JP5363172B2 - Optical fiber - Google Patents

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本発明は光ファイバに関する。   The present invention relates to an optical fiber.

紫外線は、可視光や近紫外線光に比べて波長が短く、エネルギー密度が高いという特徴から、半導体プロセス、電子部品の微細加工、医療分野など幅広く利用されている。これらの用途における紫外線の発生光源としては、例えば、水銀ランプ、水銀キセノンランプ、エキシマレーザーが用いられる。また、紫外線を伝送する光デバイスとしては石英製の光ファイバが用いられる。   Ultraviolet rays are widely used in semiconductor processes, microfabrication of electronic parts, and medical fields because of their short wavelength and high energy density compared to visible light and near ultraviolet light. For example, a mercury lamp, a mercury xenon lamp, or an excimer laser is used as a light source for generating ultraviolet rays in these applications. A quartz optical fiber is used as an optical device that transmits ultraviolet rays.

ところで、石英製の光ファイバで紫外線を伝送する場合、紫外線伝送により高いエネルギー準位まで励起された電子と酸素イオンに結合することができなかった結晶欠陥との相互作用によってSiとOとの結合が切断されて紫外線吸収端が形成され、それによって紫外線の透過率が経時的に劣化することが知られている。また、かかる問題は、原子力発電所で使用されているイメージガイドファイバのように、放射線の環境下で石英製の光ファイバを使用しても同様の現象が生じることが知られている。   By the way, when ultraviolet rays are transmitted through an optical fiber made of quartz, the bond between Si and O is caused by the interaction between electrons excited to a high energy level by the ultraviolet ray transmission and crystal defects that could not be bonded to oxygen ions. Is cut to form an ultraviolet absorption edge, whereby the transmittance of ultraviolet rays is known to deteriorate over time. Moreover, it is known that the same phenomenon occurs even when such an optical fiber made of quartz is used in a radiation environment, such as an image guide fiber used in a nuclear power plant.

そこで、この問題を解消乃至軽減すべく、光ファイバ中に水素或いはフッ素をドープし酸素欠陥を修復する技術が知られている。光ファイバに水素をドープする方法としては、高圧水素処理装置を用いて光ファイバを高温高圧の水素雰囲気に暴露するものが挙げられる。また、特許文献1には、光ファイバの外周を水素拡散防止層で被覆し、光ファイバ中にドープした水素が経時的に外部に抜け出るのを抑制することが開示されている。   In order to solve or alleviate this problem, a technique for repairing oxygen defects by doping hydrogen or fluorine into an optical fiber is known. As a method for doping hydrogen into an optical fiber, there is a method in which an optical fiber is exposed to a high-temperature and high-pressure hydrogen atmosphere using a high-pressure hydrogen treatment apparatus. Patent Document 1 discloses that the outer periphery of an optical fiber is covered with a hydrogen diffusion preventing layer, and hydrogen doped in the optical fiber is prevented from escaping to the outside over time.

特開2003−321248号公報JP 2003-321248 A

本発明の課題は、光ファイバ中にドープされた水素が経時的に外部に抜け出るのを抑制することである。   An object of the present invention is to suppress hydrogen doped in an optical fiber from escaping to the outside over time.

本発明は、コアとそれを囲うように設けられたクラッドとを備えた紫外線伝送用途又は放射線環境下に暴露される用途に用いられる光ファイバであって、
上記コアは、水素及び/又はフッ素がドープされた石英で形成されており、
上記クラッドは、上記コアよりも低屈折率である内側の中実の第1クラッドと、該第1クラッドよりも高屈折率である外側の第2クラッドと、を含み、
上記第2クラッドには、上記コアを囲うと共に複数層を構成するように配設され、各々、該コアに沿って延びる複数の中空部が形成され、該複数の中空部には、水素、酸素、及びフッ素のうち少なくとも一種を含むガスが封入されている
The present invention is an optical fiber for use in an ultraviolet transmission application having a core and a cladding provided so as to surround the core, or an application exposed to a radiation environment ,
The core is made of quartz doped with hydrogen and / or fluorine,
The cladding includes an inner solid first cladding having a lower refractive index than the core, and an outer second cladding having a higher refractive index than the first cladding,
Above the second cladding, disposed so as to constitute a plurality of layers with surrounding the core, each plurality of hollow portion extending along the core is formed, the hollow portion of the plurality of hydrogen, A gas containing at least one of oxygen and fluorine is enclosed .

本発明によれば、水素及び/又はフッ素がドープされたコアを囲うクラッドにコアを囲うように複数の中空部が配設されているので、それらの中空部が障壁となってコアにドープされた水素が経時的に外部に抜け出るのを抑制することができる。   According to the present invention, since the plurality of hollow portions are disposed so as to surround the core in the clad surrounding the core doped with hydrogen and / or fluorine, the hollow portions serve as a barrier to be doped into the core. Hydrogen can be prevented from escaping to the outside over time.

実施形態1に係る光ファイバの斜視図である。1 is a perspective view of an optical fiber according to Embodiment 1. FIG. (a)〜(e)は実施形態1に係る光ファイバの製造方法を示す説明図である。(A)-(e) is explanatory drawing which shows the manufacturing method of the optical fiber which concerns on Embodiment 1. FIG. 実施形態2に係る光ファイバの斜視図である。6 is a perspective view of an optical fiber according to Embodiment 2. FIG. 実施形態3に係る光ファイバの斜視図である。6 is a perspective view of an optical fiber according to Embodiment 3. FIG. 実施形態4に係る光ファイバの斜視図である。6 is a perspective view of an optical fiber according to Embodiment 4. FIG. (a)〜(d)はその他の実施形態に係る光ファイバの斜視図である。(A)-(d) is a perspective view of the optical fiber which concerns on other embodiment. その他の実施形態に係る光ファイバの製造方法を示す説明図である。It is explanatory drawing which shows the manufacturing method of the optical fiber which concerns on other embodiment.

