JP5294613B2 - チオホスフェート含有光導電体 - Google Patents

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Description

本発明は、積層型撮像部材、感光体、光導電体等に関する。
光導電性撮像部材（photoconductive imaging member）としては、支持基板上にホール遮断層、架橋された電荷発生層、及び電荷輸送層を有し、該電荷発生層が電荷発生成分、塩化ビニル、アリルグルシジルエーテル、ヒドロキシ基含有ポリマーを含有するものが知られている（特許文献１参照）。
また、ホール遮断層、電荷発生層、及び電荷輸送層を有する光導電性撮像部材であって、該ホール遮断層が金属酸化物とフェノール性化合物及びフェノール樹脂の混合物を含有し、該フェノール性化合物が２つ以上のフェノール基を有するものである該光導電性撮像部材も知られている（特許文献２参照）。
上記以外にも、積層構成を有しホール遮断層または電荷発生層の成分に特徴を有する光導電性撮像部材が知られている（例えば特許文献３〜１３参照）。
米国特許第７，０３７，６３１号 米国特許第６，９１３，８６３号 米国特許第４，２６５，９９０号 米国特許第３，１２１，００６号 米国特許第４，５５５，４６３号 米国特許第４，５８７，１８９号 米国特許第４，９２１，７６９号 米国特許第６，２５５，０２７号 米国特許第６，１７７，２１９号 米国特許第６，１５６，４６８号 米国特許第５，５２１，３０６号 米国特許第５，４８２，８１１号 米国特許第５，４７３，０６４号
本発明は、下記実施形態において開示される多くの利点を有する撮像部材を提供する。該利点としては例えば約３，０００，０００回を超える撮像サイクル等、活動寿命の長期化、優れた電子特性、安定した電気的特質、少ない画像ゴースト形成、低バックグランド及び／又は最小電荷欠乏点（ＣＤＳ）、特定の溶媒の蒸気に曝された際の電荷輸送層クラッキング形成に対する耐性、優れた表面特性、優れた耐摩耗性、多くのトナー組成物との適合性、画像部材の傷形成特性の回避若しくはその最少化、既知ＰＩＤＣ（光誘導放電曲線）の生成によって示される場合、実質的に平坦であるか、若しくは電荷がない、多くの撮像サイクルにわたって一貫したＶr（残留電位）を有すること等が挙げられる。また、約７００〜約９００ナノメートルの近赤外線に応答する、積層耐傷性光応答性撮像部材も提供する。
また本発明は、耐摩耗性層及び／又は耐傷性層を一層または複数層含む積層可とう性ベルト感光体であって、その部材の表面硬度が、適切なＰＯＳＳ含有物質及び適切なチオホスフェートの添加により高められ、かつ低バックグランド及び／若しくは最小ＣＤＳ、少ないゴースト形成及び、主として光導電体サイクリングにより生じ得るＶrサイクルアップの防止を示す、積層可とう性ベルト感光体も提供する。
本発明は概して、積層型撮像部材、感光体、光導電体等に関する。より具体的には、本開示は、多層可とう性ベルト状撮像部材、又は基体等の任意の支持媒体と、チオホスフェートを任意に含有する電荷発生層と、例えば、第１電荷輸送層及び第２電荷輸送層等の複数の電荷輸送層を含む電荷輸送層と、任意の接着剤層と、任意のホール遮断層若しくは下塗り層と、任意のオーバーコート層とを含む装置（ｄｅｖｉｃｅ）であって、電荷輸送層の少なくとも１つが、少なくとも１つの電荷輸送成分、ポリマー結着剤若しくは樹脂結着剤、多面体オリゴマーシルセスキオキサン（ＰＯＳＳ）含有物質、チオホスフェート及び任意の酸化防止剤を含有する装置に関する。さらに、電荷輸送層及び電荷発生層の少なくとも１つがチオホスフェートを含有することができる。例えば、多面体オリゴマーシルセスキオキサン（ＰＯＳＳ）含有物質及びチオホスフェートの混合物を少なくとも１つの電荷輸送層に含ませ、かつチオホスフェートを電荷発生層に含ませることができる。実施形態において、「少なくとも１つ」なる語は、例えば、１を指し、１〜約１０を指し、２〜約７を指し、２〜約４を指し、または２以下を指す。さらに、ＰＯＳＳ含有物質を電荷輸送層の少なくとも１つに付加することができる。例えば、電荷輸送層溶液中に溶解する代わりに、ＰＯＳＳ含有物質を電荷輸送層にドーパントとして付加することができ、より具体的には、ＰＯＳＳ含有物質を最上部電荷輸送層に付加することができる。
さらにより具体的には、支持基体、電荷発生層及び少なくとも１つの電荷輸送層を含む光導電体であって、ＰＯＳＳ含有物質及びチオホスフェートの混合物が、第１パス電荷輸送層、第２パス電荷輸送層又は第１パス電荷輸送層（ｐａｓｓ ｃｈａｒｇｅ ｔｒａｎｓｐｏｒｔ ｌａｙｅｒ）及び第２パス電荷輸送層の両方に含まれ、主として耐傷性（ｓｃｒａｔｃｈ ｒｅｓｉｓｔａｎｔ)光導電体を可能とし、かつ許容し得る低Ｖr並びにＶrサイクルアップの最小化若しくは防止を可能とし、かつ、任意に電荷発生層が、主としてＶrサイクルアップの最小化若しくは防止を可能とするチオホスフェートを含有する光導電体が開示される。また、ある実施形態における光導電体は、チオホスフェート電荷発生層、少なくとも１つのチオホスフェート電荷輸送層並びに、ＰＯＳＳ含有物質及びチオホスフェートの混合物を含む、少なくとも１つの電荷輸送層を含む。
本明細書で説明される光導電体装置を用いて画像を形成及び印刷する方法も本開示の範囲内に含まれる。これらの方法は、通常、撮像部材上に静電潜像を形成した後、例えば、熱可塑性樹脂、顔料等の着色剤、電荷添加物及び表面添加物（米国特許第４，５６０，６３５号、同第４，２９８，６９７号及び同第４，３３８，３９０号を参照）を含むトナー組成物を用いて画像を現像し、続いて、該画像を好適な基体に転写し、該画像を該基体上に恒久的に固定することを含む。装置を印刷モードで用いる環境においては、撮像方法は、露出をレーザー装置又は撮像バー（ｉｍａｇｅ ｂａｒ）を用いて達成されることを除いて、同じ操作を含む。より具体的には、本明細書で開示される可とう性ベルトを、幾つかの版では毎分１００枚を超えるコピーを生成するゼロックス・コーポレーション（Ｘｅｒｏｘ Ｃｏｒｐｏｒａｔｉｏｎ）製ｉＧＥＮ３（登録商標）機器用に選択することができる。
本明細書及び実施形態に開示される光導電体は多くの利点を有する。例えば、上記光導電体は、優れた表面耐傷性、電荷発生顔料感度の増加、実質的に光衝撃（ｌｉｇｈｔ ｓｈｏｃｋ）を伴なわずにゴースト形成が最少化されること、優れた耐摩耗性、寿命の長期化、撮像部材の表面層（１以上）での傷の除去若しくは最少化が挙げられる。ここでこれらの傷は、生成された最終印刷物上で該傷を視認できるというような望ましくない印刷の失敗等を生じる。加えて、ある実施形態において、本明細書に開示される撮像部材は、優れた、及び多くの場合においては低いＶr（残留電位）を有し、かつ、適切な場合にＶrサイクルアップを実質的に防止する。すなわち、本明細書に開示される撮像部材は、高感度、許容可能な低程度の画像ゴースト形成特性（ｌｏｗ ａｃｃｅｐｔａｂｌｅ ｉｍａｇｅ ｇｈｏｓｔｉｎｇ ｃｈａｒａｃｔｅｒｉｓｔｉｃｓ）、低バックグランド及び／又は最小電荷欠乏点（ｃｈａｒｇｅ ｄｅｆｉｃｉｅｎｔ ｓｐｏｔｓ）（ＣＤＳ）、及び所望のトナー清浄性を可能にする。
本開示の態様は、任意の支持基体、電荷発生層、並びに少なくとも１つの電荷輸送成分及び少なくとも１種類のチオホスフェートと、少なくとも１種類のＰＯＳＳ含有物質との混合物を含む、少なくとも１つの電荷輸送層を含む撮像部材、又は、基体、チオホスフェート含有電荷発生層、並びに、少なくとも１つの電荷輸送成分及び少なくとも１種類のＰＯＳＳ含有物質を含む、少なくとも１つの電荷輸送層を含む光導電体に関し、ここで、ＰＯＳＳ含有物質が、例えば、多面体オリゴマーシルセスキオキサン、多面体オリゴマーシルセスキオキサンアルコール、多面体オリゴマーシルセスキオキサンフェノール、多面体オリゴマーシルセスキオキサンアルコキシシラン、多面体オリゴマーシルセスキオキサンアミン、多面体オリゴマーシルセスキオキサンクロロシラン、多面体オリゴマーシルセスキオキサンエポキシド、多面体オリゴマーシルセスキオキサンエステル、フルオロアルキル多面体オリゴマーシルセスキオキサン、多面体オリゴマーシルセスキオキサンハライド、多面体オリゴマーシルセスキオキサンイソシアネート、多面体オリゴマーシルセスキオキサンメタクリレート、多面体オリゴマーシルセスキオキサンアクリレート、多面体オリゴマーシルセスキオキサンニトリル、ノルボルネニル多面体オリゴマーシルセスキオキサン、多面体オリゴマーシルセスキオキサンオレフィン、多面体オリゴマーシルセスキオキサンホスフィン、多面体オリゴマーシルセスキオキサンシラン、多面体オリゴマーシルセスキオキサンシラノール、多面体オリゴマーシルセスキオキサンチオール、及び多面体オリゴマーシルセスキオキサン含有ポリマーをからなる群から選択され、該多面体オリゴマーシルセスキオキサン（ＰＯＳＳ）は（ＲＳｉＯm）nを含み、式中、ｎは約２〜約３０、より具体的には、ｎは７、８、１０及び１２であり、ｍは約０．５〜約２．５、約１〜約２、約１．２〜約１．８、又は１．５であり、かつＲは、例えば、アルキル、アルコキシ、アリール等の適切な炭化水素、及びそれらの置換誘導体、例えば、アルコール、フェノール、チオール、アルコキシシラン、アミン、クロロシラン、エポキシド、エステル、フルオロアルキル、ハライド、イソシアネート、メタクリレート、アクリレート、ニトリル、ノルボルネニル、オレフィン、ホスフィン、シラン、シラノール、スチレン等を含む誘導体、並びにそれらの混合物からなる群より独立に選択される。ＰＯＳＳ含有物質の直径は多くの要素に依存して変更可能であり、例えば、約０．７〜約５０ナノメートル、又は１〜約３ナノメートルである。基体、チオホスフェート含有電荷発生層、並びに、少なくとも１つの電荷輸送成分並びにチオホスフェート及びＰＯＳＳ含有物質の混合物を含む、少なくとも１つの、例えば、１つ〜７つ、１つ〜４つ、１つ〜３つ、及び２つの電荷輸送層を順に含む光導電体であって、ＰＯＳＳ含有物質が各電荷輸送層に存在することができ、チオホスフェートが電荷発生層に存在することができ、より具体的には、ＰＯＳＳ含有物質が第２パス電荷輸送層に存在し、かつチオホスフェートが電荷発生層若しくは第１パス電荷輸送層に存在し、ＰＯＳＳ含有物質が、例えば、多面体オリゴマーシルセスキオキサン、多面体オリゴマーシルセスキオキサンアルコール、多面体オリゴマーシルセスキオキサンフェノール、多面体オリゴマーシルセスキオキサンアルコキシシラン、多面体オリゴマーシルセスキオキサンアミン、多面体オリゴマーシルセスキオキサンクロロシラン、多面体オリゴマーシルセスキオキサンエポキシド、多面体オリゴマーシルセスキオキサンエステル、フルオロアルキル多面体オリゴマーシルセスキオキサン、多面体オリゴマーシルセスキオキサンハライド、多面体オリゴマーシルセスキオキサンイソシアネート、多面体オリゴマーシルセスキオキサンメタクリレート、多面体オリゴマーシルセスキオキサンアクリレート、多面体オリゴマーシルセスキオキサンニトリル、ノルボルネニル多面体オリゴマーシルセスキオキサン、多面体オリゴマーシルセスキオキサンオレフィン、多面体オリゴマーシルセスキオキサンホスフィン、多面体オリゴマーシルセスキオキサンシラン、多面体オリゴマーシルセスキオキサンシラノール、多面体オリゴマーシルセスキオキサンチオール、多面体オリゴマーシルセスキオキサン含有ポリマー、並びにそれらの混合物をからなる群より選択され、ＰＯＳＳ含有物質及びチオホスフェートが、各々、約０．０１〜約３０重量パーセント、約１〜約２０重量パーセント、又は約５〜約１０重量パーセントの量で電荷輸送層中に存在し、かつチオホスフェートが約０．１〜約４０重量パーセント、若しくは約１〜約２０重量パーセント、若しくは約５〜約１５重量パーセントの量で電荷発生層中に存在し、チオホスフェートが下記一般式１又は一般式２：
