JP5382158B2 - Organic EL pixel circuit - Google Patents

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Description

本発明は、有機EL素子などの発光素子を含む画素回路、特にそのレイアウトに関する。   The present invention relates to a pixel circuit including a light emitting element such as an organic EL element, and more particularly to a layout thereof.

従来より、有機EL素子を用いた有機ELパネルが知られており、その開発が進んでいる。この有機ELパネルにおいては、有機EL素子をマトリクス状に配置し、この有機EL素子の発光を個別に制御することで、表示を行う。特に、アクティブマトリクスタイプの有機ELパネルでは、画素毎に表示制御用のTFTを有し、このTFTの動作制御により画素毎の発光を制御できるため、非常に高精度の表示を行うことができる。   Conventionally, an organic EL panel using an organic EL element is known, and development thereof is progressing. In this organic EL panel, organic EL elements are arranged in a matrix and display is performed by individually controlling the light emission of the organic EL elements. In particular, an active matrix type organic EL panel has a display control TFT for each pixel, and the light emission for each pixel can be controlled by the operation control of the TFT. Therefore, display with very high accuracy can be performed.

図12に、アクティブマトリクスタイプの有機ELパネルにおける画素回路の一例を示す。画素の輝度を示すデータ電圧が供給されるデータラインDLは、ゲートがゲートラインGLに接続されたnチャネルの選択TFT10を介し、駆動TFT12のゲートに接続されている。また、駆動TFT12のゲートには、他端が容量ラインSCに接続された保持容量14の一端が接続され、駆動TFT12のゲート電圧を保持する。   FIG. 12 shows an example of a pixel circuit in an active matrix type organic EL panel. The data line DL to which the data voltage indicating the luminance of the pixel is supplied is connected to the gate of the driving TFT 12 via the n-channel selection TFT 10 whose gate is connected to the gate line GL. In addition, one end of the storage capacitor 14 whose other end is connected to the capacitor line SC is connected to the gate of the drive TFT 12 to hold the gate voltage of the drive TFT 12.

駆動TFT12のソースは、EL電源ラインに接続され、ドレインは有機EL素子16のアノードに接続され、有機EL素子16のカソードがカソード電源に接続されている。   The source of the driving TFT 12 is connected to the EL power supply line, the drain is connected to the anode of the organic EL element 16, and the cathode of the organic EL element 16 is connected to the cathode power supply.

このような画素回路がマトリクス状に配置されており、所定のタイミングで、水平ライン毎に設けられたゲートラインがHとなり、その行の選択TFT10がオン状態になる。この状態で、データラインには、順次データ電圧が供給されるため、そのデータ電圧は保持容量14に供給保持され、ゲートラインがLとなってもその時の電圧を保持する。   Such pixel circuits are arranged in a matrix. At a predetermined timing, the gate line provided for each horizontal line becomes H, and the selection TFT 10 in that row is turned on. In this state, since the data voltage is sequentially supplied to the data line, the data voltage is supplied and held in the holding capacitor 14, and the voltage at that time is held even if the gate line becomes L.

そして、この保持容量14に保持された電圧に応じて、駆動TFT12が動作して対応する駆動電流がEL電源からの有機EL素子16を介し、カソード電源に流れ、有機EL素子16がデータ電圧に応じて発光する。   Then, according to the voltage held in the holding capacitor 14, the driving TFT 12 operates and a corresponding driving current flows to the cathode power source through the organic EL element 16 from the EL power source, and the organic EL element 16 becomes the data voltage. It emits light in response.

そして、ゲートラインを順次Hとして、入力されてくるビデオ信号を対応する画素にデータ電圧として順次供給することで、マトリクス状に配置された、有機EL素子16がデータ電圧に応じて発光し、ビデオ信号についての表示が行われる。   Then, the gate lines are sequentially set to H, and the input video signals are sequentially supplied as data voltages to the corresponding pixels, so that the organic EL elements 16 arranged in a matrix emit light according to the data voltages, and the video An indication about the signal is made.

ここで、このような画素回路において、マトリクス状に配置された画素回路の駆動TFTのしきい値電圧がばらつくと、輝度がばらつくことになり、表示品質が低下するという問題がある。そして、表示パネル全体の画素回路を構成するTFTについて、その特性を同一にすることは難しく、そのオンオフのしきい値がばらつくことを防止することは難しい。   Here, in such a pixel circuit, if the threshold voltage of the driving TFTs of the pixel circuits arranged in a matrix varies, there is a problem that the luminance varies and the display quality is deteriorated. It is difficult to make the characteristics of the TFTs constituting the pixel circuit of the entire display panel the same, and it is difficult to prevent the on / off threshold value from varying.

そこで、TFTのしきい値の変動への影響を防止するための回路について、例えば、下記特許文献1、2などの提案がある。
特表2002−514320号公報 特開2005−128521号公報
Therefore, for example, the following Patent Documents 1 and 2 have been proposed as a circuit for preventing the influence on the fluctuation of the threshold value of the TFT.
Special table 2002-514320 gazette JP-A-2005-128521

しかし、これら提案では、各画素回路の制御のための制御線が2以上必要になる。すなわち、上述の図5の回路では、垂直方向に伸びるデータライン、電源ラインの他の制御ラインとしてゲートラインのみでよいが、特許文献1,2では、ゲートラインの他に、少なくとも2本の制御ラインを必要とする。   However, these proposals require two or more control lines for controlling each pixel circuit. That is, in the circuit of FIG. 5 described above, only the gate line may be used as the other control line of the data line and the power supply line extending in the vertical direction. However, in Patent Documents 1 and 2, at least two controls other than the gate line are required. Need a line.

従って、この制御ラインのみならず、この制御ラインとトランジスタとの接続ラインなどが増え、開口率が減少してしまうという問題がある。   Accordingly, there is a problem that not only this control line but also a connection line between the control line and the transistor is increased and the aperture ratio is decreased.

そこで、配線等を効率的に配置して開口率を比較的高く維持することが望まれる。   Therefore, it is desired to efficiently arrange the wiring and maintain the aperture ratio relatively high.

