JP5469210B2 - フィルムの製造方法 - Google Patents
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Description
(式中、
R1、R2、R3、R4、R5、R6、R7は同一又は異なってもよく、水素原子、ハロゲン原子、アルキル基、ハロゲン化アルキル基又はフェニル基であり、
−(O−X−O)−は構造式(2)で示され、ここで、R8、R9、R10、R14、R15は、同一又は異なってもよく、ハロゲン原子又は炭素数6以下のアルキル基又はフェニル基であり、R11、R12、R13は、同一又は異なってもよく、水素原子、ハロゲン原子又は炭素数6以下のアルキル基又はフェニル基であり、
−(Y−O)−は構造式(3)で示される1種類の構造、又は構造式(3)で示される2種類以上の構造がランダムに配列したものであり、ここで、R16、R17は同一又は異なってもよく、ハロゲン原子又は炭素数6以下のアルキル基又はフェニル基であり、R18、R19は同一又は異なってもよく、水素原子、ハロゲン原子又は炭素数6以下のアルキル基又はフェニル基であり、
Zは炭素数1以上の有機基であり、場合により酸素原子、窒素原子、硫黄原子、ハロゲン原子を含むこともあり、
a、bは少なくともいずれか一方が0でない、0〜300の整数を示し、
c、dは0又は1の整数を示す。)
(ii)ゴム及び/又は熱可塑性エラストマーと、
を含む上記の製造方法に関する。
本発明において使用されるワニスは、フィルム形成能があり、かつ硬化後に絶縁性を示す樹脂材料を含む。
R2は、同一であっても、異なっていてもよく、炭素数1〜10の炭化水素基又はハロゲン原子であり;
R3は、水素原子、炭素数1〜10の炭化水素基又はハロゲン原子であり、;
qは、同一であっても、異なっていてもよく、0〜5の整数であり;
R1は、同一であっても、異なっていてもよく、炭素数1〜10の炭化水素基又はハロゲン原子であり;
pは、同一であっても、異なっていてもよく、0〜4の整数であり;
nは、平均値を表し、25〜500である、エポキシ樹脂が挙げられる。
R6は、同一であっても、異なっていてもよく、炭素数1〜5のアルキル基、置換若しくは非置換のフェニル基、置換若しくは非置換のアラルキル基、アルコキシ基又はハロゲン原子であり、
R7は、同一であっても、異なっていてもよく、炭素数1〜5のアルキル基、置換若しくは非置換のフェニル基、置換若しくは非置換のアラルキル基、アルコキシ基又はハロゲン原子であり、
rは、同一であっても、異なっていてもよく、0〜3の整数であり、
sは、同一であっても、異なっていてもよく、0〜3の整数であり、
n:mは、1:1〜1.2:1であることができる、変性フェノールノボラックが挙げられる。
(式中、
R1、R2、R3、R4、R5、R6、R7は同一又は異なってもよく、水素原子、ハロゲン原子、アルキル基、ハロゲン化アルキル基又はフェニル基であり、
−(O−X−O)−は構造式(2)で示され、ここで、R8、R9、R10、R14、R15は、同一又は異なってもよく、ハロゲン原子又は炭素数6以下のアルキル基又はフェニル基であり、R11、R12、R13は、同一又は異なってもよく、水素原子、ハロゲン原子又は炭素数6以下のアルキル基又はフェニル基であり、
−(Y−O)−は構造式(3)で示される1種類の構造、又は構造式(3)で示される2種類以上の構造がランダムに配列したものであり、ここで、R16、R17は同一又は異なってもよく、ハロゲン原子又は炭素数6以下のアルキル基又はフェニル基であり、R18、R19は同一又は異なってもよく、水素原子、ハロゲン原子又は炭素数6以下のアルキル基又はフェニル基であり、
Zは炭素数1以上の有機基であり、場合により酸素原子、窒素原子、硫黄原子、ハロゲン原子を含むこともあり、
a、bは少なくともいずれか一方が0でない、0〜300の整数を示し、
c、dは0又は1の整数を示す。)
(ii)ゴム及び/又は熱可塑性エラストマーとを含む。
