JP5368379B2 - Curable organopolysiloxane composition and semiconductor device using the same - Google Patents

Curable organopolysiloxane composition and semiconductor device using the same Download PDF

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Description

本発明は、硬化性オルガノポリシロキサン組成物及び半導体装置に関し、詳しくは、低粘度で充填性が良く、硬化性が良好で、硬化して、屈折率が大きく、光透過率が高く、基材に対する密着性が高く、耐クラック性、ガスバリア性に優れる硬化物を形成する硬化性オルガノポリシロキサン組成物、及び該組成物の硬化物により半導体素子が被覆されている、信頼性に優れる半導体装置に関する。   The present invention relates to a curable organopolysiloxane composition and a semiconductor device, and in particular, has a low viscosity, a good filling property, a good curability, a cured, a high refractive index, a high light transmittance, and a substrate. TECHNICAL FIELD The present invention relates to a curable organopolysiloxane composition that forms a cured product having high adhesion to the surface, excellent in crack resistance and gas barrier properties, and a semiconductor device excellent in reliability, in which a semiconductor element is coated with a cured product of the composition. .

ヒドロシリル化反応により硬化する硬化性オルガノポリシロキサン組成物は、フォトカプラー、発光ダイオード、固体撮像素子等の光学用半導体装置における半導体素子の保護コーティング剤として使用されている。このような半導体素子の保護コーティング剤は、前記素子が発光したり、あるいは受光したりするため、光を吸収したり、散乱したりしないことが要求されている。   A curable organopolysiloxane composition that is cured by a hydrosilylation reaction is used as a protective coating agent for semiconductor elements in optical semiconductor devices such as photocouplers, light-emitting diodes, and solid-state imaging elements. Such a protective coating agent for a semiconductor element is required not to absorb or scatter light because the element emits light or receives light.

ヒドロシリル化反応により硬化して、屈折率が大きく、光透過性が高い硬化物を形成する硬化性オルガノポリシロキサン組成物としては、例えば、ケイ素原子結合フェニル基とケイ素原子結合アルケニル基を含有するオルガノポリシロキサン、オルガノハイドロジェンシクロシロキサン、及びヒドロシリル化反応用触媒からなる硬化性オルガノポリシロキサン組成物(特許文献1参照)、ケイ素原子結合フェニル基とケイ素原子結合アルケニル基を含有する粘度が10000cp(25℃)以上の液状又は固体のオルガノポリシロキサン、一分子中に少なくとも2個のケイ素原子結合水素原子を有するオルガノハイドロジェンポリシロキサン、及びヒドロシリル化反応用触媒からなる硬化性オルガノポリシロキサン組成物(特許文献2参照)、ケイ素原子に結合したアルケニル基を一分子中に少なくとも2個有し、かつケイ素原子に結合したアリール基を有するオルガノポリシロキサン、ケイ素原子に結合した水素原子を一分子中に少なくとも2個有するオルガノポリシロキサン、及び白金のアリール基含有オルガノシロキサンオリゴマー錯体からなる硬化性オルガノポリシロキサン組成物(特許文献3参照)、分子鎖両末端がシロキサン結合を介してケイ素原子結合水素原子で封鎖されたオルガノポリシロキサン組成物(特許文献4参照)等が挙げられる。   Examples of the curable organopolysiloxane composition that is cured by a hydrosilylation reaction to form a cured product having a large refractive index and high light transmittance include, for example, organos containing a silicon atom-bonded phenyl group and a silicon atom-bonded alkenyl group. A curable organopolysiloxane composition comprising a polysiloxane, an organohydrogencyclosiloxane, and a hydrosilylation reaction catalyst (see Patent Document 1), a viscosity containing a silicon atom-bonded phenyl group and a silicon atom-bonded alkenyl group has a viscosity of 10,000 cp (25 C.) or higher liquid or solid organopolysiloxane, an organohydrogenpolysiloxane having at least two silicon-bonded hydrogen atoms in one molecule, and a hydrosilylation catalyst (patent) Reference 2) Organopolysiloxane having at least two alkenyl groups bonded to silicon atoms in one molecule and having an aryl group bonded to silicon atoms, and organopolysiloxane having at least two hydrogen atoms bonded to silicon atoms in one molecule Curable organopolysiloxane composition comprising siloxane and platinum aryl group-containing organosiloxane oligomer complex (see Patent Document 3), organopolysiloxane in which both molecular chain ends are blocked with silicon atom-bonded hydrogen atoms via siloxane bonds A composition (refer patent document 4) etc. are mentioned.

しかし、これらの硬化性オルガノポリシロキサン組成物は、粘度が高く、充填性が乏しかったり、また硬化して得られる硬化物の密着性が乏しく、基材から剥離し易い、またシロキサン結合の割合が多くなるためガス透過性が高くなり基板を腐蝕し易いという問題があった。   However, these curable organopolysiloxane compositions have high viscosity, poor filling properties, poor adhesion of cured products obtained by curing, and are easy to peel off from the substrate, and have a siloxane bond ratio. The increase in gas permeability has a problem in that gas permeability is high and the substrate is easily corroded.

特開平8−176447号公報JP-A-8-176447 特開平11−1619号公報Japanese Patent Laid-Open No. 11-1619 特開2003−128922号公報JP 2003-128922 A 特開2005−105217号公報JP 2005-105217 A

本発明は上記事情に鑑みなされたもので、低粘度で充填性が良く、硬化性が良好で、硬化して、屈折率が大きく、光透過率が高く、基材に対する密着性が高く、耐クラック性に優れ、ガス透過性が低い硬化物を形成する硬化性オルガノポリシロキサン組成物、及び該組成物の硬化物により半導体素子が被覆されている、信頼性が優れる半導体装置を提供することを目的とする。   The present invention has been made in view of the above circumstances, and has a low viscosity, a good filling property, a good curability, a curing, a high refractive index, a high light transmittance, a high adhesion to a substrate, and a high resistance. To provide a curable organopolysiloxane composition that forms a cured product having excellent cracking properties and low gas permeability, and a semiconductor device that has a semiconductor element coated with a cured product of the composition and that has excellent reliability. Objective.

上記課題を解決するため、本発明は、少なくとも、
(A)下記平均単位式(1)で表されるオルガノポリシロキサン、
(RSiO3/2(RSiO2/2(RSiO1/2(XO1/2 (1)
{式中、Rは同一又は異なっていても良い、置換又は非置換の一価炭化水素基(但し、Rの0.1〜50モル%はアルケニル基であり、Rの10モル%以上はアリール基である)であり、Xは水素原子又はアルキル基である。aは正数、bは0又は正数、cは0又は正数、dは0又は正数であり、(b+c+d)/aは0〜3である。}
(B)一分子中に、少なくとも2個のケイ素原子結合アルケニル基を有し、ケイ素原子に結合した全置換基の少なくとも10モル%以上がアリール基である直鎖状のオルガノポリシロキサン:(A)成分に対して、質量比で10/90〜70/30となる量、
(C)下記一般式(2)又は下記一般式(3)で表される有機ケイ素化合物:(A)成分と(B)成分の合計100質量部に対して1〜100質量部となる量、

Figure 0005368379
(式中、Rは同一又は異なっていても良い、二価の置換又は非置換のメチレン基、エチレン基、プロピレン基、フェニレン基から選ばれる有機基であり、Rは同一又は異なっていても良い、一価の置換又は非置換でアリール基、アルキル基、アラルキル基、ハロゲン化アルキル基から選ばれる炭素数1〜10の有機基である。pは同一又は異なっていても良い1〜3の整数、mは0〜5の整数、nは0〜2の整数である。)
及び
(D)ヒドロシリル化反応用触媒:触媒量、
からなる硬化性オルガノポリシロキサン組成物を提供する。
In order to solve the above problems, the present invention provides at least
(A) an organopolysiloxane represented by the following average unit formula (1):
(RSiO 3/2 ) a (R 2 SiO 2/2 ) b (R 3 SiO 1/2 ) c (XO 1/2 ) d (1)
{Wherein R may be the same or different, a substituted or unsubstituted monovalent hydrocarbon group (provided that 0.1 to 50 mol% of R is an alkenyl group, and 10 mol% or more of R is aryl) X is a hydrogen atom or an alkyl group. a is a positive number, b is 0 or a positive number, c is 0 or a positive number, d is 0 or a positive number, and (b + c + d) / a is 0-3. }
(B) Linear organopolysiloxane having at least two silicon-bonded alkenyl groups in one molecule, and at least 10 mol% of all substituents bonded to silicon atoms being aryl groups: (A ) An amount of 10/90 to 70/30 by mass ratio with respect to the component,
(C) An organosilicon compound represented by the following general formula (2) or the following general formula (3): an amount of 1 to 100 parts by mass with respect to 100 parts by mass in total of the component (A) and the component (B),
Figure 0005368379
(In the formula, R 1 may be the same or different, and is an organic group selected from a divalent substituted or unsubstituted methylene group, ethylene group, propylene group, and phenylene group, and R 2 is the same or different. Or a monovalent substituted or unsubstituted organic group having 1 to 10 carbon atoms selected from an aryl group, an alkyl group, an aralkyl group, and a halogenated alkyl group, and p may be the same or different. , M is an integer of 0 to 5, and n is an integer of 0 to 2.)
And (D) catalyst for hydrosilylation reaction: catalytic amount,
A curable organopolysiloxane composition is provided.

このような本発明の硬化性オルガノポリシロキサン組成物は、低粘度で充填性が良く、硬化性も良好である。また、硬化した場合には、屈折率が大きく、光透過率が高く、基材に対する密着性が高く、耐クラック性に優れ、ガス透過性が低い硬化物となる。   Such a curable organopolysiloxane composition of the present invention has low viscosity, good filling properties, and good curability. Further, when cured, the cured product has a high refractive index, high light transmittance, high adhesion to the substrate, excellent crack resistance, and low gas permeability.

また、前記(B)成分が、

Figure 0005368379
で表される単位構造を10モル%以上含むオルガノポリシロキサンであることが好ましい。 In addition, the component (B) is
Figure 0005368379
It is preferable that it is organopolysiloxane containing 10 mol% or more of the unit structure represented by these.