本発明は、画素をマトリクス状に配置した表示装置であって、各画素は、ゲートラインからの選択信号によってオンオフされ、データラインに一端が接続されてデータラインからのデータ信号の受け入れを制御する選択トランジスタと、 一端が電源ラインに接続され、選択トランジスタを介し受け入れられたデータ信号に応じた電圧がゲートに印加されることによって、データ信号に応じて前記電源ラインからの電流を流す駆動トランジスタと、この駆動トランジスタの他端側に接続され、この駆動トランジスタに流れる電流に応じて発光する発光素子と、データ信号に応じた電圧が駆動トランジスタのゲートに印加される経路上に一端が接続され、一行の画素に対して共通して設けられる容量セットラインからの信号によってオンオフされる電位制御トランジスタと、ゲートラインからの信号によってオンオフされ、駆動トランジスタのゲートと駆動トランジスタの他端との間を短絡する短絡トランジスタと、駆動トランジスタの他端と発光素子の間に配置され、一行の画素に対して共通して設けられる発光セットラインからの信号によってオンオフされる駆動制御トランジスタと、を含み、短絡トランジスタと駆動制御トランジスタは、該トランジスタを形成する半導体層によって互いに接続され、選択トランジスタと短絡トランジスタは、同一のゲートラインに接続され、ゲートラインは、容量セットラインと前記発光セットラインの間に配置されることを特徴とする。 The present invention is a display device in which pixels are arranged in a matrix, and each pixel is turned on / off by a selection signal from a gate line, and one end of the pixel is connected to the data line to control reception of a data signal from the data line. A selection transistor; and a driving transistor that has one end connected to the power supply line and applies a voltage according to the data signal received through the selection transistor to the gate, thereby causing a current from the power supply line to flow according to the data signal. The light emitting element connected to the other end side of the driving transistor and emitting light according to the current flowing through the driving transistor, and one end connected to the path where the voltage according to the data signal is applied to the gate of the driving transistor, It is turned on / off by a signal from a capacitance set line that is commonly provided for pixels in one row. A potential control transistor, a short-circuit transistor that is turned on and off by a signal from the gate line and short-circuits between the gate of the drive transistor and the other end of the drive transistor, and is disposed between the other end of the drive transistor and the light-emitting element. A drive control transistor that is turned on and off by a signal from a light emission set line that is provided in common to the pixels of the pixel, and the short-circuit transistor and the drive control transistor are connected to each other by a semiconductor layer that forms the transistor, a short-circuit transistor is connected to the same gate line, the gate line is characterized Rukoto disposed between the light-emitting set line and capacitance set line.

特に、半導体層は、電源ラインとデータラインの間の空間における厚み方向下側に形成されることが好適である。   In particular, the semiconductor layer is preferably formed on the lower side in the thickness direction in the space between the power supply line and the data line.

また、駆動トランジスタのゲートは容量に接続され、この容量を、前記選択トランジスタを形成する半導体層と前記選択トランジスタのゲート電極と同一の層とが対向することによって形成することも好適であり、さらにこの容量を電源ラインと重畳して形成されることでも効果が発揮される。 The gate of the driving transistor is connected to the capacitor, the capacitor, it is also preferable that the same layer as the gate electrode of the selection transistor and the semiconductor layer forming the selection transistor is formed by opposing, further The effect is also exhibited by forming this capacitor so as to overlap the power supply line .

さらに、選択トランジスタおよび短絡トランジスタを構成する半導体層を共にゲートラインに平行に延びるように形成することも好ましい。   Furthermore, it is also preferable to form both the semiconductor layers constituting the selection transistor and the short-circuit transistor so as to extend in parallel with the gate line.

このように、本発明によれば、ゲートラインに平行に配置されるゲートライン以外の2本の制御ラインをゲートラインを挟んで配置した。これによって、配線を効率的に配置することができ、開口率を比較的大きくできる。特に、電源ラインとのコンタクトを画素電極の存在しないゲートラインと制御ラインの間の空間に少なくとも1つ配置することで、開口率の減少を抑制することができる。   As described above, according to the present invention, two control lines other than the gate lines arranged in parallel to the gate lines are arranged with the gate lines interposed therebetween. As a result, the wiring can be arranged efficiently, and the aperture ratio can be made relatively large. In particular, by disposing at least one contact with the power supply line in the space between the gate line and the control line where no pixel electrode exists, a decrease in the aperture ratio can be suppressed.

以下、本発明の実施形態について、図面に基づいて説明する。   Hereinafter, embodiments of the present invention will be described with reference to the drawings.

図1は、実施形態に係る画素回路の構成を示している。データラインDLは、垂直方向に伸び、画素の表示輝度についてのデータ信号(データ電圧Vsig)を画素回路に供給する。データラインDLは、1列の画素に対し1本設けられており、垂直方向の画素に対し、その画素のデータ電圧Vsigを順次供給する。   FIG. 1 shows a configuration of a pixel circuit according to the embodiment. The data line DL extends in the vertical direction and supplies a data signal (data voltage Vsig) about the display luminance of the pixel to the pixel circuit. One data line DL is provided for one column of pixels, and sequentially supplies the data voltage Vsig of the pixel to the pixels in the vertical direction.

このデータラインDLには、nチャネルの選択トランジスタT1のドレインが接続されており、この選択トランジスタT1のソースは、容量Csの一端に接続されている。選択トランジスタT1のゲートは、水平方向に伸びるゲートラインGLに接続されている。   The data line DL is connected to the drain of an n-channel selection transistor T1, and the source of the selection transistor T1 is connected to one end of a capacitor Cs. The gate of the selection transistor T1 is connected to a gate line GL extending in the horizontal direction.

また、1行の画素に対し容量セットラインCSが設けられ、この容量セットラインCSには、pチャンネルの電位制御トランジスタT2のゲートが接続されている。この容量セットラインCSは、ゲートラインGLがHレベルになる少し前にLレベルとなり、ゲートラインGLがLレベルに戻った後にLレベルに戻る。従って、選択トランジスタT1がオンの時に電位制御トランジスタT2がオフ、選択トランジスタT1がオフの時に電位制御トランジスタT2がオンとなる。電位制御トランジスタT2のソースは電源ラインPVddに接続され、ドレインは容量Csと選択トランジスタT1のソースに接続されている。なお、電源ラインPVddも垂直方向に伸びており、垂直方向の各画素に電源電圧PVddを供給する。   In addition, a capacitance set line CS is provided for one row of pixels, and the gate of a p-channel potential control transistor T2 is connected to the capacitance set line CS. The capacitance set line CS becomes L level shortly before the gate line GL becomes H level, and returns to L level after the gate line GL returns to L level. Accordingly, the potential control transistor T2 is turned off when the selection transistor T1 is on, and the potential control transistor T2 is turned on when the selection transistor T1 is off. The source of the potential control transistor T2 is connected to the power supply line PVdd, and the drain is connected to the capacitor Cs and the source of the selection transistor T1. The power supply line PVdd also extends in the vertical direction, and supplies the power supply voltage PVdd to each pixel in the vertical direction.

