JP5342027B2 - Non-volatile memory - Google Patents

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本発明は、読み出しスピードの高速化を図った不揮発性メモリに関する。   The present invention relates to a non-volatile memory that achieves a higher reading speed.

図9は従来のフラッシュメモリ(不揮発性メモリ)のセンスアンプの構成例を示す回路図である。この図において、Pチャネル(以下、Pchと言う)トランジスタ1aおよび2aでプリチャージ回路101aが構成され、Pchトランジスタ3aおよび4aで負荷回路102aが構成されている。Pchトランジスタ1a、3aはスイッチングトランジスタであり、2aおよび4aが負荷トランジスタとなる。トランジスタ2aは急速充電用であり、トランジスタのゲート幅は2a>4aに設定される。また、トランジスタ5aはゲートに略1.0V程度のバイアス信号BIAS1が入力された、しきい値が略ゼロボルトのNチャネル(以下、Nchと言う)トランジスタ、6aはカラムアドレスにより選択されるカラムゲート信号CGが入力されるNchトランジスタ、7aはゲートにローアドレスにより選択されるワード線WLが入力されるメモリセルである。これと同じく、トランジスタ1b〜6bおよびレファレンスセル7bで構成される回路が対称に作られている。この場合、レファレンスセル7bは、メモリセル7aと比較するためのメモリセルであり、ゲートにはレファレンス電圧RefWLが入力される。また、Nchトランジスタ6b及びレファレンスセル7bで構成される回路をREFCELL1とする。   FIG. 9 is a circuit diagram showing a configuration example of a sense amplifier of a conventional flash memory (nonvolatile memory). In this figure, P channel (hereinafter referred to as Pch) transistors 1a and 2a constitute a precharge circuit 101a, and Pch transistors 3a and 4a constitute a load circuit 102a. Pch transistors 1a and 3a are switching transistors, and 2a and 4a are load transistors. The transistor 2a is for quick charging, and the gate width of the transistor is set to 2a> 4a. Further, the transistor 5a has an N-channel (hereinafter referred to as Nch) transistor having a threshold value of approximately zero volts, to which a bias signal BIAS1 of about 1.0 V is input to the gate, and 6a is a column gate signal CG selected by a column address. Nch transistor 7a is a memory cell to which a word line WL selected by a row address is input to the gate. Similarly, a circuit composed of the transistors 1b to 6b and the reference cell 7b is made symmetrical. In this case, the reference cell 7b is a memory cell for comparison with the memory cell 7a, and the reference voltage RefWL is input to the gate. A circuit composed of the Nch transistor 6b and the reference cell 7b is referred to as REFCELL1.

これらの回路の出力SAIN、REFINは、Pchトランジスタ8、9、10およびNchトランジスタ11、12で構成される差動増幅回路104に入力される。13は差動出力SAOUTを一定期間基準電圧に固定しておく放電用のNchトランジスタ、103は差動出力SAOUTを増幅するバッファ用インバータである。また、カラムゲートトランジスタ6aとバイアストランジスタ5aとの接続点は、データ線HON1に接続される。このデータ線HON1には、図示しないカラムデコーダにより選択される複数のカラムゲート6aを介して複数のメモリセル7aからデータが読み出される。同様に、トランジスタ5bとトランジスタ6bとの接続点はレファレンス線REF1に接続される。   Outputs SAIN and REFIN of these circuits are input to a differential amplifier circuit 104 composed of Pch transistors 8, 9 and 10 and Nch transistors 11 and 12. Reference numeral 13 denotes a discharge Nch transistor for fixing the differential output SAOUT to a reference voltage for a certain period, and reference numeral 103 denotes a buffer inverter for amplifying the differential output SAOUT. The connection point between the column gate transistor 6a and the bias transistor 5a is connected to the data line HON1. Data is read from the plurality of memory cells 7a to the data line HON1 through a plurality of column gates 6a selected by a column decoder (not shown). Similarly, the connection point between the transistor 5b and the transistor 6b is connected to the reference line REF1.

このように、ページモード機能の無い一般的なセンスアンプでは、容量バランスをとるためにメモリセル側の回路とレファレンス側の回路を差動増幅回路104に対して1対1で設けている。   As described above, in a general sense amplifier having no page mode function, a circuit on the memory cell side and a circuit on the reference side are provided on a one-to-one basis with respect to the differential amplifier circuit 104 in order to balance the capacitance.

また、図10は上記の回路に、データ線HON1とレファレンス線REF1とをイコライズするためのNchトランジスタ3001を設けた回路であり、プリチャージのタイミングにおいてトランジスタ3001をオンとしてイコライズをかけ、これにより、読み出し時の動作の均一化および高速化を図っている。   FIG. 10 is a circuit in which an Nch transistor 3001 for equalizing the data line HON1 and the reference line REF1 is provided in the above circuit, and the transistor 3001 is turned on at the precharge timing to perform equalization. Uniformity and speeding up of operations at the time of reading are attempted.

ところで、近年、システムの高機能化に伴い、使用されるメモリの高速化の要求が強くなってきている。そこで、フラッシュメモリにおいては、連続的に大量のデータを読み出すために、ページモード或いはバーストモード等の機能が付加されるようになってきている。ところが、ページモード機能等を採用した場合には、例えば8ワードのページ機能を採用すると、通常はワード読み出しで16個しかないセンスアンプが、16×8ページ=128個必要となり上述のレファレンス側の回路(101b、102b、5b、REFCELL1)も128個必要となりセンスアンプの面積が大変大きくなってしまう。このため、図11のように、REFCELL1はセンスアンプ4個に対して1個とし、センスアンプ1〜4に基準電流を供給する構成の面積を縮小する手法が取られてきた。   By the way, in recent years, with an increase in the functionality of the system, there is an increasing demand for speeding up the memory used. Therefore, in a flash memory, a function such as a page mode or a burst mode is added to continuously read a large amount of data. However, when the page mode function or the like is adopted, for example, when the page function of 8 words is adopted, normally only 16 sense amplifiers for word reading require 16 × 8 pages = 128, and the above-mentioned reference side is required. Since 128 circuits (101b, 102b, 5b, REFCELL1) are also required, the area of the sense amplifier becomes very large. For this reason, as shown in FIG. 11, one REFCELL 1 is provided for four sense amplifiers, and a method of reducing the area of a configuration for supplying a reference current to the sense amplifiers 1 to 4 has been taken.

