JP5336851B2 - リン含有α−アミノ酸の製造法およびその製造中間体 - Google Patents
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Description
L−AMPBの製造において用いられる新規な中間体として、本発明の第1の視点において次式(3)
R2は、アリル基、アリール基、置換アリール基、アリールメチル基または、置換アリールメチル基を表す]で表される化合物を提供する。また、本発明の第2の視点において、
R2は、アリル基、アリール基、置換アリール基、アリールメチル基または、置換アリールメチル基を表す]で表される化合物を、提供する。
R2は、アリル基、アリール基、置換アリール基、アリールメチル基または、置換アリールメチル基を表す]で表される化合物を不斉触媒の存在下、シアン化水素と反応させることによる次式(4)
R1、R2、R4、R5、およびR6が表す基または基上のC1−4アルキル基は炭素数1〜4の直鎖または分岐状のアルキル基を意味し、より具体的にはメチル基、エチル基、n−プロピル基、イソプロピル基、n−ブチル基、2−ブチル基、イソブチル基、t−ブチル基などが挙げられる。
R1、およびR2が表す基または基上のアリール基とはフェニル基、または、ナフチル基などが挙げられる。
R1、およびR2が表すアリールメチル基とは、1〜3個のアリール基によって置換されているメチル基を意味し、より具体的にはベンジル基、ジフェニルメチル基、フルオレニル基、トリフェニルメチル基などが挙げられる。
R1、およびR2が表す基または基上の置換アリール基とは、ベンゼン環上の1以上の水素原子、好ましくは1〜3個の水素原子が置換されていることを意味し、具体的な置換基としては、メチル基、エチル基、n−プロピル基、イソプロピル基、n−ブチル基、2−ブチル基、イソブチル基、t−ブチル基などの直鎖または分岐状のC1−4アルキル基、フッ素基、クロル基、ブロム基などのハロゲン原子、メトキシ基などのC1−4アルコキシ基が挙げられる。R2が置換アリール基を表す場合、その置換基は、1以上のメトキシ基であることが好ましい。
R1が表すトリC1−4アルキルシリル基とは、同一または異なった3個のC1−4アルキルで置換されているシリル基を意味し、具体的には、トリメチルシリル基、トリエチルシリル基、t−ブチルジメチルシリル基が挙げられる。
R1が表すC1−4アルキルオキシC1−4アルキル基は、好ましくはメトキシメチル基である。
R1が表すC1−4アルキルオキシC1−4アルキルオキシC1−4アルキル基は、好ましくはメトキシエトキシメチル基である。
R1は、C1−4アルキル基が好ましく、メチル基がより好ましい。
R2は、ベンジル基またはp−メチルベンジル基が好ましい。
3−(メトキシメチルホスフィニル)−プロパナール、
3−(エトキシメチルホスフィニル)−プロパナール、
3−(n-プロピルオキシメチルホスフィニル)−プロパナール、
3−(アリルオキシメチルホスフィニル)−プロパナール
3−(n-ブチルオキシメチルホスフィニル)−プロパナール、
3−(トリメチルシリルオキシメチルホスフィニル)−プロパナール、
3−(フェノキシメチルホスフィニル)−プロパナール、
3−(ベンジルオキシメチルホスフィニル)−プロパナールが挙げられ、好ましくは、3−(メトキシメチルホスフィニル)−プロパナールである。
反応終了後、脱水剤をろ別し、ろ液を濃縮することにより式(3)の化合物を単離することができる。必要に応じてシリカゲルカラムクロマトグラフィーで精製することができる。通常は、脱水剤をろ別するなどして除去した後、単離せずに次の工程に用いる。
式(6)においてR4は、好ましくは、C1−4アルキル基であり、より好ましくは、メチル基である。
式(6)においてXは、酸素原子、硫黄原子いずれも好ましいが、より好ましくは、酸素原子である。
不斉触媒の使用量としては、モル比で式(3)の化合物/不斉触媒が2〜1000、好ましくは5〜200の範囲で行われる。
