JP5262226B2 - Vapor deposition mask and method of manufacturing vapor deposition mask - Google Patents

Vapor deposition mask and method of manufacturing vapor deposition mask Download PDF

Info

Publication number
JP5262226B2
JP5262226B2 JP2008081349A JP2008081349A JP5262226B2 JP 5262226 B2 JP5262226 B2 JP 5262226B2 JP 2008081349 A JP2008081349 A JP 2008081349A JP 2008081349 A JP2008081349 A JP 2008081349A JP 5262226 B2 JP5262226 B2 JP 5262226B2
Authority
JP
Japan
Prior art keywords
groove
hole
metal sheet
vapor deposition
deposition mask
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Active
Application number
JP2008081349A
Other languages
Japanese (ja)
Other versions
JP2009074160A (en
Inventor
川 和 也 小
Original Assignee
大日本印刷株式会社
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Priority to JP2007218590 priority Critical
Priority to JP2007218590 priority
Application filed by 大日本印刷株式会社 filed Critical 大日本印刷株式会社
Priority to JP2008081349A priority patent/JP5262226B2/en
Publication of JP2009074160A publication Critical patent/JP2009074160A/en
Application granted granted Critical
Publication of JP5262226B2 publication Critical patent/JP5262226B2/en
Active legal-status Critical Current
Anticipated expiration legal-status Critical

Links

Images

Classifications

    • CCHEMISTRY; METALLURGY
    • C23COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; CHEMICAL SURFACE TREATMENT; DIFFUSION TREATMENT OF METALLIC MATERIAL; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL; INHIBITING CORROSION OF METALLIC MATERIAL OR INCRUSTATION IN GENERAL
    • C23CCOATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; SURFACE TREATMENT OF METALLIC MATERIAL BY DIFFUSION INTO THE SURFACE, BY CHEMICAL CONVERSION OR SUBSTITUTION; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL
    • C23C14/00Coating by vacuum evaporation, by sputtering or by ion implantation of the coating forming material
    • C23C14/04Coating on selected surface areas, e.g. using masks
    • C23C14/042Coating on selected surface areas, e.g. using masks using masks
    • CCHEMISTRY; METALLURGY
    • C23COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; CHEMICAL SURFACE TREATMENT; DIFFUSION TREATMENT OF METALLIC MATERIAL; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL; INHIBITING CORROSION OF METALLIC MATERIAL OR INCRUSTATION IN GENERAL
    • C23FNON-MECHANICAL REMOVAL OF METALLIC MATERIAL FROM SURFACE; INHIBITING CORROSION OF METALLIC MATERIAL OR INCRUSTATION IN GENERAL; MULTI-STEP PROCESSES FOR SURFACE TREATMENT OF METALLIC MATERIAL INVOLVING AT LEAST ONE PROCESS PROVIDED FOR IN CLASS C23 AND AT LEAST ONE PROCESS COVERED BY SUBCLASS C21D OR C22F OR CLASS C25
    • C23F1/00Etching metallic material by chemical means
    • C23F1/02Local etching
    • CCHEMISTRY; METALLURGY
    • C23COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; CHEMICAL SURFACE TREATMENT; DIFFUSION TREATMENT OF METALLIC MATERIAL; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL; INHIBITING CORROSION OF METALLIC MATERIAL OR INCRUSTATION IN GENERAL
    • C23FNON-MECHANICAL REMOVAL OF METALLIC MATERIAL FROM SURFACE; INHIBITING CORROSION OF METALLIC MATERIAL OR INCRUSTATION IN GENERAL; MULTI-STEP PROCESSES FOR SURFACE TREATMENT OF METALLIC MATERIAL INVOLVING AT LEAST ONE PROCESS PROVIDED FOR IN CLASS C23 AND AT LEAST ONE PROCESS COVERED BY SUBCLASS C21D OR C22F OR CLASS C25
    • C23F1/00Etching metallic material by chemical means
    • C23F1/02Local etching
    • C23F1/04Chemical milling

Abstract

A deposition mask and a manufacturing method of deposition mask are provided to deposit the depositing materials with the high efficiency by forming a penetration hole consisting of a groove and a hole in a metal sheet. A deposition mask(20) comprises a metal sheet(34). The metal sheet has a first side and the second side which is opposite to the first side. A penetration hole(25) extending the interval between the first side and the second side is formed in the metal sheet. The groove(26) having the shape of standing the first side of the metal sheet is built up. A hole(27) is formed in the second side of the metal sheet. The groove and the hole are put through. The penetration hole passing through the metal sheet is formed owing to the groove and the hole.

Description

本発明は、所望のパターンで蒸着を行うために用いられる蒸着マスクに係り、とりわけ、蒸着材料を高い利用効率で成膜することができる蒸着マスクに関する。   The present invention relates to a vapor deposition mask used for vapor deposition in a desired pattern, and more particularly to a vapor deposition mask capable of forming a vapor deposition material with high utilization efficiency.
また、本発明は、所望のパターンで蒸着を行うために用いられる蒸着マスクを製造する方法に係り、とりわけ、蒸着材料を高い利用効率で成膜することができる蒸着マスクの製造方法に関する。   The present invention also relates to a method of manufacturing a vapor deposition mask used for performing vapor deposition with a desired pattern, and more particularly to a method of manufacturing a vapor deposition mask capable of forming a vapor deposition material with high utilization efficiency.
従来、所望のパターンで配列された貫通孔を含む蒸着用マスクを用い、所望のパターンで薄膜を形成する方法が知られている。そして、昨今においては、例えば有機EL表示装置の製造時において有機材料を基板上に蒸着する場合等、極めて高価な材料を成膜する際に蒸着が用いられることがある。なお、蒸着用マスクは、一般的に、フォトリソグラフィー技術を用いたエッチングによって金属板に貫通孔を形成することにより、製造され得る(例えば、特許文献1)。
特開2004−39319号公報
2. Description of the Related Art Conventionally, a method of forming a thin film with a desired pattern using a deposition mask including through holes arranged in a desired pattern is known. In recent years, vapor deposition is sometimes used when a very expensive material is formed, for example, when an organic material is vapor-deposited on a substrate at the time of manufacturing an organic EL display device. In general, a deposition mask can be manufactured by forming a through hole in a metal plate by etching using a photolithography technique (for example, Patent Document 1).
JP 2004-39319 A
ところで、蒸着マスクを用いて蒸着材料を基板に成膜する場合、蒸着マスクにも蒸着材料が付着する。すなわち、使用された蒸着材料のすべてが基板に付着するわけではない。また、蒸着マスクの開孔率が低くなれば、蒸着材料の利用効率も低下してしまう。例えば、カラー表示装置を製造するために有機発光材料を基板に蒸着する場合、一つの色を発光し得る有機発光材料を蒸着するための蒸着マスクの開孔率は通常34%未満となり、蒸着材料の利用効率は非常に低い値となる。高価な蒸着材料を用いる場合、利用効率が低いことは大きな問題となる。なお、ここでいう利用効率とは、用いられた蒸着材料のうちの基板に付着した割合を指している。   By the way, when forming a vapor deposition material on a board | substrate using a vapor deposition mask, vapor deposition material adheres also to a vapor deposition mask. That is, not all the vapor deposition materials used adhere to the substrate. Moreover, if the aperture ratio of a vapor deposition mask becomes low, the utilization efficiency of vapor deposition material will also fall. For example, when an organic light emitting material is vapor-deposited on a substrate to manufacture a color display device, the vapor deposition mask for vapor-depositing an organic light emitting material capable of emitting one color is usually less than 34%. The utilization efficiency of is very low. When an expensive vapor deposition material is used, low utilization efficiency is a big problem. In addition, the utilization efficiency here refers to the ratio which adhered to the board | substrate among the used vapor deposition materials.
また、蒸着材料の中には、蒸着マスクをなす金属製シートのシート面に対して斜めに移動して基板に向かうものもある。斜めに移動する蒸着材料を有効に利用して蒸着材料の利用効率を高めるためには、壁面が大きく傾斜して先細りする貫通孔を金属製シートに形成することが好ましい。しかしながら、エッチングによって金属製シートに貫通孔を形成しようとすると、貫通孔の壁面を大きく傾斜させることが困難な場合がある。具体的には、隣り合う孔の離間間隔が短い場合、隣りの孔に面する側の壁面が切り立ってしまう傾向がある。また、平面視において長方形状を有する貫通孔をエッチングによって作製する場合には、貫通孔の長辺沿いの壁面を大きく傾かせることができる一方で、貫通孔の短辺沿いの壁面が切り立ってしまう傾向がある。   Moreover, some vapor deposition materials move obliquely with respect to the sheet surface of the metal sheet that forms the vapor deposition mask and head toward the substrate. In order to increase the utilization efficiency of the vapor deposition material by effectively using the vapor deposition material that moves obliquely, it is preferable to form a through-hole in the metal sheet with the wall surface greatly inclined and tapered. However, if a through hole is to be formed in a metal sheet by etching, it may be difficult to greatly incline the wall surface of the through hole. Specifically, when the spacing between adjacent holes is short, the wall surface on the side facing the adjacent holes tends to stand out. Further, when a through-hole having a rectangular shape in plan view is produced by etching, the wall surface along the long side of the through-hole can be greatly inclined, while the wall surface along the short side of the through-hole stands up. Tend.
本発明は、このような点を考慮してなされたものであり、蒸着材料を高い利用効率で成膜することができる蒸着マスクを提供することを目的とする。また、本発明は、蒸着材料を高い利用効率で成膜することができる蒸着マスクの製造方法を提供することを目的とする。   The present invention has been made in consideration of such points, and an object thereof is to provide a vapor deposition mask capable of forming a vapor deposition material with high utilization efficiency. Moreover, an object of this invention is to provide the manufacturing method of the vapor deposition mask which can form into a film with vapor deposition material with high utilization efficiency.
ところで、貫通孔の壁面が切り立っていると、蒸着材料の利用効率が悪化するだけでなく、さらに他の不具合を生じさせる。蒸着マスクをなす金属製シートは、製造上の制約または使用上の制約から、或る程度の厚みを有している。したがって、貫通孔の壁面が切り立っていると、上述したように蒸着材料の一部が斜めに移動することから、被蒸着領域(成膜されるべき領域)の縁部領域に所定の厚みで安定して成膜することが困難となる。この不具合を回避するため、貫通孔を所望のパターンよりも大きくすることが有効と考えられている。しかしながら、この方法を採用すると、隣り合う被蒸着領域が近接している場合に、蒸着マスクの貫通孔がつながってしまう。したがって、例えば表示装置の各画素として有機発光材料を成膜する場合等においては、この方法を採用することができず、隣り合う被成膜領域(画素)を別々の蒸着工程にて蒸着しなければならない。すなわち、一回の蒸着工程において一つおきに半分の被成膜領域を蒸着し、二回目の蒸着工程において残りの被成膜領域を蒸着することにより、同一材料を二回に分けて蒸着しなければならない。このため、カラー表示装置を作製するために三種類の有機発光材料を蒸着する場合には、一種類の有機発光材料につき二回、合計六回の蒸着工程を設けなければならない。本発明によってこのような不具合を解決し、蒸着工程の回数を削減することができれば、さらに都合がよい。   By the way, when the wall surface of the through hole is raised, not only the utilization efficiency of the vapor deposition material is deteriorated, but also other problems are caused. The metal sheet forming the vapor deposition mask has a certain thickness due to manufacturing restrictions or usage restrictions. Therefore, if the wall surface of the through hole is upright, a part of the vapor deposition material moves obliquely as described above, so that it is stable at a predetermined thickness in the edge region of the vapor deposition region (region to be deposited). Therefore, it becomes difficult to form a film. In order to avoid this problem, it is considered effective to make the through holes larger than the desired pattern. However, when this method is employed, the through hole of the vapor deposition mask is connected when adjacent vapor deposition regions are close to each other. Therefore, for example, in the case where an organic light emitting material is formed as each pixel of a display device, this method cannot be adopted, and adjacent film formation regions (pixels) must be deposited in separate deposition steps. I must. That is, the same material is deposited in two portions by vapor-depositing every other half of the film-forming region in one vapor deposition process and vapor-depositing the remaining film-forming region in the second vapor deposition process. There must be. For this reason, when three types of organic light-emitting materials are vapor-deposited in order to produce a color display device, a total of six vapor deposition steps must be provided twice for each type of organic light-emitting material. It would be more convenient if the present invention could solve such problems and reduce the number of vapor deposition steps.
本発明による蒸着マスクは、第1面および前記第1面とは反対側の第2面を有し、前記第1面と前記第2面との間を延びる貫通孔が形成された金属製シートを備え、前記金属製シートの前記第1面側に、線状に延びる溝が形成され、前記金属製シートの前記第2面側に、穴が形成されており、前記溝と前記穴とは通じており、前記溝と前記穴とによって前記金属製シートを貫通する貫通孔が形成されていることを特徴とする。   The vapor deposition mask by this invention has the 1st surface and the 2nd surface on the opposite side to the said 1st surface, The metal sheet | seat in which the through-hole extended between the said 1st surface and the said 2nd surface was formed A groove extending linearly is formed on the first surface side of the metal sheet, and a hole is formed on the second surface side of the metal sheet. A through hole penetrating the metal sheet is formed by the groove and the hole.
本発明による蒸着マスクにおいて、前記溝は、前記金属製シートを前記第1面の側からエッチングすることによって形成されているようにしてもよい。   In the vapor deposition mask according to the present invention, the groove may be formed by etching the metal sheet from the first surface side.
また、本発明による蒸着マスクにおいて、前記第1面側から前記第2面側に向け、前記金属製シートのシート面に沿った断面における前記溝の断面積はしだいに小さくなっていくようにしてもよい。   In the vapor deposition mask according to the present invention, the cross-sectional area of the groove in the cross section along the sheet surface of the metal sheet is gradually decreased from the first surface side to the second surface side. Also good.
さらに、本発明による蒸着マスクにおいて、前記穴は、前記金属製シートを前記第2面の側からエッチングすることによって形成されているようにしてもよい。   Furthermore, in the vapor deposition mask according to the present invention, the hole may be formed by etching the metal sheet from the second surface side.
さらに、本発明による蒸着マスクにおいて、前記第2面側から前記第1面側に向け、前記金属製シートのシート面に沿った断面における前記穴の断面積はしだいに小さくなっていくようにしてもよい。   Furthermore, in the vapor deposition mask according to the present invention, the cross-sectional area of the hole in the cross section along the sheet surface of the metal sheet gradually decreases from the second surface side toward the first surface side. Also good.
さらに、本発明による蒸着マスクにおいて、前記溝の壁面と前記穴の壁面との接続部によって囲まれる領域は、前記金属製シートの平面視において、長方形状を有し、前記接続部によって囲まれる領域の長手方向は、前記線状の溝の長手方向に沿って延びているようにしてもよい。   Furthermore, in the vapor deposition mask according to the present invention, the region surrounded by the connection portion between the wall surface of the groove and the wall surface of the hole has a rectangular shape in a plan view of the metal sheet and is surrounded by the connection portion. The longitudinal direction may extend along the longitudinal direction of the linear groove.
