JP5438826B2 - ビーム位置モニタ装置及び粒子線治療装置 - Google Patents
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Description
図1は、本発明の実施の形態1によるビーム位置モニタ装置の構成を示す図である。図2は本発明の実施の形態1によるビーム位置モニタ装置を備えた粒子線照射装置の構成を示す図であり、図3は本発明の実施の形態1による粒子線治療装置の概略構成図である。図3において、粒子線治療装置51は、ビーム発生装置52と、ビーム輸送系59と、粒子線照射装置58a、58bとを備える。ビーム発生装置52は、イオン源(図示せず)と、前段加速器53と、シンクロトロン54とを有する。粒子線照射装置58bは回転ガントリ(図示せず)に設置される。粒子線照射装置58aは回転ガントリを有しない治療室に設置される。ビーム輸送系59の役割はシンクロトロン54と粒子線照射装置58a、58bの連絡にある。ビーム輸送系59の一部は回転ガントリ(図示せず)に設置され、その部分には複数の偏向電磁石55a、55b、55cを有する。
Px=Σ(wix×Xi)/Σwix ・・・(1)
Py=Σ(wiy×Yi)/Σwiy ・・・(2)
ここで、Xiは位置モニタ4のXチャネルiのX座標であり、Yiは位置モニタ4のYチャネルiのY座標である。wixはXチャネルiの電圧Viから変換された上記割合であり、wiyはYチャネルiの電圧Viから変換された上記割合である。
Sx=sqr(Σwix×(Xi−Px)2)/Σwix) ・・・(3)
Sy=sqr(Σwiy×(Yi−Py)2)/Σwiy) ・・・(4)
ここで、sqrはルート計算する関数である。nは、Xチャネル及びYチャネルにおける計算対象の総計である。
Claims (6)
- 加速器により加速され、走査電磁石で走査された荷電粒子ビームの状態を演算処理するビーム位置モニタ装置であって、
前記荷電粒子ビームの通過位置を複数の検出チャネルにより検出する複数の位置モニタと、複数の前記位置モニタから出力される複数のアナログ信号に基づいて前記荷電粒子ビームの状態を演算処理するビームデータ処理装置と、を備え、
前記ビームデータ処理装置は、
前記位置モニタから出力される複数のアナログ信号を、前記アナログ信号毎にデジタル信号に変換するAD変換器処理を実行するチャネルデータ変換部を複数有し、
複数の前記チャネルデータ変換部により処理された複数の電圧情報に基づいて、前記位置モニタにおける前記荷電粒子ビームの通過位置であるビーム位置を計算する位置サイズ処理部を前記位置モニタ毎に有し、
前記荷電粒子ビームが照射対象に照射されている間に、前記AD変換器処理を前記位置モニタ毎にタイミングをずらして実行するように、複数の前記チャネルデータ変換部を制御する統括制御部を有することを特徴とするビーム位置モニタ装置。 - 前記統括制御部は、前記荷電粒子ビームを前記目標位置に走査する前記走査電磁石への指令の設定が完了したことを示すスポット間移動完了信号を受信する度に、複数の前記チャネルデータ変換部を前記位置モニタ毎に対応してグループ化されたデータ変換部グループの複数のうち前記AD変換器処理を実行していない一つのデータ変換部グループに対して前記AD変換器処理を開始する処理開始信号を出力し、前記処理開始信号を出力してから所定の開始遅延時間が経過した後に、前記AD変換器処理を実行していない他のデータ変換部グループに対して前記AD変換器処理を開始する処理開始信号を出力することを特徴とする請求項1記載のビーム位置モニタ装置。
- 前記ビームデータ処理装置は、前記位置サイズ処理部により計算された前記ビーム位置が許容範囲にあるかを前記荷電粒子ビームの目標位置及び位置許容値に基づいて判定し、前記ビーム位置が許容範囲にないと判定した場合に位置異常信号を生成する異常判定処理部を前記位置モニタ毎に有することを特徴とする請求項1または2に記載のビーム位置モニタ装置。
- 前記位置モニタは2つ設けられ、
前記統括制御部は、2つの前記データ変換部グループに対して交互に前記AD変換器処理を開始する処理開始信号を出力することを特徴とする請求項2または3に記載のビーム位置モニタ装置。 - 前記位置サイズ処理部は、複数の前記チャネルデータ変換部により処理された複数の前記電圧情報に基づいて、前記位置モニタを通過する前記荷電粒子ビームのビームサイズを計算し、
前記異常判定処理部は、前記荷電粒子ビームの目標ビームサイズ及びサイズ許容値に基づいて前記ビームサイズが許容範囲にあるかを判定し、前記ビームサイズが許容範囲にないと判定した場合にサイズ異常信号を生成することを特徴とする請求項3または4に記載のビーム位置モニタ装置。 - 荷電粒子ビームを発生させ、この荷電粒子ビームを加速器で加速させるビーム発生装置と、前記加速器により加速された荷電粒子ビームを輸送するビーム輸送系と、前記ビーム輸送系で輸送された荷電粒子ビームを照射対象に照射する粒子線照射装置と、を備え、
前記粒子線照射装置は、前記照射対象に照射する荷電粒子ビームを走査する走査電磁石と、前記走査電磁石で走査された荷電粒子ビームの状態を演算処理するビーム位置モニタ装置を有し、
前記ビーム位置モニタ装置は、請求項1乃至5のいずれか1項に記載のビーム位置モニタ装置であることを特徴とする粒子線治療装置。
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