JP5332436B2 - Support for magnetic recording medium and magnetic recording medium - Google Patents

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Abstract

<P>PROBLEM TO BE SOLVED: To provide a support for a high density magnetic recording medium which allows stable film-forming without a surface defect or a tear in a vapor deposition process, in particular, to provide a support which, when the substrate is used for a magnetic recording medium, reduces dimensional change due to environmental change and also improves close contact with a head by protruding a tape to a magnetic layer to exhibit excellent electromagnetic conversion characteristics. <P>SOLUTION: The support for magnetic recording medium includes a polyester film and layers (M layers) including metallic oxide formed on the both sides of the polyester film. The concentration of oxygen in the M layers is 45-70 at.%. T/T<SB>M</SB>value is 46-250, and the surface resistivity of an Mb layer is 1.0&times;10<SP>9</SP>to 1.0&times;10<SP>14</SP>&Omega; and the surface resistivity of an Ma layer is smaller than that of the Mb layer, where the thickness of the polyester film is represented by T and the sum of the thickness of the M layer (Ma layer) provided on one side (side A) and the M layer (Mb layer) provided on the other side (side B) is represented by T<SB>M</SB>. <P>COPYRIGHT: (C)2009,JPO&amp;INPIT

Description

本発明は、磁気テープなどの磁気記録媒体に用いられる支持体と、該支持体上に磁性層を設けた磁気記録媒体に関する。   The present invention relates to a support used for a magnetic recording medium such as a magnetic tape, and a magnetic recording medium provided with a magnetic layer on the support.

二軸延伸ポリエステルフィルムはその優れた熱特性、寸法安定性、機械特性および表面形態の制御のし易さから各種用途に使用されており、特に磁気記録媒体などの支持体としての有用性がよく知られている。近年、磁気テープなどの磁気記録媒体は、基材の軽量化、小型化、大容量化のためさらなる高密度化が要求されている。高密度記録化のためには、記録波長を短くし、記録トラックを小さくすることや、磁気テープの薄膜化などが有用である。しかしながら、記録トラックの狭小化や、磁気テープの薄膜化に伴って、テープ走行時における熱やテープ保管時の温湿度変化による変形により、記録トラックのずれが起こりやすくなるという問題がある。したがって、テープの使用環境および保管環境での寸法安定性といった特性の改善に対する要求がますます強まっている。   Biaxially stretched polyester film is used for various applications because of its excellent thermal properties, dimensional stability, mechanical properties, and ease of control of surface morphology, and is particularly useful as a support for magnetic recording media. Are known. In recent years, magnetic recording media such as magnetic tapes have been required to have higher density in order to reduce the weight, size, and capacity of substrates. In order to achieve high density recording, it is useful to shorten the recording wavelength, reduce the recording track, and reduce the thickness of the magnetic tape. However, with the narrowing of recording tracks and the thinning of magnetic tapes, there is a problem that recording tracks are liable to shift due to deformation due to heat during tape running and changes in temperature and humidity during tape storage. Therefore, there is an increasing demand for improvement in characteristics such as dimensional stability in the usage environment and storage environment of the tape.

この観点から、ポリエチレンテレフタレートやポリエチレンナフタレートなどを用いたポリエステルフィルムにおいて、延伸技術を用いて高強度化した磁気記録媒体用支持体が開発されている。さらには、延伸技術以外にも、以下の文献に開示されるような、温度や湿度に対する寸法安定性の改善を目的に、ポリエステルフィルムの片面または両面に金属などの補強層を設ける方法(特許文献1、特許文献2、特許文献4)が開示されている。   From this viewpoint, a support for a magnetic recording medium has been developed in which a polyester film using polyethylene terephthalate, polyethylene naphthalate, or the like is strengthened using a stretching technique. Furthermore, in addition to the stretching technique, a method of providing a reinforcing layer such as a metal on one or both sides of a polyester film for the purpose of improving dimensional stability against temperature and humidity as disclosed in the following documents (Patent Document) 1, Patent Document 2, and Patent Document 4) are disclosed.

しかしながら、補強層が金属の場合、金属結合のため導電性が高く光を反射する性質を持つため、磁性層を塗布する際の膜厚管理において、金属の補強膜の影響で光が透過しないという問題があり、膜厚管理が困難となり易い。その結果、磁性層の膜厚にバラツキが生じ、エラーレートの多い磁気テープとなり易い。また、導電性が高いため静電気や漏れ電流によって磁気テープに電流が流れてしまい、その電流のために磁気ヘッドがショートしたり、故障することがある。さらに、金属は酸化物と比較して、強度が弱く、ポリエステルフィルムの膨張・収縮を抑制する効果が小さい。   However, when the reinforcing layer is made of metal, it is highly conductive and has a property of reflecting light because of metal bonding, so that light is not transmitted due to the influence of the metal reinforcing film in the film thickness control when the magnetic layer is applied. There is a problem, and the film thickness control tends to be difficult. As a result, the film thickness of the magnetic layer varies and the magnetic tape tends to have a high error rate. In addition, since the electrical conductivity is high, current flows in the magnetic tape due to static electricity or leakage current, which may cause the magnetic head to short-circuit or break down. Further, the metal is weaker than the oxide and has a small effect of suppressing the expansion / contraction of the polyester film.

一方、補強層が酸化物やその他の化合物の場合、イオン結合のため、硬いがもろく延性がない性質を持つ。そのため、張力によって割れ(クラック)を生じたりする。また、酸化物は吸湿性をもつため、湿度に対する寸法安定性向上効果が小さく、補強層自体の吸湿膨張により寸法安定性を悪化させる場合もある。   On the other hand, when the reinforcing layer is an oxide or other compound, it has a property of being hard but not ductile due to ionic bonds. Therefore, a crack (crack) is produced by tension. In addition, since the oxide has a hygroscopic property, the effect of improving the dimensional stability against humidity is small, and the dimensional stability may be deteriorated by the hygroscopic expansion of the reinforcing layer itself.

また、ポリエステルフィルムの片面または両面に金属などの補強層を設けると、補強層とポリエステルフィルムの温湿度に対する膨張量等の物理的特性の相違や、補強層の形成工程で、ポリエステルフィルムが受ける熱や巻張力等の応力によって、フィルムの内部歪みが大きくなるため、磁気テープに加工した場合に幅方向に湾曲(カッピング)が生じ、ヘッド当たりが悪化するといった問題もある。   In addition, when a reinforcing layer such as a metal is provided on one or both sides of the polyester film, the difference in physical properties such as the expansion amount with respect to temperature and humidity between the reinforcing layer and the polyester film, and the heat received by the polyester film in the forming process of the reinforcing layer. Since the internal distortion of the film increases due to stress such as winding tension or the like, there is also a problem that when processed into a magnetic tape, bending (capping) occurs in the width direction, and the head contact deteriorates.

カッピングを改善する方法としては、例えば、磁気テープに熱処理を施す方法(特許文献3)やポリエステルフィルムの両面に、非磁性金属または金属酸化物層などの補強層の表裏の厚みを制御する方法(特許文献4)が開示されている。   As a method for improving cupping, for example, a method of applying a heat treatment to a magnetic tape (Patent Document 3) or a method of controlling the thickness of the reinforcing layer such as a nonmagnetic metal or metal oxide layer on both sides of a polyester film ( Patent document 4) is disclosed.

しかし、上記特許文献3に開示されている方法では、テープの使用環境および保管環境での寸法安定性を改善することはできない。また、上記特許文献4では、磁性層を設ける面から先に金属膜を形成するため、表面に傷が発生し易いという問題がある。
特開平7−272247号公報 特開2003−30818号公報 特開2001−184635号公報 特開2006−277920号公報
However, the method disclosed in Patent Document 3 cannot improve the dimensional stability in the usage environment and storage environment of the tape. Moreover, in the said patent document 4, since a metal film is formed previously from the surface which provides a magnetic layer, there exists a problem that a surface is easy to generate | occur | produce a damage | wound.
JP-A-7-272247 JP 2003-30818 A JP 2001-184635 A JP 2006-277920 A

本発明の目的は、上記の問題を解決し、蒸着工程での熱負けによる表面欠点や破れがなく安定製膜が可能であり、特に、磁気記録媒体とした際に環境変化による寸法変化が少なく、テープを磁性層側に凸状に湾曲させることで、ヘッドとの密着性が向上し、電磁変換特性が優れた高密度磁気記録媒体用支持体を提供することにある。   The object of the present invention is to solve the above-mentioned problems and to enable stable film formation without surface defects or tears due to heat loss in the vapor deposition process, and in particular, there is little dimensional change due to environmental changes when used as a magnetic recording medium. An object of the present invention is to provide a support for a high-density magnetic recording medium that has improved adhesion to the head and excellent electromagnetic conversion characteristics by curving the tape convexly toward the magnetic layer.

上記課題を達成するための本発明は、ポリエステルフィルムの両面に金属系酸化物を含む層(M層)が設けられ、以下に規定する磁気テープとした際の湾曲が1mm未満である磁気記録媒体用支持体であって、M層の酸素濃度がいずれも45〜70at.%であり、ポリエステルフィルムの厚みをTとし、一方の面(面A)に設けられたM層(Ma層)の厚みと他方の面(面B)に設けられたM層(Mb層)の厚みの和をTMとしたとき、T/TMの値が71〜250であり、Ma層の表面抵抗率が1.0×103〜1.0×108Ωであり、Mb層の表面抵抗率が1.0×109〜1.0×1014Ωであり、かつ、Ma層の表面抵抗率がMb層よりも小さい磁気記録媒体用支持体を特徴とする。
磁気テープとした際の湾曲:
磁気テープを長さ20mm切出し、上が磁性層となるように平坦なガラス板上に静置した際に磁性層側に凸に湾曲したものを測定対象とし、その際の磁気テープの幅方向の中央部とガラス板との間隔
In order to achieve the above object, the present invention provides a magnetic recording medium in which a layer (M layer) containing a metal-based oxide is provided on both sides of a polyester film, and the curvature of the magnetic tape defined below is less than 1 mm. The oxygen concentration of the M layer is 45 to 70 at. The thickness of the polyester film is T, the thickness of the M layer (Ma layer) provided on one surface (surface A) and the thickness of the M layer (Mb layer) provided on the other surface (surface B) when the sum of the thicknesses was TM, the value of T / T M is 71-250, a surface resistivity of Ma layer 1.0 × 10 3 ~1.0 × 10 8 Ω, the surface of the Mb layer It is characterized by a support for a magnetic recording medium having a resistivity of 1.0 × 10 9 to 1.0 × 10 14 Ω and a surface resistivity of the Ma layer being smaller than that of the Mb layer.
Curvature when using magnetic tape:
When the magnetic tape is cut out to a length of 20 mm and placed on a flat glass plate so that the magnetic layer is on the top, the magnetic tape is convexly curved toward the magnetic layer, and the measurement is performed in the width direction of the magnetic tape. Distance between the center and the glass plate

本発明の磁気記録媒体用支持体は、蒸着工程での熱負けによる表面欠点や破れがなく安定製膜が可能であり、特に、磁気記録媒体とした際に環境変化による寸法変化が少なく、テープを磁性層側に凸状に湾曲させることで、ヘッドとの密着性が向上し、電磁変換特性が優れた高密度磁気記録媒体用支持体を得ることができる。   The support for magnetic recording medium of the present invention is capable of stable film formation without surface defects or tearing due to heat loss in the vapor deposition process, and in particular, when it is used as a magnetic recording medium, there is little dimensional change due to environmental changes, and the tape Can be curved convexly toward the magnetic layer, thereby improving the adhesion to the head and providing a support for a high-density magnetic recording medium having excellent electromagnetic conversion characteristics.

本発明の支持体は、ポリエステルフィルムの両面に金属系酸化物を含む層(以下、M層という)が設けられ、このM層の酸素濃度がいずれも45〜70at.%である。金属系酸化物とは、例えば、Cu、Zn、Al、Si、Fe、Ag、Ti、Mg、Sn、Zr、In、Cr、Mn、V、Ni、Mo、Ce、Ga、Hf、Nb、Ta、Y、Wなどの金属成分を酸化させたものであって、組成分析を行った場合の平均組成における酸素濃度(酸素原子含有量)が10at.%以上となっているものをいう。なお、at.%とは、atomic%の略である。   In the support of the present invention, a layer containing a metal oxide (hereinafter referred to as M layer) is provided on both sides of a polyester film, and the oxygen concentration of this M layer is 45 to 70 at. %. Examples of the metal oxide include Cu, Zn, Al, Si, Fe, Ag, Ti, Mg, Sn, Zr, In, Cr, Mn, V, Ni, Mo, Ce, Ga, Hf, Nb, and Ta. The oxygen concentration (oxygen atom content) in the average composition when the composition analysis is performed is 10 at. The thing which is more than%. At. % Is an abbreviation of atomic%.

上記の金属系酸化物は、両表面で異なる金属成分を含んでいてもよく、また、複数種の金属成分を混合して含んでいても構わないが、より好ましくは、表面抵抗率の制御のしやすさから、両表面で同一種の金属成分を含む方が良い。中でも、寸法安定性、生産性、環境性の観点から、アルミニウム、銅、亜鉛、銀、珪素元素の少なくとも一種を含んでいることが好ましく、より好ましくはアルミニウム元素が主成分となっていることが好ましい。但し、金属系酸化物を構成する金属成分には、磁気記録媒体とした際に読み取りや書き込みに影響を与えるため磁性金属を含まないことが好ましい。ここでいう磁性金属はFe、Co、Niを表す。   The metal oxide may contain different metal components on both surfaces, and may contain a mixture of a plurality of types of metal components, but more preferably, the surface resistivity is controlled. For ease of use, it is better to contain the same kind of metal component on both surfaces. Among these, from the viewpoint of dimensional stability, productivity, and environmental properties, it is preferable that at least one of aluminum, copper, zinc, silver, and silicon elements is included, and more preferably, the aluminum element is a main component. preferable. However, it is preferable that the metal component constituting the metal-based oxide does not contain a magnetic metal because it affects reading and writing when the magnetic recording medium is used. The magnetic metal here represents Fe, Co, or Ni.

本発明のM層の酸素濃度はいずれも45〜70at.%である。酸素濃度が本発明の範囲内であると環境変化による寸法安定性が極めて良好な支持体を得ることができるため好ましい。M層の酸素濃度が本発明の範囲より大きくなると、硬いが脆く延性のない性質を持つM層が形成されてしまい、蒸着工程や磁気記録媒体の製造工程において支持体にかかる張力あるいは応力によって、M層にクラックが発生してしまい寸法安定性が著しく低下してしまうことがある。また、M層の酸素濃度が本発明の範囲より小さくなると、各M層の表面抵抗率を本発明の範囲内とすることが困難となったり、全光線透過率が低下してしまうため、磁性層を塗布する際の膜厚管理が困難となる場合がある。   The oxygen concentration of the M layer of the present invention is 45 to 70 at. %. It is preferable that the oxygen concentration is within the range of the present invention because a support having extremely good dimensional stability due to environmental changes can be obtained. When the oxygen concentration of the M layer is larger than the range of the present invention, an M layer having a hard but brittle and non-ductile property is formed, and due to the tension or stress applied to the support in the vapor deposition process or the magnetic recording medium manufacturing process, Cracks may occur in the M layer and the dimensional stability may be significantly reduced. In addition, if the oxygen concentration of the M layer is smaller than the range of the present invention, it becomes difficult to make the surface resistivity of each M layer within the range of the present invention, or the total light transmittance is decreased. It may be difficult to control the film thickness when applying the layer.

本発明のM層は、環境変化に対する寸法安定性や湾曲の観点から両面に形成される。片面のみに形成されている場合は、磁気記録媒体としたときの寸法安定性を満足せしめることができない場合があり、さらに、幅方向の湾曲が大きくなりすぎて電磁変換特性が悪化する場合がある。   The M layer of the present invention is formed on both sides from the viewpoints of dimensional stability and bending with respect to environmental changes. When formed on only one side, the dimensional stability when used as a magnetic recording medium may not be satisfied, and the curvature in the width direction may be excessively increased to deteriorate the electromagnetic conversion characteristics. .

M層の形成方法としては物理蒸着法や化学蒸着法を用いることができる。ポリエステルフィルムへの物理蒸着法には真空蒸着法、スパッタリング法があり、特に表面抵抗率の制御のしやすさから真空蒸着法が好ましく、中でも、膜質の剛直性(緻密性)から電子ビーム蒸着法が特に好ましい。また、蒸着順は、M層表面の傷あるいは、蒸着時の熱負け対策の観点から、後述するMb層から先に蒸着を施すことが重要である。   As a method for forming the M layer, physical vapor deposition or chemical vapor deposition can be used. There are two types of physical vapor deposition methods for polyester films: vacuum vapor deposition and sputtering. The vacuum vapor deposition method is particularly preferred because of easy control of the surface resistivity. Among them, the electron beam vapor deposition method is preferred because of the rigidity of the film quality. Is particularly preferred. Moreover, it is important for the order of vapor deposition to perform vapor deposition from the Mb layer mentioned later from a viewpoint of the damage | wound of the surface of M layer, or the countermeasure against the heat loss at the time of vapor deposition.

本発明のポリエステルフィルムの厚み(T)は、用途に応じて適宜決定できるが、通常磁気記録媒体用途では3〜7μmが好ましい。中でも、高密度磁気記録媒体用途の場合、3〜6μmが好ましく、より好ましくは4〜6μmである。厚みが3μmより小さい場合は、テープに腰がなくなるため、磁気ヘッドとの接触性が悪化し、電磁変換特性が低下する場合がある。厚みが7μmより大きい場合は、テープ1巻あたりのテープ長さが短くなるため、磁気テープの小型化、高容量化が困難になる。   The thickness (T) of the polyester film of the present invention can be appropriately determined according to the application, but usually 3 to 7 μm is preferable for the magnetic recording medium application. Especially, in the case of a high density magnetic recording medium use, 3-6 micrometers is preferable, More preferably, it is 4-6 micrometers. When the thickness is smaller than 3 μm, the tape becomes dull, so that the contact with the magnetic head is deteriorated and the electromagnetic conversion characteristics may be deteriorated. When the thickness is larger than 7 μm, the tape length per one tape is shortened, which makes it difficult to reduce the size and increase the capacity of the magnetic tape.

また、一方の面(面A)に設けられたM層(Ma層)の厚みと他方の面(面B)に設けられたM層(Mb層)の厚みの和をTとしたとき、支持体の厚み比(T/T)は、46〜250であることが好ましく、より好ましくは46〜200である。厚み比が本願の範囲内より小さいと湾曲が大きくなり過ぎ、磁気ヘッドとの接触性が不良となり電磁変換特性が悪化する傾向にある。逆に、本発明の範囲よりも大きいと寸法安定性が改善できない場合がある他、高温クラック耐久性が低下する傾向にある。 When the sum of the thickness of the M layer (Ma layer) provided on one surface (surface A) and the thickness of the M layer (Mb layer) provided on the other surface (surface B) is T M , The thickness ratio (T / T M ) of the support is preferably 46 to 250, more preferably 46 to 200. If the thickness ratio is smaller than the range of the present application, the curve becomes too large, the contact property with the magnetic head becomes poor, and the electromagnetic conversion characteristics tend to deteriorate. On the contrary, if it is larger than the range of the present invention, the dimensional stability may not be improved and the high temperature crack durability tends to be lowered.