Figure 0005294613
Figure 0005294613
で表され、式中、Ｒ1、Ｒ2、Ｒ3、Ｒ4、Ｒ5及びＲ6は、各々独立に、水素原子、適切な炭化水素、例えば、アルキル基、シクロアルキル基、アリール基、アルキルアリール基若しくはアリールアルキル基である。また、基体、電荷発生層及び少なくとも１つ、例えば、１つ〜約８つの電荷輸送層を含む複数の電荷輸送層を含む光導電体に関し、ここで、該電荷発生層が電荷発生顔料（１種類以上）及び少なくとも１種類の下記一般式１又は一般式２：
Figure 0005294613
Figure 0005294613
で表されるジアルキルジチオホスフェートを含み、式中、Ｒ1、Ｒ2、Ｒ3、Ｒ4、Ｒ5及びＲ6は、各々独立に、水素原子若しくは適切な炭化水素を表し、より具体的には、Ｒ1、Ｒ2、Ｒ3、Ｒ4、Ｒ5及びＲ6は、エステル基、エーテル基、アルコール基若しくはカルボキシ基を含有する、炭素数１〜約２０のアルキル基、炭素数約６〜約２６のシクロアルキル基、炭素数約７〜約５０のアリール基、炭素数約７〜約５０のアルキルアリール基若しくは炭素数約７〜約５０のアリールアルキル基、炭素数約３〜約２０のヒドロカルビル基、及び炭素数約２〜約１８個の直鎖若しくは分岐鎖アルキル基である。アルキル基及びアルコキシ基の例には、メチル、エチル、プロピル、イソプロピル、ブチル、イソブチル、ペンチル、ヘキシル、エチルヘキシル等、及びそれらの混合物、並びに対応するアルコキシドが含まれる。
金属ジアルキルジチオホスホネートの具体例には、モリブデンジ（２−エチルヘキシル）ジチオホスフェート、亜鉛ジエチルジチオホスフェート、アンチモンジアミルジチオホスフェート等が含まれる。利用可能な亜鉛ジアルキルジチオホスフェートの例には、オハイオ州クリーブランド（Ｃｌｅｖｅｌａｎｄ、ＯＨ）のエルコ社（Ｅｌｃｏ Ｃｏｒｐｏｒａｔｉｏｎ）から入手可能なエルコ（ＥＬＣＯ）（商標）１０２、１０３、１０８、１１４及び１２１が含まれる。例えば、テキサス州サン・アントニオ（Ｓａｎ Ａｎｔｏｎｉｏ、ＴＸ）のバレロ・エナジー社（Ｖａｌｅｒｏ Ｅｎｅｒｇｙ Ｃｏｒｐｏｒａｔｉｏｎ）から入手可能なバルパー（ＶａｌＰａｒ）（商標）５００のように、多くのチオホスフェートは特定量の石油蒸留物、及び鉱油を含み得る。市販入手可能なモリブデンジアルキルジチオホスフェートの例には、コネチカット州ノーウォーク（Ｎｏｒｗａｌｋ、ＣＴ）のＲ．Ｔ．バンダービルト社（Ｒ．Ｔ．Ｖａｎｄｅｒｂｉｌｔ Ｃｏｍｐａｎｙ，Ｉｎｃ．）から入手可能なモリバン（ＭＯＬＹＶＡＮ）（商標）Ｌ（モリブデンジ（２−エチルヘキシル）ホスホロジチオエート）が含まれる。市販入手可能なアンチモンジアルキルジチオホスフェートの例には、コネチカット州ノーウォーク（Ｎｏｒｗａｌｋ、ＣＴ）のＲ．Ｔ．バンダービルト社（Ｒ．Ｔ．Ｖａｎｄｅｒｂｉｌｔ Ｃｏｍｐａｎｙ，Ｉｎｃ．）から入手可能なバンルーブ（ＶＡＮＬＵＢＥ）（商標）６２２及び６４８（アンチモンジアルキルホスホロジチオエート）が含まれる。
理論上はチオホスフェートと、例えば電荷発生顔料等の他の成分との間に相互作用が存在し得るものの、実施形態においては主として優れた光導電体電気性を可能にする、様々な有効量のチオホスフェートを各々の電荷輸送層成分及び／又は電荷発生層成分に、例えば、電荷輸送層（１以上）において約０．０１〜約３０重量パーセント、約０．１〜約１０重量パーセント、若しくは約０．５〜約５重量パーセントの量、及び電荷発生層において約０．１〜約４０重量パーセント、約１〜約２０重量パーセント、約５〜約１５重量パーセントの量で添加することができ；ここで、電荷発生層及び少なくとも１つの電荷輸送層が樹脂結着剤を含み、少なくとも１つの電荷輸送層の数が２つ〜約７つであり、電荷発生層が基体と少なくとも１つの電荷輸送層との間に配置され；支持基体、電荷発生層及び少なくとも２つの電荷輸送層を含み、それらの各々がチオホスフェート及びＰＯＳＳ含有物質の混合物を含有するドラム又は可とう性撮像部材において、該ＰＯＳＳ含有物質が多面体オリゴマーシルセスキオキサン、多面体オリゴマーシルセスキオキサンアルコール、多面体オリゴマーシルセスキオキサンフェノール、多面体オリゴマーシルセスキオキサンアルコキシシラン、多面体オリゴマーシルセスキオキサンアミン、多面体オリゴマーシルセスキオキサンクロロシラン、多面体オリゴマーシルセスキオキサンエポキシド、多面体オリゴマーシルセスキオキサンエステル、フルオロアルキル多面体オリゴマーシルセスキオキサン、多面体オリゴマーシルセスキオキサンハライド、多面体オリゴマーシルセスキオキサンイソシアネート、多面体オリゴマーシルセスキオキサンメタクリレート、多面体オリゴマーシルセスキオキサンアクリレート、多面体オリゴマーシルセスキオキサンニトリル、ノルボルネニル多面体オリゴマーシルセスキオキサン、多面体オリゴマーシルセスキオキサンオレフィン、多面体オリゴマーシルセスキオキサンホスフィン、多面体オリゴマーシルセスキオキサンシラン、多面体オリゴマーシルセスキオキサンシラノール、多面体オリゴマーシルセスキオキサンチオール、及び多面体オリゴマーシルセスキオキサン含有ポリマーの少なくとも１つからなる群から選択される、ドラム又は可とう性撮像部材；ＰＯＳＳ含有物質がＰＯＳＳオレフィン、又はビニルＰＯＳＳ、例えば、ハイブリッド・プラスチクス社（Ｈｙｂｒｉｄ Ｐｌａｓｔｉｃｓ Ｉｎｃ．）から入手可能なＯＬ１１７０（商標）であり、チオホスフェートがジアルキルジチオホスフェート又は亜鉛ジアルキルジチオホスフェート（ＺＤＤＰ）、例えば、エルコ社（Ｅｌｃｏ Ｃｏｒｐｏｒａｔｉｏｎ）から入手可能なＥＬＣＯ（商標）１０３である、本明細書に開示される光導電体；基体、その上の電荷発生層、その上の少なくとも１つ〜約３つの電荷輸送層、ホール遮断層、及び接着剤層を含む光導電性部材であって、実施形態においては、該接着剤層が電荷発生層とホール遮断層との間に配置され、該電荷輸送層及び該電荷発生層の少なくとも１つがジアルキルジチオホスフェートを含有し、該電荷輸送層はＰＯＳＳ含有物質及び酸化防止剤等の既知添加物を含有する、光導電性部材。
実施形態において以下が開示される。支持基体、その上の電荷発生層、電荷輸送層及びオーバーコート電荷輸送層を含む光導電性撮像部材；約０．１〜約１０ミクロンの厚みの電荷発生層、及び各々約５〜約１００ミクロンの厚みの、少なくとも１つの輸送層を有する光導電性部材；荷電成分、現像成分、転写成分及び固定成分を含有する乾式静電（ｘｅｒｏｇｒａｐｈｉｃ）撮像装置であって、支持基体、並びにその上に電荷発生顔料を含む層及び電荷輸送層（１以上）、並びにその上にオーバーコート電荷輸送層を含む光導電性撮像部材を有し、該輸送層の厚みが約１０〜約７５ミクロンである、乾式静電撮像装置；ＰＯＳＳ含有物質若しくはそれらの混合物が、約０．１〜約４０重量パーセント若しくは約６〜約２０重量パーセントの量で存在する部材；電荷発生層が約１０〜約９５重量パーセントの量で存在する電荷発生顔料を含有する部材；電荷発生層の厚みが約０．２〜約４ミクロンである部材；電荷発生層が不活性ポリマー結着剤を含有する部材；結着剤が約２０〜約９０重量パーセントの量で存在し、かつ全ての層成分の合計が約１００パーセントである部材；電荷発生成分が、約３７０〜約９５０ナノメートルの波長の光を吸収する、ヒドロキシガリウムフタロシアニン若しくはチタニルフタロシアニンである部材；支持基体が導電性基体を含み、該導電性基体が金属を含む撮像部材；導電性基体がアルミニウム、アルミ化ポリエチレンテレフタレート若しくはチタン化ポリエチレンテレフタレートである撮像部材；電荷発生樹脂性結着剤が既知の適切なポリマー、例えば、ポリエステル、ポリビニルブチラール、ポリカーボネート、ポリスチレン−ｂ−ポリビニルピリジン及びポリビニルホルマルからなる群より選択される撮像部材；電荷発生顔料が金属非含有フタロシアニンである撮像部材；電荷輸送層の各々、特には、第１層及び第２層が、下記一般式３：
Figure 0005294613
で表される化合物を含み、式中、Ｘはアルキル基、アルコキシ基及びハロゲン、例えば、メチル及び塩化物の少なくとも１つからなる群より選択され、かつ、ある実施形態においては、４つの末端環の各々にＸ置換基が存在しており合計で４つのＸ置換基が含まれていてもよい、撮像部材；アルキル基及びアルコキシ基が約１〜約１５個の炭素原子を含有する撮像部材；アルキル基が約１〜約５個の炭素原子を含有する撮像部材；アルキル基がメチルである撮像部材；電荷輸送層の各々若しくは電荷輸送層の少なくとも１つ、特には、第１電荷輸送層及び第２電荷輸送層が、下記一般式４：
Figure 0005294613
で表される化合物を含み、式中、Ｘ、Ｙ及びＺはアルキル基、アルコキシ基、アリール基及びハロゲンの少なくとも１つからなる群より独立に選択され、かつ、実施形態においては、Ｚが存在することができ、Ｙが存在することができるか、Ｙ及びＺの両方が存在する撮像部材；又は電荷輸送成分が下記一般式５：
Figure 0005294613
