JP5371359B2 - Phosphor-containing glass plate and method for manufacturing light-emitting device - Google Patents

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Abstract

The present invention relates to a method for manufacturing the glass plate comprising phosphor and a method for manufacturing a light emitter. The method for manufacturing the light emitter comprises the following steps: mixing the glass powder with the phosphor powder comprising at least one component selected from sulfide phosphor, aluminate phosphor and silicate phosphor thereby preparing the powder mixture of phosphor powder and glass powder; heating and softening the powder mixture for providing an integrated material; solidifying the integrated material for providing the glass dispersed with phosphor; fusing the glass dispersed with phosphor to the installation part which is installed with the light emitting component through hot pressing, and simultaneously sealing the light emitting component on the installation part through the glass dispersed with the phosphor.

Description

本発明は、蛍光体を均一に分散させた蛍光体含有ガラス板の製造方法、及び、これを用いて発光素子を封止する発光装置の製造方法に関する。   The present invention relates to a method for manufacturing a phosphor-containing glass plate in which phosphors are uniformly dispersed, and a method for manufacturing a light-emitting device that uses this to seal a light-emitting element.

近年、白色光を発する発光ダイオード(Light Emitting Diode:LED)ランプが実用化されており、照明機器や液晶ディスプレイのバックライト等の用途に利用されている。
一般的に、白色LEDランプは、青色光を発するIII族窒化物系化合物半導体からなる青色LEDチップと、このLEDチップからの発光光を励起光として黄色光の波長変換光を発する黄色蛍光体の粉末を含有させたエポキシ系やシリコーン系等の透明樹脂によりLEDチップを封止して製造される。
2. Description of the Related Art In recent years, light emitting diode (LED) lamps that emit white light have been put into practical use, and are used for applications such as lighting equipment and backlights of liquid crystal displays.
In general, a white LED lamp is composed of a blue LED chip made of a group III nitride compound semiconductor that emits blue light, and a yellow phosphor that emits yellow wavelength-converted light using light emitted from the LED chip as excitation light. It is manufactured by sealing an LED chip with a transparent resin such as epoxy or silicone containing powder.

また、上記の白色LEDランプより高い演色性を得るために、黄色蛍光体の粉末に加え、緑色蛍光体や赤色蛍光体の粉末を透明樹脂に含有させてLEDチップを封止する白色LEDランプも提案されている。
特開2006−253336号公報 特開2002−203989号公報 特開2003−258308号公報
Also, in order to obtain higher color rendering than the above-mentioned white LED lamp, there is also a white LED lamp that seals an LED chip by adding a green phosphor powder or a red phosphor powder to a transparent resin in addition to a yellow phosphor powder. Proposed.
JP 2006-253336 A Japanese Patent Laid-Open No. 2002-203989 JP 2003-258308 A

しかしながら、従来の白色LEDランプでは、透明樹脂を封止材として使用しているため、LEDチップの発光光や熱等によってLEDチップ近傍の透明樹脂が黄変してしまい、光取り出し効率が経時的に劣化する。特に、高いエネルギーを有する青色光等を発する短波長光LEDチップを使用する場合に透明樹脂の黄変は顕著に表れる。   However, in the conventional white LED lamp, since the transparent resin is used as the sealing material, the transparent resin near the LED chip is yellowed by the light emitted from the LED chip, heat, or the like, and the light extraction efficiency is increased over time. It deteriorates to. In particular, when a short wavelength LED chip that emits blue light or the like having high energy is used, yellowing of the transparent resin appears significantly.

また、透明樹脂はガス透過性を有するため、透明樹脂に含有された蛍光体の粉末が大気中のガス(特に、水分)と反応等により、蛍光特性が経時的に劣化するものが多い。この特性の劣化は、加水分解しやすく、耐湿性に劣る硫化物蛍光体、アルミン酸塩蛍光体、ケイ酸塩蛍光体に顕著に表れる。これらの蛍光体は高励起効率の緑色蛍光体や赤色蛍光体として有用であるが、上記の理由により、その特性を維持することが困難であった。   In addition, since the transparent resin has gas permeability, the fluorescent characteristics of the phosphor powder contained in the transparent resin often deteriorate with time due to reaction with gas (particularly moisture) in the atmosphere. This deterioration in characteristics is prominent in sulfide phosphors, aluminate phosphors, and silicate phosphors that are easily hydrolyzed and inferior in moisture resistance. These phosphors are useful as high-efficiency green phosphors and red phosphors, but it has been difficult to maintain their characteristics for the above reasons.

このように、透明樹脂による封止は、LEDランプに要求される耐熱性,耐光性及び非ガス透過性の特性を十分には満たしているとは言い難い。   As described above, it is difficult to say that sealing with a transparent resin sufficiently satisfies the heat resistance, light resistance, and non-gas permeability characteristics required for an LED lamp.

透明樹脂により生じるこれらの問題を解決する為に、透明樹脂にない耐熱性,耐光性及び非ガス透過性を有するガラスによりLEDチップを封止するガラス封止LEDランプが開発されている(例えば、特許文献1及び特許文献2参照。)。   In order to solve these problems caused by the transparent resin, a glass-sealed LED lamp that seals the LED chip with a glass having heat resistance, light resistance, and non-gas permeability not developed in the transparent resin has been developed (for example, (See Patent Document 1 and Patent Document 2.)

ガラス封止LEDランプにおいて白色光を得る場合、透明樹脂の場合と同様に、一般的に、蛍光体の粉末をガラスに含有させる方法が考えられる。この場合、LEDランプからの出射光の色むらを抑制するために、蛍光体を均一に分散させることが望ましい。しかしながら、ガラスは軟化が始まる温度(屈伏点(At))においても高粘度であるため、蛍光体が均一に分散することは現実的に難しい。蛍光体をガラスに均一に分散できるだけの低粘度とするためには、1000℃程度の温度まで加熱する必要がある。しかしながら、このような高温下では、蛍光体とガラスが反応してしまい、蛍光体はその蛍光特性を失う。   In the case of obtaining white light in a glass-sealed LED lamp, a method of incorporating phosphor powder into glass is generally conceivable, as in the case of a transparent resin. In this case, it is desirable to uniformly disperse the phosphor in order to suppress the color unevenness of the light emitted from the LED lamp. However, since glass is highly viscous even at the temperature at which softening begins (deflection point (At)), it is practically difficult to uniformly disperse the phosphor. In order to obtain a low viscosity enough to uniformly disperse the phosphor in the glass, it is necessary to heat to a temperature of about 1000 ° C. However, under such a high temperature, the phosphor and glass react and the phosphor loses its fluorescence characteristics.

ガラスに蛍光体を均一に分散させるために、ガラス粉末と無機蛍光体粉末とを樹脂バインダに添加して混合し、加圧成型により所望の形状の予備成型体を作製した後、予備成型体を焼成しつつ樹脂バインダを除去して蛍光体含有ガラスを形成する方法が提案されている(例えば、特許文献3参照。)。しかしながら、この方法では、樹脂バインダの残渣により強度や透明度等のガラス特性が劣化することが懸念される。また、焼成時の残渣の気化により、ガラス内に気泡を生じてしまい、ガス透過性を有する。そのため、耐湿性に劣る蛍光体に対し、その蛍光特性の劣化を抑制することができない。   In order to uniformly disperse the phosphor in the glass, glass powder and inorganic phosphor powder are added to a resin binder and mixed, and after forming a preform with a desired shape by pressure molding, the preform is A method of forming a phosphor-containing glass by removing a resin binder while firing has been proposed (see, for example, Patent Document 3). However, in this method, there is a concern that the glass properties such as strength and transparency are deteriorated by the resin binder residue. Moreover, bubbles are generated in the glass due to vaporization of the residue during firing, and gas permeability is obtained. For this reason, it is impossible to suppress the deterioration of the fluorescence characteristics of the phosphor having poor moisture resistance.

そこで、比較的低温の温度下で形成可能なゾルゲルガラスの前駆体(溶媒:アルコール、溶質:金属アルコキシド、からなる溶液)に蛍光体の粉末を含有させて白色光を得ることが考えられる。しかしながら、ゾルゲルガラスは多孔質であり、ガス透過性を有するため、耐湿性に劣る蛍光体に対し、その蛍光特性の劣化を抑制することができない。また、ゾルゲルガラスは、ガラス化の前後において体積変化が大きいので、厚膜を形成するとクラックが生じる。このような理由から、ある程度の膜厚が必要とされる封止材として使用することは困難である。   Therefore, it is conceivable to obtain white light by adding phosphor powder to a sol-gel glass precursor (solution consisting of solvent: alcohol, solute: metal alkoxide) that can be formed at a relatively low temperature. However, since the sol-gel glass is porous and has gas permeability, it is impossible to suppress deterioration of the fluorescence characteristics of the phosphor having poor moisture resistance. Moreover, since the sol-gel glass has a large volume change before and after vitrification, cracks occur when a thick film is formed. For these reasons, it is difficult to use as a sealing material that requires a certain film thickness.

本発明は、以上のような問題点を鑑みてなされたものであって、耐湿性が劣る蛍光体の劣化を防止するとともに、耐熱性,耐光性及び非ガス透過性に優れた発光装置の製造方法を提供することを目的とする。   The present invention has been made in view of the above problems, and is capable of preventing the deterioration of a phosphor having poor moisture resistance and manufacturing a light emitting device having excellent heat resistance, light resistance, and non-gas permeability. It aims to provide a method.

本発明は、上記の目的を実現するため、発光素子を蛍光体含有ガラスにより封止する発光装置の製造方法において、ZnO系ガラスを粉砕して得られた粉砕ガラスを分級用水槽に通し、この水槽によって上澄みとして除去されない粒径であってその上限値を200μmとされた所定の粒径範囲にされたガラス粉末を生成するガラス粉末生成工程と、前記所定の粒径範囲にされたガラス粉末と、硫化物蛍光体、アルミン酸塩蛍光体及びケイ酸塩蛍光体の少なくとも1種を有する蛍光体粉末とを混合し、該蛍光体粉末が該ガラス粉末に分散された混合粉末を生成する混合工程と、前記混合粉末をZnO系のガラスを用いても安定的に結晶化を生じさせない温度で加熱・軟化させて一体化させた後に、該混合粉末を固化して蛍光体分散ガラスを生成するガラス生成工程と、単一の前記蛍光体分散ガラスをホットプレス加工により複数の発光素子が搭載された搭載部に融着し、前記複数の発光素子を前記搭載部上で前記蛍光体分散ガラスにより封止するガラス封止工程と、前記蛍光体分散ガラスにより封止された前記複数の発光素子を個々の発光装置に個片化する個片化工程と、を含むことを特徴とする発光装置の製造方法を提供する。 In order to achieve the above object, the present invention provides a method for manufacturing a light-emitting device in which a light-emitting element is sealed with a phosphor-containing glass, and the crushed glass obtained by pulverizing ZnO-based glass is passed through a classification water tank. A glass powder generating step for generating a glass powder having a predetermined particle size range in which the upper limit value is 200 μm and is not removed as a supernatant by the water tank; and the glass powder having the predetermined particle size range; Mixing a phosphor powder having at least one of a sulfide phosphor, an aluminate phosphor and a silicate phosphor to produce a mixed powder in which the phosphor powder is dispersed in the glass powder When, the mixed powder after being integrated stably heated and softened at a temperature that does not cause crystallization even with glass ZnO-based phosphor dispersed glass solidifying the mixed powder product That the glass forming process, fusing the single said phosphor dispersion glass mounting portion in which a plurality of light emitting element is mounted by hot pressing, the phosphor dispersion glass the plurality of light emitting elements on the mounting portion A light-emitting device comprising: a glass-sealing step that seals the light-emitting device; and a singulation step that separates the plurality of light-emitting elements sealed with the phosphor-dispersed glass into individual light- emitting devices. A manufacturing method is provided.