本発明のMb層の表面抵抗率は、1.0×10〜1.0×1014Ωであり、かつ、Ma層の表面抵抗率がMb層よりも小さい必要がある。最初に形成するMb層の表面抵抗率を本発明の範囲内とすることによって、Mb層と冷却キャンの密着性が低下することがないため、冷却効率も低下せず、次に形成するMa層の蒸着工程時の熱負けによる表面欠点(しわ)やフィルム切れが発生しないため好ましい。 The surface resistivity of the Mb layer of the present invention is 1.0 × 10 9 to 1.0 × 10 14 Ω, and the surface resistivity of the Ma layer needs to be smaller than that of the Mb layer. By making the surface resistivity of the Mb layer formed first within the range of the present invention, the adhesion between the Mb layer and the cooling can is not lowered, so the cooling efficiency is not lowered, and the Ma layer to be formed next. This is preferable because surface defects (wrinkles) and film breakage due to heat loss during the vapor deposition process do not occur.

ここでいう熱負けとは、蒸着時に発生するベースフィルムのシワであり、フィルムと冷却キャンの密着性不良から、蒸着粒子の潜熱や蒸着源からの輻射熱などを効率的に冷却キャン側に逃すことができなくなった場合に部分的にフィルム自体の温度上昇を抑制できなくなり、その部位が軟化して伸びしわを引き起こすものであり、ひどい場合は、フィルムが破れてしまう。   The heat loss referred to here is the wrinkle of the base film that occurs during vapor deposition. Efficiently releases the latent heat of vapor deposition particles and radiation heat from the vapor deposition source to the cooling can side due to poor adhesion between the film and the cooling can. When the film cannot be formed, the temperature rise of the film itself cannot be partially suppressed, the part softens and causes wrinkles, and in a severe case, the film is torn.

磁気テープの製造工程で発生する湾曲に対する抑止効果の観点から、好ましくはMb層の表面抵抗率は、1.0×1010〜1.0×1013Ωである。Mb層の表面抵抗率が本願の範囲内であると、Mb層と冷却キャンの密着性が向上し、Ma層形成時のベースフィルムの熱履歴や熱収縮を抑制することが可能となるので好ましい。 From the viewpoint of a deterrent effect on the curvature generated in the magnetic tape manufacturing process, the surface resistivity of the Mb layer is preferably 1.0 × 10 10 to 1.0 × 10 13 Ω. When the surface resistivity of the Mb layer is within the range of the present application, the adhesion between the Mb layer and the cooling can is improved, and it becomes possible to suppress the thermal history and thermal shrinkage of the base film when forming the Ma layer. .

一般に、表面抵抗率は、M層表面の金属結合を有する金属元素の存在率に影響を受ける。表面抵抗率の制御は、蒸着時の酸素ガス導入量や酸素ガス供給ノズルの位置、金属成分の蒸発量、フィルム搬送速度を調整することで制御することができる。特に金属の蒸発量の影響が大きいが、基本的には、金属蒸発量と酸素ガス導入量の制御で対応することが可能である。金属蒸発量が一定であれば、酸素ガス導入量を減らせば、金属結合を有する金属原子の存在割合が高くなり、表面比抵抗は小さくなる。また逆に、酸素ガス導入量を増やせば、金属結合を有する金属原子の存在割合が低くなり、表面抵抗率は大きくなる。また、酸素ガス導入量が一定であれば、金属蒸発量を減らせば表面抵抗率が高くなり、金属蒸発量を増やせば表面抵抗率が低くなる。この時、M層の厚み均一の観点から、酸素ガスは、金属蒸気の流れる方向と同じ方向に供給することが好ましい。また、酸素ガスの供給ノズルを、フィルムの搬送方向について上流側(巻出し側)と下流側(巻取り側)の両方に設けて、それぞれの酸素ガス導入量を制御することも好ましい。   In general, the surface resistivity is affected by the abundance of metal elements having metal bonds on the surface of the M layer. The surface resistivity can be controlled by adjusting the oxygen gas introduction amount at the time of vapor deposition, the position of the oxygen gas supply nozzle, the evaporation amount of the metal component, and the film conveyance speed. Although the influence of the evaporation amount of the metal is particularly great, it can be basically handled by controlling the evaporation amount of the metal and the introduction amount of the oxygen gas. If the amount of metal evaporation is constant, if the amount of oxygen gas introduced is reduced, the proportion of metal atoms having metal bonds increases, and the surface resistivity decreases. Conversely, if the amount of oxygen gas introduced is increased, the proportion of metal atoms having a metal bond decreases, and the surface resistivity increases. If the amount of introduced oxygen gas is constant, the surface resistivity increases when the metal evaporation amount is decreased, and the surface resistivity decreases when the metal evaporation amount is increased. At this time, from the viewpoint of uniform thickness of the M layer, it is preferable to supply the oxygen gas in the same direction as the flow direction of the metal vapor. It is also preferable to provide oxygen gas supply nozzles on both the upstream side (unwinding side) and the downstream side (winding side) in the film transport direction to control the amount of oxygen gas introduced.

巻出側の酸素導入量を巻取側の酸素導入量よりも大きくすると、フィルムとM層の界面近傍の酸素濃度が、M層の表面側よりも比較的濃くなり、効率よく酸化が促進され、所望の酸素濃度と表面抵抗率を得ることができる。   If the amount of oxygen introduced on the unwinding side is larger than the amount of oxygen introduced on the winding side, the oxygen concentration in the vicinity of the interface between the film and the M layer becomes relatively higher than that on the surface side of the M layer, and oxidation is efficiently promoted. The desired oxygen concentration and surface resistivity can be obtained.

酸素ガス導入量について、好ましくは、酸素ガス供給ノズルの巻出し側と巻取り側との酸素ガス導入量を4:6〜8:2の割合、さらには、5:5〜7:3の割合に調節することは、M層の酸素濃度と表面抵抗率を調節する上で有効であり、Mb層形成時の酸素ガス供給ノズルの高さを高くして冷却キャン付近で酸素ガスを供給する方法は、表面抵抗率を本願の範囲内に制御する上でも有効である。M層の酸素濃度が、所望の範囲を満たしていても、酸素ガスの導入方向や角度、供給ノズルの高さ、両ノズルのガス導入割合によって酸化反応を制御することで、表面近傍の金属−金属結合が制御でき、表面抵抗値を適宜コントロールすることが可能となる。   Regarding the oxygen gas introduction amount, preferably, the oxygen gas introduction amount between the unwinding side and the winding side of the oxygen gas supply nozzle is a ratio of 4: 6 to 8: 2, and further a ratio of 5: 5 to 7: 3. Is effective in adjusting the oxygen concentration and surface resistivity of the M layer, and is a method of supplying oxygen gas near the cooling can by increasing the height of the oxygen gas supply nozzle when forming the Mb layer. Is also effective in controlling the surface resistivity within the scope of the present application. Even if the oxygen concentration in the M layer satisfies the desired range, the oxidation reaction is controlled by the introduction direction and angle of the oxygen gas, the height of the supply nozzle, and the gas introduction ratio of both nozzles. Metal bonding can be controlled, and the surface resistance value can be appropriately controlled.

酸素濃度と表面抵抗率の制御は、いずれも酸素の供給に依存している。しかし、本願では、極表層での金属−金属結合に表面抵抗率は影響を受けると考えるので、酸素濃度、つまりM層全体の酸化状態を意味する酸素濃度とは異なる部位に着目することで問題解決するに至ったものである。   Control of oxygen concentration and surface resistivity both depend on the supply of oxygen. However, in this application, since the surface resistivity is considered to be affected by the metal-metal bond in the extreme surface layer, it is problematic to focus on the site different from the oxygen concentration, that is, the oxygen concentration meaning the oxidation state of the entire M layer. It has come to be solved.

本発明のMa層の表面抵抗率は、磁気テープの製造工程で発生する湾曲を磁性層側、つまりMa層側に凸状に湾曲するよう制御する観点から、Mb層よりも小さいことが必要であり、好ましくは1.0×10〜1.0×10Ω、さらに好ましくは1.0×10〜1.0×10Ωである。 The surface resistivity of the Ma layer of the present invention needs to be smaller than that of the Mb layer from the viewpoint of controlling the curvature generated in the magnetic tape manufacturing process so as to be curved in a convex shape toward the magnetic layer side, that is, the Ma layer side. Yes, preferably 1.0 × 10 3 to 1.0 × 10 8 Ω, and more preferably 1.0 × 10 4 to 1.0 × 10 7 Ω.

Ma層の表面抵抗率と該層の酸素濃度を本発明の範囲内とするには、酸素ガス導入量を巻出側と巻取り側で適宜調節することで達成できる。特に、Ma層の表面抵抗率をMb層の表面抵抗率よりも小さく、かつ、特定の範囲内とするためには、巻出し側と巻取り側の酸素ガス導入量の比を5:5〜9:1の割合、特に6:4〜8:2とすることが有効である。さらに、Ma層形成時の酸素ガス供給ノズルの高さを低くしてルツボ付近で酸素ガスを供給する方法は、表面抵抗率を本願の範囲内に制御する上でも有効である。   In order to set the surface resistivity of the Ma layer and the oxygen concentration of the layer within the range of the present invention, the oxygen gas introduction amount can be appropriately adjusted on the unwinding side and the winding side. In particular, in order to make the surface resistivity of the Ma layer smaller than the surface resistivity of the Mb layer and within a specific range, the ratio of the amount of oxygen gas introduced between the unwinding side and the winding side is 5: 5 to 5: 5. A ratio of 9: 1, particularly 6: 4 to 8: 2, is effective. Furthermore, the method of reducing the height of the oxygen gas supply nozzle when forming the Ma layer and supplying oxygen gas in the vicinity of the crucible is also effective in controlling the surface resistivity within the scope of the present application.

Ma層およびMb層の表面抵抗率を本発明の範囲内とすることによって、各M層中の金属結合を有する金属元素の存在率に比例して温度膨張係数も特定化される。その結果、表面抵抗率の小さいMa層は、金属元素の割合がMb層よりも多いため、Ma層の温度膨張係数は、Mb層の膨張係数よりも大きくなる By setting the surface resistivity of the Ma layer and the Mb layer within the range of the present invention, the temperature expansion coefficient is also specified in proportion to the abundance of the metal element having a metal bond in each M layer. As a result, since the Ma layer having a low surface resistivity has a higher proportion of metal elements than the Mb layer, the temperature expansion coefficient of the Ma layer is larger than the expansion coefficient of the Mb layer .

特に、本発明の支持体は、Ma層の熱膨張係数がMb層よりも大きいため、磁性層を塗布するMa層側を凸状に湾曲するよう制御することが可能となる。その結果、磁気テープと磁気ヘッドとの密着性が増すため電磁変換特性の良好な磁気記録媒体を得ることができると考えられる。   In particular, since the support of the present invention has a larger thermal expansion coefficient of the Ma layer than that of the Mb layer, the Ma layer side on which the magnetic layer is applied can be controlled to be convexly curved. As a result, it is considered that a magnetic recording medium having good electromagnetic conversion characteristics can be obtained because adhesion between the magnetic tape and the magnetic head is increased.

本発明の両M層のヤング率は、Ma層側が凸に湾曲するのを促進する観点から、Ma層のヤング率がMb層のヤング率よりも小さいことが好ましい。M層のヤング率は、M層を構成する金属材料の種類やM層の厚みによって決定されるため限定できないが、例えば、M層を構成する金属材料がアルミニウムである場合、Ma層のヤング率は50〜120GPa、Mb層は80〜200GPaが好ましい。なお、Ma層のヤング率は、Nielsenにより提示された複合ヤング率の以下の予測式から求める。また、同様にMb層のヤング率についても以下の予測式から求める。   The Young's modulus of both M layers of the present invention is preferably such that the Young's modulus of the Ma layer is smaller than the Young's modulus of the Mb layer from the viewpoint of promoting the convex curvature of the Ma layer side. The Young's modulus of the M layer is not limited because it is determined by the type of metal material constituting the M layer and the thickness of the M layer. For example, when the metal material constituting the M layer is aluminum, the Young's modulus of the Ma layer is not limited. Is preferably 50 to 120 GPa, and the Mb layer is preferably 80 to 200 GPa. The Young's modulus of the Ma layer is obtained from the following prediction formula of the composite Young's modulus presented by Nielsen. Similarly, the Young's modulus of the Mb layer is obtained from the following prediction formula.

Figure 0005332436
Figure 0005332436

ここで、E:支持体のヤング率[GPa]、E:ポリエステルフィルムのヤング率[GPa]、Ea:Ma層のヤング率[GPa]、T:ポリエステルフィルムの厚み[μm]、Ta:Ma層の厚み[μm]である。 Here, E: Young's modulus of the support [GPa], E F: Young's modulus of the polyester film [GPa], E M a: Ma layer Young's modulus of [GPa], T: thickness of the polyester film [μm], T M a: the thickness of Ma layer [[mu] m].

本発明の両M層の熱膨張係数は、Ma層側が凸に湾曲するのを促進する観点から、Ma層の熱膨張係数がMb層よりも大きいことが好ましい。M層の熱膨張係数は、M層を構成する金属材料の種類やM層の厚みによって決定されるため限定できないが、例えば、M層を構成する金属材料がアルミニウムである場合、Ma層の熱膨張係数は1〜20ppm/℃であり、Mb層は−10〜0ppm/℃であることが好ましい。Ma層の熱膨張係数は、Nielsenにより提示された以下の複合フィルムの熱膨張係数予測式から求める。また、同様にMb層の熱膨張係数についても以下の予測式から求める。   The thermal expansion coefficients of both M layers of the present invention are preferably such that the thermal expansion coefficient of the Ma layer is larger than that of the Mb layer from the viewpoint of promoting the convex curvature of the Ma layer side. The thermal expansion coefficient of the M layer is not limited because it is determined by the type of metal material constituting the M layer and the thickness of the M layer. For example, when the metal material constituting the M layer is aluminum, the heat of the Ma layer The expansion coefficient is 1 to 20 ppm / ° C., and the Mb layer is preferably −10 to 0 ppm / ° C. The thermal expansion coefficient of the Ma layer is obtained from the following thermal expansion coefficient prediction formula of the composite film presented by Nielsen. Similarly, the thermal expansion coefficient of the Mb layer is obtained from the following prediction formula.

Figure 0005332436
Figure 0005332436

ここで、α:支持体の温度膨張係数[ppm/℃]、α:ポリエステルフィルムの膨張係数[ppm/℃]E:ポリエステルフィルムのヤング率[GPa]、φ:全支持体厚みに対するポリエステルフィルムの厚み比率、αMa:Ma層の膨張係数[ppm/℃]、Ea:Ma層のヤング率[GPa]、φMa:全支持体に対するMa層の厚み比率である。 Here, α: coefficient of thermal expansion of the support [ppm / ° C.], α F : coefficient of expansion of the polyester film [ppm / ° C.] E F : Young's modulus [GPa] of the polyester film, φ F : relative to the total thickness of the support the thickness of the polyester film ratio, alpha Ma: expansion coefficient Ma layer [ppm / ℃], E M a: Ma layer Young's modulus of [GPa], φ Ma: is a thickness ratio of Ma layer to the total support.

本発明の支持体のMa層とMb層の厚みの和(T)は、20〜100nmであることが好ましい。より好ましくは、30〜100nmであり、さらに好ましくは、40〜90nmである。Tが本発明の範囲よりも薄いと磁気テープとしたときの幅方向の寸法安定性が悪化しやすい。また、Tが本発明の範囲よりも厚くなると、磁気テープの製造工程で発生する湾曲制御力が低下し、磁気ヘッドとの接触性が悪化する場合があり、良好な電磁変換特性を得られなくなることがある。 The sum of the thicknesses of the Ma layer and the Mb layer (T M ) of the support of the present invention is preferably 20 to 100 nm. More preferably, it is 30-100 nm, More preferably, it is 40-90 nm. T M is thin and dimensional stability in the width direction is likely to deteriorate when a magnetic tape than the range of the present invention. Further, the T M is thicker than the range of the present invention, the bending control force decreases that occur in the magnetic tape manufacturing process, there are cases where contact with the magnetic head is deteriorated, resulting a good electromagnetic characteristics It may disappear.

本発明のMb層の厚みは、Ma層側が凸状に湾曲するのを促進し、磁気ヘッドとの接触性を向上させる観点から、50nm以下に設定することが好ましい。Mb層の厚みが本願の範囲を超えると、Ma層側が凸状に湾曲しなかったり、逆に、Mb層側が凸状に湾曲する場合がある。   The thickness of the Mb layer of the present invention is preferably set to 50 nm or less from the viewpoint of promoting the convex curvature of the Ma layer side and improving the contact property with the magnetic head. When the thickness of the Mb layer exceeds the range of the present application, the Ma layer side may not be curved in a convex shape, or conversely, the Mb layer side may be curved in a convex shape.

本発明のMa層の厚みは、特に限定されないが50nm以上に設定すると、表面抵抗が低い、つまり酸化度が小さいMa層による延性効果とMa層の厚みによる補強効果との相乗効果により高温クラック耐久性が良好となりより好ましい。   The thickness of the Ma layer of the present invention is not particularly limited, but if it is set to 50 nm or more, the surface resistance is low, that is, the high temperature crack durability due to the synergistic effect of the ductility effect by the Ma layer having a low degree of oxidation and the reinforcement effect by the thickness of the Ma layer It is more preferable because of good properties.

本発明の支持体に用いるポリエステルフィルムを構成するポリエステルとしては、例えば、芳香族ジカルボン酸、脂環族ジカルボン酸または脂肪族ジカルボン酸などの酸成分やジオール成分を構成単位(重合単位)とするポリマーであることが好ましい。   Examples of the polyester constituting the polyester film used for the support of the present invention include polymers having an acid component such as aromatic dicarboxylic acid, alicyclic dicarboxylic acid or aliphatic dicarboxylic acid or a diol component as a structural unit (polymerization unit). It is preferable that

芳香族ジカルボン酸成分としては、例えば、テレフタル酸、イソフタル酸、フタル酸、1,4−ナフタレンジカルボン酸、1,5−ナフタレンジカルボン酸、2,6−ナフタレンジカルボン酸、4,4’−ジフェニルジカルボン酸、4,4’−ジフェニルエーテルジカルボン酸、4,4’−ジフェニルスルホンジカルボン酸等を用いることができ、なかでも好ましくは、テレフタル酸、フタル酸、2,6−ナフタレンジカルボン酸を用いることができる。脂環族ジカルボン酸成分としては、例えば、シクロヘキサンジカルボン酸等を用いることができる。脂肪族ジカルボン酸成分としては、例えば、アジピン酸、スベリン酸、セバシン酸、ドデカンジオン酸等を用いることができる。これらの酸成分は一種のみを用いてもよく、二種以上を併用してもよい。   Examples of the aromatic dicarboxylic acid component include terephthalic acid, isophthalic acid, phthalic acid, 1,4-naphthalenedicarboxylic acid, 1,5-naphthalenedicarboxylic acid, 2,6-naphthalenedicarboxylic acid, and 4,4′-diphenyldicarboxylic acid. Acid, 4,4′-diphenyl ether dicarboxylic acid, 4,4′-diphenylsulfone dicarboxylic acid, and the like can be used. Among them, terephthalic acid, phthalic acid, and 2,6-naphthalenedicarboxylic acid can be preferably used. . As the alicyclic dicarboxylic acid component, for example, cyclohexane dicarboxylic acid or the like can be used. As the aliphatic dicarboxylic acid component, for example, adipic acid, suberic acid, sebacic acid, dodecanedioic acid and the like can be used. These acid components may be used alone or in combination of two or more.