このように、(B)成分が上記単位構造を10モル%以上含んでいれば、より耐クラック性や透明性に優れた硬化物を得ることができる。   Thus, if (B) component contains the said unit structure 10 mol% or more, the hardened | cured material which was more excellent in crack resistance and transparency can be obtained.

また本発明は、前記硬化性オルガノポリシロキサン組成物の硬化物により半導体素子が被覆されていることを特徴とする半導体装置を提供する。   The present invention also provides a semiconductor device wherein a semiconductor element is coated with a cured product of the curable organopolysiloxane composition.

このような本発明の半導体装置は、屈折率が大きく、光透過率が高く、基材に対する密着性が高く、耐クラック性に優れ、ガス透過性が低い本発明の硬化性オルガノポリシロキサン組成物の硬化物で被覆されているため、信頼性に優れるものとなる。   Such a semiconductor device of the present invention is a curable organopolysiloxane composition of the present invention having a large refractive index, high light transmittance, high adhesion to a substrate, excellent crack resistance, and low gas permeability. Since it is coated with the cured product, it is excellent in reliability.

以上説明したように、本発明の硬化性オルガノポリシロキサン組成物は、低粘度で充填性が良く、硬化性が良好で、硬化して、屈折率が大きく、光透過率が高く、密着性が高く、耐クラック性に優れ、ガス透過性が低い硬化物を形成するという特徴があり、また、本発明の半導体装置は、半導体素子が上記組成物の硬化物により被覆されているので、信頼性に優れるという特徴がある。   As described above, the curable organopolysiloxane composition of the present invention has low viscosity, good filling properties, good curability, cures, has a high refractive index, high light transmittance, and high adhesion. The semiconductor device according to the present invention is characterized by forming a cured product that is high, excellent in crack resistance, and low in gas permeability, and the semiconductor device of the present invention is reliable because the semiconductor element is covered with the cured product of the above composition. It is characterized by being excellent.

本発明の半導体装置の一例であるLEDの概略断面図である。It is a schematic sectional drawing of LED which is an example of the semiconductor device of this invention.

以下、本発明につき更に詳しく説明する。
上述のように、従来の硬化性オルガノポリシロキサン組成物は、粘度が高く充填性に乏しい、硬化物の密着性が乏しく基材から剥離し易い、シロキサン結合の割合が多いことによりガス透過性が高くなり基板を腐食し易い、耐クラック性に劣るといった問題を有していた。
Hereinafter, the present invention will be described in more detail.
As described above, the conventional curable organopolysiloxane composition has high gas permeability due to its high viscosity and poor filling, poor adhesion of the cured product and easy peeling from the substrate, and a high proportion of siloxane bonds. It has a problem that it becomes high and corrodes the substrate, and the crack resistance is poor.

そこで、本発明者が上記問題点を解決すべく鋭意研究を行った結果、成分中に多くの二価の有機結合を有する硬化剤を用いれば、ガス透過性を低くすることや、熱衝撃試験時の耐久性等を向上させることが可能となり、上記問題点を解決できることを見出し、本発明を完成させるに至った。   Therefore, as a result of intensive studies to solve the above problems by the present inventors, if a curing agent having many divalent organic bonds in the component is used, the gas permeability can be lowered, or the thermal shock test. It has become possible to improve the durability and the like, and found that the above problems can be solved, thereby completing the present invention.

即ち、本発明の硬化性オルガノポリシロキサン組成物は、少なくとも、
(A)下記平均単位式(1)で表されるオルガノポリシロキサン、
(RSiO3/2(RSiO2/2(RSiO1/2(XO1/2 (1)
{式中、Rは同一又は異なっていても良い、置換又は非置換の一価炭化水素基(但し、Rの0.1〜50モル%はアルケニル基であり、Rの10モル%以上はアリール基である)であり、Xは水素原子又はアルキル基である。aは正数、bは0又は正数、cは0又は正数、dは0又は正数であり、(b+c+d)/aは0〜3である。}
(B)一分子中に、少なくとも2個のケイ素原子結合アルケニル基を有し、ケイ素原子に結合した全置換基の少なくとも10モル%以上がアリール基である直鎖状のオルガノポリシロキサン:(A)成分に対して、質量比で5/95〜95/5となる量、
(C)下記一般式(2)又は下記一般式(3)で表される有機ケイ素化合物:(A)成分と(B)成分の合計100質量部に対して1〜200質量部となる量、

Figure 0005368379
(式中、Rは同一又は異なっていても良い、二価の置換又は非置換の炭素数1〜10の有機基であり、Rは同一又は異なっていても良い、一価の置換又は非置換で炭素数1〜10の有機基である。pは同一又は異なっていても良い1〜3の整数、mは0〜5の整数、nは0〜2の整数である。)
及び
(D)ヒドロシリル化反応用触媒:触媒量、
からなることを特徴とする。 That is, the curable organopolysiloxane composition of the present invention has at least
(A) an organopolysiloxane represented by the following average unit formula (1):
(RSiO 3/2 ) a (R 2 SiO 2/2 ) b (R 3 SiO 1/2 ) c (XO 1/2 ) d (1)
{Wherein R may be the same or different, a substituted or unsubstituted monovalent hydrocarbon group (provided that 0.1 to 50 mol% of R is an alkenyl group, and 10 mol% or more of R is aryl) X is a hydrogen atom or an alkyl group. a is a positive number, b is 0 or a positive number, c is 0 or a positive number, d is 0 or a positive number, and (b + c + d) / a is 0-3. }
(B) Linear organopolysiloxane having at least two silicon-bonded alkenyl groups in one molecule, and at least 10 mol% of all substituents bonded to silicon atoms being aryl groups: (A ) An amount of 5/95 to 95/5 in mass ratio to the component,
(C) Organosilicon compound represented by the following general formula (2) or the following general formula (3): an amount of 1 to 200 parts by mass with respect to a total of 100 parts by mass of the component (A) and the component (B),
Figure 0005368379
Wherein R 1 is the same or different divalent substituted or unsubstituted organic group having 1 to 10 carbon atoms, and R 2 may be the same or different, monovalent substituted or An unsubstituted organic group having 1 to 10 carbon atoms, p may be the same or different, m is an integer of 1 to 3, m is an integer of 0 to 5, and n is an integer of 0 to 2.)
And (D) catalyst for hydrosilylation reaction: catalytic amount,
It is characterized by comprising.

以下、本発明の各成分につき、詳細に説明する。
<(A)成分>
(A)成分は、下記平均単位式(1)で表されるオルガノポリシロキサンである。
(RSiO3/2(RSiO2/2(RSiO1/2(XO1/2 (1)
{式中、Rは同一又は異なっていても良い、置換又は非置換の一価炭化水素基(但し、Rの0.1〜50モル%はアルケニル基であり、Rの10モル%以上はアリール基である)であり、Xは水素原子又はアルキル基である。aは正数、bは0又は正数、cは0又は正数、dは0又は正数であり、(b+c+d)/aは0〜3である。}
Hereinafter, each component of the present invention will be described in detail.
<(A) component>
The component (A) is an organopolysiloxane represented by the following average unit formula (1).
(RSiO 3/2 ) a (R 2 SiO 2/2 ) b (R 3 SiO 1/2 ) c (XO 1/2 ) d (1)
{Wherein R may be the same or different, a substituted or unsubstituted monovalent hydrocarbon group (provided that 0.1 to 50 mol% of R is an alkenyl group, and 10 mol% or more of R is aryl) X is a hydrogen atom or an alkyl group. a is a positive number, b is 0 or a positive number, c is 0 or a positive number, d is 0 or a positive number, and (b + c + d) / a is 0-3. }

R中のアルケニル基としては、ビニル基、アリル基、ブテニル基、ペンテニル基、ヘキセニル基が例示され、特に、ビニル基であることが好ましい。R中のアルケニル基は、0.1〜50モル%、好ましくは1〜40モル%、特に好ましくは5〜30モル%である。0.1モル%未満では、組成物の硬化性が不十分となり、50モル%を超えると硬化物が脆くなり、耐クラック性が低下する。   Examples of the alkenyl group in R include a vinyl group, an allyl group, a butenyl group, a pentenyl group, and a hexenyl group, and a vinyl group is particularly preferable. The alkenyl group in R is 0.1 to 50 mol%, preferably 1 to 40 mol%, particularly preferably 5 to 30 mol%. If it is less than 0.1 mol%, the curability of the composition becomes insufficient, and if it exceeds 50 mol%, the cured product becomes brittle and the crack resistance decreases.

また、R中のアリール基としては、フェニル基、トリル基、キシリル基、ナフチル基が例示され、特に、フェニル基であることが好ましい。R中のアリール基の含有量は、10モル%以上、好ましくは40〜99.9モル%、特に好ましくは45〜95モル%である。10モル%未満であると、硬化物の光透過性が低下する。   Examples of the aryl group in R include a phenyl group, a tolyl group, a xylyl group, and a naphthyl group, and a phenyl group is particularly preferable. Content of the aryl group in R is 10 mol% or more, Preferably it is 40-99.9 mol%, Most preferably, it is 45-95 mol%. The light transmittance of hardened | cured material falls that it is less than 10 mol%.

また、R中のアルケニル基及びアリール基以外のケイ素原子結合有機基としては、メチル基、エチル基、プロピル基、ブチル基、ペンチル基、ヘキシル基、ヘプチル基等のアルキル基;ベンジル基、フェネチル基等のアラルキル基;クロロメチル基、3−クロロプロピル基、3,3,3−トリフルオロプロピル基等のハロゲン化アルキル基等の置換又は非置換の一価炭化水素基等が例示され、特に、メチル基であることが好ましい。
また、上記平均単位式(1)中、Xは水素原子又はアルキル基であり、このアルキル基としては、前記と同様の基が例示され、特に、メチル基、エチル基であることが好ましい。
Examples of silicon-bonded organic groups other than alkenyl and aryl groups in R include alkyl groups such as methyl, ethyl, propyl, butyl, pentyl, hexyl and heptyl; benzyl and phenethyl Aralkyl groups such as chloromethyl group, 3-chloropropyl group, substituted or unsubstituted monovalent hydrocarbon groups such as halogenated alkyl groups such as 3,3,3-trifluoropropyl group, etc. A methyl group is preferred.
Moreover, in said average unit formula (1), X is a hydrogen atom or an alkyl group, As this alkyl group, the group similar to the above is illustrated, and it is especially preferable that they are a methyl group and an ethyl group.