このような製造方法を採用した発光装置は、耐湿性に劣る硫化物蛍光体、アルミン酸塩蛍光体、ケイ酸塩蛍光体が非ガス透過性のガラス中に含有されているので、蛍光体の特性の劣化が抑制される。尚、これらの蛍光体は、粉末ガラスを軟化により一体化する温度に対し充分な耐熱性を有するため、ガラス溶融による特性の劣化を生じることはない。また、これらの蛍光体が均一に分散したガラスにより発光素子が封止されているので、発光素子から発せられる発光光と上記の蛍光体から発せられる波長変換光との混合光に色むらが生じにくい。   In the light emitting device employing such a manufacturing method, the sulfide phosphor, the aluminate phosphor, and the silicate phosphor having poor moisture resistance are contained in the non-gas-permeable glass. Deterioration of characteristics is suppressed. These phosphors have sufficient heat resistance to the temperature at which the powder glass is integrated by softening, so that the characteristics do not deteriorate due to glass melting. In addition, since the light emitting element is sealed with glass in which these phosphors are uniformly dispersed, color unevenness occurs in the mixed light of the emitted light emitted from the light emitting element and the wavelength converted light emitted from the phosphor. Hateful.

上記の製造方法では、前記ガラス封止工程において、複数の発光素子が前記搭載部上に配置され、前記ガラス封止工程の後に、個々の発光装置に個片化する個片化工程を有することが、量産性を向上させるために好ましい。   In said manufacturing method, in the said glass sealing process, a several light emitting element is arrange | positioned on the said mounting part, and after the said glass sealing process, it has an individualization process separated into each light-emitting device. Is preferable in order to improve mass productivity.

また、前記ガラス封止工程又は前記個片化工程の後に、ガラス封止部の表面に前記蛍光体粉末とは異なる蛍光体を含有する蛍光体層を形成する蛍光体層形成工程を有することが、ガラス溶融温度までの耐熱性を有さない蛍光体を利用できるため好ましい。   Moreover, it may have a phosphor layer forming step of forming a phosphor layer containing a phosphor different from the phosphor powder on the surface of the glass sealing portion after the glass sealing step or the singulation step. It is preferable because a phosphor having no heat resistance up to the glass melting temperature can be used.

さらに、前記ガラス生成工程にて生成された前記蛍光体分散ガラスを板状に加工する板状加工工程をさらに含み、前記ガラス封止工程にて、板状に加工された前記蛍光体分散ガラスを平坦な前記搭載部に融着することが、蛍光体分散ガラスの量産性の向上のために好ましい。   Furthermore, it further includes a plate-like processing step of processing the phosphor-dispersed glass generated in the glass generation step into a plate shape, and the phosphor-dispersed glass processed into a plate shape in the glass sealing step. Fusing to the flat mounting portion is preferable for improving the mass productivity of the phosphor-dispersed glass.

本発明は、上記の目的を実現するため、ZnO系ガラスを粉砕して得られた粉砕ガラスを分級用水槽に通し、この水槽によって上澄みとして除去されない粒径であってその上限値を200μmとされた所定の粒径範囲にされたガラス粉末を生成するガラス粉末生成工程と、前記所定の粒径範囲にされたガラス粉末と、硫化物蛍光体、アルミン酸塩蛍光体及びケイ酸塩蛍光体の少なくとも1種を有する蛍光体粉末とを混合し、該蛍光体粉末が該ガラス粉末に分散された混合粉末を生成する混合工程と、前記混合粉末をZnO系のガラスを用いても安定的に結晶化を生じさせない温度で加熱・軟化させて一体化させた後に、該混合粉末を固化して蛍光体分散ガラスを生成するガラス生成工程と、前記蛍光体分散ガラスを板状にする板状加工工程を含むことを特徴とする蛍光体含有ガラス板の製造方法を提供する。
In order to achieve the above object, the present invention passes the pulverized glass obtained by pulverizing ZnO-based glass through a water tank for classification, and is a particle size that is not removed as a supernatant by this water tank, and its upper limit is 200 μm. A glass powder generating step for generating a glass powder having a predetermined particle size range, a glass powder having the predetermined particle size range, a sulfide phosphor, an aluminate phosphor, and a silicate phosphor. A mixing step of mixing phosphor powder having at least one kind to produce a mixed powder in which the phosphor powder is dispersed in the glass powder, and stably crystallizing the mixed powder using ZnO-based glass A glass generation step for solidifying the mixed powder to produce a phosphor-dispersed glass after heating and softening at a temperature that does not cause crystallization, and a plate-like processing step for forming the phosphor-dispersed glass into a plate shape The No possible to provide a manufacturing method of the phosphor-containing glass plate according to claim.

上記の製造方法では、蛍光体の蛍光特性を失わせず、均一に分散した蛍光体ガラス板を得ることができる。   In the manufacturing method described above, a phosphor glass plate that is uniformly dispersed can be obtained without losing the fluorescence characteristics of the phosphor.

本発明の発光装置の製造方法によれば、耐湿性が劣る蛍光体の劣化を防止するとともに、耐熱性,耐光性及び非ガス透過性に優れた発光装置を得ることができる。   According to the method for manufacturing a light emitting device of the present invention, it is possible to obtain a light emitting device excellent in heat resistance, light resistance and non-gas permeability while preventing deterioration of a phosphor having poor moisture resistance.

図1から図7は本発明の実施形態を示し、図1はLEDランプの断面図であり、図2は本実施の形態で用いるLEDチップの断面図である。   1 to 7 show an embodiment of the present invention, FIG. 1 is a sectional view of an LED lamp, and FIG. 2 is a sectional view of an LED chip used in the present embodiment.

図1に示すLEDランプ(発光装置)1は、フリップチップ型のLEDチップ(発光素子)2と、LEDチップ2を搭載する配線基板3と、配線基板3に形成された配線4と、LEDチップ2を封止するとともに配線基板3と接着され蛍光体7を含有するガラス封止部6とを有する。   An LED lamp (light emitting device) 1 shown in FIG. 1 includes a flip chip type LED chip (light emitting element) 2, a wiring board 3 on which the LED chip 2 is mounted, a wiring 4 formed on the wiring board 3, and an LED chip. 2 and a glass sealing portion 6 which is bonded to the wiring substrate 3 and contains a phosphor 7.

LEDチップ2は、図2に示すように、結晶成長基板20の表面に、窒化ガリウム系化合物半導体(Al1−X−YInGaN、0≦X≦1,0≦Y≦1,0≦X+Y≦1)からなるバッファ層21と、n型層22と、発光層23と、p型層24を有機金属気相成長法(MOVPE法)により順次積層して形成されている。このLEDチップ2は、700℃以上でエピタキシャル成長されているため、耐熱温度は600℃以上であり、低融点ガラスを用いた封止加工における加工温度である500℃以上の耐熱性を有している。また、LEDチップ2の電極として、p型層24の表面のほぼ全面に設けられるp側電極25及びp側電極25上の一部に設けられたp側パッド電極26が形成されており、LEDチップ2の所定の領域をp型層24からn型層22までドライエッチングして露出させ、その底面のn型層22にn側電極27が形成されている。p側パッド電極26とn側電極27には、それぞれAuバンプ28が形成される。 LED chip 2, as shown in FIG. 2, the surface of the crystal growth substrate 20, a gallium nitride compound semiconductor (Al 1-X-Y In X Ga Y N, 0 ≦ X ≦ 1,0 ≦ Y ≦ 1, A buffer layer 21 composed of 0 ≦ X + Y ≦ 1), an n-type layer 22, a light emitting layer 23, and a p-type layer 24 are sequentially stacked by metal organic vapor phase epitaxy (MOVPE method). Since this LED chip 2 is epitaxially grown at 700 ° C. or higher, the heat resistant temperature is 600 ° C. or higher, and it has a heat resistance of 500 ° C. or higher, which is a processing temperature in sealing processing using low-melting glass. . Further, as the electrodes of the LED chip 2, a p-side electrode 25 provided on almost the entire surface of the p-type layer 24 and a p-side pad electrode 26 provided on a part of the p-side electrode 25 are formed. A predetermined region of the chip 2 is exposed by dry etching from the p-type layer 24 to the n-type layer 22, and an n-side electrode 27 is formed on the n-type layer 22 on the bottom surface. Au bumps 28 are formed on the p-side pad electrode 26 and the n-side electrode 27, respectively.

結晶成長基板20は、サファイア(Al),スピネル(MgAl),窒化ガリウム(GaN),炭化珪素(SiC),酸化ガリウム(Ga)等からなる。 The crystal growth substrate 20 is made of sapphire (Al 2 O 3 ), spinel (MgAl 2 O 4 ), gallium nitride (GaN), silicon carbide (SiC), gallium oxide (Ga 2 O 3 ), or the like.

p側電極25は、p型層24と同等の熱膨張率を有するITO(Indium-Tin-Oxide)からなる。ITOは、窒化ガリウム半導体同等の熱膨張率(5×10−6/℃)と同等の熱膨張率であるため、LEDチップ2との熱膨張率差により生じるp側電極のLEDチップ2からの剥がれを抑制することができる。尚、LEDチップ2と配線基板3との間には、ガラスが充填されていない中空部5(屈折率:約1.0)が形成されている。従って、透明導電材料であるITO(屈折率:約2.0)を用いた場合も、これに接する中空部との屈折率差が大きく、臨界角が小さいため、発光層23から発せられる光は中空部とITOとの界面で結晶成長基板20の方向に反射されることになる。 The p-side electrode 25 is made of ITO (Indium-Tin-Oxide) having a thermal expansion coefficient equivalent to that of the p-type layer 24. Since ITO has a thermal expansion coefficient equivalent to that of a gallium nitride semiconductor (5 × 10 −6 / ° C.), the p-side electrode from the LED chip 2 caused by a difference in thermal expansion coefficient from the LED chip 2 Peeling can be suppressed. A hollow portion 5 (refractive index: about 1.0) that is not filled with glass is formed between the LED chip 2 and the wiring substrate 3. Accordingly, even when ITO (refractive index: about 2.0), which is a transparent conductive material, is used, the difference in refractive index from the hollow portion in contact with the transparent conductive material is large and the critical angle is small. The light is reflected in the direction of the crystal growth substrate 20 at the interface between the hollow portion and ITO.

n側電極27は、バナジウム(V)/アルミニウム(Al)/金(Au)によって形成されている。n側電極27の配置は、図3(a)及び図4(a)に示すように、LEDチップ2の角部に形成してもよいし、図3(b)及び図4(b)の一辺の中央部に形成してもよい。   The n-side electrode 27 is formed of vanadium (V) / aluminum (Al) / gold (Au). The arrangement of the n-side electrode 27 may be formed at the corner of the LED chip 2 as shown in FIGS. 3 (a) and 4 (a), or as shown in FIGS. 3 (b) and 4 (b). You may form in the center part of one side.