容量Csの他端は、pチャンネルの駆動トランジスタT4のゲートに接続されている。駆動トランジスタT4のソースは電源ラインPVddに接続され、ドレインはnチャネルの駆動制御トランジスタT5のドレインに接続されている。駆動制御トランジスタT5のソースは、有機EL素子ELのアノードに接続されており、ゲートは、水平方向に伸びる発光セットラインESに接続されている。また、有機EL素子ELのカソードは、低電圧のカソード電源CVに接続されている。   The other end of the capacitor Cs is connected to the gate of the p-channel drive transistor T4. The source of the drive transistor T4 is connected to the power supply line PVdd, and the drain is connected to the drain of the n-channel drive control transistor T5. The source of the drive control transistor T5 is connected to the anode of the organic EL element EL, and the gate is connected to the light emission set line ES extending in the horizontal direction. The cathode of the organic EL element EL is connected to a low voltage cathode power source CV.

さらに、駆動トランジスタT4のゲートには、nチャネルの短絡トランジスタT3のドレインが接続されており、この短絡トランジスタT3のソースは、駆動トランジスタT4のドレインに、またゲートはゲートラインGLに接続されている。   Furthermore, the drain of the n-channel short-circuit transistor T3 is connected to the gate of the drive transistor T4, the source of the short-circuit transistor T3 is connected to the drain of the drive transistor T4, and the gate is connected to the gate line GL. .

このように、本実施形態では、垂直方向にデータラインDLと、電源ラインPVddの2本のラインが配置され、水平方向にはゲートラインGLの他に、容量セットラインCSと発光セットラインESの2本の制御ラインが配置されている。   As described above, in the present embodiment, two lines of the data line DL and the power supply line PVdd are arranged in the vertical direction, and in addition to the gate line GL, the capacitor set line CS and the light emission set line ES are arranged in the horizontal direction. Two control lines are arranged.

次に、この画素回路の動作について、説明する。   Next, the operation of this pixel circuit will be described.

図2に示すように、この画素回路は、ゲートラインGL、容量セットラインCS、発光セットラインESの状態(Hレベル,Lレベル)に応じて、(i)ディスチャージ(GL=Hレベル,CS=Lレベル,ES=Hレベル)、(ii)リセット(GL=Hレベル,CS=Lレベル,ES=Lレベル)、(iii)電位固定(GL=Lレベル,CS=Hレベル,ES=Lレベル)、(iv)発光(GL=Lレベル,CS=Hレベル,ES=Hレベル)の4つの状態があり、これを繰り返す。すなわち、データラインDLのデータを有効にした状態で、(i)ディスチャージを行い、その後(ii)リセットによって、容量Csの充電電圧を決定し、(iii)においてゲート電圧Vgを固定し、(v)固定されたゲート電圧に応じた駆動電流で有機EL素子ELが発光する。なお、容量セットラインCSは、上述のようにゲートラインGLがHレベルの時にLレベル、ゲートラインGLがLレベルの時にHレベルであるが、ゲートラインGLがHレベルになる前にLレベルになり、ゲートラインGLのLレベルに戻ってからHレベルになることによって、選択トランジスタT1と、電位制御トランジスタT2が同時にオンすることを防止している。   As shown in FIG. 2, this pixel circuit includes (i) discharge (GL = H level, CS = depending on the state (H level, L level) of the gate line GL, the capacitor set line CS, and the light emission set line ES. L level, ES = H level), (ii) reset (GL = H level, CS = L level, ES = L level), (iii) potential fixed (GL = L level, CS = H level, ES = L level) ), (Iv) There are four states of light emission (GL = L level, CS = H level, ES = H level), which are repeated. That is, in a state where the data on the data line DL is valid, (i) discharge is performed, and then (ii) the charging voltage of the capacitor Cs is determined by reset, and the gate voltage Vg is fixed in (iii) (v ) The organic EL element EL emits light with a driving current corresponding to the fixed gate voltage. The capacitance set line CS is at the L level when the gate line GL is at the H level as described above, and is at the H level when the gate line GL is at the L level. Thus, the selection transistor T1 and the potential control transistor T2 are prevented from being turned on simultaneously by returning to the H level after returning to the L level of the gate line GL.

また、データラインDLにおけるデータは、図に示すように、(i)ディスチャージ工程の前に有効になり、(iii)固定工程の後に無効になる。従って、(i)ディスチャージ工程から(iii)固定工程まではデータラインに有効なデータがセットされている。   Further, as shown in the drawing, the data in the data line DL becomes valid before (i) the discharge process, and (iii) becomes invalid after the fixing process. Therefore, valid data is set in the data line from (i) the discharge process to (iii) the fixing process.