で表される化合物であり、式中、Ｘ及びＹは独立にアルキル基、アルコキシ基、アリール基、ハロゲン又はそれらの混合物である撮像部材；例えば、アルキル基及びアルコキシ基が約１〜約１５個の炭素原子を含有し、アルキル基が約１〜約５個の炭素原子を含有し、樹脂性結着剤がポリカーボネート、ポリアリーレート及びポリスチレンからなる群より選択される撮像部材；電荷発生層に存在する電荷発生顔料がクロロガリウムフタロシアニン、チタニルフタロシアニン若しくはＶ型ヒドロキシガリウムフタロシアニンを含み、輸送層が基体と電荷発生層との間に配置され、かつ電荷輸送層の数が２である撮像部材；電荷発生層の厚みが約０．５〜約２５ミクロンである部材；電荷発生成分量が約０．０５重量パーセント〜約２０重量パーセントであり、かつ電荷発生顔料がポリマー結着剤に対して約１０重量パーセント〜約８０重量パーセントの量で分散されて含まれている部材；電荷発生層の厚みが約０．１〜約１１ミクロンである部材；電荷発生層成分及び電荷輸送層成分がポリマー結着剤中に含有される部材；結着剤が約５０〜約９０重量パーセントの量で存在し、かつ層成分の合計が約１００パーセントである部材；電荷発生樹脂性結着剤がポリエステル、ポリビニルブチラール、ポリカーボネート、ポリスチレン−ｂ−ポリビニルピリジン及びポリビニルホルマルの少なくとも１つからなる群より選択される光導電体；電荷発生成分がＶ型ヒドロキシガリウムフタロシアニン、チタニルフタロシアニン、クロロガリウムフタロシアニン若しくはそれらの混合物であり、電荷輸送層が既知のホール輸送成分を含有し、かつホール輸送樹脂性結着剤がポリカーボネート及びポリスチレンからなる群より選択される撮像部材；電荷発生層が金属非含有フタロシアニンを含む撮像部材；電荷発生層がアルコキシガリウムフタロシアニンを含有する撮像部材；基体上の塗布膜として含まれる遮断層、及び該遮断層上に塗布された接着剤層を有する光導電性撮像部材；接着剤層及びホール遮断層をさらに含有する撮像部材。
本明細書全体を通してＰＯＳＳは多面体オリゴマーシルセスキオキサンを指すが、ＰＯＳＳ分子の例には、ドデカフェニル−ＰＯＳＳ（Ｃ72Ｈ60Ｏ18Ｓｉ12）、オクタシクロヘキシル−ＰＯＳＳ（Ｃ48Ｈ88Ｏ12Ｓｉ8）、オクタフェニル−ＰＯＳＳ（Ｃ48Ｈ40Ｏ12Ｓｉ8）、ドデカトリフルオロプロピル−ＰＯＳＳ（Ｃ36Ｈ48Ｆ36Ｏ18Ｓｉ12）、フェネチルイソブチル−ＰＯＳＳ（Ｃ36Ｈ72Ｏ12Ｓｉ8）等が含まれ、全てはカリフォルニア州ファウンテン・バレー（Ｆｏｕｎｔａｉｎ Ｖａｌｌｅｙ，ＣＡ）のハイブリッド・プラスチクス（Ｈｙｂｒｉｄ Ｐｌａｓｔｉｃｓ）から市販入手可能であるものと考えられる。
本明細書全体を通してＰＯＳＳは多面体オリゴマーシルセスキオキサンを指すが、ＰＯＳＳシラノールの例には、イソブチル−ＰＯＳＳシクロヘキセニルジメチルシリルジシラノール若しくはイソブチル−多面体オリゴマーシルセスキオキサンシクロヘキセニルジメチルシリルジシラノール（Ｃ38Ｈ84Ｏ12Ｓｉ8）、シクロペンチル−ＰＯＳＳジメチルフェニルジシラノール（Ｃ43Ｈ76Ｏ12Ｓｉ8）、シクロヘキシル−ＰＯＳＳジメチルビニルジシラノール（Ｃ46Ｈ88Ｏ12Ｓｉ8）、シクロペンチル−ＰＯＳＳジメチルビニルジシラノール（Ｃ39Ｈ74Ｏ12Ｓｉ8）、イソブチル−ＰＯＳＳジメチルビニルジシラノール（Ｃ32Ｈ74Ｏ12Ｓｉ8）、シクロペンチル−ＰＯＳＳジシラノール（Ｃ40Ｈ74Ｏ13Ｓｉ8）、イソブチル−ＰＯＳＳジシラノール（Ｃ32Ｈ74Ｏ13Ｓｉ8）、イソブチル−ＰＯＳＳエポキシシクロヘキシルジシラノール（Ｃ38Ｈ84Ｏ13Ｓｉ8）、シクロペンチル−ＰＯＳＳフルオロ（３）ジシラノール（Ｃ40Ｈ75Ｆ3Ｏ12Ｓｉ8）、シクロペンチル−ＰＯＳＳフルオロ（１３）ジシラノール（Ｃ45Ｈ75Ｆ13Ｏ12Ｓｉ8）、イソブチル−ＰＯＳＳフルオロ（１３）ジシラノール（Ｃ38Ｈ75Ｆ13Ｏ12Ｓｉ8）、シクロヘキシル−ＰＯＳＳメタクリルジシラノール（Ｃ51Ｈ96Ｏ14Ｓｉ8）、シクロペンチル−ＰＯＳＳメタクリルジシラノール（Ｃ44Ｈ82Ｏ14Ｓｉ8）、イソブチル−ＰＯＳＳメタクリルジシラノール（Ｃ37Ｈ82Ｏ14Ｓｉ8）、シクロヘキシル−ＰＯＳＳモノシラノール（Ｃ42Ｈ78Ｏ13Ｓｉ8）、シクロペンチル−ＰＯＳＳモノシラノール（シュワビノール（Ｓｃｈｗａｂｉｎｏｌ）、Ｃ35Ｈ64Ｏ13Ｓｉ8）、イソブチル−ＰＯＳＳモノシラノール（Ｃ28Ｈ64Ｏ13Ｓｉ8）、シクロヘキシル−ＰＯＳＳノルボルネニルエチルジシラノール（Ｃ53Ｈ98Ｏ12Ｓｉ8）、シクロペンチル−ＰＯＳＳノルボルネニルエチルジシラノール（Ｃ46Ｈ84Ｏ12Ｓｉ8）、イソブチル−ＰＯＳＳノルボルネニルエチルジシラノール（Ｃ39Ｈ84Ｏ12Ｓｉ8）、シクロヘキシル−ＰＯＳＳ ＴＭＳジシラノール（Ｃ45Ｈ88Ｏ12Ｓｉ8）、イソブチル−ＰＯＳＳ ＴＭＳジシラノール（Ｃ31Ｈ74Ｏ12Ｓｉ8）、シクロヘキシル−ＰＯＳＳトリシラノール（Ｃ42Ｈ80Ｏ12Ｓｉ7）、シクロペンチル−ＰＯＳＳトリシラノール（Ｃ35Ｈ66Ｏ12Ｓｉ7）、イソブチル−ＰＯＳＳトリシラノール（Ｃ28Ｈ66Ｏ12Ｓｉ7）、イソオクチル−ＰＯＳＳトリシラノール（Ｃ56Ｈ122Ｏ12Ｓｉ7）、フェニル−ＰＯＳＳトリシラノール（Ｃ42Ｈ38Ｏ12Ｓｉ7）等が含まれ、全てはカリフォルニア州ファウンテン・バレー（Ｆｏｕｎｔａｉｎ Ｖａｌｌｅｙ，ＣＡ）のハイブリッド・プラスチクス（Ｈｙｂｒｉｄ Ｐｌａｓｔｉｃｓ）から市販入手可能であるものと考えられる。ＰＯＳＳオレフィンの例には、アリルシクロヘキシル−ＰＯＳＳ（Ｃ45Ｈ82Ｏ12Ｓｉ8）、シクロヘキセニルエチルシクロペンチル−ＰＯＳＳ（Ｃ43Ｈ76Ｏ12Ｓｉ8）、モノビニルシクロヘキシル−ＰＯＳＳ（Ｃ44Ｈ80Ｏ12Ｓｉ8）、オクタビニル−ＰＯＳＳ（Ｃ16Ｈ24Ｏ12Ｓｉ8）、オクタビニルジメチルシリル−ＰＯＳＳ（Ｃ32Ｈ72Ｏ20Ｓｉ16）等が含まれ、全てはカリフォルニア州ファウンテン・バレー（Ｆｏｕｎｔａｉｎ Ｖａｌｌｅｙ，ＣＡ）のハイブリッド・プラスチクス（Ｈｙｂｒｉｄ Ｐｌａｓｔｉｃｓ）から市販入手可能であるものと考えられる。ＰＯＳＳは多面体オリゴマーシルセスキオキサンを指すが、ＰＯＳＳアルコール、ＰＯＳＳチオール及びＰＯＳＳフェノールの例には、トランス−シクロヘキサンジオールイソブチル−ＰＯＳＳ（Ｃ36Ｈ78Ｏ14Ｓｉ8）、オクタヒドロキシプロピルジメチルシリル−ＰＯＳＳ（Ｃ40Ｈ104Ｏ28Ｓｉ16）、メルカプトプロピルイソオクチル−ＰＯＳＳ（Ｃ59Ｈ126Ｏ12ＳＳｉ8）等が含まれ、全てはカリフォルニア州ファウンテン・バレー（Ｆｏｕｎｔａｉｎ Ｖａｌｌｅｙ，ＣＡ）のハイブリッド・プラスチクス（Ｈｙｂｒｉｄ Ｐｌａｓｔｉｃｓ）から市販入手可能であるものと考えられる。ＰＯＳＳは多面体オリゴマーシルセスキオキサンを指すが、ＰＯＳＳアルコキシシラン、ＰＯＳＳクロロシラン及びＰＯＳＳシランの例には、ジエトキシメチルシリルエチルシクロヘキシル−ＰＯＳＳ（Ｃ49Ｈ94Ｏ14Ｓｉ9）、トリエトキシシリルエチルシクロヘキシル−ＰＯＳＳ（Ｃ50Ｈ96Ｏ15Ｓｉ9）、モノクロロシクロヘキシル−ＰＯＳＳ（Ｃ42Ｈ77ＣｌＯ12Ｓｉ8）、クロロジメチルシリルエチルシクロヘキシル−ＰＯＳＳ（Ｃ46Ｈ87ＣｌＯ12Ｓｉ9）、トリクロロシリルエチルシクロヘキシル−ＰＯＳＳ（Ｃ44Ｈ81Ｃｌ3Ｏ12Ｓｉ9）、オクタ（クロロシリルエチル）−ＰＯＳＳ（Ｃ32Ｈ80Ｃｌ8Ｏ12Ｓｉ16）、オクタシラン−ＰＯＳＳ（Ｃ16Ｈ56Ｏ20Ｓｉ16）、トリス（ジメチルシラン）シクロヘキシル−ＰＯＳＳ（Ｃ48Ｈ98Ｏ12Ｓｉ10）等が含まれ、全てはカリフォルニア州ファウンテン・バレー（Ｆｏｕｎｔａｉｎ Ｖａｌｌｅｙ，ＣＡ）のハイブリッド・プラスチクス（Ｈｙｂｒｉｄ Ｐｌａｓｔｉｃｓ）から市販入手可能であるものと考えられる。ＰＯＳＳは多面体オリゴマーシルセスキオキサンを指すが、ＰＯＳＳアミンの例には、アミノプロピルシクロヘキシル−ＰＯＳＳ（Ｃ45Ｈ85ＮＯ12Ｓｉ8）、アミノエチルアミノプロピルシクロヘキシル−ＰＯＳＳ（Ｃ47Ｈ90Ｎ2Ｏ12Ｓｉ8）、オクタアンモニウム−ＰＯＳＳ（Ｃ24Ｈ72Ｃｌ8Ｎ8Ｏ12Ｓｉ8）等が含まれ、全てはカリフォルニア州ファウンテン・バレー（Ｆｏｕｎｔａｉｎ Ｖａｌｌｅｙ，ＣＡ）のハイブリッド・プラスチクス（Ｈｙｂｒｉｄ Ｐｌａｓｔｉｃｓ）から市販入手可能である。ＰＯＳＳは多面体オリゴマーシルセスキオキサンを指すが、ＰＯＳＳエポキシドの例には、エポキシシクロヘキシルシクロヘキシル−ＰＯＳＳ（Ｃ50Ｈ90Ｏ13Ｓｉ8）、グリシジルシクロヘキシル−ＰＯＳＳ（Ｃ48Ｈ88Ｏ14Ｓｉ8）、オクタグリシジルジメチルシリル−ＰＯＳＳ（Ｃ56Ｈ120Ｏ36Ｓｉ16）、トリスグリシジルエチル−ＰＯＳＳ（Ｃ59Ｈ114Ｏ18Ｓｉ10）等が含まれ、全てはカリフォルニア州ファウンテン・バレー（Ｆｏｕｎｔａｉｎ Ｖａｌｌｅｙ，ＣＡ）のハイブリッド・プラスチクス（Ｈｙｂｒｉｄ Ｐｌａｓｔｉｃｓ）から市販入手可能であるものと考えられる。明細書全体を通してＰＯＳＳは多面体オリゴマーシルセスキオキサンを指すが、ＰＯＳＳエステルの例には、エチルウンデカノエートイソブチル−ＰＯＳＳ（Ｃ41Ｈ88Ｏ14Ｓｉ8）、メチルプロピオネートイソブチル−ＰＯＳＳ（Ｃ32Ｈ70Ｏ14Ｓｉ8）等が含まれ、全てはカリフォルニア州ファウンテン・バレー（Ｆｏｕｎｔａｉｎ Ｖａｌｌｅｙ，ＣＡ）のハイブリッド・プラスチクス（Ｈｙｂｒｉｄ Ｐｌａｓｔｉｃｓ）から市販入手可能であるものと考えられる。ＰＯＳＳは多面体オリゴマーシルセスキオキサンを指すが、フルオロアルキルＰＯＳＳの例には、フルオロ（３）ジシラノールシクロペンチル−ＰＯＳＳ（Ｃ40Ｈ75Ｆ3Ｏ12Ｓｉ8）、フルオロ（１３）ジシラノールイソブチル−ＰＯＳＳ（Ｃ38Ｈ75Ｆ13Ｏ12Ｓｉ8）、ドデカトリフルオロプロピル−ＰＯＳＳ（Ｃ36Ｈ48Ｆ36Ｏ18Ｓｉ12）、トリフルオロシクロヘキシル−ＰＯＳＳ（Ｃ42Ｈ77Ｆ3Ｏ9Ｓｉ7）、トリフルオロプロピルイソブチル−ＰＯＳＳ（Ｃ31Ｈ67Ｆ3Ｏ12Ｓｉ8）等が含まれ、全てはカリフォルニア州ファウンテン・バレー（Ｆｏｕｎｔａｉｎ Ｖａｌｌｅｙ，ＣＡ）のハイブリッド・プラスチクス（Ｈｙｂｒｉｄ Ｐｌａｓｔｉｃｓ）から市販入手可能である。ＰＯＳＳは多面体オリゴマーシルセスキオキサンを指すが、ＰＯＳＳハライドの例には、クロロベンジルシクロヘキシル−ＰＯＳＳ（Ｃ49Ｈ83ＣｌＯ12Ｓｉ8）、クロロベンジルエチルシクロペンチル−ＰＯＳＳ（Ｃ44Ｈ73ＣｌＯ12Ｓｉ8）、クロロプロピルイソブチル−ＰＯＳＳ（Ｃ31Ｈ69ＣｌＯ12Ｓｉ8）等が含まれ、全てはカリフォルニア州ファウンテン・バレー（Ｆｏｕｎｔａｉｎ Ｖａｌｌｅｙ，ＣＡ）のハイブリッド・プラスチクス（Ｈｙｂｒｉｄ Ｐｌａｓｔｉｃｓ）から市販入手可能である。ＰＯＳＳは多面体オリゴマーシルセスキオキサンを指すが、ＰＯＳＳイソシアネートの例には、イソシアナトプロピルジメチルシリルシクロヘキシル−ＰＯＳＳ（Ｃ48Ｈ89ＮＯ14Ｓｉ9）等が含まれ、全てはカリフォルニア州ファウンテン・バレー（Ｆｏｕｎｔａｉｎ Ｖａｌｌｅｙ，ＣＡ）のハイブリッド・プラスチクス（Ｈｙｂｒｉｄ Ｐｌａｓｔｉｃｓ）から市販入手可能であるものと考えられる。