LEDチップ2の熱膨張率(α)は、厚み方向の大部分を占める結晶成長基板の熱膨張率(α)と同等となっている。例えば、結晶成長基板としてサファイア基板を採用した場合、LEDチップ2のGaN層の熱膨張率は5×10−6/℃であるが、LEDチップ2全体としての熱膨張率はサファイア基板の熱膨張率(α)と同等の7×10−6/℃と同等となる。 The thermal expansion coefficient (α) of the LED chip 2 is equivalent to the thermal expansion coefficient (α) of the crystal growth substrate that occupies most of the thickness direction. For example, when a sapphire substrate is employed as the crystal growth substrate, the thermal expansion coefficient of the GaN layer of the LED chip 2 is 5 × 10 −6 / ° C., but the thermal expansion coefficient of the LED chip 2 as a whole is that of the sapphire substrate. It becomes equivalent to 7 × 10 −6 / ° C. equivalent to the rate (α).

配線基板3は、アルミナ(Al)等のセラミックス基板からなり、厚さ0.25mmで1.0mm角に形成されている。アルミナの熱膨張率(α)が7×10−6/℃であり、LEDチップの熱膨張率(α)と同等となっている。図1(a)及び図1(c)に示すように、配線基板3の配線4は、基板表面に形成されてLEDチップ2と電気的に接続される表面配線41と、基板裏面に形成されて外部端子と接続可能な裏面配線42とを有している。表面配線41及び裏面配線42は、LEDチップ2の電極形状に応じてパターン形成されたタングステン(W)/ニッケル(Ni)/金(Au)を備えている。表面配線41と裏面配線42は、配線基板3を厚さ方向に貫通してWからなるビア43により電気的に接続されている。各ビア43は、配線基板3に平面視にて対角に配されている。 The wiring substrate 3 is made of a ceramic substrate such as alumina (Al 2 O 3 ), and is formed with a thickness of 0.25 mm and a 1.0 mm square. The thermal expansion coefficient (α) of alumina is 7 × 10 −6 / ° C., which is equivalent to the thermal expansion coefficient (α) of the LED chip. As shown in FIG. 1A and FIG. 1C, the wiring 4 of the wiring board 3 is formed on the surface of the board and is electrically connected to the LED chip 2 and on the back surface of the board. And a back surface wiring 42 that can be connected to an external terminal. The front surface wiring 41 and the back surface wiring 42 include tungsten (W) / nickel (Ni) / gold (Au) patterned according to the electrode shape of the LED chip 2. The front surface wiring 41 and the back surface wiring 42 are electrically connected by a via 43 made of W through the wiring substrate 3 in the thickness direction. Each via 43 is diagonally arranged on the wiring board 3 in plan view.

ガラス封止部6は、図1(b)に示すように、ZnO−B−SiO−Nb−NaO−LiO系の低融点ガラス(以下、この組成の低融点ガラスを「低融点ガラスA」と表す。)からなり、緑色蛍光体7g,黄色蛍光体7y及び赤色蛍光体7rからなる蛍光体7の一方が均一に分散されている。尚、図1(b)では、A部の拡大断面図を示しているが、ガラス封止部6の任意の領域に対し、蛍光体7は均一に分散されている。緑色蛍光体7g及び赤色蛍光体7rは、硫化物蛍光体、アルミン酸塩蛍光体又はケイ酸塩蛍光体からなる。黄色蛍光体7yとしては、例えば、YAG(Yttrium Aluminum Garnet,YAl12:Ce3+)系蛍光体が挙げられる。 As shown in FIG. 1B, the glass sealing portion 6 is made of ZnO—B 2 O 3 —SiO 2 —Nb 2 O 5 —Na 2 O—Li 2 O-based low melting glass (hereinafter referred to as this composition). The low-melting-point glass is represented as “low-melting-point glass A”), and one of the phosphors 7 consisting of the green phosphor 7g, the yellow phosphor 7y, and the red phosphor 7r is uniformly dispersed. In FIG. 1B, an enlarged cross-sectional view of the portion A is shown, but the phosphors 7 are uniformly dispersed in any region of the glass sealing portion 6. The green phosphor 7g and the red phosphor 7r are made of a sulfide phosphor, an aluminate phosphor, or a silicate phosphor. Examples of the yellow phosphor 7y include a YAG (Yttrium Aluminum Garnet, Y 3 Al 5 O 12 : Ce 3+ ) phosphor.

硫化物蛍光体は、硫黄を蛍光体の母体に含む蛍光体であり、例えば、以下の蛍光体が挙げられる。
(AE)Ga:Eu2+ 緑色蛍光体
(AE)S:Eu2+ 赤色蛍光体
上記において、AEは、Ca,Srの少なくとも一種類である。
The sulfide phosphor is a phosphor containing sulfur in the matrix of the phosphor, and examples thereof include the following phosphors.
(AE) Ga 2 S 4 : Eu 2+ green phosphor (AE) S: Eu 2+ red phosphor In the above, AE is at least one of Ca and Sr.

アルミン酸塩蛍光体は、Alを母体とした蛍光体であり、例えば、以下の蛍光体が挙げられる。
(AE)M:Eu2+ 緑色蛍光体
上記において、AEは、Ca,Sr,Baの少なくとも一種類であり、Mは、B,Al,Gaの少なくとも一種類である。
The aluminate phosphor is a phosphor having Al 2 O 3 as a base, and examples thereof include the following phosphors.
(AE) M 2 O 4 : Eu 2+ green phosphor In the above, AE is at least one of Ca, Sr, and Ba, and M is at least one of B, Al, and Ga.

ケイ酸塩蛍光体は、SiOを母体とした蛍光体であり、例えば、以下の蛍光体が挙げられる。
(AE)MO:Eu2+ 橙色蛍光体
(AE):Ca,Sr,Baの少なくとも一種類である。
上記において、Mは、Si,Geの少なくとも一種類である。
Silicate phosphors are phosphors based on SiO 2 , and examples thereof include the following phosphors.
(AE) 3 MO 5 : Eu 2+ orange phosphor (AE): At least one of Ca, Sr, and Ba.
In the above, M is at least one of Si and Ge.

図1に示すように、ガラス封止部6は、配線基板3上に直方体状に形成され、厚さが0.5mmとなっている。ガラス封止部6の側面6aは、ホットプレス加工によって配線基板3と接着された板ガラスが、配線基板3とともにダイサーで個片化されることにより形成される。また、ガラス封止部6の上面6bは、ホットプレス加工によって配線基板3と接着された板ガラスの一面である。この低融点ガラスは、ガラス転移温度(Tg)が490℃で、屈伏点(At)が520℃であり、LEDチップ2のエピタキシャル成長層の形成温度よりも、ガラス転移温度(Tg)が十分に低くなっている。本実施形態においては、エピタキシャル成長層の形成温度よりも、ガラス転移温度(Tg)が200℃以上低くなっている。また、低融点ガラスの100℃〜300℃における熱膨張率(α)は6×10−6/℃である。熱膨張率(α)は、ガラス転移温度(Tg)を超えるとこれより大きな数値となる。これにより、低融点ガラスは約600℃で配線基板3と接着し、ホットプレス加工が可能となっている。また、ガラス封止部6の低融点ガラスの屈折率は1.7である。 As shown in FIG. 1, the glass sealing portion 6 is formed in a rectangular parallelepiped shape on the wiring substrate 3 and has a thickness of 0.5 mm. The side surface 6 a of the glass sealing portion 6 is formed by separating the plate glass bonded to the wiring board 3 by hot press processing together with the wiring board 3 with a dicer. Moreover, the upper surface 6b of the glass sealing part 6 is one surface of the plate glass adhere | attached with the wiring board 3 by the hot press process. This low-melting glass has a glass transition temperature (Tg) of 490 ° C., a yield point (At) of 520 ° C., and a glass transition temperature (Tg) that is sufficiently lower than the formation temperature of the epitaxial growth layer of the LED chip 2. It has become. In this embodiment, the glass transition temperature (Tg) is lower by 200 ° C. or more than the formation temperature of the epitaxial growth layer. Moreover, the thermal expansion coefficient ((alpha)) in 100 to 300 degreeC of low melting glass is 6 * 10 < -6 > / degreeC . When the thermal expansion coefficient (α) exceeds the glass transition temperature (Tg), a larger numerical value is obtained. As a result, the low-melting glass is bonded to the wiring board 3 at about 600 ° C. and can be hot pressed. Moreover, the refractive index of the low melting glass of the glass sealing part 6 is 1.7.

尚、低融点ガラスの組成は、ガラス転移温度(Tg)がLEDチップ2の耐熱温度よりも低く、熱膨張率(α)が配線基板3と同等であれば任意である。ガラス転移温度が比較的低く、熱膨張率(α)が比較的小さいガラスとしては、ZnO−SiO−RO系(RはLi、Na、K等のアルカリ金属元素から選ばれる少なくとも1種)のガラス、リン酸系のガラス及び鉛ガラスが挙げられる。これらのガラスでは、ZnO−SiO−R2O系のガラスが、リン酸系のガラスに比して耐湿性が良好で、鉛ガラスのように環境的負荷物質を含有していないため、好適なガラス材料である。 The composition of the low melting point glass is arbitrary as long as the glass transition temperature (Tg) is lower than the heat resistant temperature of the LED chip 2 and the thermal expansion coefficient (α) is equivalent to that of the wiring board 3. As a glass having a relatively low glass transition temperature and a relatively small coefficient of thermal expansion (α), a ZnO—SiO 2 —R 2 O system (where R is at least one selected from alkali metal elements such as Li, Na, and K) is used. ) Glass, phosphate glass and lead glass. Among these glasses, ZnO—SiO 2 —R 2 O-based glass has better moisture resistance than phosphoric acid-based glass and does not contain environmentally hazardous substances like lead glass. Material.

低融点ガラスは、一般に、樹脂において高粘度といわれるレベルより、桁違いに高い粘度で加工される。さらに、ガラスの場合には、屈伏点を数十℃超えても粘度が一般の樹脂封止レベルまで低くはならない。また、一般の樹脂成型時レベルの粘度にしようとすると、LEDチップの結晶成長温度を超える温度を要するもの、あるいは金型に付着するものとなり、封止・成形加工が困難になる。このため、10ポアズ以上で加工することが好ましい。 Low melting glass is generally processed with a viscosity that is orders of magnitude higher than the level of high viscosity in resins. Furthermore, in the case of glass, the viscosity does not decrease to a general resin sealing level even if the yield point exceeds several tens of degrees Celsius. Further, if the viscosity is set to a level at the time of general resin molding, it will require a temperature exceeding the crystal growth temperature of the LED chip, or will adhere to the mold, making sealing and molding difficult. For this reason, it is preferable to process at 10 4 poise or more.

ここで、ガラスの屈伏点と熱膨張率は、ガラスの結合力の要因が作用するため、相関関係があり、一般的に、屈伏点が低いと熱膨張率が大きくなるため、低融点ガラスは熱膨張係数が大きい。ガラスの熱膨張率(α)をセラミックス基板の熱膨張率(α=5ppm/℃〜10ppm/℃)と同等とする屈伏点は450℃以上となり、ガラスを均一に分散させることができる程度の粘度とするためには、その温度は1000℃以上となってしまい、蛍光体の蛍光特性を失ってしまう。また、ガラスがガラス状態でなく、固相(結晶)状態となりえる温度では、高温で低粘度の状態になるほど、結晶化により白濁しやすい。本発明では、ガラスと蛍光体とを粉体化し、屈伏点から200℃以内で高粘度の軟化状態でガラスを均一分散させるため、蛍光体の蛍光特性を失うことはなく、また、結晶化による白濁を生じないものとできる。   Here, the yield point of glass and the coefficient of thermal expansion have a correlation because the factor of the bonding force of the glass acts, and generally, when the yield point is low, the coefficient of thermal expansion increases, Large thermal expansion coefficient. The yield point at which the thermal expansion coefficient (α) of the glass is equivalent to the thermal expansion coefficient of the ceramic substrate (α = 5 ppm / ° C. to 10 ppm / ° C.) is 450 ° C. or higher, and the viscosity is such that the glass can be uniformly dispersed. Therefore, the temperature becomes 1000 ° C. or more, and the fluorescent property of the phosphor is lost. Further, at a temperature at which the glass can be in a solid phase (crystal) state instead of a glass state, it becomes more cloudy due to crystallization as the viscosity becomes higher at a higher temperature. In the present invention, the glass and the phosphor are powdered, and the glass is uniformly dispersed in a softened state with a high viscosity within 200 ° C. from the yield point. It can be set so as not to cause white turbidity.