さらに、本発明による蒸着マスクにおいて、直線状に延びる前記溝が、互いに平行に複数設けられているようにしてもよい。   Furthermore, in the vapor deposition mask according to the present invention, a plurality of the grooves extending linearly may be provided in parallel with each other.
さらに、本発明による蒸着マスクにおいて、前記穴が、前記溝の長手方向に沿って間隔を空けて複数設けられているようにしてもよい。   Furthermore, in the vapor deposition mask according to the present invention, a plurality of the holes may be provided at intervals along the longitudinal direction of the groove.
さらに、本発明による蒸着マスクにおいて、互いに平行に延びる複数の溝が等間隔をあけて設けられ、各溝の長手方向に沿って複数の穴が等間隔をあけて設けられ、前記金属製シートの平面視において、各溝の長手方向に沿って隣り合う二つの貫通孔の間の長さは、隣り合う溝にそれぞれ形成された二つの貫通孔の間の長さよりも短くしてもよい。   Furthermore, in the vapor deposition mask according to the present invention, a plurality of grooves extending in parallel with each other are provided at equal intervals, and a plurality of holes are provided at equal intervals along the longitudinal direction of each groove, In plan view, the length between the two through holes adjacent to each other along the longitudinal direction of each groove may be shorter than the length between the two through holes respectively formed in the adjacent grooves.
さらに、本発明による蒸着マスクにおいて、前記穴が前記溝の長手方向に沿って間隔を空けて複数設けられている場合、前記溝の前記長手方向に直交する方向に沿った前記溝の前記第1面上における幅は、前記長手方向における前記穴が形成されている部分よりも、前記長手方向における隣り合う二つの穴の間の部分において狭くなっているようにしてもよい。   Furthermore, in the vapor deposition mask according to the present invention, when a plurality of the holes are provided at intervals along the longitudinal direction of the groove, the first of the groove along a direction orthogonal to the longitudinal direction of the groove. The width on the surface may be narrower in a portion between two adjacent holes in the longitudinal direction than a portion in which the holes in the longitudinal direction are formed.
さらに、本発明による蒸着マスクにおいて、前記溝は、前記第1面側に形成された複数の穴によって形成されており、前記複数の穴のうちの前記溝の前記長手方向に沿って隣り合う二つの穴は前記第1面において接続されているようにしてもよい。   Furthermore, in the vapor deposition mask according to the present invention, the groove is formed by a plurality of holes formed on the first surface side, and two of the plurality of holes adjacent to each other along the longitudinal direction of the groove. Two holes may be connected on the first surface.
さらに、本発明による蒸着マスクにおいて、前記穴が前記溝の長手方向に沿って間隔を空けて複数設けられている場合、前記溝は、前記第1面側に形成された複数の穴によって形成されており、前記複数の穴のうちの前記溝の前記長手方向に沿って隣り合う二つの穴は前記第1面において接続されており、前記第2面側に形成された穴は、前記第1面側に形成され前記溝を構成する穴に対面する位置に配置されているようにしてもよい。   Furthermore, in the vapor deposition mask according to the present invention, when a plurality of the holes are provided at intervals along the longitudinal direction of the groove, the groove is formed by a plurality of holes formed on the first surface side. Two holes adjacent to each other along the longitudinal direction of the groove among the plurality of holes are connected to the first surface, and the hole formed on the second surface side is the first hole. You may make it arrange | position in the position facing the hole which is formed in the surface side and comprises the said groove | channel.
本発明による蒸着マスクの製造方法は、第1面および前記第1面とは反対側の第2面を有する金属製シートをエッチングして、前記金属製シートの前記第1面側に線状に延びる溝を形成する工程と、前記金属製シートをエッチングして、前記金属製シートの前記第2面側に穴を形成する工程と、を含み、前記溝と前記穴とが通じ、前記溝と前記穴とによって前記金属製シートを貫通する貫通孔が形成されるように、前記溝および前記穴が形成されることを特徴とする。   In the method of manufacturing a vapor deposition mask according to the present invention, a metal sheet having a first surface and a second surface opposite to the first surface is etched and linearly formed on the first surface side of the metal sheet. Forming the extending groove; and etching the metal sheet to form a hole on the second surface side of the metal sheet, wherein the groove and the hole communicate with each other, and the groove The groove and the hole are formed so that a through-hole penetrating the metal sheet is formed by the hole.
本発明による蒸着マスクの製造方法において、互いに平行に延びる複数の溝が等間隔をあけて形成され、各溝の長手方向に沿うようにして複数の穴が等間隔をあけて形成され、 前記金属製シートの平面視において、各溝の長手方向に沿って隣り合う二つの貫通孔の間の長さは、隣り合う溝にそれぞれ形成された二つの貫通孔の間の長さよりも短くなるようにしてもよい。   In the deposition mask manufacturing method according to the present invention, a plurality of grooves extending in parallel with each other are formed at equal intervals, and a plurality of holes are formed at equal intervals along the longitudinal direction of each groove, In plan view of the manufactured sheet, the length between two through holes adjacent to each other in the longitudinal direction of each groove is set to be shorter than the length between two through holes formed in each adjacent groove. May be.
また、本発明による蒸着マスクの製造方法において、前記溝の壁面と前記穴の壁面との接続部によって囲まれる領域が、前記金属製シートの平面視において、長方形状を有するように、前記溝および前記穴が形成され、前記接続部によって囲まれる領域の長手方向は、前記線状の溝の長手方向に沿って延びるようにしてもよい。   Further, in the method of manufacturing a vapor deposition mask according to the present invention, the groove and the region surrounded by the connection portion between the wall surface of the groove and the wall surface of the hole have a rectangular shape in a plan view of the metal sheet. The longitudinal direction of the region where the hole is formed and surrounded by the connecting portion may extend along the longitudinal direction of the linear groove.
さらに、本発明による蒸着マスクの製造方法が、前記金属製シートを供給する工程をさらに含み、前記溝を形成する工程において、前記金属製シートの供給方向に沿って延びる溝が形成されるようにしてもよい。   Furthermore, the manufacturing method of the vapor deposition mask according to the present invention further includes a step of supplying the metal sheet, and in the step of forming the groove, a groove extending along a supply direction of the metal sheet is formed. May be.
さらに、本発明による蒸着マスクの製造方法において、前記金属製シートをエッチングすることによって前記溝が形成され、前記金属製シートをエッチングすることによって前記穴が形成されるようにしてもよい。   Furthermore, in the method for manufacturing a vapor deposition mask according to the present invention, the groove may be formed by etching the metal sheet, and the hole may be formed by etching the metal sheet.
このような蒸着マスクの製造方法において、前記金属製シートの前記第1面および前記第2面が同時にエッチングされ、前記穴を形成する工程および前記溝を形成する工程が並行して行われるようにしてもよい。   In such a method for manufacturing a vapor deposition mask, the first surface and the second surface of the metal sheet are etched simultaneously, and the step of forming the hole and the step of forming the groove are performed in parallel. May be.
あるいは、このような蒸着マスクの製造方法において、前記金属製シートの前記第1面および前記第2面が同時にエッチングされ前記穴を形成する工程および前記溝を形成する工程が並行して行われ、その後、前記穴を形成する工程および前記溝を形成する工程のいずれか一方のみが引き続き行われるようにしてもよい。   Alternatively, in such a method for manufacturing a vapor deposition mask, the first surface and the second surface of the metal sheet are simultaneously etched to form the hole and the groove are formed in parallel. Thereafter, only one of the step of forming the hole and the step of forming the groove may be continued.
あるいは、このような蒸着マスクの製造方法が、前記金属製シートをエッチングすることによって前記穴が形成された後に実施される工程であって、形成された前記穴を樹脂で封止する工程をさらに備え、前記穴を封止された後に、前記金属製シートを前記第1面側からエッチングすることにより、前記穴まで通じる前記溝が形成されるようにしてもよい。このような蒸着マスクの製造方法の前記穴を形成する工程において、前記金属製シートの前記第1面および前記第2面が同時にエッチングされ、前記溝の形成が部分的に進むようにしてもよい。   Or the manufacturing method of such a vapor deposition mask is a process implemented after the said hole is formed by etching the said metal sheet | seat, Comprising: The process of sealing the formed said hole with resin further In addition, after the hole is sealed, the groove leading to the hole may be formed by etching the metal sheet from the first surface side. In the step of forming the hole in the method of manufacturing the vapor deposition mask, the first surface and the second surface of the metal sheet may be etched at the same time, so that the formation of the groove partially proceeds.
さらに、本発明による蒸着マスクの製造方法において、前記穴を形成する工程は、前記溝を形成する工程の前に行われるようにしてもよい。   Furthermore, in the method for manufacturing a vapor deposition mask according to the present invention, the step of forming the hole may be performed before the step of forming the groove.
さらに、本発明による蒸着マスクの製造方法において、前記溝を形成する工程は、前記穴を形成する工程の前に行われるようにしてもよい。   Furthermore, in the method for manufacturing a vapor deposition mask according to the present invention, the step of forming the groove may be performed before the step of forming the hole.
さらに、本発明による蒸着マスクの製造方法の前記溝を形成する工程において、隣り合う二つの穴が前記第1面において接続されるようにして、複数の穴を線状に並べて前記第1面側から形成することにより、前記溝を形成するようにしてもよい。このような蒸着マスクの製造方法において、前記第2面側に形成される穴は、前記第1面側に形成され前記溝を構成する穴に対面するようになる位置に形成されてもよい。また、このような蒸着マスクの製造方法の前記溝を形成する工程において、前記溝を構成する複数の穴は、複数の貫通穴が間隔を空けて並べて形成されたレジストを前記第1面上に設けられた状態で前記金属製シートの前記第1面をエッチングすることにより、前記レジストの前記貫通穴に対応する位置において前記金属製シートの前記第1面側に形成され、前記複数の穴からなる溝を形成するためのエッチングは、前記溝の長手方向に沿って隣り合う二つの穴が、当該二つの穴にそれぞれ対応する前記レジストの二つの貫通穴の間に位置するレジストのブリッジ部の下方において接続されるように、行われてもよい。   Further, in the step of forming the groove of the method for manufacturing a vapor deposition mask according to the present invention, a plurality of holes are arranged in a line so that adjacent two holes are connected to the first surface, and the first surface side is arranged. The groove may be formed by forming the groove. In such a method for manufacturing a vapor deposition mask, the hole formed on the second surface side may be formed at a position facing the hole forming the groove formed on the first surface side. Further, in the step of forming the groove of such a method for manufacturing a vapor deposition mask, the plurality of holes constituting the groove include a resist formed by arranging a plurality of through holes arranged at intervals on the first surface. By etching the first surface of the metal sheet in a state of being provided, the resist is formed on the first surface side of the metal sheet at a position corresponding to the through hole of the resist. Etching to form a groove is made of a resist bridge portion in which two holes adjacent in the longitudinal direction of the groove are located between two through holes of the resist corresponding to the two holes, respectively. It may be done so that it is connected below.
本発明によれば、線状の溝と穴とによって金属製シートに貫通孔が形成されている。したがって、金属製シートのシート面に対して斜めに進む蒸着材料であって溝の長手方向に概ね沿うようにして進む蒸着材料を高い効率で蒸着に用いることができる。これにより、蒸着材料の利用効率を高めることができる。   According to the present invention, the through hole is formed in the metal sheet by the linear groove and the hole. Therefore, the vapor deposition material that proceeds obliquely with respect to the sheet surface of the metal sheet and that travels substantially along the longitudinal direction of the groove can be used for vapor deposition with high efficiency. Thereby, the utilization efficiency of vapor deposition material can be improved.
以下、図1乃至図18を参照して本発明による蒸着マスクおよび蒸着マスクの製造方法の一実施の形態について説明する。ここで図1乃至図18は本発明の一実施の形態を説明するための図である。なお、以下の実施の形態では、有機ELディスプレイ装置を製造する際に有機発光材料を所望のパターンでガラス基板上にパターニングするために用いられる蒸着マスク(蒸着用のメタルマスク)および蒸着マスクの製造方法を例にあげて説明する。ただし、このような適用に限定されることなく、種々の用途に用いられる蒸着マスク(蒸着用のメタルマスク)および蒸着マスクの製造方法に対し、本発明を適用することができる。   Hereinafter, an embodiment of an evaporation mask and an evaporation mask manufacturing method according to the present invention will be described with reference to FIGS. Here, FIG. 1 to FIG. 18 are diagrams for explaining an embodiment of the present invention. In the following embodiments, a vapor deposition mask (metal mask for vapor deposition) used for patterning an organic light emitting material on a glass substrate in a desired pattern when producing an organic EL display device, and production of the vapor deposition mask The method will be described as an example. However, the present invention is not limited to such an application, and the present invention can be applied to a deposition mask (metal mask for deposition) used for various purposes and a method for manufacturing the deposition mask.
まず最初に、本発明による蒸着マスクの製造方法により製造され得る蒸着マスクの一例について、主に図1乃至図5を参照して説明する。ここで図1は蒸着マスクおよび蒸着マスク装置の一例を示す斜視図であり、図2は蒸着マスクの部分平面図であり、図3は図2のIII−III線に沿った断面図であり、図4は図2のIV−IV線に沿った断面図である。   First, an example of a vapor deposition mask that can be manufactured by the vapor deposition mask manufacturing method according to the present invention will be described mainly with reference to FIGS. Here, FIG. 1 is a perspective view showing an example of a vapor deposition mask and a vapor deposition mask device, FIG. 2 is a partial plan view of the vapor deposition mask, and FIG. 3 is a cross-sectional view taken along line III-III in FIG. 4 is a cross-sectional view taken along line IV-IV in FIG.
図1乃至図4に示すように、蒸着マスク20は、対向する第1面34aおよび第2面34bを有する金属製シート34からなっている。金属製シート34には、第1面34aと第2面34bとの間を延びる多数の貫通孔25が形成されている。蒸着マスク装置10は、図1に示すように、蒸着マスク20と、この蒸着マスク20と固定されたフレーム15と、を有している。図1に示す例において、フレーム15は、蒸着マスク20(金属製シート34)の周縁部に取り付けられている。   As shown in FIGS. 1 to 4, the vapor deposition mask 20 includes a metal sheet 34 having a first surface 34 a and a second surface 34 b facing each other. The metal sheet 34 has a large number of through holes 25 extending between the first surface 34a and the second surface 34b. The vapor deposition mask apparatus 10 has the vapor deposition mask 20 and the flame | frame 15 fixed to this vapor deposition mask 20, as shown in FIG. In the example shown in FIG. 1, the frame 15 is attached to the peripheral edge portion of the vapor deposition mask 20 (metal sheet 34).