以下、それぞれの状態について、説明する。なお、図3〜6においてオフのトランジスタについてには、破線で示してある。
(i)ディスチャージ(GL=Hレベル,CS=Lレベル,ES=Hレベル)
まず、データラインDLにデータ電圧Vsigが供給されている状態で、ゲートラインGL、発光セットラインESの両方をHレベル(高レベル)、容量セットラインCSをLレベルにする。これによって、選択トランジスタT1、駆動制御トランジスタT5、短絡トランジスタT3がオン、電位制御トランジスタT2がオフとなる。従って、図3に示すように、容量Csの選択トランジスタT1側の電圧Vn=Vsigという状態で、電源ラインPVddからの電流が駆動トランジスタT4、駆動制御トランジスタT5、有機EL素子ELを介しカソード電源CVに流れ、これによって駆動トランジスタT4のゲートに保持されていた電荷が引き抜かれる。これによって、駆動トランジスタT4のゲート電圧Vgは、所定の低電圧になる。
(ii)リセット(GL=Hレベル,CS=Lレベル,ES=Lレベル)
上述のディスチャージの状態から発光セットラインESをLレベル(ローレベル)に変更する。これによって、図4に示すように、駆動制御トランジスタT5がオフとなり、駆動トランジスタT4のゲート電圧Vg=Vg0=PVdd−|Vtp|にリセットされる。ここで、このVtpは、駆動トランジスタT4のしきい値電圧である。すなわち、駆動トランジスタT4はソースが電源PVddに接続されている状態で、短絡トランジスタT3によって、ゲートドレイン間が短絡されているため、そのゲート電圧が、電源PVddより駆動トランジスタT4のしきい値電圧|Vtp|だけ低い電圧にセットされてオフされる。このとき容量Csの選択トランジスタT1側の電位Vn=Vsigであり、容量Csには|Vsig−(PVdd−|Vtp|)|の電圧が充電される。
(iii)電位固定(GL=Lレベル,CS=Hレベル,ES=Lレベル)
次に、ゲートラインGLをLレベルとして、選択トランジスタT1、短絡トランジスタT3をオフし、その後容量セットラインCSをHレベルとして電位制御トランジスタT2をオンする。これによって、図5に示すように、駆動トランジスタT4のゲートは、ドレインから切り離される。そして、電位制御トランジスタT2がオンすることで、Vn=PVddとなる。従って、駆動トランジスタT4のゲート電位Vgは、Vnの変化に応じてシフトする。なお、駆動トランジスタT4のゲートとソースの間には、寄生容量Cpが存在するため、ゲート電位VgはこのCpの影響を受ける。
(iv)発光(GL=Lレベル,CS=Hレベル,ES=Hレベル)
次に、発光セットラインESをHレベルにすることによって、図6に示すように、駆動制御トランジスタT5がオンし、これによって駆動トランジスタT4からの駆動電流が有機EL素子ELに流れる。このときの駆動電流は、駆動トランジスタT4のゲート電圧によって決定される、駆動トランジスタT4のドレイン電流となるが、このドレイン電流は駆動トランジスタT4のしきい値電圧Vtpとは、関係ないものとなり、しきい値電圧の変動に伴う発光量の変動を抑えることができる。
Hereinafter, each state will be described. Note that the off transistors in FIGS. 3 to 6 are indicated by broken lines.
(I) Discharge (GL = H level, CS = L level, ES = H level)
First, in a state where the data voltage Vsig is supplied to the data line DL, both the gate line GL and the light emission set line ES are set to H level (high level), and the capacitor set line CS is set to L level. As a result, the selection transistor T1, the drive control transistor T5, and the short-circuit transistor T3 are turned on, and the potential control transistor T2 is turned off. Therefore, as shown in FIG. 3, in the state where the voltage Vn = Vsig on the selection transistor T1 side of the capacitor Cs, the current from the power supply line PVdd passes through the drive transistor T4, the drive control transistor T5, and the organic EL element EL, and the cathode power supply CV. As a result, the charge held at the gate of the drive transistor T4 is extracted. As a result, the gate voltage Vg of the drive transistor T4 becomes a predetermined low voltage.
(Ii) Reset (GL = H level, CS = L level, ES = L level)
The light emission set line ES is changed to L level (low level) from the above discharge state. As a result, as shown in FIG. 4, the drive control transistor T5 is turned off, and the gate voltage Vg = Vg0 = PVdd− | Vtp | of the drive transistor T4 is reset. Here, Vtp is the threshold voltage of the drive transistor T4. That is, since the gate of the drive transistor T4 is short-circuited between the gate and the drain by the short circuit transistor T3 in a state where the source is connected to the power source PVdd, the gate voltage of the drive transistor T4 from the power source PVdd is | It is set to a voltage lower by Vtp | and turned off. At this time, the potential Vn of the capacitor Cs on the side of the selection transistor T1 = Vsig, and the capacitor Cs is charged with a voltage of | Vsig− (PVdd− | Vtp |) |.
(Iii) Potential fixed (GL = L level, CS = H level, ES = L level)
Next, the gate line GL is set to L level, the selection transistor T1 and the short-circuit transistor T3 are turned off, and then the capacitance set line CS is set to H level to turn on the potential control transistor T2. Thereby, as shown in FIG. 5, the gate of the drive transistor T4 is disconnected from the drain. When the potential control transistor T2 is turned on, Vn = PVdd. Therefore, the gate potential Vg of the driving transistor T4 shifts according to the change in Vn. Since a parasitic capacitance Cp exists between the gate and source of the drive transistor T4, the gate potential Vg is affected by this Cp.
(Iv) Light emission (GL = L level, CS = H level, ES = H level)
Next, by setting the light emission set line ES to the H level, as shown in FIG. 6, the drive control transistor T5 is turned on, whereby the drive current from the drive transistor T4 flows to the organic EL element EL. The drive current at this time is the drain current of the drive transistor T4, which is determined by the gate voltage of the drive transistor T4. This drain current is not related to the threshold voltage Vtp of the drive transistor T4. It is possible to suppress fluctuations in the amount of light emission accompanying fluctuations in threshold voltage.

これについて図7に基づいて説明する。   This will be described with reference to FIG.

上述のように、(ii)リセット後は、図において、○で示したように、Vn(=Vsig)は、Vsig(max)〜Vsig(min)の間の値であり、VgはPVddから駆動トランジスタT4のしきい値電圧Vtpだけ減じた電圧Vg0となる。すなわち、Vg=Vg0=PVdd+Vtp (Vtp<0)、Vn=Vsigである。   As described above, (ii) After resetting, Vn (= Vsig) is a value between Vsig (max) and Vsig (min), and Vg is driven from PVdd, as indicated by ◯ in the figure. The voltage Vg0 is reduced by the threshold voltage Vtp of the transistor T4. That is, Vg = Vg0 = PVdd + Vtp (Vtp <0) and Vn = Vsig.

そして、(iii)の電位固定に入ると、Vnは、VsigからPVddまで変化するので、その変化量ΔVgは、Cs、Cpの容量を考慮して、ΔVg=Cs(PVdd−Vsig)/(Cs+Cp)と表せる。   Then, when the potential is fixed at (iii), Vn changes from Vsig to PVdd, so that the change amount ΔVg takes into account the capacity of Cs and Cp, and ΔVg = Cs (PVdd−Vsig) / (Cs + Cp ).

よって、Vn,Vgは、図において●で示したように、Vn=PVdd,Vg=Vtp+ΔVg=PVdd+Vtp+Cs(PVdd−Vsig)/(Cs+Cp)となる。   Therefore, Vn and Vg are Vn = PVdd, Vg = Vtp + ΔVg = PVdd + Vtp + Cs (PVdd−Vsig) / (Cs + Cp), as indicated by ● in the figure.

ここで、Vgs=Vg−PVddであるので、Vgs=Vtp+Cs(PVdd−Vsig)/(Cs+Cp)となる。   Here, since Vgs = Vg−PVdd, Vgs = Vtp + Cs (PVdd−Vsig) / (Cs + Cp).