また、ジオール成分としては、例えば、エチレングリコール、1,2−プロパンジオール、1,3−プロパンジオール、ネオペンチルグリコール、1,3−ブタンジオール、1,4−ブタンジオール、1,5−ペンタンジオール、1,6−ヘキサンジオール、1,2−シクロヘキサンジメタノール、1,3−シクロヘキサンジメタノール、1,4−シクロヘキサンジメタノール、ジエチレングリコール、トリエチレングリコール、ポリアルキレングリコール、2,2’−ビス(4’−β−ヒドロキシエトキシフェニル)プロパン等を用いることができ、なかでも好ましくは、エチレングリコール、1,4−ブタンジオール、1,4−シクロヘキサンジメタノール、ジエチレングリコール等を用いることができ、特に好ましくは、エチレングリコール等を用いることができる。これらのジオール成分は一種のみを用いてもよく、二種以上を併用してもよい。   Examples of the diol component include ethylene glycol, 1,2-propanediol, 1,3-propanediol, neopentyl glycol, 1,3-butanediol, 1,4-butanediol, and 1,5-pentanediol. 1,6-hexanediol, 1,2-cyclohexanedimethanol, 1,3-cyclohexanedimethanol, 1,4-cyclohexanedimethanol, diethylene glycol, triethylene glycol, polyalkylene glycol, 2,2′-bis (4 '-Β-hydroxyethoxyphenyl) propane and the like can be used. Among them, ethylene glycol, 1,4-butanediol, 1,4-cyclohexanedimethanol, diethylene glycol and the like can be used, and particularly preferably. , Ethylene grease It can be used Lumpur like. These diol components may be used alone or in combination of two or more.

また、ポリエステルには、ラウリルアルコール、イソシアン酸フェニル等の単官能化合物が共重合されていてもよいし、トリメリット酸、ピロメリット酸、グリセロール、ペンタエリスリトール、2,4−ジオキシ安息香酸、等の3官能化合物などが、過度に分枝や架橋をせずポリマーが実質的に線状である範囲内で共重合されていてもよい。さらに酸成分、ジオール成分以外に、p−ヒドロキシ安息香酸、m−ヒドロキシ安息香酸、2,6−ヒドロキシナフトエ酸などの芳香族ヒドロキシカルボン酸およびp−アミノフェノール、p−アミノ安息香酸などを本発明の効果が損なわれない程度の少量であればさらに共重合せしめることができる。   The polyester may be copolymerized with a monofunctional compound such as lauryl alcohol or phenyl isocyanate, trimellitic acid, pyromellitic acid, glycerol, pentaerythritol, 2,4-dioxybenzoic acid, etc. Trifunctional compounds and the like may be copolymerized within a range in which the polymer is substantially linear without excessive branching or crosslinking. In addition to the acid component and diol component, the present invention includes aromatic hydroxycarboxylic acids such as p-hydroxybenzoic acid, m-hydroxybenzoic acid, and 2,6-hydroxynaphthoic acid, p-aminophenol, and p-aminobenzoic acid. As long as the effect is not impaired, the copolymerization can be further carried out.

本発明の支持体に用いるポリエステルとしては、強度、耐熱性、生産性の観点からポリエチレンテレフタレート、ポリエチレンナフタレートが好ましい。また、これらの共重合体、および変性体でもよく、他の熱可塑性樹脂とのポリマーアロイでもよい。特に、ポリエステル樹脂とポリイミド系樹脂のポリマーアロイは混合割合によって耐熱性(ガラス転移温度)を制御できるため、使用条件に合わせたポリマー設計ができるため好ましい。   The polyester used for the support of the present invention is preferably polyethylene terephthalate or polyethylene naphthalate from the viewpoints of strength, heat resistance, and productivity. Further, these copolymers and modified products may be used, and polymer alloys with other thermoplastic resins may be used. In particular, a polymer alloy of a polyester resin and a polyimide resin is preferable because the heat resistance (glass transition temperature) can be controlled by the mixing ratio, and the polymer can be designed according to the use conditions.

本発明の支持体に用いるポリエステルフィルムは、2層以上の積層構成であることが好ましい。特に、磁気記録媒体用途に用いるため、表裏の表面には、優れた電磁変換特性を得るための平滑な表面と、製膜・加工工程での搬送や、磁気テープの走行性や走行耐久性を付与するために比較的粗い表面粗さの表面形態が求められる。この意味でも、フィルムは2層以上の積層構成であることが好ましい。   The polyester film used for the support of the present invention preferably has a laminated structure of two or more layers. In particular, for use in magnetic recording media, the front and back surfaces have smooth surfaces to obtain excellent electromagnetic conversion characteristics, transport during film formation and processing, and the running and durability of magnetic tape. In order to impart, a surface form having a relatively rough surface roughness is required. Also in this sense, the film preferably has a laminated structure of two or more layers.

本発明の支持体に用いるポリエステルフィルムは、フィルム表面に易滑性や耐摩耗性、耐スクラッチ性などを付与するために特に限定されないが、無機粒子、有機粒子、いずれも用いることができる。もちろん、1種類の粒子でも、2種類以上の粒子を併用してもかまわない。具体的な種類としては、例えば、クレー、マイカ、酸化チタン、炭酸カルシウム、湿式シリカ、乾式シリカ、コロイド状シリカ、リン酸カルシウム、硫酸バリウム、アルミナ珪酸塩、カオリン、タルク、モンモリロナイト、アルミナ、ジルコニア等の無機粒子、アクリル酸類、スチレン系樹脂、シリコーン、イミド等を構成成分とする有機粒子などが添加されてもよい。   The polyester film used for the support of the present invention is not particularly limited in order to impart easy slipping, abrasion resistance, scratch resistance and the like to the film surface, but inorganic particles and organic particles can be used. Of course, one kind of particles or two or more kinds of particles may be used in combination. Specific types include, for example, clay, mica, titanium oxide, calcium carbonate, wet silica, dry silica, colloidal silica, calcium phosphate, barium sulfate, alumina silicate, kaolin, talc, montmorillonite, alumina, zirconia and the like. Organic particles containing particles, acrylic acid, styrene resin, silicone, imide and the like as constituent components may be added.

含有される上記不活性粒子の平均粒径としては、所望の両M層の表面粗さRaを得、かつ、磁気記録媒体として優れた電磁変換特性を得るために、0.01〜0.8μm、特に、0.02〜0.3μmの粒径を有することが好ましい。なお、粒径の異なる2種類以上の不活性粒子を含有する場合は、それぞれの平均粒径(測定方法は後述)が全て上記範囲内であることが好ましい。   The average particle diameter of the inert particles contained is 0.01 to 0.8 μm in order to obtain the desired surface roughness Ra of both M layers and to obtain excellent electromagnetic conversion characteristics as a magnetic recording medium. In particular, it is preferable to have a particle size of 0.02 to 0.3 μm. In addition, when two or more types of inert particles having different particle diameters are contained, it is preferable that the respective average particle diameters (measurement methods are described later) are all within the above range.

不活性粒子の含有量は、フィルム全体として5質量%以下、好ましくは0.05〜3質量%の範囲内であることが好ましい。   The content of the inert particles is 5% by mass or less, preferably 0.05 to 3% by mass as the whole film.

本発明の支持体は、本発明を阻害しない範囲内で各種添加剤、例えば、相溶化剤、可塑剤、耐候剤、酸化防止剤、熱安定剤、滑剤、帯電防止剤、増白剤、着色剤、導電剤、結晶核剤、紫外線吸収剤、難燃剤、難燃助剤、顔料、染料、などが添加されてもよい。   The support of the present invention is various additives within the range not inhibiting the present invention, such as compatibilizers, plasticizers, weathering agents, antioxidants, heat stabilizers, lubricants, antistatic agents, whitening agents, and coloring. Agents, conductive agents, crystal nucleating agents, ultraviolet absorbers, flame retardants, flame retardant aids, pigments, dyes, and the like may be added.

本発明の支持体は必要に応じて、熱処理、マイクロ波加熱、成形、表面処理、ラミネート、コーティング、印刷、エンボス加工、エッチング、紫外線照射などの任意の加工を行ってもよい。   The support of the present invention may be subjected to any processing such as heat treatment, microwave heating, molding, surface treatment, laminating, coating, printing, embossing, etching, and ultraviolet irradiation as necessary.

本発明の支持体の全光線透過率は、20〜78%であることが好ましい。78%より高い場合、酸化が進みすぎているため、M層が硬く脆くなり、張力や湾曲によってクラックを生じやすくなる傾向にある。全光線透過率が20%未満では、磁性層形成時に厚み管理が不可能となりやすい。全光線透過率の下限は、より好ましくは25%である。一方、上限は70%がより好ましく、さらに好ましくは60%である。   The total light transmittance of the support of the present invention is preferably 20 to 78%. If it is higher than 78%, since the oxidation has progressed too much, the M layer becomes hard and brittle, and it tends to cause cracks due to tension and curvature. If the total light transmittance is less than 20%, the thickness control tends to be impossible when forming the magnetic layer. The lower limit of the total light transmittance is more preferably 25%. On the other hand, the upper limit is more preferably 70%, and still more preferably 60%.

本発明の支持体は、Ma層の表面粗さRaが0.3nm〜10nmであることが好ましい。好ましくはRaが0.5nm〜8nmである。Raが0.3nmより小さい場合は、フィルム製造、加工工程などで、搬送ロールなどとの摩擦係数が大きくなり、工程トラブルを起こす場合がある。また、磁気テープとして用いる場合に、磁気ヘッドとの摩擦が大きくなり、磁気テープ特性が低下しやすくなる。表面粗さRaが10nmより大きくなると、高密度記録の磁気テープとして用いる場合に、磁性面側が粗くなり、電磁変換特性が低下する傾向にある。   In the support of the present invention, the surface roughness Ra of the Ma layer is preferably 0.3 nm to 10 nm. Ra is preferably 0.5 nm to 8 nm. When Ra is smaller than 0.3 nm, the friction coefficient with a transport roll or the like becomes large in film production, processing steps, etc., which may cause a process trouble. Further, when used as a magnetic tape, the friction with the magnetic head is increased, and the magnetic tape characteristics are liable to deteriorate. When the surface roughness Ra is larger than 10 nm, when used as a magnetic tape for high-density recording, the magnetic surface side becomes rough, and the electromagnetic conversion characteristics tend to deteriorate.

本発明の支持体のMb層の表面粗さRaは、5〜20nmであることが好ましい。Raが5nmより小さい場合は、フィルム製造、加工工程などで、搬送ロールなどとの摩擦係数が大きくなり、工程トラブルが起こりやすくなる。また、磁気テープとして用いる場合に、ガイドロールとの摩擦が大きくなり、テープ走行性や走行耐久性が低下しやすい。また、表面粗さRaが20nmより大きい場合は、フィルムロールやパンケーキとして保存する際に、表面突起が反対側の表面に転写し、電磁変換特性が低下する傾向がある。さらに、蒸着工程において、2面目のMa層の蒸着時にMb層と冷却キャンの密着性が著しく低下することによって熱負けを起こす場合がある。その結果、フィルム破れが発生しやすい。工程安定性および電磁変換特性の観点から、Mb層の表面粗さRaは、5〜15nmであることが好ましい。   The surface roughness Ra of the Mb layer of the support of the present invention is preferably 5 to 20 nm. When Ra is smaller than 5 nm, a friction coefficient with a conveyance roll etc. becomes large in film production, a processing process, etc., and process troubles easily occur. Further, when used as a magnetic tape, the friction with the guide roll increases, and the tape running performance and running durability tend to be lowered. Moreover, when surface roughness Ra is larger than 20 nm, when storing as a film roll or a pancake, the surface protrusion tends to be transferred to the surface on the opposite side, and the electromagnetic conversion characteristics tend to deteriorate. Furthermore, in the vapor deposition process, heat loss may occur due to a significant decrease in the adhesion between the Mb layer and the cooling can during the deposition of the second Ma layer. As a result, film tearing is likely to occur. From the viewpoint of process stability and electromagnetic conversion characteristics, the surface roughness Ra of the Mb layer is preferably 5 to 15 nm.

本発明の支持体は、幅方向のヤング率が7〜12GPaであることが好ましい。さらに好ましくは7〜12GPaである。7GPaより小さい場合、テープドライブ内での長手方向への張力によって長手方向に伸び、この伸び変形により幅方向に収縮し、記録トラックずれという問題が発生しやすい。12GPaより大きい場合、テープ破断が起こり易くなる場合がある。また、長手方向のヤング率が不足しがちになる。   The support of the present invention preferably has a Young's modulus in the width direction of 7 to 12 GPa. More preferably, it is 7-12 GPa. When the pressure is less than 7 GPa, the film extends in the longitudinal direction due to the tension in the longitudinal direction in the tape drive, and contracts in the width direction due to the elongation deformation, so that the problem of recording track deviation is likely to occur. If it is greater than 12 GPa, tape breakage may occur easily. In addition, the Young's modulus in the longitudinal direction tends to be insufficient.

本発明の支持体は、長手方向のヤング率が7〜12GPaであることが好ましい。さらに好ましくは7.5〜10GPaである。7GPaより小さい場合、テープドライブ内での長手方向への張力によって、テープが長手方向に伸びると同時に、テープが幅方向に収縮し、幅方向の寸法安定性が悪化するために記録トラックずれという問題が発生しやすい。12GPaより大きい場合、テープ破断が起こり易く、また、幅方向のヤング率が不足する傾向にある。   The support of the present invention preferably has a Young's modulus in the longitudinal direction of 7 to 12 GPa. More preferably, it is 7.5-10GPa. If it is less than 7 GPa, the longitudinal tension in the tape drive causes the tape to extend in the longitudinal direction, and at the same time, the tape contracts in the width direction, resulting in a deterioration in dimensional stability in the width direction. Is likely to occur. If it is greater than 12 GPa, the tape is liable to break, and the Young's modulus in the width direction tends to be insufficient.

なお、本発明において、支持体の長手方向とはポリエステルフィルムの長手方向と同じ方向を指し(MD方向とも呼ばれる)、一般にフィルムの製膜方向のことをいう。また、支持体の幅方向とはポリエステルフィルムの幅方向と同じ方向を指し(TD方向とも呼ばれる)、上記長手方向と直角の方向をいう。   In the present invention, the longitudinal direction of the support refers to the same direction as the longitudinal direction of the polyester film (also referred to as MD direction), and generally refers to the film forming direction of the film. Moreover, the width direction of a support body points out the same direction as the width direction of a polyester film (it is also called TD direction), and means the direction orthogonal to the said longitudinal direction.

本発明の支持体に用いるポリエステルフィルムの製造方法は、ポリエステルのペレットを押出機を用いた溶融押出により口金から吐出し、吐出されたポリマーを冷却固化させてシート状に成形することが好ましい。その際、繊維焼結ステンレス金属フィルターによりポリマーを濾過することが、ポリマー中の未溶融物を除去し、粗大突起のないフィルムを得ることができ好ましい。   In the method for producing a polyester film used for the support of the present invention, polyester pellets are preferably discharged from a die by melt extrusion using an extruder, and the discharged polymer is cooled and solidified to form a sheet. At that time, it is preferable to filter the polymer with a fiber-sintered stainless steel filter because it can remove unmelted material in the polymer and obtain a film without coarse protrusions.

本発明の支持体に用いるポリエステルフィルムの延伸形式としては、長手方向に延伸した後に幅方向に延伸を行うなどの逐次二軸延伸法や、同時二軸テンター等を用いて長手方向と幅方向を同時に延伸する同時二軸延伸法、さらに、逐次二軸延伸法と同時二軸延伸法を組み合わせた方法などが包含される。   As the stretching method of the polyester film used for the support of the present invention, the longitudinal direction and the width direction are determined using a sequential biaxial stretching method such as stretching in the width direction after stretching in the longitudinal direction, a simultaneous biaxial tenter or the like. A simultaneous biaxial stretching method in which stretching is performed simultaneously, and a method in which a sequential biaxial stretching method and a simultaneous biaxial stretching method are combined are included.

以下、本発明の支持体の製造方法について、ポリエチレンテレフタレート(PET)をポリエステルとして用いた例を代表例として説明する。もちろん、本願はPETに限定されるものではなく、他のポリマー、例えばガラス転移温度や融点の高いポリマーなどを用いる場合は、以下に示す温度よりも高温で押出や延伸を行うなど、適宜調整を行い支持体を製造することが可能である。   Hereinafter, the method for producing the support of the present invention will be described as an example in which polyethylene terephthalate (PET) is used as polyester. Of course, the present application is not limited to PET, and when other polymers such as a polymer having a high glass transition temperature or a high melting point are used, appropriate adjustments such as extrusion and stretching at a temperature higher than the following temperatures may be made. It is possible to produce a support.

まず、ポリエチレンテレフタレートを例にしてポリエステルの製造方法を説明する。   First, a method for producing polyester will be described using polyethylene terephthalate as an example.

本発明で使用するポリエチレンテレフタレートは、次のいずれかのプロセスで製造される。すなわち、(1)テレフタル酸とエチレングリコールを原料とし、直接エステル化反応によって低分子量のポリエチレンテレフタレートまたはオリゴマーを得、さらにその後の三酸化アンチモンやチタン化合物を触媒に用いた重縮合反応によってポリマーを得るプロセス、(2)ジメチルテレフタレートとエチレングリコールを原料とし、エステル交換反応によって低分子量体を得、さらにその後の三酸化アンチモンやチタン化合物を触媒に用いた重縮合反応によってポリマーを得るプロセスである。ここで、エステル化は無触媒でも反応は進行するが、エステル交換反応においては、通常、マンガン、カルシウム、マグネシウム、亜鉛、リチウム、チタン等の化合物を触媒に用いて進行させ、またエステル交換反応が実質的に完結した後に、該反応に用いた触媒を不活性化する目的で、リン化合物を添加する場合もある。   The polyethylene terephthalate used in the present invention is produced by any one of the following processes. (1) Using terephthalic acid and ethylene glycol as raw materials, a low molecular weight polyethylene terephthalate or oligomer is obtained by direct esterification reaction, and then a polymer is obtained by polycondensation reaction using antimony trioxide or titanium compound as a catalyst. Process (2) A process in which dimethyl terephthalate and ethylene glycol are used as raw materials, a low molecular weight product is obtained by transesterification, and then a polymer is obtained by polycondensation reaction using antimony trioxide or a titanium compound as a catalyst. Here, the reaction proceeds even without a catalyst, but the transesterification usually proceeds using a compound such as manganese, calcium, magnesium, zinc, lithium, titanium as a catalyst, and the transesterification reaction is carried out. After the completion of the reaction, a phosphorus compound may be added for the purpose of inactivating the catalyst used in the reaction.

また、フィルムを構成するポリエステルに不活性粒子を含有させる場合には、エチレングリコールに不活性粒子を所定割合にてスラリーの形で分散させ、このエチレングリコールを重合時に添加する方法が好ましい。不活性粒子を添加する際には、例えば、不活性粒子の合成時に得られる水ゾルやアルコールゾル状態の粒子を一旦乾燥させることなく添加すると粒子の分散性がよい。また、不活性粒子の水スラリーを直接PETペレットと混合し、ベント式二軸混練押出機を用いて、PETに練り込む方法も有効である。不活性粒子の含有量を調節する方法としては、上記方法で高濃度の不活性粒子のマスターペレットを作っておき、それを製膜時に不活性粒子を実質的に含有しないPETで希釈して不活性粒子の含有量を調節する方法が有効である。   Moreover, when making the polyester which comprises a film contain an inert particle, the method to which an inert particle is disperse | distributed in the form of a slurry in ethylene glycol in a predetermined ratio, and adding this ethylene glycol at the time of superposition | polymerization is preferable. When adding inert particles, for example, water sol or alcohol sol particles obtained at the time of synthesis of the inert particles are added without drying once, the dispersibility of the particles is good. It is also effective to mix an aqueous slurry of inert particles directly with PET pellets and knead them into PET using a vented biaxial kneading extruder. As a method for adjusting the content of the inert particles, a master pellet of a high concentration of inert particles is prepared by the above method, and this is diluted with PET that does not substantially contain inert particles during film formation. A method for adjusting the content of the active particles is effective.