また、aは正数であり、bは0又は正数であり、cは0又は正数であり、dは0又は正数であり、(b+c+d)/aは0〜3((RSiO3/2)単位の含有量が25モル%以上)、好ましくは0〜2((RSiO3/2)単位の含有量が33.3モル%以上)、特に好ましくは0〜1((RSiO3/2)単位の含有量が50モル%以上)である。(RSiO3/2)単位の含有量が25モル%未満であると耐クラック性等が不十分となる。このような(A)成分の分子量は限定されないが、THF溶媒を用いたGPC測定(標準ポリスチレン換算)による重量平均分子量(Mw)が500〜10,000であることが好ましく、より好ましくは700〜5,000、特に好ましくは、1,000〜3,000である。 A is a positive number, b is 0 or a positive number, c is 0 or a positive number, d is 0 or a positive number, and (b + c + d) / a is 0 to 3 ((RSiO 3 / 2 ) Unit content of 25 mol% or more), preferably 0 to 2 ((RSiO 3/2 ) unit content of 33.3 mol% or more), particularly preferably 0 to 1 ((RSiO 3/2 ) The unit content is 50 mol% or more). When the content of the (RSiO 3/2 ) unit is less than 25 mol%, the crack resistance and the like are insufficient. The molecular weight of such component (A) is not limited, but the weight average molecular weight (Mw) by GPC measurement (in terms of standard polystyrene) using a THF solvent is preferably 500 to 10,000, more preferably 700 to 5,000, particularly preferably 1,000 to 3,000.

<(B)成分>
(B)成分は、本組成物を硬化して得られる硬化物に可とう性を付与するための成分であり、一分子中に少なくとも2個のケイ素原子結合アルケニル基と、少なくともケイ素原子に結合した全置換基(但し、シロキサン結合を形成する酸素原子は除く)10モル%以上、好ましくは10〜99.9モル%、より好ましくは20〜60モル%のケイ素原子結合アリール基を有する直鎖状のオルガノポリシロキサンである。(B)成分中のアルケニル基としては、(A)成分のRで例示したものと同様の基が例示され、特に、ビニル基であることが好ましい。また、(B)成分中のアリール基としては、(A)成分のRで例示したものと同様の基が例示され、特に、フェニル基であることが好ましい。アルケニル基、アリール基以外の置換基としては(A)成分のRで例示したものと同様の基が例示され、特に、メチル基が好ましい。
ケイ素原子結合アリール基の含有量が10モル%未満であると屈折率、透明性が不十分となる。
<(B) component>
Component (B) is a component for imparting flexibility to a cured product obtained by curing the present composition, and is bonded to at least two silicon-bonded alkenyl groups and at least silicon atoms in one molecule. A straight chain having 10 mol% or more, preferably 10 to 99.9 mol%, more preferably 20 to 60 mol% of a silicon atom-bonded aryl group of all substituents (excluding oxygen atoms forming a siloxane bond). It is an organopolysiloxane. (B) As an alkenyl group in a component, the group similar to what was illustrated by R of (A) component is illustrated, and it is especially preferable that it is a vinyl group. Moreover, as an aryl group in (B) component, the group similar to what was illustrated by R of (A) component is illustrated, and it is especially preferable that it is a phenyl group. Examples of the substituent other than the alkenyl group and the aryl group include the same groups as those exemplified for R of the component (A), and a methyl group is particularly preferable.
If the content of silicon-bonded aryl group is less than 10 mol%, the refractive index and transparency will be insufficient.

また特に、(B)成分は、

Figure 0005368379
で表されるジフェニルシロキサン単位構造を10モル%以上、特に20〜60モル%含んでいることが好ましい。この単位の含有量が10モル%以上であると、屈折率、透明性に優れると共に、耐クラック性もより優れたものとなる。 In particular, the component (B)
Figure 0005368379
It is preferable that 10 mol% or more, especially 20 to 60 mol% is contained. When the content of this unit is 10 mol% or more, the refractive index and transparency are excellent, and the crack resistance is also excellent.

このような(B)成分の25℃における粘度は限定されないが、回転粘度計の測定において10〜1,000,000mPa・sの範囲内であることが好ましく、特に、100〜50,000mPa・sの範囲内であることが好ましい。これは、(B)成分の粘度が上記範囲内であると、得られる硬化物の機械的強度がより優れたものとなり、得られる組成物の取扱作業性もより優れたものとなる。   The viscosity of the component (B) at 25 ° C. is not limited, but is preferably in the range of 10 to 1,000,000 mPa · s, particularly 100 to 50,000 mPa · s as measured by a rotational viscometer. It is preferable to be within the range. When the viscosity of the component (B) is within the above range, the resulting cured product has better mechanical strength, and the resulting composition has better handling workability.

(B)成分の含有量は、(A)成分に対する(B)成分の質量の比{(B)成分の質量/(A)成分の質量}が5/95〜95/5となる範囲内の量であり、好ましくは、10/90〜70/30となる範囲内の量である。これは、(B)成分の含有量が上記範囲の下限未満であると、得られる硬化物の可とう性が低下し、一方、上記範囲の上限を超えると、得られる組成物の取扱作業性が低下したり、得られる硬化物が極めて軟らかいものとなるからである。   The content of the component (B) is such that the ratio of the mass of the component (B) to the component (A) {the mass of the component (B) / the mass of the component (A)} is 5/95 to 95/5. The amount is preferably within the range of 10/90 to 70/30. This is because if the content of the component (B) is less than the lower limit of the above range, the flexibility of the resulting cured product is reduced, whereas if it exceeds the upper limit of the above range, the workability of the resulting composition is handled. This is because the cured product obtained is extremely soft.

<(C)成分>
(C)成分は本組成物の硬化剤であり、下記一般式(2)又は下記一般式(3)で表されるケイ素原子結合水素原子で封鎖された有機ケイ素化合物である。

Figure 0005368379
(式中、Rは同一又は異なっていても良い、二価の置換又は非置換の炭素数1〜10の有機基であり、Rは同一又は異なっていても良い、一価の置換又は非置換で炭素数1〜10の有機基である。pは同一又は異なっていても良い1〜3の整数、mは0〜5、好ましくは0〜2の整数、nは0〜2の整数である。) <(C) component>
Component (C) is a curing agent of the present composition, and is an organosilicon compound blocked with a silicon atom-bonded hydrogen atom represented by the following general formula (2) or the following general formula (3).
Figure 0005368379
Wherein R 1 is the same or different divalent substituted or unsubstituted organic group having 1 to 10 carbon atoms, and R 2 may be the same or different, monovalent substituted or An unsubstituted organic group having 1 to 10 carbon atoms, p is an integer of 1 to 3 which may be the same or different, m is an integer of 0 to 5, preferably 0 to 2, and n is an integer of 0 to 2. .)

このように、成分中に多くの二価の有機結合、好ましくはアルキレン結合を有することで、通常用いられているオルガノハイドロジェンポリシロキサン硬化剤と比較し、ガス透過性を低くしたり、熱衝撃試験時の耐久性を向上させることができる。   In this way, the component has many divalent organic bonds, preferably alkylene bonds, so that the gas permeability can be lowered or the thermal shock can be reduced as compared with the commonly used organohydrogenpolysiloxane curing agents. Durability during testing can be improved.

上記一般式(2)及び(3)中のRとしては、メチレン基、エチレン基、プロピレン基、フェニレン基等の置換又は非置換の二価有機基が例示され、好ましくは炭素数1〜3のアルキレン基であり、特に、エチレン基であることが好ましい。
上記一般式(2)及び(3)中のRとしては、前記アリール基、前記アルキル基、前記アラルキル基、前記ハロゲン化アルキル基等のアルケニル基を除く置換又は非置換の一価有機基が例示され、特に、メチル基、フェニル基であることが好ましい。
Examples of R 1 in the general formulas (2) and (3) include substituted or unsubstituted divalent organic groups such as a methylene group, an ethylene group, a propylene group, and a phenylene group, and preferably have 1 to 3 carbon atoms. And particularly preferably an ethylene group.
R 2 in the general formulas (2) and (3) is a substituted or unsubstituted monovalent organic group excluding an alkenyl group such as the aryl group, the alkyl group, the aralkyl group, and the halogenated alkyl group. Examples thereof include a methyl group and a phenyl group.

また、上式中のmは0〜5の整数であり、好ましくは、0〜2、特に好ましくは0、2の整数である。これは、mの値が上記範囲の上限を超えると、得られる硬化物のガスバリア性が低下したり、硬化物の密着性が悪化するからである。   Moreover, m in the above formula is an integer of 0 to 5, preferably 0 to 2, particularly preferably an integer of 0 or 2. This is because if the value of m exceeds the upper limit of the above range, the gas barrier property of the obtained cured product is lowered, or the adhesiveness of the cured product is deteriorated.

(C)成分の25℃における粘度は限定されないが、1〜100,000mPa・sの範囲内であることが好ましく、特に、2〜20,000mPa・sの範囲内であることが好ましい。これは、(C)成分の粘度が上記範囲であると、揮発し難く、得られる組成物の組成がより安定し、得られる組成物の取扱作業性がより向上するからである。
また、取り扱いが容易であることから、(C)成分として上記一般式(3)で表されるものが、より好ましく用いられる。
The viscosity of component (C) at 25 ° C. is not limited, but is preferably in the range of 1 to 100,000 mPa · s, and particularly preferably in the range of 2 to 20,000 mPa · s. This is because when the viscosity of the component (C) is in the above range, it is difficult to volatilize, the composition of the resulting composition is more stable, and the handling workability of the resulting composition is further improved.
Moreover, since handling is easy, what is represented by the said General formula (3) as (C) component is used more preferable.