一方、ドレイン電流Iは、I=(1/2)β(Vgs−Vtp)2と表され、上式を代入することによって、ドレイン電流Iは次のように表される。
I=(1/2)β{Vtp+Cs(PVdd−Vsig)/(Cs+Cp)−Vtp}2
=(1/2)β{Cs(PVdd−Vsig)/(Cs+Cp)}2
=(1/2)βα(Vsig−PVdd)2
ここで、α={Cs/(Cs+Cp)}2,βは駆動トランジスタT4増幅率であり、β=μεGw/Glであり、μはキャリアの移動度、εは誘電率、Gwはゲート幅、Glはゲート長である。
On the other hand, the drain current I is expressed as I = (1/2) β (Vgs−Vtp) 2. By substituting the above equation, the drain current I is expressed as follows.
I = (1/2) β {Vtp + Cs (PVdd−Vsig) / (Cs + Cp) −Vtp} 2
= (1/2) β {Cs (PVdd−Vsig) / (Cs + Cp)} 2
= (1/2) βα (Vsig-PVdd) 2
Here, α = {Cs / (Cs + Cp)} 2 , β is the drive transistor T4 amplification factor, β = μεGw / Gl, μ is the carrier mobility, ε is the dielectric constant, Gw is the gate width, Gl Is the gate length.

このように、ドレイン電流Iの式には、Vtpは含まれず、Vsig−PVddの2乗に比例することになる。従って、駆動トランジスタT4のしきい値電圧のバラツキの影響を排除してデータ電圧Vsigに応じた発光を達成することができる。   Thus, Vtp is not included in the expression of the drain current I, and is proportional to the square of Vsig−PVdd. Therefore, it is possible to achieve light emission according to the data voltage Vsig by eliminating the influence of the variation in threshold voltage of the drive transistor T4.

上述の説明では、1画素についての動作についてのみ説明した。実際には、表示パネルは、マトリクス状に画素が配置されており、これらのそれぞれについて対応する輝度信号に応じたデータ電圧Vsigを供給して各有機EL素子を発光させる。すなわち、図8に示すように、表示パネルには、水平スイッチ回路HSRと、垂直スイッチVSRが設けられており、これらの出力によってデータラインDL、ゲートラインGL、その他発光セットラインESなどの状態が制御される。特に、水平方向の各画素には、1つのゲートラインGLが対応づけられており、このゲートラインGLは垂直スイッチVSRによって、1つずつ順に活性化される。次に、1つのゲートラインGLが活性化される1水平期間に、水平スイッチHSRによってすべてのデータラインDLにデータ電圧が点順次で供給され、これが1水平ライン分の画素回路にデータが書き込まれる。そして、各画素回路において、1垂直期間後まで書き込まれたデータ電圧に応じた発光がされる。   In the above description, only the operation for one pixel has been described. Actually, the display panel has pixels arranged in a matrix, and for each of them, the data voltage Vsig corresponding to the corresponding luminance signal is supplied to cause each organic EL element to emit light. That is, as shown in FIG. 8, the display panel is provided with a horizontal switch circuit HSR and a vertical switch VSR, and these outputs change the states of the data line DL, gate line GL, and other light emission set lines ES. Be controlled. In particular, one gate line GL is associated with each pixel in the horizontal direction, and the gate lines GL are sequentially activated one by one by the vertical switch VSR. Next, in one horizontal period in which one gate line GL is activated, the horizontal switch HSR supplies data voltages to all the data lines DL in a dot-sequential manner, and this writes data to the pixel circuits for one horizontal line. . Each pixel circuit emits light according to the data voltage written until after one vertical period.

次に、1水平ライン内の各画素に対するデータの書き込み手順について、図9に基づいて説明する。   Next, a data writing procedure for each pixel in one horizontal line will be described with reference to FIG.

まず、1水平期間の開始を示すイネーブル信号ENBのLレベルの後に、すべてのデータラインDLに点順次でデータ電圧Vsigを書き込む。すなわち、データラインDLには、容量などが接続されており、電圧信号をセットすることで、データラインDLにそのデータ電圧Vsigが保持される。そこで、各列の画素についてのデータ電圧Vsigを順次対応するデータラインDLにセットすることで、すべてのデータラインDLにデータ電圧Vsigをセットする。   First, after the L level of the enable signal ENB indicating the start of one horizontal period, the data voltage Vsig is written dot-sequentially to all the data lines DL. That is, a capacitor or the like is connected to the data line DL, and the data voltage Vsig is held in the data line DL by setting a voltage signal. Therefore, the data voltage Vsig for the pixels in each column is sequentially set to the corresponding data line DL, thereby setting the data voltage Vsig to all the data lines DL.

そして、このデータのセットが終了した段階で、HoutをHレベルとして、ゲートラインGLをHレベルとして活性化し、上述した1つの水平方向の各画素について動作を行い、各画素におけるデータ書き込み、発光が行われる。   Then, at the stage where this data setting is completed, Hout is set to H level and the gate line GL is activated to H level, and operation is performed for each pixel in the one horizontal direction described above, and data writing and light emission in each pixel are performed. Done.

このようにして、通常のビデオ信号(データ電圧Vsig)を順次データラインDLに書き込み、これを画素回路にセットして、発光させることができる。   In this way, a normal video signal (data voltage Vsig) can be sequentially written into the data line DL, and this can be set in the pixel circuit to emit light.

次に、他の方式について、図10に基づいて説明する。この例では、イネーブルラインENBがLレベルの期間に、発光セットラインESをLレベルにし、イネーブルラインENBがHレベルに立ち上がるときにゲートラインGLをHレベル(活性化)とする。この状態で、データ電圧Vsigを順次データラインDLにセットする。そして、すべてのデータラインDLにデータ電圧Vsigをセットした場合には、発光セットラインESをHレベルとして、上述のディスチャージを行い、その後発光セットラインESをLレベルに戻す。ゲートラインGLは、イネーブルラインENBの立ち下がりに同期してLレベルに戻り、イネーブルラインENBがLレベルの時にイネーブルラインENBをHレベルに戻す。これによって、上述の例と同様の動作が行われる。なお、容量セットラインCSは、ゲートラインGLがHレベルの期間にLレベルであり、ゲートラインGLの立ち上がりより若干早くLレベルになり、立ち下がりより若干遅くHレベルに戻る。   Next, another method will be described with reference to FIG. In this example, during the period when the enable line ENB is at the L level, the light emission set line ES is set to the L level, and when the enable line ENB rises to the H level, the gate line GL is set to the H level (activation). In this state, the data voltage Vsig is sequentially set to the data line DL. When the data voltage Vsig is set to all the data lines DL, the light emission set line ES is set to the H level, the above discharge is performed, and then the light emission set line ES is returned to the L level. The gate line GL returns to the L level in synchronization with the fall of the enable line ENB, and returns the enable line ENB to the H level when the enable line ENB is at the L level. As a result, the same operation as in the above example is performed. Note that the capacitance set line CS is at the L level during the period when the gate line GL is at the H level, goes to the L level slightly earlier than the rising edge of the gate line GL, and returns to the H level slightly later than the falling edge.