得られたPETのペレットを、180℃で3時間以上減圧乾燥した後、固有粘度が低下しないように窒素気流下あるいは減圧下で、280〜320℃に加熱された押出機に供給し、スリット状のダイから押出し、キャスティングロール上で冷却して未延伸フィルムを得る。この際、異物や変質ポリマーを除去するために各種のフィルター、例えば、焼結金属、多孔性セラミック、サンド、金網などの素材からなるフィルターを用いることが好ましい。また、必要に応じて、定量供給性を向上させるためにギアポンプを設けてもよい。フィルムを積層する場合には、2台以上の押出機およびマニホールドまたは合流ブロックを用いて、複数の異なるポリマーを溶融積層する。   The obtained PET pellets were dried under reduced pressure at 180 ° C. for 3 hours or more, and then supplied to an extruder heated at 280 to 320 ° C. under a nitrogen stream or under reduced pressure so as not to lower the intrinsic viscosity. The film is extruded from a die and cooled on a casting roll to obtain an unstretched film. At this time, it is preferable to use various types of filters, for example, filters made of materials such as sintered metal, porous ceramics, sand, and wire mesh, in order to remove foreign substances and altered polymers. Moreover, you may provide a gear pump as needed in order to improve fixed_quantity | feed_rate supply property. When laminating films, a plurality of different polymers are melt laminated using two or more extruders and manifolds or merging blocks.

次に、この未延伸フィルムをたとえば同時二軸延伸テンターに導いて、長手および幅方向に同時に二軸延伸を行う。延伸速度は長手、幅方向ともに100〜20,000%/分の範囲で行うのが好ましい。より好ましくは、500〜10,000%/分、さらに好ましくは2,000〜7,000%/分である。延伸速度が100%/分よりも小さい場合には、フィルムが熱にさらされる時間が長くなるため、特にエッジ部分が結晶化して延伸破れの原因となり製膜性が低下したり、十分に分子配向が進まず、製造したフィルムのヤング率が低下することがある。また、20,000%/分よりも大きい場合には、延伸時点で分子間の絡み合いが生成しやすくなり、延伸性が低下して、高倍率の延伸が困難となることがある。   Next, this unstretched film is guided to a simultaneous biaxial stretching tenter, for example, and biaxial stretching is simultaneously performed in the longitudinal and width directions. The stretching speed is preferably 100 to 20,000% / min in both the longitudinal and width directions. More preferably, it is 500-10,000% / min, More preferably, it is 2,000-7,000% / min. When the stretching speed is less than 100% / min, the film is exposed to heat for a long time. In particular, the edge portion is crystallized to cause stretching breakage, and the film-forming property is lowered. However, the Young's modulus of the produced film may be lowered. On the other hand, if it is higher than 20,000% / min, entanglement between molecules is likely to occur at the time of stretching, and the stretchability may be lowered, making it difficult to stretch at a high magnification.

延伸温度は、用いるポリマーの種類によって異なるが、未延伸フィルムのガラス転移温度Tgを目安として決めることができる。長手方向および幅方向それぞれの1段目の延伸工程における温度は、Tg〜Tg+30℃の範囲であることが好ましく、より好ましくはTg+5℃〜Tg+20℃である。上記範囲より延伸温度が低い場合には、フィルム破れが多発して生産性が低下したり、再延伸性が低下して、高倍率に安定して延伸することが困難となることがある。また、上記範囲よりも延伸温度が高い場合には、特にエッジ部分が結晶化して延伸破れの原因となり製膜性が低下したり、十分に分子配向が進まず、製造したフィルムのヤング率が低下することがある。   The stretching temperature varies depending on the type of polymer used, but can be determined using the glass transition temperature Tg of the unstretched film as a guide. The temperature in the first stretching step in each of the longitudinal direction and the width direction is preferably in the range of Tg to Tg + 30 ° C, more preferably Tg + 5 ° C to Tg + 20 ° C. When the stretching temperature is lower than the above range, film tearing frequently occurs and the productivity is lowered, or the redrawability is lowered, and it may be difficult to stably stretch at a high magnification. In addition, when the stretching temperature is higher than the above range, particularly the edge portion is crystallized to cause stretching breakage, the film forming property is lowered, the molecular orientation does not advance sufficiently, and the Young's modulus of the produced film is lowered. There are things to do.

そして、ポリエステルフィルムの製造工程が多段延伸、すなわち再延伸工程を含む場合、1段目の延伸温度は上述のとおりであるが、2段目の延伸温度はTg+40℃〜Tg+120℃が好ましく、さらに好ましくはTg+60℃〜Tg+100℃である。延伸温度が上記範囲を外れる場合には、熱量不足や結晶化の進みすぎによって、フィルム破れが多発して生産性が低下したり、十分に配向を高めることができず、強度が低下する場合がある。   And when the manufacturing process of a polyester film includes multistage stretching, that is, a re-stretching process, the first stage stretching temperature is as described above, but the second stage stretching temperature is preferably Tg + 40 ° C. to Tg + 120 ° C., more preferably. Is Tg + 60 ° C. to Tg + 100 ° C. When the stretching temperature is out of the above range, the film may be broken frequently due to insufficient heat amount or excessive crystallization, resulting in a decrease in productivity or a sufficient decrease in orientation, resulting in a decrease in strength. is there.

一方、延伸倍率は、用いるポリマーの種類や延伸温度によって異なり、また多段延伸の場合も異なるが、総面積延伸倍率(総縦延伸倍率×総横延伸倍率)が、20〜40倍の範囲になるようにすることが好ましい。より好ましくは25〜35倍である。長手方向、幅方向の一方向の総延伸倍率としては、2.5〜8倍が好ましく、より好ましくは、3〜7倍である。延伸倍率が上記範囲より小さい場合には、延伸ムラなどが発生しフィルムの加工適性が低下することがある。また、延伸倍率が上記範囲より大きい場合には、延伸破れが多発して、生産性が低下する場合がある。   On the other hand, the stretching ratio varies depending on the type of polymer used and the stretching temperature, and also in the case of multistage stretching, but the total area stretching ratio (total longitudinal stretching ratio × total transverse stretching ratio) is in the range of 20 to 40 times. It is preferable to do so. More preferably, it is 25 to 35 times. The total draw ratio in one direction of the longitudinal direction and the width direction is preferably 2.5 to 8 times, and more preferably 3 to 7 times. If the draw ratio is smaller than the above range, uneven drawing or the like may occur and the processability of the film may be reduced. Moreover, when a draw ratio is larger than the said range, stretch breaks occur frequently and productivity may fall.

各方向に関して延伸を多段で行う場合、1段目の長手、幅方向それぞれにおける延伸倍率は、2.5〜5倍が好ましく、より好ましくは3〜4倍である。また、1段目における好ましい面積延伸倍率は8〜16倍であり、より好ましくは、9〜14倍である。これらの延伸倍率の値は、特に同時二軸延伸法を採用する場合に好適な値であるが、逐次二軸延伸法でも適用できる。   When extending | stretching by multiple steps | paragraphs regarding each direction, 2.5 to 5 times is preferable and, as for the draw ratio in each of the longitudinal direction of the 1st step, and the width direction, More preferably, it is 3 to 4 times. Moreover, the preferable area draw ratio in the first stage is 8 to 16 times, and more preferably 9 to 14 times. These stretch ratio values are particularly suitable when the simultaneous biaxial stretching method is employed, but can also be applied to the sequential biaxial stretching method.

また、再延伸を行う場合の一方向における延伸倍率は、1.05〜2.5倍が好ましく、より好ましくは1.2〜1.8倍である。再延伸の面積延伸倍率としては、1.4〜4倍が好ましく、より好ましくは1.9〜3倍である。   Moreover, 1.05-2.5 times are preferable and, as for the draw ratio in one direction in the case of performing redrawing, More preferably, it is 1.2-1.8 times. The area stretching ratio for re-stretching is preferably 1.4 to 4 times, more preferably 1.9 to 3 times.

続いて、この延伸フィルムを緊張下または幅方向に弛緩しながら熱処理する。熱処理条件は、熱処理温度は、150℃〜230℃が好ましく、熱処理時間は0.5〜10秒の範囲で行うのが好ましい。熱処理工程を2段階以上の多段階で行うことが好ましく、特に、1段目の熱処理温度を好ましくは180〜230℃、さらに好ましくは190〜220℃に設定して、2段目の熱処理温度を1段目より低温にして、好ましくは150〜200℃、さらに好ましくは150〜180℃に設定する。さらに、2段目の熱処理工程のみを幅方向に1〜5%の弛緩率で弛緩処理するとさらに好ましい。上述の多段階の熱処理工程によると、ヤング率や温度・湿度変化に対する寸法安定性を高めつつ、分子鎖緩和が効果的に進行するので、本発明の効果である荷重が負荷された状態で保存したときの寸法変化を表す保存安定性を高めやすくなる。   Subsequently, this stretched film is heat-treated under tension or while relaxing in the width direction. As for the heat treatment conditions, the heat treatment temperature is preferably 150 ° C. to 230 ° C., and the heat treatment time is preferably in the range of 0.5 to 10 seconds. It is preferable to perform the heat treatment process in two or more stages. In particular, the first stage heat treatment temperature is preferably set to 180 to 230 ° C., more preferably 190 to 220 ° C. The temperature is set to be lower than that in the first stage, preferably 150 to 200 ° C, more preferably 150 to 180 ° C. Further, it is more preferable that only the second heat treatment step is relaxed at a relaxation rate of 1 to 5% in the width direction. According to the multi-step heat treatment process described above, molecular chain relaxation effectively proceeds while increasing dimensional stability against changes in Young's modulus and temperature / humidity, so that it is stored under a load that is an effect of the present invention. It becomes easy to improve the storage stability showing the dimensional change when doing.

その後、フィルムエッジを除去し、ロールに巻き取る。そして、フィルムをコアに巻いた状態(ロール状フィルム)で、熱風オーブンなどで加熱処理することは好ましい。このロール状フィルムの加熱処理は2段階以上の多段階で行う。加熱処理の雰囲気温度は、二軸延伸フィルムのガラス転移温度(Tg)を目安にして決定することができ、(Tg−80)〜(Tg−30)℃の範囲、より好ましくは(Tg−75)〜(Tg−35)℃の範囲、さらに好ましくは(Tg−70)〜(Tg−40)℃の範囲である。好ましい処理時間は、10〜360時間の範囲、より好ましくは24〜240時間の範囲、さらに好ましくは72〜168時間である。多段階で行うロール状フィルムの加熱処理の合計時間が上記範囲内となるようにすることが好ましい。   Thereafter, the film edge is removed and wound on a roll. And it is preferable to heat-process with a hot air oven etc. in the state (roll film) which wound the film around the core. The heat treatment of the roll film is performed in two or more stages. The atmospheric temperature of the heat treatment can be determined based on the glass transition temperature (Tg) of the biaxially stretched film, and is in the range of (Tg-80) to (Tg-30) ° C., more preferably (Tg-75). ) To (Tg-35) ° C., more preferably (Tg-70) to (Tg-40) ° C. The preferable treatment time is in the range of 10 to 360 hours, more preferably in the range of 24 to 240 hours, and still more preferably 72 to 168 hours. It is preferable that the total time of the heat treatment of the roll film performed in multiple stages is within the above range.

次に、上記のようにして得られたPETフィルムの両面に金属系酸化物を含む層(M層)を設ける方法を説明する。   Next, a method for providing a layer (M layer) containing a metal-based oxide on both sides of the PET film obtained as described above will be described.

PETフィルム表面にM層を形成するには、たとえば図2に示すような真空蒸着装置を用いる。この真空蒸着装置11においては、真空チャンバ12の内部をポリエステルフィルム14が巻出しロール部13からガイドロール15を介し冷却ドラム16を経て巻取りロール部18へと走行する。そのときに、蒸着チャンバ17内に設置されたるつぼ23内の金属材料19を、電子銃20から照射した電子ビーム21で加熱蒸発させるとともに、酸素ガスボンベ22から酸素供給ノズル24a(巻出側酸素供給ノズル)および24b(巻取側酸素供給ノズル)を通じて酸素ガスを導入し、蒸発した金属を酸化反応させながら冷却ドラム16上のポリエステルフィルムに蒸着する。蒸着部はマスク26により適宜制御される。本発明は両面にM層が必要なため、片方の表面(1面目)に金属系酸化物を蒸着した後巻取りロール部18から片面蒸着ポリエステルフィルムを取り外し、それを巻出しロール部13にセットし同じように反対側の表面(2面目)に金属系酸化物を蒸着する。なお、この真空蒸着装置11は、表面抵抗率を容易に制御できるように、酸素供給ノズルを蒸着源であるるつぼ23の前後、すなわち巻出側酸素供給ノズル24aと巻取側酸素供給ノズル24bとをそれぞれ巻出側と巻取側に配置し、さらに、酸素供給ノズルは、ガス流量制御装置25により流量が制御されると共に、高さを適宜調節できる仕組みとなっている。また、酸素供給ノズルは、金属蒸気と酸素ガスとが同じ方向に流れるように吹き出し口が設定されている。この時、吹き出し口から噴射される酸素ガスの直進方向27と冷却キャンの下部頂点Aを接点とする接線28とがなす角度θが45°〜80°となるようにノズルの角度を調節すると、酸素ガスによる金属蒸気の飛散に乱れを生じることなく、緻密で均質なM層を形成できる(図3参照)。酸素ガス供給ノズルの高さは、フィルムとの距離が近くなるほど、急激な酸化反応熱の影響でフィルムが熱負けする場合があるため、酸素吹き出し口と冷却キャンの下部頂点とを結ぶ直線距離29は、冷却キャンとその直下に配置しているルツボとの距離30の1/5以下とならない位置にノズルの高さを調節する。   In order to form the M layer on the surface of the PET film, for example, a vacuum deposition apparatus as shown in FIG. 2 is used. In this vacuum vapor deposition apparatus 11, the polyester film 14 travels inside the vacuum chamber 12 from the unwinding roll 13 to the winding roll 18 through the guide roll 15, the cooling drum 16, and the like. At that time, the metal material 19 in the crucible 23 installed in the vapor deposition chamber 17 is heated and evaporated by the electron beam 21 irradiated from the electron gun 20, and the oxygen supply nozzle 24a (unwinding side oxygen supply) is supplied from the oxygen gas cylinder 22. Nozzle) and 24b (winding side oxygen supply nozzle) introduce oxygen gas and deposit it on the polyester film on the cooling drum 16 while oxidizing the evaporated metal. The vapor deposition part is appropriately controlled by the mask 26. Since the present invention requires M layers on both sides, after depositing a metal-based oxide on one surface (first side), the single-side vapor-deposited polyester film is removed from the take-up roll section 18 and set on the unwind roll section 13. Similarly, a metal-based oxide is deposited on the opposite surface (second surface). In this vacuum deposition apparatus 11, the oxygen supply nozzle is arranged before and after the crucible 23 as a deposition source, that is, the unwinding side oxygen supply nozzle 24a and the unwinding side oxygen supply nozzle 24b so that the surface resistivity can be easily controlled. Are arranged on the unwinding side and the winding side, respectively, and the oxygen supply nozzle has a mechanism in which the flow rate is controlled by the gas flow rate control device 25 and the height can be adjusted appropriately. Further, the oxygen supply nozzle has a blowout port so that the metal vapor and the oxygen gas flow in the same direction. At this time, when the angle of the nozzle is adjusted so that the angle θ formed by the rectilinear direction 27 of the oxygen gas injected from the outlet and the tangent 28 having the lower vertex A of the cooling can as a contact is 45 ° to 80 °, A dense and homogeneous M layer can be formed without disturbing the scattering of metal vapor by oxygen gas (see FIG. 3). The height of the oxygen gas supply nozzle is such that the closer the distance to the film is, the more the film loses heat due to the effect of rapid oxidation reaction heat. Therefore, the linear distance 29 connecting the oxygen outlet and the lower vertex of the cooling can 29 Adjusts the height of the nozzle to a position that does not become 1/5 or less of the distance 30 between the cooling can and the crucible disposed immediately below.

ここで、真空チャンバ12の内部は1.0×10−8〜1.0×10Paに減圧することが好ましい。さらに緻密で劣化部分の少ないM層を形成させるためには、1.0×10−6〜1.0×10−1Paに減圧することが好ましい。 Here, the inside of the vacuum chamber 12 is preferably decompressed to 1.0 × 10 −8 to 1.0 × 10 2 Pa. Further, in order to form a dense M layer with few deteriorated portions, it is preferable to reduce the pressure to 1.0 × 10 −6 to 1.0 × 10 −1 Pa.

冷却ドラム16は、その表面温度を−40〜−15℃の範囲内にすることが好ましい。より好ましくは−30〜−20℃である。また、2面目のMa層の蒸着時においては、冷却ドラムの表面温度はー40〜−30℃とすることが湾曲制御の点から好ましい。   The cooling drum 16 preferably has a surface temperature in the range of −40 to −15 ° C. More preferably, it is −30 to −20 ° C. Further, at the time of vapor deposition of the second Ma layer, the surface temperature of the cooling drum is preferably −40 to −30 ° C. from the viewpoint of curvature control.

電子ビーム21は、その出力が2.0〜8.0kWの範囲内のもので行うのが好ましい。より好ましくは3.0〜7.0kW、さらに好ましくは4.0〜6.0kWの範囲内である。なお、直接ルツボを加熱することで金属材料19を加熱蒸発させてもよい。   The electron beam 21 is preferably performed with an output of 2.0 to 8.0 kW. More preferably, it is 3.0-7.0 kW, More preferably, it exists in the range of 4.0-6.0 kW. Note that the metal material 19 may be heated and evaporated by directly heating the crucible.

酸素ガスは、ガス流量制御装置25を用いて0.5〜10L/minの流量で真空チャンバ12内部に導入する。Ma層形成時では0.5〜4.5L/min、Mb層形成時では4.5〜10L/minである。また、巻出側の酸素導入量を巻取側の酸素導入量よりも大きくすると、フィルムとM層の界面近傍の酸素濃度が、M層の表面側よりも比較的濃くなり、効率よく酸化が促進され、所望の酸素濃度と表面抵抗率を得ることができる。   Oxygen gas is introduced into the vacuum chamber 12 at a flow rate of 0.5 to 10 L / min using the gas flow rate control device 25. It is 0.5 to 4.5 L / min when forming the Ma layer, and 4.5 to 10 L / min when forming the Mb layer. If the oxygen introduction amount on the unwinding side is larger than the oxygen introduction amount on the winding side, the oxygen concentration in the vicinity of the interface between the film and the M layer becomes relatively higher than that on the surface side of the M layer, and oxidation is efficiently performed. The desired oxygen concentration and surface resistivity can be obtained.