このような(C)成分としては、例えば、下記式で表される有機ケイ素化合物が好ましく挙げられる。

Figure 0005368379
As such (C) component, the organosilicon compound represented by a following formula is mentioned preferably, for example.
Figure 0005368379

(C)成分の含有量は、(A)成分と(B)成分の合計100質量部に対して1〜200質量部の範囲内となる量であり、好ましくは、1〜100質量部の範囲内となる量であり、特に好ましくは、1〜50質量部の範囲内となる量である。これは、(C)成分の含有量が1質量部未満であると、得られる組成物の硬化性が不十分となり、200質量部を超えると、得られる硬化物の耐熱性が低下するからである。   The content of the component (C) is an amount that falls within the range of 1 to 200 parts by weight, preferably 1 to 100 parts by weight with respect to 100 parts by weight as the total of the components (A) and (B). It is the quantity which becomes an inside, Especially preferably, it is the quantity which becomes in the range of 1-50 mass parts. This is because if the content of the component (C) is less than 1 part by mass, the curability of the resulting composition will be insufficient, and if it exceeds 200 parts by mass, the heat resistance of the resulting cured product will decrease. is there.

また、組成物の硬化性や耐熱性を向上させるため、(C)成分の含有量は、(A)成分と(B)成分に含まれている合計アルケニル基1モルに対して、本成分中のケイ素原子結合水素原子が0.1〜10モルの範囲内となる量であることが好ましく、さらには、0.2〜5モルとなる量であることが好ましく、特には、0.5〜2モルとなる量であることが好ましい。   Further, in order to improve the curability and heat resistance of the composition, the content of the component (C) is in this component with respect to 1 mol of the total alkenyl groups contained in the components (A) and (B). It is preferable that the amount of silicon atom-bonded hydrogen atoms is in the range of 0.1 to 10 mol, more preferably 0.2 to 5 mol, and particularly 0.5 to 5 mol. The amount is preferably 2 mol.

<(D)成分>
(D)成分のヒドロシリル化反応用触媒は、(A)成分及び(B)成分中のアルケニル基と、(C)成分中のケイ素原子結合水素原子とのヒドロシリル化反応を促進するための触媒である。このような(D)成分としては、白金系触媒、ロジウム系触媒、パラジウム系触媒が例示され、本組成物の硬化を著しく促進できることから白金系触媒であることが好ましい。この白金系触媒としては、白金微粉末、塩化白金酸、塩化白金酸のアルコール溶液、白金−アルケニルシロキサン錯体、白金−オレフィン錯体、白金−カルボニル錯体が例示され、特に、白金−アルケニルシロキサン錯体であることが好ましい。このアルケニルシロキサンとしては、1,3−ジビニル−1,1,3,3−テトラメチルジシロキサン、1,3,5,7−テトラメチル−1,3,5,7−テトラビニルシクロテトラシロキサン、これらのアルケニルシロキサンのメチル基の一部をエチル基、フェニル基等の基で置換したアルケニルシロキサン、これらのアルケニルシロキサンのビニル基をアリル基、ヘキセニル基等の基で置換したアルケニルシロキサンが例示される。特に、この白金−アルケニルシロキサン錯体の安定性が良好であることから、1,3−ジビニル−1,1,3,3−テトラメチルジシロキサンであることが好ましい。
<(D) component>
The (D) component hydrosilylation reaction catalyst is a catalyst for promoting the hydrosilylation reaction between the alkenyl group in the (A) component and the (B) component and the silicon atom-bonded hydrogen atom in the (C) component. is there. Examples of such component (D) include platinum-based catalysts, rhodium-based catalysts, and palladium-based catalysts, and platinum-based catalysts are preferred because they can significantly accelerate the curing of the composition. Examples of the platinum-based catalyst include platinum fine powder, chloroplatinic acid, an alcohol solution of chloroplatinic acid, a platinum-alkenylsiloxane complex, a platinum-olefin complex, and a platinum-carbonyl complex, and in particular, a platinum-alkenylsiloxane complex. It is preferable. Examples of the alkenyl siloxane include 1,3-divinyl-1,1,3,3-tetramethyldisiloxane, 1,3,5,7-tetramethyl-1,3,5,7-tetravinylcyclotetrasiloxane, Examples include alkenyl siloxanes in which a part of the methyl groups of these alkenyl siloxanes are substituted with groups such as ethyl groups and phenyl groups, and alkenyl siloxanes in which the vinyl groups of these alkenyl siloxanes are substituted with groups such as allyl groups and hexenyl groups. . In particular, 1,3-divinyl-1,1,3,3-tetramethyldisiloxane is preferred because the stability of this platinum-alkenylsiloxane complex is good.

また、この白金−アルケニルシロキサン錯体の安定性を向上させることができることから、この錯体に1,3−ジビニル−1,1,3,3−テトラメチルジシロキサン、1,3−ジアリル−1,1,3,3−テトラメチルジシロキサン、1,3−ジビニル−1,3−ジメチル−1,3−ジフェニルジシロキサン、1,3−ジビニル−1,1,3,3−テトラフェニルジシロキサン、1,3,5,7−テトラメチル−1,3,5,7−テトラビニルシクロテトラシロキサン等のアルケニルシロキサンやジメチルシロキサンオリゴマー等のオルガノシロキサンオリゴマーを添加することが好ましく、特に、アルケニルシロキサンを添加することが好ましい。   Further, since the stability of this platinum-alkenylsiloxane complex can be improved, 1,3-divinyl-1,1,3,3-tetramethyldisiloxane, 1,3-diallyl-1,1 can be added to this complex. , 3,3-tetramethyldisiloxane, 1,3-divinyl-1,3-dimethyl-1,3-diphenyldisiloxane, 1,3-divinyl-1,1,3,3-tetraphenyldisiloxane, , 3,5,7-tetramethyl-1,3,5,7-tetravinylcyclotetrasiloxane is preferably added, and alkenylsiloxane such as dimethylsiloxane oligomer is preferably added. It is preferable.

(D)成分の含有量は、本組成物の硬化(ヒドロシリル化反応)を促進する量(触媒量)であれば限定されず、具体的には、本組成物に対して、本成分中の金属原子が質量単位で0.01〜500ppmの範囲内となる量であることが好ましく、さらには、0.01〜100ppmの範囲内となる量であることが好ましく、特には、0.01〜50ppmの範囲内となる量であることが好ましい。これは、(D)成分の含有量が上記範囲であると、本組成物が十分に硬化するからであり、得られる硬化物に着色等の問題を生じる恐れがなくなると共に経済的であるからである。   The content of the component (D) is not limited as long as it is an amount (catalytic amount) that accelerates the curing (hydrosilylation reaction) of the composition. Specifically, the content of the component in the component is The amount of metal atoms is preferably in an amount in the range of 0.01 to 500 ppm, more preferably in an amount in the range of 0.01 to 100 ppm, particularly 0.01 to 500 ppm. The amount is preferably within the range of 50 ppm. This is because when the content of the component (D) is in the above range, the present composition is sufficiently cured, and there is no possibility of causing problems such as coloring in the obtained cured product, and it is economical. is there.

<任意成分>
本組成物には、その他任意の成分として、2−メチル−3−ブチン−2−オール、3,5−ジメチル−1−ヘキシン−3−オール、2−フェニル−3−ブチン−2−オール等のアルキンアルコール;3−メチル−3−ペンテン−1−イン、3,5−ジメチル−3−ヘキセン−1−イン等のエンイン化合物;1,3,5,7−テトラメチル−1,3,5,7−テトラビニルシクロテトラシロキサン、1,3,5,7−テトラメチル−1,3,5,7−テトラヘキセニルシクロテトラシロキサン、ベンゾトリアゾール等の反応抑制剤を含有しても良い。この反応抑制剤の含有量は限定されないが、(A)成分と(B)成分の合計100質量部に対して0.0001〜5質量部の範囲内であることが好ましい。
<Optional component>
In this composition, as other optional components, 2-methyl-3-butyn-2-ol, 3,5-dimethyl-1-hexyn-3-ol, 2-phenyl-3-butyn-2-ol, etc. Alkyne alcohols; enyne compounds such as 3-methyl-3-penten-1-yne and 3,5-dimethyl-3-hexen-1-yne; 1,3,5,7-tetramethyl-1,3,5 , 7-tetravinylcyclotetrasiloxane, 1,3,5,7-tetramethyl-1,3,5,7-tetrahexenylcyclotetrasiloxane, benzotriazole, and other reaction inhibitors may be contained. Although content of this reaction inhibitor is not limited, It is preferable to exist in the range of 0.0001-5 mass parts with respect to a total of 100 mass parts of (A) component and (B) component.

また、本組成物には、その接着性を向上させるための接着付与剤を含有していても良い。この接着付与剤としては、ケイ素原子に結合したアルコキシ基を一分子中に少なくとも1個、好ましくは2個以上有する有機ケイ素化合物であることが好ましい。このアルコキシ基としては、メトキシ基、エトキシ基、プロポキシ基、ブトキシ基、メトキシエトキシ基が例示され、特に、メトキシ基であることが好ましい。また、この有機ケイ素化合物のケイ素原子に結合するアルコキシ基以外の基としては、前記アルキル基、前記アルケニル基、前記アリール基、前記アラルキル基、前記ハロゲン化アルキル基等の置換もしくは非置換の一価炭化水素基;3−グリシドキシプロピル基、4−グリシドキシブチル基等のグリシドキシアルキル基;2−(3,4−エポキシシクロヘキシル)エチル基、3−(3,4−エポキシシクロヘキシル)プロピル基等のエポキシシクロヘキシルアルキル基;4−オキシラニルブチル基、8−オキシラニルオクチル基等のオキシラニルアルキル基等のエポキシ基含有一価有機基;3−メタクリロキシプロピル基等のアクリル基含有一価有機基;水素原子が例示される。具体的にはエポキシ基含有シランカップリング剤、(メタ)アクリル基含有シランカップリング剤等のシランカップリング剤やその部分加水分解縮合物(シランカップリング剤のオリゴマー)等が例示される。   In addition, the composition may contain an adhesion-imparting agent for improving the adhesion. The adhesion-imparting agent is preferably an organosilicon compound having at least one, preferably two or more alkoxy groups bonded to silicon atoms in one molecule. Examples of the alkoxy group include a methoxy group, an ethoxy group, a propoxy group, a butoxy group, and a methoxyethoxy group, and a methoxy group is particularly preferable. The group other than the alkoxy group bonded to the silicon atom of the organosilicon compound includes substituted or unsubstituted monovalent groups such as the alkyl group, the alkenyl group, the aryl group, the aralkyl group, and the halogenated alkyl group. Hydrocarbon group; glycidoxyalkyl group such as 3-glycidoxypropyl group and 4-glycidoxybutyl group; 2- (3,4-epoxycyclohexyl) ethyl group, 3- (3,4-epoxycyclohexyl) Epoxy cyclohexyl alkyl group such as propyl group; Epoxy group-containing monovalent organic group such as oxiranylalkyl group such as 4-oxiranylbutyl group and 8-oxiranyloctyl group; Acrylic such as 3-methacryloxypropyl group Group-containing monovalent organic group; a hydrogen atom is exemplified. Specific examples include silane coupling agents such as epoxy group-containing silane coupling agents and (meth) acryl group-containing silane coupling agents, and partial hydrolysis condensates thereof (oligomers of silane coupling agents).