図11には、図1に記載された画素回路を利用した表示パネルについてのレイアウトを示してある。   FIG. 11 shows a layout of a display panel using the pixel circuit described in FIG.

まず、容量セットラインCSが各行の画素の上端部に沿って伸びている。図における画素において、各画素の右端部分には、データラインDLが列方向に伸びている。そして、各データラインDLのすぐ左側には電源ラインPVddがほぼ平行に列方向に伸びている。なお、図示した画素の下の段の画素においては、各画素の左端部分にデータラインDLおよび電源ラインPVddが配置されている。   First, the capacitor set line CS extends along the upper end of the pixels in each row. In the pixel in the figure, a data line DL extends in the column direction at the right end portion of each pixel. A power supply line PVdd extends in the column direction substantially parallel to the left side of each data line DL. In the pixel in the lower stage of the illustrated pixel, the data line DL and the power supply line PVdd are arranged at the left end portion of each pixel.

また、画素の中央やや上部には、画素を横切ってゲートラインGLが伸びている。また、各画素の下端部に沿って発光セットラインESが配置されている。   In addition, a gate line GL extends across the pixel at a slightly upper part of the pixel. A light emission set line ES is disposed along the lower end of each pixel.

ゲートラインGLの画素の右端に近い部分には、上方に向けて突出部分が設けられ、ここがnチャンネル選択トランジスタT1のゲート電極T1gになっている。すなわち、このゲート電極T1gの厚み方向の下方には、ゲート絶縁膜を介し半導体層112が設けられており、この半導体層112がゲートラインGLに沿って伸びその右端がコンタクトによってデータラインDLが接続されている。   A portion of the gate line GL close to the right end of the pixel is provided with a protruding portion upward, and this is the gate electrode T1g of the n-channel selection transistor T1. That is, a semiconductor layer 112 is provided below the gate electrode T1g in the thickness direction through a gate insulating film. The semiconductor layer 112 extends along the gate line GL, and the right end thereof is connected to the data line DL by a contact. Has been.

また、半導体層112は、ゲート電極T1gの下方を左方向に伸び、ここで、容量セットラインCS方向にほぼ方形に広がっている。そして、この方形に広がった部分には、ゲート絶縁膜を介してゲート電極と同一層の容量電極SCが形成され、この容量電極SCがゲート絶縁膜を介し半導体層112と対応する部分が容量Csとなっている。   In addition, the semiconductor layer 112 extends to the left below the gate electrode T1g, and spreads in a substantially square shape in the direction of the capacitance set line CS. A capacitor electrode SC having the same layer as the gate electrode is formed through the gate insulating film in the rectangular portion, and a portion corresponding to the semiconductor layer 112 through the gate insulating film is formed in the capacitor electrode SC. It has become.

また、容量Csを構成する半導体層112の一部は容量セットラインCSに沿って右側に伸び、コンタクトによって電源ラインPVddに接続されている。また、半導体層112の容量Cs側と、電源ラインPVdd側の中間部分の厚み方向上方には、容量セットラインCSからの突出部分が位置しており、この突出部分は、ゲート絶縁膜を介し半導体層112の厚み方向上方に位置して、ここがnチャネルの電位制御トランジスタT2となっている。   A part of the semiconductor layer 112 constituting the capacitor Cs extends to the right along the capacitor set line CS, and is connected to the power supply line PVdd by a contact. Further, a protruding portion from the capacitor set line CS is located above the intermediate portion of the semiconductor layer 112 on the capacitor Cs side and the power supply line PVdd side, and this protruding portion is located on the semiconductor via a gate insulating film. This is an n-channel potential control transistor T2 located above the layer 112 in the thickness direction.

容量Csの画素中央部のゲートラインGLの直上には、コンタクトが設けられ、このコンタクトによってメタル配線118が接続され、このメタル配線118がゲートラインGLをまたいでゲートラインGLの下方に至り、そこで、コンタクトによって半導体層120に接続されている。   A contact is provided immediately above the gate line GL at the center of the pixel of the capacitor Cs, and a metal wiring 118 is connected by this contact. The metal wiring 118 crosses the gate line GL and reaches the lower side of the gate line GL. The semiconductor layer 120 is connected by a contact.

この半導体層120は、一旦右方向に伸びその後データラインDLおよび電源ラインPVddとの間をこれらに沿って下方に伸び、中間部分で左側に伸びる枝部が設けられるとともに、発光セットラインESの手前で左方向に曲がっている。この半導体層120のゲートラインGLに沿って右方向に伸びる部分の厚み方向上方にゲートラインGLから伸びる突出部分がゲート絶縁膜を介して設けられ、これがnチャネルの短絡トランジスタT3のゲート電極T3gになっている。すなわち、この部分が駆動トランジスタT4のゲートとソース間を接続する短絡トランジスタT3を構成する。   This semiconductor layer 120 extends rightward once, then extends downward along the data line DL and the power supply line PVdd, and is provided with a branch portion extending to the left at the middle portion, and before the light emitting set line ES. And turn left. A protruding portion extending from the gate line GL is provided above the thickness direction of the portion extending rightward along the gate line GL of the semiconductor layer 120 via a gate insulating film, and this is provided on the gate electrode T3g of the n-channel short-circuit transistor T3. It has become. That is, this portion constitutes a short-circuit transistor T3 that connects between the gate and source of the drive transistor T4.