反応温度としては−78〜40℃で、好ましくは−40〜30℃の範囲で行われる。
シアン化水素を溶液の状態で用いるか、溶剤に溶解させたものを用いる場合の滴下時間は、1〜22時間、好ましくは4〜12時間である。R7CNとR8OHとの混合物またはMCNと酢酸もしくは塩化アンモニウムとの混合物を用いる場合には、反応溶液にR7CNまたはMCNを先に加え、後からR8OHまたは酢酸、塩化アンモニウムを滴下するのが好ましく、滴下時間は1〜22時間、好ましくは4〜12時間である。
シアン化水素の使用量は、式(3)で表される化合物を基準に3当量を用い、R7CNとR8OHとの混合物またはMCNと酢酸もしくは塩化アンモニウムとの混合物を用いる場合にも同様に3当量を用いる。
反応時間は通常6〜24時間、好ましくは8〜20時間の範囲で行われる。
反応終了後、反応液を減圧濃縮し、シリカゲルクロマトグラフィーで精製することにより式(4)の化合物を単離することができる。通常は、反応溶媒を留去して粗生成物を得た後、単離せずに次の工程に用いる。
メチル基である場合、およびR2がトリフェニルメチル基、フルオレニル基以外のアリー
ルメチル基、置換アリールメチル基である場合の脱保護における溶媒としては、メタノール、エタノール、n-プロパノール、イソプロパノールなどの炭素数1〜4のアルカノール溶媒、ジオキサンなどのエーテル系溶媒、ギ酸、酢酸、塩酸、水およびこれら2種以上の溶剤の組み合わせなどが挙げられ、好ましくは、メタノール、エタノール、塩酸、水およびこれら2種以上の溶剤の組み合わせが挙げられる。水素雰囲気下、パラジウム−炭素、パラジウムブラック、水酸化パラジウム、酸化白金などのような触媒を用いた接触水素還元によって脱保護することが挙げられる。接触水素還元における触媒の使用量は原料を基準に1〜50wt%用いることが挙げられ、好ましくは5〜30wt%である。反応温度は、0〜40℃であり、好ましくは10〜30℃である。反応時間は、2〜15時間であり、好ましくは4〜12時間である。
不斉収率の測定
不斉収率は、製造した式(5)の化合物に対し、高速液体クロマトグラフィー(HPLC)を用いて以下の条件で測定した。D体が先に溶出し、次いでL体が溶出する。
カラム:SUMICHIRAL OA6100(4.6X150mm)
移動相:2mM 硫酸銅水溶液
検出:UV254nm
流速:1.0 ml/min
カラム温度:30℃
3−(メトキシメチルホスフィニル)−プロパナール600mg、ベンジルアミン428mgをトルエン10mlに溶かした溶液に無水硫酸ナトリウム280mgを加え、室温で1時間攪拌した。硫酸ナトリウムをろ別し、ろ液を別の反応容器に用意した不斉触媒(式(6)で表される化合物のR3:ジメチルアミン、R4:メチル、X:酸素原子)336mg、トルエン1mlの溶液に室温で加えた。この溶液を−40℃に冷却し、トリメチルシリルシアニド1.19gを加えた。さらに−40℃でイソプロパノール722mg、トルエン6mlの溶液を7時間で滴下した。滴下終了後、同温度で15時間攪拌した。シアン化水素を減圧留去した後に室温に昇温し溶媒を減圧留去することによって残渣1を得た。残渣1に濃塩酸10mlを加え6時間加熱還流した。室温まで冷却した後に溶媒を減圧留去した。残渣に水10ml、10%Pd/C50mgを加え水素雰囲気下、室温で27時間攪拌した。Pd/Cをろ別し、ろ液を減圧濃縮し、得られた残渣にプロピレンオキサイド10mlを加え1時間攪拌した。減圧濃縮後、得られた残渣をイオン交換樹脂(Dowex 1X2 Ac、200-400mesh:溶離液10%酢酸水溶液)にて精製し、目的とするL−2−アミノ−4−(ヒドロキシメチルホスフィニル)−ブタン酸405mgを固体として得た。
HPLC分析(保持時間:D体6.8分、L体8.6分)によりL:D=91:9であった。
1H-NMR(D2O)δ:1.28 (3H, d, J=13.9Hz), 1.57-1.78 (2H, m), 1.95-2.11 (2H, m), 3.89 (1H, t, J=6.1Hz).
APIMASS:m/z 182 [M+H]+.
