸点97.15℃、融点-126.5℃)、アセトニトリル(acetonitrile、沸点82℃、融点-45℃)、N,N−ジメチルホルムアミド(DMF:N,N-dimethylformamide、沸点153℃、融点-61℃)、N,N−ジメチルアセトアミド(DMAc:N,N-Dimethylacetamide、沸点165℃、融点-20℃)、1,3−ジメチル−2−イミダゾリジノン(1,3-dimethyl-2-imidazolidinone、沸点220℃、融点8℃)、ジメチルスルホキシド(dimethyl sulfoxide、沸点189℃、融点18.5℃)、4−tert-ブチルアニソール(4-tert-Butylanisole、沸点222℃、融点18℃)、Trans−アネトール(Trans-Anethole、沸点235℃、融点20℃)、1,2−ジメトキシベンゼン(1,2-Dimethoxybenzene、沸点206.7℃、融点22.5℃)、2−メトキシビフェニル(2-Methoxybiphenyl、沸点274℃、融点28℃)、フェニルエーテル(Phenyl Ether、沸点258.3℃、融点28℃)、2−エトキシナフタレン(2-Ethoxynaphthalene、沸点282℃、融点35℃)、ベンジルフェニルエーテル(Benzyl Phenyl Ether、沸点288℃、融点39℃)、2,6−ジメトキシトルエン(2,6-Dimethoxytoluene、沸点222℃、融点39℃)、2−プロポキシナフタレン(2-Propoxynaphthalene、沸点305℃、融点40℃)、1,2,3−トリメトキシベンゼン(1,2,3-Trimethoxybenzene、沸点235℃、融点45℃)、1,4−ジクロロベンゼン(1,4-dichlorobenzene、沸点174℃、融点53.5℃)等が挙げられ、これらのうち1種または2種以上を組み合わせて用いることができる。 The liquid medium may contain a compound other than the compound represented by the above formula (I). Examples of compounds that can be contained in the liquid medium include benzene (Benzene, boiling point 80.1 ° C, melting point 5.5 ° C), toluene (Toluene, boiling point 110.6 ° C, melting point -93 ° C), o-xylene (p- m-), boiling point 144 ° C, melting point -25 ° C), trimethylbenzene (Trimethylbenzene, boiling point 165 ° C, melting point -45 ° C), tetralin (tetrahydronaphthalene: Tetralin, boiling point 208 ° C, melting point -35.8 ° C), cyclohexylbenzene ( cyclohexylbenzene, boiling point 237.5 ° C, melting point 5 ° C), 1,4-dichlorobenzene (1,4-dchlorobenzene, boiling point 174 ° C, melting point 53.5 ° C), 1,2,3-trichlorobenzene (1,2,3-Trichlorobenzene, Boiling point 221 ° C, melting point 52.6 ° C), tetrahydrofuran (Tetrahydrofuran, boiling point 66 ° C, melting point -108.5 ° C), diethyl ether (diethyl ether, boiling point 35 ° C, melting point -116 ° C), diisopropyl ether (Diisopropyl ether, boiling point 69 ° C, melting point) -85.6 ℃), ethylene glycol (Ethylene glycol, boiling point 197.3 ° C, melting point -12.9 ° C), ethylene glycol diethyl ether (boiling point 190 ° C, melting point -44.3 ° C), dioxane (dioxane, boiling point 101.1 ° C, melting point 11.8 ° C), anisole (Methoxybenzene: Anisole, boiling point 154 ° C, melting point -37 ° C), dichloromethane (dichloromethane, boiling point 40 ° C, melting point -96.7 ° C), trichloromethane (trichloromethane, boiling point 61.2 ° C, melting point -64 ° C), carbon tetrachloride (Tetrachloromethane, boiling point 76.7 ° C, melting point -28.6 ° C), pentane (pentane, boiling point 36 ° C, melting point -131 ° C), hexane (Hexane, boiling point 69 ° C, melting point -95 ° C), cyclohexane (cyclohexane, boiling point 81 ° C, melting point) 7 ° C), acetone (Acetone, boiling point 56.5 ° C, melting point -94 ° C), 1-methyl-2-pyrrolidinone (NMP: 1-Methyl-2-pyrrolidinone, boiling point 204 ° C, melting point -24 ° C), methylethylketone, Boiling point 79.6 , Melting point -86 ° C), alpha-tetralone (boiling point 257 ° C, melting point 7 ° C), cyclohexanone (bp 157 ° C, melting point -45 ° C), ethyl acetate (ethyl acetate, boiling point 77.1 ° C, melting point- 83.6 ° C), butyl acetate (boiling point 126 ° C, melting point -74 ° C), methanol (methanol, boiling point 67 ° C, melting point -97 ° C), ethanol (ethanol, boiling point 78.4 ° C, melting point -114.3 ° C), isopropyl alcohol (Isopropyl alcohol, boiling point 82.4 ° C, melting point -89.5 ° C), 1-propanol (1-Propanol, boiling point 97.15 ° C, melting point -126.5 ° C), acetonitrile (acetonitrile, boiling point 82 ° C, melting point -45 ° C), N, N- Dimethylformamide (DMF: N, N-dimethylformamide, boiling point 153 ° C, melting point -61 ° C), N, N-dimethylacetamide (DMAc: N, N-dimethylacetamide, boiling point 165 ° C, melting point -20 ° C), 1,3- Dimethyl-2-imidazolidinone (1,3-dimethyl-2-imidazolid) inone, boiling point 220 ° C, melting point 8 ° C), dimethyl sulfoxide (boiling point 189 ° C, melting point 18.5 ° C), 4-tert-butylanisole (4-tert-Butylanisole, boiling point 222 ° C, melting point 18 ° C), Trans- Anethole (Trans-Anethole, boiling point 235 ° C, melting point 20 ° C), 1,2-dimethoxybenzene (1,2-Dimethoxybenzene, boiling point 206.7 ° C, melting point 22.5 ° C), 2-methoxybiphenyl (boiling point 274 ° C, Melting point 28 ° C.), phenyl ether (Phenyl Ether, boiling point 258.3 ° C., melting point 28 ° C.), 2-ethoxynaphthalene (2-Ethoxynaphthalene, boiling point 282 ° C., melting point 35 ° C.), benzyl phenyl ether (Benzyl Phenyl Ether, boiling point 288 ° C., Melting point 39 ° C), 2,6-dimethoxytoluene (2,6-Dimethoxytoluene, boiling point 222 ° C, melting point 39 ° C), 2-propoxynaphthalene (2-Propoxynaphthalene, boiling point 305 ° C, melting point 40 ° C), 1,2,3 -Trimethoxybenzene (1,2,3-Trimethoxy benzene, boiling point 235 ° C., melting point 45 ° C.), 1,4-dichlorobenzene (1,4-dichlorobenzene, boiling point 174 ° C., melting point 53.5 ° C.), etc., and one or more of these are used in combination. be able to.