メタル配線118は、短絡トランジスタT3と接続されるコンタクトの下方において、コンタクトによってゲートラインGLと同層のゲート配線に接続され、このゲート配線が電源ラインPVddと平行に伸びここがpチャネルの駆動トランジスタT4のゲート電極T4gになっている。すなわち、このゲート電極T4gの厚み方向下方にはゲート絶縁膜を介し上下方向の伸びる半導体層132が設けられており、この半導体層132の一端(ドレイン:図における上側)はコンタクトによって電源ラインPVddに接続されている。半導体層132の図における下側は、一旦左側に曲がった後、コンタクトでメタル配線に接続され、このメタル配線にコンタクトによって前記半導体層120の中間部から左側に伸びる枝部に接続されている。   The metal wiring 118 is connected to a gate wiring on the same layer as the gate line GL by a contact below the contact connected to the short-circuit transistor T3, and this gate wiring extends in parallel with the power supply line PVdd, which is a p-channel driving transistor. This is the gate electrode T4g of T4. That is, a semiconductor layer 132 extending in the vertical direction is provided below the gate electrode T4g in the thickness direction through a gate insulating film, and one end (drain: upper side in the figure) of the semiconductor layer 132 is connected to the power supply line PVdd by a contact. It is connected. The lower side of the semiconductor layer 132 in the drawing is once bent to the left side, and then connected to a metal wiring by a contact, and is connected to a branch part extending from the intermediate portion of the semiconductor layer 120 to the left side by the contact with the metal wiring.

また、半導体層120の下端部は、発光セットラインESに沿って左側に伸び、この部分の厚み方向上方には、ゲート絶縁膜を介し、発光セットラインESの一部が突出して、nチャネルの駆動制御トランジスタT5のゲート電極T5gが形成され、ここに駆動制御トランジスタT5が形成されている。半導体層120の下端左側の端部にはコンタクトによって画素電極が接続されている。そして、この画素電極の厚み方向上方に有機発光層を介し全画素共通の陰極が形成されて有機EL素子が形成される。   Further, the lower end portion of the semiconductor layer 120 extends to the left along the light emission set line ES, and a part of the light emission set line ES protrudes through the gate insulating film above the thickness direction of this portion, and the n-channel A gate electrode T5g of the drive control transistor T5 is formed, and the drive control transistor T5 is formed here. A pixel electrode is connected to a left end portion of the lower end of the semiconductor layer 120 through a contact. Then, a cathode common to all the pixels is formed above the pixel electrode in the thickness direction via the organic light emitting layer to form an organic EL element.

なお、厚み方向としては、ガラスなどの透明基板上にTFTが形成され、その上に画素毎の透明電極(陽極)が形成され、その上に有機発光層を介し全画素共通のアルミニウムなどの陰極が形成される。TFTは、ガラス基板上にまずバッファ層が形成され、その上に半導体層112,120,132が所定の位置に形成される。半導体層を覆ってゲート絶縁膜が形成され、その上にゲートラインGL、容量電極などがモリブデンやクロムなどで形成される。このゲートラインGLなどの層を覆って層間絶縁膜が形成され、その上層の電源ラインPVdd、データラインDLなどのメタル(例えばアルミニウム)配線などが形成される。そして、これらのメタル配線を覆ってアクリル樹脂などの平坦化層が形成され、その上にITO、IZOなどの透明電極(画素電極)が構成される。   As for the thickness direction, a TFT is formed on a transparent substrate such as glass, a transparent electrode (anode) for each pixel is formed thereon, and a cathode such as aluminum common to all pixels is formed thereon via an organic light emitting layer. Is formed. In the TFT, a buffer layer is first formed on a glass substrate, and semiconductor layers 112, 120, and 132 are formed at predetermined positions thereon. A gate insulating film is formed so as to cover the semiconductor layer, and a gate line GL, a capacitor electrode, and the like are formed thereon with molybdenum, chromium, or the like. An interlayer insulating film is formed so as to cover the layer such as the gate line GL, and metal (for example, aluminum) wiring such as the power line PVdd and the data line DL are formed thereon. Then, a flattening layer such as an acrylic resin is formed so as to cover these metal wirings, and a transparent electrode (pixel electrode) such as ITO or IZO is formed thereon.

このように、本実施形態によれば、画素の図における上側に容量セットラインCSが配置され、画素の図における下側に発光セットラインESが配置され、ゲートラインGLは、容量セットラインCSから若干下側に配置されている。   As described above, according to the present embodiment, the capacitor set line CS is disposed on the upper side in the pixel diagram, the light emission set line ES is disposed on the lower side in the pixel diagram, and the gate line GL extends from the capacitor set line CS. It is arranged slightly below.

このような配置によって、ゲートラインGLの上側に電位制御トランジスタT2と、選択トランジスタT1を配置できる。特に選択トランジスタT1をゲートラインGLに沿って配置することで、ゲートラインGLの突出部を選択トランジスタT1のゲート電極T1gにできる。一方、電位制御トランジスタT2は容量セットラインCSに沿って形成されるため、そのゲート電極T2gも容易に形成できる。また、電位制御トランジスタT2の電源ラインPVddとのコンタクトも画素の隅に位置し、効率的な配置になる。そして、電位制御トランジスタT2と選択トランジスタT1との間の空間に容量Csを形成できゲートラインGLの上側の空間を効果的に利用できる。   With such an arrangement, the potential control transistor T2 and the selection transistor T1 can be arranged above the gate line GL. In particular, by arranging the selection transistor T1 along the gate line GL, the protruding portion of the gate line GL can be used as the gate electrode T1g of the selection transistor T1. On the other hand, since the potential control transistor T2 is formed along the capacitor set line CS, the gate electrode T2g can be easily formed. Further, the contact of the potential control transistor T2 with the power supply line PVdd is also located at the corner of the pixel, so that the arrangement is efficient. The capacitor Cs can be formed in the space between the potential control transistor T2 and the selection transistor T1, and the space above the gate line GL can be effectively used.

また、短絡トランジスタT3をゲートラインGLの下側に沿って配置し、駆動制御トランジスタT5を発光セットラインESに沿って形成したため、短絡トランジスタT3および駆動制御トランジスタT5のゲート電極T3g、T5gも容易に形成できる。さらに、短絡トランジスタT3と駆動制御トランジスタT5の接続を半導体層120とし、これを電源ラインPVddと、データラインDLの間の空間の厚み方向下側に配置したため、この配線が開口率に及ぼす影響を少なくできる。また、駆動トランジスタT4を電源ラインPVddに沿って配置したため、開口率の減少を抑えて、効率的な配置となっている。   In addition, since the short-circuit transistor T3 is disposed along the lower side of the gate line GL and the drive control transistor T5 is formed along the light emission set line ES, the gate electrodes T3g and T5g of the short-circuit transistor T3 and the drive control transistor T5 can be easily provided. Can be formed. Further, since the connection between the short-circuit transistor T3 and the drive control transistor T5 is the semiconductor layer 120, and this is disposed on the lower side in the thickness direction of the space between the power supply line PVdd and the data line DL, the influence of this wiring on the aperture ratio is affected. Less. Further, since the drive transistor T4 is arranged along the power supply line PVdd, the reduction in the aperture ratio is suppressed and the arrangement is efficient.