以下、実施形態について図面に基づいて説明する。   Hereinafter, embodiments will be described with reference to the drawings.

(実施形態1)
図1は実施形態1に係る光ファイバ心線10を示す。この実施形態1に係る光ファイバ心線10は、例えば、複数本が束ねられたバンドルとされて紫外線伝送用ライトガイド或いは放射線環境下に暴露されるイメージガイドとして用いられるものである。なお、紫外線とは、波長が170〜350nmの光であり、具体的には、波長337nmのNエキシマレーザー、波長308nmのXeClエキシマレーザー、波長248nmのKrFエキシマレーザー、波長222nmのKrClエキシマレーザー、波長193nmのArFエキシマレーザー、波長172nmのXeエキシマレーザー、波長265nmのNd:YAG第4高調波レーザー、波長212nmのNd:YAG第5高調波レーザーが挙げられる。
(Embodiment 1)
FIG. 1 shows an optical fiber core wire 10 according to the first embodiment. The optical fiber core wire 10 according to the first embodiment is used as, for example, a bundle in which a plurality of optical fibers are bundled and used as an ultraviolet light transmission light guide or an image guide exposed to a radiation environment. The ultraviolet light is light having a wavelength of 170 to 350 nm, specifically, an N 2 excimer laser having a wavelength of 337 nm, an XeCl excimer laser having a wavelength of 308 nm, a KrF excimer laser having a wavelength of 248 nm, a KrCl excimer laser having a wavelength of 222 nm, Examples include ArF excimer laser with a wavelength of 193 nm, Xe 2 excimer laser with a wavelength of 172 nm, Nd: YAG fourth harmonic laser with a wavelength of 265 nm, and Nd: YAG fifth harmonic laser with a wavelength of 212 nm.

実施形態1に係る光ファイバ心線10は、石英製の光ファイバFが樹脂製の被覆層14で被覆された構成を有する。この光ファイバ心線10は、例えば、心線長が1〜10m、及び心線径が0.4〜2.0mmである。   The optical fiber core wire 10 according to the first embodiment has a configuration in which an optical fiber F made of quartz is covered with a coating layer 14 made of resin. The optical fiber core 10 has, for example, a core length of 1 to 10 m and a core diameter of 0.4 to 2.0 mm.

光ファイバFは、コア11とそれを囲うように設けられた第1クラッド12とそれをさらに囲うように設けられた第2クラッド13とを有する。光ファイバFのファイバ径は例えば0.2〜1.0mmである。   The optical fiber F includes a core 11, a first clad 12 provided so as to surround the core 11, and a second clad 13 provided so as to further surround the core. The fiber diameter of the optical fiber F is, for example, 0.2 to 1.0 mm.

コア11は、水素及び/又はフッ素がドープされた石英で形成されている。従って、コア11には、水素のみがドープされていてもよく、また、フッ素のみがドープされていてもよく、さらに、水素及びフッ素の両方がドープされていてもよい。水素の濃度は1.6×1017〜9.8×1017分子/cmであることが好ましく、1.8×1017〜9.5×1017分子/cmであることがより好ましい。水素濃度を定量するOH基濃度としては400〜2000ppm(質量分率、以下同じ)であることが好ましく、500〜1200ppmであることがより好ましい。フッ素の濃度は500〜2000ppmであることが好ましい。特に、放射線環境下で使用される場合には、放射線耐性はフッ素濃度に大きく影響されるため、水素ドープよりもフッ素ドープが好ましく、その際も、フッ素濃度は500〜2000ppmであることが好ましい。コア11には、その他に、例えば、Pが500〜10000ppm、BFが500〜40000ppm、Geが500〜20000ppm、Alが10000〜40000ppm、Erが100〜10000ppm等ドープされていてもよい。但し、放射線環境下で使用される場合には、放射線特性を悪化させることからコア11にはClが含まれないことが好ましい。コア径は例えば50〜400μmである。 The core 11 is made of quartz doped with hydrogen and / or fluorine. Accordingly, the core 11 may be doped with only hydrogen, may be doped with only fluorine, or may be doped with both hydrogen and fluorine. The concentration of hydrogen is preferably 1.6 × 10 17 to 9.8 × 10 17 molecules / cm 3 , and more preferably 1.8 × 10 17 to 9.5 × 10 17 molecules / cm 3. . The OH group concentration for quantifying the hydrogen concentration is preferably 400 to 2000 ppm (mass fraction, the same shall apply hereinafter), and more preferably 500 to 1200 ppm. The concentration of fluorine is preferably 500 to 2000 ppm. In particular, when used in a radiation environment, radiation resistance is greatly affected by the fluorine concentration, so fluorine doping is preferable to hydrogen doping, and in that case, the fluorine concentration is preferably 500 to 2000 ppm. In addition, the core 11 may be doped with, for example, P of 500 to 10000 ppm, BF 3 of 500 to 40000 ppm, Ge of 500 to 20000 ppm, Al of 10,000 to 40000 ppm, and Er of 100 to 10,000 ppm. However, when used in a radiation environment, it is preferable that Cl is not contained in the core 11 because the radiation characteristics are deteriorated. The core diameter is, for example, 50 to 400 μm.

第1クラッド12は、コア11よりも低屈折率の石英材料、例えば、FやBFがドープされた石英で中実に形成されている。F或いはBFの濃度は、コア11との屈折率差が1〜1.2%程度となって、コア11のNAが0.2〜0.23となるように、30000〜50000ppmであることが好ましく、40000〜45000ppmであることがより好ましい。第1クラッド12の層厚さは例えば55〜440μmである。 The first cladding 12 is solidly formed of a quartz material having a lower refractive index than that of the core 11, for example, quartz doped with F or BF 3 . The concentration of F or BF 3 is 30000-50000 ppm so that the refractive index difference with the core 11 is about 1 to 1.2% and the NA of the core 11 is 0.2 to 0.23. Is more preferable, and it is more preferable that it is 40000-45000 ppm. The layer thickness of the first cladding 12 is, for example, 55 to 440 μm.