次に、図11に示す回路の動作を説明する。図12に各部の波形を示す。プリチャージ信号/PREおよび活性化信号/SENがLowになるとプリチャージが始まり、SAIN、REFINが充電される。トランジスタ1a、1bは急速充電用なので、SAIN、REFINは速やかにVcc−Vthpのレベルまで充電される。また、データ線HON1〜HON4、REF1はバイアス用トランジスタ5a、5bを介して略BIAS1のレベルに充電される。ここで、プリチャージが終了すると、/PREがHighになり、スイッチングトランジスタ1a、1bがオフし、SAIN、HON1およびREFIN、REF1は負荷トランジスタ4aとメモリセル7aあるいは、負荷トランジスタ4bとレファレンスセル7bとで決まる電位となる。   Next, the operation of the circuit shown in FIG. 11 will be described. FIG. 12 shows the waveform of each part. When the precharge signal / PRE and the activation signal / SEN become Low, precharge starts and SAIN and REFIN are charged. Since the transistors 1a and 1b are for quick charging, SAIN and REFIN are quickly charged to the level of Vcc-Vthp. The data lines HON1 to HON4 and REF1 are charged to the level of about BIAS1 through the bias transistors 5a and 5b. When the precharge is completed, / PRE becomes High, the switching transistors 1a and 1b are turned off, and SAIN, HON1, and REFIN and REF1 are the load transistor 4a and the memory cell 7a or the load transistor 4b and the reference cell 7b. The potential is determined by.

図12において、メモリセル7aがオンの状態(“1”)のとき、SAIN(”1”)、HON1(”1”)とし、メモリセル7aがオフの状態(“0”)のとき、SAIN(”0”)、HON1(”0”)とし、レファレンスセル7bは中間の電流が流れるように設定されているので、図12のような波形となる。丁度プリチャージが終了したときに、放電用トランジスタ13のゲート電圧SENaがLowとなり、差動増幅回路104の出力SAOUTが出力される。差動出力SAOUTはインバータ103によって増幅され、BUFOUT信号が出力される。プリチャージ時間をt1と、プリチャージが終了してからBUFOUTが出力されるまでの時間t2がこのセンスアンプの読み出しスピードとなる。なお、SAIN、REFINがプリチャージ終了直後持ち上がるのは、トランジスタ1a、1bがオフするときのカップリングノイズである。   In FIG. 12, when the memory cell 7a is on (“1”), SAIN (“1”) and HON1 (“1”) are set. When the memory cell 7a is off (“0”), SAIN ("0"), HON1 ("0"), and the reference cell 7b is set so that an intermediate current flows, and thus has a waveform as shown in FIG. When the precharge is just finished, the gate voltage SENa of the discharging transistor 13 becomes Low, and the output SAOUT of the differential amplifier circuit 104 is output. The differential output SAOUT is amplified by the inverter 103, and a BUFOUT signal is output. The precharge time is t1, and the time t2 from the end of precharge until the output of BUFOUT is the read speed of the sense amplifier. Note that SAIN and REFIN rise immediately after the end of precharge due to coupling noise when the transistors 1a and 1b are turned off.

上述した構成によれば、REFCELL1(符号6b、7b)をメモリセル対応で設ける場合に比較しチップ面積を小さくすることができる。なお、上記の構成において、ある程度の容量バランス及び差動出力SAOUTの高速化を図るために差動増幅回路104の入力側トランジスタ9、11と、レファレンス側トランジスタ10、12の大きさを3:1程度に設定している。
なお、従来技術の文献として特許文献1が知られている。
According to the configuration described above, the chip area can be reduced as compared with the case where REFCELL1 (reference numerals 6b and 7b) is provided corresponding to the memory cells. In the configuration described above, the sizes of the input side transistors 9 and 11 and the reference side transistors 10 and 12 of the differential amplifier circuit 104 are set to 3: 1 in order to achieve a certain amount of capacitance balance and speed up of the differential output SAOUT. The degree is set.
Patent Document 1 is known as a prior art document.

特開2005−285215号公報JP 2005-285215 A

上述した図11の回路には次の問題がある。
(1) メモリセル側とレファレンスセル側をアンバランスに構成しているため、図10の回路のようなイコライズ方式を採用できない。このため、ビット線をプリチャージするのに、データ線HON1、レファレンス線REF1の充電速度にばらつきが生じ、差動増幅回路104の入力SAIN、REFINにもばらつきが生じる。このため、プリチャージが終了しセンス開始時点でHON1とREF1、SAINとREFINに差が生じ、この差が縮まるのを待つ必要があるため、読み出し時間t2が遅くなる。
The circuit of FIG. 11 described above has the following problems.
(1) Since the memory cell side and the reference cell side are configured to be unbalanced, the equalization method as in the circuit of FIG. 10 cannot be adopted. Therefore, when the bit line is precharged, the charging speed of the data line HON1 and the reference line REF1 varies, and the inputs SAIN and REFIN of the differential amplifier circuit 104 also vary. For this reason, there is a difference between HON1 and REF1, and SAIN and REFIN at the start of sensing after precharge ends, and it is necessary to wait for the difference to be reduced, so the read time t2 is delayed.

(2) データ線HON1、レファレンス線REF1を充電するのに、プリチャージ回路101aあるいは101bからバイアストランジスタ5aあるいは5bを介して充電されるので、プリチャージ時間を短縮しようとすると、プリチャージ回路101a、101b及びバイアストランジスタ5a、5bを大きくする必要があるが、この場合、複雑なレイアウトのセンスアンプ内に大きなトランジスタを入れなければならず、センスアンプ面積が大きくなり、配線距離も長くなるため特性的にも悪くなる。 (2) Since the data line HON1 and the reference line REF1 are charged through the bias transistor 5a or 5b from the precharge circuit 101a or 101b, the precharge circuit 101a, 101b and bias transistors 5a and 5b need to be enlarged. In this case, a large transistor must be placed in a sense amplifier having a complicated layout, which increases the sense amplifier area and the wiring distance. It gets worse.

本発明は上記事情を考慮してなされたもので、その目的は、レファレンス側のチップ面積を小さくすることができ、しかも、高速読み出しを行うことができる不揮発性メモリを提供することにある。   The present invention has been made in view of the above circumstances, and an object thereof is to provide a nonvolatile memory capable of reducing the chip area on the reference side and performing high-speed reading.