また、上述の図11に示したようなレイアウトは、水平方向の制御ラインがゲートライン以外に2本存在する回路であれば同様に適用できる。例えば、特許文献1に記載されたような回路にも適用可能である。   Further, the layout as shown in FIG. 11 can be similarly applied to a circuit in which two horizontal control lines exist in addition to the gate lines. For example, the present invention can be applied to a circuit described in Patent Document 1.

実施形態に係る画素回路の構成を示す図である。It is a figure which shows the structure of the pixel circuit which concerns on embodiment. 動作を説明するチャート図である。It is a chart figure explaining operation. ディスチャージ工程を説明する図である。It is a figure explaining a discharge process. リセット工程を説明する図である。It is a figure explaining a reset process. 電位固定工程を説明する図である。It is a figure explaining an electric potential fixing process. 発光工程を説明する図である。It is a figure explaining a light emission process. リセットから電位固定工程における電位変化の状態を説明する図である。It is a figure explaining the state of the potential change in a potential fixing process from reset. パネルの全体構成を示す図である。It is a figure which shows the whole structure of a panel. データセットのタイミング例を示す図である。It is a figure which shows the example of a timing of a data set. データセットの他のタイミング例を示す図である。It is a figure which shows the other timing example of a data set. 実施形態の画素回路のレイアウトを示す図である。It is a figure which shows the layout of the pixel circuit of embodiment. 従来の画素回路の一例を示す図である。It is a figure which shows an example of the conventional pixel circuit.

T1 選択トランジスタ、T2 電位制御トランジスタ、T3 短絡トランジスタ、T4 駆動トランジスタ、T5 駆動制御トランジスタ、112,120,132 半導体層、118 メタル配線、CS 容量セットライン、Cs 容量、DL データライン、EL 有機EL素子、ES 発光セットライン、GL ゲートライン、PVdd 電源ライン。   T1 selection transistor, T2 potential control transistor, T3 short-circuit transistor, T4 drive transistor, T5 drive control transistor, 112, 120, 132 semiconductor layer, 118 metal wiring, CS capacitor set line, Cs capacitor, DL data line, EL organic EL element , ES light emission set line, GL gate line, PVdd power line.

Claims (6)

画素をマトリクス状に配置した表示装置であって、
各画素は、
ゲートラインからの選択信号によってオンオフされ、データラインに一端が接続されてデータラインからのデータ信号の受け入れを制御する選択トランジスタと、
一端が電源ラインに接続され、前記選択トランジスタを介し受け入れられたデータ信号に応じた電圧がゲートに印加されることによって、前記データ信号に応じて前記電源ラインからの電流を流す駆動トランジスタと、
この駆動トランジスタの他端側に接続され、この駆動トランジスタに流れる電流に応じて発光する発光素子と、
前記データ信号に応じた電圧が前記駆動トランジスタのゲートに印加される経路上に一端が接続され、一行の画素に対して共通して設けられる容量セットラインからの信号によってオンオフされる電位制御トランジスタと、
前記ゲートラインからの信号によってオンオフされ、前記駆動トランジスタのゲートと前記駆動トランジスタの他端との間を短絡する短絡トランジスタと、
前記駆動トランジスタの他端と前記発光素子の間に配置され、一行の画素に対して共通して設けられる発光セットラインからの信号によってオンオフされる駆動制御トランジスタと、
を含み、
前記短絡トランジスタと前記駆動制御トランジスタは、該トランジスタを形成する半導体層によって互いに接続され
前記選択トランジスタと前記短絡トランジスタは、同一の前記ゲートラインに接続され、前記ゲートラインは、前記容量セットラインと前記発光セットラインの間に配置されることを特徴とする表示装置。
A display device in which pixels are arranged in a matrix,
Each pixel is
A selection transistor that is turned on and off by a selection signal from the gate line, one end of which is connected to the data line and controls reception of the data signal from the data line;
One end is connected to a power supply line, and a voltage according to the data signal received through the selection transistor is applied to the gate, thereby causing a drive transistor to flow a current from the power supply line according to the data signal;
A light emitting element that is connected to the other end of the driving transistor and emits light in response to a current flowing through the driving transistor;
A potential control transistor having one end connected on a path through which a voltage corresponding to the data signal is applied to the gate of the drive transistor, and being turned on / off by a signal from a capacitance set line provided in common to pixels in one row; ,
A short-circuit transistor that is turned on and off by a signal from the gate line and short-circuits between the gate of the drive transistor and the other end of the drive transistor;
A drive control transistor that is disposed between the other end of the drive transistor and the light emitting element and is turned on and off by a signal from a light emission set line provided in common to pixels in one row;
Including
The short-circuit transistor and the drive control transistor are connected to each other by a semiconductor layer forming the transistor ,
The selection transistor and the short-circuit transistor is connected to the same the gate line, the gate line, a display device according to claim Rukoto disposed between the said capacitive load lines emission set line.
請求項1に記載の表示装置において、
前記半導体層は、前記電源ラインと前記データラインの間の空間における厚み方向下側に形成されることを特徴とする表示装置。
The display device according to claim 1,
The display device, wherein the semiconductor layer is formed on a lower side in a thickness direction in a space between the power line and the data line.
請求項1または2に記載の表示装置において、
前記駆動トランジスタのゲートは容量に接続されることを特徴とする表示装置。
The display device according to claim 1 or 2,
A display device, wherein a gate of the driving transistor is connected to a capacitor.
請求項3に記載の表示装置において、
前記容量は前記選択トランジスタを形成する半導体層と前記選択トランジスタのゲート電極と同一の層とが対向することによって形成されることを特徴とする表示装置。
The display device according to claim 3 ,
The capacity display device, characterized in that the same layer as the gate electrode of the selection transistor and the semiconductor layer forming the selection transistor is formed by opposed.
請求項4に記載の表示装置において、
前記容量は電源ラインと重畳して形成されることを特徴とする表示装置。
The display device according to claim 4 ,
The display device, wherein the capacitor is formed so as to overlap with a power supply line .
請求項1乃至5に記載の表示装置において、
前記選択トランジスタおよび前記短絡トランジスタを構成する半導体層は共に前記ゲートラインに平行に延びることを特徴とする表示装置。
The display device according to any one of claims 1 to 5,
The semiconductor device which comprises the said selection transistor and the said short circuit transistor extends in parallel with the said gate line, The display apparatus characterized by the above-mentioned.
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