本発明の製造方法における支持体は、特に限定されず、例えば、ポリエステルフィルム、ポリエチレンフィルム、ポリプロピレンフィルム、ポリイミドフィルム、ナイロンフィルム、ポリ塩化ビニルフィルム等が挙げられる。好ましくは、ポリエステルフィルム、特にPETフィルムである。支持体の厚みは、作業性の点から、好ましくは10〜100μmであり、より好ましくは10〜50μmであり、例えば25μm及び38μmとすることができる。支持体は、適宜、シリコーン化合物等で離型処理されていることができる。
本発明の製造方法においては、マイクログラビア法で、ワニスを支持体上に塗布する。一般に、マイクログラビア法は、キス方式であり、かつ支持体の進行方向に対して、直径約20〜50mmのグラビアロールがリバース回転する塗布方式であり、具体的には、特公平5−53553号公報に開示の技術が基本となっている。
本発明の製造方法においては、支持体にワニスを塗布した後に乾燥させて絶縁材層を支持体上に形成することができる。
上記のようにして得られた絶縁材フィルムは、通常、90μm以下の絶縁材層を有し、絶縁材層の厚みの均一性にも優れるものである。マイクログラビア法において通常、問題となるのは連続長さ方向の厚みの均一性であり、均一性は連続長さ方向の厚みの平均値に対する、平均値からの最大の乖離幅で評価することができる。ここでは、平均値に対する最大の乖離幅を%表示した値をばらつきということとする。本発明の製造方法においては、厚みが10μm以上の場合は、ばらつき3%以内にすることができ、10μm未満でもばらつきを5%以内とすることができる。
表1に示す配合で各成分を混合し、さらに溶剤としてメチルエチルケトンを用いて、固形分濃度が3、15、30、62、80、90及び95重量%のワニスを調製した。
表3に示す配合で各成分を混合し、さらに溶剤としてメチルエチルケトンを用いて、固形分濃度が30重量%のワニスを調製した。
実施例2で使用したワニスについて、マイクログラビアコーター(康井精機社製)を用いて、表4に示す条件で、支持体(離型剤付PETフィルム)に塗布した。次いで、90℃で乾燥させて、絶縁材フィルムを得た。絶縁材層の厚みを測定し、厚み及びばらつきを算出した。測定及び算出方法は上記と同様である。測定及び算出方法は上記と同様である。結果を表4に示す。あわせて、長さ連続方向の厚みのプロファイルを図3に示す。表4及び図3に示されるように、実施例3の絶縁材層は均一性に優れていた。
2 絶縁材層
3 保護フィルム
4 第一の被着体
5 第二の被着体
Claims (7)
- 支持体上に、マイクログラビア法により、ワニスを塗布し、次いで乾燥させて絶縁材層を形成することを含む絶縁材フィルムの製造方法において、
ワニスが、(I)フェノール骨格とビフェニル骨格を有するノボラック型エポキシ樹脂、及び重量平均分子量が10,000〜200,000であり、かつ水酸基を有する二官能性直鎖状エポキシ樹脂よりなる群から選択される1種以上のエポキシ樹脂と、(II)フェノール性水酸基の少なくとも一部を脂肪酸でエステル化した変性フェノールノボラックを含み、かつ粘度1〜10,000mPa・sであり、
マイクログラビア法が、キス方式であり、かつグラビアロ―ルがリバース回転する方式であって、支持体の走行速度S(m/分)に対するグラビアロールの回転速度G(m/分)の比率G/Sが、0.75以上であることを特徴とする製造方法。 - ワニスが、(III)イソシアナート化合物を含む、請求項1記載の製造方法。
- 比率G/Sが、1〜6である、請求項1又は2記載の製造方法。
- 支持体の走行速度Sが、0.3〜2.5m/分である、請求項1〜3のいずれか1項記載の製造方法。
- ワニスが、粘度100〜600mPa・sである、請求項1〜4のいずれか1項記載の製造方法。
- ワニスが、固形分濃度1〜95重量%である、請求項1〜5のいずれか1項記載の製造方法。
- 請求項1〜6のいずれか1項記載の製造方法により得られる絶縁材フィルム。
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