蛍光体は、黄色蛍光体7y,赤色蛍光体7r及び緑色蛍光体7gからなる。本実施形態においては、黄色蛍光体7yとしてYAG系蛍光体が用いられ、赤色蛍光体7r及び緑色蛍光体7gは、硫化物蛍光体、アルミン酸蛍光体又はケイ酸塩蛍光体が用いられる。尚、赤色蛍光体7y及び緑色蛍光体は、そのいずれか1種のみを用いてもよい。   The phosphor includes a yellow phosphor 7y, a red phosphor 7r, and a green phosphor 7g. In the present embodiment, a YAG phosphor is used as the yellow phosphor 7y, and a sulfide phosphor, an aluminate phosphor, or a silicate phosphor is used as the red phosphor 7r and the green phosphor 7g. Note that only one of the red phosphor 7y and the green phosphor may be used.

このLEDランプ1の製造方法について、図5の工程説明図を参照しながら、以下に説明する。   The manufacturing method of this LED lamp 1 is demonstrated below, referring process explanatory drawing of FIG.

まず、低融点ガラスAを粉砕して、ふるいにより分級を施して、最小粒径が20μm、最大粒径が60μm、平均粒径が30μmのガラス粉末を生成する。尚、ガラス粉末の生成方法については、後述する。ガラス透明度このガラス粉末と平均粒径が10μmの複数種の蛍光体7r,7y,7gの粉末を所定の割合で混合し、蛍光体粉末7r,7y,7gがガラス粉末に均一に分散された混合粉末10を作製する。この段階で、平均粒径が20μmの光拡散性粉末を所定の割合で加え、ガラス粉末中に蛍光体粉末7r,7y,7gとともに均一に分散させてもよい。光拡散性粉末の材料としては、ジルコニア(ZrO),アルミナ(Al),シリカ(SiO)が挙げられる。このような光拡散性粉末を含有させるとLEDランプ1のガラス封止部6内の光拡散性が向上し、LEDチップ2の発光光と蛍光体7の波長変換光の混合性が向上し、LEDランプの出射光の色むらが更に抑制される。 First, the low melting glass A is pulverized and classified by sieving to produce glass powder having a minimum particle size of 20 μm, a maximum particle size of 60 μm, and an average particle size of 30 μm. In addition, the production | generation method of glass powder is mentioned later. Glass transparency This glass powder and a plurality of kinds of phosphors 7r, 7y, 7g having an average particle diameter of 10 μm are mixed at a predetermined ratio, and the phosphor powders 7r, 7y, 7g are uniformly dispersed in the glass powder. Powder 10 is produced. At this stage, a light diffusing powder having an average particle diameter of 20 μm may be added at a predetermined ratio and uniformly dispersed together with the phosphor powders 7r, 7y, and 7g in the glass powder. Examples of the material of the light diffusing powder include zirconia (ZrO 2 ), alumina (Al 2 O 3 ), and silica (SiO 2 ). When such a light diffusing powder is contained, the light diffusibility in the glass sealing part 6 of the LED lamp 1 is improved, and the mixing of the emitted light of the LED chip 2 and the wavelength converted light of the phosphor 7 is improved. The uneven color of the emitted light from the LED lamp is further suppressed.

図6は蛍光体分散ガラスの生成工程及び加工状態を示す説明図であり、(a)は混合粉末から蛍光体分散ガラスを生成する加工装置を示し、(b)は混合粉末から生成された蛍光体分散ガラスを示し、(c)は得られた蛍光体分散ガラスを均一な厚みとなるように板状に薄片化した状態を示している。   6A and 6B are explanatory views showing a production process and a processing state of the phosphor-dispersed glass. FIG. 6A shows a processing apparatus for producing the phosphor-dispersed glass from the mixed powder, and FIG. 6B shows a fluorescence generated from the mixed powder. (C) shows a state in which the obtained phosphor-dispersed glass has been sliced into a plate shape so as to have a uniform thickness.

まず、ガラス粉末と蛍光体粉末の混合粉末にて生成された混合粉末10に荷重を加えながら溶融した後に、この混合粉末10を固化して蛍光体分散ガラス11を生成する。即ち、図6(a)に示すように、下台80の平坦な上面に、下台80上の所定領域を包囲する筒状の側面枠81を設けて、上方を開口した凹部を形成する。凹部82は上下にわたって同じ断面であり、凹部の断面形状に対応して形成された荷重治具83の下部が、凹部内で上下に移動可能となっている。この凹部に混合粉末10を入れた後、凹部内を加圧する荷重治具83をセットする。そして、空気雰囲気を、7.6Torrに減圧するとともに650℃に加熱し、荷重治具83を利用して20kg/cmの圧力を混合粉末10に加えてガラスを軟化させる。尚、ガラスの軟化条件は常圧、加圧なしでもよい。このように、屈伏点(At)から200℃以内の温度でガラスを軟化させることが好ましい。これを超えた温度でガラスを軟化させると、ガラスが固化する際にガラスが結晶化し、失透しやすくなる。この後、溶解した混合粉末10を冷却して固化することにより、図6(b)に示すような、光学的に影響が生じるサイズの残留気泡や白濁を生じることなく蛍光体7が分散された蛍光体分散ガラス11を得ることができる。ここで、光学的に影響が生じるサイズの残留気泡としては、300μm角のLEDチップ2に対して直径100μm以上の気泡であり、この気泡がLEDチップ2の近傍にあると、LEDチップ2から発した光がLEDチップ2へ再入射して発光効率の低下を招くおそれがある。生成された蛍光体分散ガラス11は、図6(c)に示すように、ガラス封止部6の厚さに対応するようスライスされて板状に加工される(板状加工工程)。本実施形態においては、ガラス封止部6の厚さは0.5mmである。 First, the mixed powder 10 produced by the mixed powder of glass powder and phosphor powder is melted while applying a load, and then the mixed powder 10 is solidified to produce a phosphor-dispersed glass 11. That is, as shown in FIG. 6A, a cylindrical side surface frame 81 that surrounds a predetermined region on the lower base 80 is provided on the flat upper surface of the lower base 80 to form a concave portion that opens upward. The recess 82 has the same cross section in the vertical direction, and the lower portion of the load jig 83 formed corresponding to the cross-sectional shape of the recess can move up and down in the recess. After the mixed powder 10 is put into the recess, a load jig 83 that pressurizes the recess is set. Then, the air atmosphere is reduced to 7.6 Torr and heated to 650 ° C., and the load jig 83 is used to apply a pressure of 20 kg / cm 2 to the mixed powder 10 to soften the glass. The softening conditions for the glass may be normal pressure or no pressure. Thus, it is preferable to soften the glass at a temperature within 200 ° C. from the yield point (At). When the glass is softened at a temperature exceeding this temperature, the glass is crystallized when the glass is solidified, and is easily devitrified. Thereafter, the melted mixed powder 10 is cooled and solidified to disperse the phosphor 7 without causing residual bubbles or white turbidity of an optically affecting size as shown in FIG. 6B. The phosphor-dispersed glass 11 can be obtained. Here, the residual bubbles having a size that affects optically are bubbles having a diameter of 100 μm or more with respect to the LED chip 2 of 300 μm square. There is a possibility that the emitted light re-enters the LED chip 2 and causes a decrease in luminous efficiency. The produced phosphor-dispersed glass 11 is sliced and processed into a plate shape corresponding to the thickness of the glass sealing portion 6 (plate processing step) as shown in FIG. In this embodiment, the thickness of the glass sealing part 6 is 0.5 mm.

尚、本実施形態においては、蛍光体分散ガラス11の生成に際してバインダを使用しない。これにより、樹脂バインダを利用して混合粉末を焼成するもののように、強度や透明度等のガラスの特性がバインダの残渣により劣化するようなことはない。また、LEDチップ2を封止した際に、気泡により気密性が損なわれるようなこともない。   In the present embodiment, no binder is used when the phosphor-dispersed glass 11 is produced. Thereby, the characteristic of glass, such as intensity | strength and transparency, does not deteriorate with the residue of a binder like what bakes mixed powder using a resin binder. Further, when the LED chip 2 is sealed, the airtightness is not impaired by the bubbles.

このようにして得られた蛍光体分散ガラス11は、溶解前に蛍光体7が分散されているのでほぼ均一に分散されることとなるが、具体的には、任意の{10×(蛍光体平均粒子幅)/(蛍光体含有体積比)1/3}3の体積で、蛍光体含有体積比が全体平均に対して50〜200%の範囲内が望ましく、80〜125%の範囲内であることがさらに望ましい。実際に得られた蛍光体分散ガラス11は、任意に直交する3方向で3等分することにより得られる9エリアの蛍光体7の含有体積比が80〜125%の範囲内となっており、蛍光体7が均一に分散されたものとなっている。尚、各エリアの蛍光体7の含有体積比は、90〜112%の範囲内となることがさらに望ましい。ここで、必要であれば、ガラスの粉砕度合いを高めて、蛍光体7の粒子と同等のサイズとすれば、よりミクロなエリアにおいて均一に分散させることができる。   The phosphor-dispersed glass 11 thus obtained is dispersed almost uniformly because the phosphor 7 is dispersed before melting. Specifically, any phosphor {10 × (phosphor The average particle width) / (phosphor-containing volume ratio) 1/3} 3, and the phosphor-containing volume ratio is preferably in the range of 50 to 200% with respect to the overall average, and in the range of 80 to 125%. More desirably. The phosphor-dispersed glass 11 actually obtained has a content volume ratio of the phosphors 9 of 9 areas obtained by dividing into 3 equal parts in three orthogonal directions, and is in the range of 80 to 125%. The phosphor 7 is uniformly dispersed. In addition, it is more desirable that the content volume ratio of the phosphor 7 in each area is in the range of 90 to 112%. Here, if necessary, the degree of pulverization of the glass is increased so that the size is equal to that of the phosphor 7 particles, so that the glass can be uniformly dispersed in a more micro area.

一方、蛍光体分散ガラス11とは別個に、ビア3aが形成された配線基板3を用意し、配線基板3の表面に配線に応じてWペーストをスクリーン印刷する。次いで、Wペーストを印刷された配線基板3を1000℃余で熱処理することによりWを配線基板3に焼き付け、さらに、W上にNiめっき、Auめっきを施すことで配線4を形成する(配線基板形成工程)。尚、多結晶アルミナ表面の粗面化は、配線4をファイン化する際に行う研磨による平坦化工程を省き、多結晶アルミナの粒界によるミクロな凹凸のある状態としてもよいし、ブラスト加工によって凹凸形成加工を施したものであってもよい。   On the other hand, separately from the phosphor-dispersed glass 11, a wiring board 3 with vias 3 a is prepared, and W paste is screen-printed on the surface of the wiring board 3 according to the wiring. Next, the wiring substrate 3 on which the W paste is printed is heat-treated at a temperature of about 1000 ° C. to burn W on the wiring substrate 3, and further, Ni wiring and Au plating are performed on the W to form the wiring 4 (wiring substrate). Forming step). The surface of the polycrystalline alumina may be roughened by omitting the flattening step by polishing when the wiring 4 is refined, and may have a micro unevenness due to the grain boundary of the polycrystalline alumina, or by blasting. What gave the uneven | corrugated formation process may be used.