この発明は上述した課題を解決するためになされたもので、本発明の不揮発性メモリは、複数のセンスアンプと、複数のビット線から選択されたビット線が接続され、メモリセルアレイにおけるメモリセルのデータが読み出される前記センスアンプに接続された複数のデータ線と、前記センスアンプに接続されており、レファレンスセルのデータが読み出されるファレンス線と、前記複数のデータ線と前記レファレンス線との各々に設けられ、前記複数のデータ線と前記レファレンス線とを充電する第1プリチャージ回路と、一本の共通線と、当該共通線を充電する第2プリチャージ回路と、前記データ線の各々と前記共通線の間との間に設けられた第1トランジスタと、前記ファレンス線と前記共通線との間に設けられた第2トランジスタとを有し、前記第1トランジスタ及び第2トランジスタをオン状態とし、前記センスアンプに接続された全ての前記データ線及び前記レファレンス線を、同時に共通の電圧とする充電及びイコライズを前記第2プリチャージ回路により実行するとともに、前記第1プリチャージ回路により前記データ線及び前記レファレンス線を充電させ、前記第1トランジスタ及び前記第2トランジスタをオフ状態として前記第2プリチャージ回路による充電及びイコライズを終了させた後、所定の時間後に前記第1プリチャージ回路による充電を終了させることを特徴とする。 The present invention has been made to solve the above-described problems. In the nonvolatile memory according to the present invention, a plurality of sense amplifiers and a bit line selected from a plurality of bit lines are connected, and the memory cells in the memory cell array are connected. each of a plurality of data lines data is connected to the sense amplifier to be read out, the which is connected to the sense amplifier, and Le reference line data of the reference cell is read, and the reference line and the plurality of data lines A first precharge circuit for charging the plurality of data lines and the reference line, one common line, a second precharge circuit for charging the common line, and each of the data lines, a first transistor provided between between the common line, a second transitional provided between the common line and the Le reference line And a motor, wherein the first transistor and the second transistor is turned on, the all of the data lines and the reference line connected to the sense amplifier, the second charging and equalization to a common voltage at the same time and it executes the pre-charge circuit, by the first precharge circuit is charging the data line and the reference line, the charging and equalization by the second pre-charge circuit the first transistor and the second transistor is turned off After the termination, the charging by the first precharge circuit is terminated after a predetermined time .

本発明の不揮発性メモリは、前記所定の時間が、前記第1トランジスタ及び第2トランジスタをオフ状態とした際、前記データ線及び前記レファレンス線がカップリングノイズにより受ける電圧の落ち込みをリカバリする時間であることを特徴とする。
本発明の不揮発性メモリは、外部から供給される第1信号を、電源電圧と前記第1トランジスタ及び第2トランジスタをオフする前記電源電圧より低い電圧である一定電圧との間で変化する信号に、変換するレベル変換回路をさらに有することを特徴とする。
In the nonvolatile memory according to the present invention, the predetermined time is a time for recovering a drop in voltage received by the data line and the reference line due to coupling noise when the first transistor and the second transistor are turned off. It is characterized by being.
The nonvolatile memory of the present invention converts the first signal supplied from the outside into a signal that changes between a power supply voltage and a constant voltage that is lower than the power supply voltage for turning off the first transistor and the second transistor. And a level converting circuit for converting.

本発明の不揮発性メモリは、前記第1トランジスタ及び第2トランジスタがしきい値が略ゼロボルトであることを特徴とする。
本発明の不揮発性メモリは、前記プリチャージ回路を、前記データ線および前記レファレンス線の長さ方向中央部近傍に配置したことを特徴とする。
The nonvolatile memory of the present invention is characterized in that the first transistor and the second transistor have a threshold value of approximately zero volts.
The nonvolatile memory according to the present invention is characterized in that the precharge circuit is arranged in the vicinity of a central portion in the length direction of the data line and the reference line.

この発明によれば、イコライズおよび充電用の充電回路を設け、メモリセルのデータを読み出す直前においてデータ線およびレファレンス線のイコライズおよび充電を行うので、全データ線とレファレンス線が同時にイコライズされると共に充電され、これにより、メモリセル側とレファレンス側とにアンバランスがある場合においても高速かつ安定した動作を達成することができる。この結果、レファレンス側の回路数を少なくしてチップ面積を最小限に抑え、しかも、高速且つ安定した読み出しが達成でき、これにより、高速で動作マージンのあるセンスアンプを実現することができる。   According to the present invention, the charging circuit for equalization and charging is provided, and the data line and the reference line are equalized and charged immediately before the data of the memory cell is read. Therefore, all the data lines and the reference line are equalized and charged at the same time. Thus, even when there is an imbalance between the memory cell side and the reference side, high-speed and stable operation can be achieved. As a result, the number of circuits on the reference side can be reduced to minimize the chip area, and high-speed and stable reading can be achieved. As a result, a sense amplifier having a high-speed operation margin can be realized.

この発明の第1の実施形態による不揮発性メモリにおいて用いられる充電回路の構成を示すブロック図である。It is a block diagram which shows the structure of the charging circuit used in the non-volatile memory by 1st Embodiment of this invention. 同充電回路の動作を説明するための波形図である。It is a wave form diagram for demonstrating operation | movement of the charging circuit. 同充電回路の動作を説明するための波形図である。It is a wave form diagram for demonstrating operation | movement of the charging circuit. この発明の第2の実施形態による不揮発性メモリにおいて用いられる充電回路の要部の構成を示すブロック図である。It is a block diagram which shows the structure of the principal part of the charging circuit used in the non-volatile memory by 2nd Embodiment of this invention. この発明の第3の実施形態による不揮発性メモリにおいて用いられる充電回路の構成を示すブロック図である。It is a block diagram which shows the structure of the charging circuit used in the non-volatile memory by 3rd Embodiment of this invention. 同充電回路の動作を説明するための波形図である。It is a wave form diagram for demonstrating operation | movement of the charging circuit. この発明の第4の実施形態による不揮発性メモリにおいて用いられる充電回路の構成を示すブロック図である。It is a block diagram which shows the structure of the charging circuit used in the non-volatile memory by 4th Embodiment of this invention. この発明の第1〜第4の実施形態による不揮発性メモリの部品配置図である。FIG. 6 is a component layout diagram of a nonvolatile memory according to first to fourth embodiments of the present invention. 従来の不揮発性メモリのセンスアンプの構成例を示す回路図である。It is a circuit diagram which shows the structural example of the sense amplifier of the conventional non-volatile memory. 従来の不揮発性メモリのセンスアンプの他の構成例を示す回路図である。It is a circuit diagram which shows the other structural example of the sense amplifier of the conventional non-volatile memory. 従来の不揮発性メモリのセンスアンプのさらに他の構成例を示す回路図である。It is a circuit diagram which shows the further another structural example of the sense amplifier of the conventional non-volatile memory. 図11に示すセンスアンプの動作を説明するための波形図である。FIG. 12 is a waveform diagram for explaining the operation of the sense amplifier shown in FIG. 11.