真空チャンバ12の内部におけるポリエステルフィルムの搬送速度は20〜200m/minが好ましい。より好ましくは30〜100m/min、さらに好ましくは40〜80m/minである。搬送速度が20m/minより遅い場合、上記のようなM層厚みに制御するためには金属の蒸発量をかなり小さくする必要がある。そのため、酸素ガス導入量も減らす必要がでてくるために、酸化度の制御が非常に難しくなる。搬送速度が200m/minより速くなると、冷却ドラムとの接触時間が短くなるため熱による破れやシワが発生し、生産性が低下する傾向がある。また、金属蒸気と酸素ガスとが不充分な反応状態で成膜されやすく、酸化度の制御が難しくなる場合がある。   As for the conveyance speed of the polyester film in the inside of the vacuum chamber 12, 20-200 m / min is preferable. More preferably, it is 30-100 m / min, More preferably, it is 40-80 m / min. When the conveyance speed is slower than 20 m / min, it is necessary to considerably reduce the evaporation amount of the metal in order to control the M layer thickness as described above. Therefore, since it is necessary to reduce the amount of oxygen gas introduced, it becomes very difficult to control the degree of oxidation. When the conveyance speed is higher than 200 m / min, the contact time with the cooling drum is shortened, so that tears and wrinkles are generated due to heat, and productivity tends to be reduced. In addition, the metal vapor and the oxygen gas are likely to be formed in an insufficient reaction state, and the degree of oxidation may be difficult to control.

真空チャンバ12の内部におけるポリエステルフィルムの搬送張力は50〜150N/mが好ましい。より好ましくは70〜120N/m、さらに好ましくは80〜100N/mである。ただし、2面目の蒸着時には搬送張力を1面目より弱めることが好ましい。2面目の搬送張力は1面目の搬送張力より5〜30N/m低いことが好ましく、より好ましくは7〜25N/m低く、さらに好ましくは10〜20N/m低いことが好ましい。これは、1面目の蒸着時にポリエステルフィルムが熱負荷を受け収縮しようとする力を失うため、2面目の蒸着時に1面目と同様の搬送張力で走行させると、熱による破れやシワが発生し、生産性が損なわれる傾向があるからである。さらに、ポリエステルフィルムの表面粗さが面によって異なる場合は、先に粗い方の面を蒸着することが好ましい。これは2面目蒸着時に冷却ドラムへの密着性を高めるためである。蒸着は片面ずつ行っても良いし、両面を1工程で行っても良い。   The conveying tension of the polyester film inside the vacuum chamber 12 is preferably 50 to 150 N / m. More preferably, it is 70-120 N / m, More preferably, it is 80-100 N / m. However, it is preferable that the conveyance tension is weaker than that of the first surface during the evaporation of the second surface. The transport tension on the second surface is preferably 5 to 30 N / m lower than the transport tension on the first surface, more preferably 7 to 25 N / m, and still more preferably 10 to 20 N / m. This is because the polyester film loses the force to shrink due to heat load during the vapor deposition of the first side, and when it is run with the same transport tension as the first side during the vapor deposition of the second side, tears and wrinkles due to heat occur, This is because productivity tends to be impaired. Furthermore, when the surface roughness of the polyester film varies depending on the surface, it is preferable to deposit the rough surface first. This is to improve the adhesion to the cooling drum during the second-side vapor deposition. Vapor deposition may be performed one side at a time, or both sides may be performed in one step.

蒸着後、M層を安定化させ、緻密性を高めるためには、真空蒸着装置内を常圧に戻して、巻取ったフィルムを巻き返すことが好ましい。特に、加湿巻き返しを行うことが水蒸気とM層が接触する機会が長くなるため好ましい。20〜50℃の温度で1〜3日間エージングすることが好ましく、さらに好ましくは湿度60%以上の結露しない程度の環境下でエージングすることが好ましい。   In order to stabilize the M layer and improve the denseness after the deposition, it is preferable to return the inside of the vacuum deposition apparatus to normal pressure and to rewind the wound film. In particular, it is preferable to perform humidification rewinding because the chance of contact between the water vapor and the M layer is increased. Aging is preferably performed at a temperature of 20 to 50 ° C. for 1 to 3 days, and more preferably, aging is performed in an environment with a humidity of 60% or more and no condensation.

磁気記録媒体の製法としては、例えば、次に説明する方法を用いることができる。まず、0.1〜3m幅にスリットした磁気記録媒体用支持体を、張力10〜30kg/mで搬送させ、支持体の磁性層面側に磁性塗料および非磁性塗料をエクストルージョンコーターにより重層塗布(上層は磁性塗料で、塗布厚0.1μm、非磁性下層の厚みは適宜変化させる)し、磁気配向させ、乾燥温度100℃で乾燥させる。次いで非磁性層面側にバックコートを塗布し、小型テストカレンダー装置(スチール/ナイロンロール、5段)で、温度70〜100℃、線圧100〜300kg/cmでカレンダー処理した後、巻き取る。上記テープ原反を1/2インチ幅にスリットし、パンケーキを作製し、次いで、このパンケーキから特定の長さ分をカセットに組み込んで、カセットテープ型磁気記録媒体とする。ここで、磁性塗料などの組成は例えば以下のような組成が挙げられるが、これに限定されるものではない。
(磁性塗料の組成)
・強磁性金属粉末 : 100質量部
・変成塩化ビニル共重合体 : 10質量部
・変成ポリウレタン : 10質量部
・ポリイソシアネート : 5質量部
・ステアリン酸 : 1.5質量部
・オレイン酸 : 1質量部
・カーボンブラック : 1質量部
・αアルミナ : 10質量部
・メチルエチルケトン : 75質量部
・シクロヘキサノン : 75質量部
・トルエン : 75質量部
(非磁性塗料の組成)
・変成ポリウレタン : 10質量部
・変成塩化ビニル共重合体 : 10質重量部
・メチルエチルケトン : 75質量部
・シクロヘキサノン : 75質量
・トルエン : 75質量部
・ポリイソシアネート : 5質量部
・ステアリン酸 : 1.5質量部
・オレイン酸 : 1質量部
(バックコートの組成)
・カーボンブラック(平均粒径20nm) : 95質量部
・カーボンブラック(平均粒径280nm): 10質量部
・αアルミナ : 0.1質量部
・変成ポリウレタン : 20質量部
・変成塩化ビニル共重合体 : 30質量部
・シクロヘキサノン : 200質量部
・メチルエチルケトン : 300質量部
・トルエン : 100質量部
また、磁気記録媒体の具体的な用途としては、例えば、データ記録用途、具体的にはコンピュータデータのバックアップ用途や映像などのデジタル画像の記録用途などに好適に用いることができる。
As a method for manufacturing the magnetic recording medium, for example, the method described below can be used. First, a support for magnetic recording media slit to a width of 0.1 to 3 m is transported at a tension of 10 to 30 kg / m, and a magnetic coating and a nonmagnetic coating are applied on the magnetic layer surface side of the support with an extrusion coater ( The upper layer is made of a magnetic paint, the coating thickness is 0.1 μm, and the thickness of the non-magnetic lower layer is appropriately changed), magnetically oriented, and dried at a drying temperature of 100 ° C. Next, a back coat is applied to the non-magnetic layer surface side, calendered at a temperature of 70 to 100 ° C. and a linear pressure of 100 to 300 kg / cm with a small test calender (steel / nylon roll, 5 stages), and then wound up. The tape material is slit into a 1/2 inch width to produce a pancake, and then a specific length of the pancake is incorporated into a cassette to obtain a cassette tape type magnetic recording medium. Here, examples of the composition of the magnetic paint include the following compositions, but are not limited thereto.
(Composition of magnetic paint)
Ferromagnetic metal powder: 100 parts by mass Modified vinyl chloride copolymer: 10 parts by mass Modified polyurethane: 10 parts by mass Polyisocyanate: 5 parts by mass Stearic acid: 1.5 parts by mass Oleic acid: 1 part by mass Carbon black: 1 part by mass α-alumina: 10 parts by mass Methyl ethyl ketone: 75 parts by mass Cyclohexanone: 75 parts by mass Toluene: 75 parts by mass (composition of nonmagnetic paint)
-Modified polyurethane: 10 parts by mass-Modified vinyl chloride copolymer: 10 parts by weight-Methyl ethyl ketone: 75 parts by mass-Cyclohexanone: 75 parts by mass-Toluene: 75 parts by mass-Polyisocyanate: 5 parts by mass-Stearic acid: 1.5 Part by mass-Oleic acid: 1 part by mass (backcoat composition)
Carbon black (average particle size 20 nm): 95 parts by mass Carbon black (average particle size 280 nm): 10 parts by mass α-alumina: 0.1 parts by mass Modified polyurethane: 20 parts by mass Modified vinyl chloride copolymer: 30 parts by mass-Cyclohexanone: 200 parts by mass-Methyl ethyl ketone: 300 parts by mass-Toluene: 100 parts by mass In addition, specific applications of the magnetic recording medium include, for example, data recording applications, specifically computer data backup applications, It can be suitably used for recording digital images such as video.

(物性の測定方法ならびに効果の評価方法)
本発明における特性値の測定方法並びに効果の評価方法は次の通りである。
(Methods for measuring physical properties and methods for evaluating effects)
The characteristic value measurement method and effect evaluation method in the present invention are as follows.

(1)M層の組成分析(酸素濃度)
下記条件にて、深さ方向の組成分析を行う。炭素濃度が50at.%を超える深さをM層とポリエステルフィルムとの界面とし、表層から界面までを等分に5分割し、それぞれの区間の中央点を測定点として組成分析を行う。得られた各測定点の組成から平均値を算出し、本発明における平均組成とする。
(1) Composition analysis of M layer (oxygen concentration)
The composition analysis in the depth direction is performed under the following conditions. The carbon concentration is 50 at. The depth exceeding% is defined as the interface between the M layer and the polyester film, the surface layer to the interface are divided equally into 5 parts, and the composition analysis is performed using the center point of each section as the measurement point. An average value is calculated from the composition of each measurement point obtained, and is defined as the average composition in the present invention.

測定装置:X線光電子分光機 Quantera−SXM 米国PHI社製
励起X線:monochromatic AlKα1,2線(1486.6eV)
X線径 :100[μm]
光電子脱出角度:45°
ラスター領域:2×2[mm]
Arイオンエッチング: 2.0[kV] 1.5×10−7[Torr]
スパッタ速度:3.68nm/min(SiO換算値)
データ処理:9−point smoothing
ピークの結合エネルギー値から元素情報が得られ、各ピークの面積比を用いて組成を定量化(at.%)する。
Measuring apparatus: X-ray photoelectron spectrometer Quantera-SXM manufactured by PHI, USA Excitation X-ray: monochromatic AlKα1,2 line (1486.6 eV)
X-ray diameter: 100 [μm]
Photoelectron escape angle: 45 °
Raster area: 2 x 2 [mm]
Ar ion etching: 2.0 [kV] 1.5 × 10 −7 [Torr]
Sputtering speed: 3.68 nm / min (Si 2 O conversion value)
Data processing: 9-point smoothing
Element information is obtained from the peak binding energy value, and the composition is quantified (at.%) Using the area ratio of each peak.

(2)フィルムおよびM層の厚み
下記条件にて断面観察を場所を変えて10視野行い、得られた厚み[nm]の平均値を算出し、フィルム厚みおよびM層の厚み[nm]とする。
(2) Thickness of film and M layer The cross-sectional observation is performed under the following conditions by changing the place and performing 10 fields of view, and the average value of the obtained thickness [nm] is calculated to be the film thickness and the thickness of the M layer [nm]. .

測定装置:透過型電子顕微鏡(TEM) 日立製H−7100FA型
測定条件:加速電圧 100kV
測定倍率:20万倍
試料調整:超薄膜切片法
観察面 :TD−ZD断面(TD:幅方向、ZD:厚み方向)
測定回数:1視野につき3点、10視野を測定する。
Measuring device: Transmission electron microscope (TEM) Hitachi H-7100FA type Measurement conditions: Acceleration voltage 100 kV
Measurement magnification: 200,000 times Sample adjustment: Ultrathin film section method Observation plane: TD-ZD cross section (TD: width direction, ZD: thickness direction)
Number of measurements: 3 points per field of view and 10 fields of view are measured.

(3)表面抵抗率
表面抵抗率の範囲によって、測定可能な装置が異なるため、まずi)の方法で支持体の測定を行い、表面抵抗率が低すぎて測定不可能なサンプルをii)の方法で測定する。5回の測定結果の平均値を本発明における表面抵抗率とする。
i)高抵抗率測定 JIS−C2151(1990年)に準拠し、下記測定装置を用いて測定する。
・測定装置:デジタル超高抵抗/微小電流計R8340 アドバンテスト(株)製
・印加電圧:100V
・印加時間:10秒間
・測定単位:Ω
・測定環境:温度23℃湿度65%RH
・測定回数:5回測定する。
ii)低抵抗率測定
JIS−K7194(1994年)に準拠し、下記測定装置を用いて測定する。
・測定装置:ロレスターEP MCP−T360 三菱化学製
・測定環境:温度23℃湿度65%RH
・測定回数:5回測定する。
(3) Surface resistivity Since the measurable device varies depending on the range of surface resistivity, first, the support is measured by the method of i), and the sample whose surface resistivity is too low to be measured is measured according to ii). Measure by method. The average value of five measurement results is defined as the surface resistivity in the present invention.
i) High resistivity measurement Based on JIS-C2151 (1990), it measures using the following measuring apparatus.
・ Measuring device: Digital ultra-high resistance / micro ammeter R8340 manufactured by Advantest Corporation ・ Applied voltage: 100V
・ Application time: 10 seconds ・ Measurement unit: Ω
・ Measurement environment: Temperature 23 ℃ Humidity 65% RH
-Number of measurements: Measure 5 times.
ii) Low resistivity measurement Measured using the following measuring device in accordance with JIS-K7194 (1994).
・ Measurement device: Lorester EP MCP-T360, manufactured by Mitsubishi Chemical ・ Measurement environment: temperature 23 ° C., humidity 65% RH
-Number of measurements: Measure 5 times.

(4)全光線透過率
JIS−K7105(1981年)に準拠し、下記測定装置を用いて測定する。支持体中央部について長手方向に5箇所透過率を測定し測定結果の平均値を本発明における全光線透過率とする。
(4) Total light transmittance Measured using the following measuring device in accordance with JIS-K7105 (1981). The transmittance at five points is measured in the longitudinal direction with respect to the center of the support, and the average value of the measurement results is defined as the total light transmittance in the present invention.

測定装置:日本電色工業(株)社製 濁度計 NDH5000
光源 :ハロゲンランプ12V、50W
受光特性:395〜745nm
測定環境:温度23℃湿度65%RH
測定回数:5回測定する。
Measuring device: Nippon Denshoku Industries Co., Ltd. Turbidimeter NDH5000
Light source: Halogen lamp 12V, 50W
Light receiving characteristics: 395 to 745 nm
Measurement environment: Temperature 23 ° C Humidity 65% RH
Number of measurements: Measure 5 times.

(5)表面粗さRa
原子間力顕微鏡を用いて、場所を変えて20視野測定を行った。得られた画像について、三次元面粗さをOff-Line機能のRoughness Analysisにて算出し、中心線平均粗さRaを測定した。条件は下記のとおりである。
(5) Surface roughness Ra
Using an atomic force microscope, 20 fields of view were measured at different locations. About the obtained image, three-dimensional surface roughness was computed by Roughness Analysis of Off-Line function, and centerline average roughness Ra was measured. The conditions are as follows.

測定装置 :NanoScope III AFM(Digital Instruments社製)
カンチレバー:シリコン単結晶
走査モード :タッピングモード
走査範囲 :30μm□
走査速度 :0.5Hz
Flatten Auto :オーダー3
(6)ヤング率
ASTM−D882(1997年)に規定された方法に従って、インストロンタイプの引張試験機を用いて測定した。測定は下記の条件とした。
Measuring device: NanoScope III AFM (manufactured by Digital Instruments)
Cantilever: Silicon single crystal Scanning mode: Tapping mode Scanning range: 30μm
Scanning speed: 0.5Hz
Flatten Auto: Order 3
(6) Young's modulus The Young's modulus was measured using an Instron type tensile tester according to the method defined in ASTM-D882 (1997). The measurement was performed under the following conditions.

測定装置:オリエンテック(株)製フィルム強伸度自動測定装置
“テンシロンAMF/RTA−100”
試料サイズ:幅10mm×試長間100mm、
引張り速度:200mm/分
測定環境:温度23℃、湿度65%RH
(7)Ma層のヤング率
下記式より各M層のヤング率をそれぞれ求めた。
Measuring device: Orientec Co., Ltd. film strong elongation automatic measuring device
“Tensilon AMF / RTA-100”
Sample size: width 10 mm x test length 100 mm,
Tensile speed: 200 mm / min Measurement environment: temperature 23 ° C., humidity 65% RH
(7) Young's modulus of Ma layer The Young's modulus of each M layer was calculated | required from the following formula, respectively.

Figure 0005332436
Figure 0005332436

ここで、E:支持体のヤング率[GPa]、E:ポリエステルフィルムのヤング率[GPa]、Ea:Ma層のヤング率[GPa]、T:ポリエステルフィルムの厚み[μm]、Ta:Ma層の厚み[μm]である。 Here, E: Young's modulus of the support [GPa], E F: Young's modulus of the polyester film [GPa], E M a: Ma layer Young's modulus of [GPa], T: thickness of the polyester film [μm], T M a: the thickness of Ma layer [[mu] m].

なお、両面にM層が形成されている支持体は、1Nの塩酸に30分浸積させて両面のM層を剥離しポリエステルフィルムのヤング率Eを求めた。また、別に、Mb層のみを剥離した支持体を得るために、綿棒にフッ化水素酸を染込ませ、支持体に力が加わらないよう注意しながらMb層のみを剥離し上記(6)の記載に従ってヤング率を計測し、これを支持体のヤング率Eとして上記の式に代入しMa層のヤング率を計測する。同様の方法で、反対のMb層のヤング率も計測することができる。 The support member has M layer is formed on both sides, by 30 minutes immersion product in 1N hydrochloric acid The Young's modulus was calculated E F of the peeled polyester film both surfaces of the M layer. Separately, in order to obtain a support from which only the Mb layer has been peeled off, a cotton swab is soaked with hydrofluoric acid, and only the Mb layer is peeled off while taking care not to apply force to the support. The Young's modulus is measured according to the description, and this is substituted into the above equation as the Young's modulus E of the support to measure the Young's modulus of the Ma layer. In the same manner, the Young's modulus of the opposite Mb layer can also be measured.

この時、サンプルサイズの方向は長手方向、幅方向いずれでも構わないが、支持体とポリエステルフィルムで異ならないように統一し、さらに、長手方向と幅方向でMa層のヤング率が異なる場合は、いずれか大きい値をMa層のヤング率とする。     At this time, the direction of the sample size may be either the longitudinal direction or the width direction, but it is unified so that it does not differ between the support and the polyester film, and further, when the Young's modulus of the Ma layer is different in the longitudinal direction and the width direction, The larger value is taken as the Young's modulus of the Ma layer.

(8)温度膨張係数
下記条件にて前処理を行ない、再度23℃から50℃まで、上記昇温レートにて昇温し、その時の30℃から40℃でのフィルムの変化量ΔL[μm]を測定し、下記式から支持体の温度膨張係数[ppm/℃]を算出した。
(8) Temperature expansion coefficient Pre-treatment is performed under the following conditions, and the temperature is increased again from 23 ° C. to 50 ° C. at the above temperature increase rate, and the change amount ΔL [μm] of the film from 30 ° C. to 40 ° C. at that time And the temperature expansion coefficient [ppm / ° C.] of the support was calculated from the following formula.