より具体的には、3−グリシドキシプロピルトリメトキシシラン、2−(3,4−エポキシシクロヘキシル)エチルトリメトキシシラン、3−メタクリロキシプロピルトリメトキシシラン等のシラン化合物;一分子中にケイ素原子結合アルケニル基もしくはケイ素原子結合水素原子、及びケイ素原子結合アルコキシ基をそれぞれ少なくとも1個ずつ有するシロキサン化合物、ケイ素原子結合アルコキシ基を少なくとも1個有するシラン化合物又はシロキサン化合物と一分子中にケイ素原子結合ヒドロキシ基とケイ素原子結合アルケニル基をそれぞれ少なくとも1個ずつ有するシロキサン化合物との混合物、メチルポリシリケート、エチルポリシリケート、エポキシ基含有エチルポリシリケートが例示される。   More specifically, silane compounds such as 3-glycidoxypropyltrimethoxysilane, 2- (3,4-epoxycyclohexyl) ethyltrimethoxysilane, and 3-methacryloxypropyltrimethoxysilane; silicon atoms in one molecule Siloxane compound having at least one bonded alkenyl group or silicon atom bonded hydrogen atom and silicon atom bonded alkoxy group, silane compound having at least one silicon atom bonded alkoxy group or siloxane compound and silicon atom bonded hydroxy in one molecule Examples thereof include a mixture of a group and a siloxane compound each having at least one silicon-bonded alkenyl group, methyl polysilicate, ethyl polysilicate, and epoxy group-containing ethyl polysilicate.

この接着付与剤は低粘度液状であることが好ましく、その粘度は限定されないが、25℃において1〜500mPa・sの範囲内であることが好ましい。下式に示すような接着付与材を添加しても良い。

Figure 0005368379
The adhesion-imparting agent is preferably a low-viscosity liquid, and the viscosity is not limited, but is preferably in the range of 1 to 500 mPa · s at 25 ° C. An adhesion-imparting material as shown in the following formula may be added.
Figure 0005368379

また、上記組成物において、この接着付与剤の含有量は限定されないが、(A)成分と(B)成分の合計100質量部に対して0.01〜10質量部であることが好ましい。
また、本組成物には、本発明の目的を損なわない限り、その他任意の成分として、シリカ、ガラス、アルミナ、酸化亜鉛等の無機質充填剤;ポリメタクリレート樹脂等の有機樹脂微粉末;耐熱剤、染料、顔料、難燃性付与剤、溶剤等を含有しても良い。
Moreover, in the said composition, although content of this adhesion imparting agent is not limited, It is preferable that it is 0.01-10 mass parts with respect to a total of 100 mass parts of (A) component and (B) component.
Further, in the present composition, as long as the object of the present invention is not impaired, as other optional components, inorganic fillers such as silica, glass, alumina and zinc oxide; fine organic resin powders such as polymethacrylate resin; You may contain dye, a pigment, a flame-retarding agent, a solvent, etc.

また、本組成物は、硬化して、JISに規定の硬さがショアーDで30以上、特に30〜90である硬化物を形成するものが好ましい。
このように、硬化した際に、例えばショアーDで30以上の硬化物を形成するものとすれば、半導体装置に用いた場合にも、外部応力の影響を受け難く、ゴミ等が極力付着し難くなる。
Further, the composition is preferably cured to form a cured product having a hardness specified by JIS of 30 or more, particularly 30 to 90, according to JIS.
In this way, when cured, for example, if a cured product of 30 or more is formed by Shore D, even when used in a semiconductor device, it is hardly affected by external stress, and dust and the like are hardly adhered. Become.

また、本組成物は、組成物の硬化物により被覆された半導体素子を有する半導体装置に十分な信頼性を付与するため、硬化して得られる硬化物の可視光(589nm)における屈折率(25℃)が1.45以上であり、硬化物の光透過率(25℃)が80%以上であることが好ましい。   Moreover, in order to give sufficient reliability to the semiconductor device which has the semiconductor element coat | covered with the hardened | cured material of the composition, this composition is the refractive index (25 nm) of the hardened | cured material obtained by hardening | curing. ° C) is 1.45 or more, and the light transmittance (25 ° C) of the cured product is preferably 80% or more.

尚、この屈折率は、例えば、アッベ式屈折率計により測定することができる。この際、アッベ式屈折率計における光源の波長を変えることにより任意の波長における屈折率を測定することができる。また、この光透過率は、例えば、光路長2.0mmの硬化物を分光光度計により測定することにより求めることができる。   This refractive index can be measured by, for example, an Abbe refractometer. At this time, the refractive index at an arbitrary wavelength can be measured by changing the wavelength of the light source in the Abbe refractometer. Moreover, this light transmittance can be calculated | required by measuring the hardened | cured material of optical path length 2.0mm with a spectrophotometer, for example.

また、本組成物を硬化して得られる硬化物の200nm〜250nmの波長における紫外線透過率(25℃)が10%以下であることが好ましい。これは、本組成物の硬化物により半導体素子を被覆してなる半導体装置が、200nm〜250nmの短波長の紫外線を受けた場合に、その半導体装置を構成する材料の劣化を防止することができなくなるおそれがあるからである。この紫外線透過率は、例えば、光路長2.0mmの硬化物を分光光度計により測定することにより求めることができる。   Moreover, it is preferable that the ultraviolet-ray transmittance (25 degreeC) in the wavelength of 200 nm-250 nm of the hardened | cured material obtained by hardening | curing this composition is 10% or less. This is because when a semiconductor device in which a semiconductor element is coated with a cured product of the composition receives ultraviolet rays having a short wavelength of 200 nm to 250 nm, deterioration of the material constituting the semiconductor device can be prevented. It is because there is a risk of disappearing. This ultraviolet transmittance can be determined, for example, by measuring a cured product having an optical path length of 2.0 mm with a spectrophotometer.

本組成物は、室温又は加熱により硬化が進行するが、迅速に硬化させるためには加熱することが好ましい。この加熱温度としては、50〜200℃の範囲内であることが好ましい。   The composition is cured at room temperature or by heating, but is preferably heated to cure quickly. The heating temperature is preferably in the range of 50 to 200 ° C.

本組成物を硬化して得られる硬化物はエラストマー状、例えばゲル状、あるいは柔軟なゴム状から弾性を有する樹脂状まで得られる。このような本組成物は、電気・電子用の接着剤、ポッティング剤、保護コーティング剤、アンダーフィル剤として使用することができ、特に、光透過率が高いことから、光学用途の半導体素子の接着剤、ポッティング剤、保護コーティング剤、アンダーフィル剤として好適である。   A cured product obtained by curing the present composition can be obtained from an elastomer, for example, a gel or a flexible rubber to an elastic resin. Such a composition can be used as an electrical / electronic adhesive, a potting agent, a protective coating agent, and an underfill agent. In particular, since it has a high light transmittance, it can adhere to semiconductor elements for optical applications. Suitable as an agent, potting agent, protective coating agent, and underfill agent.

本発明では更に、このような本発明の硬化性オルガノポリシロキサン組成物を用いた半導体装置を提供する。
以下、図面を参照に、本発明の半導体装置について説明するが、本発明はこれらに限定されるものではない。
図1は、本発明の半導体装置の一例(この場合LED)を示す概略断面図である。
本発明の半導体装置1は、銀メッキ基板2が形成されたパッケージ3上に、半導体チップ4がダイボンドされており、この半導体チップ4は、ボンディングワイヤ5によりワイヤボンディングされている。
The present invention further provides a semiconductor device using such a curable organopolysiloxane composition of the present invention.
Hereinafter, the semiconductor device of the present invention will be described with reference to the drawings, but the present invention is not limited thereto.
FIG. 1 is a schematic sectional view showing an example (in this case, LED) of the semiconductor device of the present invention.
In the semiconductor device 1 of the present invention, a semiconductor chip 4 is die-bonded on a package 3 on which a silver-plated substrate 2 is formed, and the semiconductor chip 4 is wire-bonded by a bonding wire 5.

そして、上述した本発明の硬化性オルガノポリシロキサン組成物の硬化物6により、半導体チップ4が被覆されている。
半導体チップ4の被覆は、上述した本発明の硬化性オルガノポリシロキサン組成物6を塗布し、加熱により硬化性オルガノポリシロキサン組成物6を硬化させることにより行われる。
And the semiconductor chip 4 is coat | covered with the hardened | cured material 6 of the curable organopolysiloxane composition of this invention mentioned above.
The semiconductor chip 4 is coated by applying the curable organopolysiloxane composition 6 of the present invention described above and curing the curable organopolysiloxane composition 6 by heating.

この場合、外部応力の影響を受け難くし、又ゴミ等の付着を極力抑えるという観点から、硬化性オルガノポリシロキサン組成物6は、硬化により、JISに規定の硬さがショアーDで30以上の硬化物を形成するものであることが好ましい。   In this case, the curable organopolysiloxane composition 6 has a hardness specified by JIS of 30 or more in Shore D by curing from the viewpoint of being hardly affected by external stress and suppressing adhesion of dust and the like as much as possible. It is preferable to form a cured product.

本発明の硬化性オルガノポリシロキサン組成物は、屈折率が大きく、光透過率が高く、基材に対する密着性が高く、耐クラック性に優れ、ガス透過性が低い硬化物を形成するので、このような本発明の組成物を用いた本発明の半導体装置は、信頼性に優れたものとなり、ダイオード、発光ダイオード(LED)等として特に好適である。   The curable organopolysiloxane composition of the present invention has a large refractive index, high light transmittance, high adhesion to the substrate, excellent crack resistance, and forms a cured product with low gas permeability. The semiconductor device of the present invention using such a composition of the present invention has excellent reliability, and is particularly suitable as a diode, a light emitting diode (LED) or the like.