図1に示された蒸着マスク装置10は、図5に示すように、蒸着マスク20がガラス基板42に対面するようにして、蒸着装置40内に支持される。ここで図5は、蒸着マスク装置10の使用方法を説明するための図である。蒸着装置40内には、この蒸着マスク装置10を挟んだガラス基板42の下方に、蒸着材料(一例として、有機発光材料)48を収容するるつぼ44と、るつぼ44を加熱するヒータ46とが配置されている。るつぼ44内の蒸着材料48は、ヒータ46からの加熱により、気化または昇華してガラス基板42の表面に付着するようになる。上述したように、蒸着マスク20には多数の貫通孔25が形成されており、蒸着材料48はこの貫通孔25を介してガラス基板42に付着する。この結果、蒸着マスク20の貫通孔25の位置に対応した所望のパターンで、蒸着材料48がガラス基板42の表面に成膜される。   The vapor deposition mask apparatus 10 shown in FIG. 1 is supported in the vapor deposition apparatus 40 so that the vapor deposition mask 20 faces the glass substrate 42 as shown in FIG. Here, FIG. 5 is a diagram for explaining a method of using the vapor deposition mask device 10. In the vapor deposition apparatus 40, a crucible 44 for accommodating a vapor deposition material (for example, an organic light emitting material) 48 and a heater 46 for heating the crucible 44 are disposed below the glass substrate 42 with the vapor deposition mask apparatus 10 interposed therebetween. Has been. The vapor deposition material 48 in the crucible 44 is vaporized or sublimated by heating from the heater 46 and adheres to the surface of the glass substrate 42. As described above, a large number of through holes 25 are formed in the vapor deposition mask 20, and the vapor deposition material 48 adheres to the glass substrate 42 through the through holes 25. As a result, the vapor deposition material 48 is formed on the surface of the glass substrate 42 in a desired pattern corresponding to the position of the through hole 25 of the vapor deposition mask 20.
図1および図2に示すように、本実施の形態において、蒸着マスク20をなす金属製シート34は、平面視において略四角形形状、さらに正確には平面視において略矩形状の輪郭を有している。図3および図4に示すように、金属製シート34の第1面34aの側に、線状に延びる溝26が形成され、金属製シート34の第2面34bの側に、穴(凹部、孔)27が形成されている。穴27と溝26とは通じており、この結果、穴27と溝26とによって金属製シート34を貫通する貫通孔25が形成されている。   As shown in FIGS. 1 and 2, in the present embodiment, the metal sheet 34 forming the vapor deposition mask 20 has a substantially rectangular shape in plan view, and more precisely, has a substantially rectangular shape in plan view. Yes. As shown in FIGS. 3 and 4, a linearly extending groove 26 is formed on the first surface 34 a side of the metal sheet 34, and a hole (recessed portion, recess) is formed on the second surface 34 b side of the metal sheet 34. Hole) 27 is formed. The hole 27 and the groove 26 communicate with each other. As a result, the through hole 25 penetrating the metal sheet 34 is formed by the hole 27 and the groove 26.
図3に示す例において、第1面34a側から第2面34b側に向け、金属製シート34のシート面に沿った断面における溝26の断面積はしだいに小さくなっていく。このような溝26は、例えば後述するように、金属製シート34を第1面34aの側からエッチングすることによって形成され得る。同様に、図3および図4に示す例において、第2面34b側から第1面34a側に向け、金属製シート34のシート面に沿った断面における穴27の断面積はしだいに小さくなっていく。このような穴27は、例えば後述するように、金属製シート34を第2面34bの側からエッチングすることによって形成され得る。   In the example shown in FIG. 3, the cross-sectional area of the groove 26 in the cross section along the sheet surface of the metal sheet 34 gradually decreases from the first surface 34 a side to the second surface 34 b side. Such a groove | channel 26 can be formed by etching the metal sheet | seat 34 from the 1st surface 34a side, for example so that it may mention later. Similarly, in the example shown in FIGS. 3 and 4, the cross-sectional area of the hole 27 in the cross section along the sheet surface of the metal sheet 34 gradually decreases from the second surface 34b side to the first surface 34a side. Go. Such a hole 27 can be formed by etching the metal sheet 34 from the second surface 34b side, as will be described later, for example.
図1および図2に示すように、溝26は金属製シート34のシート面に沿って直線状に延びている。金属製シート34の第1面34aには、互いに平行に延びる多数の溝26が形成されている。各溝26に対し、当該溝26に通じる穴27が多数形成されている。各溝26に対面する多数の穴27は、当該溝26の長手方向に沿って一定の間隔をあけて直線上に配列されている。   As shown in FIGS. 1 and 2, the groove 26 extends linearly along the sheet surface of the metal sheet 34. A large number of grooves 26 extending in parallel with each other are formed on the first surface 34 a of the metal sheet 34. A large number of holes 27 communicating with the grooves 26 are formed for each groove 26. A large number of holes 27 facing each groove 26 are arranged on a straight line at a predetermined interval along the longitudinal direction of the groove 26.
金属製シート34のシート面に直交する方向(厚さ方向)からの視野において、言い換えると金属製シート34の平面視において、穴27は矩形状、さらに詳細には長方形状に形成されている。穴27の長手方向、つまり、穴27が有する長方形状輪郭の長辺に沿った方向は、溝26の長手方向(溝26が延びる方向(延在方向))に沿っている。図2に示すように、穴27は溝26に対面する位置に形成されている。さらに具体的には、溝26の長手方向に直交する幅方向中心に、穴27の平面視における中心が位置するように、穴27が配置されている。穴27の幅は、溝26の幅よりも狭い。なお、ここでいう矩形状または長方形状とは、正確な矩形状や正確な長方形だけを指すものではなく、エッチングにより矩形状または長方形を作製しようとした場合に作製され得る略矩形状および略長方形を含む概念である。   In the field of view from the direction (thickness direction) orthogonal to the sheet surface of the metal sheet 34, in other words, in a plan view of the metal sheet 34, the hole 27 is formed in a rectangular shape, and more specifically in a rectangular shape. The longitudinal direction of the hole 27, that is, the direction along the long side of the rectangular outline of the hole 27 is along the longitudinal direction of the groove 26 (direction in which the groove 26 extends (extending direction)). As shown in FIG. 2, the hole 27 is formed at a position facing the groove 26. More specifically, the hole 27 is arranged so that the center in the plan view of the hole 27 is located at the center in the width direction orthogonal to the longitudinal direction of the groove 26. The width of the hole 27 is narrower than the width of the groove 26. In addition, the rectangular shape or the rectangular shape here does not indicate only an accurate rectangular shape or an accurate rectangular shape, but an approximately rectangular shape and an approximately rectangular shape that can be produced when an attempt is made to produce the rectangular shape or the rectangle by etching. It is a concept that includes
穴27は金属製シート34の第2面34bから溝26の底部へ延びている。溝26の壁面26aと穴27の壁面27aとは、周状の接続部28で接続されている。図3および図4に示すように、接続部28は、開孔面積(平面視における貫通孔25の面積)が最小となる張り出し部28aの稜線からなっている。穴27の平面視における形状が長方形状であることから、周状の接続部28によって囲まれる領域も、金属製シート34のシート面に直交する方向からの視野において(平面視において)、長方形状となっている。また、図2に示すように、接続部28によって囲まれる領域の長手方向は、線状の溝26の長手方向に沿って延びている。さらに、本実施の形態では、図2に示すように、金属製シート34のシート面に直交する方向からの視野において(平面視において)、各溝26の長手方向に沿って隣り合う二つの貫通孔25(接続部28によって囲まれる領域)の間の長さLaは、隣り合う溝26にそれぞれ形成された二つの貫通孔25(接続部28によって囲まれる領域)の間の長さLbよりも短くなっている。   The hole 27 extends from the second surface 34 b of the metal sheet 34 to the bottom of the groove 26. The wall surface 26 a of the groove 26 and the wall surface 27 a of the hole 27 are connected by a circumferential connection portion 28. As shown in FIGS. 3 and 4, the connecting portion 28 is composed of a ridge line of the overhanging portion 28 a that minimizes the opening area (the area of the through hole 25 in plan view). Since the shape of the hole 27 in plan view is rectangular, the region surrounded by the circumferential connection portion 28 is also rectangular in view from the direction orthogonal to the sheet surface of the metal sheet 34 (in plan view). It has become. As shown in FIG. 2, the longitudinal direction of the region surrounded by the connecting portion 28 extends along the longitudinal direction of the linear groove 26. Further, in the present embodiment, as shown in FIG. 2, in the field of view from the direction orthogonal to the sheet surface of the metal sheet 34 (in plan view), two adjacent penetrations along the longitudinal direction of each groove 26 The length La between the holes 25 (regions surrounded by the connecting portions 28) is longer than the length Lb between the two through holes 25 (regions surrounded by the connecting portions 28) formed in the adjacent grooves 26, respectively. It is getting shorter.
ところで、図6および図7に示すように、蒸着マスク装置10が蒸着装置40に収容された場合、金属製シート34の第2面34bに対応する蒸着マスク20の第2面20bはガラス基板42に対面し、金属製シート34の第1面34aに対応する蒸着マスク20の第1面20aが蒸着材料48を保持したるつぼ44に対面する。すなわち、図6および図7に示すように、蒸着材料48は次第に先細りしていく溝26側から貫通孔25に入り、その後、穴27を経て貫通孔25から出る。   6 and 7, when the vapor deposition mask device 10 is accommodated in the vapor deposition device 40, the second surface 20b of the vapor deposition mask 20 corresponding to the second surface 34b of the metal sheet 34 is the glass substrate 42. The first surface 20 a of the vapor deposition mask 20 corresponding to the first surface 34 a of the metal sheet 34 faces the crucible 44 holding the vapor deposition material 48. That is, as shown in FIGS. 6 and 7, the vapor deposition material 48 enters the through hole 25 from the gradually tapering groove 26 side, and then exits the through hole 25 through the hole 27.
上述したように、穴27は第2面34b側から第1面34a側へ向けて先細りしているので、貫通孔25内に開孔面積が最小となる張り出し部28aが形成されている。そして、このような蒸着マスク20を用いて蒸着を行った場合、ガラス基板42のうちの張り出し部28aの裏側に対応する領域に成膜される蒸着膜49の膜厚は安定しない。本件発明者が確認したところ、有機ELディスプレイを作製する際に有機発光材料を蒸着させるために用いられる蒸着マスク20においては、溝26の壁面26aと穴27の壁面27aとの接続部28から第2面34b(20b)までの金属製シート34のシート面に直交する方向に沿った長さLcが、10μm以下(さらに望ましくは5μm以下)であれば、あるいは、溝26の壁面26aと穴27の壁面27aとの接続部28から第1面34a(20a)までの金属製シート34のシート面に直交する方向に沿った長さLdの三分の一以下であれば、安定した膜厚で被成膜領域(成膜されるべき領域)に蒸着膜49を形成することができた。   As described above, since the hole 27 is tapered from the second surface 34b side to the first surface 34a side, an overhanging portion 28a having a minimum opening area is formed in the through hole 25. And when vapor deposition is performed using such a vapor deposition mask 20, the film thickness of the vapor deposition film 49 formed in the area | region corresponding to the back side of the protrusion part 28a of the glass substrate 42 is not stabilized. As a result of confirmation by the present inventor, in the vapor deposition mask 20 used for vapor-depositing an organic light emitting material when an organic EL display is produced, the first through the connection portion 28 between the wall surface 26a of the groove 26 and the wall surface 27a of the hole 27. If the length Lc along the direction orthogonal to the sheet surface of the metal sheet 34 up to the second surface 34b (20b) is 10 μm or less (more desirably 5 μm or less), or the wall surface 26a and the hole 27 of the groove 26 As long as it is less than one third of the length Ld along the direction perpendicular to the sheet surface of the metal sheet 34 from the connecting portion 28 to the wall surface 27a to the first surface 34a (20a), the film thickness is stable. The vapor deposition film 49 could be formed in the film formation region (region to be formed).
また、図6および図7に示すように、一部の蒸着材料48は、るつぼ44からガラス基板42に向けて直線的に移動せず、ガラス基板42の板面に対して斜めに移動することもある。上述したように、貫通孔25の断面形状が金属製シート34のシート面に直交する方向に切り立っていれば、斜めに移動する蒸着材料48を有効に利用することができない。   Further, as shown in FIGS. 6 and 7, some of the vapor deposition materials 48 do not move linearly from the crucible 44 toward the glass substrate 42, but move obliquely with respect to the plate surface of the glass substrate 42. There is also. As described above, if the cross-sectional shape of the through-hole 25 stands up in a direction perpendicular to the sheet surface of the metal sheet 34, the vapor deposition material 48 that moves obliquely cannot be used effectively.
そして一般的に、隣り合う貫通孔25の離間間隔が短い場合、隣りの貫通孔側の壁面が切り立ってしまう傾向がある。本実施の形態においては、平面視において、貫通孔25が、一方向に沿って一定の離間間隔Laをあけて配列されているとともに、一方向とは異なる他方向に沿って離間間隔Laよりも長い離間間隔Lbをあけて配列されている。しかしながら、本実施の形態によれば、より離間間隔Laが短くなる一方向に沿って溝26が延びているため、貫通孔25の長手方向を横切る断面において、一方向における隣りの貫通孔側の壁面が切り立つどころか、図7に示すように貫通孔25を成す壁面自体が、厚さLcを調整された穴27部分のみしか存在しない。   And generally, when the space | interval of the adjacent through-hole 25 is short, there exists a tendency for the wall surface by the side of the adjacent through-hole to stand out. In the present embodiment, in a plan view, the through holes 25 are arranged with a certain spacing interval La along one direction, and more than the spacing interval La along another direction different from one direction. They are arranged with a long spacing Lb. However, according to the present embodiment, since the groove 26 extends along one direction in which the separation interval La becomes shorter, in the cross section that crosses the longitudinal direction of the through hole 25, the adjacent through hole side in one direction. Instead of the wall surface rising, as shown in FIG. 7, the wall surface itself forming the through hole 25 has only the hole 27 portion having the adjusted thickness Lc.
また一般的に、平面視において長方形状を有する貫通孔25の長手方向を横切る断面(長方形状の短辺を横切る断面)において、貫通孔25の壁面は切り立つ傾向がある。すなわち、平面視において長方形状を有する貫通孔25の短辺沿いの壁面は切り立つ傾向がある。しかしながら、本実施の形態によれば、貫通孔25の長手方向は溝26の長手方向に一致しているため、貫通孔25の長手方向を横切る断面において、貫通孔25を成す壁面が切り立つどころか、図7に示すように貫通孔25を成す壁面自体が、厚さLcを調整された穴27部分のみしか存在しない。   Moreover, generally, the wall surface of the through hole 25 tends to be cut off in a cross section that crosses the longitudinal direction of the through hole 25 having a rectangular shape in a plan view (a cross section that crosses a rectangular short side). That is, the wall surface along the short side of the through hole 25 having a rectangular shape in plan view tends to be cut off. However, according to the present embodiment, since the longitudinal direction of the through hole 25 coincides with the longitudinal direction of the groove 26, in the cross section that crosses the longitudinal direction of the through hole 25, the wall surface that forms the through hole 25 stands up. As shown in FIG. 7, the wall surface itself forming the through hole 25 has only the hole 27 portion whose thickness Lc is adjusted.