次に、配線基板3の配線4の表面配線41に複数のLEDチップ2を各Auバンプ28によって電気的に接合する(素子搭載工程)。   Next, the plurality of LED chips 2 are electrically joined to the surface wiring 41 of the wiring 4 of the wiring board 3 by the Au bumps 28 (element mounting process).

その後、各LEDチップ2を搭載した配線基板3を下金型91、板状の蛍光体分散ガラス30を上金型92にセットする。下金型91及び上金型92にはそれぞれヒータが配置され、各金型91,92で独立して温度調整される。次いで、図7に示すように、略平坦な配線基板3の搭載面に蛍光体分散ガラス11を重ねて、下金型91及び上金型92を加圧することにより、ホットプレスする。これにより、LEDチップ2が搭載された配線基板3に蛍光体分散ガラス11が融着され、LEDチップ2は配線基板3上で蛍光体分散ガラス11により封止される(ガラス封止工程)。ここで、図7は、ホットプレス加工の状態を示す模式説明図である。本実施形態においては、20〜40kgf/cm程度として加圧により加工を行った。 Thereafter, the wiring substrate 3 on which each LED chip 2 is mounted is set in the lower mold 91 and the plate-like phosphor-dispersed glass 30 is set in the upper mold 92. A heater is disposed in each of the lower mold 91 and the upper mold 92, and the temperatures of the molds 91 and 92 are independently adjusted. Next, as shown in FIG. 7, the phosphor-dispersed glass 11 is placed on the mounting surface of the substantially flat wiring substrate 3 and hot pressing is performed by pressing the lower mold 91 and the upper mold 92. Thereby, the phosphor dispersed glass 11 is fused to the wiring substrate 3 on which the LED chip 2 is mounted, and the LED chip 2 is sealed on the wiring substrate 3 by the phosphor dispersed glass 11 (glass sealing step). Here, FIG. 7 is a schematic explanatory view showing a state of hot pressing. In the present embodiment, processing was performed by pressurization at about 20 to 40 kgf / cm 2 .

これにより、蛍光体分散ガラス30は配線基板3とこれらに含まれる酸化物を介して接着される。ホットプレス加工での低融点ガラスの粘度は10〜10ポアズとすることが好ましい。この粘度範囲とすることにより、粘度が低いことに起因するガラスの上金型92へ接合、ガラスの外部流出等を抑制して歩留まりを良好にすることができるとともに、粘度が高いことに起因するガラスの配線基板3への接合力低下、各Auバンプ28のつぶれ量の増大等を抑制することができる。 Thereby, the fluorescent substance dispersion | distribution glass 30 is adhere | attached through the wiring board 3 and the oxide contained in these. The viscosity of the low-melting glass in hot pressing is preferably 10 5 to 10 7 poise. By setting this viscosity range, it is possible to improve the yield by suppressing bonding of the glass to the upper mold 92 due to low viscosity, glass outflow, etc., and high viscosity. It is possible to suppress a decrease in the bonding strength of glass to the wiring board 3, an increase in the amount of collapse of each Au bump 28, and the like.

また、上記のように、配線基板3は多結晶アルミナで表面が粗面状に形成されており、ガラス封止部6側の接合部の界面が配線基板3の表面に沿って粗面状に形成される。これは、ホットプレス加工時に圧力を加えるとともに、大気圧より低い減圧雰囲気で加工を行うことにより実現される。ここで、粗面化された多結晶アルミナの凹みにガラスが十分入り込む状態であれば、ホットプレス加工時の圧力条件や雰囲気の減圧条件は任意であり、ホットプレス時の加圧と雰囲気の減圧についていずれか一方だけ行って加工するようにしてもよいことは勿論である。この結果、ガラス封止部6と配線基板3との間にアンカー効果が生じ、ガラス封止部6と配線基板3との接合強度を高めることができる。   Further, as described above, the surface of the wiring substrate 3 is made of polycrystalline alumina and has a rough surface, and the interface of the bonding portion on the glass sealing portion 6 side is rough along the surface of the wiring substrate 3. It is formed. This is realized by applying pressure during hot press processing and processing in a reduced-pressure atmosphere lower than atmospheric pressure. Here, as long as the glass sufficiently enters the dent of the roughened polycrystalline alumina, the pressure conditions during hot press processing and the pressure reduction conditions of the atmosphere are arbitrary, and pressurization during hot press and pressure reduction of the atmosphere It goes without saying that only one of the above may be performed. As a result, an anchor effect occurs between the glass sealing portion 6 and the wiring substrate 3, and the bonding strength between the glass sealing portion 6 and the wiring substrate 3 can be increased.

ホットプレス加工のサイクルタイムを短縮するために、プレス前に予熱ステージを設けてガラス封止部6を予め加熱したり、プレス後に徐冷ステージを設けてガラス封止部6の冷却速度を制御するようにしてもよい。また、予熱ステージ及び徐冷ステージにおいてプレスすることも可能であり、ホットプレス加工時の工程は適宜に変更可能である。   In order to shorten the cycle time of hot pressing, a preheating stage is provided before pressing to heat the glass sealing part 6 in advance, or a slow cooling stage is provided after pressing to control the cooling rate of the glass sealing part 6. You may do it. Moreover, it is also possible to press in a preheating stage and a slow cooling stage, and the process at the time of a hot press process can be changed suitably.

上記の工程を得て、複数のLEDランプ1が縦横方向に連結された状態の図7に示すようなLEDランプ前駆体13が作製される。この後、ガラス封止部6と一体化された配線基板3をダイサーにセットして、各LEDチップ2をダイシングして個片化することによりLEDランプ1が完成する(個片化工程)。ガラス封止部6及び配線基板3がともにダイサーによりカットされることで、配線基板3及びガラス封止部6の側面が同一面化する。   By obtaining the above steps, an LED lamp precursor 13 as shown in FIG. 7 in a state where a plurality of LED lamps 1 are connected in the vertical and horizontal directions is manufactured. Thereafter, the wiring board 3 integrated with the glass sealing portion 6 is set on a dicer, and each LED chip 2 is diced into individual pieces to complete the LED lamp 1 (individualization step). Both the glass sealing part 6 and the wiring board 3 are cut by a dicer, so that the side surfaces of the wiring board 3 and the glass sealing part 6 are flush with each other.

更に、図8に示すように、LEDランプ1の外部接続端子44が配置される面以外の部分に蛍光体を含有させたゾルゲルガラスやシリコーン樹脂等の蛍光体層8を形成してもよい。この場合、BOS(Barium Orth Silicate,BaSiO)系蛍光体等の蛍光体を用いることができ、LEDランプ1の調光性を向上させることができる。このような蛍光体層を設ける場合、低融点ガラス中に蛍光体7yは混入させなくてもよい。 Further, as shown in FIG. 8, a phosphor layer 8 such as sol-gel glass or silicone resin containing phosphor may be formed in a portion other than the surface where the external connection terminal 44 of the LED lamp 1 is disposed. In this case, a phosphor such as a BOS (Barium Ortho Silicate, Ba 2 SiO 4 ) phosphor can be used, and the dimming property of the LED lamp 1 can be improved. When such a phosphor layer is provided, the phosphor 7y does not have to be mixed in the low melting point glass.

このような製造方法により得られるLEDランプ1では、配線4を通じてLEDチップ2に電流を流すと、LEDチップ2から青色光が発せられる。LEDチップ2から発せられた青色光の一部はガラス封止部6内の蛍光体7により赤色光,緑色光,黄色光に変換される。そして、これらの光が混色し、LEDランプから白色光が放射される。   In the LED lamp 1 obtained by such a manufacturing method, when current is passed through the LED chip 2 through the wiring 4, blue light is emitted from the LED chip 2. Part of the blue light emitted from the LED chip 2 is converted into red light, green light, and yellow light by the phosphor 7 in the glass sealing portion 6. Then, these lights are mixed and white light is emitted from the LED lamp.

ここで、ガラス封止部6内に均一に蛍光体7が分散されていることから、LEDチップ2から発せられる光を、放射される角度によらず均一に波長変換することができ、外部へ放射される光に色むらが生じることはない。   Here, since the phosphors 7 are uniformly dispersed in the glass sealing portion 6, the light emitted from the LED chip 2 can be uniformly wavelength-converted regardless of the emitted angle, and the outside. Color unevenness does not occur in the emitted light.

また、ガラス封止部6内における気泡の発生が抑制されることから、ガラス封止部6内
で光が散乱反射することはなく、光取り出し効率を確保することができる。また、気泡によりLEDチップ2の気密性が損なわれることもない。
Moreover, since generation | occurrence | production of the bubble in the glass sealing part 6 is suppressed, light is not scattered and reflected in the glass sealing part 6, but light extraction efficiency can be ensured. Moreover, the airtightness of the LED chip 2 is not impaired by the bubbles.

ここで、混合粉末10におけるガラスの粒子サイズは、数μm〜200μmの範囲とすることが、粉砕時の不純物混入や物理的ダメージを避け、ガラス溶解時の残留気泡の発生を抑制し、かつ蛍光体7をガラス中に均一に分散するために望ましい。この結果、直径300μm以上の連続したエリアに蛍光体7が存在しないようなことがなくなる。   Here, the particle size of the glass in the mixed powder 10 should be in the range of several μm to 200 μm to avoid mixing of impurities and physical damage during pulverization, suppressing generation of residual bubbles during glass melting, and fluorescence. Desirable for uniformly dispersing the body 7 in the glass. As a result, the phosphor 7 does not exist in a continuous area having a diameter of 300 μm or more.

また、本実施形態においては、荷重を加えながら混合粉末10を溶解するようにしたので、荷重を加えない場合よりも低い温度で粉末を溶解させることができる。また、屈伏点(At)付近での加工が可能であるため、不安定なZnO系のガラスを用いても安定的に結晶化を生じさせないものとすることができる。尚、荷重を加えずにガラス溶解を行っても蛍光体7を均一に分散させることができるし、プレス機を用いて50kgf/cmといった圧力を加えてガラスの溶解を行うようにしてもよい。尚、減圧雰囲気の程度、加圧の程度は、ガラスの特性に応じて適宜に設定することができる。また、雰囲気の減圧とガラスに対する加圧については必ずしも両方を行う必要はなく、減圧雰囲気と加圧のいずれか一方の条件下でガラスを溶解するようにしてもよいことは勿論である。 Moreover, in this embodiment, since the mixed powder 10 was melted while applying a load, the powder can be dissolved at a lower temperature than when no load is applied. In addition, since processing near the yield point (At) is possible, even when an unstable ZnO-based glass is used, crystallization can be prevented stably. The phosphor 7 can be uniformly dispersed even if the glass is melted without applying a load, or the glass may be melted by applying a pressure of 50 kgf / cm 2 using a press machine. . In addition, the grade of a pressure-reduced atmosphere and the grade of pressurization can be suitably set according to the characteristic of glass. Further, it is not always necessary to perform both the decompression of the atmosphere and the pressurization to the glass, and it is a matter of course that the glass may be melted under either the decompression atmosphere or the pressurization.