また、液性媒体には、高沸点溶媒が含まれていてもよく、かかる高沸点溶媒としては、例えば、芳香族炭化水素、イソプロピルアルコール(IPA)、ノルマルブタノール、γ−ブチロラクトン、N−メチルピロリドン(NMP)、ジメチルホルムアミド(DMF)、ヘキサメチルホスソルアミド(HMPA)、ジメチルスルホキシド(DMSO)、1,3−ジメチル−2−イミダゾリジノン(DMI)およびその誘導体、カルビト−ルアセテート、ブチルカルビト−ルアセテート等のグリコールエーテル類を挙げられ、これらのうちの1種または2種以上を組み合わせて用いることができる。 The liquid medium may contain a high-boiling solvent. Examples of the high-boiling solvent include aromatic hydrocarbons, isopropyl alcohol (IPA), normal butanol, γ-butyrolactone, and N-methylpyrrolidone. (NMP), dimethylformamide (DMF), hexamethylphossolamide (HMPA), dimethyl sulfoxide (DMSO), 1,3-dimethyl-2-imidazolidinone (DMI) and its derivatives, carbitol acetate, butyl carbito- Examples thereof include glycol ethers such as rubacetate, and one or more of these can be used in combination.
液性媒体の常温(20℃)における粘度(以下、単に「粘度」とも言う)は、特に限定されないが、6cP以下であるのが好ましく、4cP以下であるのがより好ましい。これにより、水系の溶媒または分散媒を用いて形成された層(本実施形態では正孔注入層4)上に対する成膜用インク300の濡れ性を効果的に高めることできる。
また、液性媒体の常圧での沸点は、200℃以上であるのが好ましい。これにより、成膜用インク300の液性媒体の揮発性を抑え、成膜用インク300を液滴吐出法を用いて安定的に吐出することができる。
The viscosity (hereinafter also referred to simply as “viscosity”) of the liquid medium at normal temperature (20 ° C.) is not particularly limited, but is preferably 6 cP or less, and more preferably 4 cP or less. Thereby, the wettability of the film-forming
Moreover, it is preferable that the boiling point in the normal pressure of a liquid medium is 200 degreeC or more. Thereby, the volatility of the liquid medium of the film-forming
このような液性媒体の成膜用インク300中の含有量は、80〜99.99wt%であるのが好ましく、85〜99.95wt%であるのがより好ましい。
以上説明したような成膜用インクは、後述するようなインクジェット法(液滴吐出法)を用いた成膜に用いるものである。インクジェット法によれば、比較的簡単かつ確実に、微細なパターンニングを行うことができる。
The content of such a liquid medium in the film-forming
The film forming ink as described above is used for film formation using an ink jet method (droplet discharge method) as described later. According to the inkjet method, fine patterning can be performed relatively easily and reliably.
また、液滴吐出法では、成膜材料としてπ共役系化合物を用いた場合に、π共役系化合物同士がπ−πスタッキングにより凝集しやすいので、本発明を適用することによる効果が顕著となる。
このような成膜用インクは、後述するインク付与工程[1]において液状をなすものである。
In the droplet discharge method, when a π-conjugated compound is used as a film forming material, the π-conjugated compounds easily aggregate together by π-π stacking, so that the effect of applying the present invention becomes remarkable. .
Such a film-forming ink forms a liquid in an ink application step [1] described later.
また、このような成膜用インクの粘度は、特に限定されないが、1cP以上7cP以下程度であるのが好ましい。かかる範囲内に成膜用インクの粘度を調製することにより、前述したような液性媒体の低粘度化による効果が顕著となる。
以上説明したような液滴吐出装置200および成膜用インク300を用いて正孔輸送層5を形成する。
The viscosity of such a film-forming ink is not particularly limited, but is preferably about 1 cP or more and 7 cP or less. By adjusting the viscosity of the film-forming ink within such a range, the effect of reducing the viscosity of the liquid medium as described above becomes remarkable.
The hole transport layer 5 is formed using the
(成膜方法)
具体的には、正孔輸送層5の形成方法(成膜方法)は、[3−1]前述した成膜用インク300を基材S(具体的には正孔注入層4)上に付与する工程と、[3−2]成膜用インク300から液状媒体を除去して、正孔輸送層5を形成する工程とを有する。
これにより、成膜材料としてπ共役系化合物を用いる場合において、π共役系化合物同士の凝集を防止して、優れた膜質を有する膜を形成することができる。
(Film formation method)
Specifically, the formation method (film formation method) of the hole transport layer 5 is [3-1] applying the
Thereby, in the case of using a π-conjugated compound as a film forming material, aggregation of the π-conjugated compounds can be prevented, and a film having excellent film quality can be formed.
