JP5445474B2 - Metal pattern manufacturing method - Google Patents

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Description

本発明は、新規の金属パターンの製造方法に関するものである。   The present invention relates to a novel metal pattern manufacturing method.

従来、金属パターンを形成する製造方法としては、基板上に金属箔を貼り付けた金属張積層板が用いられている。もっとも多い方法は、基板と金属(主に、銅)箔の間に接着層を設けたプリント用基板であり、この接着層に密着性や柔軟性の特性を付与した樹脂を採用している。しかしながら、この接着層を形成した後には、金属箔を熱プレスで貼り合わせる工程、フォトリソで金属パターンを形成する工程等が必要となるため、工程が複雑になる、フォトリソ工程で多量の樹脂と金属箔をエッジングするため、工数、コストが余分に掛かる課題があった(例えば、特許文献1参照。)。   Conventionally, as a manufacturing method for forming a metal pattern, a metal-clad laminate in which a metal foil is pasted on a substrate is used. The most common method is a printed circuit board in which an adhesive layer is provided between the substrate and a metal (mainly copper) foil, and a resin imparted with adhesiveness and flexibility characteristics is employed for this adhesive layer. However, after forming this adhesive layer, a process of laminating a metal foil with a hot press, a process of forming a metal pattern with photolithography, etc. are required, which complicates the process, and a large amount of resin and metal are used in the photolithography process. Since the foil is edged, there is a problem that man-hours and costs are excessive (see, for example, Patent Document 1).

近年、平均粒径が100nm以下の、いわゆる金属ナノ粒子を含有するインクを用い、スクリーン印刷法やインクジェット印刷法などを用いて、金属パターンを直接描画する金属パターン形成方法に注目が集まっている。   In recent years, attention has been focused on a metal pattern forming method in which a metal pattern is directly drawn using an ink containing a so-called metal nanoparticle having an average particle size of 100 nm or less, using a screen printing method, an ink jet printing method, or the like.

この金属パターン形成方法は、金属ナノ粒子の粒径を極小にすることで融点が低下することを利用し、200〜300℃程度の温度で焼成することにより、回路を形成する方法である。この技術は、確かに工数の低減、原材料の利用効率向上などの利点はあるものの、金属ナノ粒子同士を完全に融合させることが難しく、焼成後の金属パターンにおいて電気抵抗を下げるための後処理において、温度や条件に厳しい制約があるという課題が残っていた。   This metal pattern formation method is a method of forming a circuit by firing at a temperature of about 200 to 300 ° C. utilizing the fact that the melting point is lowered by minimizing the particle size of the metal nanoparticles. Although this technology certainly has advantages such as reduced man-hours and improved utilization efficiency of raw materials, it is difficult to completely fuse metal nanoparticles together, and in post-processing to lower the electrical resistance in the fired metal pattern The problem of severe restrictions on temperature and conditions remained.

金属ナノ粒子を用いずに、金属塩を使用してインク中で金属イオンの形態にし、加熱下で還元性を有する還元剤を含有する溶液から導電パターンを形成する方法がある。しかしながら、金属塩に配位して安定化させる錯化剤が十分な性能を有していないため、金属塩の還元反応が進行しやすくなり、溶液保存性に乏しいものになっていた。   There is a method of forming a conductive pattern from a solution containing a reducing agent having a reducing property under heating by using a metal salt in the form of metal ions in an ink without using metal nanoparticles. However, since the complexing agent that coordinates and stabilizes the metal salt does not have sufficient performance, the reduction reaction of the metal salt tends to proceed and the solution storage stability is poor.

一方、金属を穏和な条件で生成析出させる手段として、無電解めっき技術を活用して金属パターンを形成する方法も提案されている。例えば、無電解めっきが可能となる触媒を含有したインクで回路パターンを形成させた後、無電解めっき処理で金属パターンを形成させる方法が開示されている(例えば、特許文献2、非特許文献1参照。)。   On the other hand, as a means for forming and depositing metal under mild conditions, a method of forming a metal pattern by utilizing an electroless plating technique has also been proposed. For example, a method is disclosed in which a circuit pattern is formed with an ink containing a catalyst capable of electroless plating, and then a metal pattern is formed by electroless plating (for example, Patent Document 2 and Non-Patent Document 1). reference.).

上記開示されているいずれの方法も、触媒(前駆体)をインクに含有させて、そのインクを基板に印字させてパターン形成を行い、その後に活性化処理、無電解めっきを行って、触媒パターン上に金属パターンを形成させる方法である。しかしながら、インクの吸収性を全く備えていない基板上に直接インク滴を付与した後、無電解めっきにより金属パターンを形成させるため、基板と形成した金属パターンとの密着性は不十分なものであった。   In any of the methods disclosed above, a catalyst (precursor) is contained in an ink, the ink is printed on a substrate to form a pattern, and then an activation process and electroless plating are performed to form a catalyst pattern. This is a method of forming a metal pattern on the top. However, since a metal pattern is formed by electroless plating after ink droplets are directly applied on a substrate that does not have ink absorbability at all, the adhesion between the substrate and the formed metal pattern is insufficient. It was.

また、基板上にアンカー層としてポリマー層を設置して、触媒液に浸漬した後に、無電解めっきにて金属パターンを形成する方法も開示されている(例えば、特許文献3参照。)。   Also disclosed is a method of forming a metal pattern by electroless plating after placing a polymer layer as an anchor layer on a substrate and immersing it in a catalyst solution (see, for example, Patent Document 3).

この方法では、水系触媒液によりアンカー層の表面領域に触媒を存在させることにより、密着性と触媒吸着性(無電解めっき性)を付与させたプリント基板を提案している。しかしながら、高価な金属を多量に含有する触媒液を基板全体に浸漬させること、後で不必要な金属部分のエッジング処理が必要となるため、製造コストで非常に高い。   This method proposes a printed circuit board that is provided with adhesion and catalyst adsorptivity (electroless plating property) by causing a catalyst to be present in the surface region of the anchor layer with an aqueous catalyst solution. However, since the catalyst solution containing a large amount of expensive metal is immersed in the entire substrate and unnecessary edging treatment of the metal portion is required later, the manufacturing cost is very high.

また、水系触媒液の触媒溶解性と触媒液保存性に乏しく、この課題を解決する目的で酸が添加されている。しかしながら、触媒液をインクジェットヘッドにて印刷するような使用方法では、溶解性、保存性が不十分であり、場合によってはヘッド部材にダメージを与える問題点があった。   Further, the catalyst solubility and catalyst solution storage stability of the aqueous catalyst solution are poor, and an acid is added for the purpose of solving this problem. However, in the usage method in which the catalyst liquid is printed by the ink jet head, the solubility and the storage stability are insufficient, and there is a problem that the head member is damaged in some cases.

また、上記インクでインクジェット印字しようとしても、ハジキや濡れ広がりが発生し、特に細線再現性には乏しいものとなってしまう。   Further, even if ink jet printing is performed with the above ink, repelling or wetting spread occurs, and the fine line reproducibility is particularly poor.

特開2006−265444号公報JP 2006-265444 A 特開平7−131135号公報JP 7-131135 A 特開2010−138475号公報JP 2010-138475 A

第21回エレクトロニクス実装学会講演大会講演文集p.105(2007年)Proceedings of the 21st Electronics Packaging Society Conference p. 105 (2007)

本発明は、上記課題に鑑みなされたものであり、その目的は、フォトリソ工程なしで、簡易・安価な工程で、触媒液保存性及びヘッド出射性に優れたインクを用いて、無電解めっき性及び細線再現性に優れた金属パターンを形成することができる金属パターンの製造方法を提供することにある。   The present invention has been made in view of the above-mentioned problems, and the object thereof is an electroless plating property using an ink excellent in catalyst solution storage stability and head emission property in a simple and inexpensive process without a photolithography process. Another object of the present invention is to provide a method for producing a metal pattern capable of forming a metal pattern excellent in fine line reproducibility.

本発明の上記目的は、以下の構成により達成される。   The above object of the present invention is achieved by the following configurations.

1.基板の上にポリマーを含むアンカー層を形成した後、該アンカー層上に無電解めっきの触媒またはその前駆体と溶媒とを含有するインクをインクジェット法により付与し、無電解めっき処理によって金属パターンを形成する金属パターンの製造方法において、該アンカー層の表面側領域(該基板の接触面とは反対側の面)における触媒またはその前駆体の平均濃度をDとし、該アンカー層の該基板との界面側領域における触媒またはその前駆体の平均濃度をDとしたとき、D>D×5の関係を満たし、かつ該インクが該溶媒として水を含有しない非水系インクであることを特徴とする金属パターンの製造方法。 1. After forming an anchor layer containing a polymer on a substrate, an ink containing an electroless plating catalyst or a precursor thereof and a solvent is applied on the anchor layer by an ink jet method, and a metal pattern is formed by electroless plating treatment. in the manufacturing method of forming metal patterns, the average concentration of the catalyst or its precursor on the surface side region of the anchor layer (the surface opposite to the contact surface of the substrate) and D 1, and the substrate of the anchor layer when the average concentration of the catalyst or its precursor was D 2 in the interface side region, satisfy the relation of D 1> D 2 × 5, and that the ink is a non-aqueous ink containing no water as the solvent A method for producing a metal pattern.

2.前記触媒またはその前駆体が、パラジウム金属塩であることを特徴とする前記1記載の金属パターンの製造方法。   2. 2. The method for producing a metal pattern according to 1 above, wherein the catalyst or a precursor thereof is a palladium metal salt.

3.前記アンカー層が含有するポリマーが、アクリルニトリル成分を有するアクリル酸エステル共重合体であることを特徴とする前記1または2に記載の金属パターンの製造方法。   3. 3. The method for producing a metal pattern according to 1 or 2, wherein the polymer contained in the anchor layer is an acrylate copolymer having an acrylonitrile component.

4.前記アンカー層が、ポリマーとして更にエポキシ樹脂を含有することを特徴とする前記3に記載の金属パターンの製造方法。   4). 4. The method for producing a metal pattern according to 3 above, wherein the anchor layer further contains an epoxy resin as a polymer.

5.前記アンカー層が、触媒またはその前駆体に対する吸着性(配位性)を有する化合物を含有していることを特徴とする前記1から4のいずれか1項に記載の金属パターンの製造方法。   5. 5. The method for producing a metal pattern according to any one of 1 to 4, wherein the anchor layer contains a compound having an adsorptivity (coordination property) to a catalyst or a precursor thereof.

6.前記アンカー層を形成した後、触媒またはその前駆体に対する吸着性(配位性)を有する化合物を該アンカー層表面に付与して、無電解めっきを行うことを特徴とする前記1から5のいずれか1項に記載の金属パターンの製造方法。   6). Any one of 1 to 5 above, wherein after forming the anchor layer, electroless plating is performed by applying a compound having adsorptivity (coordination) to the catalyst or its precursor to the surface of the anchor layer. The method for producing a metal pattern according to claim 1.

7.前記アンカー層は上層及び下層の2層で構成され、上層が触媒またはその前駆体と相互作用する官能基を有するポリマーで構成され、下層が硬化性ポリマーで構成されていることを特徴とする前記1から6のいずれか1項に記載の金属パターンの製造方法。   7). The anchor layer is composed of two layers, an upper layer and a lower layer, the upper layer is composed of a polymer having a functional group that interacts with a catalyst or a precursor thereof, and the lower layer is composed of a curable polymer. The manufacturing method of the metal pattern of any one of 1-6.

8.前記インクが含有する溶媒が、グリコールジエステル類、グリコールジエーテル類、グリコールエーテル・エステル類、3級アルコール類、及びアミド類から選らばれる少なくとも1種の溶媒であることを特徴とする前記1から7のいずれか1項に記載の金属パターンの製造方法。   8). 1 to 7 above, wherein the solvent contained in the ink is at least one solvent selected from glycol diesters, glycol diethers, glycol ethers / esters, tertiary alcohols, and amides. The manufacturing method of the metal pattern of any one of these.

本発明により、フォトリソ工程なしで、簡易・安価な工程で、触媒液保存性及びヘッド出射性に優れたインクを用いて、無電解めっき性及び細線再現性に優れた金属パターンを形成することができる金属パターンの製造方法を提供することができた。   According to the present invention, it is possible to form a metal pattern excellent in electroless plating property and fine line reproducibility using an ink excellent in catalyst solution storage stability and head emission property in a simple and inexpensive process without a photolithography process. The manufacturing method of the metal pattern which can be provided was able to be provided.

以下、本発明を実施するための形態について詳細に説明する。   Hereinafter, embodiments for carrying out the present invention will be described in detail.