以上のことから、図7に示す貫通孔25の長手方向を横切る断面において、斜めに移動してガラス基板42に向かう蒸着材料48を、有効に利用して、蒸着材料の利用効率(成膜効率)を大幅に向上させることができる。さらに、図7に示すように貫通孔25を成す壁面がほとんど存在しないので、ガラス基板42のうちの貫通孔25の縁部領域に対応する領域おいても十分な膜厚で安定して成膜することができる。したがって、従来のように被成膜領域(成膜されるべき領域)よりも貫通孔25の開孔面積を大きめに形成しておく必要がない。このため、貫通孔25を短い間隔で形成し、ファインピッチでのパターニングを精度良く一回で行うことができる。   From the above, in the cross section that traverses the longitudinal direction of the through-hole 25 shown in FIG. 7, the vapor deposition material 48 that moves obliquely and moves toward the glass substrate 42 is effectively used, and the vapor deposition material utilization efficiency (film formation efficiency). ) Can be greatly improved. Further, as shown in FIG. 7, since there is almost no wall surface forming the through-hole 25, a stable film formation with a sufficient film thickness is possible even in the region corresponding to the edge region of the through-hole 25 in the glass substrate 42. can do. Therefore, it is not necessary to form the through-hole 25 with a larger opening area than in the conventional film formation region (region to be formed). For this reason, the through-holes 25 can be formed at short intervals, and patterning at a fine pitch can be performed with high accuracy once.
一方、図6に示すように、平面視において長方形状を有する貫通孔25の幅方向を横切る断面(長方形状の長辺を横切る断面)において、貫通孔25の壁面は、溝26部分にも存在している。貫通孔25の幅方向における断面において、溝26の壁面26aが図6の点線で示す輪郭を有していたとすると、斜めに移動する蒸着材料48は、蒸着マスク20に付着してガラス基板42まで到達しない。すなわち、蒸着材料の利用効率(ガラス基板42に付着する割合)を高めて高価な蒸着材料を節約するためには、溝26の長手方向に直交するとともに金属製シート34のシート面に直交する断面(図6に示す断面)において、溝26の壁面26aおよび穴27の壁面27aの接続部28と溝26の第1面34a(20a)側の端部とを結ぶ直線Lが第2面34b(20b)となす角度θが小さい方がよく、角度θが45°以下となっていることが好ましい。   On the other hand, as shown in FIG. 6, the wall surface of the through hole 25 is also present in the groove 26 in the cross section that crosses the width direction of the through hole 25 having a rectangular shape in plan view (the cross section that crosses the long side of the rectangular shape). doing. If the wall surface 26a of the groove 26 has a contour indicated by a dotted line in FIG. 6 in the cross section in the width direction of the through hole 25, the deposition material 48 that moves obliquely adheres to the deposition mask 20 and reaches the glass substrate 42. Not reach. That is, in order to increase the utilization efficiency of the vapor deposition material (the ratio of adhering to the glass substrate 42) and save the expensive vapor deposition material, the cross section is perpendicular to the longitudinal direction of the groove 26 and perpendicular to the sheet surface of the metal sheet 34. In the cross section shown in FIG. 6, a straight line L connecting the connection portion 28 of the wall surface 26 a of the groove 26 and the wall surface 27 a of the hole 27 and the end portion of the groove 26 on the first surface 34 a (20 a) side is a second surface 34 b ( The angle θ formed with 20b) is preferably small, and the angle θ is preferably 45 ° or less.
なお、角度θを小さくしていくと、図6に二点鎖線で示すように、隣り合う溝26の壁面26a同士が接続されるようになる。しかしながら、蒸着マスク20の強度を考慮すると、隣り合う溝26の壁面26a同士は接続されていないことが好ましく、平坦な第1面34a(20a)において隣り合う溝26の間に5μm以上の平坦な面が形成されていることがさらに好ましい。   As the angle θ is decreased, the wall surfaces 26a of the adjacent grooves 26 are connected as shown by a two-dot chain line in FIG. However, considering the strength of the vapor deposition mask 20, the wall surfaces 26a of the adjacent grooves 26 are preferably not connected to each other, and the flat first surface 34a (20a) has a flatness of 5 μm or more between the adjacent grooves 26. More preferably, a surface is formed.
すなわち、直線Lが第2面34b(20b)に対してなす角度θは、第1面34a(20a)において溝26の間に5μm以上の平坦な面が形成されるようになる角度以上であって、45°以下であることが好ましい。   That is, the angle θ formed by the straight line L with respect to the second surface 34b (20b) is not less than the angle at which a flat surface of 5 μm or more is formed between the grooves 26 in the first surface 34a (20a). Thus, it is preferably 45 ° or less.
上述したように、本実施の形態では、直線状に延びる溝26に沿って複数の貫通孔25が一定の離間距離Laをあけて配置されている。また、所定の間隔をあけて複数の溝26が形成されている。この結果、図2に示すように、貫通孔25は、溝26の長手方向だけでなく、溝26の長手方向に直交する方向に沿っても一定の離間距離Lbをあけて配置されている。一例として、蒸着マスク20(蒸着マスク装置10)が中型のディスプレイ(例えば20インチ型のディスプレイ)を作製するために用いられる場合、上述した離間距離Laは20μm以上50μm以下程度とすることができ、離間距離Lbは84μm以上254μm以下程度とすることができる。また、矩形状を有する貫通孔25の一辺(貫通孔25が長方形状を有する場合は、長辺または短辺)の長さは、8μm以上64μm以下程度とすることができる。   As described above, in the present embodiment, the plurality of through holes 25 are arranged along the linearly extending groove 26 with a constant separation distance La. A plurality of grooves 26 are formed at predetermined intervals. As a result, as shown in FIG. 2, the through holes 25 are arranged with a certain separation distance Lb not only in the longitudinal direction of the groove 26 but also in a direction perpendicular to the longitudinal direction of the groove 26. As an example, when the vapor deposition mask 20 (vapor deposition mask apparatus 10) is used to produce a medium-sized display (for example, a 20-inch display), the above-described separation distance La can be set to about 20 μm or more and 50 μm or less. The separation distance Lb can be about 84 μm or more and 254 μm or less. Further, the length of one side of the rectangular through hole 25 (when the through hole 25 has a rectangular shape, the long side or the short side) can be about 8 μm to 64 μm.
そして、溝26の長手方向に直交する方向に沿って蒸着マスク20(蒸着マスク装置10)とガラス基板42とを少しずつ相対移動させ、赤色用の有機発光材料、緑色用の有機発光材料および青色用の有機発光材料を順に蒸着させていくことにより、カラー表示用のディスプレイを作製することができる。とりわけ、本実施の形態によれば、貫通孔25の開孔面積を蒸着されるべき領域に比べて大きく設定しておく必要がないので、小さな離間距離Laで離間した画素を一回の蒸着工程で成膜することができる。したがって、三色の有機発光材料を蒸着する場合、各色の成膜を二回にわけて行っていた従来の方法に比べ、三工程も省略することができる。   Then, the vapor deposition mask 20 (vapor deposition mask device 10) and the glass substrate 42 are relatively moved along the direction orthogonal to the longitudinal direction of the groove 26, and the organic light emitting material for red, the organic light emitting material for green, and the blue color are blue. A display for color display can be produced by sequentially depositing organic light-emitting materials for use. In particular, according to the present embodiment, it is not necessary to set the opening area of the through-hole 25 larger than the area to be vapor-deposited. Can be formed. Therefore, when vapor-depositing organic light emitting materials of three colors, three steps can be omitted as compared with the conventional method in which the film formation of each color is performed twice.
なお、蒸着マスク20の周縁部に取り付けられたフレーム15は、蒸着マスク20が撓んでしまうことがないように蒸着マスク20を張った状態に保持するためのものである。蒸着マスク20とフレーム15とは、例えばスポット溶接により互いに対して固定される。上述したように、蒸着マスク装置10は、高温雰囲気となる蒸着装置40の内部に保持される。したがって、蒸着マスク20およびフレーム15は、蒸着フレームの撓みや熱応力の発生を防止するため、熱膨張率が低い同一の材料によって作製されていることが好ましい。このような材料として、例えば、36%Niインバー材を用いることができる。   The frame 15 attached to the periphery of the vapor deposition mask 20 is for holding the vapor deposition mask 20 in a stretched state so that the vapor deposition mask 20 is not bent. The vapor deposition mask 20 and the frame 15 are fixed to each other, for example, by spot welding. As described above, the vapor deposition mask device 10 is held inside the vapor deposition device 40 that is in a high temperature atmosphere. Therefore, the vapor deposition mask 20 and the frame 15 are preferably made of the same material having a low coefficient of thermal expansion in order to prevent the vapor deposition frame from being bent or generating thermal stress. As such a material, for example, a 36% Ni invar material can be used.
次に、このような蒸着マスク20および蒸着マスク装置10の製造方法について、主に図8乃至図10を用いて説明する。このうち図8は蒸着マスクの製造方法を全体的に説明するための図であり、図9は金属製シートにレジストパターンを形成する方法を説明するための図であり、図10は金属製シートをエッチングする方法を説明するための図である。   Next, the manufacturing method of such a vapor deposition mask 20 and the vapor deposition mask apparatus 10 is demonstrated mainly using FIG. 8 thru | or FIG. Of these, FIG. 8 is a diagram for explaining the overall method of manufacturing a vapor deposition mask, FIG. 9 is a diagram for explaining a method of forming a resist pattern on a metal sheet, and FIG. 10 is a metal sheet. It is a figure for demonstrating the method to etch.
図8に示すように、本実施の形態における蒸着マスクの製造方法は、帯状に延びる金属製シート34を供給する工程と、フォトリソグラフィー技術を用いたエッチングを金属製シート34に施して、金属製シート34の第1面34a側に線状に延びる溝26を形成する工程と、フォトリソグラフィー技術を用いたエッチングを金属製シート34に施して、金属製シート34の第2面34b側に穴27を形成する工程と、を含んでいる。各工程について、以下においてさらに詳細に説明する。なお、本実施の形態においては、以下に説明するように、金属製シート34の第1面34aおよび第2面34bが同時にエッチングされ、溝26を形成する工程および穴27を形成する工程が並行して行われる。   As shown in FIG. 8, the manufacturing method of the vapor deposition mask in this Embodiment is a process which supplies the metal sheet 34 extended in strip | belt shape, and performs the etching using a photolithographic technique to the metal sheet 34, and is made of metal. A step of forming a linearly extending groove 26 on the first surface 34 a side of the sheet 34 and etching using a photolithography technique are performed on the metal sheet 34, and a hole 27 is formed on the second surface 34 b side of the metal sheet 34. Forming a step. Each step will be described in more detail below. In the present embodiment, as described below, the first surface 34a and the second surface 34b of the metal sheet 34 are etched at the same time, and the step of forming the groove 26 and the step of forming the hole 27 are performed in parallel. Done.
図8に示すように、本実施の形態においては、金属製シート34を供給コア31に巻き取った巻体29が準備される。そして、この供給コア31が回転して巻体29が巻き戻されることにより、図8に示すように帯状に延びる金属製シート34が供給される。なお、金属製シート34は貫通孔25を形成されて蒸着マスク20をなすようになる。したがって、上述したように、金属製シート34は、例えば36%Niインバー材からなる。ただし、これに限られず、ステンレス、銅、鉄、アルミニウムからなるシートを金属製シート34として用いることも可能である。   As shown in FIG. 8, in the present embodiment, a wound body 29 in which a metal sheet 34 is wound around a supply core 31 is prepared. Then, when the supply core 31 rotates and the wound body 29 is rewound, a metal sheet 34 extending in a strip shape is supplied as shown in FIG. The metal sheet 34 is formed with the through hole 25 to form the vapor deposition mask 20. Therefore, as described above, the metal sheet 34 is made of, for example, 36% Ni invar material. However, the sheet is not limited thereto, and a sheet made of stainless steel, copper, iron, or aluminum can be used as the metal sheet 34.
供給された金属製シート34はエッチング装置(エッチング手段)50によってエッチング処理を施される。具体的には、まず、金属製シート34の第1面34a上(図9の紙面における下側の面上)および第2面34b上に感光性レジスト材料を塗布し、金属製シート34上にレジスト膜36a,36bを形成する。次に、レジスト膜36a,36bのうちの除去したい領域に光を透過させないようにしたガラス乾板37a,37bを準備し、ガラス乾板37a,37bをレジスト膜36a,36b上に配置する。   The supplied metal sheet 34 is subjected to an etching process by an etching apparatus (etching means) 50. Specifically, first, a photosensitive resist material is applied on the first surface 34a of the metal sheet 34 (on the lower surface in FIG. 9) and on the second surface 34b. Resist films 36a and 36b are formed. Next, glass dry plates 37a and 37b are prepared so as not to transmit light to regions to be removed of the resist films 36a and 36b, and the glass dry plates 37a and 37b are arranged on the resist films 36a and 36b.
その後、図9に示すように、レジスト膜36をガラス乾板37越しに露光し、さらにレジスト膜36を現像する。以上のようにして、金属製シート34の第1面34a上にレジストパターン(単に、レジストとも呼ぶ)35aが形成されるとともに、金属製シート34の第2面34b上にレジストパターン(単に、レジストとも呼ぶ)35bが形成される。   Thereafter, as shown in FIG. 9, the resist film 36 is exposed through a glass dry plate 37, and the resist film 36 is further developed. As described above, a resist pattern (also simply referred to as a resist) 35a is formed on the first surface 34a of the metal sheet 34, and a resist pattern (simply simply a resist) is formed on the second surface 34b of the metal sheet 34. 35b) is also formed.
なお、ガラス乾板37a,37bのうちの除去すべきレジスト膜36a,36bに対面する領域を黒色にしておき、露光光として可視光を用いるようにしてもよい。この場合、黒色部分で可視光が吸収されることにより、レジスト膜36a,36bの除去すべき領域には光が入射せず、レジスト膜36a,36bが金属製シート34上に定着しない。一方、レジスト膜36a,36bの除去すべきでない領域には光が入射して、当該領域におけるレジスト膜36a,36bが金属製シート34上に定着する。定着していないレジスト膜36a,36bは、例えば湯洗によって除去される。   In addition, the area | region which faces resist film 36a, 36b which should be removed among glass dry plates 37a, 37b is made black, and you may make it use visible light as exposure light. In this case, the visible light is absorbed by the black portions, so that light does not enter the regions to be removed of the resist films 36 a and 36 b, and the resist films 36 a and 36 b are not fixed on the metal sheet 34. On the other hand, light enters a region where the resist films 36 a and 36 b should not be removed, and the resist films 36 a and 36 b in the regions are fixed on the metal sheet 34. The unfixed resist films 36a and 36b are removed by, for example, hot water washing.