[3−1]
具体的には、前述した液滴吐出装置200を用いて、正孔注入層4上に所望の量の成膜用インク300を付与する。
この工程[3−1]における雰囲気の温度および圧力は、それぞれ、成膜用インク300の組成に応じて決められるものであり、基材S上に成膜用インク300を付与することができれば、特に限定されないが、常温常圧であるのが好ましい。これにより、成膜用インク300の付与を簡単に行える。
[3-1]
Specifically, a desired amount of film-forming
The temperature and pressure of the atmosphere in this step [3-1] are respectively determined according to the composition of the film-forming
[3−2]
そして、基材S上(本実施形態では、基板20、陽極3および正孔注入層4からなる積層体であって、具体的には正孔注入層4上)に形成された成膜用インク300から液性媒体を除去することにより、成膜材料を主成分とする膜(すなわち正孔輸送層5またはその前駆体膜)を得る。
[3-2]
Then, a film-forming ink formed on the substrate S (in this embodiment, a laminate comprising the
この工程[3−2]における雰囲気の温度および圧力は、それぞれ、成膜用インク300の組成に応じて決められるものであり、基材S上の成膜用インク300から液性媒体を除去することができれば、特に限定されないが、液性媒体の除去は、加熱・減圧下で行うのが好ましい。これにより、成膜用インク300から液性媒体を効率的に除去することができる。
The temperature and pressure of the atmosphere in this step [3-2] are determined according to the composition of the film-forming
この加熱は、特に限定されないが、ホットプレートや赤外線などで行うことができる。また、この加熱は、前述した液滴吐出装置200のテーブル140に設けられたラバーヒータにより行ってもよい。
この加熱温度は、特に限定されないが、60〜100℃程度であるのが好ましい。
また、加熱時間は、特に限定されないが、1分以上30分以下程度である。
This heating is not particularly limited, but can be performed with a hot plate or infrared rays. Further, this heating may be performed by a rubber heater provided on the table 140 of the
Although this heating temperature is not specifically limited, It is preferable that it is about 60-100 degreeC.
Moreover, although heating time is not specifically limited, It is about 1 minute or more and 30 minutes or less.
前述したように減圧するに際し、その圧力は、特に限定されないが、10−7Pa以上
10Pa以下程度であるのが好ましい。
このようにして液性媒体が除去されて形成された膜は、成膜の目的とする正孔輸送層5の構成材料またはその前駆体で構成されたものとなる。
そして、成膜材料として正孔輸送層5の構成材料の前駆体を用いた場合、液性媒体を除去して得られた膜は、必要に応じて、所定の処理が施される。例えば、不活性ガス雰囲気下で熱処理(焼成処理)を施す。
この加熱温度は、特に限定されないが、100〜200℃程度であるのが好ましい。
また、加熱時間は、特に限定されないが、10分以上2時間以下程度である。
以上のようにして、正孔輸送層5が形成される。
As described above, when the pressure is reduced, the pressure is not particularly limited, but is preferably about 10 −7 Pa to 10 Pa.
The film formed by removing the liquid medium in this way is composed of the constituent material of the hole transport layer 5 to be formed or a precursor thereof.
When the precursor of the constituent material of the hole transport layer 5 is used as the film forming material, the film obtained by removing the liquid medium is subjected to a predetermined treatment as necessary. For example, heat treatment (baking treatment) is performed in an inert gas atmosphere.
Although this heating temperature is not specifically limited, It is preferable that it is about 100-200 degreeC.
The heating time is not particularly limited, but is about 10 minutes to 2 hours.
As described above, the hole transport layer 5 is formed.
[4] 次に、正孔輸送層5上に、赤色発光層6を形成する。
赤色発光層6は、例えば、CVD法や、真空蒸着、スパッタリング等の乾式メッキ法等を用いた気相プロセスにより形成することができる。
また、赤色発光層6は、例えば、その構成材料を溶媒に溶解または分散媒に分散してなる赤色発光層形成用材料を、正孔輸送層5上に供給した後、乾燥(脱溶媒または脱分散媒)することによっても形成することができる。
[4] Next, the red
The red
In addition, the red
[5] 次に、赤色発光層6上に、第1の中間層7Aを形成する。
第1の中間層7Aは、例えば、CVD法や、真空蒸着、スパッタリング等の乾式メッキ法等を用いた気相プロセスにより形成することができる。
また、第1の中間層7Aは、例えば、その構成材料を溶媒に溶解または分散媒に分散してなる第1の中間層形成用材料を、赤色発光層6上に供給した後、乾燥(脱溶媒または脱分散媒)することによっても形成することができる。
[5] Next, the first intermediate layer 7 </ b> A is formed on the red
The first
In addition, the first
[6] 次に、第1の中間層7A上に、青色発光層8を形成する。
青色発光層8は、例えば、CVD法や、真空蒸着、スパッタリング等の乾式メッキ法等を用いた気相プロセスにより形成することができる。
[7] 次に、青色発光層8上に、第2の中間層7Bを形成する。
第2の中間層7Bは、前記工程[5]で説明した、第1の中間層7Aの形成方法と同様の方法を用いて形成される。
[6] Next, the blue
The blue
[7] Next, the second intermediate layer 7 </ b> B is formed on the blue
The second intermediate layer 7B is formed using the same method as the method for forming the first
[8] 次に、第2の中間層7B上に、緑色発光層9を形成する。
緑色発光層9は、例えば、CVD法や、真空蒸着、スパッタリング等の乾式メッキ法等を用いた気相プロセスにより形成することができる。
[9] 次に、緑色発光層9上に、電子輸送層10を形成する。
電子輸送層10は、例えば、CVD法や、真空蒸着、スパッタリング等の乾式メッキ法等を用いた気相プロセスにより形成することができる。
また、電子輸送層10は、例えば、電子輸送材料を溶媒に溶解または分散媒に分散してなる電子輸送層形成用材料を、緑色発光層9上に供給した後、乾燥(脱溶媒または脱分散媒)することによっても形成することができる。
[8] Next, the green
The green
[9] Next, the
The
Further, the
[10] 次に、電子輸送層10上に、電子注入層11を形成する。
電子注入層11の構成材料として無機材料を用いる場合、電子注入層11は、例えば、CVD法や、真空蒸着、スパッタリング等の乾式メッキ法等を用いた気相プロセス、無機微粒子インクの塗布および焼成等を用いて形成することができる。
[11] 次に、電子注入層11上に、陰極12を形成する。
陰極12は、例えば、真空蒸着法、スパッタリング法、金属箔の接合、金属微粒子インクの塗布および焼成等を用いて形成することができる。
以上のような工程を経て、発光素子1が得られる。
[10] Next, the
When an inorganic material is used as the constituent material of the
[11] Next, the
The
The
最後に、得られた発光素子1を覆うように封止部材13を形成する。
以上説明したような発光素子1の製造方法によれば、上述したような工程[3−1]および[3−2]を有するので、成膜材料であるπ共役系化合物同士の凝集を防止することができる。その結果、得られる膜のキャリア(正孔や電子)の輸送能を適度に抑えることができる。そのため、得られる発光素子1は、正孔と電子の輸送バランス(キャリアバランス)が整えられ、優れた発光効率を有する。また、発光素子1を安価に製造することができる。
Finally, a sealing
According to the method for manufacturing the light-emitting
以上説明したような発光素子1は、例えば光源等として使用することができる。また、複数の発光素子1をマトリックス状に配置することにより、ディスプレイ装置(表示装置)を構成することができる。
なお、ディスプレイ装置の駆動方式としては、特に限定されず、アクティブマトリックス方式、パッシブマトリックス方式のいずれであってもよい。
The
The driving method of the display device is not particularly limited, and may be either an active matrix method or a passive matrix method.