本発明者は、上記課題に鑑み鋭意検討を行った結果、基板の上にポリマーを含むアンカー層を形成した後、該アンカー層上に無電解めっきの触媒またはその前駆体と溶媒とを含有するインクをインクジェット法により付与し、無電解めっき処理によって金属パターンを形成する金属パターンの製造方法において、該アンカー層の表面側領域(該基板の接触面とは反対側の面)における触媒またはその前駆体の濃度をDとし、該アンカー層の該基板との界面側領域における触媒またはその前駆体の濃度をDとしたとき、D>D×5の関係を満たし、かつ該インクが該溶媒として水を含有しない非水系インクであることを特徴とする金属パターンの製造方法により、触媒液保存性及びヘッド出射性に優れたインクを用いて、無電解めっき性及び細線再現性に優れた金属パターンを形成することができる金属パターンの製造方法を実現できることを見出し、本発明を完成するに至った次第である。 As a result of intensive studies in view of the above problems, the present inventor has formed an anchor layer containing a polymer on a substrate and then contains an electroless plating catalyst or a precursor thereof and a solvent on the anchor layer. In a metal pattern manufacturing method in which ink is applied by an ink jet method and a metal pattern is formed by an electroless plating process, a catalyst or a precursor thereof in a surface side region of the anchor layer (a surface opposite to the contact surface of the substrate) When the concentration of the body is D 1 and the concentration of the catalyst or its precursor in the region of the anchor layer at the interface side with the substrate is D 2 , the relationship of D 1 > D 2 × 5 is satisfied, and the ink is By using a metal pattern manufacturing method characterized in that it is a non-aqueous ink that does not contain water as the solvent, an ink having excellent catalyst solution storage properties and head emission properties can be used. Method for producing a metal pattern can be formed can and excellent metal pattern reproducibility of fine lines found that can be realized, it is up to the present invention has been completed.

金属パターンの形成に用いられる基板は、一般には、絶縁性のある樹脂、ガラスあるいはセラミックなど、インク(液体)に対して吸収性を全く持たないものとなる。こうした基板へ無電解めっき触媒を含有したインクを付与(印刷や塗布)させ、基板上に金属を形成させても十分な密着性を得ることができない。これは、基板上に金属パターンを形成させる場合、両者は相互作用する機能がほとんど持たないため、密着性も低いものしか得られないためである。   A substrate used for forming a metal pattern generally has no absorbability with respect to ink (liquid) such as insulating resin, glass or ceramic. Even if an ink containing an electroless plating catalyst is applied (printed or applied) to such a substrate to form a metal on the substrate, sufficient adhesion cannot be obtained. This is because when the metal pattern is formed on the substrate, both have almost no function of interacting with each other, so that only those having low adhesion can be obtained.

本発明者は、上記課題に関し鋭意検討した結果、基板上にポリマーからなるアンカー層を設置し、触媒またはその前駆体と溶媒を含有するインク(以下、単に「触媒インク」ともいう。)を、インクジェット法にて印刷してから、無電解めっきにて金属パターンを形成することで達成することを見いだした。   As a result of intensive studies on the above problems, the present inventor has installed an anchor layer made of a polymer on a substrate and contains an ink containing a catalyst or a precursor thereof and a solvent (hereinafter also simply referred to as “catalyst ink”). We have found that this is achieved by forming a metal pattern by electroless plating after printing by an inkjet method.

〔アンカー層の触媒濃度〕
本発明においては、アンカー層の表面側領域(該基板の接触面とは反対側の面)における触媒またはその前駆体の平均濃度をDとし、該アンカー層の該基板との界面側領域における触媒またはその前駆体の平均濃度をDとしたとき、D>D×5の関係を満たすことを一つの特徴とする。
[Catalyst concentration of anchor layer]
In the present invention, the average concentration of the catalyst or its precursor on the surface side region of the anchor layer (the surface opposite to the contact surface of the substrate) and D 1, at the interface side region of the substrate of the anchor layer when the average concentration of the catalyst or its precursor was D 2, and a satisfy the relationship D 1> D 2 × 5.

本発明でいうアンカー層の表面側領域とは、基板上に設けたアンカー層の全膜厚をA(μm)としたとき、アンカー層の表面(該基板の接触面とは反対側の面)から深さ方向でA/2(μm)までの領域をいい、この表面側領域における触媒またはその前駆体の平均濃度をDと定義する。同様に、界面側領域とは、基板との接触面から表面方向にA/2(μm)までの領域をいい、この界面側領域における触媒またはその前駆体の平均濃度をDと定義する。 The surface side region of the anchor layer in the present invention is the surface of the anchor layer (the surface opposite to the contact surface of the substrate) when the total thickness of the anchor layer provided on the substrate is A (μm). It means a region of up to a / 2 (μm) in the depth direction from defines the average concentration of the catalyst or its precursor in the surface side region and D 1. Similarly, the interface side region means a region from the contact surface with the substrate to A / 2 (μm) to the surface direction, defines the average concentration of the catalyst or its precursor in the interface side region and D 2.

本発明において、アンカー層中における触媒またはその前駆体濃度の測定方法としては、ポリマーからなるアンカー層に触媒またはその前駆体と溶媒を含有するインクをインクジェット法にて付与したのち、サンプルを十分に乾燥させる。次いで、アンカー層膜のA/2(μm)の位置で上下になるようスライスして、上層膜である表面側領域と、下層膜である界面側領域に2分割させる。このサンプルを、誘導結合プラズマ−質量分析(ICP−MS)装置を用いて、触媒量(mg)を定量し、サンプル面積に換算することで、触媒の平均濃度D、D(mg/m)を測定する。 In the present invention, as a method for measuring the concentration of the catalyst or its precursor in the anchor layer, an ink containing the catalyst or its precursor and a solvent is applied to the anchor layer made of a polymer by an ink jet method, and then a sample is sufficiently obtained. dry. Next, the anchor layer film is sliced up and down at a position of A / 2 (μm), and is divided into a surface side area as an upper layer film and an interface side area as a lower layer film. This sample was quantified in terms of the amount of catalyst (mg) using an inductively coupled plasma-mass spectrometry (ICP-MS) apparatus and converted into the sample area, whereby the average catalyst concentrations D 1 and D 2 (mg / m 2 ) is measured.

本発明に係るアンカー層の基板との界面側領域に比べ、表面側領域の触媒濃度を高くすることで、アンカー層表面での無電解めっきの進行が良好となる。この結果、インク中の触媒濃度を必要以上に高くする必要がなくなり、高価な触媒量の低減や触媒溶解性や触媒保存安定性も向上する。また、触媒析出等で発生するインク出射不良低減にもなる。   The progress of electroless plating on the surface of the anchor layer is improved by increasing the catalyst concentration in the surface side region as compared with the region on the interface side with the substrate of the anchor layer according to the present invention. As a result, there is no need to increase the catalyst concentration in the ink more than necessary, and the amount of expensive catalyst is reduced, and the catalyst solubility and catalyst storage stability are also improved. In addition, ink ejection defects that occur due to catalyst deposition or the like are reduced.

本発明において、D>D×5の関係を実現するために、アンカー層の表面側領域の触媒濃度を高くするための具体的な手段としては、
方法A)アンカー層のポリマーとして、アクリルニトリル成分を含有するアクリル酸エステル共重合体を用いること。
In the present invention, in order to realize the relationship of D 1 > D 2 × 5, as a specific means for increasing the catalyst concentration in the surface side region of the anchor layer,
Method A) An acrylate copolymer containing an acrylonitrile component is used as the anchor layer polymer.

触媒、特にパラジウム金属塩の場合は、アクリルニトリル成分を有するアクリル酸エステル共重合体は、高い吸着性(配位性)を有することが判明した。すなわち、アクリルニトリル成分を含有するアクリル酸エステル共重合体を用いてアンカー層形成することにより、上記で規定する触媒濃度の分布関係を実現することができる。このとき、アンカー層の耐久性等の観点からは、エポキシ樹脂を更に含有させることが好ましい。   In the case of a catalyst, particularly a palladium metal salt, it has been found that an acrylate copolymer having an acrylonitrile component has a high adsorptivity (coordination property). That is, by forming an anchor layer using an acrylate copolymer containing an acrylonitrile component, the distribution relationship of the catalyst concentration defined above can be realized. At this time, it is preferable to further contain an epoxy resin from the viewpoint of durability of the anchor layer.

方法B)アンカー層に、触媒またはその前駆体に対する吸着性(配位性)を備えた化合物を更に含有させること。   Method B) The anchor layer further contains a compound having an adsorptivity (coordination property) to the catalyst or its precursor.

方法C)前記アンカー層を形成したあと、触媒またはその前駆体に対する吸着性(配位性)を備えた化合物をアンカー層表面に付与して、無電解めっきを行うこと。   Method C) After forming the anchor layer, a compound having an adsorptivity (coordination property) to the catalyst or its precursor is applied to the surface of the anchor layer, and electroless plating is performed.

方法D)アンカー層を上層及び下層の2層の構成とし、上層を触媒またはその前駆体と相互作用する官能基を有するポリマーで構成し、下層を硬化性ポリマーで構成すること。   Method D) The anchor layer is composed of two layers, an upper layer and a lower layer, the upper layer is composed of a polymer having a functional group that interacts with the catalyst or its precursor, and the lower layer is composed of a curable polymer.

更に、本発明においては、アンカー層にインクジェット法を用いて付与する触媒インクとしては、
1)触媒のインク中で十分な溶解性や保存安定性が得られること、
2)触媒インクのアンカー層表面への濡れ性と浸透性があること、
以上の2点が重要である。この2つの要件を満たすため、本発明に係るインクとしては、水を含有しない非水系インクを用いることを特徴とする。
Furthermore, in the present invention, as a catalyst ink applied to the anchor layer using an ink jet method,
1) Sufficient solubility and storage stability are obtained in the catalyst ink;
2) The wetness and permeability of the catalyst ink to the anchor layer surface;
The above two points are important. In order to satisfy these two requirements, the ink according to the present invention is characterized by using a non-aqueous ink that does not contain water.

触媒インクが水を含有した場合には、上記2つの要件を満たすことができず、所望な金属パターンを形成することができない。   When the catalyst ink contains water, the above two requirements cannot be satisfied and a desired metal pattern cannot be formed.

よって、方法E)として、本発明に係る触媒インクの溶媒を選択することにより、アンカー層への浸透、吸収を制御することも、本発明で規定するD>D×5の関係を実現するための1つの手段である。インク溶媒がアンカー層ポリマーに対して、ある程度の膨潤性や溶解性をもつのが好ましい。従って、水や低級アルキルアルコールのような溶媒では、浸透性がほとんど無いため好ましくない。しかしながら、アンカー層ポリマーを明確に溶解するような溶媒を選択すると、アンカー層への浸透性が高くなりすぎこの場合でも、本発明のようにアンカー層の表面部分に触媒を存在させることは難しくなる。 Therefore, as a method E), by selecting the solvent of the catalyst ink according to the present invention, the penetration and absorption into the anchor layer can be controlled, and the relationship of D 1 > D 2 × 5 defined in the present invention is also realized. One means for doing this. It is preferable that the ink solvent has a certain degree of swelling and solubility with respect to the anchor layer polymer. Therefore, a solvent such as water or a lower alkyl alcohol is not preferable because it has almost no permeability. However, if a solvent that clearly dissolves the anchor layer polymer is selected, the permeability to the anchor layer becomes too high, and even in this case, it is difficult to make the catalyst exist on the surface portion of the anchor layer as in the present invention. .

特に好ましい溶媒としては、グリコールジエステル類、グリコールジエーテル類、グリコールエーテル・エステル類、3級アルコール類、及びアミド類から選らばれる少なくとも1種の溶媒である。   Particularly preferred solvents are at least one solvent selected from glycol diesters, glycol diethers, glycol ethers / esters, tertiary alcohols, and amides.

以下、本発明の金属パターンの製造方法の詳細について、更に説明する。   Hereinafter, the details of the method for producing a metal pattern of the present invention will be further described.

〔基板〕
本発明の金属パターンの製造法方法において、金属パターンを形成する基板としては、絶縁性を備えたものであれば、特に制限はなく、例えば、ガラスやセラミックス等の剛性の強いものから、PET(ポリエチレンテレフタレート)やポリイミドなどの樹脂から構成されるフィルム状のものが挙げられる。
〔substrate〕
In the method for producing a metal pattern of the present invention, the substrate on which the metal pattern is formed is not particularly limited as long as it has insulating properties. For example, from a highly rigid material such as glass or ceramics, PET ( Polyethylene terephthalate) and a film-like material composed of a resin such as polyimide.

本発明に用いられる基板において、密着性改良やアンカー層の設置改良の観点から、表面改質処理を施しても良い。具体的には、プラズマ処理、コロナ放電処理、UV照射処理のほか、シランカップリング剤処理などが挙げられる。   In the board | substrate used for this invention, you may perform a surface modification process from a viewpoint of adhesiveness improvement or the installation improvement of an anchor layer. Specific examples include plasma treatment, corona discharge treatment, UV irradiation treatment, silane coupling agent treatment, and the like.

〔アンカー層〕
本発明においては、基板上にポリマーを含むアンカー層を設けることを特徴の一つとする。
[Anchor layer]
One feature of the present invention is that an anchor layer containing a polymer is provided on a substrate.