次に、図10に示すように、金属製シート34上の形成されたレジストパターン35a,35bをマスクとして、エッチング液(例えば塩化第二鉄溶液)38により金属製シート34を第1面34a側および第2面34b側からエッチングする。本実施の形態においては、エッチング液38が、搬送される金属製シート34の下方に配置されたエッチング装置50の下方ノズル51aから、レジストパターン35a越しに金属製シート34の第1面34aに向けて噴射される。同時に、エッチング液38が、搬送される金属製シート34の上方に配置されたエッチング装置50の上方ノズル51bから、レジストパターン35b越しに金属製シート34の第2面34bに向けて噴射される。このとき、図10に点線で示すように、金属製シート34のうちのレジストパターン35a,35bによって覆われていない領域で、エッチング液による浸食が始まる。その後、浸食は、金属製シート34の厚み方向だけでなく、金属製シート34のシート面に沿った方向にも進んでいく。以上のようにして、エッチング液による浸食が金属製シート34の第1面34aから第2面34b側に向けて進んで溝26が形成されていき、同様に、エッチング液による浸食が金属製シート34の第2面34bから第1面34a側に向けて進んで穴27が形成されていく。最終的に、溝26と穴27とが互いに通じ、溝26と穴27とによって金属製シート34を貫通する貫通孔25が形成される。   Next, as shown in FIG. 10, using the resist patterns 35a and 35b formed on the metal sheet 34 as a mask, the metal sheet 34 is moved to the first surface 34a side by an etching solution (for example, ferric chloride solution) 38. Etching is performed from the second surface 34b side. In the present embodiment, the etching solution 38 is directed from the lower nozzle 51a of the etching apparatus 50 disposed below the conveyed metal sheet 34 toward the first surface 34a of the metal sheet 34 over the resist pattern 35a. Is injected. At the same time, the etching solution 38 is sprayed from the upper nozzle 51b of the etching apparatus 50 disposed above the conveyed metal sheet 34 toward the second surface 34b of the metal sheet 34 through the resist pattern 35b. At this time, as shown by a dotted line in FIG. 10, erosion by the etching solution starts in a region of the metal sheet 34 that is not covered with the resist patterns 35a and 35b. Thereafter, erosion proceeds not only in the thickness direction of the metal sheet 34 but also in the direction along the sheet surface of the metal sheet 34. As described above, erosion by the etching solution proceeds from the first surface 34a to the second surface 34b side of the metal sheet 34 to form the groove 26. Similarly, erosion by the etching solution is eroded by the metal sheet 34. The holes 27 are formed by proceeding from the second surface 34b of the 34 toward the first surface 34a side. Finally, the groove 26 and the hole 27 communicate with each other, and the through hole 25 penetrating the metal sheet 34 is formed by the groove 26 and the hole 27.
その後、金属製シート34上のレジストパターン35a,35bを除去し、さらに金属製シート34を水洗いする。このようにして、多数の貫通孔25を形成された金属製シート34からなる蒸着マスク用シート状部材18が得られる。   Thereafter, the resist patterns 35a and 35b on the metal sheet 34 are removed, and the metal sheet 34 is washed with water. In this manner, the vapor deposition mask sheet-like member 18 made of the metal sheet 34 having a large number of through holes 25 is obtained.
このようにして得られた蒸着マスク用シート状部材18は、当該蒸着マスク用シート状部材18を狭持した状態で回転する一対の搬送ローラ52,52により、切断装置(切断手段)53へ搬送される。なお、この搬送ローラ52,52の回転によって蒸着マスク用シート状部材18および金属製シート34に作用するテンション(引っ張り力)を介し、上述した供給コア31が回転させられ、巻体29から金属製シート34が供給されるようになっている。   The vapor deposition mask sheet-like member 18 thus obtained is conveyed to a cutting device (cutting means) 53 by a pair of conveyance rollers 52, 52 that rotate while holding the vapor deposition mask sheet-like member 18. Is done. The supply core 31 described above is rotated by the rotation of the transport rollers 52 and 52 via the tension (tensile force) acting on the vapor deposition mask sheet member 18 and the metal sheet 34, and the metal body 29 is rotated from the wound body 29. A sheet 34 is supplied.
多数の貫通孔25が形成された金属製シート34を切断装置(切断手段)53によって所定の長さに切断することにより、枚葉状の蒸着マスク20が得られる。そして、各蒸着マスク20に対してフレーム15を取り付けることにより、蒸着マスク装置10が得られる。なお、フレーム15は、蒸着マスク20の一方の面20aに取り付けられてもよいし、蒸着マスク20の他方の面20bに取り付けられてもよい。   By cutting the metal sheet 34 in which a large number of through holes 25 are formed into a predetermined length by a cutting device (cutting means) 53, a sheet-like vapor deposition mask 20 is obtained. And the vapor deposition mask apparatus 10 is obtained by attaching the flame | frame 15 with respect to each vapor deposition mask 20. As shown in FIG. The frame 15 may be attached to one surface 20a of the vapor deposition mask 20 or may be attached to the other surface 20b of the vapor deposition mask 20.
なお、上述したように直線状に細長く延びる溝26を形成する場合、溝26が延びる方向と、金属製シート34が供給される方向(金属製シート34が搬送される方向)とが略平行となっていることが好ましい。この場合、蒸着マスク20の製造中に、厚みの薄くなっている溝26の部分において金属製シート34が延びてしまったり切断されてしまったりすることを防止することができる。   As described above, when the elongated groove 26 is formed in a straight line, the direction in which the groove 26 extends and the direction in which the metal sheet 34 is supplied (the direction in which the metal sheet 34 is conveyed) are substantially parallel. It is preferable that In this case, during manufacture of the vapor deposition mask 20, it can prevent that the metal sheet | seat 34 extends or is cut | disconnected in the part of the groove | channel 26 where thickness is thin.
以上のように本実施の形態によれば、線状の溝26と穴27とによって金属製シート34に貫通孔25が形成されている。したがって、金属製シート34のシート面に対して斜めに進む蒸着材料48であって溝26の長手方向に概ね沿うようにして進む蒸着材料48を高い効率で蒸着に用いることができる。これにより、蒸着材料48の利用効率を大幅に高めることができる。そして、本実施の形態による蒸着マスク20は、有機ELディスプレイ装置を製造する際に、例えば高価な有機発光材料を所望のパターンで基板42上にパターニングするために用いられる蒸着マスク(蒸着用のメタルマスク)に非常に適している。   As described above, according to the present embodiment, the through holes 25 are formed in the metal sheet 34 by the linear grooves 26 and the holes 27. Therefore, the vapor deposition material 48 that proceeds obliquely with respect to the sheet surface of the metal sheet 34 and that travels substantially along the longitudinal direction of the groove 26 can be used for vapor deposition with high efficiency. Thereby, the utilization efficiency of the vapor deposition material 48 can be improved significantly. The vapor deposition mask 20 according to the present embodiment is, for example, a vapor deposition mask (evaporation metal used for patterning an expensive organic light-emitting material on the substrate 42 in a desired pattern when manufacturing an organic EL display device. Very suitable for mask).
また、本実施の形態によれば、金属製シート34の厚みをある程度以上に確保しながら、蒸着材料48の利用効率を大幅に高めている。言い換えると、金属製シート34の厚みを全体的に薄くすることなく、金属製シート34の厚みを局所的に削って、蒸着材料48の利用効率を大幅に高めている。したがって、金属製シート34および蒸着マスク20の剛性を確保することが可能となり、蒸着マスク20の作製時や取り扱い時(搬送や使用等)に、蒸着マスク20(金属製シート34)が変形してしまうことを効果的に防止することができる。この結果、得られた蒸着マスク20を用いた場合、極めて高精細なパターンでの蒸着を精度良く行うことができる。   Moreover, according to this Embodiment, the utilization efficiency of the vapor deposition material 48 is improved significantly, ensuring the thickness of the metal sheet 34 more than a certain amount. In other words, the use efficiency of the vapor deposition material 48 is greatly increased by locally reducing the thickness of the metal sheet 34 without reducing the thickness of the metal sheet 34 as a whole. Therefore, the rigidity of the metal sheet 34 and the vapor deposition mask 20 can be secured, and the vapor deposition mask 20 (the metal sheet 34) is deformed when the vapor deposition mask 20 is produced or handled (conveyed or used). Can be effectively prevented. As a result, when the obtained vapor deposition mask 20 is used, vapor deposition with a very high-definition pattern can be performed with high accuracy.
さらに、本実施の形態によれば、金属製シート34を供給する工程において、金属製シート34を巻き取った巻体29を巻き戻して、帯状に延びる金属製シート34を供給する。このような巻体29は安価に入手可能であり、しかも取り扱い上の都合が非常に良い。   Further, according to the present embodiment, in the step of supplying the metal sheet 34, the winding body 29 around which the metal sheet 34 is wound is rewound to supply the metal sheet 34 extending in a belt shape. Such a wound body 29 is available at a low cost and is very convenient for handling.
なお、上述した実施の形態に関し、本発明の要旨の範囲内で種々の変更が可能である。以下、変形例の一例について適宜図面を参照しながら説明する。なお、以下で参照する図13乃至図18において、上述した実施の形態との同一な部分、並びに、以下に説明する変形例同士で同一な部分には同一な符号を付し、重複する詳細な説明は省略する。   Various modifications can be made to the above-described embodiment within the scope of the present invention. Hereinafter, an example of a modification will be described with reference to the drawings as appropriate. In FIGS. 13 to 18 referred to below, the same parts as those of the above-described embodiment and the same parts in the modifications described below are denoted by the same reference numerals, and detailed details overlapping. Description is omitted.
(変形例1)
上述した実施の形態において、金属製シート34の第1面34aおよび第2面34bが同時にエッチングされ、溝26および穴27が並行して形成されていく例を示したが、これに限られない。例えば、図11に示すように、穴27を形成する工程が、溝26を形成する工程の前に行われるようにしてもよいし、図12に示すように、溝26を形成する工程が、穴27を形成する工程の前に行われるようにしてもよい。穴27を形成する工程が溝26を形成する工程の前に行われる場合、金属製シート34の第2面34b側からエッチングして穴27を形成した後に、穴27を樹脂で埋める工程、あるいは、穴27を樹脂で埋めるとともに金属製シート34の第2面34bを樹脂膜で被覆する工程をさらに設けるようにしてもよい。この場合、エッチングにより溝26を精度良く形成することができる。なお、穴27および第2面34b上の樹脂膜は、溝26を形成した後に除去される。同様に、溝26を形成する工程が穴27を形成する工程の前に行われる場合、金属製シート34の第1面34a側からエッチングして溝26を形成した後に、溝26を樹脂で埋める工程、あるいは、溝26を樹脂で埋めるとともに金属製シート34の第1面34aを樹脂膜で被覆する工程をさらに設けるようにしてもよい。この場合、エッチングにより穴27を精度良く形成することができる。なお、溝26および第1面34a上の樹脂膜は、穴27を形成した後に除去される。
(Modification 1)
In the above-described embodiment, the example in which the first surface 34a and the second surface 34b of the metal sheet 34 are etched at the same time and the grooves 26 and the holes 27 are formed in parallel is shown, but the present invention is not limited thereto. . For example, as shown in FIG. 11, the step of forming the hole 27 may be performed before the step of forming the groove 26, or the step of forming the groove 26 as shown in FIG. It may be performed before the step of forming the hole 27. When the step of forming the hole 27 is performed before the step of forming the groove 26, the step of filling the hole 27 with a resin after forming the hole 27 by etching from the second surface 34b side of the metal sheet 34, or Further, a step of filling the hole 27 with resin and covering the second surface 34b of the metal sheet 34 with a resin film may be further provided. In this case, the groove 26 can be formed with high accuracy by etching. The resin film on the hole 27 and the second surface 34b is removed after the groove 26 is formed. Similarly, when the step of forming the groove 26 is performed before the step of forming the hole 27, the groove 26 is formed by etching from the first surface 34a side of the metal sheet 34, and then the groove 26 is filled with resin. A step of filling the groove 26 with resin and covering the first surface 34a of the metal sheet 34 with a resin film may be further provided. In this case, the hole 27 can be accurately formed by etching. The resin film on the groove 26 and the first surface 34a is removed after the hole 27 is formed.
あるいは、図13に示すように、金属製シート34の第1面34aおよび第2面34bが同時にエッチングされ穴27を形成する工程および溝26を形成する工程が並行して行われ、その後、穴27を形成する工程および溝26を形成する工程のいずれか一方のみが引き続き行われるようにしてもよい。すなわち、この方法において、エッチングが二段階に分けて実施され、第1回目のエッチングにおいて、穴27を形成する工程および溝26を形成する工程が並行して行われる。そして、第1回目のエッチングにおいて、穴27を形成する工程および溝26を形成する工程のいずれか一方が終了し、第2回目のエッチングにおいて、穴27を形成する工程および溝26を形成する工程のいずれか他方のみが引き続き実施される。上述した実施の形態の蒸着マスク20の製造に適用する場合、エッチングによる削り込む量が少なくてよい穴27の形成が第1回目のエッチングによって完成するようになっていることが好ましい。このような方法によれば、エッチングによる削り込み量の異なる溝26および穴27を効率的に作製することが可能となる。   Alternatively, as shown in FIG. 13, the first surface 34 a and the second surface 34 b of the metal sheet 34 are simultaneously etched to form the hole 27 and the groove 26 to be performed in parallel, and then the hole Only one of the step of forming 27 and the step of forming the groove 26 may be continued. That is, in this method, the etching is performed in two stages, and in the first etching, the step of forming the hole 27 and the step of forming the groove 26 are performed in parallel. Then, in the first etching, either the step of forming the hole 27 or the step of forming the groove 26 is completed, and the step of forming the hole 27 and the step of forming the groove 26 in the second etching. Only one of the other will continue to be implemented. When applied to the manufacture of the vapor deposition mask 20 of the above-described embodiment, it is preferable that the formation of the hole 27 that requires a small amount of etching by etching is completed by the first etching. According to such a method, it is possible to efficiently produce the groove 26 and the hole 27 having different amounts of etching by etching.
ここで、図14に示す製造方法の変形例を詳細に説明しておく。ここで、図14(a)乃至図14(e)は蒸着マスクの製造方法の一変形例を説明するための図であって、いずれも溝26の幅方向に沿った断面において金属製シート34を示している。   Here, a modification of the manufacturing method shown in FIG. 14 will be described in detail. Here, FIGS. 14A to 14E are views for explaining a modification of the manufacturing method of the vapor deposition mask, and each is a metal sheet 34 in a cross section along the width direction of the groove 26. Is shown.