測定装置:真空理工(株)製TMA TM−3000、加熱制御部TA−1500
試料サイズ:幅4mm×試長間15mm
荷重:0.5g
試料前処理温度:23℃→50℃→23℃
昇温速度 :1℃/分
測定温度 :23℃→50℃
温度膨張係数[ppm/℃]=10×{(ΔL/(15×10))/(40−30)}
(9)Ma層の温度膨張係数
下記式より各M層の温度膨張係数をそれぞれ求めた。
Measuring device: TMA TM-3000 manufactured by Vacuum Riko Co., Ltd., heating controller TA-1500
Sample size: width 4mm x test length 15mm
Load: 0.5g
Sample pretreatment temperature: 23 ° C. → 50 ° C. → 23 ° C.
Temperature increase rate: 1 ° C / min Measurement temperature: 23 ° C → 50 ° C
Temperature expansion coefficient [ppm / ° C.] = 10 5 × {(ΔL / (15 × 10 3 )) / (40-30)}
(9) Temperature expansion coefficient of Ma layer The temperature expansion coefficient of each M layer was calculated | required from the following formula, respectively.

Figure 0005332436
Figure 0005332436

ここで、α:支持体の温度膨張係数[ppm/℃]、α:ポリエステルフィルムの膨張係数[ppm/℃]E:ポリエステルフィルムのヤング率[GPa]、φ:全支持体厚みに対するポリエステルフィルムの厚み比率、αMa:Ma層の膨張係数[ppm/℃]、Ea:Ma層のヤング率[GPa]、φMa:全支持体に対するMa層の厚み比率である。 Here, α: coefficient of thermal expansion of the support [ppm / ° C.], α F : coefficient of expansion of the polyester film [ppm / ° C.] E F : Young's modulus [GPa] of the polyester film, φ F : relative to the total thickness of the support the thickness of the polyester film ratio, alpha Ma: expansion coefficient Ma layer [ppm / ℃], E M a: Ma layer Young's modulus of [GPa], φ Ma: is a thickness ratio of Ma layer to the total support.

なお、両面にM層が形成されている支持体は、1Nの塩酸に30分浸積させて両面のM層を剥離した後、上記(8)に記載の通り温度膨張係数を計測し、これをポリエステルフィルムの温度膨張係数αとした。引き続いて、塩酸を染込ませた綿棒等で、支持体に力が掛からないように注意しながらMb層のみを剥離した支持体を、上記(8)の方法で支持体の温度膨張係数αを求めた。上記の式にそれぞれ代入しMa層の温度膨張係数を計測する。同様の方法で、反対のMb層の温度膨張係数も計測することができる。 The support having M layers on both sides was immersed in 1N hydrochloric acid for 30 minutes to peel off the M layers on both sides, and then the temperature expansion coefficient was measured as described in (8) above. It was used as a thermal expansion coefficient alpha F polyester film. Subsequently, with a cotton swab dipped in hydrochloric acid, the support from which only the Mb layer has been peeled off, taking care not to apply force to the support, the temperature expansion coefficient α of the support is determined by the method (8) above. Asked. The temperature expansion coefficient of the Ma layer is measured by substituting it into the above equations. In the same way, the temperature expansion coefficient of the opposite Mb layer can also be measured.

この時、サンプルサイズの方向は長手方向、幅方向いずれでも構わないが、支持体とポリエステルフィルムで異ならないように統一し、さらに、長手方向と幅方向でMa層の温度膨張係数が異なる場合は、いずれか大きい値をMa層の温度膨張係数率とする。     At this time, the direction of the sample size may be either the longitudinal direction or the width direction, but it is standardized so that it does not differ between the support and the polyester film. Further, when the thermal expansion coefficient of the Ma layer is different between the longitudinal direction and the width direction, The larger value is taken as the coefficient of thermal expansion coefficient of the Ma layer.

(10)粒子の平均粒径(分散径)
フィルム断面を透過型電子顕微鏡(TEM)を用い、1万倍で観察する。この時、写真上で1cm以下の粒子が確認できた場合はTEM観察倍率をさらに高倍率、5〜10万倍の倍率で観察する。TEMの切片厚さは約100nmとし、場所を変えて100視野以上測定する。測定した等価円相当径の平均を不活性粒子の平均粒径とした。
(10) Average particle diameter (dispersion diameter)
The cross section of the film is observed at a magnification of 10,000 using a transmission electron microscope (TEM). At this time, when particles having a size of 1 cm or less can be confirmed on the photograph, the TEM observation magnification is further observed at a high magnification of 50,000 to 100,000. The section thickness of TEM is about 100 nm, and the measurement is performed at 100 fields or more at different locations. The average of the equivalent circle equivalent diameters measured was defined as the average particle diameter of the inert particles.

フィルム中に粒径の異なる2種類以上の粒子が存在する場合、上記の等価円相当径の個数分布が2個以上のピークを有する分布となる。この場合は、それぞれのピーク値をそれぞれの粒子の平均粒径とする。   When two or more kinds of particles having different particle diameters are present in the film, the number distribution of the equivalent circle equivalent diameter is a distribution having two or more peaks. In this case, each peak value is defined as the average particle diameter of each particle.

(11)粒子の含有量
ポリマー1gを1N−KOHメタノール溶液200mlに投入して加熱還流し、ポリマーを溶解した。溶解が終了した該溶液に200mlの水を加え、ついで該液体を遠心分離器にかけて粒子を沈降させ、上澄み液を取り除いた。粒子にはさらに水を加えて洗浄、遠心分離を2回繰り返した。このようにして得られた粒子を乾燥させ、その質量を量ることで粒子の含有量を算出した。
(11) Particle content 1 g of polymer was put into 200 ml of 1N-KOH methanol solution and heated to reflux to dissolve the polymer. 200 ml of water was added to the solution after dissolution, and the liquid was then centrifuged to settle the particles, and the supernatant was removed. Water was further added to the particles, and washing and centrifugation were repeated twice. The particles thus obtained were dried, and the content of the particles was calculated by measuring the mass of the particles.


装置 :ブルカー社製BRUKER DRX-500
溶媒 :HFIP/重クロロホルム
観測周波数 :499.8MHz
基準 :TMS(テトラメチルシラン)(0ppm)
測定温度 :30℃
観測幅 :10KHz
データ点 :64K
acquisition time :4.952秒
pulse delay time:3.048秒
積算回数 :256回
(12)ガラス転移温度(Tg)およびポリエステルの融解温度(Tm)
下記装置および条件で比熱測定を行い、JIS K7121(1987年)に従って決定した。

Equipment: Bruker DRX-500 manufactured by Bruker
Solvent: HFIP / deuterated chloroform Observation frequency: 499.8 MHz
Standard: TMS (tetramethylsilane) (0 ppm)
Measurement temperature: 30 ° C
Observation width: 10 KHz
Data point: 64K
acquisition time: 4.952 seconds
pulse delay time: 3.048 seconds Integration count: 256 (12) Glass transition temperature (Tg) and polyester melting temperature (Tm)
Specific heat was measured with the following equipment and conditions, and determined according to JIS K7121 (1987).

装置 :TA Instrument社製温度変調DSC
測定条件:
加熱温度 :270〜570K(RCS冷却法)
温度校正 :高純度インジウムおよびスズの融点
温度変調振幅:±1K
温度変調周期:60秒
昇温ステップ:5K
試料重量 :5mg
試料容器 :アルミニウム製開放型容器(22mg)
参照容器 :アルミニウム製開放型容器(18mg)
なお、ガラス転移温度は下記式により算出した。
Apparatus: Temperature modulation DSC manufactured by TA Instrument
Measurement condition:
Heating temperature: 270-570K (RCS cooling method)
Temperature calibration: Melting point of high purity indium and tin Temperature modulation amplitude: ± 1K
Temperature modulation period: 60 seconds Temperature rising step: 5K
Sample weight: 5mg
Sample container: Aluminum open container (22 mg)
Reference container: Aluminum open container (18mg)
The glass transition temperature was calculated by the following formula.

ガラス転移温度=(補外ガラス転移開始温度+補外ガラス転移終了温度)/2
(13)幅方向の寸法測定
1m幅にスリットした支持体を、張力20kg/mで搬送させ、支持体のMa層上に下記組成の磁性塗料および非磁性塗料をエクストルージョンコーターにより重層塗布し(上層が磁性塗料で、塗布厚0.2μm、下層が非磁性塗料で塗布厚0.9μm)、磁気配向させ、乾燥温度100℃で乾燥させる。次いで反対側のMb層上に下記組成のバックコートを塗布した後、小型テストカレンダー装置(スチール/ナイロンロール、5段)で、温度85℃、線圧200kg/cmでカレンダー処理した後、巻き取る。上記テープ原反を1/2インチ(1.27cm)幅にスリットし、パンケーキを作成する。次いで、このパンケーキから長さ200m分をカセットに組み込んで、カセットテープとする。
(磁性塗料の組成)
・強磁性金属粉末 : 100質量部
〔Fe:Co:Ni:Al:Y:Ca=70:24:1:2:2:1(質量比)〕
〔長軸長:0.09μm、軸比:6、保磁力:153kA/m(1,922Oe)、飽和磁化:146Am /kg(146emu/g)、BET比表面積:53m /g、X線粒径:15nm〕
・変成塩化ビニル共重合体(結合剤) : 10質量部
(平均重合度:280、エポキシ基含有量:3.1質量%、スルホン酸基含有量:8×10−5当量/g)
・変成ポリウレタン(結合剤) : 10質量部
(数平均分子量:25,000,スルホン酸基含有量:1.2×10−4当量/g、ガラス転移点:45℃)
・ポリイソシアネート(硬化剤) : 5質量部
(日本ポリウレタン工業(株)製コロネートL(商品名))
・2−エチルヘキシルオレート(潤滑剤) : 1.5質量部
・パルミチン酸(潤滑剤) : 1質量部
・カーボンブラック(帯電防止剤) : 1質量部
(平均一次粒子径:0.018μm)
・アルミナ(研磨剤) : 10質量部
(αアルミナ、平均粒子径:0.18μm)
・メチルエチルケトン : 75質量部
・シクロヘキサノン : 75質量部
・トルエン : 75質量部
(非磁性塗料の組成)
・変成ポリウレタン : 10質量部
(数平均分子量:25,000,スルホン酸基含有量:1.2×10−4当量/g、ガラス転移点:45℃)
・変成塩化ビニル共重合体 : 10質量部
(平均重合度:280、エポキシ基含有量:3.1質量%、スルホン酸基含有量:8×10−5当量/g)
・メチルエチルケトン : 75質量部
・シクロヘキサノン : 75質量部
・トルエン : 75質量部
・ポリイソシアネート : 5質量部
(日本ポリウレタン工業(株)製コロネートL(商品名))
・2−エチルヘキシルオレート(潤滑剤) : 1.5質量部
・パルミチン酸(潤滑剤) : 1質量部
(バックコートの組成)
・カーボンブラック : 95質量部
(帯電防止剤、平均一次粒子径0.018μm)
・カーボンブラック : 10質量部
(帯電防止剤、平均一次粒子径0.3μm)
・アルミナ : 0.1質量部
(αアルミナ、平均粒子径:0.18μm)
・変成ポリウレタン : 20質量部
(数平均分子量:25,000,スルホン酸基含有量:1.2×10−4当量/g、ガラス転移点:45℃)
・変成塩化ビニル共重合体 : 30質量部
(平均重合度:280、エポキシ基含有量:3.1質量%、スルホン酸基含有量:8×10−5当量/g)
・シクロヘキサノン : 200質量部
・メチルエチルケトン : 300質量部
・トルエン : 100質量部
カセットテープのカートリッジからテープを取り出し、下記恒温恒湿槽内へ図1のように作製したシート幅測定装置を入れ、幅寸法測定を行う。なお、図1に示すシート幅測定装置は、レーザーを使って幅方向の寸法を測定する装置で、磁気テープ9をフリーロール5〜8上にセットしつつ荷重検出器3に固定し、端部に荷重となる分銅4を吊す。この磁気テープ9にレーザー光10を発振すると、レーザー発振器1から幅方向に線状に発振されたレーザー光10が磁気テープ9の部分だけ遮られ、受光部2に入り、その遮られたレーザーの幅が磁気テープの幅として測定される。3回の測定結果の平均値を本発明における幅とする。
Glass transition temperature = (extrapolated glass transition start temperature + extrapolated glass transition end temperature) / 2
(13) Dimension measurement in the width direction A support slit to a width of 1 m is transported at a tension of 20 kg / m, and a magnetic coating and a non-magnetic coating having the following composition are applied on the Ma layer of the support by multilayer coating using an extrusion coater ( The upper layer is made of magnetic paint, the coating thickness is 0.2 μm, the lower layer is made of non-magnetic paint and the coating thickness is 0.9 μm), magnetically oriented, and dried at a drying temperature of 100 ° C. Next, after applying a back coat having the following composition on the Mb layer on the opposite side, it was calendered at a temperature of 85 ° C. and a linear pressure of 200 kg / cm with a small test calender device (steel / nylon roll, 5 steps) and then wound up. . The original tape is slit into a 1/2 inch (1.27 cm) width to make a pancake. Next, a length of 200 m from this pancake is incorporated into a cassette to form a cassette tape.
(Composition of magnetic paint)
Ferromagnetic metal powder: 100 parts by mass [Fe: Co: Ni: Al: Y: Ca = 70: 24: 1: 2: 2: 1 (mass ratio)]
[Long axis length: 0.09 μm, axial ratio: 6, coercive force: 153 kA / m (1,922 Oe), saturation magnetization: 146 Am 2 / kg (146 emu / g), BET specific surface area: 53 m 2 / g, X-ray Particle size: 15 nm]
-Modified vinyl chloride copolymer (binder): 10 parts by mass (average polymerization degree: 280, epoxy group content: 3.1% by mass, sulfonic acid group content: 8 × 10 −5 equivalent / g)
Modified polyurethane (binder): 10 parts by mass (number average molecular weight: 25,000, sulfonic acid group content: 1.2 × 10 −4 equivalent / g, glass transition point: 45 ° C.)
Polyisocyanate (curing agent): 5 parts by mass (Coronate L (trade name) manufactured by Nippon Polyurethane Industry Co., Ltd.)
2-ethylhexyl oleate (lubricant): 1.5 parts by mass Palmitic acid (lubricant): 1 part by mass Carbon black (antistatic agent): 1 part by mass (average primary particle size: 0.018 μm)
Alumina (abrasive): 10 parts by mass (α alumina, average particle size: 0.18 μm)
-Methyl ethyl ketone: 75 parts by mass-Cyclohexanone: 75 parts by mass-Toluene: 75 parts by mass (composition of non-magnetic paint)
Modified polyurethane: 10 parts by mass (number average molecular weight: 25,000, sulfonic acid group content: 1.2 × 10 −4 equivalent / g, glass transition point: 45 ° C.)
-Modified vinyl chloride copolymer: 10 parts by mass (average polymerization degree: 280, epoxy group content: 3.1% by mass, sulfonic acid group content: 8 × 10 −5 equivalent / g)
-Methyl ethyl ketone: 75 parts by mass-Cyclohexanone: 75 parts by mass-Toluene: 75 parts by mass-Polyisocyanate: 5 parts by mass (Coronate L (trade name) manufactured by Nippon Polyurethane Industry Co., Ltd.)
・ 2-ethylhexyl oleate (lubricant): 1.5 parts by mass Palmitic acid (lubricant): 1 part by mass (backcoat composition)
Carbon black: 95 parts by mass (antistatic agent, average primary particle size 0.018 μm)
Carbon black: 10 parts by mass (antistatic agent, average primary particle size 0.3 μm)
Alumina: 0.1 part by mass (α alumina, average particle size: 0.18 μm)
Modified polyurethane: 20 parts by mass (number average molecular weight: 25,000, sulfonic acid group content: 1.2 × 10 −4 equivalent / g, glass transition point: 45 ° C.)
-Modified vinyl chloride copolymer: 30 parts by mass (average polymerization degree: 280, epoxy group content: 3.1% by mass, sulfonic acid group content: 8 × 10 −5 equivalent / g)
• Cyclohexanone: 200 parts by mass • Methyl ethyl ketone: 300 parts by mass • Toluene: 100 parts by mass Take out the tape from the cassette tape cartridge, put the sheet width measuring device prepared as shown in FIG. Measure. The sheet width measuring device shown in FIG. 1 is a device that measures the width dimension using a laser, and fixes the magnetic tape 9 to the load detector 3 while setting it on the free rolls 5 to 8, and the end portion A weight 4 serving as a load is hung on. When the laser beam 10 is oscillated on the magnetic tape 9, the laser beam 10 oscillated linearly in the width direction from the laser oscillator 1 is blocked only at the portion of the magnetic tape 9 and enters the light receiving unit 2. The width is measured as the width of the magnetic tape. The average value of the three measurement results is defined as the width in the present invention.

測定装置:(株)アヤハエンジニアリング社製シート幅測定装置
レーザー発振器1、受光部2:レーザー寸法測定機 キーエンス社製LS−5040
荷重検出器3:ロードセル NMB社製CBE1−10K
恒温恒湿槽:(株)カトー社製SE−25VL−A
荷重4:分銅(長手方向)
試料サイズ:幅1/2inch×長さ250mm
保持時間:5時間
測定回数:3回測定する。
(幅寸法変化率)
2つの条件でそれぞれ幅寸法(l、l)を測定し、次式にて寸法変化率を算出する。次の基準で寸法安定性を評価する。×を不合格とする。
Measuring device: Sheet width measuring device manufactured by Ayaha Engineering Co., Ltd. Laser oscillator 1, light receiving unit 2: Laser dimension measuring device LS-5040 manufactured by Keyence Corporation
Load detector 3: Load cell CBE1-10K manufactured by NMB
Constant temperature and humidity chamber: SE-25VL-A manufactured by Kato Co., Ltd.
Load 4: Weight (longitudinal direction)
Sample size: width 1/2 inch x length 250 mm
Holding time: 5 hours Number of measurements: Measured 3 times.
(Width dimension change rate)
The width dimension (l A , l B ) is measured under two conditions, and the dimensional change rate is calculated by the following equation. The dimensional stability is evaluated according to the following criteria. X is rejected.

A条件:10℃10%RH 張力1.0N
B条件:29℃80%RH 張力0.6N
幅寸法変化率[ppm]=10×((l−l)/l
優 :幅寸法変化率が0[ppm]以上500[ppm]未満
良 :幅寸法変化率が500[ppm]以上700[ppm]未満
不良:幅寸法変化率が700[ppm]以上
(14)熱負け
支持体の裏面(Mb層側)から可視光を当てて、Ma層側を目視にて観察し、下記の判断で評価した。
A condition: 10 ° C, 10% RH, tension 1.0N
B condition: 29 ° C, 80% RH, tension 0.6N
Width change rate [ppm] = 10 6 × ((l B -l A ) / l A )
Excellent: width dimensional change rate of 0 [ppm] or more and less than 500 [ppm] Good: width dimensional change rate of 500 [ppm] or more and less than 700 [ppm] Poor: width dimensional change rate of 700 [ppm] or more (14) Heat Loss Visible light was applied from the back surface (Mb layer side) of the support, and the Ma layer side was visually observed and evaluated according to the following judgment.

優 :蒸着時の熱負けによる表面欠点がない。     Excellent: No surface defects due to heat loss during vapor deposition.

良 :長さが10mm以下の表面欠点がある(長さが10mmを超える表面欠点は存在しない)。     Good: There is a surface defect having a length of 10 mm or less (no surface defect having a length exceeding 10 mm).

不良:長さが10mmを超える表面欠点がある。     Defect: There is a surface defect whose length exceeds 10 mm.

(15)湾曲(カッピング)
i)支持体の湾曲
長手方向150mm×幅方向50mmにカットした支持体の一方の端部を、Mb層側が上になるようにセロハンテープで紙に貼り付け、支持体の湾曲の様子を下記の通り判断した。
(15) Curving (cupping)
i) Curvature of the support The one end of the support cut to 150 mm in the longitudinal direction and 50 mm in the width direction is affixed to the paper with cellophane tape so that the Mb layer side is up. Judging.