本発明に係るアンカー層を構成するポリマーとしては、例えば、ポリカーボネート、ポリアクリロニトリル、ポリスチレン、ポリアクリル酸、ポリメタアクリル酸、ポリアクリル酸エステル、ポリ塩化ビニル、ポリ塩化ビニリデン、ポリ酢酸ビニル、ポリエステル、ポリアミド、ポリエーテル、ポリウレタン、エポキシ樹脂、フェノール樹脂、などで、これらの共重合体及びこれらの塩が挙げられる。   Examples of the polymer constituting the anchor layer according to the present invention include polycarbonate, polyacrylonitrile, polystyrene, polyacrylic acid, polymethacrylic acid, polyacrylic ester, polyvinyl chloride, polyvinylidene chloride, polyvinyl acetate, polyester, Polyamides, polyethers, polyurethanes, epoxy resins, phenol resins, etc., and their copolymers and their salts.

これらのポリマーとしては、
1)基板とアンカー層のポリマーとの密着性が良好であること、
2)インク中の無電解めっきの触媒あるいはその前駆体とアンカー層のポリマーが吸着性(配位性)を有すること、
から選択することが好ましい。
These polymers include:
1) Good adhesion between the substrate and the anchor layer polymer;
2) The electroless plating catalyst or its precursor in the ink and the polymer of the anchor layer have adsorptivity (coordination);
It is preferable to select from.

基板とアンカー層の密着性が良好にするには、アンカー層のポリマーが基板と相互作用する官能基を有するのが好ましく、具体的には、カルボシキル基、アミノ基、水酸基などが挙げられる。   In order to improve the adhesion between the substrate and the anchor layer, the polymer of the anchor layer preferably has a functional group that interacts with the substrate. Specific examples include a carboxyl group, an amino group, and a hydroxyl group.

また、インク中の触媒あるいはその前駆体に吸着(配位性)可能な官能基としては、カルボキシル基、水酸基、スルホン酸基、アミノ基、シアノ基、アミド基などが挙げられる。   Examples of the functional group that can be adsorbed (coordinated) to the catalyst or its precursor in the ink include a carboxyl group, a hydroxyl group, a sulfonic acid group, an amino group, a cyano group, and an amide group.

本発明において、D>D×5の関係を実現するために、アンカー層の表面側領域の触媒濃度を高くするためのアンカー層の構成としては挙げた前記方法A)〜方法D)について説明する。 In the present invention, in order to realize the relationship of D 1 > D 2 × 5, the above-mentioned methods A) to D) mentioned as the configuration of the anchor layer for increasing the catalyst concentration in the surface side region of the anchor layer explain.

方法A)アンカー層のポリマーとして、アクリルニトリル成分を含有するアクリル酸エステル共重合体を用いる方法。   Method A) A method using an acrylate copolymer containing an acrylonitrile component as the polymer of the anchor layer.

本発明では、アンカー層の基板との界面側領域に比べ、表面側領域の触媒濃度を高くするため、アクリルニトリル成分を含有するアクリル酸エステル共重合体を用いることが好ましい。このポリマーでは、アクリルニトリル基が触媒、特にパラジウム金属塩に対し吸着性(配位性)を備えているためと推測される。   In the present invention, it is preferable to use an acrylate copolymer containing an acrylonitrile component in order to increase the catalyst concentration in the surface region compared to the region on the interface side with the substrate of the anchor layer. In this polymer, it is presumed that the acrylonitrile group is adsorbing (coordinating) with respect to a catalyst, particularly a palladium metal salt.

アクリルニトリル成分としては、アクリル酸エステル共重合体全体(100モル%)に対して、5〜90モル%が好ましく、さらに好ましくは10〜50モル%である。アクリル酸エステル共重合体の重量平均分子量(MW)としては、5000以上、100万以下が好ましく、さらに好ましくは、10万以上、85万以下である。また、Tgとしては、基板への密着性の観点から、−30℃〜50℃が好ましく、さらに好ましくは、−10℃〜20℃である。   As an acrylonitrile component, 5-90 mol% is preferable with respect to the whole acrylic acid ester copolymer (100 mol%), More preferably, it is 10-50 mol%. The weight average molecular weight (MW) of the acrylic ester copolymer is preferably from 5,000 to 1,000,000, more preferably from 100,000 to 850,000. Moreover, as Tg, from a viewpoint of the adhesiveness to a board | substrate, -30 degreeC-50 degreeC is preferable, More preferably, it is -10 degreeC-20 degreeC.

このとき、アンカー層の耐久性等の観点で、エポキシ樹脂をさらに含有することが好ましい。アクリル酸エステル共重合体とエポキシ樹脂との配合比率(質量比)としては、アクリル酸エステル共重合体/エポキシ樹脂=10/90〜90/10が好ましい。さらに好ましくは、20/80〜40/60である。   At this time, it is preferable to further contain an epoxy resin from the viewpoint of durability of the anchor layer. As a compounding ratio (mass ratio) of the acrylic ester copolymer and the epoxy resin, the acrylic ester copolymer / epoxy resin = 10/90 to 90/10 is preferable. More preferably, it is 20 / 80-40 / 60.

エポキシ樹脂としては、芳香族タイプが好ましく、さらに好ましくはビスフェノールAタイプあるはビスフェノールFタイプである。また、エポキシ樹脂と反応して硬化(架橋)させる硬化剤をさらに添加することが好ましい。なお、硬化剤の種類や硬化条件は適宜選択される。   The epoxy resin is preferably an aromatic type, more preferably a bisphenol A type or a bisphenol F type. Further, it is preferable to further add a curing agent that reacts with the epoxy resin to be cured (crosslinked). In addition, the kind of hardening | curing agent and hardening conditions are selected suitably.

方法B)アンカー層に、触媒またはその前駆体に対し吸着性(配位性)を有する化合物をさらに含有させる方法。   Method B) A method in which the anchor layer further contains a compound having an adsorptivity (coordination property) to the catalyst or its precursor.

触媒、例えば、パラジウム金属塩に対し高い吸着性(配位性)を有する化合物としては、錯体形成可能な化合物が挙げられる。この様な化合物は、具体的にはカルボシキ基を有する有機酸があり、例えば、シュウ酸、マロン酸、こはく酸、アジピン酸、マレイン酸、酒石酸、クエン酸などが挙げられる。   Examples of the compound having a high adsorptivity (coordination property) to a catalyst, for example, a palladium metal salt, include compounds capable of forming a complex. Such a compound specifically includes an organic acid having a carboxyl group, and examples thereof include oxalic acid, malonic acid, succinic acid, adipic acid, maleic acid, tartaric acid, and citric acid.

その他の化合物としては、アミン系化合物または含窒素複素環式化合物が挙げられる。アミン系化合物とは、アンモニアの水素原子の1個またはそれ以上が炭化水素残基で置換された化合物であり、Pdイオンに対する錯形成剤である。ここではアンモニアも含むものとする。アミンはN原子上に非共有電子対を保持しており、パラジウムイオンと錯形成しやすい。アミンとしては、アンモニア、メチルアミン、ジメチルアミン、トリメチルアミン、エチルアミン、ジエチルアミン、トリエチルアミン、プロピルアミン、ジプロピルアミン、トリプロピルアミン、ブチルアミン、ジブチルアミン、トリブチルアミン、ピリジン、2−アミノピリジン、3−アミノピリジン、4−アミノピリジン、エチレンジアミン、エタノールアミン、トリエタノールアミン、エチレンジアミンテトラ酢酸等の直鎖アミン化合物、環状アミン化合物が挙げられる。含窒素複素環式化合物としては、例えば、ピリジン、ビピリジン、フェナントロリンなどが挙げられる。   Examples of other compounds include amine compounds and nitrogen-containing heterocyclic compounds. An amine compound is a compound in which one or more hydrogen atoms of ammonia are substituted with a hydrocarbon residue, and is a complexing agent for Pd ions. Here, ammonia is also included. The amine retains an unshared electron pair on the N atom and tends to complex with palladium ions. As amines, ammonia, methylamine, dimethylamine, trimethylamine, ethylamine, diethylamine, triethylamine, propylamine, dipropylamine, tripropylamine, butylamine, dibutylamine, tributylamine, pyridine, 2-aminopyridine, 3-aminopyridine , 4-aminopyridine, ethylenediamine, ethanolamine, triethanolamine, linear amine compounds such as ethylenediaminetetraacetic acid, and cyclic amine compounds. Examples of the nitrogen-containing heterocyclic compound include pyridine, bipyridine, phenanthroline and the like.

方法C)前記アンカー層を形成したあと、触媒またはその前駆体に対する吸着性(配位性)を備えた化合物をアンカー層表面に付与して、無電解めっきを行う方法。   Method C) A method in which after forming the anchor layer, a compound having an adsorptivity (coordination property) to the catalyst or its precursor is applied to the surface of the anchor layer to perform electroless plating.

この場合の吸着性(配位性)を備えた化合物は、上記方法B)に記載の化合物と同様である。アンカー層表面に付与する方法としては、吸着性(配位性)を備えた化合物を含有した液に、アンカー層を浸漬する方法、アンカー層上に塗布する方法などが挙げられる。   The compound having the adsorptive property (coordinating property) in this case is the same as the compound described in the method B). Examples of the method for imparting to the surface of the anchor layer include a method of immersing the anchor layer in a liquid containing a compound having an adsorptive property (coordinating property), a method of applying on the anchor layer, and the like.

方法D)アンカー層を上層及び下層の2層の構成とし、上層を触媒またはその前駆体と相互作用する官能基を有するポリマーで構成し、下層を硬化性ポリマーで構成すること。   Method D) The anchor layer is composed of two layers, an upper layer and a lower layer, the upper layer is composed of a polymer having a functional group that interacts with the catalyst or its precursor, and the lower layer is composed of a curable polymer.

すなわち、2層で構成されたアンカー層を設置する場合は、下層(基板に近い層)のポリマーには、基板側からの水分や酸素の進入を阻止するできる硬化性ポリマー(例えば、エポキシ樹脂、フェノール樹脂、メラミン樹脂など)で構成することが好ましく、上層(基板に遠い層)のポリマーとしては、触媒またはその前駆体と相互作用する官能基を有するポリマーにより構成することが好ましい。   That is, when installing an anchor layer composed of two layers, the lower layer (layer close to the substrate) is a curable polymer that can prevent moisture and oxygen from entering from the substrate side (for example, epoxy resin, Phenolic resin, melamine resin, etc.), and the upper layer (layer far from the substrate) is preferably composed of a polymer having a functional group that interacts with the catalyst or its precursor.

アンカー層の膜厚としては、0.05〜10μmが好ましく、0.1〜5μmがより好ましい。0.05μmより薄いと、基板とも密着性が小さくなり、10μmより厚い場合は、アンカー層にポリマーの凝集破壊による密着性低下が起こりやすくなる。   As a film thickness of an anchor layer, 0.05-10 micrometers is preferable and 0.1-5 micrometers is more preferable. When the thickness is less than 0.05 μm, the adhesion with the substrate is reduced, and when the thickness is greater than 10 μm, the adhesion is likely to deteriorate due to the cohesive failure of the polymer in the anchor layer.

ポリマーのアンカー層の形成方法としては、ポリマー溶液(分散液)を用い、公知の塗布方式から適宜選択して、基板上に塗布、乾燥して製造することができる。塗布方式としては、例えば、ロールコーティング法、ロッドバーコーティング法、エアナイフコーティング法、スプレーコーティング法、ディップ法などがある。   As a method for forming a polymer anchor layer, a polymer solution (dispersion) can be used, which can be appropriately selected from known coating methods, coated on a substrate and dried. Examples of the coating method include a roll coating method, a rod bar coating method, an air knife coating method, a spray coating method, and a dip method.

〔触媒インク〕
本発明の金属パターンの製造方法に用いられるインクは、無電解めっきの触媒あるいはその前駆体と溶媒を含有することを特徴の一つとする。
[Catalyst ink]
One of the characteristics of the ink used in the method for producing a metal pattern of the present invention is that it contains an electroless plating catalyst or a precursor thereof and a solvent.

(無電解めっきの触媒あるいはその前駆体)
本発明に係る触媒インクが含有する無電解めっきの触媒とは、無電解めっき処理工程において、それ自体が反応活性核となり金属形成するものであり、具体的には、パラジウム、銀、銅、ニッケル、アルミニウム、鉄などの金属が挙げられる。
(Electroless plating catalyst or its precursor)
The electroless plating catalyst contained in the catalyst ink according to the present invention is a metal that forms itself as a reaction active nucleus in the electroless plating treatment step. Specifically, palladium, silver, copper, nickel , Metals such as aluminum and iron.

また、本発明に係る無電解メッキ触媒の前駆体とは、無電解めっきの触媒に変性する前の化合物を意味し、活性化処理工程により、触媒になり得るものである。具体的には、金属塩化合物であり、活性化処理にて0価金属になるものであり、例えば、パラジウム金属塩、銀金属塩、銅金属塩、ニッケル金属塩、アルミニウム金属塩、鉄金属塩などが挙げられ、中でもパラジウム金属塩が好ましい。またパラジウム金属塩が錯化剤と錯体形成したパラジウム金属錯体でもよい。   Moreover, the precursor of the electroless plating catalyst according to the present invention means a compound before being modified into an electroless plating catalyst, and can be a catalyst by an activation treatment step. Specifically, it is a metal salt compound, which becomes a zero-valent metal upon activation, for example, palladium metal salt, silver metal salt, copper metal salt, nickel metal salt, aluminum metal salt, iron metal salt Among them, palladium metal salts are preferable. Further, a palladium metal complex in which a palladium metal salt is complexed with a complexing agent may be used.