第2クラッド13は、純粋石英で形成されていてもよいが、水素がドープされた石英で形成されていることが好ましい。第2クラッド13の層厚さは例えば125〜500μmである。   The second cladding 13 may be made of pure quartz, but is preferably made of quartz doped with hydrogen. The layer thickness of the second cladding 13 is, for example, 125 to 500 μm.

第2クラッド13には、各々、コア11に沿って延び、そのコア11を囲うように配設された複数の中空部15が形成されており、それらがコア11を囲う単一層を構成している。複数の中空部15の大きさは均一であってもよく、また、不均一であってもよい。複数の中空部15は、相互に均等に離間して設けられていてもよく、また、相互に不均等に離間して設けられていてもよい。中空部15は、例えば、数が80〜150個であり、内径が10〜40μm、肉厚は0.1〜10μmである。NAを大きくし伝播特性を高めるためには、この内径は大きく、肉厚は薄いことが好ましい。   Each of the second claddings 13 is formed with a plurality of hollow portions 15 extending along the core 11 and arranged so as to surround the core 11, and these constitute a single layer surrounding the core 11. Yes. The size of the plurality of hollow portions 15 may be uniform or non-uniform. The plurality of hollow portions 15 may be provided evenly spaced from each other or may be provided non-uniformly spaced from each other. The hollow portion 15 has, for example, a number of 80 to 150, an inner diameter of 10 to 40 μm, and a wall thickness of 0.1 to 10 μm. In order to increase the NA and improve the propagation characteristics, it is preferable that the inner diameter is large and the wall thickness is thin.

このように第2クラッド13にコア11を囲うように複数の中空部15が配設されていることにより、これらの中空部15が障壁となってコア11にドープされた水素及び/又はフッ素が経時的に外部に抜け出るのを抑制することができる。そして、その結果、水素(特に紫外線伝送用途)或いはフッ素(特に放射線環境下使用用途)による酸素欠陥の修復が適正になされ、透過率の経時的な劣化を小さくすることができる。また、中空部15によりコア11を伝送する光の漏れを抑制することができ、そのため漏れ光による樹脂製の被覆層14の劣化を抑えることができる。   As described above, the plurality of hollow portions 15 are disposed in the second clad 13 so as to surround the core 11, so that these hollow portions 15 serve as a barrier so that hydrogen and / or fluorine doped in the core 11 can be prevented. It is possible to suppress escape to the outside over time. As a result, oxygen defects are properly repaired by hydrogen (especially for ultraviolet light transmission) or fluorine (especially for use in a radiation environment), and the deterioration of transmittance over time can be reduced. In addition, leakage of light transmitted through the core 11 can be suppressed by the hollow portion 15, and therefore deterioration of the resin coating layer 14 due to leakage light can be suppressed.

中空部15は、両端が封止されて、内部に酸素、水素、及びフッ素のうち少なくとも一種を含むガスが封入されていてもよい。この中空部15に封入された酸素、水素、或いはフッ素による酸素欠陥の修復を期待することができる。封入ガスの圧力は90〜200kPaであることが好ましく、110〜130Paであることがより好ましい。封入ガス中の酸素の分圧は、その0〜20%であることが好ましく、2〜10%であることがより好ましい。封入ガス中の水素の分圧は、その80〜100%であることが好ましく、90〜98%であることがより好ましい。封入ガス中のフッ素の分圧は、その0〜20%であることが好ましく、2〜10%であることがより好ましい。   Both ends of the hollow portion 15 may be sealed, and a gas containing at least one of oxygen, hydrogen, and fluorine may be sealed therein. It can be expected that oxygen vacancies are repaired by oxygen, hydrogen, or fluorine sealed in the hollow portion 15. The pressure of the enclosed gas is preferably 90 to 200 kPa, and more preferably 110 to 130 Pa. The partial pressure of oxygen in the sealed gas is preferably 0 to 20%, more preferably 2 to 10%. The partial pressure of hydrogen in the sealed gas is preferably 80 to 100%, more preferably 90 to 98%. The partial pressure of fluorine in the sealed gas is preferably 0 to 20%, more preferably 2 to 10%.

被覆層14は、例えば、フッ素樹脂で形成されている。被覆層14の層厚さは例えば0.1〜0.5mmである。   The covering layer 14 is made of, for example, a fluororesin. The layer thickness of the coating layer 14 is, for example, 0.1 to 0.5 mm.

次に、実施形態1に係る光ファイバ心線10の製造方法の一例について説明する。   Next, an example of the manufacturing method of the optical fiber core wire 10 according to the first embodiment will be described.

まず、図2(a)に示すように、旋盤に取り付けた石英パイプ30に5〜10L/minの流量で酸素を流しながら外側から火炎を当てて1200〜1400℃で空焼きを行った後、0.04〜0.1L/minの流量で塩素を流して1000〜1200℃で洗浄する。石英パイプ30は、例えば、長さが400〜800mm、外径が28〜34mm、及び肉厚が1.5〜4.0mmである。石英パイプ30は、結晶性を損なわない範囲でOH基濃度が高いことが好ましく、OH基濃度が500〜1200ppmであることが好ましい。なお、石英パイプ30へのOH基のドープは高温高圧電気炉を用いて行うことができる。   First, as shown in FIG. 2 (a), after carrying out air baking at 1200 to 1400 ° C. by applying a flame from outside while flowing oxygen at a flow rate of 5 to 10 L / min to the quartz pipe 30 attached to the lathe, Cleaning is performed at 1000 to 1200 ° C. with chlorine flowing at a flow rate of 0.04 to 0.1 L / min. The quartz pipe 30 has, for example, a length of 400 to 800 mm, an outer diameter of 28 to 34 mm, and a wall thickness of 1.5 to 4.0 mm. The quartz pipe 30 preferably has a high OH group concentration within a range that does not impair the crystallinity, and preferably has an OH group concentration of 500 to 1200 ppm. The OH group dope into the quartz pipe 30 can be performed using a high-temperature high-pressure electric furnace.