図14(a)に示すように、上述した方法と同様にして、金属製シート34の第1面34a上にレジスト(レジストパターン)35aを形成し、金属製シート34の第2面34b上にレジスト(レジストパターン)35bを形成する。次に、レジスト35a,35b越しに金属製シート34に対して第1回目のエッチングを行う。第1回目のエッチングにおいては、金属製シート34の第1面34aおよび第2面34bが同時にエッチングされ、第1面34a側の溝26および第2面34b側の穴27が並行して形成されていく。ただし、穴27を形成するためのエッチングによる削り込み量は、溝26を形成するためのエッチングによる削り込み量よりも格段に少ない。したがって、図14(b)に示すように、所望の形状の穴27が金属製シート34の第2面34b側に形成された時点で、溝26は未だ形成途中の段階にある。この図14(b)に示す状態において、金属製シート34に対する第1回目のエッチングが終了する。   As shown in FIG. 14A, a resist (resist pattern) 35a is formed on the first surface 34a of the metal sheet 34 and the second surface 34b of the metal sheet 34 is formed in the same manner as described above. A resist (resist pattern) 35b is formed. Next, the first etching is performed on the metal sheet 34 through the resists 35a and 35b. In the first etching, the first surface 34a and the second surface 34b of the metal sheet 34 are simultaneously etched, and the groove 26 on the first surface 34a side and the hole 27 on the second surface 34b side are formed in parallel. To go. However, the amount of etching by etching to form the hole 27 is much smaller than the amount of etching by etching to form the groove 26. Therefore, as shown in FIG. 14B, when the hole 27 having a desired shape is formed on the second surface 34b side of the metal sheet 34, the groove 26 is still in the middle of formation. In the state shown in FIG. 14B, the first etching for the metal sheet 34 is completed.
次に、図14(c)に示すように、エッチング液38に対する耐性を有した樹脂39によって、形成された穴27が被覆される。すなわち、エッチング液38に対する耐性を有した樹脂39によって、穴27が封止される。図14(c)に示す例において、樹脂39の膜が、形成された穴27だけでなく、第2面34b(レジスト35b)も覆うように形成されている。   Next, as shown in FIG. 14C, the formed hole 27 is covered with a resin 39 having resistance to the etching solution 38. That is, the hole 27 is sealed with the resin 39 having resistance to the etching solution 38. In the example shown in FIG. 14C, the resin 39 film is formed so as to cover not only the formed hole 27 but also the second surface 34b (resist 35b).
その後、金属製シート34に対して第2回目のエッチングを行う。第2回目のエッチングにおいて、金属製シート34は第1面34aの側のみからエッチングされ、第1面34aの側から溝26の形成が進行していく。金属製シート34は第2面34bの側には、エッチング液38に対する耐性を有した樹脂39が被覆されているからである。したがって、第1回目のエッチングにより所望の形状に形成された穴27の形状が損なわれてしまうことはない。そして、図14(d)に示すように、所望の形状の溝26が金属製シート34の第1面34a側に形成された時点で、金属製シート34に対する第2回目のエッチングが終了する。このとき、図14(d)に示すように、溝26は金属製シート34の厚さ方向に沿って穴27に到達する位置まで延びており、これにより、互いに通じ合っている溝26および穴27によって貫通孔25が金属製シート34に形成されている。   Thereafter, the second etching is performed on the metal sheet 34. In the second etching, the metal sheet 34 is etched only from the first surface 34a side, and the formation of the grooves 26 proceeds from the first surface 34a side. This is because the metal sheet 34 is coated with a resin 39 having resistance to the etching solution 38 on the second surface 34b side. Therefore, the shape of the hole 27 formed in a desired shape is not impaired by the first etching. And as shown in FIG.14 (d), when the groove | channel 26 of a desired shape is formed in the 1st surface 34a side of the metal sheet 34, the 2nd time etching with respect to the metal sheet 34 is complete | finished. At this time, as shown in FIG. 14 (d), the groove 26 extends to a position reaching the hole 27 along the thickness direction of the metal sheet 34, thereby the groove 26 and the hole communicating with each other. Through holes 25 are formed in the metal sheet 34 by 27.
次に、金属製シート34からレジスト35a,35bおよび樹脂膜39が除去される。なお、樹脂膜39は、例えば燃焼させることにより、除去することができる。このようにして、図14(e)に示すように、蒸着マスク20(蒸着マスク用シート状部材18)が得られる。   Next, the resists 35 a and 35 b and the resin film 39 are removed from the metal sheet 34. The resin film 39 can be removed by burning, for example. Thus, as shown in FIG.14 (e), the vapor deposition mask 20 (the sheet-like member 18 for vapor deposition mask) is obtained.
以上の製造方法においては、第2回目のエッチングが終了し、穴27と溝26とが連通して貫通孔25が作製された際、穴27は樹脂39によって封止されている。そして、このような製造方法によれば、溝26および穴27(すなわち、貫通孔25)を、極めて精度よく安定して形成することができる。   In the above manufacturing method, when the second etching is completed and the hole 27 and the groove 26 communicate with each other to form the through hole 25, the hole 27 is sealed with the resin 39. And according to such a manufacturing method, the groove | channel 26 and the hole 27 (namely, through-hole 25) can be formed stably very accurately.
仮に、穴27が樹脂で封止されていなかったとすると、金属製シート34aの第1面34aおよび第2面34bが貫通孔25を介して連通するようになる。この場合、浸食能力の高いフレッシュなエッチング液38(図10参照)が、溝26内から穴27側へ向けて流れ込むようになる。このとき、断面積(開孔面積)が小さくなる穴27内や張り出し部28a近傍において液圧が高くなり、これらの領域がフレッシュなエッチング液により局所的に激しく浸食される。また、第1面34a側から第2面34b側へ流れ込んだエッチング液が、第2面34b上における穴27の周囲に残留することもある。これらのことから、貫通孔25の輪郭を画定させる接続部28の形状を安定させること、さらには、すべての貫通孔25の輪郭を均一にすることが難しくなる。またそもそも、穴27が樹脂39で封止されていなかったとすると、溝26が穴27に通じてエッチング液が第2面34b側へ流れ込みはじめる際に発生する圧力により、貫通孔25の断面形状(とりわけ、張り出し部28aの形状)がだれてしまうことがある。   If the hole 27 is not sealed with resin, the first surface 34a and the second surface 34b of the metal sheet 34a communicate with each other through the through hole 25. In this case, a fresh etching solution 38 (see FIG. 10) having a high erosion capability flows from the inside of the groove 26 toward the hole 27 side. At this time, the hydraulic pressure increases in the hole 27 where the cross-sectional area (opening area) is small and in the vicinity of the overhanging portion 28a, and these regions are eroded locally by the fresh etching solution. In addition, the etching solution that has flowed from the first surface 34a side to the second surface 34b side may remain around the hole 27 on the second surface 34b. For these reasons, it is difficult to stabilize the shape of the connecting portion 28 that defines the contour of the through hole 25 and to make the contours of all the through holes 25 uniform. In the first place, if the hole 27 was not sealed with the resin 39, the cross-sectional shape of the through hole 25 (due to the pressure generated when the groove 26 passes through the hole 27 and the etching solution starts to flow toward the second surface 34b) ( In particular, the shape of the overhanging portion 28a may be distorted.
その一方で、穴27と溝26とが連通して貫通孔25が作製された際に、穴27が樹脂39によって封止されている本変形例によれば、以上の問題点をすべて回避することができ、所望の形状の貫通孔25を精度良く安定して形成することができる。また、この方法によれば、穴27と溝26とを極めて精度良く所望の形状に形成することができるので、上述した、接続部28から第2面34b(20b)までの金属製シート34のシート面に直交する方向に沿った長さLc(図6参照)を安定して5μm以下(さらに詳細には、2〜4μm)にすることができる。この結果、得られた蒸着マスク20を用いた場合、極めて高精細なパターンでの蒸着を精度良く行うことができる。とりわけ、被成膜領域(成膜されるべき領域)内のうちの縁部における蒸着膜の膜厚をも安定させることができるようになる。   On the other hand, according to the present modification in which the hole 27 is sealed with the resin 39 when the hole 27 communicates with the groove 26 and the through hole 25 is produced, all of the above problems are avoided. The through hole 25 having a desired shape can be formed with high accuracy and stability. In addition, according to this method, the hole 27 and the groove 26 can be formed in a desired shape with extremely high accuracy, so that the metal sheet 34 from the connecting portion 28 to the second surface 34b (20b) described above can be formed. The length Lc (see FIG. 6) along the direction orthogonal to the sheet surface can be stably reduced to 5 μm or less (more specifically, 2 to 4 μm). As a result, when the obtained vapor deposition mask 20 is used, vapor deposition with a very high-definition pattern can be performed with high accuracy. In particular, it is possible to stabilize the film thickness of the deposited film at the edge in the film formation region (region to be formed).
(変形例2)
さらに、上述した実施の形態において、金属製シート34を第1面34aの側からエッチングすることによって溝26が形成され、金属製シート34を第2面34bの側からエッチングすることによって穴27が形成される例を示したが、これに限られない。例えば、金属製シート34を第1面34aの側からエッチングして溝26を形成した後に、さらに、金属製シート34の第1面34bの側にレジストパターン(レジスト)を形成し、金属製シート34を第1面34aの側からエッチングすることによって穴27を形成するようにしてもよい。この場合、溝26の底部から金属製シート34の第2面34bに延びる穴27を形成することができ、形成された穴27は、溝26と同様に、金属製シート34の第1面34a側から第2面34b側へ向けて断面積が小さくなっていくようになる。すなわち、この方法によれば、第1面34a側から第2面34b側に向け、金属製シート34のシート面に沿った断面における貫通孔25の断面積(開孔面積)がしだいに小さくなっていく。したがって、このようにして製造された金属製シート34からなる蒸着マスク20によれば、高精細なパターンでの蒸着を極めて精度よく行うことができるようになる。
(Modification 2)
Further, in the above-described embodiment, the groove 26 is formed by etching the metal sheet 34 from the first surface 34a side, and the hole 27 is formed by etching the metal sheet 34 from the second surface 34b side. Although the example formed is shown, it is not restricted to this. For example, after the metal sheet 34 is etched from the first surface 34 a side to form the groove 26, a resist pattern (resist) is further formed on the first surface 34 b side of the metal sheet 34, and the metal sheet The hole 27 may be formed by etching 34 from the first surface 34a side. In this case, a hole 27 extending from the bottom of the groove 26 to the second surface 34 b of the metal sheet 34 can be formed, and the formed hole 27 is the first surface 34 a of the metal sheet 34 in the same manner as the groove 26. The cross-sectional area becomes smaller from the side toward the second surface 34b side. That is, according to this method, the cross-sectional area (opening area) of the through hole 25 in the cross section along the sheet surface of the metal sheet 34 gradually decreases from the first surface 34a side to the second surface 34b side. To go. Therefore, according to the vapor deposition mask 20 made of the metal sheet 34 manufactured in this manner, vapor deposition with a high-definition pattern can be performed with extremely high accuracy.
(変形例3)
さらに、上述した実施の形態における金属製シート34の第1面34a側に形成された溝26の構成は一例に過ぎない。例えば、上述した実施の形態において、溝26がその長手方向に沿って略均一な幅および略均一な深さを有する例を示したが、これに限れない。一例として、図15に示すように、溝26の長手方向に直交する方向(つまり、溝の幅方向)に沿った溝26の第1面34a上における幅が、一定でないようにしてもよい。図15に示す蒸着マスク20において、溝26の長手方向において穴27が形成されている部分の幅Waは、溝26の長手方向において隣り合う二つの穴27の間の部分の幅Wbよりも太くなっている。
(Modification 3)
Furthermore, the structure of the groove | channel 26 formed in the 1st surface 34a side of the metal sheet | seat 34 in embodiment mentioned above is only an example. For example, in the above-described embodiment, the example in which the groove 26 has a substantially uniform width and a substantially uniform depth along the longitudinal direction thereof is shown, but the present invention is not limited to this. As an example, as shown in FIG. 15, the width on the first surface 34 a of the groove 26 along the direction orthogonal to the longitudinal direction of the groove 26 (that is, the width direction of the groove) may not be constant. In the vapor deposition mask 20 shown in FIG. 15, the width Wa of the portion where the hole 27 is formed in the longitudinal direction of the groove 26 is thicker than the width Wb of the portion between two adjacent holes 27 in the longitudinal direction of the groove 26. It has become.
このような溝26は、溝26の長手方向に沿って並べて第1面34a側に形成された複数の穴(溝構成用穴)30から形成されている。この溝26を構成する複数の穴30のうちの、溝26長手方向に沿って隣り合う二つの穴27は第1面34aにおいて接続されている。言い換えると、二つの穴27は、第1面34a上において、部分的に重なり合うようにして形成されている。すなわち、第1面34aにおいて、二つの穴27の外輪郭はつながっている。また、図15および図16に示されているように、第2面34b側に形成された穴27は、溝26を構成するために第1面34a側に形成された穴30に対面する位置に配置されている。とりわけ、本実施の形態においては、図15および図16から理解され得るように、第2面34b側に形成された穴27の溝26の長手方向に沿った中心位置C27は、第1面34a側に形成された溝構成用穴30の溝26の長手方向に沿った中心位置C30と、溝26の長手方向において一致している。さらに、本実施の形態においては、図15から理解され得るように、第2面34b側に形成された穴27の溝26の幅方向に沿った中心位置は、第1面34a側に形成された溝構成用穴30の溝26の幅方向に沿った中心位置と、溝26の幅方向において一致している。なお、図16には、この溝26の長手方向に沿った断面が示されている。   Such a groove 26 is formed of a plurality of holes (groove constituting holes) 30 formed on the first surface 34 a side by side along the longitudinal direction of the groove 26. Of the plurality of holes 30 constituting the groove 26, two holes 27 adjacent to each other along the longitudinal direction of the groove 26 are connected to each other on the first surface 34a. In other words, the two holes 27 are formed so as to partially overlap on the first surface 34a. That is, the outer contours of the two holes 27 are connected to each other on the first surface 34a. 15 and 16, the hole 27 formed on the second surface 34b side faces the hole 30 formed on the first surface 34a side in order to form the groove 26. Is arranged. In particular, in the present embodiment, as can be understood from FIGS. 15 and 16, the center position C27 along the longitudinal direction of the groove 26 of the hole 27 formed on the second surface 34b side is the first surface 34a. The center position C30 along the longitudinal direction of the groove 26 of the groove forming hole 30 formed on the side coincides with the longitudinal direction of the groove 26. Furthermore, in this embodiment, as can be understood from FIG. 15, the center position along the width direction of the groove 26 of the hole 27 formed on the second surface 34b side is formed on the first surface 34a side. The center position of the groove forming hole 30 along the width direction of the groove 26 coincides with the width direction of the groove 26. FIG. 16 shows a cross section along the longitudinal direction of the groove 26.