以下、実施例と比較例を示し、本発明を具体的に説明するが、本発明は下記の実施例等に制限されるものではない。
尚、実施例中の粘度は25℃において測定した値である。また、硬化性オルガノポリシロキサン組成物、及びその硬化物の特性は次のようにして測定した。
EXAMPLES Hereinafter, although an Example and a comparative example are shown and this invention is demonstrated concretely, this invention is not restrict | limited to the following Example etc.
In addition, the viscosity in an Example is the value measured in 25 degreeC. Moreover, the characteristic of the curable organopolysiloxane composition and the cured product thereof was measured as follows.

硬化性オルガノポリシロキサン組成物の酸素ガス透過性
硬化性オルガノポリシロキサン組成物を150℃の熱風循環式オーブンで3時間加熱することにより硬化させて得られた厚み1mmの硬化物を、酸素ガス透過装置を用いて測定を行った。
Oxygen gas permeable curable organopolysiloxane composition of curable organopolysiloxane composition A cured product having a thickness of 1 mm obtained by curing the curable organopolysiloxane composition by heating in a hot-air circulating oven at 150 ° C. for 3 hours is used to transmit oxygen gas. Measurements were made using the instrument.

硬化性オルガノポリシロキサン組成物のイオウ腐食試験
銀メッキ基板が形成されたパッケージ内に硬化性オルガノポリシロキサン組成物を流し込み、150℃の熱風循環式オーブンで3時間加熱することにより硬化させて得られた硬化物で覆われたパッケージ(図1)を、イオウ粉末が入っているガラス瓶内部に入れ密閉し時間と共に銀メッキが腐食されていくか目視にて確認を行い、24時間経過後に試験前と比較し変化のなかった基板を○とし、若干の変化が見られた基板は△、黒く変化した基板は×とした。
Sulfur Corrosion Test of Curable Organopolysiloxane Composition Obtained by pouring the curable organopolysiloxane composition into a package on which a silver-plated substrate is formed and curing it by heating in a hot air circulation oven at 150 ° C. for 3 hours. The package (Fig. 1) covered with a hardened material is put inside a glass bottle containing sulfur powder and sealed, and it is visually checked if the silver plating is corroded over time. A substrate that did not change by comparison was indicated by ◯, a substrate that slightly changed was indicated by Δ, and a substrate that changed black was indicated by ×.

硬化物の硬さ
硬化性オルガノポリシロキサン組成物を150℃の熱風循環式オーブンで3時間加熱することにより硬化物を作製した。この硬化物の硬さを、ショアーD硬度計を使用して測定した。
Hardness of Cured Product A cured product was prepared by heating the curable organopolysiloxane composition in a hot air circulation oven at 150 ° C. for 3 hours. The hardness of the cured product was measured using a Shore D hardness meter.

硬化物の屈折率
硬化性オルガノポリシロキサン組成物を150℃の熱風循環式オーブンで3時間加熱することにより硬化して作製した硬化物の25℃における屈折率を、アッベ式屈折率計を用いて測定した。尚、測定に用いた光源として、可視光(589nm)を用いた。
Refractive index curable organopolysiloxane composition of the cured product was cured by heating in a hot air circulation oven at 150 ° C. for 3 hours, and the refractive index at 25 ° C. of the cured product was measured using an Abbe refractometer. It was measured. In addition, visible light (589 nm) was used as a light source used for the measurement.

硬化物の光透過率
硬化性オルガノポリシロキサン組成物を150℃の熱風循環式オーブンで3時間加熱することにより硬化して作製した硬化物(光路長2.0mm)の25℃における400nmの波長の光透過率を測定した。
Light transmittance of cured product Cured organopolysiloxane composition was cured by heating in a hot air circulation oven at 150 ° C. for 3 hours. The light transmittance was measured.

硬化物の耐熱性
上記[硬化物の光透過率]で得られた結果を100とし、この硬化物を150℃の熱風循環式オーブンで500時間加熱後、硬化物を取り出し光透過率が100と比較してどの程度落ちるか測定した。
Heat resistance of cured product The result obtained in the above [Light transmittance of cured product] is 100, and this cured product is heated in a hot air circulation oven at 150 ° C. for 500 hours, and then the cured product is taken out and light transmittance is 100. It was measured how much it fell compared.

硬化物の耐久後のクラック
図1のように作成したパッケージを、{−40℃(30分)、100℃(30分)}を1サイクルとする熱衝撃試験機の中に入れ、100サイクル経過後、パッケージを拡大顕微鏡で観察し、硬化物のクラックがある場合を×、クラックがない場合を○、クラックがあるかどうかが明瞭でない場合を△とした。
Crack after the endurance of the cured product The package prepared as shown in Fig. 1 is put into a thermal shock tester with {-40 ° C (30 minutes), 100 ° C (30 minutes)} as one cycle, and 100 cycles have passed. Thereafter, the package was observed with a magnifying microscope. The case where there was a crack in the cured product was indicated as “X”, the case where there was no crack was indicated as “◯”, and the case where there was no crack was indicated as “Δ”.

[実施例1]
平均単位式:
(CSiO3/20.75[(CH=CH)(CH)SiO]0.25
で表される分岐鎖状のオルガノポリシロキサン{性状=固体状(25℃)、ケイ素原子結合全有機基中のケイ素原子結合ビニル基の含有率=12.5モル%、ケイ素原子結合全有機基中のケイ素原子結合フェニル基の含有率=75モル%、標準ポリスチレン換算の重量平均分子量=2400}50質量部、粘度700mPa・sであり、直鎖状の分子鎖両末端ジメチルビニルシロキシ基封鎖ジフェニルジメチルポリシロキサン(ケイ素原子結合ビニル基の含有量=0.055モル%、ケイ素原子結合全有機基中のケイ素原子結合フェニル基の含有率=30モル%)25質量部、式:
H(CHSiCHCH(CSiCHCHSi(CH
で表される分子鎖両末端ジメチルハイドロジェンシルエチニル基封鎖有機ケイ素化合物23質量部、白金の1,3−ジビニル−1,1,3,3−テトラメチルジシロキサン錯体(本組成物において、本錯体中の白金金属が質量単位で30ppmとなる量)、接着付与剤として下記構造式のSiH含有化合物を1.0質量部均一に混合して、粘度2,700mPa・sである硬化性オルガノポリシロキサン組成物を調製した。

Figure 0005368379
[Example 1]
Average unit formula:
(C 6 H 5 SiO 3/2 ) 0.75 [(CH 2 ═CH) (CH 3 ) SiO] 0.25
Branched-organopolysiloxane represented by the following formula: {characteristic = solid (25 ° C.), silicon atom-bonded vinyl group content in silicon atom-bonded all organic groups = 12.5 mol%, silicon atom-bonded all organic groups Content of silicon atom-bonded phenyl group in the mixture = 75 mol%, weight average molecular weight in terms of standard polystyrene = 2400}, 50 parts by mass, viscosity 700 mPa · s, linear molecular chain dimethylvinylsiloxy group-blocked diphenyl 25 parts by mass of dimethylpolysiloxane (content of silicon atom-bonded vinyl group = 0.055 mol%, content of silicon atom-bonded phenyl group in all silicon atom-bonded organic groups = 30 mol%), formula:
H (CH 3) 2 SiCH 2 CH 2 (C 6 H 5) 2 SiCH 2 CH 2 Si (CH 3) 2 H
23 parts by mass of a dimethylhydrogensilethynyl group-blocked organosilicon compound represented by the following formula: 1,3-divinyl-1,1,3,3-tetramethyldisiloxane complex of platinum (in this composition, The amount of platinum metal in the complex is 30 ppm by mass), and 1.0 mass part of a SiH-containing compound of the following structural formula is uniformly mixed as an adhesion promoter, and the viscosity is 2,700 mPa · s. A siloxane composition was prepared.
Figure 0005368379

この硬化性オルガノポリシロキサン組成物及びその硬化物の特性を測定した。これらの結果を表1に示した。また、この硬化性オルガノポリシロキサン組成物を用いてLEDを作製した。これらの半導体装置の信頼性の評価結果を表1に示した。   The characteristics of this curable organopolysiloxane composition and its cured product were measured. These results are shown in Table 1. Moreover, LED was produced using this curable organopolysiloxane composition. Table 1 shows the evaluation results of the reliability of these semiconductor devices.

[実施例2]
平均単位式:
(CSiO3/20.8[(CH=CH)(CHSiO1/20.2
で表される分岐鎖状のオルガノポリシロキサン{性状=固体状(25℃)、ケイ素原子結合全有機基中のケイ素原子結合ビニル基の含有率=10モル%、ケイ素原子結合全有機基中のケイ素原子結合フェニル基の含有率=80モル%、標準ポリスチレン換算の重量平均分子量=1,600}55質量部、粘度700mPa・sであり、直鎖状の分子鎖両末端ジメチルビニルシロキシ基封鎖ジフェニルジメチルポリシロキサン(ケイ素原子結合ビニル基の含有量=0.055モル%、ケイ素原子結合全有機基中のケイ素原子結合フェニル基の含有率=30モル%)25質量部、
式:
H(CHSiCHCH(CHSiCHCHSi(CH
で表される分子鎖両末端ジメチルハイドロジェンシルエチニル基封鎖有機ケイ素化合物15質量部、接着付与剤として、

Figure 0005368379
で表されるシラン化合物2.0質量部、白金の1,3−ジビニル−1,1,3,3−テトラメチルジシロキサン錯体(本組成物において、本錯体中の白金金属が質量単位で2.5ppmとなる量)、粘度3,500mPa・sである硬化性オルガノポリシロキサン組成物を調製した。 [Example 2]
Average unit formula:
(C 6 H 5 SiO 3/2 ) 0.8 [(CH 2 ═CH) (CH 3 ) 2 SiO 1/2 ] 0.2
A branched-chain organopolysiloxane represented by the formula {characteristic = solid (25 ° C.), silicon atom-bonded vinyl group content in silicon atom-bonded all organic groups = 10 mol%, silicon atom-bonded all organic groups in Content of silicon atom-bonded phenyl group = 80 mol%, standard polystyrene equivalent weight average molecular weight = 1,600} 55 parts by mass, viscosity 700 mPa · s, linear molecular chain both ends dimethylvinylsiloxy group-capped diphenyl 25 parts by mass of dimethylpolysiloxane (content of silicon atom-bonded vinyl group = 0.055 mol%, content of silicon atom-bonded phenyl group in all silicon atom-bonded organic groups = 30 mol%),
formula:
H (CH 3) 2 SiCH 2 CH 2 (CH 3) 2 SiCH 2 CH 2 Si (CH 3) 2 H
As the adhesion-imparting agent, 15 parts by mass of a dimethylhydrogen ethynyl group-blocked organosilicon compound at both molecular chains represented by
Figure 0005368379
2.0 parts by mass of a silane compound represented by the formula: 1,3-divinyl-1,1,3,3-tetramethyldisiloxane complex of platinum (in the present composition, platinum metal in the complex is 2 by mass unit) A curable organopolysiloxane composition having a viscosity of 3,500 mPa · s was prepared.