ＰＯＳＳメタクリレート及びＰＯＳＳアクリレート例には、アクリロシクロヘキシル−ＰＯＳＳ（Ｃ48Ｈ86Ｏ14Ｓｉ8）、メタクリルシクロペンチル−ＰＯＳＳ（Ｃ42Ｈ74Ｏ14Ｓｉ8）、トリスメタクリルシクロヘキシル−ＰＯＳＳ（Ｃ69Ｈ128Ｏ18Ｓｉ10）等が含まれ、全てはカリフォルニア州ファウンテン・バレー（Ｆｏｕｎｔａｉｎ Ｖａｌｌｅｙ，ＣＡ）のハイブリッド・プラスチクス（Ｈｙｂｒｉｄ Ｐｌａｓｔｉｃｓ）から市販入手可能であるものと考えられる。ＰＯＳＳニトリルの例には、シアノエチルシクロヘキシル−ＰＯＳＳ（Ｃ45Ｈ81ＮＯ12Ｓｉ8）、シアノプロピルシクロペンチル−ＰＯＳＳ（Ｃ39Ｈ69ＮＯ12Ｓｉ8）等が含まれ、全てはカリフォルニア州ファウンテン・バレー（Ｆｏｕｎｔａｉｎ Ｖａｌｌｅｙ，ＣＡ）のハイブリッド・プラスチクス（Ｈｙｂｒｉｄ Ｐｌａｓｔｉｃｓ）から市販入手可能であるものと考えられる。ＰＯＳＳは多面体オリゴマーシルセスキオキサンを指すが、ノルボルネニルＰＯＳＳの例には、ノルボルネニルエチルシクロヘキシル−ＰＯＳＳ（Ｃ51Ｈ90Ｏ12Ｓｉ8）、トリスノルボルネニルシクロペンチル−ＰＯＳＳ（Ｃ68Ｈ120Ｏ12Ｓｉ10）等が含まれ、全てはカリフォルニア州ファウンテン・バレー（Ｆｏｕｎｔａｉｎ Ｖａｌｌｅｙ，ＣＡ）のハイブリッド・プラスチクス（Ｈｙｂｒｉｄ Ｐｌａｓｔｉｃｓ）から市販入手可能であるものと考えられる。本明細書全体を通してＰＯＳＳは多面体オリゴマーシルセスキオキサンを指すが、ＰＯＳＳホスフィンの例には、ジフェニルホスフィノエチルシクロペンチル−ＰＯＳＳ（Ｃ49Ｈ77Ｏ12ＰＳｉ8）、ジフェニルホスフィノプロピルシクロペンチル−ＰＯＳＳ（Ｃ50Ｈ79Ｏ12ＰＳｉ8）等が含まれ、全てはカリフォルニア州ファウンテン・バレー（Ｆｏｕｎｔａｉｎ Ｖａｌｌｅｙ，ＣＡ）のハイブリッド・プラスチクス（Ｈｙｂｒｉｄ Ｐｌａｓｔｉｃｓ）から市販入手可能であるものと考えられる。本明細書全体を通してＰＯＳＳは多面体オリゴマーシルセスキオキサンを指すが、ＰＯＳＳ含有ポリマーの例には、ポリ（ジメチル−ｃｏ−メチルヒドリド−ｃｏ−メチルプロピル−ＰＯＳＳ）シロキサン、ポリ（ジメチル−ｃｏ−メチルビニル−ｃｏ−メチルエチルシロキシ−ＰＯＳＳ）シロキサン、ポリ（エチルシルセスキオキサン）、ポリ（メチルシルセスキオキサン）、ポリ（フェニルシルセスキオキサン）、ポリ（プロピルメタクリル−ＰＯＳＳ−ｃｏ−メチルメタクリレート）、ポリ（プロピルメタクリル−ＰＯＳＳ−ｃｏ−スチレン）、ポリ（スチリル−ＰＯＳＳ−ｃｏ−スチレン）、ポリ（ビニルシルセスキオキサン）等が含まれ、全てはカリフォルニア州ファウンテン・バレー（Ｆｏｕｎｔａｉｎ Ｖａｌｌｅｙ，ＣＡ）のハイブリッド・プラスチクス（Ｈｙｂｒｉｄ Ｐｌａｓｔｉｃｓ）から市販入手可能であるものと考えられる。
理論によって限定することを望むものではないが、ＰＯＳＳ含有物質はシリコーン類よりも熱的及び化学的に頑強であり、そのナノ構造の形状及びサイズはポリマー鎖の運動を分子レベルで制御することよって独自の特性をもたらすものと考えられる。また、ＰＯＳＳ含有物質は炭化水素鎖によって囲まれる頑強なＳｉ−Ｏコアを有し、それにより、その無機コアが下記有機マトリックス（ＲＳｉＯ1.5）n構造（式中、Ｒは、例えば約２〜約３０個の炭素原子を有する炭化水素鎖であり、ｎは、例えば、８、１０若しくは１２である）と適合することを可能にしている。
Figure 0005294613
Ｒ基は１つの分子内で同じであっても異なっていてもよく、例えば、ビニル、シクロペンチル、イソブチル、シクロヘキシル、イソオクチル、エチル、フェニル、トリフルオロプロピル、フェネチル、それらの混合物等の少なくとも１つからなる群より選択することができる。Ｒ基は、例えば、ＰＯＳＳを標準ポリマー中に配合し、それにより実質的に完全な分子レベルの分散を備えるナノ複合体を得ることを可能にする。分子レベルで分散されたＰＯＳＳ独特の能力は、そのポリマーセグメント及びコイルを補強する。実施形態においては、ポリマー中のＰＯＳＳの量レベルが約５０重量パーセントまでは、その物質の物理特性（粘度、光学的透明性、機械特性）に悪影響を及ぼすことなく、若しくは処理条件において大幅な変更を強制することなく達成可能である。ＰＯＳＳ物質は有機マトリックス中で補強剤として機能し、様々な特性（Ｔg、硬度、モジュラス）の強化を可能にする。
ＰＯＳＳオレフィン、例えば、ビニルＰＯＳＳの例としては以下のものが挙げられる。
Figure 0005294613
ＰＯＳＳ含有物質の適切な量は様々であり、例えば、固形分全体の約０．０１〜約５０重量パーセント、約１〜約３０重量パーセント若しくは約５〜約２０重量パーセントを選択することができる。ＰＯＳＳ含有物質は電荷輸送層溶液中に溶解することができ、又は、その代わりに、ＰＯＳＳ含有物質を形成された電荷輸送層溶液に単に添加して分散させることもできる。
基体層の厚みは経済的考慮、電気的特質等を含む多くの要素に依存し、したがって、この層の実質的な厚みは、例えば、３，０００ミクロンを上回る、例えば、約１，０００〜約３，５００ミクロン、約１，０００〜約２，０００ミクロン、約３００〜約７００ミクロンであり、その最小厚みは約１００〜約５００ミクロンであり得る。実施形態において、この層の厚みは約７５ミクロン〜約３００ミクロン、若しくは約１００ミクロン〜約１５０ミクロンである。
基体は不透明であっても実質的に透明であってもよく、あらゆる適切な物質を含むことができる。したがって、基体は、非導電性若しくは導電性の物質、例えば、無機若しくは有機組成物の層を含み得る。非導電性物質としては、この目的に関して既知の様々樹脂を用いることができ、その例としては、薄いウェブとして可とう性である、ポリエステル、ポリカーボネート、ポリアミド、ポリウレタン等が含まれる。導電性の基体は、例えばアルミニウム、ニッケル、鋼、銅等のあらゆる適切な金属、若しくは例えば、炭素、金属粉等の導電性物質が充填された上記ポリマー性物質、若しくは有機導電性物質であり得る。電気絶縁性基体若しくは導電性基体は、無端状可とう性ベルト、ウェブ、硬質シリンダ、シート等の形態であり得る。基体層の厚みは、所望の強度及び経済的考慮を含む、多くの要素に依存する。ドラムについては、この層の実質的な厚みは、例えば数センチメートルまでであり得、その最小厚みは１ミリメートル未満であり得る。同様に、可とう性ベルトの実質的な厚みは、最終的な電子写真装置に対する悪影響がないのであれば、例えば約２５０マイクロメートル未満であり得、その最小厚みは約５０マイクロメートル未満であり得る。基体層が導電性ではない実施形態においては、該基体層の表面を導電性塗膜によって導電性にしてもよい。導電性塗膜の厚みは、光学的透明性、所望の可とう性及び経済的要素に依存して、実質的に広範囲にわたって変化し得る。
基体の具体例は本明細書で説明される通りのもの、より具体的には、本開示の撮像部材について選択される層であり、基体は不透明であっても実質的に透明であってもよく、無機若しくは有機ポリマー性材料（例えば、市販入手可能なポリマーであるマイラー（ＭＹＬＡＲ）（登録商標）、マイラー（登録商標）含有チタンを含む絶縁性物質の層、半導体表面層（例えば、酸化インジウムスズ若しくはアルミニウム）をその上に有する有機若しくは無機物質の層、又はアルミニウム、クロム、ニッケル、真鍮等を含む導電性物質が含まれる。基体は可とう性であっても、シームレスであっても、硬質であってもよく、多くの異なる形状、例えば、プレート、円筒状ドラム、スクロール（ｓｃｒｏｌｌ）、無端状可とう性ベルト等、を有することができる。実施形態においては、基体はシームレス可とう性ベルトの形態を有する。幾つかの場合、特に基体が可とう性有機ポリマー物質である場合は、基体の裏面にカール防止層、例えば、マクロロン（ＭＡＫＲＯＬＯＮ）（登録商標）として市販入手可能なポリカーボネート材料を塗布することが望ましい。
実施形態における電荷発生層は、多くの既知の電荷発生顔料、例えば、約５０重量パーセントのＶ型ヒドロキシガリウムフタロシアニン、チタニルフタロシアニン若しくはクロロガリウムフタロシアニン、及び約５０重量パーセントの樹脂結着剤、例えば、ポリ（塩化ビニル−ｃｏ−酢酸ビニル）コポリマー、例えば、ＶＭＣＨ（ダウ・ケミカル（Ｄｏｗ Ｃｈｅｍｉｃａｌ）から入手可能）若しくはポリカーボネートを含む。一般には、電荷発生層は既知の電荷発生顔料、例えば、金属フタロシアニン、金属非含有フタロシアニン、アルキルヒドロキシルガリウムフタロシアニン、ヒドロキシガリウムフタロシアニン、クロロガリウムフタロシアニン、ペリレン、特には、ビス（ベンゾイミダゾ）ペリレン、チタニルフタロシアニン等、より具体的には、バナジルフタロシアニン、Ｖ型ヒドロキシガリウムフタロシアニン、並びに無機成分、例えば、セレン、セレン合金及び三方晶セレンを含有することができる。電荷発生顔料は、電荷輸送層について選択される樹脂結着剤に類似する樹脂結着剤中に分散させることができるが、樹脂結着剤が存在しなくてもよい。一般には、電荷発生層の厚みは、他の層の厚み及び該電荷発生層に含有される電荷発生物質の量を含む、多くの要素に依存する。したがって、該電荷発生層の厚みは、例えば電荷発生組成物が約３０〜約７５体積パーセントの量で存在するとき、例えば、約０．０５ミクロン〜約１０ミクロン、より具体的には、約０．２５ミクロン〜約２ミクロンであり得る。実施形態における電荷発生層の最大厚みは、主として、感光性、電気的特性及び機械的考慮のような要素に依存する。電荷発生層結着樹脂は様々な適切な量、例えば、約１〜約５０重量パーセント、より具体的には、約１〜約１０重量パーセントで存在し、該樹脂は多くの既知ポリマー、例えば、ポリ（ビニルブチラール）、ポリ（ビニルカルバゾール）、ポリエステル、ポリカーボネート、ポリアリーレート、ポリ（塩化ビニル）、ポリアクリレート、ポリメタクリレート、塩化ビニルと酢酸ビニルとのコポリマー、フェノール樹脂、ポリウレタン、ポリ（ビニルアルコール）、ポリアクリロニトリル、ポリスチレン、他の既知の適切な結着剤等から選択することができる。装置の既に塗布された層を実質的に妨害したり悪影響を及ぼすことのないコーティング溶媒を選択することが望ましい。電荷発生層のコーティング溶媒の例としては、ケトン、アルコール、芳香族炭化水素、ハロゲン化脂肪族炭化水素、シラノール、アミン、アミド、エステル等が挙げられる。溶媒の具体例としては、シクロヘキサノン、アセトン、メチルエチルケトン、メタノール、エタノール、ブタノール、アミルアルコール、トルエン、キシレン、クロロベンゼン、四塩化炭素、クロロホルム、塩化メチレン、トリクロロエチレン、ジクロロエタン、テトラヒドロフラン、ジオキサン、ジエチルエーテル、ジメチルホルムアミド、ジメチルアセトアミド、酢酸ブチル、酢酸エチル、酢酸メトキシエチル等が挙げられる。