また、図16に示すように、溝26は線状に延びているものの、溝26の深さは一定ではない。溝26の長手方向において穴27が形成されている部分の深さDaは、溝26の長手方向において隣り合う二つの穴27の間の部分の深さDbよりも深くなっている。   As shown in FIG. 16, the groove 26 extends linearly, but the depth of the groove 26 is not constant. The depth Da of the portion where the hole 27 is formed in the longitudinal direction of the groove 26 is deeper than the depth Db of the portion between two adjacent holes 27 in the longitudinal direction of the groove 26.
なお、図15および図16に示された蒸着マスク20のその他の構成については、上述した実施の形態において説明した蒸着マスクと同一の構成とすることができる。例えば、溝26の幅方向に沿った断面形状は、上述した蒸着マスクにおける溝の断面形状(図3参照)と同一にすることができる。   In addition, about the other structure of the vapor deposition mask 20 shown by FIG. 15 and FIG. 16, it can be set as the structure same as the vapor deposition mask demonstrated in embodiment mentioned above. For example, the cross-sectional shape along the width direction of the groove 26 can be the same as the cross-sectional shape of the groove in the above-described vapor deposition mask (see FIG. 3).
このような蒸着シート20によれば、上述した実施の形態における蒸着シートと同一の作用効果を期待することができる。例えば、線状の溝26と穴27とによって金属製シート34に貫通孔25が形成されているため、金属製シート34のシート面に対して斜めに進む蒸着材料48(図5参照)であって溝26の長手方向に概ね沿うようにして進む蒸着材料48を高い効率で蒸着に用いることができる。これにより、蒸着材料48の利用効率を大幅に高めることができる。とりわけ、本変形例によれば、上述した実施の形態における蒸着マスクよりも、金属製シート34および蒸着マスク20の剛性を確保することが可能となる。このため、蒸着マスク20の作製時や取り扱い時(搬送や使用等)に、蒸着マスク20(金属製シート34)が変形してしまうことをさらに効果的に防止することができる。この結果、得られた蒸着マスク20を用いた場合、極めて高精細なパターンでの蒸着をさらに精度良く行うことができる。   According to such a vapor deposition sheet 20, the same effect as the vapor deposition sheet in embodiment mentioned above can be anticipated. For example, since the through hole 25 is formed in the metal sheet 34 by the linear groove 26 and the hole 27, the vapor deposition material 48 (see FIG. 5) that moves obliquely with respect to the sheet surface of the metal sheet 34. Therefore, the vapor deposition material 48 that advances substantially along the longitudinal direction of the groove 26 can be used for vapor deposition with high efficiency. Thereby, the utilization efficiency of the vapor deposition material 48 can be improved significantly. In particular, according to the present modification, it is possible to ensure the rigidity of the metal sheet 34 and the vapor deposition mask 20 as compared with the vapor deposition mask in the above-described embodiment. For this reason, it can prevent more effectively that the vapor deposition mask 20 (metal sheet | seat 34) deform | transforms at the time of preparation of the vapor deposition mask 20, and handling (conveyance, use, etc.). As a result, when the obtained vapor deposition mask 20 is used, vapor deposition with an extremely high-definition pattern can be performed with higher accuracy.
ここで、図15および図16に示された蒸着シートの製造方法の一例について、図17および図18を参照して説明しておく。なお、図15および図16に示された蒸着シート20は、図8、図11、図12および図13に示した上述の製造方法のいずれによっても作製され得る。一例として、以下に説明する製造方法は、図13および図14を参照して説明した製造方法と同様の方法となっている。ここで、図17(a)乃至図17(e)は蒸着マスクの製造方法を説明するための図であって、いずれも溝の長手方向に沿った断面において金属製シート34を示している。また、図18は、金属シート34の第1面34a上に配置され得るレジスト(レジストパターン)35aの一例を、形成されるべき溝26および貫通孔25の外輪郭とともに示す平面図である。   Here, an example of the manufacturing method of the vapor deposition sheet shown by FIG. 15 and FIG. 16 is demonstrated with reference to FIG. 17 and FIG. The vapor deposition sheet 20 shown in FIGS. 15 and 16 can be produced by any of the above-described manufacturing methods shown in FIGS. 8, 11, 12, and 13. As an example, the manufacturing method described below is the same as the manufacturing method described with reference to FIGS. 13 and 14. Here, FIG. 17A to FIG. 17E are views for explaining a method of manufacturing a vapor deposition mask, and all show the metal sheet 34 in a cross section along the longitudinal direction of the groove. FIG. 18 is a plan view showing an example of a resist (resist pattern) 35 a that can be arranged on the first surface 34 a of the metal sheet 34 together with the outer contours of the groove 26 and the through hole 25 to be formed.
まず、図17(a)に示すように、金属製シート34の第1面34a上にレジスト(レジストパターン)35aを形成し、金属製シート34の第2面34b上にレジスト(レジストパターン)35bを形成する。なお、本例においては、図18に示すように、金属製シート34の第1面34a上に形成されるレジスト35aには、第1面34a上において溝26を構成するようになる穴30が形成されるべき位置にそれぞれ貫通穴35a1が形成されている。図18に示すように、複数の貫通穴35a1は、形成されるべき溝26の長手方向(図18の紙面における上下方向)に沿って間隔を空けて配列されている。したがって、レジスト35aは、形成されるべき溝26の長手方向に沿って隣り合う二つの貫通穴35a1の間に位置するブリッジ部35a2を有するようになっている。   First, as shown in FIG. 17A, a resist (resist pattern) 35a is formed on the first surface 34a of the metal sheet 34, and a resist (resist pattern) 35b is formed on the second surface 34b of the metal sheet 34. Form. In this example, as shown in FIG. 18, the resist 35a formed on the first surface 34a of the metal sheet 34 has a hole 30 that forms the groove 26 on the first surface 34a. A through hole 35a1 is formed at each position to be formed. As shown in FIG. 18, the plurality of through holes 35a1 are arranged at intervals along the longitudinal direction of the groove 26 to be formed (the vertical direction on the paper surface of FIG. 18). Therefore, the resist 35a has a bridge portion 35a2 positioned between two through holes 35a1 adjacent to each other along the longitudinal direction of the groove 26 to be formed.
次に、レジスト35a,35b越しに金属製シート34に対して第1回目のエッチングを行う。第1回目のエッチングにおいては、金属製シート34の第1面34aおよび第2面34bが同時にエッチングされ、第1面34a側の溝26を構成するようになる穴30と、第2面34b側の穴27と、が並行して形成されていく。すなわち、溝26を構成する複数の穴30は、複数の貫通穴35a1が間隔を空けて線状に並べて形成されたレジスト35aを第1面34a上に配置された状態で金属製シート34の第1面34aをエッチングすることにより、レジスト35aの貫通穴35a1に対応する位置において金属製シート34の第1面34a側に形成されていく。そして、図17(b)に示すように、所望の形状の穴27が金属製シート34の第2面34b側に形成された状態であって、溝26を構成する穴30が完全に形成されていない状態において、金属製シート34に対する第1回目のエッチングが終了する。次に、図17(c)に示すように、エッチング液38に対する耐性を有した樹脂からなる樹脂膜39が、形成された穴27および第2面34b(レジスト35b)を覆うように形成される。すなわち、エッチング液38に対する耐性を有した樹脂39によって、穴27が封止される。   Next, the first etching is performed on the metal sheet 34 through the resists 35a and 35b. In the first etching, the first surface 34a and the second surface 34b of the metal sheet 34 are etched at the same time, and the hole 30 that forms the groove 26 on the first surface 34a side and the second surface 34b side The holes 27 are formed in parallel. That is, the plurality of holes 30 constituting the groove 26 are formed in the first state of the metal sheet 34 with the resist 35a formed by arranging the plurality of through holes 35a1 in a line at intervals on the first surface 34a. By etching the first surface 34a, it is formed on the first surface 34a side of the metal sheet 34 at a position corresponding to the through hole 35a1 of the resist 35a. Then, as shown in FIG. 17B, a hole 27 having a desired shape is formed on the second surface 34b side of the metal sheet 34, and the hole 30 constituting the groove 26 is completely formed. In a state in which the first etching is not performed, the first etching for the metal sheet 34 is completed. Next, as shown in FIG. 17C, a resin film 39 made of a resin resistant to the etching solution 38 is formed so as to cover the formed hole 27 and the second surface 34b (resist 35b). . That is, the hole 27 is sealed with the resin 39 having resistance to the etching solution 38.
その後、金属製シート34に対して第2回目のエッチングを行う。第2回目のエッチングにおいて、金属製シート34は第1面34aの側のみからエッチングされ、第1面34a側から溝26を構成する穴30の形成が進行していく。このとき、穴27がエッチング液38に対する耐性を有した樹脂39に封止されているので、第1回目のエッチングにより形成された穴27の形状が損なわれてしまうことはない。そして、図17(d)に示すように、所望の形状の穴30が金属製シート34の第1面34a側に形成された時点で、金属製シート34に対する第2回目のエッチングが終了する。   Thereafter, the second etching is performed on the metal sheet 34. In the second etching, the metal sheet 34 is etched only from the first surface 34a side, and the formation of the holes 30 constituting the grooves 26 proceeds from the first surface 34a side. At this time, since the hole 27 is sealed with the resin 39 having resistance to the etching solution 38, the shape of the hole 27 formed by the first etching is not impaired. Then, as shown in FIG. 17D, when the hole 30 having a desired shape is formed on the first surface 34a side of the metal sheet 34, the second etching for the metal sheet 34 is completed.
上述したようにエッチングによる金属製シート34の浸食は、金属製シート34の厚み方向だけでなく、金属製シート34のシート面に沿った方向にも進んでいく。そして、図17(d)に示すように、二段階のエッチング工程を経て、第1面34aから形成された穴30は、第2面34b側に形成された穴27まで金属製シート34の厚さ方向に延びるとともに、形成されるべき溝26の長手方向に沿って隣り合う穴30と第1面34aにおいてつながるように金属製シート34のシート面に沿った方向にも延びる。そして、二回目のエッチングは、複数の穴30のうちの溝26の長手方向に沿って隣り合うすべての二つの穴3が、当該二つの穴30にそれぞれ対応するレジスト35aの二つの貫通穴35a1の間に位置するレジスト35aのブリッジ部35a2の下方において接続されるまで、続けられる。つまり、二回目のエッチングが終了した後には、レジスト35aのブリッジ部35a2と金属製シート34との間に隙間が形成されるようになる。このようにして、二段階のエッチングにより、隣り合う二つの穴30が最終的に第1面34aにおいて接続されるようにして、複数の穴(溝構成用穴)30が線状に並べて第1面34a側から形成されていき、最終的に、この複数の穴30から溝26が形成される。なお、溝26の長手方向に沿って隣り合う二つの穴30が第1面34a上において重なり合い始めるのは、第1回目のエッチング工程中であってもよいし、第2回目のエッチング工程中であってもよい。   As described above, the erosion of the metal sheet 34 by etching proceeds not only in the thickness direction of the metal sheet 34 but also in the direction along the sheet surface of the metal sheet 34. Then, as shown in FIG. 17 (d), through the two-stage etching process, the hole 30 formed from the first surface 34a has a thickness of the metal sheet 34 up to the hole 27 formed on the second surface 34b side. In addition to extending in the longitudinal direction, it also extends in the direction along the sheet surface of the metal sheet 34 so as to be connected to the adjacent hole 30 along the longitudinal direction of the groove 26 to be formed at the first surface 34a. Then, in the second etching, all the two holes 3 adjacent to each other along the longitudinal direction of the groove 26 of the plurality of holes 30 are two through holes 35a1 of the resist 35a corresponding to the two holes 30, respectively. Until the connection is made below the bridge portion 35a2 of the resist 35a located between the two. That is, after the second etching is completed, a gap is formed between the bridge portion 35a2 of the resist 35a and the metal sheet 34. In this way, by two-stage etching, the two adjacent holes 30 are finally connected to each other on the first surface 34a, and a plurality of holes (groove constituting holes) 30 are arranged in a line to form the first. The grooves 26 are formed from the plurality of holes 30 finally from the surface 34a side. The two holes 30 adjacent along the longitudinal direction of the groove 26 may start to overlap on the first surface 34a during the first etching process or during the second etching process. There may be.
その後、金属製シート34からレジスト35a,35bおよび樹脂膜39が除去され、図17(e)に示すように、蒸着マスク20(蒸着マスク用シート状部材18)が得られる。   Thereafter, the resists 35a, 35b and the resin film 39 are removed from the metal sheet 34, and as shown in FIG. 17E, the vapor deposition mask 20 (the vapor deposition mask sheet-like member 18) is obtained.
以上の製造方法によれば、図13および図14を参照しながら説明した製造方法と同様の作用効果を期待することができる。例えば、以上の製造方法によれば、所望の形状の貫通孔25を精度良く安定して形成することができる。また、以上の製造方法によれば、上述した、接続部28から第2面34b(20b)までの金属製シート34のシート面に直交する方向に沿った長さLc(図6参照)を安定して5μm以下(さらに詳細には、2〜4μm)にすることができる。この結果、得られた蒸着マスク20を用いた場合、極めて高精細なパターンでの蒸着を精度良く行うことができる。とりわけ、被成膜領域(成膜されるべき領域)内のうちの縁部における蒸着膜の膜厚をも安定させることができるようになる。   According to the above manufacturing method, the same effect as the manufacturing method described with reference to FIGS. 13 and 14 can be expected. For example, according to the above manufacturing method, the through hole 25 having a desired shape can be formed with high accuracy and stability. Further, according to the above manufacturing method, the length Lc (see FIG. 6) along the direction perpendicular to the sheet surface of the metal sheet 34 from the connecting portion 28 to the second surface 34b (20b) is stabilized. And 5 μm or less (more specifically, 2 to 4 μm). As a result, when the obtained vapor deposition mask 20 is used, vapor deposition with a very high-definition pattern can be performed with high accuracy. In particular, it is possible to stabilize the film thickness of the deposited film at the edge in the film formation region (region to be formed).
また、金属製シート34の第1面34a上に形成されるレジスト35aは、貫通穴35a1間にブリッジ部35a2を有している。したがって、レジスト35aは、形成されるべき溝26に対応して線状に延びる細長い貫通穴が並べて配列されている場合と比較して、高い剛性を有するようになるとともに、金属製シート34への接着性が向上する。すなわち、エッチングの途中に、レジスト35aが金属製シート34の第1面34a上で変形してしまうこと、あるいは、レジスト35aが金属製シート34の第1面34aから剥がれてしまうことを、効果的に防止することができる。これにより、所望の形状の貫通孔25をさらに精度良くさらに安定して形成することができる。   The resist 35a formed on the first surface 34a of the metal sheet 34 has a bridge portion 35a2 between the through holes 35a1. Therefore, the resist 35a has higher rigidity than the case where the elongated through holes extending linearly corresponding to the grooves 26 to be formed are arranged side by side, and the resist 35a has a high rigidity to the metal sheet 34. Adhesion is improved. That is, it is effective that the resist 35a is deformed on the first surface 34a of the metal sheet 34 during the etching or the resist 35a is peeled off from the first surface 34a of the metal sheet 34. Can be prevented. Thereby, the through hole 25 having a desired shape can be formed more accurately and stably.