優 :Ma層側に凸に湾曲(カール)する。     Excellent: Curves (curls) convexly toward the Ma layer.

良 :湾曲(カール)しない。     Good: Does not curl.

不良:Mb層側に凸に湾曲(カール)する。     Defect: Curved (curled) convex toward the Mb layer.

ii)磁気テープの湾曲
上記(13)で作成した磁気テープを、長さ20mm切出し、上が磁性層となるように平坦なガラス板上に静置して、磁気テープの幅方向の中央部とガラス表面との間隙を10回測定し、その平均値を下記の判定に従って評価した。
ii) Curvature of magnetic tape The magnetic tape prepared in (13) above is cut out by 20 mm in length, and is left on a flat glass plate so that the top is a magnetic layer. The gap with the glass surface was measured 10 times, and the average value was evaluated according to the following judgment.

優 :磁性層側に凸に湾曲し、磁気テープとガラス板との間隙が1mm未満である。     Excellent: Curved convex toward the magnetic layer, and the gap between the magnetic tape and the glass plate is less than 1 mm.

良 :間隙が認められない(凸に凹にも湾曲していない)。     Good: No gaps are observed (not convex or concave).

不良:磁性層側に凸に湾曲し、磁気テープとガラス板との間隙が1mm以上である。     Defect: It is convexly curved toward the magnetic layer, and the gap between the magnetic tape and the glass plate is 1 mm or more.

もしくは、磁性層側が凹状に湾曲する。           Alternatively, the magnetic layer side is curved in a concave shape.

(16)電磁変換特性(電特)
上記(13)で作製したカセットテープを、市販のIBM社製LTOドライブ3580−L11を用いて23℃50%RHの環境で記録・再生(記録波長0.55μm)することで評価した。なお、比較例1のC/N値を基準として、下記に従って判定し、○以上のものがヘッドとの密着性が良好と判断した。
(16) Electromagnetic conversion characteristics (electric characteristics)
The cassette tape produced in the above (13) was evaluated by recording and reproducing (recording wavelength 0.55 μm) in an environment of 23 ° C. and 50% RH using a commercially available IBM LTO drive 3580-L11. In addition, based on the C / N value of Comparative Example 1, the determination was made according to the following, and those having a circle or higher were determined to have good adhesion to the head.

◎ :1.0dB以上のもの
○ :0dB以上〜1.0dB未満のもの
△ :−1.0dB以上〜0dB未満のもの
× :−1.0dB未満のもの
(17)高温クラック耐久性
引張試験機を使用し、ある特定の伸び量で引張った後、微分干渉顕微鏡にて表面状態を観察する。条件は下記のとおりとする。なお、△または○を実質的に使用可能なフィルムと判断する。
◎: 1.0 dB or more ○: 0 dB or more to less than 1.0 dB △: -1.0 dB or more to less than 0 dB ×: less than −1.0 dB (17) High temperature crack durability Tensile tester After pulling with a specific elongation amount, the surface state is observed with a differential interference microscope. The conditions are as follows. In addition, it is judged that Δ or ○ is a substantially usable film.

引張試験機
測定装置:オリエンテック(株)製フィルム強伸度自動測定装置“UCT−100”
試料サイズ:幅10mm×試長間100mm、
引張り速度:10%/分
引張り張力:1N,2Nの2点で実施(所定の張力になった時点で引っ張り試験機を停止させる)
測定環境:温度100℃
微分干渉顕微鏡
測定装置:ライカDMLB HC ライカマイクロシステムズ(株)製
観察倍率:1,000倍
○:張力2Nでクラックが発生しなかった場合
△:張力1Nでクラックが発生しなかったが、張力2Nでクラックが発生した場合
×:張力1Nでクラックが発生した場合
Tensile tester Measuring device: Automatic measuring device "UCT-100" made by Orientec Co., Ltd.
Sample size: width 10 mm x test length 100 mm,
Tensile speed: 10% / min Tensile tension: 1N and 2N (Tension tester is stopped when the specified tension is reached)
Measurement environment: Temperature 100 ° C
Differential interference microscope Measuring device: Leica DMLB HC manufactured by Leica Microsystems Co., Ltd. Observation magnification: 1,000 times ○: When no crack occurred at 2N tension △: No crack occurred at 1N tension, but 2N tension When a crack occurs at x: When a crack occurs at a tension of 1N

次の実施例に基づき、本発明の実施形態を説明する。なお、ここでポリエチレンテレフタレートをPET、ポリエーテルイミドをPEIと表記する。   Based on the following examples, embodiments of the present invention will be described. Here, polyethylene terephthalate is expressed as PET, and polyetherimide is expressed as PEI.

(実施例1)
テレフタル酸ジメチル194質量部とエチレングリコール124質量部に、酢酸マグネシウム4水塩0.1質量部を加え、140〜230℃でメタノールを留出しつつエステル交換反応を行った。次いで、リン酸トリメチル0.05質量部のエチレングリコール溶液、および三酸化アンチモン0.05質量部を加えて5分間撹拌した後、低重合体を30rpmで攪拌しながら、反応系を230℃から290℃まで徐々に昇温するとともに、圧力を0.1kPaまで下げた。最終温度、最終圧力到達までの時間はともに60分とした。3時間重合反応させ所定の攪拌トルクとなった時点で反応系を窒素パージし常圧に戻して重縮合反応を停止し、冷水にストランド状に吐出、直ちにカッティングして固有粘度0.68の無粒子のPETペレット1を得た。
Example 1
0.1 part by mass of magnesium acetate tetrahydrate was added to 194 parts by mass of dimethyl terephthalate and 124 parts by mass of ethylene glycol, and a transesterification reaction was performed while distilling methanol at 140 to 230 ° C. Next, after adding 0.05 part by mass of trimethyl phosphate ethylene glycol solution and 0.05 part by mass of antimony trioxide and stirring for 5 minutes, the reaction system was heated from 230 ° C. to 290 ° C. while stirring the low polymer at 30 rpm. While gradually raising the temperature to 0 ° C., the pressure was reduced to 0.1 kPa. The time to reach the final temperature and final pressure was both 60 minutes. When the polymerization reaction is carried out for 3 hours and a predetermined stirring torque is reached, the reaction system is purged with nitrogen and returned to normal pressure to stop the polycondensation reaction. A particulate PET pellet 1 was obtained.

同様にして、エチレングリコールに不活性粒子として球状シリカ(平均粒径:60nm)を含有したエチレングリコールスラリーを用いて、粒子含有量2質量%の固有粘度0.68のPETペレット2(A面:磁性面側)、球状架橋ポリスチレン(平均粒径:0.3μm)を2質量%含有した、固有粘度0.68のPETペレット3(B面:走行面側)、また、球状架橋ポリスチレン(平均粒径:0.8μm)を1質量%含有した、固有粘度0.68のPETペレット4(B面:走行面側)をそれぞれ得た。   Similarly, using an ethylene glycol slurry containing spherical silica (average particle size: 60 nm) as inert particles in ethylene glycol, PET pellets 2 having a particle content of 2% by mass and an intrinsic viscosity of 0.68 (A surface: Magnetic surface side), PET pellet 3 having an intrinsic viscosity of 0.68 (B surface: traveling surface side) containing 2% by mass of spherical crosslinked polystyrene (average particle size: 0.3 μm), and spherical crosslinked polystyrene (average particle) PET pellets 4 (B surface: running surface side) each having an intrinsic viscosity of 0.68 and containing 1% by mass of a diameter of 0.8 μm) were obtained.

さらに、300℃に加熱されたニーディングパドル混練部を3箇所設けた同方向回転タイプのベント式2軸混練押出機(日本製鋼所製、L/D(スクリュー長さL/スクリュ−直径D)=45.5)に、上記により得られたPETペレット1を50質量%とGE Plastics社製のポリエーテルイミド“Ultem1010”(固有粘度0.68)のペレット50質量%を供給し、スクリュー回転数300回転/分で溶融押出してストランド状に吐出、温度25℃の水にて冷却した後、直ちにカッティングしてブレンドチップ(I)を作製した。   Further, a co-rotating vent type twin-screw kneading extruder with three kneading paddle kneading parts heated to 300 ° C. (manufactured by Nippon Steel Works, L / D (screw length L / screw diameter D)) = 45.5), 50% by mass of the PET pellets 1 obtained as described above and 50% by mass of the pellets of polyetherimide “Ultem 1010” (intrinsic viscosity 0.68) manufactured by GE Plastics are supplied. It was melt extruded at 300 rpm, discharged into a strand, cooled with water at a temperature of 25 ° C., and then immediately cut to produce a blend chip (I).

押出機A、B2台を用い、280℃に加熱された押出機Aには、上記で得られたブレンドチップ(I)、PETペレット1とPETペレット2をPEI含有量が5質量%、球形シリカ粒子濃度が0.2質量%の配合量となるように混合したペレット(A面側)を180℃で3時間減圧乾燥した後に供給し、同じく280℃に加熱された押出機Bには、上記により得られたブレンドチップ(I),PETペレット1,3および4を、PEI含有量が5質量%、平均粒径0.3μmの球状架橋ポリスチレン粒子が0.15質量%、さらに平均粒径0.8μmの球状架橋ポリスチレン粒子が0.01質量%となるよう混合したペレット(B面側)を180℃で3時間減圧乾燥した後に供給した。2層積層するべくTダイ中で合流させ(積層比A/B=7/1)、表面温度25℃のキャストドラムに静電荷を印加させながら密着冷却固化し、積層未延伸フィルムを作製した。   In Extruder A heated to 280 ° C. using Extruders A and B, the blend chip (I) obtained above, PET pellet 1 and PET pellet 2 had a PEI content of 5 mass%, spherical silica The pellets (A-side) mixed so that the particle concentration is 0.2% by mass was dried under reduced pressure at 180 ° C. for 3 hours and then supplied to the extruder B that was also heated to 280 ° C. The blend chip (I), PET pellets 1, 3 and 4 obtained by the above process were prepared by using 0.15% by mass of spherical crosslinked polystyrene particles having a PEI content of 5% by mass, an average particle size of 0.3 μm, and an average particle size of 0. Pellets (B side) mixed so that .8 μm spherical crosslinked polystyrene particles were 0.01% by mass were dried at 180 ° C. for 3 hours under reduced pressure, and then supplied. Two layers were laminated in a T-die (lamination ratio A / B = 7/1), solidified by cooling while applying an electrostatic charge to a cast drum having a surface temperature of 25 ° C., and a laminated unstretched film was produced.

この未延伸フィルムを、リニアーモーター式クリップを有する同時二軸テンターを用いて、二軸延伸した。長手方向および幅方向に同時に、温度100℃、延伸速度6,000%にて3.3×3.4倍延伸し、70℃まで冷却した。続いて温度170℃にて長手方向および幅方向に同時に1.3×1.5倍再延伸した。長手方向および幅方向共に1MPaの定張力下にて、温度200℃で5秒間熱処理した後、長手方向に定長下にて、幅方向に5%の弛緩処理を行いながら150℃で1秒、続いて100℃で2秒間徐冷し、厚み約5μmの二軸配向ポリエステルフィルムを作製し、ロール状に巻き取った。   This unstretched film was biaxially stretched using a simultaneous biaxial tenter having a linear motor clip. Simultaneously in the longitudinal direction and the width direction, the film was stretched 3.3 × 3.4 times at a temperature of 100 ° C. and a stretching speed of 6,000%, and cooled to 70 ° C. Subsequently, the film was re-stretched 1.3 × 1.5 times in the longitudinal direction and the width direction at a temperature of 170 ° C. at the same time. After heat treatment at a temperature of 200 ° C. for 5 seconds under a constant tension of 1 MPa in both the longitudinal direction and the width direction, under a constant length in the longitudinal direction and with a relaxation treatment of 5% in the width direction, at 150 ° C. for 1 second, Subsequently, the film was gradually cooled at 100 ° C. for 2 seconds to produce a biaxially oriented polyester film having a thickness of about 5 μm, and wound into a roll.

次に、真空蒸着装置内に設置されたフィルム走行装置に、得られたポリエステルフィルムをセットし、1.50×10−3Paの減圧度にした後に、−20℃の冷却金属ドラムを介してポリエステルフィルムを搬送速度60m/min、搬送張力100N/mで走行させた。このとき、図2のような配置でルツボの前後に配置したそれぞれの酸素供給ノズルの角度θ(酸素供給ノズル吹き出し口から導入された酸素ガスの直進方向と冷却キャンの下部頂点Aを接点とする接線との交点の角度(図3参照))が60°、ノズルの吹き出し口と冷却キャンの下部頂点Aとを結ぶ直線距離がルツボ−冷却キャン距離の4/5(図3参照)となるよう角度と高さをそれぞれ調節し、巻出側の酸素導入量3L/分、巻取り側の酸素導入量1.6L/分に調節し、純度99.99%のAlを電子ビーム(出力4.5kV)で加熱蒸発させ、酸化アルミの蒸着薄膜層(厚み30nm)をフィルムのB面に形成して巻取った。次にA面を蒸着する。冷却金属ドラムの表面温度を−35℃、搬送速度を45m/min、搬送張力を70N/m、巻出側の酸素導入量2.8L/分、巻取り側の酸素導入量1.8L/分に変更して酸化アルミの蒸着薄膜を厚み40nmとなるようにしたこと以外は同様に蒸着し巻取った。 Next, after setting the obtained polyester film on the film traveling device installed in the vacuum deposition apparatus and reducing the pressure to 1.50 × 10 −3 Pa, it passes through a −20 ° C. cooling metal drum. The polyester film was run at a conveyance speed of 60 m / min and a conveyance tension of 100 N / m. At this time, the angle θ of each of the oxygen supply nozzles arranged before and after the crucible in the arrangement as shown in FIG. 2 (the straight direction of the oxygen gas introduced from the oxygen supply nozzle outlet and the lower vertex A of the cooling can as a contact) The angle of intersection with the tangent (see FIG. 3)) is 60 °, and the linear distance between the nozzle outlet and the lower vertex A of the cooling can is 4/5 of the crucible-cooling can distance (see FIG. 3). The angle and height are adjusted to adjust the oxygen introduction rate on the unwinding side to 3 L / min and the oxygen introduction rate on the winding side to 1.6 L / min. 5 kV) was evaporated by heating, and a vapor-deposited thin film layer (thickness 30 nm) of aluminum oxide was formed on the B surface of the film and wound. Next, A side is vapor-deposited. The surface temperature of the cooling metal drum is −35 ° C., the conveyance speed is 45 m / min, the conveyance tension is 70 N / m, the oxygen introduction amount on the unwinding side is 2.8 L / min, and the oxygen introduction amount on the winding side is 1.8 L / min. The aluminum oxide vapor deposition thin film was vapor deposited and wound in the same manner except that the thickness was changed to 40 nm and the thickness was 40 nm.

蒸着後、真空蒸着装置内を常圧に戻して、巻取ったフィルムを30℃80%RHの雰囲気中で巻き返し、その後30℃80%RHの雰囲気中で12日間エージングして、記録媒体用支持体を得た。この記録媒体用支持体の特性については、表1、2で示した通りであり、磁気テープとして使用した際に優れた特性を有していた。   After vapor deposition, the inside of the vacuum vapor deposition apparatus is returned to normal pressure, the wound film is rewound in an atmosphere of 30 ° C. and 80% RH, and then aged in an atmosphere of 30 ° C. and 80% RH for 12 days to support a recording medium. Got the body. The characteristics of the recording medium support were as shown in Tables 1 and 2 and had excellent characteristics when used as a magnetic tape.

参考例2)
実施例1と同様の方法で延伸条件を変更して、厚み6μmの二軸配向ポリエステルフィルムを作製した。得られたフィルムを真空蒸着機装置内にセットし、Mb層の蒸着時の巻出側の酸素導入量3.4L/分、巻取り側の酸素導入量2.3L/分に調節し、フィルム搬送速度を30m/min、搬送張力90N/mに変更した。さらに、Ma層の蒸着時のフィルム搬送速度を30m/min、搬送張力70N/mに変更した以外は実施例1と同様にして表1に示す記録媒体用支持体を得た。
( Reference Example 2)
The stretching conditions were changed in the same manner as in Example 1 to produce a biaxially oriented polyester film having a thickness of 6 μm. The obtained film was set in a vacuum deposition apparatus, and the oxygen introduction amount on the unwinding side during the deposition of the Mb layer was adjusted to 3.4 L / min, and the oxygen introduction amount on the winding side was adjusted to 2.3 L / min. The conveyance speed was changed to 30 m / min and conveyance tension 90 N / m. Further, the recording medium support shown in Table 1 was obtained in the same manner as in Example 1 except that the film transport speed during the deposition of the Ma layer was changed to 30 m / min and the transport tension of 70 N / m.

参考例3)
実施例1と同様の方法で延伸条件を変更して、厚み4.5μmの二軸配向ポリエステルフィルムを作製した。得られたフィルムを真空蒸着機装置内にセットし、Mb層の蒸着時の巻出側の酸素導入量3.2L/分、巻取り側の酸素導入量2L/分に調節し、フィルム搬送速度を90m/minに変更した。さらに、Ma層の蒸着時の巻出側の酸素導入量2.8L/分、巻取り側の酸素導入量1.3L/分に変更した以外は実施例1と同様にして表1に示す記録媒体用支持体を得た。
( Reference Example 3)
The stretching conditions were changed in the same manner as in Example 1 to produce a biaxially oriented polyester film having a thickness of 4.5 μm. The obtained film is set in a vacuum vapor deposition apparatus, and the oxygen introduction amount on the unwinding side at the time of vapor deposition of the Mb layer is adjusted to 3.2 L / min, and the oxygen introduction amount on the winding side is 2 L / min. Was changed to 90 m / min. Further, the recording shown in Table 1 was performed in the same manner as in Example 1 except that the oxygen introduction amount on the unwinding side during the deposition of the Ma layer was changed to 2.8 L / min and the oxygen introduction amount on the winding side was 1.3 L / min. A medium support was obtained.

参考例4)
実施例1と同様の方法で延伸倍条件を変更して、厚み5μmの二軸配向ポリエステルフィルムを作製した。得られたフィルムを真空蒸着機装置内にセットし、Mb層の蒸着時の巻出側の酸素導入量3.5L/分、巻取り側の酸素導入量2.3L/分に調節し、フィルム搬送速度を90m/minに変更した。さらに、Ma層の蒸着時の巻出側の酸素導入量3L/分、巻取り側の酸素導入量1.3L/分、フィルム搬送速度を60m/minに変更した以外は実施例1と同様にして表1に示す記録媒体用支持体を得た。
( Reference Example 4)
The stretching ratio conditions were changed in the same manner as in Example 1 to prepare a biaxially oriented polyester film having a thickness of 5 μm. The obtained film was set in a vacuum deposition apparatus, and the oxygen introduction amount on the unwinding side during the deposition of the Mb layer was adjusted to 3.5 L / min, and the oxygen introduction amount on the winding side was adjusted to 2.3 L / min. The conveyance speed was changed to 90 m / min. Further, the same procedure as in Example 1 was performed except that the unloading side oxygen introduction amount at the time of deposition of the Ma layer was 3 L / min, the winding side oxygen introduction amount was 1.3 L / min, and the film conveyance speed was changed to 60 m / min. Thus, the recording medium support shown in Table 1 was obtained.