この硬化性オルガノポリシロキサン組成物及びその硬化物の特性を測定した。これらの結果を表1に示した。また、この硬化性オルガノポリシロキサン組成物を用いてLEDを作製した。これらの半導体装置の信頼性の評価結果を表1に示した。   The characteristics of this curable organopolysiloxane composition and its cured product were measured. These results are shown in Table 1. Moreover, LED was produced using this curable organopolysiloxane composition. Table 1 shows the evaluation results of the reliability of these semiconductor devices.

[比較例1]
粘度3,500mPa・sであり、直鎖状の分子鎖両末端ジメチルビニルシロキシ基封鎖メチルフェニルポリシロキサン(ケイ素原子結合ビニル基の含有量=0.20質量%、ケイ素原子結合全有機基中のケイ素原子結合フェニル基の含有率=49モル%)60質量部、平均単位式:
(CSiO3/20.75[(CH=CH)(CHSiO1/20.25
で表される分岐鎖状のオルガノポリシロキサン{性状=固体状(25℃)、ケイ素原子結合全有機基中のケイ素原子結合ビニル基の含有率=12.5モル%、ケイ素原子結合全有機基中のケイ素原子結合フェニル基の含有率=75モル%、標準ポリスチレン換算の重量平均分子量=1,600}40質量部、式:
H(CHSiO[(CHSiO]Si(CH
で表されるジメチルポリシロキサン24質量部、白金の1,3−ジビニル−1,1,3,3−テトラメチルジシロキサン錯体(本組成物において、本錯体中の白金金属が質量単位で30ppmとなる量)を均一に混合して、粘度2,460mPa・sである硬化性オルガノポリシロキサン組成物を調製した。
[Comparative Example 1]
Viscosity is 3,500 mPa · s, linear molecular chain both ends dimethylvinylsiloxy group-blocked methylphenylpolysiloxane (content of silicon atom-bonded vinyl group = 0.20 mass%, in silicon atom-bonded all organic groups) (Content of silicon atom-bonded phenyl group = 49 mol%) 60 parts by mass, average unit formula:
(C 6 H 5 SiO 3/2 ) 0.75 [(CH 2 ═CH) (CH 3 ) 2 SiO 1/2 ] 0.25
Branched-organopolysiloxane represented by the following formula: {characteristic = solid (25 ° C.), silicon atom-bonded vinyl group content in silicon atom-bonded all organic groups = 12.5 mol%, silicon atom-bonded all organic groups Content of silicon-bonded phenyl group in the content = 75 mol%, weight average molecular weight in terms of standard polystyrene = 1,600} 40 parts by mass, formula:
H (CH 3 ) 2 SiO [(CH 3 ) 2 SiO] 4 Si (CH 3 ) 2 H
24 parts by mass of dimethylpolysiloxane represented by the formula: 1,3-divinyl-1,1,3,3-tetramethyldisiloxane complex of platinum (in the present composition, platinum metal in the complex is 30 ppm by mass) Were uniformly mixed to prepare a curable organopolysiloxane composition having a viscosity of 2,460 mPa · s.

この硬化性オルガノポリシロキサン組成物及びその硬化物の特性を測定した。これらの結果を表1に示した。また、この硬化性オルガノポリシロキサン組成物を用いてLEDを作製した。これらの半導体装置の信頼性の評価結果を表1に示した。   The characteristics of this curable organopolysiloxane composition and its cured product were measured. These results are shown in Table 1. Moreover, LED was produced using this curable organopolysiloxane composition. Table 1 shows the evaluation results of the reliability of these semiconductor devices.

[比較例2]
平均単位式:
(CSiO3/20.75[(CH=CH)(CHSiO1/20.25
で表される分岐鎖状のオルガノポリシロキサン{性状=固体状(25℃)、ケイ素原子結合全有機基中のケイ素原子結合ビニル基の含有率=12.5モル%、ケイ素原子結合全有機基中のケイ素原子結合フェニル基の含有率=75モル%、標準ポリスチレン換算の重量平均分子量=1,600}55質量部、粘度950mPa・sであり、平均単位式:
(CSiO3/20.60[(CHHSiO1/20.40
で表される分岐鎖状のオルガノポリシロキサン(ケイ素原子結合全基中のケイ素原子結合水素原子の含有率=22モル%、ケイ素原子結合全基中のケイ素原子結合フェニル基の含有率=33モル%、標準ポリスチレン換算の重量平均分子量=1,100)12質量部、粘度3,500mPa・sであり、直鎖状の分子鎖両末端ジメチルビニルシロキシ基封鎖メチルフェニルポリシロキサン(ケイ素原子結合ビニル基の含有量=0.20質量%、ケイ素原子結合全有機基中のケイ素原子結合フェニル基の含有率=49モル%)50質量部、白金の1,3−ジビニル−1,1,3,3−テトラメチルジシロキサン錯体(本組成物において、本錯体中の白金金属が質量単位で2.5ppmとなる量)を均一に混合して、粘度3,500mPa・sである硬化性オルガノポリシロキサン組成物を調製した。
[Comparative Example 2]
Average unit formula:
(C 6 H 5 SiO 3/2 ) 0.75 [(CH 2 ═CH) (CH 3 ) 2 SiO 1/2 ] 0.25
Branched-organopolysiloxane represented by the following formula: {characteristic = solid (25 ° C.), silicon atom-bonded vinyl group content in silicon atom-bonded all organic groups = 12.5 mol%, silicon atom-bonded all organic groups Content of silicon-bonded phenyl group in the content = 75 mol%, weight average molecular weight in terms of standard polystyrene = 1,600} 55 parts by mass, viscosity 950 mPa · s, average unit formula:
(C 6 H 5 SiO 3/2 ) 0.60 [(CH 3 ) 2 HSiO 1/2 ] 0.40
Branched chain organopolysiloxane (content of silicon atom-bonded hydrogen atoms in all silicon atom-bonded groups = 22 mol%, content of silicon atom-bonded phenyl groups in all silicon atom-bonded groups = 33 mol) %, Standard polystyrene equivalent weight average molecular weight = 1,100) 12 parts by mass, viscosity 3,500 mPa · s, linear molecular chain dimethylvinylsiloxy group-blocked methylphenylpolysiloxane (silicon atom-bonded vinyl group) Content = 0.20 mass%, silicon atom-bonded phenyl group content in all silicon-bonded organic groups = 49 mol%) 50 parts by mass, platinum 1,3-divinyl-1,1,3,3 -Tetramethyldisiloxane complex (in this composition, the amount of platinum metal in the complex is 2.5 ppm by mass) is uniformly mixed, and the viscosity is 3,500 mPa · s. That was a curable organopolysiloxane composition was prepared.

この硬化性オルガノポリシロキサン組成物及びその硬化物の特性を測定した。これらの結果を表1に示した。また、この硬化性オルガノポリシロキサン組成物を用いてLEDを作製した。これらの半導体装置の信頼性の評価結果を表1に示した。   The characteristics of this curable organopolysiloxane composition and its cured product were measured. These results are shown in Table 1. Moreover, LED was produced using this curable organopolysiloxane composition. Table 1 shows the evaluation results of the reliability of these semiconductor devices.

[比較例3]
平均単位式:
(CSiO3/20.75[(CH=CH)(CHSiO1/20.25
で表される分岐鎖状のオルガノポリシロキサン{性状=固体状(25℃)、ケイ素原子結合全有機基中のケイ素原子結合ビニル基の含有率=12.5モル%、ケイ素原子結合全有機基中のケイ素原子結合フェニル基の含有率=75モル%、標準ポリスチレン換算の重量平均分子量=1,600}45質量部、粘度3,500mPa・sであり、直鎖状の分子鎖両末端ジメチルビニルシロキシ基封鎖メチルフェニルポリシロキサン(ケイ素原子結合ビニル基の含有量=0.20質量%、ケイ素原子結合全有機基中のケイ素原子結合フェニル基の含有率=49モル%)55質量部、式:
H(CHSiO[CH(C)SiO]Si(CH
で表される分子鎖両末端ジメチルハイドロジェンシロキシ基封鎖メチルフェニルポリシロキサン24質量部、白金の1,3−ジビニル−1,1,3,3−テトラメチルジシロキサン錯体(本組成物において、本錯体中の白金金属が質量単位で2.5ppmとなる量)を均一に混合して、粘度1,700mPa・sである硬化性オルガノポリシロキサン組成物を調製した。
[Comparative Example 3]
Average unit formula:
(C 6 H 5 SiO 3/2 ) 0.75 [(CH 2 ═CH) (CH 3 ) 2 SiO 1/2 ] 0.25
Branched-organopolysiloxane represented by the following formula: {characteristic = solid (25 ° C.), silicon atom-bonded vinyl group content in silicon atom-bonded all organic groups = 12.5 mol%, silicon atom-bonded all organic groups The content of silicon atom-bonded phenyl group is 75 mol%, the weight average molecular weight in terms of standard polystyrene is 1,600} 45 parts by mass, the viscosity is 3,500 mPa · s, and both ends of the linear molecular chain are dimethylvinyl Siloxy group-blocked methylphenyl polysiloxane (content of silicon atom-bonded vinyl group = 0.20 mass%, content of silicon atom-bonded phenyl group in all silicon atom-bonded organic groups = 49 mol%) 55 parts by mass, formula:
H (CH 3 ) 2 SiO [CH 3 (C 6 H 5 ) SiO] 4 Si (CH 3 ) 2 H
Dimethylhydrogensiloxy group-blocked methylphenylpolysiloxane 24 parts by weight of a molecular chain represented by the following formula: 1,3-divinyl-1,1,3,3-tetramethyldisiloxane complex of platinum (in this composition, The amount of platinum metal in the complex was 2.5 ppm by mass) was uniformly mixed to prepare a curable organopolysiloxane composition having a viscosity of 1,700 mPa · s.