本発明に適用可能なパラジウム金属塩としては、例えば、フッ化パラジウム、塩化パラジウム、臭化パラジウム、ヨウ化パラジウム、硝酸パラジウム、硫酸パラジウム、酢酸パラジウム、アセト酢酸パラジウム、トリフルオロ酢酸パラジウム、水酸化パラジウム、酸化パラジウム、硫化パラジウム等が挙げられる。その中でも、特に、本発明に係るインクが含有する溶媒に可溶性を有し、水には不溶性であるものが好ましく、具体的には酢酸パラジウム、アセト酢酸パラジウムなどが好ましい。   Examples of the palladium metal salt applicable to the present invention include palladium fluoride, palladium chloride, palladium bromide, palladium iodide, palladium nitrate, palladium sulfate, palladium acetate, palladium acetoacetate, palladium trifluoroacetate, palladium hydroxide. , Palladium oxide, palladium sulfide and the like. Among them, in particular, those which are soluble in the solvent contained in the ink according to the present invention and insoluble in water are preferable, and specifically, palladium acetate, palladium acetoacetate and the like are preferable.

インク中におけるパラジウム金属塩の含有量としては、0.01質量%以上、1.0質量%以下が好ましい。パラジウム金属塩の濃度が0.01質量%以上であれば、次工程である無電解めっき反応の必要な活性度を得ることができ、1.0質量%以下であれば、インク中のパラジウム金属塩の安定性を維持することができる点で好ましい。   The content of the palladium metal salt in the ink is preferably 0.01% by mass or more and 1.0% by mass or less. If the concentration of the palladium metal salt is 0.01% by mass or more, the necessary activity of the electroless plating reaction as the next step can be obtained, and if it is 1.0% by mass or less, the palladium metal in the ink is obtained. This is preferable in that the stability of the salt can be maintained.

(溶媒)
本発明に係るインクは、水を含有しない非水系インクであることを特徴とするため、溶媒としては水以外の有機溶媒から選択される。
(solvent)
Since the ink according to the present invention is a non-aqueous ink that does not contain water, the solvent is selected from organic solvents other than water.

本発明においては、方法E)として、本発明に係る触媒インクの溶媒を選択することにより、アンカー層への浸透、吸収を制御することも、本発明で規定するD>D×5の関係を実現するための1つの手段である。インク溶媒がアンカー層ポリマーに対して、ある程度の膨潤性や溶解性をもつのが好ましい。従って、水や低級アルキルアルコールのような溶媒では、浸透性がほとんど無いため好ましくない。しかしながら、アンカー層ポリマーを明確に溶解するような溶媒を選択すると、アンカー層への浸透性が高くなりすぎこの場合でも、本発明のようにアンカー層の表面部分に触媒を存在させることは難しくなる。 In the present invention, as the method E), by controlling the penetration and absorption into the anchor layer by selecting the solvent of the catalyst ink according to the present invention, it is also possible to satisfy D 1 > D 2 × 5 as defined in the present invention. It is one means for realizing the relationship. It is preferable that the ink solvent has a certain degree of swelling and solubility with respect to the anchor layer polymer. Therefore, a solvent such as water or a lower alkyl alcohol is not preferable because it has almost no permeability. However, if a solvent that clearly dissolves the anchor layer polymer is selected, the permeability to the anchor layer becomes too high, and even in this case, it is difficult to make the catalyst exist on the surface portion of the anchor layer as in the present invention. .

このとき触媒あるいは触媒前駆体に対する溶解性や保存安定性が良好な溶媒を選択することが好ましい。   At this time, it is preferable to select a solvent having good solubility and storage stability with respect to the catalyst or catalyst precursor.

本発明に適用可能な溶媒としては、
アルコール類(例えば、メタノール、エタノール、プロパノール、イソプロパノール、ブタノール、イソブタノール、セカンダリーブタノール、ターシャリーブタノール等)、
多価アルコール類(例えば、エチレングリコール、ジエチレングリコール、トリエチレングリコール、ポリエチレングリコール、プロピレングリコール、ジプロピレングリコール、ポリプロピレングリコール、ブチレングリコール、ヘキサンジオール、ペンタンジオール、グリセリン、ヘキサントリオール、チオジグリコール等)、
多価アルコールモノエーテル類(例えば、エチレングリコールモノメチルエーテル、エチレングリコールモノエチルエーテル、エチレングリコールモノブチルエーテル、ジエチレングリコールモノメチルエーテル、ジエチレングリコールモノエチルエーテル、ジエチレングリコールモノブチルエーテル、プロピレングリコールモノメチルエーテル、プロピレングリコールモノエチルエーテル、プロピレングリコールモノブチルエーテル、ジプロピレングリコールモノメチルエーテル、ジロピレングリコールモノエチルエーテル、ジプロピレングリコールモノブチルエーテル、トリエチレングリコールモノメチルエーテル、トリエチレングリコールモノエチルエーテル、トリエチレングリコールモノブチルエーテル、エチレングリコールモノフェニルエーテル、プロピレングリコールモノフェニルエーテル等)、
多価アルコールでアルコール端末が全てエーテル化あるいはエステル化されているもの(例えば、エチレングリコールジメチルエーテル、エチレングリコールジエチルエーテル、エチレングリコールジブチルエーテル、ジエチレングリコールジメチルエーテル、ジエチレングリコールジエチルエーテル、ジエチレングリコールジブチルエーテル、ジプロピレングリコールジメチルエーテル、トリエチレングリコールジメチルエーテル、エチレングリコールモノメチルエーテルアセテート、エチレングリコールモノエチルエーテルアセテート、エチレングリコールモノブチルエーテルアセテート、ジエチレングリコールモノエチルエーテルアセテート、ジエチレングリコールモノブチルエーテルアセテート、プロピレングリコールモノメチルエーテルアセテート、ジプロピレングリコールモノメチルエーテルアセテート、エチレングリコールジアセテート、ジエチレングリコールジアセテート、プロピレングリコールジアセテート、トリエチレングリコールジアセテート等)、
アミン類(例えば、エタノールアミン、ジエタノールアミン、トリエタノールアミン、N−メチルジエタノールアミン、N−エチルジエタノールアミン、モルホリン、N−エチルモルホリン、エチレンジアミン、ジエチレンジアミン、トリエチレンテトラミン、テトラエチレンペンタミン、ポリエチレンイミン、ペンタメチルジエチレントリアミン、テトラメチルプロピレンジアミン等)、
アミド類(例えば、ホルムアミド、N,N−ジメチルホルムアミド、N,N−ジメチルアセトアミド等)、
複素環類(例えば、2−ピロリドン、N−メチル−2−ピロリドン、シクロヘキシルピロリドン、2−オキサゾリドン、1,3−ジメチル−2−イミダゾリジノン等)、
スルホキシド類(例えば、ジメチルスルホキシド等)、
等が挙げられる。
As a solvent applicable to the present invention,
Alcohols (eg, methanol, ethanol, propanol, isopropanol, butanol, isobutanol, secondary butanol, tertiary butanol, etc.),
Polyhydric alcohols (for example, ethylene glycol, diethylene glycol, triethylene glycol, polyethylene glycol, propylene glycol, dipropylene glycol, polypropylene glycol, butylene glycol, hexanediol, pentanediol, glycerin, hexanetriol, thiodiglycol, etc.),
Polyhydric alcohol monoethers (for example, ethylene glycol monomethyl ether, ethylene glycol monoethyl ether, ethylene glycol monobutyl ether, diethylene glycol monomethyl ether, diethylene glycol monoethyl ether, diethylene glycol monobutyl ether, propylene glycol monomethyl ether, propylene glycol monoethyl ether, propylene Glycol monobutyl ether, dipropylene glycol monomethyl ether, dichloropyrene glycol monoethyl ether, dipropylene glycol monobutyl ether, triethylene glycol monomethyl ether, triethylene glycol monoethyl ether, triethylene glycol monobutyl ether, ethylene glycol monophenyl Vinyl ether, propylene glycol monophenyl ether, etc.),
Polyhydric alcohols whose alcohol terminals are all etherified or esterified (for example, ethylene glycol dimethyl ether, ethylene glycol diethyl ether, ethylene glycol dibutyl ether, diethylene glycol dimethyl ether, diethylene glycol diethyl ether, diethylene glycol dibutyl ether, dipropylene glycol dimethyl ether, Triethylene glycol dimethyl ether, ethylene glycol monomethyl ether acetate, ethylene glycol monoethyl ether acetate, ethylene glycol monobutyl ether acetate, diethylene glycol monoethyl ether acetate, diethylene glycol monobutyl ether acetate, propylene glycol monomethyl ether Ether acetate, dipropylene glycol monomethyl ether acetate, ethylene glycol diacetate, diethylene glycol diacetate, propylene glycol diacetate, triethylene glycol diacetate, etc.),
Amines (e.g., ethanolamine, diethanolamine, triethanolamine, N-methyldiethanolamine, N-ethyldiethanolamine, morpholine, N-ethylmorpholine, ethylenediamine, diethylenediamine, triethylenetetramine, tetraethylenepentamine, polyethyleneimine, pentamethyl Diethylenetriamine, tetramethylpropylenediamine, etc.),
Amides (eg, formamide, N, N-dimethylformamide, N, N-dimethylacetamide, etc.),
Heterocycles (eg, 2-pyrrolidone, N-methyl-2-pyrrolidone, cyclohexyl pyrrolidone, 2-oxazolidone, 1,3-dimethyl-2-imidazolidinone),
Sulfoxides (for example, dimethyl sulfoxide),
Etc.

その他の溶媒としては、アセトン、メチルエチルケトン、トルエン、ベンゼン、シクロヘキサン、シクロヘキサノン、テトラデカン、酢酸エチル、酢酸ブチル、γ−ブチルラクトン、乳酸ブチル、炭酸エチレン、炭酸プロピレンなどが挙げられる。   Examples of other solvents include acetone, methyl ethyl ketone, toluene, benzene, cyclohexane, cyclohexanone, tetradecane, ethyl acetate, butyl acetate, γ-butyllactone, butyl lactate, ethylene carbonate, and propylene carbonate.

本発明に係る触媒インクの溶媒としては、上記各種溶媒の中でも、グリコールジエステル類、グリコールジエーテル類、グリコールエーテル・エステル類、3級アルコール類、及びアミド類から選らばれる少なくとも1種の溶媒を用いることである。   As the solvent for the catalyst ink according to the present invention, at least one solvent selected from glycol diesters, glycol diethers, glycol ethers / esters, tertiary alcohols, and amides is used among the above-mentioned various solvents. That is.

(錯化剤)
本発明に係るインクに適用可能な錯化剤としては、上記パラジウム金属塩と錯体形成可能な化合物が挙げられる。化合物としては、カルボシキ基をもつ有機酸があり、例えば、シュウ酸、マロン酸、こはく酸、アジピン酸、マレイン酸、酒石酸、クエン酸などが挙げられる。その他の化合物としては、アミン系化合物または含窒素複素環式化合物が好ましい。アミン系化合物とはアンモニアの水素原子の1個またはそれ以上が炭化水素残基Rで置換された化合物であり、Pdイオンに対する錯形成剤である。ここではアンモニアも含むものとする。アミンはN原子上に非共有電子対を保持しており、パラジウムイオンと錯形成しやすい。アミンとしては、アンモニア、メチルアミン、ジメチルアミン、トリメチルアミン、エチルアミン、ジエチルアミン、トリエチルアミン、プロピルアミン、ジプロピルアミン、トリプロピルアミン、ブチルアミン、ジブチルアミン、トリブチルアミン、ピリジン、2−アミノピリジン、3−アミノピリジン、4−アミノピリジン、エチレンジアミン、エタノールアミン、トリエタノールアミン、エチレンジアミンテトラ酢酸等の直鎖アミン化合物、環状アミン化合物が挙げられる。含窒素複素環式化合物としては、例えば、ピリジン、ビピリジン、フェナントロリンなどが挙げられる。
(Complexing agent)
Examples of the complexing agent applicable to the ink according to the present invention include compounds capable of forming a complex with the palladium metal salt. Examples of the compound include organic acids having a carboxyl group, and examples thereof include oxalic acid, malonic acid, succinic acid, adipic acid, maleic acid, tartaric acid, and citric acid. Other compounds are preferably amine compounds or nitrogen-containing heterocyclic compounds. An amine compound is a compound in which one or more hydrogen atoms of ammonia are substituted with a hydrocarbon residue R, and is a complexing agent for Pd ions. Here, ammonia is also included. The amine retains an unshared electron pair on the N atom and tends to complex with palladium ions. As amines, ammonia, methylamine, dimethylamine, trimethylamine, ethylamine, diethylamine, triethylamine, propylamine, dipropylamine, tripropylamine, butylamine, dibutylamine, tributylamine, pyridine, 2-aminopyridine, 3-aminopyridine , 4-aminopyridine, ethylenediamine, ethanolamine, triethanolamine, linear amine compounds such as ethylenediaminetetraacetic acid, and cyclic amine compounds. Examples of the nitrogen-containing heterocyclic compound include pyridine, bipyridine, phenanthroline and the like.