次いで、図2(b)に示すように、MCVD(Modified Chemical Vapor Deposition )法により、石英パイプ30に、0.5〜1L/minの流量でSiCl、0.4〜0.8L/minの流量でキャリアガス(He)、0.4〜1.0L/minの流量で酸素、及び0.1〜0.5L/minの流量で水素を流しながら外側から火炎を当てて1600〜1750℃で内部にコア形成部31を堆積させると共にそれを透明化する。このとき、コア11のNA制御のために同時にGeClやAlClを流してもよい。 Next, as shown in FIG. 2B, SiCl 4 and 0.4 to 0.8 L / min are applied to the quartz pipe 30 at a flow rate of 0.5 to 1 L / min by the MCVD (Modified Chemical Vapor Deposition) method. A carrier gas (He) at a flow rate, oxygen at a flow rate of 0.4 to 1.0 L / min, and hydrogen at a flow rate of 0.1 to 0.5 L / min. The core forming part 31 is deposited inside and made transparent. At this time, GeCl 4 or AlCl 4 may be supplied simultaneously for NA control of the core 11.

次いで、外周の石英パイプ30の部分を研削して除去し、図2(c)に示すように、OVD(Outside Vapor Deposition)法により、コア形成部31を芯材として外周に材料ガスを含有する火炎を当てて1500〜1600℃でFやBFがドープされた石英の第1クラッド形成部32を堆積させると共にそれを透明化する。このとき、ロッド状のコア形成部31及び第1クラッド形成部32の一体物が形成されるが、その外径は17〜20mmである。 Next, the outer peripheral quartz pipe 30 is removed by grinding, and as shown in FIG. 2C, a material gas is contained in the outer periphery by using the core forming portion 31 as a core material by an OVD (Outside Vapor Deposition) method. A first clad forming part 32 made of quartz doped with F or BF 3 is deposited at 1500 to 1600 ° C. by applying a flame and made transparent. At this time, an integrated body of the rod-shaped core forming part 31 and the first cladding forming part 32 is formed, and the outer diameter thereof is 17 to 20 mm.

続いて、図2(d)に示すように、石英製の第2クラッド形成パイプ33に、ロッド状のコア形成部31及び第1クラッド形成部32の一体物を同軸に挿入すると共に、それらの間隙に中空部15を形成するための石英キャピラリ35を充填し、それをファイバ母材40とする。第2クラッド形成パイプ33は、例えば、長さが350〜500mm、外径が26〜29mm、及び肉厚が5〜6mmである。石英キャピラリ35は、例えば、長さが350〜500mm、外径が0.5〜0.8mm、及び肉厚が40〜50μmである。第2クラッド形成パイプ33及び石英キャピラリ35は、いずれも純粋石英で形成されていてもよいが、水素がドープされた石英で形成されていることが好ましい。それらは、結晶性を損なわない範囲でOH基濃度が高いことが好ましく、OH基濃度が500〜1200ppmであることが好ましい。なお、それらへのOH基のドープは高温高圧電気炉を用いて行うことができる。   Subsequently, as shown in FIG. 2D, the rod-shaped core forming portion 31 and the first clad forming portion 32 are inserted coaxially into the second clad forming pipe 33 made of quartz, and those A quartz capillary 35 for forming the hollow portion 15 in the gap is filled and used as a fiber preform 40. The second clad forming pipe 33 has, for example, a length of 350 to 500 mm, an outer diameter of 26 to 29 mm, and a wall thickness of 5 to 6 mm. For example, the quartz capillary 35 has a length of 350 to 500 mm, an outer diameter of 0.5 to 0.8 mm, and a wall thickness of 40 to 50 μm. The second cladding forming pipe 33 and the quartz capillary 35 may both be made of pure quartz, but are preferably made of quartz doped with hydrogen. They preferably have a high OH group concentration as long as the crystallinity is not impaired, and the OH group concentration is preferably 500 to 1200 ppm. In addition, dope of OH group to them can be performed using a high-temperature high-pressure electric furnace.