以下、図面を参照しこの発明の第1の実施の形態について説明する。この実施形態によるフラッシュメモリ(不揮発性メモリ)は、前述した図11に示すセンスアンプ1と同じセンスアンプが128回路設けられ、また、REFCELL1(図11の符号6b、7b)と同じREFCELLが4センスアンプにつき1回路、合計32回路設けられている。
図1はこのフラッシュメモリに設けられる充電回路11の構成を示すブロック図であり、この図において、データ線HON1、HON2、・・・、HON128、レファレンス線REF1、REF2、・・・、REF32はそれぞれ、上述した128のセンスアンプおよび32のREFCELLに接続された線である。なお、ここまでの構成は従来のものと同じである。
Hereinafter, a first embodiment of the present invention will be described with reference to the drawings. In the flash memory (nonvolatile memory) according to this embodiment, 128 circuits of the same sense amplifier as the sense amplifier 1 shown in FIG. 11 are provided, and the same REFCELL as the REFCELL 1 (reference numerals 6b and 7b in FIG. One circuit is provided per amplifier, for a total of 32 circuits.
FIG. 1 is a block diagram showing a configuration of a charging circuit 11 provided in the flash memory. In this figure, data lines HON1, HON2,..., HON128, reference lines REF1, REF2,. , Lines connected to the 128 sense amplifiers and 32 REFCELLs described above. The configuration so far is the same as the conventional one.

図において、符号201〜328およびR201〜R232はイコライズ用Nchトランジスタ(FET)であり、トランジスタ201〜328の各ドレインが各々データ線HON1〜HON128に接続され、トランジスタR201〜R232の各ドレインが各々レファレンス線REF1〜REF32に接続されている。そして、トランジスタ201〜328およびR201〜R232の各ソースが共通線COMに接続され、この共通線COMがプリチャージ回路401のトランジスタEQ202のソースに接続されている。また、トランジスタ201〜328およびR201〜R232の各ゲートは共通接続され、この共通接続点へ外部から信号EQが加えられるようになっている。   In the figure, reference numerals 201 to 328 and R201 to R232 denote equalizing Nch transistors (FETs). The drains of the transistors 201 to 328 are connected to the data lines HON1 to HON128, respectively, and the drains of the transistors R201 to R232 are respectively reference. Connected to lines REF1 to REF32. The sources of the transistors 201 to 328 and R201 to R232 are connected to the common line COM, and the common line COM is connected to the source of the transistor EQ202 of the precharge circuit 401. The gates of the transistors 201 to 328 and R201 to R232 are commonly connected, and a signal EQ is externally applied to this common connection point.

プリチャージ回路401は、PchトランジスタEQ201と上記のNchトランジスタEQ202から構成され、トランジスタEQ201のドレインが正電源端子(電圧:Vcc)に接続され、ソースがトランジスタEQ202のドレインに接続されている。トランジスタEQ201のゲートは接地され、これにより、トランジスタEQ201は負荷抵抗として機能する。また、トランジスタEQ202はしきい値がゼロボルトのトランジスタであり、そのゲートにはバイアス電圧BIAS1(図11参照)が加えられる。   The precharge circuit 401 includes a Pch transistor EQ201 and the Nch transistor EQ202 described above. The drain of the transistor EQ201 is connected to the positive power supply terminal (voltage: Vcc), and the source is connected to the drain of the transistor EQ202. The gate of the transistor EQ201 is grounded, so that the transistor EQ201 functions as a load resistor. The transistor EQ202 is a transistor having a threshold value of zero volts, and a bias voltage BIAS1 (see FIG. 11) is applied to the gate thereof.

図2に上記充電回路11の各部の動作波形を示す。/PRE、/SEN、SENaは図12と同様であるが、プリチャージ期間t11は図12のプリチャージ期間t1より短く設定される。信号EQは、プリチャージ開始と同時に立ち上がり、プリチャージ信号/PREより短い期間t33で終了する。データ線HON1、HON2、・・・、HON128、レファレンス線REF1、REF2、・・・、REF32は、図11に示すプリチャージ回路101a、101bに加え、図1の充電回路11の共通線COMを介してプリチャージ回路401から急速充電される。また、トランジスタ201〜328およびR201〜R232を介して共通接続されることによりイコライズされるため、期間t11で十分に充電され、且つ、データ線HONとレファレンス線REFが均等に充電される。なお、図12から明らかなように、従来のものはデータ線HONとレファレンス線REFが均等に充電されず、充電時間にばらつきが生じ、このため、プリチャージに多くの時間がかっていた。   FIG. 2 shows operation waveforms of each part of the charging circuit 11. Although / PRE, / SEN, and SENa are the same as those in FIG. 12, the precharge period t11 is set shorter than the precharge period t1 in FIG. The signal EQ rises simultaneously with the start of precharge and ends in a period t33 shorter than the precharge signal / PRE. The data lines HON1, HON2,..., HON128, and reference lines REF1, REF2,..., REF32 are connected to the precharge circuits 101a and 101b shown in FIG. The precharge circuit 401 is quickly charged. Further, since they are equalized by being commonly connected through the transistors 201 to 328 and R201 to R232, they are sufficiently charged in the period t11, and the data line HON and the reference line REF are equally charged. As is apparent from FIG. 12, the data line HON and the reference line REF are not uniformly charged in the conventional one, resulting in variations in the charging time, and therefore it takes a lot of time for precharging.

また、各データ線HON1、HON2、・・・、HON128およびレファレンス線REF1、REF2、・・・、REF32が均等に、且つ、高速に充電されることから、センスアンプ入力信号SAIN,REFIN(図11)も高速かつ安定して充電され、この結果、プリチャージ終了後の読み出し期間t22(図2)も従来の読み出し期間t2(図12)より短い時間で高速に読み出される。   In addition, since the data lines HON1, HON2,..., HON128 and the reference lines REF1, REF2,..., REF32 are charged uniformly and at high speed, the sense amplifier input signals SAIN, REFIN (FIG. 11). ) Is stably charged at high speed, and as a result, the read period t22 (FIG. 2) after the precharge is completed is read at a higher speed in a shorter time than the conventional read period t2 (FIG. 12).