電荷発生層は、真空蒸発若しくは蒸着によって作製される、セレン、及びセレンとヒ素、テルル、ゲルマニウム等との合金の非晶質セレン膜、水添化非晶質ケイ素、並びにケイ素とゲルマニウム、炭素、酸素、窒素等との化合物を含み得る。また電荷発生層は、膜形成ポリマー結着剤に分散させ、溶媒コーティング技術によって作製される、結晶性セレン及びその合金の無機顔料、第ＩＩ族〜第ＶＩ族化合物、並びに有機顔料、例えば、キナクリドン、多環式顔料、例えば、ジブロモアンタントロン顔料、ペリレン及びペリノンジアミン、多核芳香族キノン、ビス−アゾ、トリス−アゾ及びテトラキス−アゾを含むアゾ顔料等も含み得る。
実施形態において、電荷発生層のマトリックスとして選択することができるポリマー結着剤材料の例としては、米国特許第３，１２１，００６号に記載されている材料、及び既知のポリマー、例えば、熱可塑性樹脂及び熱硬化性樹脂、例えば、ポリカーボネート、ポリエステル、ポリアミド、ポリウレタン、ポリスチレンが挙げられる。
電荷発生組成物若しくは顔料は樹脂結着剤組成物中に様々な量で存在する。しかしながら、一般には、約５重量パーセント〜約９０重量パーセントの電荷発生顔料が、約１０重量パーセント〜約９５重量パーセントの樹脂結着剤に分散されるか、約２０重量パーセント〜約５０重量パーセントの電荷発生顔料が、約８０重量パーセント〜約５０重量パーセントの樹脂結着剤組成物に分散される。一実施形態においては、約５０重量パーセントの電荷発生顔料が約５０重量パーセントの樹脂結着剤組成物に分散される。
実施形態において、適切な既知の接着剤層を光導電体に含ませることができる。典型的な接着剤層材料の例には、例えば、ポリエステル、ポリウレタン等が含まれる。接着剤層の厚みは変化させることができ、一実施形態においては、例えば、約０．０５マイクロメートル（５００オングストローム）〜約０．３マイクロメートル（３，０００オングストローム）である。接着剤層は、ホール遮断層上に、噴霧、ディップコーティング、ロールコーティング、巻線ロッド（ｗｉｒｅ ｗｏｕｎｄ ｒｏｄ）コーティング、グラビアコーティング、バード（Ｂｉｒｄ）アプリケータ・コーティング等によって堆積させることができる。堆積させた塗膜の乾燥は、例えば、オーブン乾燥、赤外線乾燥、風乾等によって達成し得る。
通常、ホール遮断層及び電荷発生層と接触するか、若しくはホール遮断層と電荷発生層との間に配置される、任意の接着剤層として、コポリエステル、ポリアミド、ポリ（ビニルブチラール）、ポリ（ビニルアルコール）、ポリウレタン及びポリアクリロニトリルを含む様々な既知物質を選択することができる。該任意の接着剤層の厚みは、例えば、約０．００１ミクロン〜約１ミクロン若しくは約０．１ミクロン〜約０．５ミクロンである。任意に、この層は有効適切量、例えば、約１〜約１０重量パーセントの導電性及び非導電性粒子、例えば、酸化亜鉛、二酸化チタン、窒化ケイ素、カーボンブラック等を含有し、例えば本開示の実施形態においてさらなる所望の電気的及び光学的特性をもたらし得る。
本開示の撮像部材に用いられる任意のホール遮断層若しくは下塗り層は、既知のホール遮断成分、例えば、アミノシラン、ドープ金属酸化物、ＴｉＳｉ、金属酸化物（例えば、チタン、クロム、亜鉛、スズ等の金属酸化物）、フェノール化合物とフェノール樹脂との混合物若しくは２種類のフェノール樹脂の混合物、及び、任意に、ＳｉＯ2等のドーパントを含む多くの成分を含有することができる。フェノール化合物は通常少なくとも２つのフェノール基を含有し、該フェノール化合物の例としては、ビスフェノールＡ（４，４’−イソプロピリデンジフェノール）、ビスフェノールＥ（４，４’−エチリデンビスフェノール）、ビスフェノールＦ（ビス（４−ヒドロキシフェニル）メタン）、ビスフェノールＭ（４，４’−（１，３−フェニレンジイソプロピリデン）ビスフェノール）、ビスフェノールＰ（４，４’−（１，４−フェニレンジイソプロピリデン）ビスフェノール）、ビスフェノールＳ（４，４’−スルホニルジフェノール）及びビスフェノールＺ（４，４’−シクロヘキシリデンビスフェノール）、ヘキサフルオロビスフェノールＡ（４，４’−（ヘキサフルオロイソプロピリデン）ジフェノール）、レゾルシノール、ヒドロキシキノン、カテキン等が挙げられる。
ホール遮断層は、例えば、約２０重量パーセント〜約８０重量パーセント、より具体的には、約５５重量パーセント〜約６５重量パーセントの適切な化合物、例えば、金属酸化物（例えば、ＴｉＯ2）、約２０重量パーセント〜約７０重量パーセント、より具体的は、約２５重量パーセント〜約５０重量パーセントのフェノール樹脂、約２重量パーセント〜約２０重量パーセント、より具体的には、約５重量パーセント〜約１５重量パーセントの、例えば少なくとも２つのフェノール基を含有する、フェノール化合物（例えば、ビスフェノールＳ）、及び約２重量パーセント〜約１５重量パーセント、より具体的には、約４重量パーセント〜約１０重量パーセントの合板抑制ドーパント（ｐｌｙｗｏｏｄ ｓｕｐｐｒｅｓｓｉｏｎ ｄｏｐａｎｔ）、例えば、ＳｉＯ2を含み得る。ホール遮断層コーティング分散液は、例えば、以下のように調製することができる。まず、金属酸化物／フェノール樹脂分散液を、分散液中の金属酸化物の平均粒子サイズが約１０ナノメートル未満、例えば、約５〜約９ナノメートルになるまでボールミル処理若しくはダイノミル処理することによって調製する。上記分散液にフェノール化合物及びドーパントを添加した後、混合する。ホール遮断層コーティング分散液はディップコーティング若しくはウェブコーティングによって塗布することができ、その層は塗布後に熱により硬化させることができる。得られるホール遮断層の厚みは、例えば、約０．０１ミクロン〜約３０ミクロン、より具体的には、約０．１ミクロン〜約８ミクロンである。フェノール樹脂の例には、フェノール、ｐ−ｔｅｒｔ−ブチルフェノール、クレゾールとのホルムアルデヒドポリマー、例えば、バーカム（ＶＡＲＣＵＭ）（登録商標）２９１５９及び２９１０１（オキシケム社（ＯｘｙＣｈｅｍ Ｃｏｍｐａｎｙ）から入手可能）並びにデュライト（ＤＵＲＩＴＥ）（登録商標）９７（ボーデン・ケミカル（Ｂｏｒｄｅｎ Ｃｈｅｍｉｃａｌ）から入手可能）；アンモニア、クレゾール及びフェノールとのホルムアルデヒドポリマー、例えば、バーカム（ＶＡＲＣＵＭ）（登録商標）２９１１２（オキシケム社（ＯｘｙＣｈｅｍ Ｃｏｍｐａｎｙ）から入手可能）；４，４’−（１−メチルエチリデン）ビスフェノールとのホルムアルデヒドポリマー、例えば、バーカム（ＶＡＲＣＵＭ）（登録商標）２９１０８及び２９１１６（オキシケム社（ＯｘｙＣｈｅｍ Ｃｏｍｐａｎｙ）から入手可能）；クレゾール及びフェノールとのホルムアルデヒドポリマー、例えば、バーカム（ＶＡＲＣＵＭ）（登録商標）２９４５７（オキシケム社（ＯｘｙＣｈｅｍ Ｃｏｍｐａｎｙ）から入手可能）、デュライト（ＤＵＲＩＴＥ）（登録商標）ＳＤ−４２３Ａ、ＳＤ−４２２Ａ（ボーデン・ケミカル（Ｂｏｒｄｅｎ Ｃｈｅｍｉｃａｌ）から入手可能）；若しくはフェノール及びｐ−ｔｅｒｔ−ブチルフェノールとのホルムアルデヒドポリマー、例えば、デュライト（ＤＵＲＩＴＥ）（登録商標）ＥＳＤ５５６Ｃ（ボーデン・ケミカル（Ｂｏｒｄｅｎ Ｃｈｅｍｉｃａｌ）から入手可能）が含まれる。
電荷輸送層成分及び電荷輸送層分子には、本明細書で説明される多くの既知材料、例えば、アリールアミンが含まれ、その層の厚みは、一般には、約５ミクロン〜約７５ミクロン、より具体的には、約１０ミクロン〜約４０ミクロンである。
電荷輸送層用に選択される結着剤材料の例としては、米国特許第３，１２１，００６号に記載される成分、及び他の既知の適切な結着剤、例えばポリカーボネート、ポリアリーレート、アクリレートポリマー、ビニルポリマー、セルロースポリマー、ポリエステル、ポリシロキサン、ポリアミド、ポリウレタン、ポリ（シクロオレフィン）、エポキシ及びそれらのランダムコポリマー若しくは交互コポリマー等、より具体的には、ポリカーボネート、例えば、ポリ（４，４’−イソプロピリデン−ジフェニレン）カーボネート（別名、ビスフェノール−Ａ−ポリカーボネート）、ポリ（４，４’−シクロヘキシリデンジフェニレン）カーボネート（別名、ビスフェノール−Ｚ−ポリカーボネート）、ポリ（４，４’−イソプロピリデン−３，３’−ジメチル−ジフェニル）カーボネート（別名、ビスフェノール−Ｃ−ポリカーボネート）等が挙げられる。
電荷輸送層（１以上）、より具体的には、電荷発生層と接触する第１電荷輸送層、及びその上の最上若しくは第２電荷輸送オーバーコート層は、膜を形成する電気的に不活性のポリマー、例えば、ポリカーボネートに溶解若しくは分子的に分散する電荷輸送性小分子を含むことができる。実施形態において、「溶解する」なる語は、例えば、その小分子及びシラノールがポリマー中に溶解して均一の相を形成する溶液の形成を指し、「実施形態において分子的に分散する」なる表現は、例えば、ポリマー中に分散されている電荷輸送性分子に関し、小分子がそのポリマー中に分子スケールで分散されることを指す。様々な電荷輸送性の若しくは電気的に活性の小分子を、電荷輸送層（１以上）用に選択し得る。実施形態において、電荷輸送は、例えば、電荷発生層において生成された自由電荷を輸送層を横断して輸送することを可能にするモノマーとしての電荷輸送性分子を指す。
実施形態における電荷輸送層の各々の厚みは約５〜約７５ミクロンであるが、この範囲外の厚みを実施形態において選択してもよい。電荷輸送層は、ホール輸送層上に配置された静電荷が、光照射していない状態で、静電潜像の形成及び保持を妨げるのに十分な速度で伝導されない程度の絶縁体でなければならない。一般には、電荷輸送層の電荷発生層に対する厚みの比（電荷輸送層の厚み：電荷発生層の厚み）は約２：１〜２００：１、幾つかの場合には、４００：１であり得る。電荷輸送層は、可視光若しくは用いようとする領域の放射線に対して実質的に非吸収性であるが、電気的には「活性」であり、そこでは光導電層若しくは電荷発生層からの電荷発生ホールの注入が可能であり、かつこれらのホールが該電荷輸送層を通して輸送されて、活性層の表面上の表面電荷を選択的に放電させることが可能である。