実施例1における不斉触媒の代わりにR3=ジエチルアミン、R4=メチル、X=酸素原子である式(6)の化合物を不斉触媒として用いて実施例1と同様に反応を行ったところ、3−(メトキシメチルホスフィニル)−プロパナール480mgから目的とするL−2−アミノ−4−(ヒドロキシメチルホスフィニル)−ブタン酸358mgを得た。HPLC分析によりL:D=86:14であった。
実施例1におけるベンジルアミンの代わりにp−メチルベンジルアミンを用いて実施例1と同様に反応を行ったところ、3−(メトキシメチルホスフィニル)−プロパナール600mgから目的とするL−2−アミノ−4−(ヒドロキシメチルホスフィニル)−ブタン酸232mgを得た。HPLC分析によりL:D=87:13であった。
実施例1における不斉触媒の代わりにR3=ジベンジルアミン、R4=メチル、X=酸素原子である式(6)の化合物を不斉触媒として用いて実施例1と同様に反応を行ったところ、3−(メトキシメチルホスフィニル)−プロパナール450mgから目的とするL−2−アミノ−4−(ヒドロキシメチルホスフィニル)−ブタン酸210mgを得た。HPLC分析によりL:D=87:13であった。
実施例1におけるベンジルアミンの代わりにジフェニルメチルアミンを用いて実施例1と同様に反応を行ったところ、3−(メトキシメチルホスフィニル)−プロパナール900mgから目的とするL−2−アミノ−4−(ヒドロキシメチルホスフィニル)−ブタン酸696mgを得た。HPLC分析によりL:D=61:39であった。
実施例1における不斉触媒の代わりにのR3=ジメチルアミン、R4=メチル、X=硫黄原子である式(6)の化合物を不斉触媒として用いて実施例1と同様に反応を行ったところ、3−(メトキシメチルホスフィニル)−プロパナール450mgから目的とするL−2−アミノ−4−(ヒドロキシメチルホスフィニル)−ブタン酸185mgを得た。HPLC分析によりL:D=94:6であった。
実施例1における不斉触媒の代わりにR3=ジメチルアミン、R4=水素原子、X=酸素原子である式(6)の化合物を不斉触媒として用いて実施例1と同様に反応を行ったところ、3−(メトキシメチルホスフィニル)−プロパナール750mgから目的とするL−2−アミノ−4−(ヒドロキシメチルホスフィニル)−ブタン酸525mgを得た。HPLC分析によりL:D=87:13であった。
3−(メトキシメチルホスフィニル)−プロパナール60mg、ベンジルアミン42.8mgをトルエン3mlに溶かした溶液に無水硫酸ナトリウム120mgを加え、室温で1時間攪拌した。硫酸ナトリウムをろ別し、ろ液を濃縮することによりN−ベンジル−3−(メトキシメチルホスフィニル)−プロピリデンアミン87mgを得た。
1H-NMR(CDCl3)δ:1.46 (3H, d, J=13.7Hz), 2.07 (2H, dt, J=13.7, 8.1Hz), 2.57-2.67 (2H, m), 3.69 (3H, d, J=10.7Hz), 4.60(2H, s), 7.22-7.38(5H, m), 7.89(1H, t, J=3.7Hz).
FABMASS:m/z 240 [M+H]+.
3−(メトキシメチルホスフィニル)−プロパナール72mgから実施例1と同様に反応を行って得られた残渣1をPreparative TLC(クロロホルム:メタノール=12:1)にて精製することによりL−2−ベンジルアミノ−4−(メトキシメチルホスフィニル)−プロピオニトリル59mgが得られた。
1H-NMR(D2O)δ:1.48 (3H, d, J=13.7Hz), 1.85-2.00 (2H, m), 2.03-2.13 (2H, m), 3.60 (1H, dd, J=14.8, 7.0Hz), 3.70(3H, dd, J=11.0, 1.2Hz), 3.84(1H, d, J=12.9Hz), 4.08(1H, d, J=12.9Hz), 7.28-7.37(5H, m).
FABMASS:m/z 267 [M+H]+.
以上の実施例から、L:D収率L61%以上、さらには、L86〜87%以上ないしL91%以上、最高L94%が達成された。
Claims (9)
- R1が、C1−4アルキル基であり、R2が、ベンジル基またはp−メチルベンジル基であることを特徴とする請求項1または2に記載の製造方法。
- 次式(5)
次式(1)
の化合物を得る工程、
式(3)で表される化合物を不斉触媒の存在下、シアン化水素と反応させることによって次式(4)
式(4)の化合物におけるニトリル基を酸加水分解し、さらに水酸基およびアミノ基部分を脱保護する工程を含んでなる方法。 - シアン化水素が、R7CN(ここでR7は、トリメチルシリル基、トリエチルシリル基または、tert-ブチルジメチルシリル基を表す)で表される化合物とR8OH (ここでR8は、C1−4アルキル基を表す)で表される化合物との混合物かまたは、
MCN(ここでMは、カリウムまたは、ナトリウムを表す)で表される化合物と酢酸もしくは塩化アンモニウムとの混合物を用いて反応系中で発生させたものであることを特徴とする請求項1、3〜6のいずれかに記載の製造方法。
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