(表示装置)
次に、本発明の発光装置を備えるディスプレイ装置の一例について説明する。
図4は、本発明の発光装置を備えるディスプレイ装置の実施形態を示す縦断面図である。
図4に示すディスプレイ装置100は、基板21と、サブ画素100R、100G、100Bに対応して設けられた複数の発光素子1R、1G、1Bおよびカラーフィルタ19R、19G、10Bと、各発光素子1R、1G、1Bをそれぞれ駆動するための複数の駆動用トランジスタ24とを有している。ここで、ディスプレイ装置100は、トップエミッション構造のディスプレイパネルである。
(Display device)
Next, an example of a display device including the light emitting device of the present invention will be described.
FIG. 4 is a longitudinal sectional view showing an embodiment of a display device including the light emitting device of the present invention.
The
基板21上には、複数の駆動用トランジスタ24が設けられ、これらの駆動用トランジスタ24を覆うように、絶縁材料で構成された平坦化層22が形成されている。
各駆動用トランジスタ24は、シリコンからなる半導体層241と、半導体層241上に形成されたゲート絶縁層242と、ゲート絶縁層242上に形成されたゲート電極243と、ソース電極244と、ドレイン電極245とを有している。
平坦化層上には、各駆動用トランジスタ24に対応して発光素子1R、1G、1Bが設けられている。
A plurality of driving
Each driving
On the planarization layer,
発光素子1Rは、平坦化層22上に、反射膜32、腐食防止膜33、陽極3、積層体(有機EL発光部)15、陰極12、陰極カバー34がこの順に積層されている。本実施形態では、各発光素子1R、1G、1Bの陽極3は、画素電極を構成し、各駆動用トランジスタ24のドレイン電極245に導電部(配線)27により電気的に接続されている。また、各発光素子1R、1G、1Bの陰極12は、共通電極とされている。
なお、発光素子1G、1Bの構成は、発光素子1Rの構成と同様である。また、図4では、図1と同様の構成に関しては、同一符号を付してある。また、反射膜32の構成(特性)は、光の波長に応じて、発光素子1R、1G、1B間で異なっていてもよい。
In the
The configurations of the
隣接する発光素子1R、1G、1B同士の間には、隔壁31が設けられている。また、これらの発光素子1R、1G、1B上には、これらを覆うように、エポキシ樹脂で構成されたエポキシ層35が形成されている。
このような発光装置101によれば、前述した発光素子1と同様の構成を有する発光素子1R、1G、1Bを備えているので、安価で、優れた発光特性(特に発光効率)を有するものとなる。
A
According to such a
カラーフィルタ19R、19G、19Bは、前述したエポキシ層35上に、発光素子1R、1G、1Bに対応して設けられている。
カラーフィルタ19Rは、発光素子1Rからの白色光Wを赤色に変換するものである。また、カラーフィルタ19Gは、発光素子1Gからの白色光Wを緑色に変換するものである。また、カラーフィルタ19Bは、発光素子1Bからの白色光Wを青色に変換するものである。このようなカラーフィルタ19R、19G、19Bを発光素子1R、1G、1Bと組み合わせて用いることで、フルカラー画像を表示することができる。
The
The
また、隣接するカラーフィルタ19R、19G、19B同士の間には、遮光層36が形成されている。これにより、意図しないサブ画素100R、100G、100Bが発光するのを防止することができる。
そして、カラーフィルタ19R、19G、19Bおよび遮光層36上には、これらを覆うように基板20が設けられている。
以上説明したようなディスプレイ装置100は、単色表示であってもよく、各発光素子1R、1G、1Bに用いる発光材料を選択することにより、カラー表示も可能である。
このようなディスプレイ装置100(表示装置)は、各種の電子機器に組み込むことができる。
A
A
The
Such a display device 100 (display device) can be incorporated into various electronic devices.
図5は、本発明の電子機器を適用したモバイル型(またはノート型)のパーソナルコンピュータの構成を示す斜視図である。
この図において、パーソナルコンピュータ1100は、キーボード1102を備えた本体部1104と、表示部を備える表示ユニット1106とにより構成され、表示ユニット1106は、本体部1104に対しヒンジ構造部を介して回動可能に支持されている。
FIG. 5 is a perspective view showing a configuration of a mobile (or notebook) personal computer to which the electronic apparatus of the present invention is applied.
In this figure, a
このパーソナルコンピュータ1100において、表示ユニット1106が備える表示部が前述のディスプレイ装置100で構成されている。
図6は、本発明の電子機器を適用した携帯電話機(PHSも含む)の構成を示す斜視図である。
この図において、携帯電話機1200は、複数の操作ボタン1202、受話口1204および送話口1206とともに、表示部を備えている。
In the
FIG. 6 is a perspective view showing a configuration of a mobile phone (including PHS) to which the electronic apparatus of the present invention is applied.
In this figure, a
携帯電話機1200において、この表示部が前述のディスプレイ装置100で構成されている。
図7は、本発明の電子機器を適用したディジタルスチルカメラの構成を示す斜視図である。なお、この図には、外部機器との接続についても簡易的に示されている。
ここで、通常のカメラは、被写体の光像により銀塩写真フィルムを感光するのに対し、ディジタルスチルカメラ1300は、被写体の光像をCCD(Charge Coupled Device)などの撮像素子により光電変換して撮像信号(画像信号)を生成する。
In the
FIG. 7 is a perspective view showing the configuration of a digital still camera to which the electronic apparatus of the present invention is applied. In this figure, connection with an external device is also simply shown.