また、ガラス封止部6として低融点ガラスAを用いたので、ガラス封止部6の安定性及び耐候性を良好とすることができる。従って、LEDランプ1が過酷な環境下等で長期間にわたって使用される場合であっても、ガラス封止部6の劣化が抑制され、光取り出し効率の経時的な低下を効果的に抑制することができる。さらに、ガラス封止部6が高屈折率でかつ高透過率特性のため、高信頼性と高発光効率の両立を実現できる。   Moreover, since the low melting glass A is used as the glass sealing part 6, the stability and weather resistance of the glass sealing part 6 can be made favorable. Therefore, even when the LED lamp 1 is used over a long period of time in a harsh environment or the like, the deterioration of the glass sealing portion 6 is suppressed, and the temporal decrease in light extraction efficiency is effectively suppressed. Can do. Furthermore, since the glass sealing part 6 has a high refractive index and a high transmittance characteristic, it is possible to realize both high reliability and high luminous efficiency.

しかしながら、低融点ガラスAを用いても、所望の蛍光体の変換効率が得られない場合がある。そのため、本発明者は、その原因に調べるために下記の実験を行なった。
サンプルとして分級された低融点ガラスAのガラス粉末を、下記の3つの方法で作成した。
However, even if the low-melting glass A is used, the desired phosphor conversion efficiency may not be obtained. Therefore, the present inventor conducted the following experiment in order to investigate the cause.
A glass powder of low melting glass A classified as a sample was prepared by the following three methods.

まず、低融点ガラスAの組成となるように原材料となる種々の組成のガラス粉末を調合した。   First, glass powders having various compositions as raw materials were prepared so as to have the composition of the low-melting glass A.

その後、第1のサンプルは以下の工程により作製した。まず、調合したガラス粉末を溶融させた後、大気中で固化させた。そして、固化したガラスを大気中でボールミルにより最大粒径が約100μm以下となるように粉砕し、ガラス粉末を作製した。次に、メッシュ目が60μmのふるいと20μmのふるいにかけることにより、最大粒径が60μm、最小粒径が20μmに分級されたガラス粉末を抽出した。   Then, the 1st sample was produced by the following processes. First, the prepared glass powder was melted and then solidified in the atmosphere. Then, the solidified glass was pulverized in the atmosphere by a ball mill so that the maximum particle size was about 100 μm or less, thereby producing a glass powder. Next, a glass powder having a maximum particle size of 60 μm and a minimum particle size of 20 μm was extracted by passing through a 60 μm sieve and a 20 μm sieve.

2番目及び3番目のサンプルは、調合したガラス粉末を溶融させた状態で、常温水へ滴下し、熱衝撃により破砕ガラス粉末を作製した。そして、常温水を含ませた状態でボールミルにより粉砕し、ふるいにて60μm以下としたガラス粉末と常温水の混合物を作製した。次に、上記の水槽とは別に、常温水が満たされた分級用水槽を用意した。そして、上記のガラス粉末と常温水の混合物を分級用水槽へ注入し、上澄みした微細なガラス粉末は除去し、ふるいを透過したガラス粉末を抽出した。このような方法によれば、凡そ20μm以下のガラス粉末は上澄みとなるため、最大粒径が60μm、最小粒径が20μmに分級されたガラス粉末を抽出することができる。   In the second and third samples, the prepared glass powder was melted and dropped into room temperature water to produce crushed glass powder by thermal shock. Then, a mixture of glass powder and room temperature water, which was pulverized by a ball mill in a state in which room temperature water was included and was reduced to 60 μm or less with a sieve, was produced. Next, a classification water tank filled with room temperature water was prepared separately from the above water tank. And the mixture of said glass powder and normal temperature water was inject | poured into the water tank for a classification | category, the fine glass powder supernatant was removed, and the glass powder which permeate | transmitted the sieve was extracted. According to such a method, a glass powder having a particle size of about 20 μm or less becomes a supernatant, and thus a glass powder classified into a maximum particle size of 60 μm and a minimum particle size of 20 μm can be extracted.

その後、第2のサンプルについては、温度が100℃、処理時間が2時間で乾燥処理した。また、第3のサンプルについては、温度が100℃、処理時間が24時間で乾燥処理を行い、ガラス粉末から完全に水分を取り除いた。   Thereafter, the second sample was dried at a temperature of 100 ° C. and a treatment time of 2 hours. The third sample was dried at a temperature of 100 ° C. and a treatment time of 24 hours to completely remove moisture from the glass powder.

次に、第1〜第3のサンプルを用い、各々(Sr,Ca)S:Eu2+蛍光体粉末を蛍光体粉末が混合粉末全体の重量の10wt%となるように混合した後、ガラスを軟化させることにより、厚さ0.7mmの3種類の蛍光体含有板状ガラス12を作成した。 Next, using each of the first to third samples, each (Sr, Ca) S: Eu 2+ phosphor powder was mixed so that the phosphor powder would be 10 wt% of the total weight of the mixed powder, and then the glass was softened By doing so, three types of phosphor-containing plate-like glass 12 having a thickness of 0.7 mm were prepared.

そして、これら3種類の蛍光体含有板状ガラス12に光源から青色光(ピーク波長:450nm)の波長を照射して(Sr,Ca)S:Eu2+蛍光体を励起させて波長変換光(ピーク波長:650nm)を発光させた。これらの光源からの光と波長変換光のピーク波長の出力を出力検知器100で検出した値を元に、各々の蛍光体含有板状ガラス12の蛍光体の波長変換効率を割り出した結果を表1に示す。 Then, these three kinds of phosphor-containing plate-like glass 12 are irradiated with the wavelength of blue light (peak wavelength: 450 nm) from the light source to excite the (Sr, Ca) S: Eu 2+ phosphor to convert wavelength converted light (peak). Wavelength: 650 nm). Based on the values detected by the output detector 100 for the light from these light sources and the peak wavelength output of the wavelength-converted light, the results of calculating the wavelength conversion efficiency of each phosphor-containing sheet glass 12 are shown. It is shown in 1.

Figure 0005371359
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表1から明らかな通り、乾式分級により作製したサンプル1を用いるよりも、湿式分級により作製したサンプル2及びサンプル3を用いて蛍光体含有板状ガラス12を形成した方が、良好な波長変換効率が得られることが分かった。その理由として、乾式分級では、ガラス粉末が静電気を帯びやすく、その表面に不純物が付着しやすいためと考えられる。   As apparent from Table 1, it is better to form the phosphor-containing plate glass 12 using the sample 2 and the sample 3 prepared by the wet classification than using the sample 1 prepared by the dry classification. Was found to be obtained. The reason for this is thought to be that in dry classification, glass powder is easily charged with static electricity and impurities are likely to adhere to its surface.

また、サンプル2及びサンプル3により作製した蛍光体含有板状ガラス12の結果より、湿式分級により作製したサンプルでも乾燥を十分させることが好ましいことが分かる。
従って、蛍光体含有板状ガラス12を作製する際には、原材料となるガラス粉末を湿式分級を用いることが望ましく、更に言えば、湿式分級を用いた後、ガラス粉末から完全に水分を取り除くことが望ましい。
In addition, it can be seen from the results of the phosphor-containing plate-like glass 12 produced by the sample 2 and the sample 3 that it is preferable to sufficiently dry even the sample produced by wet classification.
Accordingly, when producing the phosphor-containing plate-like glass 12, it is desirable to use wet classification of the glass powder as a raw material. More specifically, after using wet classification, moisture is completely removed from the glass powder. Is desirable.

また、ガラス封止部6として屈伏点(At)がLEDチップ2の半導体層のエピタキシャル成長温度より低いガラスを用いたので、ホットプレス時にLEDチップ2が熱的なダメージにより損なわれることがなく、半導体層の結晶成長温度に対して充分に低い加工が可能である。さらに、板状の低融点ガラスと配線基板3とを平行にセットし、高粘度状態でホットプレス加工することで、低融点ガラスが配線基板3の表面に平行移動して面状に密着し、GaN系のLEDチップ2を封止するためにボイドが生じることもない。   In addition, since glass having a yield point (At) lower than the epitaxial growth temperature of the semiconductor layer of the LED chip 2 is used as the glass sealing portion 6, the LED chip 2 is not damaged by thermal damage during hot pressing, and the semiconductor. Processing sufficiently lower than the crystal growth temperature of the layer is possible. Furthermore, by setting the plate-like low melting point glass and the wiring board 3 in parallel and hot pressing in a high viscosity state, the low melting point glass moves in parallel to the surface of the wiring board 3 and adheres to the surface, No void is generated to seal the GaN-based LED chip 2.

また、配線基板3とガラス封止部6とが酸化物を介した化学結合に基づいて接着するので、より強固な封着強度が得られる。そのため、接合面積が小さい小形パッケージであっても具現化できる。   Moreover, since the wiring board 3 and the glass sealing part 6 adhere | attach based on the chemical bond through an oxide, stronger sealing strength is obtained. Therefore, even a small package with a small bonding area can be realized.

さらに、配線基板3とガラス封止部6の熱膨張率(α)が同等であるので、高温で接着された後、常温あるいは低温状態としても剥離、クラック等の接着不良が生じにくい。しかも、ガラスは引っ張り応力にはクラックが生じ易いが、圧縮応力にはクラックは生じにくく、ガラス封止部6は配線基板3に対し、やや熱膨張率(α)が小さいものとしてある。   Furthermore, since the thermal expansion coefficient (α) of the wiring substrate 3 and the glass sealing portion 6 is the same, adhesion failure such as peeling and cracking is less likely to occur even at room temperature or low temperature after being bonded at high temperature. In addition, cracks are easily generated in the tensile stress in glass, but cracks are not easily generated in the compressive stress, and the glass sealing portion 6 has a slightly smaller thermal expansion coefficient (α) than the wiring substrate 3.

さらに、一般にガラスはTg点以上の温度において熱膨張率(α)が増大する特性を有しており、Tg点以上の温度でガラス封止が行われる場合には、Tg点以下だけでなくTg点以上の温度における熱膨張率(α)も考慮することが安定したガラス封止を行うにあたり望ましい。すなわち、ガラス封止部6を構成するガラス材料は、上記したTg点以上の温度における熱膨張率を含む熱膨張率(α)と、配線基板3の熱膨張率(α)とを考慮した同等の熱膨張率(α)とすることで、配線基板3に反りを発生させる内部応力を抑制され、配線基板3とガラス封止部6との接着性が得られているにもかかわらずガラスのせん断破壊が生じることを防ぐことができる。従って、配線基板3やガラス封止部6のサイズを大きくとり、大量のLEDランプを一括して生産できるため、高い量産性を得られる。   Furthermore, glass generally has a characteristic that the coefficient of thermal expansion (α) increases at a temperature equal to or higher than the Tg point. When glass sealing is performed at a temperature equal to or higher than the Tg point, not only the Tg point or lower but also the Tg Considering the coefficient of thermal expansion (α) at a temperature equal to or higher than this point is desirable for stable glass sealing. That is, the glass material constituting the glass sealing portion 6 is equivalent in consideration of the thermal expansion coefficient (α) including the thermal expansion coefficient at a temperature equal to or higher than the above Tg point and the thermal expansion coefficient (α) of the wiring board 3. The coefficient of thermal expansion (α) of the substrate suppresses the internal stress that causes warping of the wiring board 3 and the adhesion between the wiring board 3 and the glass sealing portion 6 is obtained. It is possible to prevent shear fracture. Therefore, since the size of the wiring board 3 and the glass sealing part 6 can be increased and a large amount of LED lamps can be produced at once, high mass productivity can be obtained.