ここで、t33<t11に設定する理由について、図3の拡大図を参照して説明する。図3において、イコライズおよび急速充電が終了して信号EQがローになると、トランジスタ201〜328、R201〜R232の各ゲートとのカップリングによりデータ線HON1、HON2、・・・、HON128、レファレンス線REF1、REF2、・・・、REF32がカップリングノイズを受け、ΔV1=0.01V程度の落ち込みが生じる。この落ち込みをリカバリーするために多少の時間を設けている。   Here, the reason for setting t33 <t11 will be described with reference to the enlarged view of FIG. In FIG. 3, when equalization and quick charge are finished and the signal EQ becomes low, the data lines HON1, HON2,..., HON128, the reference line REF1 are coupled with the gates of the transistors 201 to 328 and R201 to R232. , REF2,..., REF32 receive coupling noise, causing a drop of about ΔV1 = 0.01V. We have some time to recover from this drop.

次に、この発明の第2の実施形態について図4を参照して説明する。この第2の実施形態は上述したカップリングノイズの軽減を図ったものである。
この第2の実施形態は、図1における信号EQを直接トランジスタ201〜328、R201〜R232の各ゲートへ加えるのではなく、図4に示すEQ信号発生回路12を介してトランジスタ201〜328、R201〜R232の各ゲートへ加えるものである。
Next, a second embodiment of the present invention will be described with reference to FIG. In the second embodiment, the above-described coupling noise is reduced.
In the second embodiment, the signal EQ in FIG. 1 is not directly applied to the gates of the transistors 201 to 328 and R201 to R232, but the transistors 201 to 328 and R201 are connected via the EQ signal generation circuit 12 shown in FIG. ˜R232 is added to each gate.

図4において、EQ信号発生回路12として、Pchトランジスタ501とNchトランジスタ502とで構成されるインバータの接地側にそれぞれゲートが自身のドレインに接続されたNchトランジスタ503、504が直列に接続されている。Nchトランジスタ505は、必要に応じて、図示しないリセット回路から出力されるリセット信号RESETがゲートへ加えられるトランジスタである。インバータ601は、信号EQを反転してトランジスタ501、502の各ゲートへ出力する。   In FIG. 4, as the EQ signal generation circuit 12, Nch transistors 503 and 504, each having a gate connected to its own drain, are connected in series on the ground side of an inverter composed of a Pch transistor 501 and an Nch transistor 502. . The Nch transistor 505 is a transistor to which a reset signal RESET output from a reset circuit (not shown) is applied to the gate as necessary. Inverter 601 inverts signal EQ and outputs the inverted signal to the gates of transistors 501 and 502.

上記の構成において、信号EQは電源電圧Vcc(たとえば3.0V)とGND(0V)との間を振幅している。このため、図1の構成の場合は、カップリングノイズとして3.0Vのノイズが印加されるが、この第2の実施形態では、ハイレベルはVcc(3.0V)であるがローレベルは2×VthN(VthNはNchトランジスタのしきい値)であり、VthN=0.7Vとすると約1.4Vとなる。この結果、EQ信号発生回路12から出力される信号EQ2は3.0Vと1.4Vの間を振幅する信号となり、カップリングノイズも約半分に軽減される。   In the above configuration, the signal EQ has an amplitude between the power supply voltage Vcc (for example, 3.0 V) and GND (0 V). For this reason, in the case of the configuration of FIG. 1, 3.0 V noise is applied as coupling noise. In the second embodiment, the high level is Vcc (3.0 V), but the low level is 2. × VthN (VthN is a threshold value of the Nch transistor). When VthN = 0.7V, the voltage is about 1.4V. As a result, the signal EQ2 output from the EQ signal generation circuit 12 becomes a signal having an amplitude between 3.0 V and 1.4 V, and the coupling noise is reduced to about half.

ここで、データ線HONはメモリセルの保護(信頼性)及び高速充電のためにプリチャージレベルは約1Vに抑えられている。すなわち、バイアス信号BIAS1(図1、図11)のレベルが約1Vに設定されており、データ線HONの“1”レベルと“0”レベルの差が約0.1Vなので、イコライズ及び急速充電終了後に信号EQ2が1.4Vになるとイコライズ用トランジスタ201〜328、R201〜R232はカットオフし、したがって、上記のEQ信号発生回路12を挿入しても動作上問題はない。   Here, the precharge level of the data line HON is suppressed to about 1 V for the protection (reliability) of the memory cell and the high-speed charging. That is, since the level of the bias signal BIAS1 (FIGS. 1 and 11) is set to about 1V and the difference between the “1” level and the “0” level of the data line HON is about 0.1V, equalization and quick charge end When the signal EQ2 becomes 1.4V later, the equalizing transistors 201 to 328 and R201 to R232 are cut off. Therefore, even if the above EQ signal generating circuit 12 is inserted, there is no problem in operation.

次に、この発明の第3の実施形態について図5、図6を参照して説明する。この実施形態はさらにカップリングノイズを軽減したものである。
図5において、符号13は本実施形態によるフラッシュメモリにおいて用いられる充電回路の構成を示す回路図である。図に示すように、共通線COMと各データ線HON1、HON2、・・・、HON128、レファレンス線REF1、REF2、・・・、REF32との間にしきい値が略ゼロボルトであるNchトランジスタ701,702、・・・、828、R701,R702,・・・、R732が設けられている。また、これらのトランジスタのゲートにはバイアス信号BIAS2が加えられ、共通線COMには充電用の負荷トランジスタ901が接続されている。
Next, a third embodiment of the present invention will be described with reference to FIGS. This embodiment further reduces coupling noise.
In FIG. 5, reference numeral 13 is a circuit diagram showing the configuration of the charging circuit used in the flash memory according to the present embodiment. As shown in the figure, Nch transistors 701 and 702 having a threshold value of approximately zero volts between the common line COM and each data line HON1, HON2,..., HON128, reference lines REF1, REF2,. ,..., 828, R701, R702,. A bias signal BIAS2 is applied to the gates of these transistors, and a load transistor 901 for charging is connected to the common line COM.