Here, an ordinary camera sensitizes a silver halide photographic film with a light image of a subject, whereas a
ディジタルスチルカメラ1300におけるケース(ボディー)1302の背面には、表示部が設けられ、CCDによる撮像信号に基づいて表示を行う構成になっており、被写体を電子画像として表示するファインダとして機能する。
ディジタルスチルカメラ1300において、この表示部が前述のディスプレイ装置100で構成されている。
A display unit is provided on the back of a case (body) 1302 in the
In the
ケースの内部には、回路基板1308が設置されている。この回路基板1308は、撮像信号を格納(記憶)し得るメモリが設置されている。
また、ケース1302の正面側(図示の構成では裏面側)には、光学レンズ(撮像光学系)やCCDなどを含む受光ユニット1304が設けられている。
撮影者が表示部に表示された被写体像を確認し、シャッタボタン1306を押下すると、その時点におけるCCDの撮像信号が、回路基板1308のメモリに転送・格納される。
A
A
When the photographer confirms the subject image displayed on the display unit and presses the shutter button 1306, the CCD image pickup signal at that time is transferred and stored in the memory of the
また、このディジタルスチルカメラ1300においては、ケース1302の側面に、ビデオ信号出力端子1312と、データ通信用の入出力端子1314とが設けられている。そして、図示のように、ビデオ信号出力端子1312にはテレビモニタ1430が、デ−タ通信用の入出力端子1314にはパーソナルコンピュータ1440が、それぞれ必要に応じて接続される。さらに、所定の操作により、回路基板1308のメモリに格納された撮像信号が、テレビモニタ1430や、パーソナルコンピュータ1440に出力される構成になっている。
以上説明したような電子機器によれば、それぞれ、前述したようなディスプレイ装置100(発光装置101)を有しているので、安価で、優れた信頼性を有する。
In the
According to the electronic devices as described above, each of the electronic devices has the display device 100 (light emitting device 101) as described above, so that it is inexpensive and has excellent reliability.
なお、本発明の電子機器は、図5のパーソナルコンピュータ(モバイル型パーソナルコンピュータ)、図6の携帯電話機、図7のディジタルスチルカメラの他にも、例えば、テレビや、ビデオカメラ、ビューファインダ型、モニタ直視型のビデオテープレコーダ、ラップトップ型パーソナルコンピュータ、カーナビゲーション装置、ページャ、電子手帳(通信機能付も含む)、電子辞書、電卓、電子ゲーム機器、ワードプロセッサ、ワークステーション、テレビ電話、防犯用テレビモニタ、電子双眼鏡、POS端末、タッチパネルを備えた機器(例えば金融機関のキャッシュディスペンサー、自動券売機)、医療機器(例えば電子体温計、血圧計、血糖計、心電表示装置、超音波診断装置、内視鏡用表示装置)、魚群探知機、各種測定機器、計器類(例えば、車両、航空機、船舶の計器類)、フライトシュミレータ、その他各種モニタ類、プロジェクター等の投射型表示装置等に適用することができる。
以上、本発明の成膜用インク、成膜方法、液滴吐出装置、発光素子の製造方法、発光素子、発光装置および電子機器を、図示の実施形態に基づいて説明したが、本発明はこれらに限定されるものでない。
In addition to the personal computer (mobile personal computer) of FIG. 5, the mobile phone of FIG. 6, and the digital still camera of FIG. 7, the electronic apparatus of the present invention includes, for example, a television, a video camera, a viewfinder type, Monitor direct-view video tape recorder, laptop personal computer, car navigation system, pager, electronic notebook (including communication function), electronic dictionary, calculator, electronic game device, word processor, workstation, video phone, security TV Monitors, electronic binoculars, POS terminals, devices equipped with touch panels (for example, cash dispensers and automatic ticket vending machines for financial institutions), medical devices (for example, electronic thermometers, blood pressure monitors, blood glucose meters, electrocardiographs, ultrasound diagnostic devices, internal Endoscope display device), fish finder, various measuring instruments, Vessels such (e.g., gages for vehicles, aircraft, and ships), a flight simulator, various monitors, and a projection display such as a projector.
As described above, the film forming ink, the film forming method, the droplet discharge device, the light emitting element manufacturing method, the light emitting element, the light emitting device, and the electronic apparatus according to the present invention have been described based on the illustrated embodiments. It is not limited to.
例えば、前述した実施形態では、発光素子が3層の発光層を有するものについて説明したが、発光層が1層または2層であってもよいし4層以上であってもよい。例えば、前述した実施形態において、発光素子の発光層の1層または2層を省略してもよいし、他の1層以上の発光層を追加してもよい。また、発光層の発光色としては、前述した実施形態のR、G、Bに限定されない。 For example, in the above-described embodiment, the light emitting element has three light emitting layers. However, the light emitting layer may be one layer, two layers, or four or more layers. For example, in the embodiment described above, one or two light emitting layers of the light emitting element may be omitted, or one or more other light emitting layers may be added. Further, the emission color of the light emitting layer is not limited to R, G, and B in the above-described embodiment.
また、前述した実施形態では、発光装置をディスプレイ装置に組み込んだ例を説明したが、本発明の発光装置は、これに限定されず、例えば、エレクトロクロミック調光ガラス、電子ペーパー、照明装置、電子写真方式のプリンターの露光装置の光源として用いることも可能である。
また、前述した実施形態では、本発明の成膜用インクおよび成膜方法を有機EL素子の製造に適用した場合を例に説明したが、本発明の成膜用インクおよび成膜方法は、これに限定されず、π共役系加工物を含む成膜材料を用いる各種成膜に適用可能である。
In the above-described embodiment, the example in which the light-emitting device is incorporated in the display device has been described. However, the light-emitting device of the present invention is not limited to this, for example, electrochromic light control glass, electronic paper, lighting device, electronic It can also be used as a light source for an exposure apparatus of a photographic printer.
Further, in the above-described embodiment, the case where the film-forming ink and the film-forming method of the present invention are applied to the manufacture of an organic EL element has been described as an example. However, the present invention can be applied to various film formation using a film formation material including a π-conjugated system workpiece.