(その他の各種添加剤)
本発明に係るインクには、必要に応じて、その他の金属パターン形成用インクで従来公知の各種添加剤を含有することができる。例えば、蛍光増白剤、消泡剤、潤滑剤、防腐剤、増粘剤、帯電防止剤、マット剤、水溶性多価金属塩、酸塩基、緩衝液等pH調整剤、酸化防止剤、表面張力調整剤、非抵抗調整剤、防錆剤、無機顔料等を挙げることができる。
(Other various additives)
The ink according to the present invention can contain various conventionally known additives in other metal pattern forming inks as required. For example, fluorescent brighteners, antifoaming agents, lubricants, preservatives, thickeners, antistatic agents, matting agents, water-soluble polyvalent metal salts, acid bases, pH adjusters such as buffers, antioxidants, surfaces Tension modifiers, non-resistance modifiers, rust inhibitors, inorganic pigments and the like can be mentioned.

《金属パターンの製造工程》
本発明のインクを用いた金属パターンの製造方法としては、以下のように行う。
《Metallic pattern manufacturing process》
A method for producing a metal pattern using the ink of the present invention is performed as follows.

1)基板上にアンカー層を形成する工程、2)触媒インクを付与する工程、3)触媒インクが触媒前駆体の場合、触媒に変換(還元)させる活性化処理、4)無電解めっき液にて、金属を生成させる無電解めっき処理工程。この後に、5)電気めっき工程にて、金属パターン部の膜厚を厚くさせてもよい。   1) a step of forming an anchor layer on the substrate, 2) a step of applying a catalyst ink, 3) an activation treatment for converting (reducing) the catalyst into a catalyst when the catalyst ink is a catalyst precursor, 4) an electroless plating solution Electroless plating process that generates metal. Thereafter, 5) the metal pattern portion may be made thicker in the electroplating step.

なお、本発明のパターン形成では、必要な部分のみ形成する場合とアンカー層全面に形成する両方を意味する。   In the pattern formation according to the present invention, it means both the case where only a necessary portion is formed and the case where it is formed on the entire anchor layer.

〔触媒インクのインクジェット法によりアンカー層上に付与する工程〕
インクジェット法により回路等の導電性パターンを描画する場合、目的の線幅に応じた液滴サイズのインクジェットヘッドを用いて触媒インクをアンカー層上に印字していく。触媒のミスト、インクの着弾ズレは、回路特性を劣化させるので、極力着弾精度が高く、欠陥の少ないインクジェット印字プロセスが望まれ、既存のインクジェット印刷技術を用いることができる。なお、インクジェットヘッドは、インクに含まれる金属塩と溶媒に対して耐久性のある部材により構成されていることが望ましい。方式としては、ピエゾタイプのヘッドが好ましい。触媒インクの付与量としては、インク中の無電解めっきの触媒あるはその前駆体の濃度や溶媒の沸点、乾燥性、無電解めっき性を考慮して選定される。具体的な触媒インクの付与量としては、0.5ml/m〜50ml/mが好ましく、さらには2.0ml/m〜30ml/mが好ましい。付与量が0.5ml/m未満であると、無電解めっき性(金属形成性)が不十分となり、50ml/mを越えると、触媒インク付与の均一性の確保や乾燥性の観点で難しくなる。
[Process of applying catalyst ink onto anchor layer by inkjet method]
When a conductive pattern such as a circuit is drawn by the ink jet method, the catalyst ink is printed on the anchor layer using an ink jet head having a droplet size corresponding to the target line width. Since the mist of the catalyst and the landing deviation of the ink deteriorate the circuit characteristics, an inkjet printing process with high landing accuracy and few defects is desired, and the existing inkjet printing technology can be used. Note that the ink jet head is preferably made of a member that is durable against a metal salt and a solvent contained in the ink. As a method, a piezo type head is preferable. The amount of the catalyst ink applied is selected in consideration of the concentration of the electroless plating catalyst in the ink or the precursor concentration, the boiling point of the solvent, the drying property, and the electroless plating property. The application amount of a specific catalyst ink is preferably 0.5ml / m 2 ~50ml / m 2 , more 2.0ml / m 2 ~30ml / m 2 is preferred. When the applied amount is less than 0.5 ml / m 2 , the electroless plating property (metal forming property) becomes insufficient, and when it exceeds 50 ml / m 2, from the viewpoint of ensuring uniformity of catalyst ink application and drying properties. It becomes difficult.

触媒インクを付与した後は、乾燥工程を設けることが好ましく、乾燥させる方法としては、加熱、送風などの方法が時間短縮や工程簡略化の観点で好ましい。   After applying the catalyst ink, it is preferable to provide a drying step. As a drying method, a method such as heating or blowing is preferable from the viewpoint of shortening the time or simplifying the step.

〔活性化工程〕
本発明の金属パターンの製造方法における活性化工程とは、触媒前駆体を無電解めっきが可能な触媒に変換する工程のことをいう。触媒インクに無電解めっき触媒の前駆体を用いる場合は、無電解めっきの触媒に変性させるため、活性化処理工程を無電解めっき処理工程の前に行う。無電解めっき触媒の前駆体として、金属塩化合物を用いた場合には、還元反応により、0価金属に反応させる工程であり、この活性化工程により、無電解めっき触媒になり得るものである。
[Activation process]
The activation step in the method for producing a metal pattern of the present invention refers to a step of converting the catalyst precursor into a catalyst capable of electroless plating. When a precursor of an electroless plating catalyst is used for the catalyst ink, the activation treatment step is performed before the electroless plating treatment step in order to denature the catalyst electroless plating catalyst. When a metal salt compound is used as a precursor of the electroless plating catalyst, it is a step of reacting with a zero-valent metal by a reduction reaction, and this activation step can become an electroless plating catalyst.

活性化工程は、触媒の種類によって適正な方法を選択する必要があり、酸の付与、加熱、還元剤の付与等が挙げられる。好ましい還元剤としては、ホウ素系化合物が好ましく、具体的には、水素化ホウ素ナトリウム、トリメチルアミンボラン、ジメチルアミンボラン(DMAB)などが好ましい。還元方法としては、還元剤の溶液に触媒インクを付与した基板を浸漬させ、活性化処理を行うことができる。   In the activation step, it is necessary to select an appropriate method depending on the type of the catalyst, and examples thereof include application of an acid, heating, and application of a reducing agent. As a preferable reducing agent, a boron-based compound is preferable, and specifically, sodium borohydride, trimethylamine borane, dimethylamine borane (DMAB) and the like are preferable. As a reduction method, an activation treatment can be performed by immersing a substrate provided with a catalyst ink in a solution of a reducing agent.

〔無電解めっき処理工程〕
本発明に係る無電解めっき処理について説明する。
[Electroless plating process]
The electroless plating process according to the present invention will be described.

通常、無電解めっき処理としては、無電解めっき液(浴)に浸漬し、触媒インクが付与されたアンカー層の部分で無電解めっき反応により金属パターンを形成する工程である。   Usually, the electroless plating treatment is a step of immersing in an electroless plating solution (bath) and forming a metal pattern by an electroless plating reaction at the anchor layer portion to which the catalyst ink is applied.

無電解めっき液としては、1)金属イオン、2)無電解めっき液用錯化剤、3)還元剤が主に含有される。無電解めっきで形成される金属としては、例えば、金、銀、銅、パラジウム、ニッケルおよびそれらの合金などが挙げられるが、密着性と導電性の観点から銅とニッケルおよびそれらの合金が好ましい。無電解めっき浴に使用される金属イオンとしても、上記金属に対応した金属イオンを含有させる。無電解めっき液用錯化剤および還元剤も金属イオンに適したものが選択される。錯化剤としては、例えば、エチレンジアミンテトラ酢酸(以下、EDTAと略記する)、ロシェル塩、D−マンニトール、D−ソルビトール、ズルシトール、イミノ二酢酸、trans−1,2−シクロヘキサンジアミン四酢酸、などが挙げられ、EDTAが好ましい。還元剤としては、ホルムアルデヒド、テトラヒドロホウ酸カリウム、ジメチルアミンボラン、グリオキシル酸、次亜リン酸ナトリウムなどが挙げられ、ホルムアルデヒドが好ましい。   The electroless plating solution mainly contains 1) metal ions, 2) complexing agent for electroless plating solution, and 3) reducing agent. Examples of the metal formed by electroless plating include gold, silver, copper, palladium, nickel, and alloys thereof, and copper, nickel, and alloys thereof are preferable from the viewpoint of adhesion and conductivity. Also as a metal ion used for an electroless plating bath, a metal ion corresponding to the above metal is contained. The complexing agent and reducing agent for the electroless plating solution are also selected to be suitable for metal ions. Examples of the complexing agent include ethylenediaminetetraacetic acid (hereinafter abbreviated as EDTA), Rochelle salt, D-mannitol, D-sorbitol, dulcitol, iminodiacetic acid, trans-1,2-cyclohexanediaminetetraacetic acid, and the like. EDTA is preferred. Examples of the reducing agent include formaldehyde, potassium tetrahydroborate, dimethylamine borane, glyoxylic acid and sodium hypophosphite, and formaldehyde is preferred.

上記無電解めっき工程は、めっき浴の温度、pH、浸漬時間、金属イオン濃度を制御することで、金属形成の速度や膜厚を制御することができる。   The electroless plating step can control the metal formation speed and film thickness by controlling the temperature, pH, immersion time, and metal ion concentration of the plating bath.

〔表面処理工程〕
本発明の金属パターンの製造方法においては、無電解めっき処理工程(触媒前駆体の場合は、活性化工程)を行う前に、アンカー層がめっき液あるいは活性化液に対する表面濡れ性を上げる表面処理工程を行うことが好ましい。
[Surface treatment process]
In the metal pattern manufacturing method of the present invention, before the electroless plating process (the activation process in the case of a catalyst precursor), the anchor layer increases the surface wettability with respect to the plating solution or the activation solution. It is preferable to perform a process.

本発明では、アンカー層に触媒インクを付与させ、アンカー層を膨潤あるいは溶解させると、その部分が造膜し疎水性化するため、めっき処理液や活性化処理液への濡れ性が低下し、極端にめっき性が低下してしまう。さらに触媒を含有したインクがアンカー層の内部に浸透するため、いっそうめっき性が低下する。そこで、触媒インクを付与した部分とめっき処理液(あるいは活性化処理液)との濡れ性を向上させることが好ましい。   In the present invention, when a catalyst ink is applied to the anchor layer and the anchor layer is swollen or dissolved, the portion is formed into a film and becomes hydrophobic, so that the wettability to the plating treatment solution and the activation treatment solution is reduced. Plating properties are extremely lowered. Further, since the ink containing the catalyst penetrates into the anchor layer, the plating property is further lowered. Therefore, it is preferable to improve the wettability between the portion to which the catalyst ink is applied and the plating treatment liquid (or activation treatment liquid).

めっき処理液あるいは活性化処理液は、通常水系処理液なので、ここでいう濡れ性向上とは、アンカー層表面と水の濡れ性を上げる表面処理工程を意味する。表面処理工程の前後でアンカー層の水に対する接触角が減少していれば、表面処理としては有効である。   Since the plating treatment solution or the activation treatment solution is usually an aqueous treatment solution, the improvement in wettability here means a surface treatment step for increasing the wettability of the anchor layer surface and water. If the contact angle of the anchor layer with respect to water decreases before and after the surface treatment step, the surface treatment is effective.

具体的には、表面処理工程の前後で水に対する接触角が20%以上低下する手段が好ましい。表面処理の方法としては、カチオン・ノニオン・アニオンの界面活性剤を含む液により処理する方法、プラズマ・コロナ・フレーム・UV照射といった表面親水化処理工程によりめっき液に対する濡れ性を改善する方法がある。中でも界面活性剤による液処理は簡便で、かつ効果も高い。   Specifically, a means for reducing the contact angle with water by 20% or more before and after the surface treatment step is preferable. As the surface treatment method, there are a method of treating with a solution containing a cation, nonion, or anionic surfactant, and a method of improving wettability with respect to the plating solution by a surface hydrophilization treatment step such as plasma, corona, flame, or UV irradiation. . Above all, liquid treatment with a surfactant is simple and highly effective.

〔電気めっき工程〕
本発明の金属パターンの製造方法においては、金属パターンの膜厚を厚くする目的などで、無電解めっき処理を行った後、さらに電気めっき工程を行ってもよい。
[Electroplating process]
In the method for producing a metal pattern of the present invention, an electroplating process may be further performed after performing an electroless plating process for the purpose of increasing the thickness of the metal pattern.