符号1001は、バイアス信号BIAS2を発生するバイアス発生回路を示し、1002はバイアス信号BIAS1を発生するバイアス発生回路を示す。これらのバイアス発生回路1001、1002は同一構成である。バイアス発生回路1002は、従来のものと同じであり、約1Vのバイアス信号BIAS1を発生し、各センスアンプへ出力する(図11)。バイアス発生回路1001の出力側には、ドレインが同出力に接続され、ソースがGNDに、ゲートに信号CUTが入力されるNchトランジスタ1003が設けられており、このバイアス発生回路1001の出力がBIAS2としてトランジスタ701〜828およびR701〜R732の各ゲートへ加えられる。なお、Nchトランジスタ1003は非常に小さく(オン抵抗が大きく)設定される。   Reference numeral 1001 denotes a bias generation circuit that generates the bias signal BIAS2, and 1002 denotes a bias generation circuit that generates the bias signal BIAS1. These bias generation circuits 1001 and 1002 have the same configuration. The bias generation circuit 1002 is the same as the conventional one, and generates a bias signal BIAS1 of about 1 V and outputs it to each sense amplifier (FIG. 11). On the output side of the bias generation circuit 1001, there is provided an Nch transistor 1003 having a drain connected to the same output, a source connected to GND, and a signal CUT input to the gate. The output of the bias generation circuit 1001 is BIAS2. Applied to the gates of transistors 701-828 and R701-R732. Note that the Nch transistor 1003 is set very small (on-resistance is large).

上述した回路の各部の波形を図6に示す。プリチャージ時間はt111であり、t333≦t111なる期間t333においてCUT信号がローレベルとなり、トランジスタ1003がオフし、バイアス信号BIAS2がバイアス信号BIAS1と同レベルとなる。これにより、トランジスタ701〜828およびR701〜R732がオンし、データ線HON1〜HON128、レファレンス線REF1〜REF32のイコライズおよびプリチャージが行われる。次に、信号CUTがハイレベルとなると、トランジスタ1003がオンとなり、バイアス信号BIAS2のレベルを下げるが、トランジスタ1003は非常に小さく設定されているので、バイアス発生回路1001の能力がまさり、レベルの低下分ΔV2が約0.1V程度となる。   The waveform of each part of the circuit described above is shown in FIG. The precharge time is t111. In a period t333 where t333 ≦ t111, the CUT signal becomes low level, the transistor 1003 is turned off, and the bias signal BIAS2 becomes the same level as the bias signal BIAS1. Thereby, the transistors 701 to 828 and R701 to R732 are turned on, and the data lines HON1 to HON128 and the reference lines REF1 to REF32 are equalized and precharged. Next, when the signal CUT becomes high level, the transistor 1003 is turned on and the level of the bias signal BIAS2 is lowered. However, since the transistor 1003 is set very small, the capability of the bias generation circuit 1001 is surpassed and the level is lowered. The minute ΔV2 is about 0.1V.

プリチャージが完了した時点では、データ線HON1、HON2、・・・、HON128、レファレンス線REF1、REF2、・・・、REF32のレベルは約1.0Vになっており、データ線HONのゼロレベルが約0.9Vとなるので、トランジスタ701〜828およびR701〜R732はカットオフする。この場合、トランジスタ701〜828およびR701〜R732のカップリングノイズはほとんど影響がない程度に微小であり、本実施形態を用いれば、カップリングノイズの影響を受けずに高速化が実現できる。   When the precharge is completed, the levels of the data lines HON1, HON2,..., HON128, the reference lines REF1, REF2, ..., REF32 are about 1.0 V, and the zero level of the data line HON is Since it becomes about 0.9 V, the transistors 701 to 828 and R701 to R732 are cut off. In this case, the coupling noises of the transistors 701 to 828 and R701 to R732 are so small that they are hardly affected, and if this embodiment is used, high speed can be realized without being influenced by the coupling noise.

次に、この発明の第4の実施形態について図7を参照して説明する。
図において、充電回路14は図5に示す充電回路3と同一構成である。但し、トランジスタ701〜828およびR701〜R732の各ゲートへはバイアス信号BIAS3が加えられるようになっている。2001は従来のバイアス信号BIAS1を出力するバイアス回路である。また、2002は、バイアス信号BIAS1より少しレベルの低いバイアス信号BIAS3(BIAS3<BIAS1)を出力するバイアス回路である。例えば、BIAS1=1.0V,BIAS3=0.9Vに設定される。
Next, a fourth embodiment of the present invention will be described with reference to FIG.
In the figure, the charging circuit 14 has the same configuration as the charging circuit 3 shown in FIG. However, the bias signal BIAS3 is applied to the gates of the transistors 701 to 828 and R701 to R732. Reference numeral 2001 denotes a bias circuit that outputs a conventional bias signal BIAS1. Reference numeral 2002 denotes a bias circuit that outputs a bias signal BIAS3 (BIAS3 <BIAS1) that is slightly lower in level than the bias signal BIAS1. For example, BIAS1 = 1.0V and BIAS3 = 0.9V are set.

この実施形態は、トランジスタ701〜828およびR701〜R732を介して充電が進み、データ線HONおよびレファレンス線REFが約0.9Vまで充電されると、自動的にトランジスタ701〜828およびR701〜R732がカットオフするため、カップリングノイズが発生することなく、急速充電が可能となる。
次に、この発明のさらに他の実施形態について説明する。
In this embodiment, when charging proceeds through the transistors 701 to 828 and R701 to R732, and the data line HON and the reference line REF are charged to about 0.9 V, the transistors 701 to 828 and R701 to R732 are automatically turned on. Since it is cut off, quick charging is possible without generating coupling noise.
Next, still another embodiment of the present invention will be described.

これまで説明した第1〜第4の実施形態では、図11のごとく、メモリセル側とレファレンス側とが差動増幅回路104の左右の入力でアンバランスのケースについて説明してきたが、もちろん、通常の左右が同一の構成である、バランス型の場合でも本発明は有効である。すなわち、図9に示すセンスアンプのデータ線HONおよびレファレンス線REFに図1、図5、図7の各充電回路11、13、14を接続してもデータ線HON及びレファレンス線REFにイコライズをかけながら急速に充電することが出来る。   In the first to fourth embodiments described so far, the case where the memory cell side and the reference side are imbalanced by the left and right inputs of the differential amplifier circuit 104 has been described as shown in FIG. The present invention is effective even in the case of a balanced type in which the left and right sides have the same configuration. That is, the data line HON and the reference line REF are equalized even if the charging circuits 11, 13, and 14 of FIGS. 1, 5, and 7 are connected to the data line HON and the reference line REF of the sense amplifier shown in FIG. While charging quickly.