次に、本発明の具体的実施例について説明する。
1.発光素子の製造
(参考例1)
<1> まず、平均厚さ0.5mmの透明なガラス基板を用意した。次に、この基板上に、スパッタ法により、平均厚さ100nmのITO電極(陽極)を形成した。
そして、基板をアセトン、2−プロパノールの順に浸漬し、超音波洗浄した後、酸素プラズマ処理を施した。
Next, specific examples of the present invention will be described.
1. Production of light emitting device ( Reference Example 1)
<1> First, a transparent glass substrate having an average thickness of 0.5 mm was prepared. Next, an ITO electrode (anode) having an average thickness of 100 nm was formed on the substrate by sputtering.
And after immersing a board | substrate in order of acetone and 2-propanol and ultrasonically cleaning, the oxygen plasma process was performed.
<2> 次に、ITO電極上に、平均厚さ50nmの正孔注入層を形成した。
この正孔注入層は、正孔注入層形成用の成膜用インクを液滴吐出法によりITO電極上に付与し、真空乾燥後に、窒素雰囲気下で150℃、30分で加熱処理(焼成処理)することにより形成した。
正孔注入層形成用の成膜用インクは、成膜材料としてPEDOT/PSSを用い、液性媒体(分散媒)として水およびイソプロピルアルコールを用いた。
<2> Next, a hole injection layer having an average thickness of 50 nm was formed on the ITO electrode.
This hole injection layer is formed by applying a film-forming ink for forming a hole injection layer onto the ITO electrode by a droplet discharge method, and after vacuum drying, heat treatment (baking treatment) in a nitrogen atmosphere at 150 ° C. for 30 minutes. ) To form.
In the film forming ink for forming the hole injection layer, PEDOT / PSS was used as the film forming material, and water and isopropyl alcohol were used as the liquid medium (dispersion medium).
<3> 次に、正孔注入層上に、平均厚さ50nmの正孔輸送層を形成した。
この正孔輸送層は、正孔輸送層形成用の成膜用インクを図2に示すような液滴吐出装置を用いた液滴吐出法により正孔注入層上に付与し、真空乾燥後に、窒素雰囲気下で180℃、1時間で加熱処理(焼成処理)することにより形成した。得られた層(正孔輸送層)は、有機媒体に不要なものとなった。
<3> Next, a hole transport layer having an average thickness of 50 nm was formed on the hole injection layer.
The hole transport layer, a film for in-click for hole transport layer formation was applied on the hole injection layer by a droplet discharge method of the droplet discharge device used as shown in FIG. 2, after vacuum drying It was formed by heat treatment (baking treatment) at 180 ° C. for 1 hour in a nitrogen atmosphere. The obtained layer (hole transport layer) became unnecessary for the organic medium.
正孔輸送層形成用の成膜用インクは、成膜材料としてTFB(0.4wt%)を用い、液性媒体(溶媒)として前記式(1)に示す化合物である1,2−ジプロピルベンゼン(nは、それぞれ3である)を用いた。また、かかる成膜用インクの粘度は、2.0cPであった。
なお、上記1,2−ジプロピルベンゼンは、前記式(I)において、R1、R2がそれぞれ炭素数3の直鎖アルキル基であり、R3、R4、R5、R6がそれぞれ水素である。
このような成膜用インクは、正孔注入層上に付与したところ、均一に濡れ拡がらせることができた。
The film forming ink for forming the hole transport layer uses TFB (0.4 wt%) as a film forming material and 1,2-dipropyl which is a compound represented by the above formula (1) as a liquid medium (solvent). Benzene (n is 3 each) was used. Further, the viscosity of the film-forming ink was 2.0 cP.
In the above formula (I), R 1 and R 2 are each a linear alkyl group having 3 carbon atoms, and R 3 , R 4 , R 5 , and R 6 are each represented by the above 1,2-dipropylbenzene. Hydrogen.
When such a film-forming ink was applied on the hole injection layer, it could be spread uniformly.
<4> 次に、正孔輸送層上に、平均厚さ60nmの緑色発光層(第1の発光層)を形成した。
この緑色発光層は、緑色発光層形成用の成膜用インクを液滴吐出法により正孔輸送層上に付与し、真空乾燥後に、130℃、30分で加熱処理(焼成処理)することにより形成した。
緑色発光層形成用の成膜用インクは、成膜材料として緑色発光材料であるF8BT(1.5wt%)を用い、液性媒体(溶媒)としてシクロヘキシルベンゼンを用いた。
<4> Next, a green light emitting layer (first light emitting layer) having an average thickness of 60 nm was formed on the hole transport layer.
This green light-emitting layer is formed by applying a film-forming ink for forming a green light-emitting layer onto the hole transport layer by a droplet discharge method, followed by heat treatment (baking treatment) at 130 ° C. for 30 minutes after vacuum drying. Formed.
In the film forming ink for forming the green light emitting layer, F8BT (1.5 wt%) which is a green light emitting material was used as a film forming material, and cyclohexylbenzene was used as a liquid medium (solvent).
<5> 次に、緑色発光層上に、真空蒸着法(真空度1.33×10−4Pa)を用いて、平均厚さ10nmのBa層および平均厚さ200nmのAl層を順次積層して、これらの積層体で構成された陰極を形成した。
以上の工程により、発光素子を製造した。
(実施例)
正孔輸送層の形成に際し、液性媒体(溶媒)として、1,2−ジプロピルベンゼンに代えて、前記式(1)に示す化合物である1,2−ジブチルベンゼン(nは、それぞれ4である)を用いた以外は、前述した参考例1と同様にして発光素子を製造した。
なお、上記1,2−ジブチルベンゼンは、前記式(I)において、R1、R2がそれぞれ炭素数4の直鎖アルキル基であり、R3、R4、R5、R6がそれぞれ水素である。
<5> Next, a Ba layer having an average thickness of 10 nm and an Al layer having an average thickness of 200 nm are sequentially stacked on the green light-emitting layer using a vacuum deposition method (degree of vacuum 1.33 × 10 −4 Pa). Thus, a cathode composed of these laminates was formed.
The light emitting device was manufactured through the above steps.