電気めっき工程では、前記無電解メッキ処理の後、この無電解メッキ処理工程により形成された導電性膜を電極とし、さらに電気メッキを行うことができる。これにより基材との密着性に優れた導電膜をベースとして、そこに新たに任意の厚みをもつ導電膜を容易に形成することができる。この工程を付加することにより、金属膜を目的に応じた厚みに形成することができ、本発明の金属パターンの製造方法に従って形成された導電膜を、高い導電性が要求される種々の用途に適用するのに好適である。   In the electroplating process, after the electroless plating process, electroplating can be performed using the conductive film formed by the electroless plating process as an electrode. Accordingly, a conductive film having an arbitrary thickness can be easily formed on the basis of the conductive film having excellent adhesion to the substrate. By adding this step, the metal film can be formed to a thickness according to the purpose, and the conductive film formed according to the metal pattern manufacturing method of the present invention can be used for various applications that require high conductivity. Suitable for application.

電気メッキの方法としては、従来公知の方法を用いることができる。なお、本工程の電気メッキに用いられる金属としては、銅、クロム、鉛、ニッケル、金、銀、すず、亜鉛などが挙げられ、導電性の観点から、銅、金、銀が好ましく、銅がより好ましい。   A conventionally known method can be used as the electroplating method. In addition, as a metal used for the electroplating of this process, copper, chromium, lead, nickel, gold, silver, tin, zinc, etc. are mentioned. From the viewpoint of conductivity, copper, gold, and silver are preferable. More preferred.

電気メッキにより得られる導電膜の膜厚については、用途に応じて異なるものであり、メッキ浴中に含まれる金属濃度、浸漬時間、或いは、電流密度などを調整することでコントロールすることができる。なお、一般的な電気配線などに用いる場合の膜厚は、導電性の観点から、0.3μm以上であることが好ましく、3μm以上であることがより好ましい。   About the film thickness of the electrically conductive film obtained by electroplating, it changes according to a use, It can control by adjusting the metal density | concentration contained in a plating bath, immersion time, or current density. In addition, from the viewpoint of conductivity, the film thickness when used for general electric wiring or the like is preferably 0.3 μm or more, and more preferably 3 μm or more.

以下、実施例を挙げて本発明を具体的に説明するが、本発明はこれらに限定されるものではない。なお、実施例において「部」あるいは「%」の表示を用いるが、特に断りがない限り「質量部」あるいは「質量%」を表す。   EXAMPLES Hereinafter, the present invention will be specifically described with reference to examples, but the present invention is not limited thereto. In addition, although the display of "part" or "%" is used in an Example, unless otherwise indicated, "part by mass" or "mass%" is represented.

《アンカー層付基材の作製》
〔アンカー層付基材1の作製〕
(アンカー層塗布液1の調製)
ポリマー(1)として下記ポリマーAを、メチルエチルケトンに20質量%となる条件で溶解し、アンカー層塗布液1を調製した。
<< Preparation of base material with anchor layer >>
[Preparation of base material 1 with anchor layer]
(Preparation of anchor layer coating solution 1)
The following polymer A as polymer (1) was dissolved in methyl ethyl ketone under the condition of 20% by mass to prepare anchor layer coating solution 1.

ポリマー(1);ポリマーA(構造:アクリル酸エステル共重合体、主なモノマー:ブチルアクリレート/エチルアクリレート/アクリルニトリル/グリシジル変性、アクリルニトリルのモノマー質量比:30%、商品名:SG−P3、ナガセケムテックス社製)
(アンカー層の形成)
基板として、ポリイミドフィルム(東レフィルム加工(製)、カプトン100EN 膜厚50μm)を用い、その表面を酸素プラズマ処理した後、上記アンカー層塗布液1を、乾燥後のアンカー層の膜厚が10μmとなるように、ワイヤーバーを用いて塗布、乾燥して、アンカー層を形成した。
Polymer (1); Polymer A (structure: acrylate copolymer, main monomer: butyl acrylate / ethyl acrylate / acrylonitrile / glycidyl modified, acrylonitrile monomer mass ratio: 30%, trade name: SG-P3, (Manufactured by Nagase ChemteX Corporation)
(Formation of anchor layer)
As a substrate, a polyimide film (Toray film processing (manufactured), Kapton 100EN film thickness 50 μm) was used, and the surface thereof was subjected to oxygen plasma treatment. Thus, the anchor layer was formed by applying and drying using a wire bar.

〔アンカー層付基材2の作製〕
上記アンカー層付基材1の作製において、アンカー層塗布液1に代えて、下記アンカー層塗布液2を用いた以外は同様にして、アンカー層付基材2を作製した。
[Preparation of base material 2 with an anchor layer]
In the production of the anchor layer-provided substrate 1, an anchor layer-provided substrate 2 was produced in the same manner except that the following anchor layer coating solution 2 was used instead of the anchor layer coating solution 1.

(アンカー層塗布液2の調製)
ポリマー(1)として下記ポリマーAと、ポリマー(2)として下記ポリマーBと、添加剤(1)として下記添加剤aを、質量比として70:27:3の比率で混合し、これをメチルエチルケトンに総質量が20質量%となる条件で溶解し、アンカー層塗布液2を調製した。
(Preparation of anchor layer coating solution 2)
The following polymer A as the polymer (1), the following polymer B as the polymer (2) and the following additive a as the additive (1) are mixed in a mass ratio of 70: 27: 3, and this is mixed with methyl ethyl ketone. It melt | dissolved on the conditions which total mass becomes 20 mass%, and prepared the anchor layer coating liquid 2.

ポリマー(1);ポリマーA(構造:アクリル酸エステル共重合体、主なモノマー:ブチルアクリレート/エチルアクリレート/アクリルニトリル/グリシジル変性、アクリルニトリルのモノマー質量比:30%、商品名:SG−P3、ナガセケムテックス社製)
ポリマー(2);ポリマーB(構造:エポキシ樹脂、主なモノマー:ビスフェノールAタイプ、商品名:iER828、ジャパンエポキシレジン社製)
添加剤(1);添加剤a(2−エチル−4−メチルイミダゾール)
〔アンカー層付基材3の作製〕
上記アンカー層付基材1の作製において、アンカー層塗布液1に代えて、下記アンカー層塗布液3を用いた以外は同様にして、アンカー層付基材3を作製した。
Polymer (1); Polymer A (structure: acrylate copolymer, main monomer: butyl acrylate / ethyl acrylate / acrylonitrile / glycidyl modified, acrylonitrile monomer mass ratio: 30%, trade name: SG-P3, (Manufactured by Nagase ChemteX Corporation)
Polymer (2); Polymer B (structure: epoxy resin, main monomer: bisphenol A type, trade name: iER828, manufactured by Japan Epoxy Resin Co., Ltd.)
Additive (1); Additive a (2-ethyl-4-methylimidazole)
[Preparation of anchor layer-attached base material 3]
In the production of the anchor layer-provided substrate 1, the anchor layer-provided substrate 3 was produced in the same manner except that the following anchor layer coating solution 3 was used instead of the anchor layer coating solution 1.

(アンカー層塗布液3の調製)
ポリマー(1)として下記ポリマーAと、添加剤(1)として下記添加剤aと、添加剤(2)として下記添加剤bを、質量比として77:3:10の比率で混合し、これをメチルエチルケトンに総質量が20質量%となる条件で溶解し、アンカー層塗布液3を調製した。
(Preparation of anchor layer coating solution 3)
The following polymer A as the polymer (1), the following additive a as the additive (1), and the following additive b as the additive (2) are mixed at a mass ratio of 77: 3: 10. An anchor layer coating solution 3 was prepared by dissolving in methyl ethyl ketone under the condition that the total mass was 20% by mass.

ポリマー(1);ポリマーA(構造:アクリル酸エステル共重合体、主なモノマー:ブチルアクリレート/エチルアクリレート/アクリルニトリル/グリシジル変性、アクリルニトリルのモノマー質量比:30%、商品名:SG−P3、ナガセケムテックス社製)
添加剤(1);添加剤a(2−エチル−4−メチルイミダゾール)
添加剤(2);添加剤b(トリエタノールアミン)
〔アンカー層付基材4の作製〕
(アンカー層の形成)
上記アンカー層付基材1の作製において、アンカー層塗布液1に代えて、下記アンカー層塗布液4を用いた以外は同様にして、基材上にアンカー層を形成した。
Polymer (1); Polymer A (structure: acrylate copolymer, main monomer: butyl acrylate / ethyl acrylate / acrylonitrile / glycidyl modified, acrylonitrile monomer mass ratio: 30%, trade name: SG-P3, (Manufactured by Nagase ChemteX Corporation)
Additive (1); Additive a (2-ethyl-4-methylimidazole)
Additive (2); Additive b (triethanolamine)
[Preparation of anchor layer-attached substrate 4]
(Formation of anchor layer)
In the production of the anchor layer-coated substrate 1, an anchor layer was formed on the substrate in the same manner except that the anchor layer coating solution 4 was used instead of the anchor layer coating solution 1.

〈アンカー層塗布液4の調製〉
ポリマー(1)として下記ポリマーBと、ポリマー(2)として下記ポリマーCを、質量比として80:20の比率で混合し、これをメチルエチルケトンに総質量が20質量%となる条件で溶解し、アンカー層塗布液4を調製した。
<Preparation of anchor layer coating solution 4>
The following polymer B as the polymer (1) and the following polymer C as the polymer (2) are mixed at a mass ratio of 80:20, and this is dissolved in methyl ethyl ketone under the condition that the total mass is 20% by mass. A layer coating solution 4 was prepared.

ポリマー(1);ポリマーB(構造:エポキシ樹脂、主なモノマー:ビスフェノールAタイプ、商品名:iER828、ジャパンエポキシレジン社製)
ポリマー(2);ポリマーC(構造:NBR樹脂、主なモノマー:アクリルニトリル/ブタジエン、アクリルニトリルのモノマー質量比:27%、商品名:Nipol 1072J、日本ゼオン社製)
(添加剤液への浸漬)
上記形成したアンカー層付基材を、添加剤c(ノニオン性界面活性剤含有のメッキコンディショナー、商品名:PC−321、メルタック社製)の10質量%溶液に、60℃で5分間浸漬した後、乾燥してアンカー層付基材4を作製した。
Polymer (1); Polymer B (structure: epoxy resin, main monomer: bisphenol A type, trade name: iER828, manufactured by Japan Epoxy Resin Co., Ltd.)
Polymer (2); Polymer C (structure: NBR resin, main monomer: acrylonitrile / butadiene, monomer mass ratio of acrylonitrile: 27%, trade name: Nipol 1072J, manufactured by Nippon Zeon)
(Immersion in additive solution)
After immersing the formed base material with an anchor layer in a 10% by mass solution of additive c (a plating conditioner containing a nonionic surfactant, trade name: PC-321, manufactured by Meltac Co., Ltd.) at 60 ° C. for 5 minutes. The substrate 4 with an anchor layer was produced by drying.

〔アンカー層付基材5の作製〕
(アンカー層下層塗布液5の調製)
ポリマー(1)として下記ポリマーBと、添加剤(1)として下記添加剤aとを、質量比として90:10の比率で混合し、これをメチルエチルケトンに総質量が20質量%となる条件で溶解し、アンカー層下層塗布液5を調製した。
[Preparation of the base material 5 with an anchor layer]
(Preparation of anchor layer lower layer coating solution 5)
The following polymer B as the polymer (1) and the following additive a as the additive (1) are mixed at a mass ratio of 90:10 and dissolved in methyl ethyl ketone under the condition that the total mass is 20% by mass. Then, an anchor layer lower layer coating solution 5 was prepared.

ポリマー(1);ポリマーB(構造:エポキシ樹脂、主なモノマー:ビスフェノールAタイプ、商品名:iER828、ジャパンエポキシレジン社製)
添加剤(1);添加剤a(2−エチル−4−メチルイミダゾール)
(アンカー層上層塗布液5の調製)
ポリマー(1)として下記ポリマーDを、メチルエチルケトンに総質量が20質量%となる条件で溶解し、アンカー層上層塗布液5を調製した。
Polymer (1); Polymer B (structure: epoxy resin, main monomer: bisphenol A type, trade name: iER828, manufactured by Japan Epoxy Resin Co., Ltd.)
Additive (1); Additive a (2-ethyl-4-methylimidazole)
(Preparation of anchor layer upper layer coating solution 5)
The following polymer D as polymer (1) was dissolved in methyl ethyl ketone under the condition that the total mass was 20% by mass to prepare anchor layer upper layer coating solution 5.