電荷輸送オーバーコート連続層の厚みは、用いられる系における荷電（バイアス荷電ロール（ｂｉａｓ ｃｈａｒｇｉｎｇ ｒｏｌｌ））、洗浄（ブレード若しくはウェブ）、現像（ブラシ）、転写（バイアス転写ロール（ｂｉａｓ ｔｒａｎｓｆｅｒ ｒｏｌｌ））等の摩損性に依存して選択され、最大約１０マイクロメートルであり得る。実施形態において、各層の厚みは約１マイクロメートル〜約５マイクロメートルである。オーバーコート層コーティング混合物の混合及び光導電体への塗布には様々な適切かつ通常の方法を用いることができる。典型的な塗布技術の例には、噴霧、ディップコーティング、ロールコーティング、巻線ロッドコーティング等が含まれる。堆積された塗膜の乾燥はあらゆる適切な通常の技術、例えば、オーブン乾燥、赤外線乾燥、風乾等によって達成し得る。本開示における乾燥させたオーバーコート層は撮像中にホールを輸送しなければならず、かつ高すぎる自由キャリア濃度を有していてはならない。
オーバーコートは電荷輸送層と同じ成分を含むことができ、電荷輸送性小分子と適切な電気的に不活性な樹脂結着剤との重量比（電荷輸送性小分子／樹脂結着剤）は、例えば、約０／１００〜約６０／４０、若しくは約２０／８０〜約４０／６０である。
電荷輸送層若しくは少なくとも１つの電荷輸送層に任意に組み込んで、例えば、横電荷移動（ｌａｔｅｒａｌ ｃｈａｒｇｅ ｍｉｇｒａｔｉｏｎ）（ＬＣＭ）抵抗の改善を可能にする成分若しくは材料の例には、ヒンダードフェノール酸化防止剤、例えば、テトラキスメチレン（３，５−ジ−ｔｅｒｔ−ブチル−４−ヒドロキシヒドロシンナメート）メタン（イルガノックス（ＩＲＧＡＮＯＸ）（登録商標）１０１０、チバ・スペシャルティ・ケミカル（Ｃｉｂａ Ｓｐｅｃｉａｌｔｙ Ｃｈｅｍｉｃａｌ）から入手可能）、ブチル化ヒドロキシトルエン（ＢＨＴ）及び他のヒンダードフェノール酸化防止剤（サミライザ（ＳＵＭＩＬＩＺＥＲ）（商標）ＢＨＴ−Ｒ、ＭＤＰ−Ｓ、ＢＢＭ−Ｓ、ＷＸ−Ｒ、ＮＷ、ＢＰ−７６、ＢＰ−１０１、ＧＡ−８０、ＧＭ及びＧＳ（スミトモ・ケミカル社（Ｓｕｍｉｔｏｍｏ Ｃｈｅｍｉｃａｌ Ｃｏｍｐａｎｙ，Ｌｔｄ．）から入手可能）、イルガノックス（ＩＲＧＡＮＯＸ）（登録商標）１０３５、１０７６、１０９８、１１３５、１１４１、１２２２、１３３０、１４２５ＷＬ、１５２０Ｌ、２４５、２５９、３１１４、３７９０、５０５７及び５６５（チバ・スペシャルティーズ・ケミカルズ（Ｃｉｂａ Ｓｐｅｃｉａｌｔｉｅｓ Ｃｈｅｍｉｃａｌｓ）から入手可能）並びにアデカ・スタブ（ＡＤＥＫＡ ＳＴＡＢ）（商標）ＡＯ−２０、ＡＯ−３０、ＡＯ−４０、ＡＯ−５０、ＡＯ−６０、ＡＯ−７０、ＡＯ−８０及びＡＯ−３３０（アサヒ・デンカ社（Ａｓａｈｉ Ｄｅｎｋａ Ｃｏｍｐａｎｙ，Ｌｔｄ．）から入手可能）を含む）、ヒンダードアミン酸化防止剤、例えば、サノール（ＳＡＮＯＬ）（商標）ＬＳ−２６２６、ＬＳ−７６５、ＬＳ−７７０及びＬＳ−７４４（サンキョー社（ＳＡＮＫＹＯ ＣＯ．，Ｌｔｄ．）から入手可能）、チヌビン（ＴＩＮＵＶＩＮ）（登録商標）１４４及び６２２ＬＤ（チバ・スベシャルティーズ・ケミカルズから入手可能）、マーク（ＭＡＲＫ）（商標）ＬＡ５７、ＬＡ６７、ＬＡ６２、ＬＡ６８及びＬＡ６３（アサヒ・デンカ社（Ａｓａｈｉ Ｄｅｎｋａ Ｃｏｍｐａｎｙ，Ｌｔｄ．）から入手可能）並びにサミライザ（ＳＵＭＩＬＩＺＥＲ）（商標）ＴＰＳ（スミトモ・ケミカル社（Ｓｕｍｉｔｏｍｏ Ｃｈｅｍｉｃａｌ Ｃｏ．，Ｌｔｄ．）から入手可能）、チオエーテル酸化防止剤、例えば、サミライザ（ＳＵＭＩＬＩＺＥＲ）（商標）ＴＰ−Ｄ（スミトモ・ケミカル社から入手可能）、亜リン酸酸化防止剤、例えば、マーク（ＭＡＲＫ）（商標）２１１２、ＰＥＰ−８、ＰＥＰ−２４Ｇ、ＰＥＰ−３６、３２９Ｋ及びＨＰ−１０（アサヒ・デンカ社（Ａｓａｈｉ Ｄｅｎｋａ Ｃｏｍｐａｎｙ，Ｌｔｄ．）から入手可能）、他の分子、例えば、ビス（４−ジエチルアミノ−２−メチルフェニル）フェニルメタン（ＢＤＥＴＰＭ）、ビス−［２−メチル−４−（Ｎ−２−ヒドロキシエチル−Ｎ−エチル−アミノフェニル）］−フェニルメタン（ＤＨＴＰＭ）等が含まれる。少なくとも１つの電荷輸送層中の酸化防止剤の重量パーセントは、約０〜約２０重量パーセント、約１〜約１０重量パーセント、若しくは約３〜約８重量パーセントである。
比較例１
３．５ミルの厚みを有する二軸配向ポリエチレンナフタレート基体（カルデックス（ＫＡＬＥＤＥＸ）（商標）２０００）上に、０．０２マイクロメートル厚チタン層を（コーター装置を用いて）塗布し、その上に、グラビアアプリケータを用いて、５０グラムの３−アミノ−プロピルトリエトキシシラン、４１．２グラムの水、１５グラムの酢酸、６８４．８グラムの変性アルコール及び２００グラムのヘプタンを含有する溶液を塗布することによって、撮像部材を調製した。次に、この層をコーターの強制空気ドライヤーにおいて１３５℃で約５分間乾燥させた。得られた遮断層は５００オングスロトームの乾燥厚みを有していた。次いで、接着剤層を上記遮断層上にグラビアアプリケータを用いて湿式コーティングを行なうことによって調製した。該接着剤層は、テトラヒドロフラン／モノクロロベンゼン／塩化メチレンの６０：３０：１０体積比混合液中に、その溶液の総重量を基準にして、０．２重量パーセントのコポリエステル接着剤（トヨタ・スツ社（Ｔｏｙｏｔａ Ｈｓｕｔｓｕ Ｉｎｃ．）から入手可能なアーデル（ＡＲＤＥＬ）（商標）Ｄ１００）を含有していた。その後、接着剤層をコーターの強制空気ドライヤーにおいて１３５℃で約５分間乾燥させた。得られた接着剤層は２００オングストロームの乾燥厚みを有していた。
電荷発生層分散液の調製は、０．４５グラムの既知ポリカーボネートであるルピノン（ＬＵＰＩＬＯＮ）（商標）２００（ＰＣＺ−２００）若しくはポリカーボネート（ＰＯＬＹＣＡＲＢＯＮＡＴＥ）（商標）Ｚ（重量平均分子量２０，０００、ミツビシ・ガス・ケミカル社（Ｍｉｔｓｕｂｉｓｈｉ Ｇａｓ Ｃｈｅｍｉｃａｌ Ｃｏｒｐｏｒａｔｉｏｎ）から入手可能）及び５０ミリリットルのテトラヒドロフランを、４オンスガラス瓶に導入することによって行った。この溶液に２．４グラムのヒドロキシガリウムフタロシアニン（Ｖ型）及び３００グラムの１／８インチ（３．２ミリメートル）径ステンレス鋼弾丸（ｓｈｏｔ）を添加した。その後、得られた混合物をボールミルに８時間入れた。続いて、２．２５グラムのＰＣＺ−２００を４６．１グラムのテトラヒドロフランに溶解し、上記ヒドロキシガリウムフタロシアニン分散液に添加した。次に、得られたスラリーを振盪機に１０分間入れた。その後、得られた分散液を上記接着剤界面にバードアプリケータで塗布し、０．２５ミルの湿潤厚を有する電荷発生層を形成した。遮断層及び接着剤層を坦持する基体ウェブの一端に沿う約１０ミリメートル幅の細片（ｓｔｒｉｐ）を、慎重に電荷発生層材料のいずれも塗布されないままとし、後に塗布される接地（ｇｒｏｕｎｄ）細片層と適切に電気的に接触するようにした。電荷発生層を強制空気オーブン内で、１２０℃で１分間乾燥させ、０．４マイクロメートルの厚みを有する乾燥電荷発生層を形成した。
次に、得られた撮像部材ウェブを２つの電荷輸送層でオーバーコートした。具体的には、電荷発生層を、該電荷発生層と接触する電荷輸送層（最下層）でオーバーコートした。この電荷輸送層の最下層の調製は、琥珀ガラス瓶に、１：１の重量比で、Ｎ，Ｎ’−ジフェニル−Ｎ，Ｎ’−ビス（３−メチルフェニル）−１，１’−ビフェニル−４，４’−ジアミン及びマクロロン（ＭＡＫＲＯＬＯＮ）（登録商標）５７０５（ファーベンファブリケン・バイエル社（Ｆａｒｂｅｎｆａｂｒｉｋｅｎ Ｂａｙｅｒ Ａ．Ｇ）から入手可能な、約５０，０００〜約１００，０００の重量平均分子量を有する既知ポリカーボネート樹脂）を導入することによって行った。その後、得られた混合物を塩化メチレンに溶解し、１５重量パーセントの固形分を含有する溶液を形成した。この溶液を上記電荷発生層上に塗布し、乾燥時（１２０℃で１分間）に１４．５ミクロンの厚みを有する、最下層コーティングを形成した。この塗布工程の間、湿度は１５パーセント以下であった。
次に、上記電荷輸送層の最下層を、最上層でオーバーコートした。最上層の電荷輸送層溶液は最下層について上述される通りに調製した。該最上層溶液を電荷輸送層の最下層に塗布し、乾燥時（１２０℃で１分間）に１４．５ミクロンの厚みを有する塗膜を形成した。この塗布工程の間、湿度は１５パーセント以下であった。
実施例１
琥珀ガラス瓶に１：１：０．２の重量比でＮ，Ｎ’−ジフェニル−Ｎ，Ｎ’−ビス（３−メチルフェニル）−１，１’−ビフェニル−４，４’−ジアミン、マクロロン（ＭＡＫＲＯＬＯＮ）（登録商標）５７０５、ファーベンファブリケン・バイエル社（Ｆａｒｂｅｎｆａｂｒｉｋｅｎ Ｂａｙｅｒ Ａ．Ｇ）から市販入手可能な約５０，０００〜約１００，０００の重量平均分子量を有するポリカーボネート樹脂、及びカリフォルニア州ファウンテン・バレー（Ｆｏｕｎｔａｉｎ Ｖａｌｌｅｙ，ＣＡ）のハイブリッド・プラスチクス（Ｈｙｂｒｉｄ Ｐｌａｓｔｉｃｓ）から入手可能なビニル−ＰＯＳＳかご型混合物、ＯＬ１１７０（商標）、（ＣＨ2ＣＨ）nＴn（ｎ＝８、１０、１２）を導入することによって電荷輸送層の最上層を調製したことを除いて、比較例１の方法を繰り返すことによって撮像部材若しくは光導電性部材を調製した。ｎが１０に等しい場合の、（ＲｓｉＯ1.5）nを有するビニル−ＰＯＳＳ構造は、下記構造式：
Figure 0005294613
 で表されると考えられる。
得られた混合物を塩化メチレンに溶解し、１５重量パーセントの固形分を含有する溶液を形成した。
実施例２
（１）琥珀ガラス瓶に、０．８：１：０．２の重量比でＮ，Ｎ’−ジフェニル−Ｎ，Ｎ’−ビス（３−メチルフェニル）−１，１’−ビフェニル−４，４’−ジアミン、マクロロン（ＭＡＫＲＯＬＯＮ）（登録商標）５７０５、ファーベンファブリケン・バイエル社（Ｆａｒｂｅｎｆａｂｒｉｋｅｎ Ｂａｙｅｒ Ａ．Ｇ）から市販入手可能な約５０，０００〜約１００，０００の重量平均分子量を有するポリカーボネート、及びカリフォルニア州ファウンテン・バレー（Ｆｏｕｎｔａｉｎ Ｖａｌｌｅｙ，ＣＡ）のハイブリッド・プラスチクス（Ｈｙｂｒｉｄ Ｐｌａｓｔｉｃｓ）から入手可能なビニル−ＰＯＳＳかご型混合物、ＯＬ１１７０（商標）、（ＣＨ2ＣＨ）nＴn（ｎ＝８、１０、１２）を導入することによって電荷輸送層の最上層を調製し、得られた混合物を塩化メチレンに溶解して１５重量パーセントの固形分を含有する溶液を形成し、（２）電荷発生層分散液に、０．４８グラムの、オハイオ州クリーブランドのエルコ社（Ｅｌｃｏ Ｃｏｒｐｏｒａｔｉｏｎ）から市販入手可能な亜鉛ジアルキルジチオホスフェート（エルコ（ＥＬＣＯ）（商標）１０３、ここでアルキルは第一級及び第二級のプロピル、第一級及び第二級のブチル及び第一級及び第二級のペンチルの混合物である）を添加し、得られた分散液を少なくとも２時間混合したことを除いて、比較例１の方法を繰り返すことによって、撮像部材を調製した。