また、図10に示すイコライズ用のNchトランジスタ3001を設けたセンスアンプによるフラッシュメモリにも上記の充電回路11、13、14を適用することができる。この場合、図1の回路と組み合わせても良いが、むしろ図5の回路の方が面積が小さく出来るので好ましい。   In addition, the above charging circuits 11, 13, and 14 can be applied to a flash memory using a sense amplifier provided with the equalizing Nch transistor 3001 shown in FIG. In this case, it may be combined with the circuit of FIG. 1, but the circuit of FIG. 5 is preferable because the area can be reduced.

本発明の主旨は、データ線HONとレファレンス線REFに直接急速充電を行う回路を設けること、あるいは、これらのデータ線HONとレファレンス線REFにまとめてイコライズをかける回路を設けることでプリチャージ回路の面積を縮小し、且つ、高速化を図るものであり、この趣旨の範囲内で、各実施形態の組み合わせは可能である。   The gist of the present invention is to provide a circuit for performing rapid charging directly on the data line HON and the reference line REF, or to provide a circuit for applying equalization to the data line HON and the reference line REF. It is intended to reduce the area and increase the speed, and combinations of the embodiments are possible within the scope of this gist.

図8は上記各実施形態によるフラッシュメモリの各回路ブロックの最適配置図である。メモリセルアレイ内から図示しないビット線をカラムゲートで選択してデータ線HON1〜HON128に接続する。また、同時に、図示しないレファレンス回路から読み出されるレファレンスデータがレファレンス線REF1〜REF32に接続される。このデータ線HON1〜HON128とレファレンス線REF1〜REF32はセンスアンプ1〜128に入力される。センスアンプは1〜64がチップ左側に、65〜128がチップ右側に均等に配置される。上記各実施形態による充電回路11、13、14は、データ線の配線抵抗等を考慮し、出来るだけ左右均等になるように、中央付近に配置する。   FIG. 8 is an optimum layout diagram of each circuit block of the flash memory according to each of the above embodiments. A bit line (not shown) is selected from the memory cell array by a column gate and connected to the data lines HON1 to HON128. At the same time, reference data read from a reference circuit (not shown) is connected to the reference lines REF1 to REF32. The data lines HON1 to HON128 and the reference lines REF1 to REF32 are input to the sense amplifiers 1 to 128. The sense amplifiers are equally arranged 1 to 64 on the left side of the chip and 65 to 128 on the right side of the chip. The charging circuits 11, 13, and 14 according to the above embodiments are arranged in the vicinity of the center so that the left and right sides are as even as possible in consideration of the wiring resistance of the data lines.

以上、この発明の実施形態を図面を参照して詳述してきたが、具体的な構成はこの実施形態に限られるものではなく、この発明の要旨を逸脱しない範囲の設計等も含まれる。   The embodiment of the present invention has been described in detail with reference to the drawings. However, the specific configuration is not limited to this embodiment, and includes design and the like within a scope not departing from the gist of the present invention.

この発明は、主としてフラッシュメモリに用いられる。   The present invention is mainly used for flash memories.

本発明は、メモリセルのデータが読み出されるデータ線と、レファレンスセルのデータが読み出されるレファレンス線とを具備し、複数の前記データ線に対してひとつの共通したレファレンス線を有する不揮発性メモリにおいて、前記メモリセルのデータを読み出す直前において前記データ線および前記レファレンス線のイコライズおよび充電を行う充電回路を設け、前記充電回路は、一つの共通線と、該共通線と複数の前記データ線の各々とを接続する複数の第1バイアストランジスタと、前記共通線と前記レファレンス線とを接続する第2バイアストランジスタと、前記共通線の容量を充電するプリチャージ回路と、外部から供給される第1の信号を、電源電圧と、前記第1バイアストランジスタ及び前記第2バイアストランジスタをオフする、前記電源電圧より低いレベルである一定電圧との間で変化する信号に変換するレベル変換回路とを具備し、前記第1バイアストランジスタ及び前記第2バイアストランジスタを前記第1の信号によってオンとすることにより、前記データ線と前記共通線とを接続し、前記レファレンス線と前記共通線とを接続し、前記データ線及び前記レファレンス線とをイコライズし、かつ前記データ線および前記レファレンス線の容量を充電することを特徴とする不揮発性メモリ。   The present invention includes a data line from which data of a memory cell is read and a reference line from which data of a reference cell is read, and a nonvolatile memory having one common reference line for the plurality of data lines. A charging circuit for equalizing and charging the data line and the reference line immediately before reading data of the memory cell is provided, and the charging circuit includes one common line, the common line, and each of the plurality of data lines. A plurality of first bias transistors for connecting the common line and the reference line, a second bias transistor for connecting the reference line, a precharge circuit for charging the capacitance of the common line, and a first signal supplied from the outside Power supply voltage, and the first bias transistor and the second bias transistor are turned off. And a level conversion circuit that converts the signal into a signal that changes between a constant voltage that is lower than the power supply voltage, and the first bias transistor and the second bias transistor are turned on by the first signal. By connecting the data line and the common line, connecting the reference line and the common line, equalizing the data line and the reference line, and the capacitance of the data line and the reference line A non-volatile memory characterized by charging.

本発明は、メモリセルのデータが読み出されるデータ線と、レファレンスセルのデータが読み出されるレファレンス線とを具備し、複数の前記データ線に対してひとつの共通したレファレンス線を有する不揮発性メモリにおいて、前記メモリセルのデータを読み出す直前において前記データ線および前記レファレンス線のイコライズおよび充電を行う充電回路を設け、前記充電回路は、一つの共通線と、該共通線と複数の前記データ線の各々とを接続する複数の第1バイアストランジスタと、前記共通線と前記レファレンス線とを接続する第2バイアストランジスタと、前記共通線の容量を充電するプリチャージ回路と を具備し、前記第1バイアストランジスタ及び前記第2バイアストランジスタを外部から供給される第1の信号によってオンとすることにより、前記データ線と前記共通線とを接続し、前記レファレンス線と前記共通線とを接続し、前記データ線及び前記レファレンス線とをイコライズし、かつ前記データ線および前記レファレンス線の容量を充電し、前記第1バイアストランジスタ及び前記第2バイアストランジスタのしきい値が略ゼロボルトであり、前記共通線と電源との間に挿入された負荷素子と、前記第1バイアストランジスタ及び第2バイアストランジスタのゲートへバイアス電圧を加えるバイアス回路と、をさらに具備し、前記バイアス回路は、前記共通線が充電前の時、前記第1バイアストランジスタ及び前記第2バイアストランジスタをオンとし、前記共通線の容量が充電された時、前記第1バイアストランジスタ及び前記第2バイアストランジスタをオフとするバイアス電圧を、前記第1バイアストランジスタ及び前記第2バイアストランジスタのゲートへ加えることを特徴とする。   The present invention includes a data line from which data of a memory cell is read and a reference line from which data of a reference cell is read, and a nonvolatile memory having one common reference line for the plurality of data lines. A charging circuit for equalizing and charging the data line and the reference line immediately before reading data of the memory cell is provided, and the charging circuit includes one common line, the common line, and each of the plurality of data lines. A plurality of first bias transistors connected to each other, a second bias transistor connecting the common line and the reference line, and a precharge circuit for charging a capacitance of the common line, and the first bias transistor and The second bias transistor is driven by a first signal supplied from the outside. Connecting the data line and the common line, connecting the reference line and the common line, equalizing the data line and the reference line, and the data line and the reference line. The first bias transistor and the second bias transistor have a threshold value of approximately zero volts, a load element inserted between the common line and a power source, the first bias transistor, A bias circuit for applying a bias voltage to the gate of the two-bias transistor, wherein the bias circuit turns on the first bias transistor and the second bias transistor when the common line is before charging, and the common circuit When the capacitance of the line is charged, the first bias transistor and the second bias transistor A bias voltage for turning off the star is applied to the gates of the first bias transistor and the second bias transistor.