( Example )
In forming the hole transport layer, instead of 1,2-dipropylbenzene, 1,2-dibutylbenzene (n is 4 in each case) as a liquid medium (solvent) instead of 1,2-dipropylbenzene. A light-emitting device was manufactured in the same manner as in Reference Example 1 described above except that (A) was used.
In the above formula (I), R 1 and R 2 are each a linear alkyl group having 4 carbon atoms, and R 3 , R 4 , R 5 and R 6 are each hydrogen. It is.
(参考例2)
正孔輸送層の形成に際し、液性媒体(溶媒)として、1,2−ジプロピルベンゼンに代えて、前記式(2)に示す化合物である1,2,4−トリメチルベンゼン(nは、それぞれ1である)を用いた以外は、前述した参考例1と同様にして発光素子を製造した。
なお、上記1,2,4−トリメチルベンゼンは、前記式(I)において、R1、R2、R4がそれぞれ炭素数1のアルキル基であり、R3、R5、R6がそれぞれ水素である。
( Reference Example 2 )
In forming the hole transport layer, instead of 1,2-dipropylbenzene, 1,2,4-trimethylbenzene (n is a compound represented by the above formula (2)) as a liquid medium (solvent). 1 was used in the same manner as in Reference Example 1 described above except that 1 was used.
In the above formula (I), R 1 , R 2 , and R 4 are each an alkyl group having 1 carbon atom, and R 3 , R 5 , and R 6 are each hydrogen. It is.
(参考例3)
正孔輸送層の形成に際し、液性媒体(溶媒)として、1,2−ジプロピルベンゼンに代えて、前記式(2)に示す化合物である1,2,3−トリメチルベンゼン(nは、それぞれ1である)を用いた以外は、前述した参考例1と同様にして発光素子を製造した。
なお、上記1,2,3−トリメチルベンゼンは、前記式(I)において、R1、R2、R3がそれぞれ炭素数1のアルキル基であり、R4、R5、R6がそれぞれ水素である。
( Reference Example 3 )
In forming the hole transport layer, instead of 1,2-dipropylbenzene, 1,2,3-trimethylbenzene (n is a compound represented by the above formula (2)) as a liquid medium (solvent). 1 was used in the same manner as in Reference Example 1 described above except that 1 was used.
In the above formula (I), R 1 , R 2 and R 3 are each an alkyl group having 1 carbon atom, and R 4 , R 5 and R 6 are each hydrogen. It is.
(参考例4)
正孔輸送層の形成に際し、液性媒体(溶媒)として、1,2−ジプロピルベンゼンに代えて、前記式(3)に示す化合物である1,2,3,4−テトラメチルベンゼン(nは、それぞれ1である)を用いた以外は、前述した参考例1と同様にして発光素子を製造した。
なお、上記1,2,3,4−テトラメチルベンゼンは、前記式(I)において、R1、R2、R3、R4がそれぞれ炭素数1のアルキル基であり、R5、R6がそれぞれ水素である。
( Reference Example 4 )
In forming the hole transport layer, instead of 1,2-dipropylbenzene, 1,2,3,4-tetramethylbenzene (n) which is a compound represented by the above formula (3) is used as a liquid medium (solvent). Are each 1), and a light emitting device was produced in the same manner as in Reference Example 1 described above.
Incidentally, the 1,2,3,4-tetramethyl benzene, in the formula (I), is R 1, R 2, R 3 , R 4 are each an alkyl group having 1 carbon atom, R 5, R 6 Are each hydrogen.
(参考例5)
正孔輸送層の形成に際し、液性媒体(溶媒)として、1,2−ジプロピルベンゼンに代えて、1,3,5−トリメチルベンゼンを用いた以外は、前述した参考例1と同様にして発光素子を製造した。
なお、上記1,3,5−トリメチルベンゼンは、前記式(I)において、R1、R3、R5がそれぞれ炭素数1のアルキル基であり、R2、R4、R6がそれぞれ水素である。
(Reference Example 5 )
In the formation of the hole transport layer, the same procedure as in Reference Example 1 was used except that 1,3,5-trimethylbenzene was used as the liquid medium (solvent) instead of 1,2-dipropylbenzene. A light emitting device was manufactured.
In the above-mentioned 1,3,5-trimethylbenzene, in the formula (I), R 1 , R 3 and R 5 are each an alkyl group having 1 carbon atom, and R 2 , R 4 and R 6 are each hydrogen. It is.
(参考例6)
正孔輸送層の形成に際し、液性媒体(溶媒)として、1,2−ジプロピルベンゼンに代えて、1,3,5−トリエチルベンゼンを用いた以外は、前述した参考例1と同様にして発光素子を製造した。
なお、上記1,3,5−トリエチルベンゼンは、前記式(I)において、R1、R3、R5がそれぞれ炭素数2のアルキル基であり、R2、R4、R6がそれぞれ水素である。
(Reference Example 6 )
In the formation of the hole transport layer, the same procedure as in Reference Example 1 was used except that 1,3,5-triethylbenzene was used instead of 1,2-dipropylbenzene as the liquid medium (solvent). A light emitting device was manufactured.
The 1,3,5-triethylbenzene is represented by the formula (I) wherein R 1 , R 3 and R 5 are each an alkyl group having 2 carbon atoms, and R 2 , R 4 and R 6 are each hydrogen. It is.
(参考例7)
正孔輸送層の形成に際し、液性媒体(溶媒)として、1,2−ジプロピルベンゼンに代えて、1,2,3,5−テトラメチルベンゼンを用いた以外は、前述した参考例1と同様にして発光素子を製造した。
なお、上記1,2,3,5−テトラメチルベンゼンは、前記式(I)において、R1、R2、R3、R5がそれぞれ炭素数1のアルキル基であり、R4、R6がそれぞれ水素である。
(Reference Example 7 )
Upon formation of the hole transport layer, a liquid medium (solvent), in place of 1,2-propylbenzene, except for using 1,2,3,5-tetramethyl benzene, and Reference Example 1 described above A light emitting device was manufactured in the same manner.
The 1,2,3,5-tetramethylbenzene in the formula (I), R 1 , R 2 , R 3 and R 5 are each an alkyl group having 1 carbon atom, and R 4 , R 6 Are each hydrogen.