実施例３
（１）電荷輸送層の最上層の調製を、琥珀ガラス瓶に、０．８：１：０．２の重量比でＮ．Ｎ’−ジフェニル−Ｎ，Ｎ’−ビス（３−メチルフェニル）−１，１’−ビフェニル−４，４’−ジアミン、マクロロン（ＭＡＫＲＯＬＯＮ）（登録商標）５７０５、ファーベンファブリケン・バイエル社（Ｆａｒｂｅｎｆａｂｒｉｋｅｎ Ｂａｙｅｒ Ａ．Ｇ）から市販入手可能な約５０，０００〜約１００，０００の重量平均分子量を有するポリカーボネート、及び、耐傷性のための、カリフォルニア州ファウンテン・バレー（Ｆｏｕｎｔａｉｎ Ｖａｌｌｅｙ，ＣＡ）のハイブリッド・プラスチクス（Ｈｙｂｒｉｄ Ｐｌａｓｔｉｃｓ）から入手可能なビニル−ＰＯＳＳかご型混合物、ＯＬ１１７０（商標）、（ＣＨ2ＣＨ）nＴn（ｎ＝８、１０、１２）を導入することによって行い、得られた混合物を塩化メチレンに溶解して１５重量パーセントの固形分を含有する溶液を形成し、（２）電荷輸送層の最下層の調製を、琥珀ガラス瓶に１：１：０．０１の重量比でＮ，Ｎ’−ジフェニル−Ｎ，Ｎ’−ビス（３−メチルフェニル）−１，１’−ビフェニル−４，４’−ジアミン、マクロロン（ＭＡＫＲＯＬＯＮ）（登録商標）５７０５、ファーベンファブリケン・バイエル社（Ｆａｒｂｅｎｆａｂｒｉｋｅｎ Ｂａｙｅｒ Ａ．Ｇ）から市販入手可能な約５０，０００〜約１００，０００の重量平均分子量を有するポリカーボネート、及びオハイオ州クリーブランドのエルコ社（Ｅｌｃｏ Ｃｏｒｐｏｒａｔｉｏｎ）から入手可能な亜鉛ジアルキルジチオホスフェート（エルコ（ＥＬＣＯ）（商標）１０３、アルキルは第一級及び第二級プロピル、ブチル及びペンチルの混合物である）を導入することによって行い、得られた混合物を塩化メチレンに溶解して１５重量パーセントの固形分を含有する溶液を形成し、並びに（３）電荷発生層分散液に０．２４グラムの、オハイオ州クリーブランドのエルコ社（Ｅｌｃｏ Ｃｏｒｐｏｒａｔｉｏｎ）から市販入手可能な、亜鉛ジアルキルジチオホスフェート（エルコ（ＥＬＣＯ）（商標）１０３、アルキルは第一級及び第二級プロピル、ブチル及びペンチルの混合物である）（このエルコ（ＥＬＣＯ）（商標）は、例えば、より低いＶrの優れた光導電体電気性及びＶrサイクルアップの防止若しくは最小化をもたらす）を添加し、得られた分散液を少なくとも２時間混合することを除いて、比較例１の方法繰り返すことによって、撮像部材を調製した。
電気特性試験
上記のように調製された感光体装置（比較例１及び実施例１〜３）をスキャナーセットにおいて、１回の荷電−消去サイクルに１回の荷電−露光−消去サイクルが続く配列で試験して光誘導放電サイクルを得たが、ここで、光強度をサイクル毎に段階的に増加させて一連の光誘導放電特性曲線を生成し、そこから様々な露光強度での感光度及び表面電位を測定した。表面電位を増加させて幾つかの電圧対電荷密度曲線を生成する一連の荷電−消去サイクルにより、さらなる電気特性を得た。このスキャナーは、様々な表面電位での一定の電圧荷電を設定するスコロトロンを備えていた。これらの装置を、一連の減光フィルターを調節することによって露光光強度を段階的に増加させながら、５００ボルトの表面電位で試験した。露光光源は、７８０ナノメートルの波長を発する発光ダイオードであった。この乾式静電シミュレーションは、環境が制御された遮光チャンバにおいて、周囲条件（相対湿度４０パーセント及び２２℃）で完了させた。これらの装置も、荷電−放電−消去を伴って電気的に１０，０００サイクルまで周回させた。上述のように調製された光導電体の各々についてサイクル＝０及びサイクル＝１０，０００の両方で１つずつ、８つの光誘導放電特性（ＰＩＤＣ）曲線を生成した（ここで、Ｖはボルトに等しい）。それらの結果を表１にまとめる。
Figure 0005294613
上記表１のデータにより、既知ＰＩＤＣ曲線の生成によって決定される実施例１〜３の光導電体部材の多くの改善された特性が示される。より具体的には、表１におけるＶ（３．５ｅｒｇｓ／ｃｍ2）は露光が３．５ｅｒｇｓ／ｃｍ2であるときの光導電体装置の表面電位を示し、ＰＩＤＣの特徴付けに用いられる。ＰＯＳＳ含有物質を電荷輸送層へ組み込むことにより（実施例１）、サイクル＝０でのＶ（３．５ｅｒｇｓ／ｃｍ2）を増加させ、下記の耐傷性試験において示されるように、耐傷性が改善された。
１０，０００サイクルの後、実施例１のサイクルアップは比較例１に匹敵するものであり、これはサイクルアップに対するＰＯＳＳ含有物質の組み込みの効果がほとんどないことを示していた。したがって、電荷輸送層へＰＯＳＳ含有物質のみを組み込むと、所望のものより幾らか劣るＰＩＤＣ（高Ｖr）を生じ、耐傷性が、下記の耐傷性試験において示されるように改善された。
ＰＯＳＳ含有物質の電荷輸送層への組み込み、並びにチオホスフェートの電荷発生層及び電荷輸送層への組み込みの両方は、優れた電気特性を有する耐傷性撮像部剤を可能にした。より具体的には、これらの部材のサイクル＝０でのＶ（３．５ｅｒｇｓ／ｃｍ2）は比較例１に匹敵するものであり、かつ比較例１の数と比較して１０，０００サイクル後にサイクルアップはほとんど存在しなかった。
耐傷性試験
表面粗さを示すＲqを、耐傷性評価の標準測定基準としての二乗平均平方根粗さとみなすことができ、表面プロファイル測定器によって測定されるグレード１の耐傷性は耐傷性の乏しさを表し、グレード５の耐傷性は優れた耐傷性を表す。より具体的には、耐傷性は、Ｒq測定値が０．３ミクロンを上回るときグレード１であり、Ｒqが０．２〜０．３ミクロンであるときグレード２であり、Ｒqが０．１５〜０．２ミクロンであるときグレード３であり、Ｒqが０．１〜０．１５ミクロンであるときグレード４であり、Ｒqが０．１ミクロンを下回るときグレード５であり、これは最良の、若しくは優れた耐傷性を示す。
上記のように調製された４つの光電導性ベルト（比較例１及び実施例１〜３）を幅１インチ×長さ１２インチの細片に切断し、３ローラー曲げシステムを用いて曲げた。各々のベルトを１．１ ｌｂ／インチの張力下に置き、各ローラーは直径１／８インチであった。ポリウレタン「スポットブレード」を各ベルトに接触させて５〜１５度の角度で配置した。サイズ径が約１００マイクロメートルのキャリアビーズを両面テープを用いてスポットブレードに取り付けた。これらのビーズは、光導電体が上記スポットブレードと接触して２００模擬撮像サイクルの回転するに従い、ベルトの各々の表面に打撃を加えた。その後、各傷領域の表面形態を分析した。
ＰＯＳＳ含有物質を電荷輸送層へ組み込みことにより、耐傷性が約３０パーセント〜約５０パーセント改善された。
例えば、上記耐傷性試験の後、ＰＯＳＳ含有物質を含まない比較撮像部材（比較例１）のＲq値は０．３ミクロンであったのに対し、ＰＯＳＳ含有物質を含む撮像部材のＲq値は、ＰＯＳＳ含有物質の投入量及び位置に依存して（実施例１〜３）、０．１５〜０．２ミクロンであり、実施例１〜３の光導電体について約３０パーセント〜約５０パーセントの耐傷性の改善が実現した。

Claims (4)

  1. チオホスフェート含有電荷発生層、及び少なくとも１つの電荷輸送層を含む光導電体であって、任意で支持基体を含むこと、及び、前記少なくとも１つの電荷輸送層が、少なくとも１種類の電荷輸送成分、少なくとも１種類の多面体オリゴマーシルセスキオキサン（ＰＯＳＳ）含有物質、及びチオホスフェートを含むことを特徴とする該光導電体。
  2. 支持基体を含み、
    少なくとも１つの電荷輸送層が、チオホスフェート及び少なくとも１種類の多面体オリゴマーシルセスキオキサン（ＰＯＳＳ）含有物質を含み、
    前記多面体オリゴマーシルセスキオキサン（ＰＯＳＳ）が、多面体オリゴマーシルセスキオキサン、多面体オリゴマーシルセスキオキサンアルコール、多面体オリゴマーシルセスキオキサンフェノール、多面体オリゴマーシルセスキオキサンアルコキシシラン、多面体オリゴマーシルセスキオキサンアミン、多面体オリゴマーシルセスキオキサンクロロシラン、多面体オリゴマーシルセスキオキサンエポキシド、多面体オリゴマーシルセスキオキサンエステル、フルオロアルキル多面体オリゴマーシルセスキオキサン、多面体オリゴマーシルセスキオキサンハライド、多面体オリゴマーシルセスキオキサンイソシアネート、多面体オリゴマーシルセスキオキサンメタクリレート、多面体オリゴマーシルセスキオキサンアクリレート、多面体オリゴマーシルセスキオキサンニトリル、ノルボルネニル多面体オリゴマーシルセスキオキサン、多面体オリゴマーシルセスキオキサンオレフィン、多面体オリゴマーシルセスキオキサンホスフィン、多面体オリゴマーシルセスキオキサンシラン、多面体オリゴマーシルセスキオキサンシラノール、多面体オリゴマーシルセスキオキサンチオール、及び多面体オリゴマーシルセスキオキサン含有ポリマー、並びにこれらの混合物からなる群より選択され、
    前記チオホスフェートが、下記一般式１または２で表される、請求項１に記載の光導電体。
    一般式１
    Figure 0005294613

    一般式２
    Figure 0005294613

    （一般式１及び２中、Ｒ１、Ｒ２、Ｒ３、Ｒ４、Ｒ５及びＲ６は、各々独立に、水素原子、アルキル基、シクロアルキル基、アリール基、アルキルアリール基及びアリールアルキル基の少なくとも１つを表す。）
  3. 前記電荷輸送成分がアリールアミン分子を含有し、該アリールアミン分子が下記一般式３または下記一般式５で表される、請求項１に記載の光導電体。
    一般式３
    Figure 0005294613

    一般式５
    Figure 0005294613

    （一般式３中、Ｘはアルキル基、アルコキシ基、アリール基、ハロゲン、またはこれらの混合体を表し、一般式５中、Ｘ及びＹはそれぞれ独立にアルキル基、アルコキシ基、アリール基、ハロゲン、またはこれらの混合体を表す。）
  4. 前記チオホスフェートが、前記電荷輸送層に０．０１重量パーセント〜２０重量パーセントの量、及び前記電荷発生層に０．１重量パーセント〜４０重量パーセントの量で存在し、前記チオホスフェートが、モリブデンジ（２−エチルヘキシル）ジチオホスフェート、亜鉛ジエチルジチオホスフェート、又はアンチモンジアミルジチオホスフェートである、請求項１に記載の光導電体。