そして、図2(e)に示すように、ファイバ母材40を線引き機50にセットし、炉内温度を2030〜2100℃及び線引き速度を8〜10m/sとして光ファイバFを線引きし、それをフッ素樹脂浴に通すことにより被覆層14を設けて光ファイバ心線10を得る。このとき、線引き中に石英キャピラリ35内の圧力が高まるようにガスを封入して両端を封止しておいてもよい。また、石英キャピラリ35に継続してガスを流入させてもよい。ガスの圧力は105〜150kPaであることが好ましく、110〜120kPaであることがより好ましい。ガスは酸素及び水素のうち少なくとも一方を含むことが好ましい。その場合、ガス中の酸素の分圧は、その10〜40%であることが好ましく、15〜20%であることがより好ましい。ガス中の水素の分圧は、その60〜90%であることが好ましく、80〜85%であることがより好ましい。さらに、線引き加工の周辺雰囲気を酸素及び水素のうち少なくとも一方を含む雰囲気とすることが好ましい。その場合、酸素の分圧は10〜40%であることが好ましく、15〜20%であることがより好ましい。水素の分圧は60〜90%であることが好ましく、80〜85%であることがより好ましい。なお、高温で線引き加工を行った場合には、水素が抜けやすくなることから、線引き路から一定の距離をおいて第2の炉を設け、そこで600〜900℃で加熱することにより水素が抜けるのを抑制してもよい。   Then, as shown in FIG. 2 (e), the fiber preform 40 is set in the drawing machine 50, the optical fiber F is drawn at a furnace temperature of 2030 to 2100 ° C. and a drawing speed of 8 to 10 m / s, Is passed through a fluororesin bath to provide the coating layer 14 to obtain the optical fiber core wire 10. At this time, both ends may be sealed by filling gas so that the pressure in the quartz capillary 35 is increased during drawing. Further, the gas may be continuously flowed into the quartz capillary 35. The gas pressure is preferably 105 to 150 kPa, more preferably 110 to 120 kPa. The gas preferably contains at least one of oxygen and hydrogen. In that case, the partial pressure of oxygen in the gas is preferably 10 to 40%, more preferably 15 to 20%. The partial pressure of hydrogen in the gas is preferably 60 to 90%, more preferably 80 to 85%. Furthermore, it is preferable that the atmosphere surrounding the drawing process is an atmosphere containing at least one of oxygen and hydrogen. In that case, the partial pressure of oxygen is preferably 10 to 40%, more preferably 15 to 20%. The partial pressure of hydrogen is preferably 60 to 90%, and more preferably 80 to 85%. In addition, when drawing is performed at a high temperature, it is easy for hydrogen to escape. Therefore, a second furnace is provided at a certain distance from the drawing path, and hydrogen is released by heating at 600 to 900 ° C. there. May be suppressed.

(実施形態2)
図3は実施形態2に係る光ファイバ心線20を示す。この実施形態2に係る光ファイバ心線20も、例えば、複数本が束ねられたバンドルとされて紫外線伝送用ライトガイド或いは放射線環境下に暴露されるイメージガイドとして用いられるものである。
(Embodiment 2)
FIG. 3 shows an optical fiber core wire 20 according to the second embodiment. The optical fiber core wire 20 according to the second embodiment is also used, for example, as a bundle in which a plurality of optical fibers are bundled and used as a light guide for ultraviolet transmission or an image guide exposed to a radiation environment.

実施形態2に係る光ファイバ心線20では、光ファイバFは、コア21とそれを囲うように設けられたクラッド23とを有する。光ファイバFのファイバ径は例えば0.2〜1.0mmである。   In the optical fiber core wire 20 according to the second embodiment, the optical fiber F includes a core 21 and a clad 23 provided so as to surround the core 21. The fiber diameter of the optical fiber F is, for example, 0.2 to 1.0 mm.

コア21は、水素及び/又はフッ素がドープされた石英で形成されている。従って、コア21には、水素のみがドープされていてもよく、また、フッ素のみがドープされていてもよく、さらに、水素及びフッ素の両方がドープされていてもよい。水素の濃度は1.6×1017〜9.8×1017分子/cmであることが好ましく、1.8×1017〜9.5×1017分子/cmであることがより好ましい。水素濃度を定量するOH基濃度としては400〜2000ppmであることが好ましく、500〜1200ppmであることがより好ましい。フッ素の濃度は500〜2000ppmであることが好ましい。特に、放射線環境下で使用される場合には、放射線耐性はフッ素濃度に大きく影響されるため、水素ドープよりもフッ素ドープが好ましく、その際も、フッ素濃度は500〜2000ppmであることが好ましい。コア21には、その他に、例えば、Pが500〜10000ppm、BFが500〜40000ppm、Geが500〜20000ppm、Alが500〜40000ppm、Erが100〜10000ppm等ドープされていてもよい。但し、放射線環境下で使用される場合には、放射線特性を悪化させることからコア21にはClが含まれないことが好ましい。コア径は例えば50〜400μmである。 The core 21 is made of quartz doped with hydrogen and / or fluorine. Accordingly, the core 21 may be doped with only hydrogen, may be doped with only fluorine, or may be doped with both hydrogen and fluorine. The concentration of hydrogen is preferably 1.6 × 10 17 to 9.8 × 10 17 molecules / cm 3 , and more preferably 1.8 × 10 17 to 9.5 × 10 17 molecules / cm 3. . The OH group concentration for quantifying the hydrogen concentration is preferably 400 to 2000 ppm, more preferably 500 to 1200 ppm. The concentration of fluorine is preferably 500 to 2000 ppm. In particular, when used in a radiation environment, radiation resistance is greatly affected by the fluorine concentration, so fluorine doping is preferable to hydrogen doping, and in that case, the fluorine concentration is preferably 500 to 2000 ppm. In addition, the core 21 may be doped with, for example, P of 500 to 10000 ppm, BF 3 of 500 to 40000 ppm, Ge of 500 to 20000 ppm, Al of 500 to 40000 ppm, and Er of 100 to 10,000 ppm. However, when used in a radiation environment, it is preferable that Cl is not contained in the core 21 because radiation characteristics are deteriorated. The core diameter is, for example, 50 to 400 μm.

クラッド23は、純粋石英で形成されていてもよいが、水素がドープされた石英で形成されていることが好ましい。クラッド23の層厚さは例えば125〜500μmである。   The clad 23 may be made of pure quartz, but is preferably made of quartz doped with hydrogen. The layer thickness of the clad 23 is, for example, 125 to 500 μm.