ポリマー(1);ポリマーD(構造:アクリル酸エステル共重合体、主なモノマー:ブタジエン/スチレン、商品名:Nipol Lx430、日本ゼオン社製)
(アンカー層の形成)
基板として、ポリイミドフィルム(東レフィルム加工(製)、カプトン100EN 膜厚50μm)を用い、その表面を酸素プラズマ処理した後、アンカー層下層塗布液5を、乾燥後の膜厚が10μmとなるように、ワイヤーバーを用いて塗布、乾燥して、アンカー層下層を形成した。次いで、アンカー層上層塗布液5を、乾燥後の膜厚が2μmとなるように、ワイヤーバーを用いて塗布、乾燥して、アンカー層上層を形成し、アンカー層付基材5を作製した。
Polymer (1); Polymer D (structure: acrylate copolymer, main monomer: butadiene / styrene, trade name: Nipol Lx430, manufactured by Nippon Zeon Co., Ltd.)
(Formation of anchor layer)
As a substrate, a polyimide film (Toray film processing (manufactured), Kapton 100EN film thickness 50 μm) is used, and after the surface is subjected to oxygen plasma treatment, the anchor layer lower layer coating solution 5 is dried to have a film thickness of 10 μm. The anchor layer lower layer was formed by applying and drying using a wire bar. Next, the anchor layer upper layer coating solution 5 was applied and dried using a wire bar so that the film thickness after drying was 2 μm to form an anchor layer upper layer, and the anchor layer-attached substrate 5 was produced.

〔アンカー層付基材6の作製〕
上記アンカー層付基材1の作製において、アンカー層塗布液1に代えて、下記アンカー層塗布液6を用いた以外は同様にして、アンカー層付基材6を作製した。
[Preparation of anchor layer-attached substrate 6]
In the production of the anchor layer-provided substrate 1, the anchor layer-coated substrate 6 was produced in the same manner except that the following anchor layer coating solution 6 was used instead of the anchor layer coating solution 1.

(アンカー層塗布液6の調製)
ポリマー(1)として下記ポリマーDを、メチルエチルケトンに総質量が20質量%となる条件で溶解し、アンカー層塗布液6を調製した。
(Preparation of anchor layer coating solution 6)
The following polymer D as polymer (1) was dissolved in methyl ethyl ketone under the condition that the total mass was 20% by mass to prepare anchor layer coating solution 6.

ポリマー(1);ポリマーD(構造:アクリル酸エステル共重合体、主なモノマー:ブタジエン/スチレン、商品名:Nipol Lx430、日本ゼオン社製)
上記作製したアンカー層付基材1〜6の構成を、表1に示す。
Polymer (1); Polymer D (structure: acrylate copolymer, main monomer: butadiene / styrene, trade name: Nipol Lx430, manufactured by Nippon Zeon Co., Ltd.)
Table 1 shows the configurations of the anchor layer-attached substrates 1 to 6 produced as described above.

Figure 0005445474
Figure 0005445474

なお、表1に略称で記載した各構成材料の詳細は、以下の通りである。   In addition, the detail of each constituent material described with the abbreviation in Table 1 is as follows.

〈ポリマー〉
ポリマーA;構造:アクリル酸エステル共重合体、主なモノマー:ブチルアクリレート/エチルアクリレート/アクリルニトリル/グリシジル変性、アクリルニトリルのモノマー質量比:30%、商品名:SG−P3、ナガセケムテックス社製、
ポリマーB;構造:エポキシ樹脂、主なモノマー:ビスフェノールAタイプ、商品名:iER828、ジャパンエポキシレジン社製、
ポリマーC;構造:NBR樹脂、主なモノマー:アクリルニトリル/ブタジエン、アクリルニトリルのモノマー質量比:27%、商品名:Nipol 1072J、日本ゼオン社製、
ポリマーD;構造:アクリル酸エステル共重合体、主なモノマー:ブタジエン/スチレン、商品名:Nipol Lx430、日本ゼオン社製、
〈添加剤〉
添加剤a;2−エチル−4−メチルイミダゾール、
添加剤b;トリエタノールアミン
添加剤c;ノニオン性界面活性剤含有のメッキコンディショナー、商品名:PC−321、メルタック社製、
《触媒インクの調製》
〔触媒インク1の調製〕
下記の各添加剤を混合して、触媒インク1を調製した。
<polymer>
Polymer A; structure: acrylate copolymer, main monomer: butyl acrylate / ethyl acrylate / acrylonitrile / glycidyl modified, acrylonitrile monomer mass ratio: 30%, trade name: SG-P3, manufactured by Nagase ChemteX Corporation ,
Polymer B; structure: epoxy resin, main monomer: bisphenol A type, trade name: iER828, manufactured by Japan Epoxy Resin Co., Ltd.
Polymer C; structure: NBR resin, main monomer: acrylonitrile / butadiene, monomer mass ratio of acrylonitrile: 27%, trade name: Nipol 1072J, manufactured by Nippon Zeon Co., Ltd.
Polymer D; structure: acrylate copolymer, main monomer: butadiene / styrene, trade name: Nipol Lx430, manufactured by Nippon Zeon Co., Ltd.
<Additive>
Additive a; 2-ethyl-4-methylimidazole,
Additive b; Triethanolamine Additive c; Plating conditioner containing nonionic surfactant, trade name: PC-321, manufactured by Meltac,
<Preparation of catalyst ink>
[Preparation of catalyst ink 1]
Catalyst ink 1 was prepared by mixing the following additives.

無電解めっきの触媒前駆体;酢酸パラジウム 0.2質量%
溶媒:エチレングリコールジアセテート(EGDAc) 99.8質量%
〔触媒インク2〜6の調製〕
上記触媒インク1の調製と同様にして、無電解めっきの触媒前駆体の種類と添加量、溶媒の種類と添加量、水の添加の有無、錯化剤の添加の有無を、表2に記載の組み合わせとして、触媒インク2〜6を調製した。
Electroless plating catalyst precursor; palladium acetate 0.2% by mass
Solvent: 99.8% by mass of ethylene glycol diacetate (EGDAc)
[Preparation of catalyst inks 2 to 6]
Table 2 shows the types and addition amounts of electroless plating catalyst precursors, the types and addition amounts of solvents, the presence or absence of addition of water, and the presence or absence of addition of complexing agents in the same manner as in the preparation of the catalyst ink 1. Catalyst inks 2 to 6 were prepared as combinations.

なお、表2に略称で記載した各添加剤の詳細は、以下の通りである。   In addition, the detail of each additive described by the abbreviation in Table 2 is as follows.

〈無電解めっきの触媒前駆体〉
PdAc:酢酸パラジウム
PdCl:塩化パラジウム
ベヘン酸銀
〈有機溶媒〉
EGDAc:エチレングリコールジアセテート
DEGDEE:ジエチレングリコールジエチルエーテル
DEGMBE:ジエチレングリコールモノブチルエーテル
DMF:ジメチルホルムアミド
t−BuOH:ter−ブチルアルコール
〈錯化剤〉
2−AP:2−アミノピリジン
〔触媒インクの特性評価〕
上記調製した各触媒インクについて、下記の各評価を行った。
<Catalyst precursor for electroless plating>
PdAc: Palladium acetate PdCl: Palladium chloride Silver behenate <Organic solvent>
EGDAc: ethylene glycol diacetate DEGDEE: diethylene glycol diethyl ether DEGMBE: diethylene glycol monobutyl ether DMF: dimethylformamide t-BuOH: ter-butyl alcohol <complexing agent>
2-AP: 2-aminopyridine [Characteristic evaluation of catalyst ink]
Each of the catalyst inks prepared above was subjected to the following evaluations.

(インク保存安定性の評価)
上記調製した各触媒インクをガラス瓶に充填し、密栓をした後、60℃、40℃、25℃の恒温槽中で4週間保存した後、各触媒インク中での析出物発生の有無、25%以上の粘度変動、変色の有無について評価し、下記の基準に従って、インク保存安定性の評価を行った。
(Evaluation of ink storage stability)
Each catalyst ink prepared above was filled in a glass bottle, sealed, and stored in a constant temperature bath at 60 ° C., 40 ° C., and 25 ° C. for 4 weeks, and then the presence or absence of precipitates in each catalyst ink, 25% The above viscosity fluctuations and discoloration were evaluated, and ink storage stability was evaluated according to the following criteria.

◎:25℃〜60℃で4週間保存した後でも、析出物の発生や粘度変動、変色などの変化は認められない
○:25℃、40℃で4週間保存した後でも、析出物の発生や粘度変動、変色などの変化は認められない。ただし、60℃で4週間保存した場合には、析出物の発生、粘度変動、変色の少なくとも1つに僅か変化が認められるが、実用上は許容される品質である
×:25℃で4週間保存した後に、析出物の発生、粘度変動、変色の少なくとも1つに明らかな変化が認め、実用上問題となる品質である
(インク吐出安定性の評価)
4plサイズの液滴を吐出可能なコニカミノルタIJ製、512Sヘッドを用い、20kHzで1時間の連続吐出を行った後と、更に休止時間を変化させて吐出を停止した後再び吐出した際のインク液滴の飛翔状態を観察し、下記の基準に従って、インク吐出安定性を評価した。
A: No precipitation, no change in viscosity, no change in color change, etc. is observed even after storage for 4 weeks at 25 ° C. to 60 ° C. ○: Generation of a precipitate even after storage for 4 weeks at 25 ° C. and 40 ° C. No changes such as viscosity change or discoloration are observed. However, when stored at 60 ° C. for 4 weeks, slight changes are observed in at least one of the generation of precipitates, viscosity fluctuations, and discoloration. However, the quality is acceptable in practice. ×: 4 weeks at 25 ° C. After storage, there is a clear change in at least one of the occurrence of precipitates, viscosity fluctuation, and discoloration, and this is a quality that poses a practical problem (evaluation of ink ejection stability)
Using Konica Minolta IJ 512S head capable of ejecting 4 pl size droplets, after performing continuous ejection at 20 kHz for 1 hour, and after stopping the ejection by changing the rest time, the ink when ejected again The flying state of the droplets was observed, and the ink ejection stability was evaluated according to the following criteria.

◎:1時間連続吐出した後でも、ノズル欠やインクの曲がりが生じない。また、吐出を1時間休んだ後に再吐出を行っても問題無く吐出した
○:1時間連続吐出した後でも、ノズル欠やインクの曲がりが生じない。また、吐出を10分間休んだ後に再吐出を行っても問題無く吐出した。ただし、停止時間が10分を越えると、僅かに弱いインク曲がりが発生するが、実用上は許容される品質である
×:1時間連続吐出している間に、ノズル欠またインクの曲がりが生じ、実用上問題となる品質である
以上により得られた結果を、表2に示す。
A: No nozzle missing or ink bending occurs even after continuous discharge for 1 hour. In addition, even if re-ejecting after resting for 1 hour, no problem occurs. ○: No nozzle missing or ink bending occurs even after continuous ejection for 1 hour. Moreover, even if it discharged again after resting for 10 minutes, it discharged without a problem. However, if the stop time exceeds 10 minutes, slightly weak ink bending occurs, but this is acceptable in practice. ×: Nozzle missing or ink bending occurs during continuous discharge for 1 hour. Table 2 shows the results obtained as described above, which are practically problematic quality.

Figure 0005445474
Figure 0005445474

表2の結果より明らかなように、水分を含有しない本発明で使用する触媒インクは、インクの保存安定性及び吐出安定性に優れていることが分かる。   As is apparent from the results in Table 2, it can be seen that the catalyst ink used in the present invention containing no moisture is excellent in the storage stability and ejection stability of the ink.

《金属パターンの形成》
〔金属パターン1の形成〕
下記のプロセスに従って、金属パターン1を形成した。
<Formation of metal pattern>
[Formation of metal pattern 1]
Metal pattern 1 was formed according to the following process.

(金属パターン形成プロセス)
1)触媒インクの付与工程
2)活性化工程(触媒前駆体の場合、触媒の場合は行わなかった)
3)無電解めっき工程
(触媒インクの付与工程:インクジェット方式)
上記調製した触媒インク1をインクジェット印刷装置に装填し、アンカー層付基材1上に、75μm、100μm、150μm、200μmの各ライン&スペースのパターン描画と、500mm×500mmのベタ画像の描画を行った。インクジェットヘッドは4plサイズの液滴を吐出可能なコニカミノルタIJ製、512Sヘッドを用いて描画した。
(Metal pattern formation process)
1) Catalyst ink application process 2) Activation process (in the case of a catalyst precursor, it was not performed in the case of a catalyst)
3) Electroless plating process (Catalyst ink application process: inkjet method)
The prepared catalyst ink 1 is loaded into an ink jet printing apparatus, and 75 μm, 100 μm, 150 μm, and 200 μm line and space patterns are drawn on a substrate 1 with an anchor layer, and a solid image of 500 mm × 500 mm is drawn. It was. The inkjet head was drawn using a Konica Minolta IJ 512S head capable of ejecting droplets of 4 pl size.

(活性化工程)
触媒インク1により画像印刷を行った後、以下の活性化液に、35℃で10分間浸漬した。
(Activation process)
After image printing with the catalyst ink 1, it was immersed in the following activation liquid at 35 ° C. for 10 minutes.