参考例5)
実施例1と同様の方法で延伸条件を変更して、厚み5.3μmの二軸配向ポリエステルフィルムを作製した。得られたフィルムを真空蒸着機装置内にセットし、Mb層の蒸着時の巻出側の酸素導入量4L/分、巻取り側の酸素導入量2.7L/分に調節し、フィルム搬送速度を30m/minに変更した。さらに、Ma層の蒸着時の巻出側の酸素導入量2.3L/分、巻取り側の酸素導入量1L/分、フィルム搬送速度を45m/minに変更した以外は実施例1と同様にして表1に示す記録媒体用支持体を得た。
( Reference Example 5)
The stretching conditions were changed in the same manner as in Example 1 to produce a biaxially oriented polyester film having a thickness of 5.3 μm. The obtained film is set in a vacuum vapor deposition apparatus, and the oxygen introduction amount on the unwinding side during the deposition of the Mb layer is adjusted to 4 L / min, and the oxygen introduction amount on the winding side is 2.7 L / min. Was changed to 30 m / min. Further, in the same manner as in Example 1 except that the amount of oxygen introduced on the unwinding side during deposition of the Ma layer was 2.3 L / min, the amount of oxygen introduced on the winding side was 1 L / min, and the film conveyance speed was changed to 45 m / min. Thus, the recording medium support shown in Table 1 was obtained.

参考例6)
実施例1と同様の方法で延伸条件を変更して、厚み4.5μmの二軸配向ポリエステルフィルムを作製した。得られたフィルムを真空蒸着機装置内にセットし、Mb層の蒸着時の巻出側の酸素導入量3.2L/分、巻取り側の酸素導入量2.1L/分に調節し、フィルム搬送速度を90m/minに変更した。さらに、Ma層の蒸着時の巻出側の酸素導入量1.1L/分、巻取り側の酸素導入量0.4L/分、フィルム搬送速度を180m/minに変更した以外は実施例1と同様にして表1に示す記録媒体用支持体を得た。
( Reference Example 6)
The stretching conditions were changed in the same manner as in Example 1 to produce a biaxially oriented polyester film having a thickness of 4.5 μm. The obtained film was set in a vacuum deposition apparatus, and the oxygen introduction amount on the unwinding side during the deposition of the Mb layer was adjusted to 3.2 L / min, and the oxygen introduction amount on the winding side was 2.1 L / min. The conveyance speed was changed to 90 m / min. Further, Example 1 except that the amount of oxygen introduced on the unwinding side during deposition of the Ma layer was 1.1 L / min, the amount of oxygen introduced on the winding side was 0.4 L / min, and the film conveyance speed was changed to 180 m / min. Similarly, the recording medium support shown in Table 1 was obtained.

(実施例7)
実施例1と同様の方法で延伸条件を変更して、厚み4.5μmの二軸配向ポリエステルフィルムを作製した。得られたフィルムを真空蒸着機装置内にセットし、Mb層の蒸着時の巻出側の酸素導入量3.2L/分、巻取り側の酸素導入量2.1L/分に調節し、フィルム搬送速度を180m/minに変更した。さらに、Ma層の蒸着時のフィルム搬送速度を180m/minに変更した以外は実施例1と同様にして表1に示す記録媒体用支持体を得た。
(Example 7)
The stretching conditions were changed in the same manner as in Example 1 to produce a biaxially oriented polyester film having a thickness of 4.5 μm. The obtained film was set in a vacuum deposition apparatus, and the oxygen introduction amount on the unwinding side during the deposition of the Mb layer was adjusted to 3.2 L / min, and the oxygen introduction amount on the winding side was 2.1 L / min. The conveyance speed was changed to 180 m / min. Further, the recording medium support shown in Table 1 was obtained in the same manner as in Example 1 except that the film conveyance speed during the deposition of the Ma layer was changed to 180 m / min.

参考例8)
実施例1と同様の方法で延伸条件を変更して、厚み5.5μmの二軸配向ポリエステルフィルムを作製した。得られたフィルムを真空蒸着機装置内にセットし、実施例2と同様の条件でMb,Ma層を設け表1に示す磁気記録媒体用支持体を得た。
( Reference Example 8)
The stretching conditions were changed in the same manner as in Example 1 to prepare a biaxially oriented polyester film having a thickness of 5.5 μm. The obtained film was set in a vacuum vapor deposition apparatus, and Mb and Ma layers were provided under the same conditions as in Example 2 to obtain a magnetic recording medium support shown in Table 1.

参考例9)
実施例1と同様の方法で延伸条件を変更して、厚み4.8μmの二軸配向ポリエステルフィルムを作製した。得られたフィルムを真空蒸着機装置内にセットし、フィルムの搬送速度を38m/minに変更した以外は実施例1と同様の条件でMb,Ma層を設け表1に示す磁気記録媒体用支持体を得た。
( Reference Example 9)
The stretching conditions were changed in the same manner as in Example 1 to produce a biaxially oriented polyester film having a thickness of 4.8 μm. The obtained film was set in a vacuum vapor deposition apparatus, and Mb and Ma layers were provided under the same conditions as in Example 1 except that the film conveyance speed was changed to 38 m / min. Got the body.

(比較例1)
実施例1と同様の方法で延伸条件を変更して、厚み4.5μmの二軸配向ポリエステルフィルムを作製した。得られたフィルムを真空蒸着機装置内にセットし、Mb層の蒸着時の巻出側の酸素導入量4L/分、巻取り側の酸素導入量1.7L/分に調節し、フィルム搬送速度を60m/minに変更した。さらに、Ma層の蒸着時の巻出側の酸素導入量5L/分、巻取り側の酸素導入量3L/分、フィルム搬送速度を45m/minに変更した以外は実施例1と同様にして表1に示す記録媒体用支持体を得た。
(Comparative Example 1)
The stretching conditions were changed in the same manner as in Example 1 to produce a biaxially oriented polyester film having a thickness of 4.5 μm. The obtained film is set in a vacuum vapor deposition apparatus, and adjusted to an unloading side oxygen introduction amount of 4 L / min and an unwinding side oxygen introduction amount of 1.7 L / min when depositing the Mb layer. Was changed to 60 m / min. Further, in the same manner as in Example 1 except that the amount of oxygen introduced on the unwinding side during deposition of the Ma layer was 5 L / min, the amount of oxygen introduced on the winding side was 3 L / min, and the film conveyance speed was changed to 45 m / min. A support for a recording medium shown in 1 was obtained.

(比較例2)
実施例1と同様の方法で延伸条件を変更して、厚み4.5μmの二軸配向ポリエステルフィルムを作製した。得られたフィルムを真空蒸着機装置内にセットし、Mb層の蒸着時のフィルム搬送速度を45m/minに、さらに、Ma層の蒸着時のフィルム搬送速度を30m/minに変更した以外は実施例1と同様にして表1に示す記録媒体用支持体を得た。
(Comparative Example 2)
The stretching conditions were changed in the same manner as in Example 1 to produce a biaxially oriented polyester film having a thickness of 4.5 μm. The obtained film was set in a vacuum deposition apparatus, and the film transport speed during deposition of the Mb layer was changed to 45 m / min, and the film transport speed during deposition of the Ma layer was changed to 30 m / min. In the same manner as in Example 1, the recording medium support shown in Table 1 was obtained.

(比較例3)
実施例1と同様の方法で延伸条件を変更して、厚み4.5μmの二軸配向ポリエステルフィルムを作製した。得られたフィルムを真空蒸着機装置内にセットし、Mb層の蒸着時の巻出側の酸素導入量1L/分、巻取り側の酸素導入量0.2L/分に調節し、フィルム搬送速度を45m/minに変更した以外は実施例1と同様にして表1に示す記録媒体用支持体を得た。
(Comparative Example 3)
The stretching conditions were changed in the same manner as in Example 1 to produce a biaxially oriented polyester film having a thickness of 4.5 μm. The obtained film is set in a vacuum deposition apparatus, and the oxygen introduction amount on the unwinding side during the deposition of the Mb layer is adjusted to 1 L / min, and the oxygen introduction amount on the winding side is 0.2 L / min. Was changed to 45 m / min in the same manner as in Example 1 to obtain a recording medium support shown in Table 1.

(比較例4)
実施例1と同様の方法で延伸条件を変更して、厚み5μmの二軸配向ポリエステルフィルムを作製した。得られたフィルムを真空蒸着機装置内にセットし、Mb層の蒸着時の酸素供給ノズルの吹き出し口と冷却キャンの下部頂点との角度を80°、ノズルと冷却キャン下部頂点との距離をルツボ−冷却キャン距離の2/5とし、巻出側の酸素導入量6.3L/分、巻取り側の酸素導入量4.3L/分に調節し、フィルム搬送速度を38m/minに変更した。さらに、Ma層の蒸着時の巻出側の酸素導入量4L/分、巻取り側の酸素導入量1.7L/分、フィルム搬送速度を38m/minに変更した以外は実施例1と同様にして表1に示す記録媒体用支持体を得た。
(Comparative Example 4)
By changing the stretching conditions in the same manner as in Example 1, a biaxially oriented polyester film having a thickness of 5 μm was produced. The obtained film is set in a vacuum deposition apparatus, the angle between the oxygen supply nozzle outlet and the lower vertex of the cooling can is 80 ° during the deposition of the Mb layer, and the distance between the nozzle and the lower portion of the cooling can is the crucible. -The cooling can distance was set to 2/5, the oxygen introduction amount on the unwinding side was adjusted to 6.3 L / min, and the oxygen introduction amount on the winding side was 4.3 L / min, and the film conveyance speed was changed to 38 m / min. Further, in the same manner as in Example 1 except that the amount of oxygen introduced on the unwinding side during deposition of the Ma layer was 4 L / min, the amount of oxygen introduced on the winding side was 1.7 L / min, and the film conveyance speed was 38 m / min. Thus, the recording medium support shown in Table 1 was obtained.

(比較例5)
実施例1と同様の方法で延伸条件を変更して、厚み4.5μmの二軸配向ポリエステルフィルムを作製した。得られたフィルムを真空蒸着機装置内にセットし、Mb層の蒸着時の巻出側の酸素導入量4L/分、巻取り側の酸素導入量1.7L/分に調節し、フィルム搬送速度を38m/minに変更した。また、Ma層は形成しないこと以外は実施例1と同様にして表1に示す記録媒体用支持体を得た。
(Comparative Example 5)
The stretching conditions were changed in the same manner as in Example 1 to produce a biaxially oriented polyester film having a thickness of 4.5 μm. The obtained film is set in a vacuum vapor deposition apparatus, and adjusted to an unloading side oxygen introduction amount of 4 L / min and an unwinding side oxygen introduction amount of 1.7 L / min when depositing the Mb layer. Was changed to 38 m / min. Further, the recording medium support shown in Table 1 was obtained in the same manner as in Example 1 except that the Ma layer was not formed.

(比較例6)
実施例1と同様の方法で延伸条件を変更して、厚み5.3μmの二軸配向ポリエステルフィルムを作製した。得られたフィルムを真空蒸着機装置内にセットし、Mb層の蒸着時の巻出側の酸素導入量3.3L/分、巻取り側の酸素導入量2L/分に調節し、フィルム搬送速度を180m/minに変更した。さらに、Ma層の蒸着時の巻出側の酸素導入量2.8L/分、巻取り側の酸素導入量1.3L/分、フィルム搬送速度を180m/minに変更した以外は実施例1と同様にして表1に示す記録媒体用支持体を得た。
(Comparative Example 6)
The stretching conditions were changed in the same manner as in Example 1 to produce a biaxially oriented polyester film having a thickness of 5.3 μm. The obtained film is set in a vacuum deposition apparatus, and the oxygen introduction amount on the unwinding side during the deposition of the Mb layer is adjusted to 3.3 L / min, and the oxygen introduction amount on the winding side is 2 L / min. Was changed to 180 m / min. Further, Example 1 except that the amount of oxygen introduced on the unwinding side during the deposition of the Ma layer was 2.8 L / min, the amount of oxygen introduced on the winding side was 1.3 L / min, and the film conveyance speed was changed to 180 m / min. Similarly, the recording medium support shown in Table 1 was obtained.

(比較例7)
実施例1と同様の方法で延伸条件を変更して、厚み5.3μmの二軸配向ポリエステルフィルムを作製した。得られたフィルムを真空蒸着機装置内にセットし、Ma層の蒸着時の酸素供給ノズルの吹き出し口と冷却キャンの下部頂点との角度を40°、ノズルの高さが吹き出し口と冷却キャンの下部頂点とを結ぶ直線距離の1/6の高さとし巻出側の酸素導入量0.5L/分、巻取り側の酸素導入量0.3L/分、フィルム搬送速度を60m/minに変更した以外は実施例1と同様にして表1に示す記録媒体用支持体を得た。
(Comparative Example 7)
The stretching conditions were changed in the same manner as in Example 1 to produce a biaxially oriented polyester film having a thickness of 5.3 μm. The obtained film is set in a vacuum deposition apparatus, the angle between the oxygen supply nozzle outlet and the lower apex of the cooling can is 40 ° during the deposition of the Ma layer, and the nozzle height is between the outlet and the cooling can. The height of one-sixth of the straight line connecting the lower apex was changed to 0.5 L / min for the oxygen introduction on the unwinding side, 0.3 L / min for the oxygen introduction on the winding side, and the film conveyance speed was changed to 60 m / min. Except for the above, the recording medium support shown in Table 1 was obtained in the same manner as in Example 1.

Figure 0005332436
Figure 0005332436

Figure 0005332436
Figure 0005332436

本発明の支持体を製造する際に用いられるシート幅測定装置の模式図である。It is a schematic diagram of the sheet | seat width measuring apparatus used when manufacturing the support body of this invention. 本発明の支持体を製造する際に用いられる真空蒸着装置の模式図である。It is a schematic diagram of the vacuum evaporation system used when manufacturing the support body of this invention. 図2の冷却キャンと酸素ガス導入管の角度決定のための模式図である。FIG. 3 is a schematic diagram for determining an angle between a cooling can and an oxygen gas introduction pipe in FIG. 2.

符号の説明Explanation of symbols

1:レーザー発振器
2:受光部
3:荷重検出器
4:分銅(荷重)
5:フリーロール
6:フリーロール
7:フリーロール
8:フリーロール
9:磁気テープ
10:レーザー光
11:真空蒸着装置
12:真空チャンバ
13:巻出しロール部
14:ポリエステルフィルム
15:ガイドロール
16:冷却ドラム
17:蒸着チャンバ
18:巻取りロール部
19:金属材料
20:電子銃
21:電子ビーム
22:酸素ガスボンベ
23:るつぼ
24a:巻出側酸素ガス供給ノズル
24b:巻取り側酸素ガス供給ノズル
25:ガス流量制御装置
26:マスク
27:酸素供給ノズル吹き出し口から導入された酸素ガスの直進方向
28:冷却キャンの下部頂点を接点とする接線
29:ノズルの吹き出し口と冷却キャンの下部頂点Aとを結ぶ直線距離
30:ルツボ−冷却キャン距離
θ:酸素ガスの直進方向と冷却キャンとの角度
A:冷却キャンの下部頂点
1: Laser oscillator 2: Light receiving unit 3: Load detector 4: Weight (load)
5: Free roll 6: Free roll 7: Free roll 8: Free roll 9: Magnetic tape 10: Laser beam 11: Vacuum deposition apparatus 12: Vacuum chamber 13: Unwinding roll unit 14: Polyester film 15: Guide roll 16: Cooling Drum 17: Deposition chamber 18: Winding roll unit 19: Metal material 20: Electron gun 21: Electron beam 22: Oxygen gas cylinder 23: Crucible 24a: Unwinding side oxygen gas supply nozzle 24b: Winding side oxygen gas supply nozzle 25: Gas flow control device 26: Mask 27: Straight direction of oxygen gas introduced from oxygen supply nozzle outlet 28: Tangential line 29 having contact point with lower vertex of cooling can 29: Nozzle outlet and lower apex A of cooling can Connecting straight distance 30: Crucible-cooling can distance θ: Angle between the straight direction of oxygen gas and the cooling can A Lower vertex of the cooling can

Claims (7)

ポリエステルフィルムの両面に金属系酸化物を含む層(M層)が設けられ、以下に規定する磁気テープとした際の湾曲が1mm未満である磁気記録媒体用支持体であって、M層の酸素濃度がいずれも45〜70at.%であり、ポリエステルフィルムの厚みをTとし、一方の面(面A)に設けられたM層(Ma層)の厚みと他方の面(面B)に設けられたM層(Mb層)の厚みの和をTMとしたとき、T/TMの値が71〜250であり、Ma層の表面抵抗率が1.0×103〜1.0×108Ωであり、Mb層の表面抵抗率が1.0×109〜1.0×1014Ωであり、かつ、Ma層の表面抵抗率がMb層よりも小さい磁気記録媒体用支持体。
磁気テープとした際の湾曲:
磁気テープを長さ20mm切出し、上が磁性層となるように平坦なガラス板上に静置した際に磁性層側に凸に湾曲したものを測定対象とし、その際の磁気テープの幅方向の中央部とガラス板との間隔
A support for a magnetic recording medium in which a layer (M layer) containing a metal-based oxide is provided on both sides of a polyester film, and the curvature when the magnetic tape is defined below is less than 1 mm, the oxygen of the M layer The concentration is 45 to 70 at. The thickness of the polyester film is T, the thickness of the M layer (Ma layer) provided on one surface (surface A) and the thickness of the M layer (Mb layer) provided on the other surface (surface B) when the sum of the thicknesses was TM, the value of T / T M is 71-250, a surface resistivity of Ma layer 1.0 × 10 3 ~1.0 × 10 8 Ω, the surface of the Mb layer A support for a magnetic recording medium having a resistivity of 1.0 × 10 9 to 1.0 × 10 14 Ω and a surface resistivity of the Ma layer smaller than that of the Mb layer.
Curvature when using magnetic tape:
When the magnetic tape is cut out to a length of 20 mm and placed on a flat glass plate so that the magnetic layer is on the top, the magnetic tape is convexly curved toward the magnetic layer, and the measurement is performed in the width direction of the magnetic tape. Distance between the center and the glass plate
TMが20〜100nmであり、かつMb層の厚みが50nm以下である、請求項1に記載の磁気記録媒体用支持体。 The support for magnetic recording media according to claim 1, wherein TM is 20 to 100 nm and the thickness of the Mb layer is 50 nm or less. M層がいずれも磁性金属を含まない、請求項1または2に記載の磁気記録媒体用支持体。 The support for a magnetic recording medium according to claim 1 or 2, wherein none of the M layers contains a magnetic metal. 全光線透過率が20〜78%である、請求項1〜3のいずれかに記載の磁気記録媒体用支持体。 The support for magnetic recording media according to claim 1, wherein the total light transmittance is 20 to 78%. Ma層の表面粗さRaが0.3〜10nmである、請求項1〜4のいずれかに記載の磁気記録媒体用支持体。 The support for a magnetic recording medium according to any one of claims 1 to 4, wherein the surface roughness Ra of the Ma layer is 0.3 to 10 nm. Mb層の表面粗さRaが5〜20nmである、請求項1〜5のいずれかに記載の磁気記録媒体用支持体。 The support for a magnetic recording medium according to any one of claims 1 to 5, wherein the surface roughness Ra of the Mb layer is 5 to 20 nm. 請求項1〜6のいずれかに記載の磁気記録媒体用支持体の、Ma層が設けられた側の面に磁性層が塗布されてなる磁気記録媒体。 A magnetic recording medium comprising a support for a magnetic recording medium according to any one of claims 1 to 6 and a magnetic layer coated on the surface on which the Ma layer is provided.
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JP2006277920A (en) * 2005-03-02 2006-10-12 Toray Ind Inc Supporting body for magnetic recording medium and magnetic recording medium
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