クラッド23には、各々、コア21に沿って延び、そのコア21を囲うように配設された複数の中空部25が形成されており、それらがコア21を囲う単一層を構成している。複数の中空部25の大きさは均一であってもよく、また、不均一であってもよい。複数の中空部25は、相互に均等に離間して設けられていてもよく、また、相互に不均等に離間して設けられていてもよい。中空部25は、例えば、数が80〜150個であり、内径が10〜40μm、肉厚は0.1〜1.0μmである。NAを大きくし伝播特性を高めるためには、この内径は大きく、肉厚は薄いことが好ましい。   Each of the clads 23 is formed with a plurality of hollow portions 25 extending along the core 21 and disposed so as to surround the core 21, and these constitute a single layer surrounding the core 21. The size of the plurality of hollow portions 25 may be uniform or non-uniform. The plurality of hollow portions 25 may be provided evenly spaced from each other or may be provided non-uniformly spaced from each other. The hollow portion 25 has, for example, a number of 80 to 150, an inner diameter of 10 to 40 μm, and a wall thickness of 0.1 to 1.0 μm. In order to increase the NA and improve the propagation characteristics, it is preferable that the inner diameter is large and the wall thickness is thin.

この実施形態2に係る光ファイバ心線20は、上記実施形態1に係る光ファイバ心線10の製造方法において、母材作成時に第1クラッド形成部32の堆積を行わないことにより製造することができる。   The optical fiber core wire 20 according to the second embodiment can be manufactured by not depositing the first clad forming portion 32 when forming the base material in the manufacturing method of the optical fiber core wire 10 according to the first embodiment. it can.

この実施形態2に係る光ファイバ心線20では、コア21の直ぐ外側に中空部25が設けられているので、中空部25による水素が経時的に外部に抜け出るのを抑制する効果及びコア21を伝送する光の漏れを抑制する効果をより顕著に得ることができる。また、実施形態1に係る光ファイバ心線10のような第1クラッド12を形成しないので、その点でコストが低くなる。   In the optical fiber core wire 20 according to the second embodiment, since the hollow portion 25 is provided just outside the core 21, the effect of suppressing the escape of hydrogen by the hollow portion 25 to the outside over time and the core 21 The effect of suppressing leakage of transmitted light can be obtained more remarkably. Moreover, since the 1st clad | crud 12 like the optical fiber core wire 10 concerning Embodiment 1 is not formed, cost becomes low at the point.

その他の構成、及び作用効果は実施形態1と同一である。   Other configurations and operational effects are the same as those of the first embodiment.

(実施形態3)
図4は実施形態3に係る光ファイバ心線10を示す。この実施形態3に係る光ファイバ心線10も、例えば、複数本が束ねられたバンドルとされて紫外線伝送用ライトガイド或いは放射線環境下に暴露されるイメージガイドとして用いられるものである。なお、実施形態1と同一名称の部分は実施形態1と同一符号で示す。
(Embodiment 3)
FIG. 4 shows an optical fiber core wire 10 according to the third embodiment. The optical fiber core wire 10 according to the third embodiment is also used as, for example, a bundle of a plurality of bundles, and is used as an ultraviolet light transmission light guide or an image guide exposed to a radiation environment. In addition, the part of the same name as Embodiment 1 is shown with the same code | symbol as Embodiment 1. FIG.

実施形態3に係る光ファイバ心線10では、実施形態1に係る光ファイバ心線10に対比して、第2クラッド12に、各々、コア11に沿って延び、そのコア11を囲うように配設された複数の中空部15が形成されており、それらがコア11を囲う複数層を構成している。例えば、図4では二層の中空部15が設けられているが、内側層と外側層とで中空部15の数は同一であってもよく、また、内側層の中空部15の数が外側層の中空部15の数よりも多くてもよく、さらに、内側層の中空部15の数が外側層の中空部15の数よりも少なくてもよい。内側層及び外側層のそれぞれの層の中空部15の大きさは均一であってもよく、また、不均一であってもよい。内側層と外側層とで中空部15の大きさは同一であってもよく、また、異なっていてもよい。内側層及び外側層のそれぞれの層の中空部15は、相互に均等に離間して設けられていてもよく、また、相互に不均等に離間して設けられていてもよい。内側層の中空部15は、例えば、数が80〜150個であり、内径が10〜40μmである。外側層の中空部15は、例えば、数が80〜150個であり、内径が10〜40μmである。   In the optical fiber core wire 10 according to the third embodiment, compared with the optical fiber core wire 10 according to the first embodiment, the second clad 12 extends along the core 11 and surrounds the core 11. A plurality of provided hollow portions 15 are formed, and they constitute a plurality of layers surrounding the core 11. For example, in FIG. 4, two hollow portions 15 are provided, but the number of hollow portions 15 may be the same between the inner layer and the outer layer, and the number of hollow portions 15 in the inner layer is the outer side. The number of the hollow portions 15 of the layer may be larger, and the number of the hollow portions 15 of the inner layer may be smaller than the number of the hollow portions 15 of the outer layer. The size of the hollow portion 15 in each of the inner layer and the outer layer may be uniform or non-uniform. The size of the hollow portion 15 may be the same between the inner layer and the outer layer, or may be different. The hollow portions 15 of the inner layer and the outer layer may be provided so as to be evenly spaced from each other, or may be provided so as to be non-uniformly spaced from each other. The hollow part 15 of the inner layer has, for example, a number of 80 to 150 and an inner diameter of 10 to 40 μm. The hollow part 15 of the outer layer has, for example, a number of 80 to 150 and an inner diameter of 10 to 40 μm.

この実施形態3に係る光ファイバ心線10では、中空部15が周期性を持つ複数層に設けられ、フォトニック結晶特性を持たせることにより、中空部15による水素が経時的に外部に抜け出るのを抑制する効果及びコア11を伝送する光の漏れを抑制する効果をより顕著に得ることができる。かかる観点からは、中空部15間の距離が伝送光の波長の半分以下であることが好ましい。   In the optical fiber core wire 10 according to the third embodiment, the hollow portion 15 is provided in a plurality of layers having periodicity, and by providing photonic crystal characteristics, hydrogen from the hollow portion 15 escapes to the outside over time. And the effect of suppressing leakage of light transmitted through the core 11 can be obtained more remarkably. From such a viewpoint, it is preferable that the distance between the hollow portions 15 is not more than half the wavelength of the transmitted light.