〈活性化液〉
アルカップMRD2−A(上村工業社製) 18ml
アルカップMRD2−C(上村工業社製) 60ml
純水 1000mlに仕上げた
(無電解めっき工程)
下記の方法に従って、無電解銅めっき溶液を調製した。
<Activation liquid>
Alcup MRD2-A (Uemura Kogyo Co., Ltd.) 18ml
Alcup MRD2-C (made by Uemura Kogyo Co., Ltd.) 60ml
Finished with 1000 ml of pure water (electroless plating process)
An electroless copper plating solution was prepared according to the following method.

無電解銅めっき溶液は、銅濃度として2.5質量%、ホルマリン濃度が1.0質量%、エチレンジアミンテトラ酢酸(EDTA)濃度が2.5質量%である。また、水酸化ナトリウムで無電解銅めっき溶液のpHを13.0に調整した。上記調製した無電解銅めっき溶液を50℃に加温し、活性化処理したサンプルに無電解めっきを施し、約0.2μmの膜厚の金属パターンを形成した。   The electroless copper plating solution has a copper concentration of 2.5 mass%, a formalin concentration of 1.0 mass%, and an ethylenediaminetetraacetic acid (EDTA) concentration of 2.5 mass%. Moreover, the pH of the electroless copper plating solution was adjusted to 13.0 with sodium hydroxide. The prepared electroless copper plating solution was heated to 50 ° C., and the activated sample was subjected to electroless plating to form a metal pattern having a thickness of about 0.2 μm.

〈無電解銅めっき溶液〉
メルプレートCU−5100A(メルテックス社製) 60ml
メルプレートCU−5100B(メルテックス社製) 55ml
メルプレートCU−5100C(メルテックス社製) 20ml
メルプレートCU−5100M(メルテックス社製) 40ml
純水 1000mlに仕上げた
〔金属パターン2〜13の形成〕
上記金属パターン1の作製において、アンカー層付基材の種類と触媒インクの種類を、表3に記載の組み合わせとした以外は同様にして、金属パターン2〜13を形成した。
<Electroless copper plating solution>
Melplate CU-5100A (Meltex) 60ml
Melplate CU-5100B (Meltex) 55ml
Melplate CU-5100C (Meltex) 20ml
Melplate CU-5100M (Meltex) 40ml
Finished with 1000 ml of pure water [Formation of metal patterns 2 to 13]
In preparation of the said metal pattern 1, the metal patterns 2-13 were formed similarly except having set the kind of base material with an anchor layer, and the kind of catalyst ink as the combination of Table 3.

《金属パターンの触媒量の測定》
〔D1、D2の測定〕
上記各金属パターンの作製において、触媒インクの付与までを行った500mm×500mmのベタ画像部について、下記の方法に従って、アンカー層の表面側領域(該基板の接触面とは反対側の面)における触媒またはその前駆体の平均濃度Dと、アンカー層の基板との界面側領域における触媒またはその前駆体の平均濃度Dを測定した。
<Measurement of catalyst amount of metal pattern>
[Measurement of D1 and D2]
In the preparation of each metal pattern, the solid image portion of 500 mm × 500 mm subjected to the application of the catalyst ink was subjected to the following method in the surface side region of the anchor layer (surface opposite to the contact surface of the substrate). the average density D 1 of the catalyst or its precursor, to measure the average density D 2 of the catalyst or its precursor in the interface side region of the substrate of the anchor layer.

触媒インクの付与までを行った各試料を十分に乾燥させ後、はじめにアンカー層全層の触媒量(mg)を、誘導結合プラズマ−質量分析(ICP−MS)装置を用いて定量し、単位面積当たりの触媒量(mg/m)Cを求めた。 After each sample subjected to the application of the catalyst ink is sufficiently dried, first, the catalyst amount (mg) of the entire anchor layer is quantified using an inductively coupled plasma-mass spectrometry (ICP-MS) apparatus, and the unit area The amount of catalyst per mg (m / m 2 ) C 1 was determined.

次いで、同試料をミクロトームにより、アンカー層の1/2の位置(アンカー層1〜4、6は、5.0μmの位置、アンカー層5は6.0μmの位置)までスライスし、上層膜である表面側領域を削除し、下層膜である界面側領域のみを残し、この界面側領域の触媒量(mg)を、誘導結合プラズマ−質量分析(ICP−MS)装置を用いて定量し、単位面積当たりの触媒量(mg/m)Dを求めた。 Next, the sample is sliced by a microtome to 1/2 the position of the anchor layer (anchor layers 1 to 4 and 6 are at a position of 5.0 μm, anchor layer 5 is at a position of 6.0 μm) to form an upper layer film. The surface side region is deleted, leaving only the interface side region that is the lower layer film, and the amount of catalyst (mg) in this interface side region is quantified using an inductively coupled plasma-mass spectrometry (ICP-MS) device, and the unit area The amount of catalyst per mg (m 2 ) D 2 was determined.

上記測定結果より、全層の触媒量(mg/m)C−界面側領域の触媒量(mg)Dの値を、表面側領域の触媒量(mg)Dとして求めた。 From the above measurement results, the value of the catalyst amount (mg / m 2 ) C 1 -catalyst amount (mg) D 2 in the interface region was determined as the catalyst amount (mg) D 1 in the surface region.

《金属パターンの評価》
上記形成した各金属パターンについて、下記の各評価を行った。
<Evaluation of metal pattern>
Each of the formed metal patterns was subjected to the following evaluations.

〔めっき速度の評価〕
上記金属パターンの作製において、無電解めっき工程における無電解めっき処理で形成される銅膜厚が0.2μmに成長するまでの時間を計測し、下記の基準に従って、めっき速度の評価を行った。
[Evaluation of plating speed]
In the production of the metal pattern, the time until the copper film formed by the electroless plating process in the electroless plating process grew to 0.2 μm was measured, and the plating rate was evaluated according to the following criteria.

◎:銅膜厚が0.2μmに成長するまでの時間が、10分未満である
○:銅膜厚が0.2μmに成長するまでの時間が、10分以上、20分未満である
△:銅膜厚が0.2μmに成長するまでの時間が、20分以上、40分未満である
×:銅膜厚が0.2μmに成長するまでの時間が、40分以上である
〔細線再現性の評価〕
上記作成した75μm、100μm、150μm、200μmの各ライン&スペースの金属パターンを、光学顕微鏡を用いて観察し、下記の基準に従って、細線再現性を評価した。
A: Time until the copper film thickness grows to 0.2 μm is less than 10 minutes O: Time until the copper film thickness grows to 0.2 μm is 10 minutes or more and less than 20 minutes Δ: The time until the copper film thickness grows to 0.2 μm is 20 minutes or more and less than 40 minutes. X: The time until the copper film thickness grows to 0.2 μm is 40 minutes or more. Evaluation of〕
The above-prepared metal patterns of 75 μm, 100 μm, 150 μm, and 200 μm lines and spaces were observed using an optical microscope, and fine line reproducibility was evaluated according to the following criteria.

◎:75〜200μの各ライン&スペースが正確に再現されており、めっきされたライン&スペースにも途切れが無く良好な品質である
○:わずかに線幅のバラつきは認められるが、ほぼ良好なライン&スペースは再現されている
×:バルジ発生によるラインの途切れ、液滴間のビーディングによるライン位置ズレ、ライン内でのスジの発生が認められ、実用上問題となる品質である
以上により得られた結果を、表3に示す。
◎: Each line & space of 75 to 200μ is accurately reproduced, and the plated line & space is uninterrupted and has good quality. ○: Slight variation in line width is recognized, but almost good Line and space are reproduced. ×: Line break due to bulge generation, line position deviation due to beading between droplets, and generation of streaks within the line are recognized. The results obtained are shown in Table 3.

Figure 0005445474
Figure 0005445474

表に記載の結果より明らかなように、本発明の金属パターンの製造方法で作製した金属パターンは、比較例に対し、めっき速度が速く、かつ形成した金属パターンの細線再現性に優れていることが分かる。   As is clear from the results shown in the table, the metal pattern produced by the method for producing a metal pattern of the present invention has a higher plating speed than the comparative example and is excellent in fine line reproducibility of the formed metal pattern. I understand.

Claims (8)

基板の上にポリマーを含むアンカー層を形成した後、該アンカー層上に無電解めっきの触媒またはその前駆体と溶媒とを含有するインクをインクジェット法により付与し、無電解めっき処理によって金属パターンを形成する金属パターンの製造方法において、該アンカー層の表面側領域(該基板の接触面とは反対側の面)における触媒またはその前駆体の平均濃度をDとし、該アンカー層の該基板との界面側領域における触媒またはその前駆体の平均濃度をDとしたとき、D>D×5の関係を満たし、かつ該インクが該溶媒として水を含有しない非水系インクであることを特徴とする金属パターンの製造方法。 After forming an anchor layer containing a polymer on a substrate, an ink containing an electroless plating catalyst or a precursor thereof and a solvent is applied on the anchor layer by an ink jet method, and a metal pattern is formed by electroless plating treatment. in the manufacturing method of forming metal patterns, the average concentration of the catalyst or its precursor on the surface side region of the anchor layer (the surface opposite to the contact surface of the substrate) and D 1, and the substrate of the anchor layer when the average concentration of the catalyst or its precursor was D 2 in the interface side region, satisfy the relation of D 1> D 2 × 5, and that the ink is a non-aqueous ink containing no water as the solvent A method for producing a metal pattern. 前記触媒またはその前駆体が、パラジウム金属塩であることを特徴とする請求項1記載の金属パターンの製造方法。   The method for producing a metal pattern according to claim 1, wherein the catalyst or a precursor thereof is a palladium metal salt. 前記アンカー層が含有するポリマーが、アクリルニトリル成分を有するアクリル酸エステル共重合体であることを特徴とする請求項1または2に記載の金属パターンの製造方法。   The method for producing a metal pattern according to claim 1 or 2, wherein the polymer contained in the anchor layer is an acrylate copolymer having an acrylonitrile component. 前記アンカー層が、ポリマーとして更にエポキシ樹脂を含有することを特徴とする請求項3に記載の金属パターンの製造方法。   The method for producing a metal pattern according to claim 3, wherein the anchor layer further contains an epoxy resin as a polymer. 前記アンカー層が、触媒またはその前駆体に対する吸着性(配位性)を有する化合物を含有していることを特徴とする請求項1から4のいずれか1項に記載の金属パターンの製造方法。   The method for producing a metal pattern according to any one of claims 1 to 4, wherein the anchor layer contains a compound having an adsorptivity (coordination property) to the catalyst or a precursor thereof. 前記アンカー層を形成した後、触媒またはその前駆体に対する吸着性(配位性)を有する化合物を該アンカー層表面に付与して、無電解めっきを行うことを特徴とする請求項1から5のいずれか1項に記載の金属パターンの製造方法。   6. The electroless plating is performed by forming a compound having an adsorptivity (coordination property) with respect to a catalyst or a precursor thereof on the surface of the anchor layer after forming the anchor layer. The manufacturing method of the metal pattern of any one of Claims 1. 前記アンカー層は上層及び下層の2層で構成され、上層が触媒またはその前駆体と相互作用する官能基を有するポリマーで構成され、下層が硬化性ポリマーで構成されていることを特徴とする請求項1から6のいずれか1項に記載の金属パターンの製造方法。   The anchor layer is composed of two layers, an upper layer and a lower layer, the upper layer is composed of a polymer having a functional group that interacts with a catalyst or a precursor thereof, and the lower layer is composed of a curable polymer. Item 7. The method for producing a metal pattern according to any one of Items 1 to 6. 前記インクが含有する溶媒が、グリコールジエステル類、グリコールジエーテル類、グリコールエーテル・エステル類、3級アルコール類、及びアミド類から選らばれる少なくとも1種の溶媒であることを特徴とする請求項1から7のいずれか1項に記載の金属パターンの製造方法。   The solvent contained in the ink is at least one solvent selected from glycol diesters, glycol diethers, glycol ethers / esters, tertiary alcohols, and amides. 8. The method for producing a metal pattern according to any one of 7 above.
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JPH05202483A (en) * 1991-04-25 1993-08-10 Shipley Co Inc Method and composition for electroless metallization
JP2001181853A (en) * 1999-12-28 2001-07-03 Nisshinbo Ind Inc Nonaqueous electroless plating solution and plating method using the plating solution
JP4006175B2 (en) * 2000-09-22 2007-11-14 三菱製紙株式会社 Inkjet recording material
US6767828B2 (en) * 2001-10-05 2004-07-27 International Business Machines Corporation Method for forming patterns for semiconductor devices
JP2005111836A (en) * 2003-10-08 2005-04-28 Fuji Photo Film Co Ltd Information medium
JP2009164575A (en) * 2007-12-14 2009-07-23 Fujifilm Corp Method of manufacturing surface metal film material, surface metal film material, method of manufacturing patterned metal material, patterned metal material, and polymer layer-forming composition
JP2010010548A (en) * 2008-06-30 2010-01-14 Konica Minolta Holdings Inc Ink acceptable base material, and method of manufacturing conductive pattern using the same
JP5298670B2 (en) * 2008-07-04 2013-09-25 コニカミノルタ株式会社 Metal pattern forming method and metal pattern

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