(参考例8)
正孔輸送層の形成に際し、液性媒体(溶媒)として、1,2−ジプロピルベンゼンに代えて、1,2,4,5−テトラメチルベンゼンを用いた以外は、前述した参考例1と同様にして発光素子を製造した。
なお、上記1,2,4,5−テトラメチルベンゼンは、前記式(I)において、R1、R2、R4、R5がそれぞれ炭素数1のアルキル基であり、R3、R6がそれぞれ水素である。
(比較例)
正孔輸送層の形成に際し、液性媒体(溶媒)として、1,2−ジプロピルベンゼンに代えて、シクロヘキシルベンゼンを用いた以外は、前述した実施例1と同様にして発光素子を製造した。
(Reference Example 8 )
Upon formation of the hole transport layer, a liquid medium (solvent), in place of 1,2-propylbenzene, except for using 1,2,4,5-tetramethyl benzene, and Reference Example 1 described above A light emitting device was manufactured in the same manner.
The 1,2,4,5-tetramethylbenzene in the formula (I) is such that R 1 , R 2 , R 4 , and R 5 are each an alkyl group having 1 carbon atom, and R 3 , R 6 Are each hydrogen.
(Comparative example)
In forming the hole transport layer, a light emitting device was produced in the same manner as in Example 1 except that cyclohexylbenzene was used instead of 1,2-dipropylbenzene as the liquid medium (solvent).
2.評価
各参考例、実施例および比較例の発光素子に対して、それぞれ、陽極と陰極との間に直流電源により電流密度10mA/cm2の電流を流し、発光層中を流れる正孔および電子の量、および、電流効率を測定した。
その結果を表1に示す。なお、表1では、比較例の測定結果を基準(1)として規格化して、各参考例および実施例の測定結果を示している。
2. Evaluation For each light emitting device of each reference example, example and comparative example, a current of 10 mA / cm 2 was passed between the anode and the cathode by a direct current power source, and holes and electrons flowing in the light emitting layer were respectively passed. Quantity and current efficiency were measured.
The results are shown in Table 1. In Table 1, the measurement results of the comparative examples are normalized as the reference (1), and the measurement results of the respective reference examples and examples are shown.
表1から明らかなように、実施例および各参考例の発光素子は、いずれも、比較例の発光素子に比し、正孔の輸送能が抑えられ、電流効率が向上していることがわかる。
また、実施例と各参考例の比較により、液性媒体に含まれる化合物の非対称性が高いほど、正孔の輸送能が抑えられ、電流効率が向上していることがわかる。
As is evident from Table 1, the actual施例and the light emitting element of each Example are all, compared to the light emitting device of the comparative example, the hole transport ability is suppressed, that the current efficiency is improved Recognize.
Furthermore, by comparing the actual施例each reference example, the higher the asymmetry of the compound contained in the liquid medium, a hole transport ability is suppressed, it can be seen that the current efficiency is improved.
1‥‥発光素子 1B‥‥発光素子 1G‥‥発光素子 1R‥‥発光素子 2‥‥基板 3‥‥陽極 4‥‥正孔注入層 5‥‥正孔輸送層 6‥‥赤色発光層 7A‥‥第1の中間層 7B‥‥第2の中間層 8‥‥青色発光層 9‥‥緑色発光層 10‥‥電子輸送層 11‥‥電子注入層 12‥‥陰極 13‥‥封止部材 15‥‥積層体 19B‥‥カラーフィルタ 19G‥‥カラーフィルタ 19R‥‥カラーフィルタ 20‥‥基板 21‥‥基板 22‥‥平坦化層 24‥‥駆動用トランジスタ 27‥‥導電部(配線) 31‥‥隔壁 32‥‥反射膜 33‥‥腐食防止膜 34‥‥陰極カバー 35‥‥エポキシ層 36‥‥遮光層 100‥‥ディスプレイ装置 100R、100G、100B‥‥サブ画素 101‥‥発光装置 110‥‥ヘッド 111‥‥ヘッド本体 112‥‥振動板 113‥‥ピエゾ素子 114‥‥本体 115‥‥ノズルプレート 115P‥‥インク吐出面 116‥‥リザーバ 117‥‥インク室 118‥‥ノズル 130‥‥ベース 140‥‥テーブル 170‥‥テーブル位置決め手段 171‥‥第1移動手段 172‥‥モータ 180‥‥ヘッド位置決め手段 181‥‥第2移動手段 182‥‥リニアモータ 183、184、185‥‥モータ 190‥‥制御装置 191‥‥駆動回路 200‥‥液滴吐出装置 241‥‥半導体層 242‥‥ゲート絶縁層 243‥‥ゲート電極 244‥‥ソース電極 245‥‥ドレイン電極 300‥‥成膜用インク 1100‥‥パーソナルコンピュータ 1102‥‥キーボード 1104‥‥本体部 1106‥‥表示ユニット 1200‥‥携帯電話機 1202‥‥操作ボタン 1204‥‥受話口 1206‥‥送話口 1300‥‥ディジタルスチルカメラ 1302‥‥ケース 1304‥‥受光ユニット 1306‥‥シャッタボタン 1308‥‥回路基板 1312‥‥ビデオ信号出力端子 1314‥‥入出力端子 1430‥‥テレビモニタ 1440‥‥パーソナルコンピュータ
DESCRIPTION OF
Claims (6)
前記成膜材料を溶解または分散させる液性媒体とを含み、
前記液性媒体は、1,2−ジブチルベンゼンを含むことを特徴とする成膜用インク。 a film-forming material containing a π-conjugated compound;
A liquid medium for dissolving or dispersing the film-forming material,
The film-forming ink, wherein the liquid medium contains 1,2-dibutylbenzene .
前記成膜用インクから前記液性媒体を除去して、膜を形成する工程とを有することを特徴とする成膜方法。 Applying the film-forming ink according to any one of claims 1 to 4 on a substrate;
And a step of forming a film by removing the liquid medium from the film-forming ink.
前記成膜用インクから前記液性媒体を除去して、膜を形成する工程とを有することを特徴とする発光素子の製造方法。 Applying the film-forming ink according to any one of claims 1 to 4 on a substrate;
And a step of forming a film by removing the liquid medium from the film-forming ink.
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