また、発明者の確認では、−40℃←→100℃の液相冷熱衝撃試験1000サイクルでも剥離、クラックは生じていない。さらに、5mm×5mmサイズのガラス片のセラミック基板への接合基礎確認として、ガラス、セラミック基板とも種々の熱膨張率(α)の組み合わせで実験を行ったところ、熱膨張率(α)が高い方の部材に対する低い方の部材の熱膨張率(α)の比が0.85以上ではクラックを生じることなく接合が行えることを確認した。部材の剛性やサイズ等にも依存するが、熱膨張率(α)が同等というのは、この程度の範囲を示す。   Further, according to the inventor's confirmation, peeling and cracking did not occur even in the liquid phase thermal shock test 1000 cycles at -40 ° C ← → 100 ° C. Furthermore, as a basic confirmation of the bonding of a 5 mm x 5 mm glass piece to a ceramic substrate, an experiment was conducted with various combinations of thermal expansion coefficients (α) for both glass and ceramic substrates. When the ratio of the coefficient of thermal expansion (α) of the lower member to the member of 0.85 is 0.85 or more, it was confirmed that bonding can be performed without causing cracks. Although it depends on the rigidity, size, etc. of the member, the fact that the coefficient of thermal expansion (α) is equal indicates this range.

さらに、発明者は、本実施の形態のLEDランプの効果を確認するために、以下の加速劣化試験を行った。図10は、加速劣化試験の結果を示すグラフである。試験サンプルとして、本実施の形態のLEDランプ及び従来のシリコン樹脂封止のLEDランプに対し、赤色蛍光体(硫化物蛍光体(CaS:Eu2+))を添加したサンプルと、緑色蛍光体(硫化物蛍光体(CaGa:Eu2+))を添加したサンプルを用い、これらに温度60℃、湿度90%の高温高湿下で、LEDチップに20mAの電流を通電させて、LEDランプの出射光の光度の維持率を測定することにより行なった。本実施の形態のLEDランプの測定結果では、図10(a),(b)に示すように、通電時間が3000時間でも出射光の光度は維持されているが、従来のLEDランプの測定結果では、図10(c),(d)に示すように、いずれの蛍光体の場合においても、通電時間が1000時間の前に、出射光の光度が低下している。 Further, the inventor conducted the following accelerated deterioration test in order to confirm the effect of the LED lamp of the present embodiment. FIG. 10 is a graph showing the results of the accelerated deterioration test. As a test sample, a red phosphor (sulfide phosphor (CaS: Eu 2+ )) added to the LED lamp of the present embodiment and a conventional silicon resin-sealed LED lamp, and a green phosphor (sulfur sulfide). The sample was added with a phosphor (CaGa 2 S 4 : Eu 2+ )), and a current of 20 mA was applied to the LED chip under high temperature and high humidity of 60 ° C. and 90% humidity. This was done by measuring the maintenance factor of the luminous intensity of the emitted light. In the measurement result of the LED lamp of the present embodiment, as shown in FIGS. 10A and 10B, the luminous intensity of the emitted light is maintained even when the energization time is 3000 hours, but the measurement result of the conventional LED lamp. Then, as shown in FIGS. 10C and 10D, in any of the phosphors, the luminous intensity of the emitted light decreases before the energization time is 1000 hours.

LEDチップ2は、フリップ搭載することによりワイヤを不要とできるので、高粘度状態での加工に対しても電極の不具合を生じない。封止加工時の低融点ガラスの粘度は10から10ポアズと硬く、熱硬化処理前のエポキシ樹脂が5ポアズ程度の液状であることと比較して物性が大きく異なる。この結果、チップ表面の電極とリード等の給電部材とをワイヤで電気的に接続するフェイスアップ型のLEDチップを封止する場合、ガラス封止加工時にワイヤの潰れや変形を生じることがあるが、これを防ぐことができる。また、チップ表面の電極を金(Au)等のバンプを介してリード等の給電部材にフリップ搭載するフリップチップ型のLEDチップを封止する場合、ガラスの粘度に基づいてLEDチップに給電部材方向への圧力が付加されバンプの潰れやバンプ間での短絡が生じることがあるが、これも防ぐことができる。 Since the LED chip 2 can be flip-mounted to eliminate the need for a wire, there is no problem with electrodes even when processing in a highly viscous state. The viscosity of the low-melting glass during the sealing process is as hard as 10 4 to 10 8 poise, and the physical properties are greatly different from that of the epoxy resin before the thermosetting treatment is a liquid of about 5 poise. As a result, when sealing a face-up type LED chip in which the electrode on the chip surface and a power supply member such as a lead are electrically connected with a wire, the wire may be crushed or deformed during glass sealing. Can prevent this. In addition, when sealing a flip chip type LED chip in which an electrode on the chip surface is flip-mounted on a power supply member such as a lead through a bump such as gold (Au), the direction of the power supply member is directed to the LED chip based on the viscosity of the glass. Although pressure is applied to the bumps, the bumps may be crushed or a short circuit may occur between the bumps, which can also be prevented.

配線基板3の表面配線41は、ビア43により裏面配線42に引き出されるので、ガラスが不必要な箇所へ入り込むことや、電気端子が覆われること等への特別な対策を要することなく、製造工程を簡略化できる。また、板状の蛍光体分散ガラス11を複数のLEDチップ2に対して一括して封止加工できるので、ダイサーにより個片化することにより複数のLEDランプ1を容易に量産することができる。なお、低融点ガラスは高粘度状態で加工されるため、樹脂のように封止材料の流れ出しに対して充分な対策をとる必要はなく、ビアによらなくても外部端子が裏面に引き出されていれば充分に量産対応可能である。   Since the front surface wiring 41 of the wiring board 3 is drawn out to the back surface wiring 42 by the via 43, the manufacturing process is not required without requiring special measures to prevent the glass from entering unnecessary portions or covering the electrical terminals. Can be simplified. In addition, since the plate-like phosphor-dispersed glass 11 can be collectively sealed with respect to the plurality of LED chips 2, the plurality of LED lamps 1 can be easily mass-produced by separating them with a dicer. Since low-melting glass is processed in a high-viscosity state, it is not necessary to take sufficient measures against the flow of sealing material like resin, and external terminals are pulled out to the back surface without using vias. If it is sufficient, mass production is possible.

また、LEDチップ2をフリップ搭載とすることで、ガラス封止を具現化するにあたっての問題点を克服するとともに0.5mm角といった超小型のLEDランプ1を具現化できるという効果もある。これは、ワイヤのボンディングスペースが不要で、かつ、熱膨張率部材が同等のガラス封止部6と配線基板3とが選択されるとともに、化学結合に基づく強固な接合によって、わずかなスペースでの接着でも界面剥離が生じないことによる。   In addition, the flip mounting of the LED chip 2 has the effect of overcoming the problems in realizing glass sealing and realizing an ultra-small LED lamp 1 of 0.5 mm square. This is because a wire bonding space is not required, and the glass sealing portion 6 and the wiring substrate 3 having the same thermal expansion coefficient member are selected, and the solid bonding based on the chemical bond enables a small space. This is due to the fact that no interfacial delamination occurs even with adhesion.

さらに、LEDチップ2とガラス封止部6の熱膨張率(α)が同等であるので、配線基板3を含めた部材の熱膨張率(α)が同等となり、ガラス封止における高温加工と常温との温度差においても内部応力は極めて小さく、クラックを生じることのない安定した加工性が得られる。また、内部応力を小にできるので、耐衝撃性が向上し、信頼性に優れるガラス封止型LEDとできる。   Furthermore, since the thermal expansion coefficient (α) of the LED chip 2 and the glass sealing portion 6 is equivalent, the thermal expansion coefficient (α) of the members including the wiring board 3 is equivalent, and high temperature processing and normal temperature in glass sealing are achieved. The internal stress is extremely small even in the temperature difference between and a stable workability without causing cracks. Further, since the internal stress can be reduced, the impact resistance is improved and the glass-sealed LED having excellent reliability can be obtained.

さらにまた、アルミナからなる配線基板3を用いることで、部材コストの低減を図れるとともに入手が容易であることから、量産性および装置コストの低減を実現できる。また、Alが熱伝導性に優れているので、大光量化、高出力化に対して余裕のある構成とできる。さらに配線基板3は光吸収が小さいことにより、光学的に有利である。 Furthermore, by using the wiring substrate 3 made of alumina, it is possible to reduce the member cost and easily obtain it, so that the mass productivity and the reduction of the device cost can be realized. Further, since the Al 2 O 3 is excellent in thermal conductivity, it large amount of light of a certain margin configured for high output. Furthermore, the wiring board 3 is optically advantageous because of its low light absorption.

尚、上記の実施形態では、LEDチップ2として窒化ガリウム系化合物半導体からなるものを用いたLEDランプ1を説明したが、LEDチップはGaN系のLEDチップ2に限定されず、例えば、セレン化亜鉛(ZnSe)系等の他の半導体材料からなるLEDチップであってもよい。   In the above-described embodiment, the LED lamp 1 using the gallium nitride compound semiconductor as the LED chip 2 has been described. However, the LED chip is not limited to the GaN-based LED chip 2, for example, zinc selenide. It may be an LED chip made of another semiconductor material such as (ZnSe).

また、LEDチップ2は、スクライブ加工に基づいて形成したものを使用することができる。この場合、スクライブ加工により形成されたLEDチップ2は、切断部である側面に尖った凹凸を有することがあり、LEDチップ2の側面をチップコート材でコーティングすることが望ましい。このチップコート材として、例えば、光透過性を有するSiO系コート材を用いることができる。チップコート材を用いることにより、オーバーモールドする際などにクラックやボイド発生を防止することができる。 Moreover, what was formed based on the scribing process can be used for the LED chip 2. In this case, the LED chip 2 formed by scribing may have sharp irregularities on the side surface which is a cut portion, and it is desirable to coat the side surface of the LED chip 2 with a chip coating material. As this chip coating material, for example, a light-transmitting SiO 2 -based coating material can be used. By using the chip coating material, cracks and voids can be prevented during overmolding.

また、上記の実施形態のガラス封止部6は耐候性に優れているものの、装置の使用条件等によって結露が生じた場合には、ガラス封止部6が変質するおそれがある。これに対しては、結露が生じない装置構成とすることが望ましいが、ガラス封止部6の表面にシリコン樹脂コートなどを施すことで、高温状態での結露によるガラスの変質を防止することもできる。さらに、ガラス封止部6の表面に施すコーティング材としては、耐湿だけでなく、耐酸、耐アルカリ性を有するものとして、例えばSiO系、Al系等のような無機材料が好ましい。 Moreover, although the glass sealing part 6 of said embodiment is excellent in weather resistance, there exists a possibility that the glass sealing part 6 may change in quality, when dew condensation arises according to the use conditions etc. of an apparatus. For this, it is desirable to have a device configuration in which condensation does not occur, but it is also possible to prevent the glass from being deteriorated due to condensation in a high temperature state by applying a silicon resin coat or the like to the surface of the glass sealing portion 6. it can. Furthermore, as a coating material to be applied to the surface of the glass sealing portion 6, an inorganic material such as a SiO 2 system, an Al 2 O 3 system, or the like is preferable as it has not only moisture resistance but also acid resistance and alkali resistance.