その他の構成、及び作用効果は実施形態1と同一である。   Other configurations and operational effects are the same as those of the first embodiment.

(実施形態4)
図5は実施形態4に係る光ファイバ心線20を示す。この実施形態4に係る光ファイバ心線20も、例えば、複数本が束ねられたバンドルとされて紫外線伝送用ライトガイド或いは放射線環境下に暴露されるイメージガイドとして用いられるものである。なお、実施形態2と同一名称の部分は実施形態2と同一符号で示す。
(Embodiment 4)
FIG. 5 shows an optical fiber core wire 20 according to the fourth embodiment. The optical fiber core wire 20 according to the fourth embodiment is also used as, for example, a bundle of a plurality of bundles and used as a light guide for ultraviolet transmission or an image guide exposed to a radiation environment. In addition, the part of the same name as Embodiment 2 is shown with the same code | symbol as Embodiment 2. FIG.

実施形態4に係る光ファイバ心線20では、実施形態2に係る光ファイバ心線20に対比して、クラッド23に、各々、コア21に沿って延び、そのコア21を囲うように配設された複数の中空部25が形成されており、それらがコア21を囲う複数層を構成している。例えば、図5では二層の中空部25が設けられているが、内側層と外側層とで中空部25の数は同一であってもよく、また、内側層の中空部25の数が外側層の中空部25の数よりも多くてもよく、さらに、内側層の中空部25の数が外側層の中空部25の数よりも少なくてもよい。内側層及び外側層のそれぞれの層の中空部25の大きさは均一であってもよく、また、不均一であってもよい。内側層と外側層とで中空部25の大きさは同一であってもよく、また、異なっていてもよい。内側層及び外側層のそれぞれの層の中空部25は、相互に均等に離間して設けられていてもよく、また、相互に不均等に離間して設けられていてもよい。内側層の中空部25は、例えば、数が80〜150個であり、内径が10〜40μmである。NAを大きくし伝播特性を高めるためには内径は大きく、肉厚は薄くすることが好ましい。外側層の中空部25は、例えば、数が80〜150個であり、内径が10〜40μmである。特に、フォトニック結晶性質を有効に発揮させるためには周期性を持たせたほうが好ましい。   In the optical fiber core wire 20 according to the fourth embodiment, as compared with the optical fiber core wire 20 according to the second embodiment, the clad 23 is disposed so as to extend along the core 21 and surround the core 21. A plurality of hollow portions 25 are formed, and they constitute a plurality of layers surrounding the core 21. For example, in FIG. 5, two hollow portions 25 are provided, but the number of hollow portions 25 may be the same between the inner layer and the outer layer, and the number of hollow portions 25 in the inner layer is the outer side. The number of the hollow portions 25 of the layer may be larger, and the number of the hollow portions 25 of the inner layer may be smaller than the number of the hollow portions 25 of the outer layer. The size of the hollow portion 25 of each of the inner layer and the outer layer may be uniform or non-uniform. The size of the hollow portion 25 may be the same between the inner layer and the outer layer, or may be different. The hollow portions 25 of the inner layer and the outer layer may be provided so as to be evenly spaced from each other, or may be provided so as to be non-uniformly spaced from each other. The hollow part 25 of the inner layer has, for example, a number of 80 to 150 and an inner diameter of 10 to 40 μm. In order to increase NA and improve propagation characteristics, it is preferable to increase the inner diameter and reduce the wall thickness. The hollow portion 25 of the outer layer has, for example, a number of 80 to 150 and an inner diameter of 10 to 40 μm. In particular, it is preferable to have periodicity in order to effectively exhibit the photonic crystal properties.

この実施形態4に係る光ファイバ心線20では、中空部25が複数層に設けられ、フォトニック結晶性質を持たせることにより、中空部25による水素が経時的に外部に抜け出るのを抑制する効果及びコア21を伝送する光の漏れを抑制する効果をより顕著に得ることができる。かかる観点からは、中空部25間の距離が伝送光の波長の半分以下であることが好ましい。   In the optical fiber core wire 20 according to the fourth embodiment, the hollow portion 25 is provided in a plurality of layers and has the photonic crystal property, thereby suppressing the hydrogen from the hollow portion 25 from escaping to the outside over time. And the effect which suppresses the leakage of the light which transmits the core 21 can be acquired more notably. From such a viewpoint, it is preferable that the distance between the hollow portions 25 is not more than half of the wavelength of the transmitted light.

その他の構成、及び作用効果は実施形態2と同一である。   Other configurations and operational effects are the same as those of the second embodiment.

(その他の実施形態)
実施形態1〜4では、光ファイバFを樹脂製の被覆層14,24で被覆した光ファイバ心線10,20としたが、特にこれに限定されるものではなく、図6(a)〜(d)に示すようにAl層16,26で被覆した構成であってもよい。Al層16,26の厚さは例えば50〜300μmである。このようなAl層16,26により被覆された光ファイバ心線10,20は、図7に示すように、線引き後の光ファイバFをAl被覆装置60において690〜750℃に加熱した溶融Al浴及びダイスを通して冷却することにより製造することができる。Al被服状態は線引き速度及びAlダイス温度によって影響されるために注意が必要。このAl層16,26は、樹脂のように伝送する紫外線により劣化することがなく、また、外部への伝送する紫外線の漏れを抑制することにより安全性を高め、さらに、それ自体にOH基を多く閉じ込めるためOH基(水素源)の外部放出を抑制する。
(Other embodiments)
In the first to fourth embodiments, the optical fiber cores 10 and 20 are formed by coating the optical fiber F with the resin coating layers 14 and 24. However, the present invention is not particularly limited to this, and FIGS. As shown in d), the structure covered with the Al layers 16 and 26 may be used. The thickness of the Al layers 16 and 26 is, for example, 50 to 300 μm. As shown in FIG. 7, the optical fiber cores 10 and 20 coated with such Al layers 16 and 26 are molten Al baths in which the optical fiber F after drawing is heated to 690 to 750 ° C. in the Al coating apparatus 60. And can be produced by cooling through a die. Care must be taken because the Al clothing condition is affected by the drawing speed and Al die temperature. The Al layers 16 and 26 are not deteriorated by the transmitted ultraviolet rays as in the case of the resin, and the safety is improved by suppressing leakage of the transmitted ultraviolet rays to the outside. In order to confine many, OH group (hydrogen source) emission is suppressed.