本発明は、前記充電回路を、前記データ線および前記レファレンス線の長さ方向中央部近傍に配置したことを特徴とする。   The present invention is characterized in that the charging circuit is arranged in the vicinity of the central portion in the length direction of the data line and the reference line.

本発明は、前記データ線と前記リファレンス線との電圧を比較することによってメモリセルのデータを読み出す差動増幅回路と有することを特徴とする。   The present invention includes a differential amplifier circuit that reads data in a memory cell by comparing voltages between the data line and the reference line.

11、13、14…充電回路
12…EQ信号発生回路
201〜328、R201〜R232、502〜505、1003…Nchトランジスタ
401…プリチャージ回路
601…インバータ
501、901、EQ201…Pchトランジスタ
701〜828、R701〜R732、EQ202…バイアス電圧が0のNchトランジスタ
1001、1002、2001、2002…バイアス回路
DESCRIPTION OF SYMBOLS 11, 13, 14 ... Charging circuit 12 ... EQ signal generation circuit 201-328, R201-R232, 502-505, 1003 ... Nch transistor 401 ... Precharge circuit 601 ... Inverter 501, 901, EQ201 ... Pch transistor 701-828, R701 to R732, EQ202 ... Nch transistors 1001, 1002, 2001, 2002 ... Bias circuit with zero bias voltage

Claims (5)

複数のセンスアンプと、
複数のビット線から選択されたビット線が接続され、メモリセルアレイにおけるメモリセルのデータが読み出される前記センスアンプに接続された複数のデータ線と、
前記センスアンプに接続されており、レファレンスセルのデータが読み出されるファレンス線と、
前記複数のデータ線と前記レファレンス線との各々に設けられ、前記複数のデータ線と前記レファレンス線とを充電する第1プリチャージ回路と、
一本の共通線と、
当該共通線を充電する第2プリチャージ回路と、
前記データ線の各々と前記共通線の間との間に設けられた第1トランジスタと、
前記ファレンス線と前記共通線との間に設けられた第2トランジスタと
を有し、
前記第1トランジスタ及び第2トランジスタをオン状態とし、前記センスアンプに接続された全ての前記データ線及び前記レファレンス線を、同時に共通の電圧とする充電及びイコライズを前記第2プリチャージ回路により実行するとともに、前記第1プリチャージ回路により前記データ線及び前記レファレンス線を充電させ、前記第1トランジスタ及び前記第2トランジスタをオフ状態として前記第2プリチャージ回路による充電及びイコライズを終了させた後、所定の時間後に前記第1プリチャージ回路による充電を終了させる
ことを特徴とする不揮発性メモリ。
Multiple sense amplifiers,
Bit lines selected from a plurality of bit lines are connected, and a plurality of data lines connected to the sense amplifier from which data of memory cells in the memory cell array is read,
Wherein is connected to the sense amplifier, and Le reference line data of the reference cell is read out,
A first precharge circuit that is provided on each of the plurality of data lines and the reference line and charges the plurality of data lines and the reference line;
One common line,
A second precharge circuit for charging the common line;
A first transistor provided between each of the data lines and the common line;
And a second transistor provided between the common line and the Le reference line,
The second precharge circuit performs charging and equalization in which the first transistor and the second transistor are turned on, and all the data lines and the reference lines connected to the sense amplifier are simultaneously set to a common voltage. In addition, the data line and the reference line are charged by the first precharge circuit, the first transistor and the second transistor are turned off, and charging and equalization by the second precharge circuit are terminated. The nonvolatile memory is characterized in that the charging by the first precharge circuit is terminated after a predetermined time .
前記所定の時間が、前記第1トランジスタ及び第2トランジスタをオフ状態とした際、前記データ線及び前記レファレンス線がカップリングノイズにより受ける電圧の落ち込みをリカバリする時間である
ことを特徴とする請求項1に記載の不揮発性メモリ。
The predetermined time is a time for recovering a drop in a voltage received by the data line and the reference line due to coupling noise when the first transistor and the second transistor are turned off. The non-volatile memory according to 1.
外部から供給される第1信号を、電源電圧と前記第1トランジスタ及び第2トランジスタをオフする前記電源電圧より低い電圧である一定電圧との間で変化する信号に、変換するレベル変換回路を
さらに有することを特徴とする請求項1または請求項2に記載の不揮発性メモリ。
A level conversion circuit that converts a first signal supplied from the outside into a signal that changes between a power supply voltage and a constant voltage that is lower than the power supply voltage for turning off the first transistor and the second transistor; The nonvolatile memory according to claim 1 , wherein the nonvolatile memory is provided.
前記第1トランジスタ及び第2トランジスタがしきい値が略ゼロボルトであることを特徴とする請求項1から請求項3のいずれか一項に記載の不揮発性メモリ。 4. The nonvolatile memory according to claim 1, wherein a threshold value of the first transistor and the second transistor is approximately zero volts. 5. 前記プリチャージ回路を、前記データ線および前記レファレンス線の長さ方向中央部近傍に配置したことを特徴とする請求項1から請求項のいずれか一項に記載の不揮発性メモリ。 Wherein the precharge circuit, the nonvolatile memory according to any one of claims 1 to 4, characterized in that arranged in the central longitudinal portion near the data line and the reference line.
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