図1(a),(b),(c)は、本発明の実施形態を示すLEDランプの断面図であり、図1(a)は、LEDランプ全体の断面図であり、図1(b)は、図1(a)のA部(ガラス封止部)の拡大断面図であり、図1(c)は、図1(a)のB部(配線基板)の拡大断面図でありLEDランプ全体の断面図である。1A, 1B, and 1C are cross-sectional views of an LED lamp showing an embodiment of the present invention. FIG. 1A is a cross-sectional view of the entire LED lamp, and FIG. ) Is an enlarged cross-sectional view of part A (glass sealing part) of FIG. 1A, and FIG. 1C is an enlarged cross-sectional view of part B (wiring board) of FIG. It is sectional drawing of the whole lamp | ramp. 図2は、本発明の実施形態を用いるLEDチップの断面図である。FIG. 2 is a cross-sectional view of an LED chip using an embodiment of the present invention. 図3(a),(b)は、本発明の実施形態を用いるLEDチップの電極形成面を示す平面図である。FIGS. 3A and 3B are plan views showing electrode forming surfaces of LED chips using the embodiment of the present invention. 図4(a),(b)は、本発明の実施形態を用いる配線基板上の配線の形成状態を示すLEDランプの上面図である。FIGS. 4A and 4B are top views of the LED lamp showing the formation state of the wiring on the wiring board using the embodiment of the present invention. 図5は、本発明の実施形態を示すLEDランプの製造方法を示すフローチャートである。FIG. 5 is a flowchart showing a method of manufacturing an LED lamp showing an embodiment of the present invention. 図6は、本発明の実施形態の蛍光体分散ガラスの加工状態を示す断面図であり、(a)は混合粉末から蛍光体分散ガラスを生成する加工装置の断面図を示し、(b)は混合粉末から生成された蛍光体分散ガラスの側面図を示し、(c)は得られた蛍光体分散ガラスをスライスした状態の側面図を示している。FIG. 6 is a cross-sectional view illustrating a processing state of the phosphor-dispersed glass according to the embodiment of the present invention. FIG. 6A is a cross-sectional view of a processing apparatus that generates the phosphor-dispersed glass from the mixed powder. The side view of the fluorescent substance dispersion | distribution glass produced | generated from mixed powder is shown, (c) has shown the side view of the state which sliced the obtained fluorescent substance dispersion | distribution glass. 図7は、本発明の実施形態を示すホットプレス加工の状態を示すフローチャートである。FIG. 7 is a flowchart showing a hot press working state according to the embodiment of the present invention. 図8は、本発明の実施形態の変形例であるLEDランプを断面図である。FIG. 8 is a cross-sectional view of an LED lamp that is a modification of the embodiment of the present invention. 図9は、本発明の実施形態の効果を調べる為の実験方法を示す模式図である。FIG. 9 is a schematic diagram showing an experimental method for examining the effect of the embodiment of the present invention. 図10(a),(b),(c),(d)は、本発明の実施の形態のガラス封止LEDランプと従来の樹脂封止LEDランプとの高温高湿度試験の測定結果したグラフであり、図10(a)は本発明の緑色蛍光体添加LEDランプのグラフであり、図10(b)は本発明の赤色蛍光体添加LEDランプのグラフであり、図10(c)は従来の緑色蛍光体添加LEDランプのグラフであり、図10(d)は従来の赤色蛍光体添加LEDランプのグラフである。10 (a), (b), (c), and (d) are graphs showing the measurement results of the high-temperature and high-humidity test of the glass-sealed LED lamp of the embodiment of the present invention and the conventional resin-sealed LED lamp. 10 (a) is a graph of the green phosphor-added LED lamp of the present invention, FIG. 10 (b) is a graph of the red phosphor-added LED lamp of the present invention, and FIG. 10 (c) is a conventional graph. FIG. 10D is a graph of a conventional red phosphor-added LED lamp.

符号の説明Explanation of symbols

1 LEDランプ
2 LEDチップ
3 配線基板
4 配線
41 表面配線
42 裏面配線
43 ビア
44 外部接続端子
5 中空部
6 ガラス封止部
7 蛍光体
8 蛍光体層
10 混合粉末
11 蛍光体分散ガラス
12 板状蛍光体分散ガラス
13 LEDランプ前駆体
20 結晶成長基板
21 バッファ層
22 n型層
23 発光層
24 p型層
25 p側電極
26 p側パッド電極
27 n側電極
28 Auバンプ
80 下台
81 側面枠
82 凹部
83 荷重治具
91 下金型
92 上金型
100 出力検出器
DESCRIPTION OF SYMBOLS 1 LED lamp 2 LED chip 3 Wiring board 4 Wiring 41 Front surface wiring 42 Back surface wiring 43 Via 44 External connection terminal 5 Hollow part 6 Glass sealing part 7 Phosphor 8 Phosphor layer 10 Mixed powder 11 Phosphor dispersion glass 12 Plate-like fluorescence Body-dispersed glass 13 LED lamp precursor 20 Crystal growth substrate 21 Buffer layer 22 N-type layer 23 Light-emitting layer 24 p-type layer 25 p-side electrode 26 p-side pad electrode 27 n-side electrode 28 Au bump 80 Lower base 81 Side frame 82 Recess 83 Load jig 91 Lower mold 92 Upper mold 100 Output detector

Claims (6)

発光素子を蛍光体含有ガラスにより封止する発光装置の製造方法において、
ZnO系ガラスを粉砕して得られた粉砕ガラスを分級用水槽に通し、この水槽によって上澄みとして除去されない粒径であってその上限値を200μmとされた所定の粒径範囲にされたガラス粉末を生成するガラス粉末生成工程と、
前記所定の粒径範囲にされたガラス粉末と、硫化物蛍光体、アルミン酸塩蛍光体及びケイ酸塩蛍光体の少なくとも1種を有する蛍光体粉末とを混合し、該蛍光体粉末が該ガラス粉末に分散された混合粉末を生成する混合工程と、
前記混合粉末をZnO系のガラスを用いても安定的に結晶化を生じさせない温度で加熱・軟化させて一体化させた後に、該混合粉末を固化して蛍光体分散ガラスを生成するガラス生成工程と、
単一の前記蛍光体分散ガラスをホットプレス加工により複数の発光素子が搭載された搭載部に融着し、前記複数の発光素子を前記搭載部上で前記蛍光体分散ガラスにより封止するガラス封止工程と、
前記蛍光体分散ガラスにより封止された前記複数の発光素子を個々の発光装置に個片化する個片化工程と、を含むことを特徴とする発光装置の製造方法。
In a method for manufacturing a light emitting device in which a light emitting element is sealed with phosphor-containing glass,
A glass powder obtained by pulverizing ZnO-based glass through a water tank for classification and having a particle diameter that is not removed as a supernatant by the water tank and that has an upper limit of 200 μm and having a predetermined particle diameter range. A glass powder production process to produce;
The glass powder having the predetermined particle size range is mixed with phosphor powder having at least one of sulfide phosphor, aluminate phosphor and silicate phosphor, and the phosphor powder is mixed with the glass. A mixing step for producing a mixed powder dispersed in the powder;
A glass production process in which the mixed powder is heated and softened at a temperature at which stable crystallization does not occur even if ZnO-based glass is used and then integrated, and then the mixed powder is solidified to produce a phosphor-dispersed glass. When,
Fusing the single said phosphor dispersion glass mounting portion in which a plurality of light emitting element is mounted by hot pressing, a sealed glass for sealing by the phosphor dispersion glass the plurality of light emitting elements on the mounting portion Stop process ,
A method of manufacturing a light-emitting device, comprising: a step of dividing the plurality of light-emitting elements sealed with the phosphor-dispersed glass into individual light-emitting devices .
前記ガラス封止工程又は前記個片化工程の後に、ガラス封止部の表面に前記蛍光体粉末とは異なる蛍光体を含有する蛍光体層を形成する蛍光体層形成工程を有することを特徴とする請求項に記載の発光装置の製造方法。 A phosphor layer forming step of forming a phosphor layer containing a phosphor different from the phosphor powder on the surface of the glass sealing portion after the glass sealing step or the singulation step is characterized in that The manufacturing method of the light-emitting device of Claim 1 . 前記ガラス生成工程にて生成された前記蛍光体分散ガラスを板状に加工する板状加工工程をさらに含み、前記ガラス封止工程にて、板状に加工された前記蛍光体分散ガラスを平坦な前記搭載部に融着することを特徴とする請求項1乃至請求項に記載の発光装置の製造方法。 The method further includes a plate-like processing step of processing the phosphor-dispersed glass generated in the glass generation step into a plate shape, and the phosphor-dispersed glass processed into a plate shape in the glass sealing step is flat. method of manufacturing a light-emitting device according to claim 1 or claim 2, characterized in that fusing the mounting portion. 前記ガラス粉末生成工程は、前記粉砕ガラスを湿式分級する湿式分級工程と、湿式分級された前記ガラス粉末を乾燥する乾燥工程を含むことを特徴とする請求項1に記載の発光装置の製造方法。   The method for manufacturing a light-emitting device according to claim 1, wherein the glass powder generation step includes a wet classification step of wet-classifying the pulverized glass and a drying step of drying the wet-classified glass powder. ZnO系ガラスを粉砕して得られた粉砕ガラスを分級用水槽に通し、この水槽によって上澄みとして除去されない粒径であってその上限値を200μmとされた所定の粒径範囲にされたガラス粉末を生成するガラス粉末生成工程と、
前記所定の粒径範囲にされたガラス粉末と、硫化物蛍光体、アルミン酸塩蛍光体及びケイ酸塩蛍光体の少なくとも1種を有する蛍光体粉末とを混合し、該蛍光体粉末が該ガラス粉末に分散された混合粉末を生成する混合工程と、
前記混合粉末をZnO系のガラスを用いても安定的に結晶化を生じさせない温度で加熱・軟化させて一体化させた後に、該混合粉末を固化して蛍光体分散ガラスを生成するガラス生成工程と、
前記蛍光体分散ガラスを板状にする板状加工工程を含むことを特徴とする蛍光体含有ガラス板の製造方法。
A glass powder obtained by pulverizing ZnO-based glass through a water tank for classification and having a particle diameter that is not removed as a supernatant by the water tank and that has an upper limit of 200 μm and having a predetermined particle diameter range. A glass powder production process to produce;
The glass powder having the predetermined particle size range is mixed with phosphor powder having at least one of sulfide phosphor, aluminate phosphor and silicate phosphor, and the phosphor powder is mixed with the glass. A mixing step for producing a mixed powder dispersed in the powder;
A glass production process in which the mixed powder is heated and softened at a temperature at which stable crystallization does not occur even if ZnO-based glass is used and then integrated, and then the mixed powder is solidified to produce a phosphor-dispersed glass. When,
The manufacturing method of the fluorescent substance containing glass plate characterized by including the plate-shaped process process which makes the said fluorescent substance dispersion | distribution glass into plate shape.
前記ガラス粉末生成工程は、前記粉砕ガラスを湿式分級する湿式分級工程と、湿式分級された前記ガラス粉末を乾燥する乾燥工程を含むことを特徴とする請求項に記載の蛍光体含有ガラス板の製造方法。 6. The phosphor-containing glass plate according to claim 5 , wherein the glass powder generation step includes a wet classification step of wet-classifying the pulverized glass and a drying step of drying the wet-classified glass powder. Production method.
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