この硬化性オルガノポリシロキサン組成物及びその硬化物の特性を測定した。これらの結果を表1に示した。また、この硬化性オルガノポリシロキサン組成物を用いてLEDを作製した。これらの半導体装置の信頼性の評価結果を表1に示した。   The characteristics of this curable organopolysiloxane composition and its cured product were measured. These results are shown in Table 1. Moreover, LED was produced using this curable organopolysiloxane composition. Table 1 shows the evaluation results of the reliability of these semiconductor devices.

[比較例4]
実施例1の分岐鎖状のオルガノポリシロキサンを平均単位式:
(CSiO3/20.05(CHSiO3/20.70[(CH=CH)(CHSiO1/20.25{性状=固体状(25℃)、ケイ素原子結合全有機基中のケイ素原子結合ビニル基の含有率=12.5モル%、ケイ素原子結合全有機基中のケイ素原子結合フェニル基の含有率=5モル%、標準ポリスチレン換算の重量平均分子量2,100}とした以外は実施例1と同様にして粘度2,300mPa・sである硬化性オルガノポリシロキサン組成物を調製した。
[Comparative Example 4]
The branched organopolysiloxane of Example 1 is represented by the average unit formula:
(C 6 H 5 SiO 3/2 ) 0.05 (CH 3 SiO 3/2 ) 0.70 [(CH 2 ═CH) (CH 3 ) 2 SiO 1/2 ] 0.25 {Property = Solid ( 25 ° C.), content of silicon atom-bonded vinyl group in all silicon atom-bonded organic groups = 12.5 mol%, content of silicon atom-bonded phenyl group in all silicon atom-bonded organic groups = 5 mol%, standard polystyrene A curable organopolysiloxane composition having a viscosity of 2,300 mPa · s was prepared in the same manner as in Example 1 except that the converted weight average molecular weight was 2,100}.

この硬化性オルガノポリシロキサン組成物及びその硬化物の特性を測定した。これらの結果を表1に示した。また、この硬化性オルガノポリシロキサン組成物を用いてLEDを作製した。これらの半導体装置の信頼性の評価結果を表1に示した。   The characteristics of this curable organopolysiloxane composition and its cured product were measured. These results are shown in Table 1. Moreover, LED was produced using this curable organopolysiloxane composition. Table 1 shows the evaluation results of the reliability of these semiconductor devices.

Figure 0005368379
Figure 0005368379

表1に示すように、実施例1及び2は、酸素ガス透過性も低く、イオウによる腐食がなく、硬化物の硬さも十分であり、硬化物の屈折率、光透過率及び耐熱性も良好で、硬化物にクラックの発生も見られなかった。   As shown in Table 1, Examples 1 and 2 have low oxygen gas permeability, no corrosion due to sulfur, sufficient hardness of the cured product, and good refractive index, light transmittance and heat resistance of the cured product. Thus, no cracks were observed in the cured product.

一方、比較例1〜3では、硬化物の屈折率及び光透過率は良好であり、硬さも十分であったものの、酸素ガスの透過率が非常に高く、イオウによる腐食があった。
また、比較例2、3においては、クラックの発生が見られ、クラックの有無が不明瞭であった比較例1も、耐熱性に劣るものであった。
比較例4では、耐熱性は良好であったものの、酸素ガス透過性が高く、イオウによる腐食も若干見られ、硬化物の屈折率、光透過率も他の例に比べやや劣るものであった。
On the other hand, in Comparative Examples 1-3, although the refractive index and light transmittance of the cured product were good and the hardness was sufficient, the oxygen gas transmittance was very high and there was corrosion due to sulfur.
Moreover, in Comparative Examples 2 and 3, the occurrence of cracks was observed, and Comparative Example 1 in which the presence or absence of cracks was unclear was also inferior in heat resistance.
In Comparative Example 4, although the heat resistance was good, the oxygen gas permeability was high, corrosion due to sulfur was slightly observed, and the refractive index and light transmittance of the cured product were slightly inferior to those of other examples. .

尚、本発明は、上記実施形態に限定されるものではない。上記実施形態は、例示であり、本発明の特許請求の範囲に記載された技術的思想と実質的に同一な構成を有し、同様な作用効果を奏するものは、いかなるものであっても本発明の技術的範囲に包含される。   The present invention is not limited to the above embodiment. The above-described embodiment is an exemplification, and the present invention has substantially the same configuration as the technical idea described in the claims of the present invention, and any device that exhibits the same function and effect is the present invention. It is included in the technical scope of the invention.

上記実施例では、半導体素子のポッティング剤として本発明の硬化性オルガノポリシロキサン組成物を用いたが、本発明の硬化性オルガノポリシロキサン組成物は、特に、光透過率が高いことから、その他にも光学用途の半導体素子の接着剤、保護コーティング剤、アンダーフィル剤等として好適であり、また、電気・電子用の接着剤、ポッティング剤、保護コーティング剤、アンダーフィル剤等としても、もちろん使用することができる。   In the above examples, the curable organopolysiloxane composition of the present invention was used as a potting agent for semiconductor elements. However, the curable organopolysiloxane composition of the present invention has a particularly high light transmittance. Is also suitable as an adhesive, protective coating agent, underfill agent, etc. for semiconductor elements for optical applications, and of course, also used as an adhesive for electric and electronic, potting agent, protective coating agent, underfill agent, etc. be able to.

1…半導体装置、 2…銀メッキ基板、 3…パッケージ、 4…半導体チップ、
5…ボンディングワイヤ、 6…ポリオルガノシロキサン組成物(硬化剤)。
DESCRIPTION OF SYMBOLS 1 ... Semiconductor device, 2 ... Silver plating board | substrate, 3 ... Package, 4 ... Semiconductor chip,
5 ... bonding wire, 6 ... polyorganosiloxane composition (curing agent).

Claims (3)

少なくとも、
(A)下記平均単位式(1)で表されるオルガノポリシロキサン、
(RSiO3/2(RSiO2/2(RSiO1/2(XO1/2 (1)
{式中、Rは同一又は異なっていても良い、置換又は非置換の一価炭化水素基(但し、Rの0.1〜50モル%はアルケニル基であり、Rの10モル%以上はアリール基である)であり、Xは水素原子又はアルキル基である。aは正数、bは0又は正数、cは0又は正数、dは0又は正数であり、(b+c+d)/aは0〜3である。}
(B)一分子中に、少なくとも2個のケイ素原子結合アルケニル基を有し、ケイ素原子に結合した全置換基の少なくとも10モル%以上がアリール基である直鎖状のオルガノポリシロキサン:(A)成分に対して、質量比で10/90〜70/30となる量、
(C)下記一般式(2)又は下記一般式(3)で表される有機ケイ素化合物:(A)成分と(B)成分の合計100質量部に対して1〜100質量部となる量、
Figure 0005368379
(式中、Rは同一又は異なっていても良い、二価の置換又は非置換のメチレン基、エチレン基、プロピレン基、フェニレン基から選ばれる有機基であり、Rは同一又は異なっていても良い、一価の置換又は非置換でアリール基、アルキル基、アラルキル基、ハロゲン化アルキル基から選ばれる炭素数1〜10の有機基である。pは同一又は異なっていても良い1〜3の整数、mは0〜5の整数、nは0〜2の整数である。)
及び
(D)ヒドロシリル化反応用触媒:触媒量、
からなる硬化性オルガノポリシロキサン組成物。
at least,
(A) an organopolysiloxane represented by the following average unit formula (1):
(RSiO 3/2 ) a (R 2 SiO 2/2 ) b (R 3 SiO 1/2 ) c (XO 1/2 ) d (1)
{Wherein R may be the same or different, a substituted or unsubstituted monovalent hydrocarbon group (provided that 0.1 to 50 mol% of R is an alkenyl group, and 10 mol% or more of R is aryl) X is a hydrogen atom or an alkyl group. a is a positive number, b is 0 or a positive number, c is 0 or a positive number, d is 0 or a positive number, and (b + c + d) / a is 0-3. }
(B) Linear organopolysiloxane having at least two silicon-bonded alkenyl groups in one molecule, and at least 10 mol% of all substituents bonded to silicon atoms being aryl groups: (A ) An amount of 10/90 to 70/30 by mass ratio with respect to the component,
(C) An organosilicon compound represented by the following general formula (2) or the following general formula (3): an amount of 1 to 100 parts by mass with respect to 100 parts by mass in total of the component (A) and the component (B),
Figure 0005368379
(In the formula, R 1 may be the same or different, and is an organic group selected from a divalent substituted or unsubstituted methylene group, ethylene group, propylene group, and phenylene group, and R 2 is the same or different. Or a monovalent substituted or unsubstituted organic group having 1 to 10 carbon atoms selected from an aryl group, an alkyl group, an aralkyl group, and a halogenated alkyl group, and p may be the same or different. , M is an integer of 0 to 5, and n is an integer of 0 to 2.)
And (D) catalyst for hydrosilylation reaction: catalytic amount,
A curable organopolysiloxane composition comprising:
前記(B)成分が、
Figure 0005368379
で表される単位構造を10モル%以上含むオルガノポリシロキサンであることを特徴とする請求項1に記載の硬化性オルガノポリシロキサン組成物。
The component (B) is
Figure 0005368379
The curable organopolysiloxane composition according to claim 1, which is an organopolysiloxane containing 10 mol% or more of a unit structure represented by the formula:
請求項1又は請求項2に記載の硬化性オルガノポリシロキサン組成物の硬化物により半導体素子が被覆されていることを特徴とする半導体装置。   A semiconductor device, wherein a semiconductor element is coated with a cured product of the curable organopolysiloxane composition according to claim 1.
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