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Cited By (2)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US10968111B2 (en) 2016-05-16 2021-04-06 Martinswerk Gmbh Alumina products and uses thereof in polymer compositions with high thermal conductivity
CN117418312B (zh) * 2023-11-30 2024-06-07 泰安盛源粉体有限公司 一种大单晶类球形α氧化铝及其制备方法

Families Citing this family (4)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP5347348B2 (ja) * 2008-06-27 2013-11-20 コニカミノルタ株式会社 電子写真感光体
CN104254930B (zh) * 2012-04-09 2018-02-16 三菱化学株式会社 有机场致发光元件用组合物和有机场致发光元件
WO2021085384A1 (ja) * 2019-10-31 2021-05-06 帝人株式会社 ポリカーボネート樹脂組成物及びその成形体
CN116462849B (zh) * 2023-06-19 2023-08-18 西南石油大学 一种基于分子纳米粒子的抗高温抑制剂及其制备方法

Family Cites Families (29)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US3121006A (en) 1957-06-26 1964-02-11 Xerox Corp Photo-active member for xerography
US4265990A (en) * 1977-05-04 1981-05-05 Xerox Corporation Imaging system with a diamine charge transport material in a polycarbonate resin
US4298697A (en) 1979-10-23 1981-11-03 Diamond Shamrock Corporation Method of making sheet or shaped cation exchange membrane
US4338390A (en) 1980-12-04 1982-07-06 Xerox Corporation Quarternary ammonium sulfate or sulfonate charge control agents for electrophotographic developers compatible with viton fuser
JPS58166355A (ja) * 1982-03-29 1983-10-01 Toyo Ink Mfg Co Ltd フタロシアニン系光導電体素子組成物およびこれを用いた電子写真感光体
JPS6073541A (ja) * 1983-09-29 1985-04-25 Toyo Ink Mfg Co Ltd 光導電性材料
US4555463A (en) * 1984-08-22 1985-11-26 Xerox Corporation Photoresponsive imaging members with chloroindium phthalocyanine compositions
US4560635A (en) 1984-08-30 1985-12-24 Xerox Corporation Toner compositions with ammonium sulfate charge enhancing additives
US4587189A (en) * 1985-05-24 1986-05-06 Xerox Corporation Photoconductive imaging members with perylene pigment compositions
GB8703617D0 (en) * 1986-02-20 1987-03-25 Canon Kk Electrophotographic photosensitive member
US4921769A (en) * 1988-10-03 1990-05-01 Xerox Corporation Photoresponsive imaging members with polyurethane blocking layers
US5473064A (en) * 1993-12-20 1995-12-05 Xerox Corporation Hydroxygallium phthalocyanine imaging members and processes
US5521306A (en) * 1994-04-26 1996-05-28 Xerox Corporation Processes for the preparation of hydroxygallium phthalocyanine
US5482811A (en) * 1994-10-31 1996-01-09 Xerox Corporation Method of making hydroxygallium phthalocyanine type V photoconductive imaging members
JPH11288113A (ja) * 1998-02-03 1999-10-19 Ricoh Co Ltd 電子写真感光体
US6177219B1 (en) * 1999-10-12 2001-01-23 Xerox Corporation Blocking layer with needle shaped particles
US6255027B1 (en) * 2000-05-22 2001-07-03 Xerox Corporation Blocking layer with light scattering particles having coated core
US6156468A (en) * 2000-05-22 2000-12-05 Xerox Corporation Blocking layer with light scattering particles having rough surface
DE60141562D1 (de) 2000-11-08 2010-04-29 Ricoh Kk Elektrophotographischer Photorezeptor, Verfahren zur Herstellung des Photorezeptors, und bildformendes Verfahren sowie Apparat worin der Photorezeptor eingesetzt wird
JP4194776B2 (ja) * 2000-11-10 2008-12-10 株式会社リコー 電子写真感光体、その製造方法、電子写真方法及び電子写真装置
US6517984B1 (en) * 2001-03-27 2003-02-11 Heidelberger Druckmaschinen Ag Silsesquioxane compositions containing tertiary arylamines for hole transport
US7022445B2 (en) * 2002-12-16 2006-04-04 Xerox Corporation Imaging member
US6913863B2 (en) * 2003-02-19 2005-07-05 Xerox Corporation Photoconductive imaging members
US7037631B2 (en) * 2003-02-19 2006-05-02 Xerox Corporation Photoconductive imaging members
US7468231B2 (en) * 2005-02-09 2008-12-23 Xerox Corporation Imaging members
US7312008B2 (en) * 2005-02-10 2007-12-25 Xerox Corporation High-performance surface layer for photoreceptors
US7498108B2 (en) * 2006-06-15 2009-03-03 Xerox Corporation Thiophosphate containing photoconductors
US7476477B2 (en) * 2006-06-15 2009-01-13 Xerox Corporation Thiophosphate containing photoconductors
US7541122B2 (en) * 2006-07-12 2009-06-02 Xerox Corporation Photoconductor having silanol-containing charge transport layer

Cited By (3)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US10968111B2 (en) 2016-05-16 2021-04-06 Martinswerk Gmbh Alumina products and uses thereof in polymer compositions with high thermal conductivity
US11912584B2 (en) 2016-05-16 2024-02-27 Martinswerk Gmbh Alumina products and uses thereof in polymer compositions with high thermal conductivity
CN117418312B (zh) * 2023-11-30 2024-06-07 泰安盛源粉体有限公司 一种大单晶类球形α氧化铝及其制备方法

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