上記実施形態1〜4では、石英キャピラリ35を用いてファイバ母材40を作製する光ファイバ心線10の製造方法を示したが、特にこれに限定されるものではなく、例えば、円柱体に中空部15,25を形成するための穿孔をしてファイバ母材を作製してもよい。   In the said Embodiment 1-4, although the manufacturing method of the optical fiber core wire 10 which produces the fiber preform | base_material 40 using the quartz capillary 35 was shown, it is not limited to this in particular, For example, it is hollow in a cylindrical body A fiber preform may be produced by perforating to form the portions 15 and 25.

本発明は光ファイバについて有用である。   The present invention is useful for optical fibers.

F 光ファイバ
10,20 光ファイバ心線
11,21 コア
12 第1クラッド
13 第2クラッド
14,24 被覆層
15,25 中空部
16,26 Al層
23 クラッド
30 石英パイプ
31 コア形成部
32 第1クラッド形成部
33 第2クラッド形成パイプ
35 石英キャピラリ
40 母材
50 線引き機
60 Al被覆装置
F Optical fibers 10 and 20 Optical fiber core wires 11 and 21 Core 12 First clad 13 Second clad 14 and 24 Cover layers 15 and 25 Hollow portion 16 and 26 Al layer 23 Cladding 30 Quartz pipe 31 Core forming portion 32 First clad Forming part 33 Second clad forming pipe 35 Quartz capillary 40 Base material 50 Drawing machine 60 Al coating device

Claims (10)

コアとそれを囲うように設けられたクラッドとを備えた紫外線伝送用途又は放射線環境下に暴露される用途に用いられる光ファイバであって、
上記コアは、水素及び/又はフッ素がドープされた石英で形成されており、
上記クラッドは、上記コアよりも低屈折率である内側の中実の第1クラッドと、該第1クラッドよりも高屈折率である外側の第2クラッドと、を含み、
上記第2クラッドには、上記コアを囲うと共に複数層を構成するように配設され、各々、該コアに沿って延びる複数の中空部が形成され、該複数の中空部には、水素、酸素、及びフッ素のうち少なくとも一種を含むガスが封入されている光ファイバ。
An optical fiber used in an ultraviolet transmission application having a core and a clad provided so as to surround the core or an application exposed to a radiation environment ,
The core is made of quartz doped with hydrogen and / or fluorine,
The cladding includes an inner solid first cladding having a lower refractive index than the core, and an outer second cladding having a higher refractive index than the first cladding,
Above the second cladding, disposed so as to constitute a plurality of layers with surrounding the core, each plurality of hollow portion extending along the core is formed, the hollow portion of the plurality of hydrogen, An optical fiber in which a gas containing at least one of oxygen and fluorine is enclosed .
請求項1に記載された光ファイバにおいて、The optical fiber according to claim 1, wherein
上記コアは、フッ素がドープされた石英で形成されている光ファイバ。The core is an optical fiber made of quartz doped with fluorine.
請求項1又は2に記載された光ファイバにおいて、The optical fiber according to claim 1 or 2,
上記コアのコア径が50〜400μmである光ファイバ。An optical fiber having a core diameter of 50 to 400 μm.
請求項1乃至3のいずれかに記載された光ファイバにおいて、The optical fiber according to any one of claims 1 to 3,
上記第1クラッドがF又はBFThe first cladding is F or BF 3 がドープされた石英で形成されている光ファイバ。An optical fiber made of quartz doped with.
請求項1乃至4のいずれかに記載された光ファイバにおいて、The optical fiber according to any one of claims 1 to 4,
第1クラッドの層厚さが55〜440μmである光ファイバ。An optical fiber having a first cladding layer thickness of 55 to 440 μm.
請求項1乃至5のいずれかに記載された光ファイバにおいて、The optical fiber according to any one of claims 1 to 5,
上記第2クラッドが純粋石英で形成されている光ファイバ。An optical fiber in which the second cladding is made of pure quartz.
請求項1乃至6のいずれかに記載された光ファイバにおいて、The optical fiber according to any one of claims 1 to 6,
上記複数の中空部は内側層と外側層との二層に設けられている光ファイバ。The plurality of hollow portions are optical fibers provided in two layers of an inner layer and an outer layer.
請求項7に記載された光ファイバにおいて、The optical fiber according to claim 7, wherein
上記内側層の中空部の数と上記外側層の中空部の数とが同一である光ファイバ。An optical fiber in which the number of hollow portions of the inner layer is the same as the number of hollow portions of the outer layer.
請求項8に記載された光ファイバにおいて、The optical fiber according to claim 8, wherein
上記外側層の各中空部が上記内側層の相互に隣接する中空部間に配されるように設けられている光ファイバ。The optical fiber provided so that each hollow part of the said outer side layer may be distribute | arranged between the mutually adjacent hollow parts of the said inner layer.
請求項7乃至9のいずれかに記載された光ファイバにおいて、The optical fiber according to any one of claims 7 to 9,
上記内側層の中空部の内径よりも上記外側層の中空部の内径の方が大きい光ファイバ。An optical fiber in which the inner diameter of the hollow portion of the outer layer is larger than the inner diameter of the hollow portion of the inner layer.
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