(変形例4)
さらに、上述した実施の形態における金属製シート34の第1面34a側に形成された穴27の構成は一例に過ぎない。例えば、上述した実施の形態において、穴27が平面視において長方形状である例を示したが、これに限られず、例えば、正方形等の種々の形状を有するようにしてもよい。
(Modification 4)
Furthermore, the structure of the hole 27 formed in the 1st surface 34a side of the metal sheet | seat 34 in embodiment mentioned above is only an example. For example, in the above-described embodiment, the example in which the hole 27 has a rectangular shape in plan view has been described. However, the shape is not limited thereto, and the hole 27 may have various shapes such as a square.
(変形例5)
さらに、上述した実施の形態において、帯状に延びる金属製シート34を供給する例を示したが、これに限られない。枚葉状の金属製シート34を供給し、この金属製シート34にエッチングを施して蒸着マスク20を形成するようにしてもよい。
(Modification 5)
Furthermore, although the example which supplies the metal sheet 34 extended in strip | belt shape was shown in embodiment mentioned above, it is not restricted to this. The vapor deposition mask 20 may be formed by supplying a sheet-like metal sheet 34 and etching the metal sheet 34.
(変形例6)
さらに、上述した実施の形態においては、所定の長さに切断された蒸着マスク20に対してフレーム15を取り付ける例を示したが、これに限られない。例えば、切断前の蒸着マスク用シート状部材18に対してフレーム15を取り付け、その後、フレーム15が固定された蒸着マスク用シート状部材18を所定の長さに切断していくようにしてもよい。
(Modification 6)
Furthermore, although the example which attaches the flame | frame 15 with respect to the vapor deposition mask 20 cut | disconnected by predetermined length was shown in embodiment mentioned above, it is not restricted to this. For example, the frame 15 may be attached to the vapor deposition mask sheet-like member 18 before cutting, and then the vapor deposition mask sheet-like member 18 to which the frame 15 is fixed may be cut to a predetermined length. .
(変形例7)
なお、以上において上述した実施の形態に対するいくつかの変形例を説明してきたが、当然に、複数の変形例を適宜組み合わせて適用することも可能である。
(Modification 7)
In addition, although the some modification with respect to embodiment mentioned above was demonstrated above, naturally, it is also possible to apply combining several modifications suitably.
図1は、本発明による蒸着マスクの一実施の形態を示す斜視図である。FIG. 1 is a perspective view showing an embodiment of a vapor deposition mask according to the present invention. 図2は、図1に示された蒸着マスクを示す部分平面図である。FIG. 2 is a partial plan view showing the vapor deposition mask shown in FIG. 図3は、図2のIII−III線に沿った断面における断面図である。3 is a cross-sectional view taken along a line III-III in FIG. 図4は、図3のIV−IV線に沿った断面における断面図である。FIG. 4 is a cross-sectional view taken along a line IV-IV in FIG. 図5は、蒸着マスクの使用方法を説明するための図である。FIG. 5 is a diagram for explaining how to use the vapor deposition mask. 図6は、図3に対応する断面において、蒸着マスクの作用を説明するための図である。FIG. 6 is a diagram for explaining the operation of the vapor deposition mask in the cross section corresponding to FIG. 3. 図7は、図4に対応する断面において、蒸着マスクの作用を説明するための図である。FIG. 7 is a diagram for explaining the operation of the vapor deposition mask in the cross section corresponding to FIG. 4. 図8は、本発明による蒸着マスクの製造方法の一実施の形態を説明するための図である。FIG. 8 is a diagram for explaining an embodiment of a method for manufacturing a vapor deposition mask according to the present invention. 図9は、金属製シートにレジストパターンを形成する方法を説明するための図である。FIG. 9 is a diagram for explaining a method of forming a resist pattern on a metal sheet. 図10は、金属製シートをエッチングする方法を説明するための図である。FIG. 10 is a diagram for explaining a method of etching a metal sheet. 図11は、図8に対応する図であって、蒸着マスクの製造方法の一変形例を説明するための図である。FIG. 11 is a diagram corresponding to FIG. 8 and is a diagram for explaining a modification of the method for manufacturing the vapor deposition mask. 図12は、図8に対応する図であって、蒸着マスクの製造方法の他の変形例を説明するための図である。FIG. 12 is a diagram corresponding to FIG. 8 and is a diagram for explaining another modified example of the method of manufacturing the vapor deposition mask. 図13は、図8に対応する図であって、蒸着マスクの製造方法のさらに他の変形例を説明するための図である。FIG. 13 is a diagram corresponding to FIG. 8 and is a diagram for explaining still another modified example of the method of manufacturing the vapor deposition mask. 図14(a)乃至図14(e)は、図13に示された製造方法を説明するための図であって、いずれも形成されるべき溝の幅方向に沿った断面において金属製シートを示す図である。14 (a) to 14 (e) are diagrams for explaining the manufacturing method shown in FIG. 13, and each of the metal sheets is shown in a cross section along the width direction of the groove to be formed. FIG. 図15は、図2に対応する図であって、蒸着マスクの一変形例を示す部分平面図である。FIG. 15 is a partial plan view corresponding to FIG. 2 and showing a modification of the vapor deposition mask. 図16は、図15のXVI−XVI線に沿った断面図である。16 is a cross-sectional view taken along line XVI-XVI in FIG. 図17(a)乃至図17(e)は、図15に示された蒸着マスクの製造方法も一例を説明するための図であって、いずれも形成されるべき溝の長手方向に沿った断面において金属製シートを示す図である。17 (a) to 17 (e) are diagrams for explaining an example of a method of manufacturing the vapor deposition mask shown in FIG. 15, and both are cross sections along the longitudinal direction of the groove to be formed. It is a figure which shows a metal sheet | seat. 図18は、図17に示された製造方法において用いられる得るレジストの一例を示す部分平面図である。18 is a partial plan view showing an example of a resist that can be used in the manufacturing method shown in FIG.
符号の説明Explanation of symbols
20 蒸着マスク
20a 一方の面
20b 他方の面
25 貫通孔
26 溝
26a 壁面
27 穴
27a 壁面
28 接続部
30 穴
34 金属製シート
34a 第1面
34b 第2面
35a レジスト(レジストパターン)
35a1 貫通穴
35a2 ブリッジ部
35b レジスト(レジストパターン)
39 樹脂(樹脂膜)
L 直線
La 長さ
Lb 長さ
Lc 長さ
Ld 長さ
θ 角度
Wa 幅
Wb 幅
20 Deposition mask 20a One surface 20b The other surface 25 Through hole 26 Groove 26a Wall surface 27 Hole 27a Wall surface 28 Connection portion 30 Hole 34 Metal sheet 34a First surface 34b Second surface 35a Resist (resist pattern)
35a1 Through hole 35a2 Bridge portion 35b Resist (resist pattern)
39 Resin (resin film)
L Straight line La Length Lb Length Lc Length Ld Length θ Angle Wa Width Wb Width

Claims (15)

  1. 第1面および前記第1面とは反対側の第2面を有し、前記第1面と前記第2面との間を延びる貫通孔が形成された金属製シートを備え、
    前記金属製シートの前記第1面側に、直線状に延びる溝が形成され、
    前記金属製シートの前記第2面側に、穴が形成されており、
    前記溝と前記穴とは通じており、前記溝と前記穴とによって前記金属製シートを貫通する貫通孔が形成され、
    前記第1面側から前記第2面側に向け、前記金属製シートのシート面に沿った断面における前記溝の断面積はしだいに小さくなっていき、
    前記第2面側から前記第1面側に向け、前記金属製シートのシート面に沿った断面における前記穴の断面積はしだいに小さくなっていき、
    前記穴は、前記溝の長手方向に沿って間隔を空けて複数設けられ、
    前記溝の前記長手方向に直交する方向に沿った前記溝の前記第1面上における幅は、前記長手方向における前記穴が形成されている部分よりも、前記長手方向における隣り合う二つの穴の間の部分において狭く、
    前記溝は、直線状に並べて前記第1面側に形成された複数の穴によって形成されており、前記複数の穴のうちの前記溝の前記長手方向に沿って隣り合う二つの穴は前記第1面において接続されており、
    前記第2面側に形成された穴は、前記第1面側に形成され前記溝を構成する穴に対面する位置に配置されている
    ことを特徴とする、有機EL表示装置の製造時に有機発光材料を蒸着する際に用いられる蒸着マスク。
    A metal sheet having a first surface and a second surface opposite to the first surface, and having a through hole extending between the first surface and the second surface;
    A groove extending linearly is formed on the first surface side of the metal sheet,
    A hole is formed on the second surface side of the metal sheet,
    The groove and the hole communicate with each other, and a through hole is formed through the metal sheet by the groove and the hole.
    From the first surface side toward the second surface side, the cross-sectional area of the groove in the cross section along the sheet surface of the metal sheet gradually decreases,
    From the second surface side toward the first surface side, the cross-sectional area of the hole in the cross section along the sheet surface of the metal sheet gradually decreases,
    A plurality of the holes are provided at intervals along the longitudinal direction of the groove,
    The width of the groove on the first surface along the direction orthogonal to the longitudinal direction of the groove is such that the two adjacent holes in the longitudinal direction have a width larger than the portion where the hole in the longitudinal direction is formed. Narrow in the middle part,
    The groove is formed by a plurality of holes formed in a straight line on the first surface side, and two holes adjacent to each other along the longitudinal direction of the groove of the plurality of holes are the first holes. Connected on one side,
    The hole formed on the second surface side is disposed at a position facing the hole that is formed on the first surface side and that forms the groove. Deposition mask used when depositing materials.
  2. 前記溝の壁面と前記穴の壁面との接続部によって囲まれる領域は、前記金属製シートのシート面に直交する方向からの視野において、長方形状を有し、
    前記接続部によって囲まれる領域の長手方向は、前記直線状の溝の長手方向に沿って延びている
    ことを特徴とする請求項1に記載の蒸着マスク。
    The region surrounded by the connection portion between the wall surface of the groove and the wall surface of the hole has a rectangular shape in a field of view from a direction orthogonal to the sheet surface of the metal sheet,
    The vapor deposition mask according to claim 1, wherein a longitudinal direction of a region surrounded by the connection portion extends along a longitudinal direction of the linear groove.
  3. 直線状に延びる前記溝が、互いに平行に複数設けられている
    ことを特徴とする請求項1または2に記載の蒸着マスク。
    The vapor deposition mask according to claim 1, wherein a plurality of the grooves extending linearly are provided in parallel to each other.
  4. 互いに平行に延びる複数の溝が等間隔をあけて設けられ、
    各溝の長手方向に沿って複数の穴が等間隔をあけて設けられ、
    前記金属製シートの平面視において、溝の長手方向に沿って隣り合う二つの貫通孔の間の長さは、隣り合う溝にそれぞれ形成された二つの貫通孔の間の長さよりも短い
    ことを特徴とする請求項1乃至3のいずれか一項に記載の蒸着マスク。
    A plurality of grooves extending in parallel to each other are provided at equal intervals,
    A plurality of holes are provided at equal intervals along the longitudinal direction of each groove,
    In plan view of the metal sheet, the length between two through holes adjacent to each other along the longitudinal direction of the groove is shorter than the length between two through holes formed in the adjacent grooves. The vapor deposition mask as described in any one of Claims 1 thru | or 3 characterized by the above-mentioned.
  5. 第1面および前記第1面とは反対側の第2面を有する金属製シートをエッチングして、前記金属製シートの前記第1面側に直線状に延びる溝を形成する工程と、
    前記金属製シートをエッチングして、前記金属製シートの前記第2面側に穴を形成する工程と、を含み、
    前記溝と前記穴とが通じ、前記溝と前記穴とによって前記金属製シートを貫通する貫通孔が形成されるように、前記溝および前記穴が形成され、
    前記穴を形成する工程において、前記溝の長手方向に沿うようにして複数の穴が等間隔をあけて形成され、
    前記溝を形成する工程において、隣り合う二つの穴が前記第1面において接続されるようにして、複数の穴を直線状に並べて前記第1面側から形成することにより、前記溝を形成し、
    前記溝の前記長手方向に直交する方向に沿った前記溝の前記第1面上における幅は、前記長手方向における前記穴が形成されている部分よりも、前記長手方向における隣り合う二つの穴の間の部分において狭く、
    前記第2面側に形成される穴は、前記第1面側に形成され前記溝を構成する穴に対面するようになる位置に形成される
    ことを特徴とする、有機EL表示装置の製造時に有機発光材料を蒸着する際に用いられる蒸着マスクの製造方法。
    Etching a metal sheet having a first surface and a second surface opposite to the first surface to form a linearly extending groove on the first surface side of the metal sheet;
    Etching the metal sheet to form a hole on the second surface side of the metal sheet, and
    The groove and the hole are formed such that the groove and the hole communicate with each other, and the groove and the hole form a through-hole penetrating the metal sheet.
    In the step of forming the hole, a plurality of holes are formed at equal intervals along the longitudinal direction of the groove,
    In the step of forming the groove, the groove is formed by forming a plurality of holes in a straight line from the first surface side so that two adjacent holes are connected on the first surface. ,
    The width of the groove on the first surface along the direction orthogonal to the longitudinal direction of the groove is such that the two adjacent holes in the longitudinal direction have a width larger than the portion where the hole in the longitudinal direction is formed. Narrow in the middle part,
    The hole formed on the second surface side is formed at a position where the hole is formed on the first surface side so as to face the hole constituting the groove, at the time of manufacturing the organic EL display device A method of manufacturing a vapor deposition mask used when vapor-depositing an organic light emitting material.
  6. 互いに平行に延びる複数の溝が等間隔をあけて形成され、
    前記金属製シートの平面視において、溝の長手方向に沿って隣り合う二つの貫通孔の間の長さは、隣り合う溝にそれぞれ形成された二つの貫通孔の間の長さよりも短くなるようになっている
    ことを特徴とする請求項5に記載の蒸着マスクの製造方法。
    A plurality of grooves extending in parallel to each other are formed at equal intervals,
    In a plan view of the metal sheet, the length between two through holes adjacent to each other along the longitudinal direction of the groove is shorter than the length between the two through holes formed in the adjacent grooves. The method for manufacturing a vapor deposition mask according to claim 5, wherein:
  7. 前記溝の壁面と前記穴の壁面との接続部によって囲まれる領域が、前記金属製シートの平面視において、長方形状を有するように、前記溝および前記穴が形成され、
    前記接続部によって囲まれる領域の長手方向は、前記直線状の溝の長手方向に沿って延びるようになっている
    ことを特徴とする請求項5または6に記載の蒸着マスクの製造方法。
    The groove and the hole are formed so that the region surrounded by the connection portion between the wall surface of the groove and the wall surface of the hole has a rectangular shape in plan view of the metal sheet,
    The method of manufacturing a vapor deposition mask according to claim 5 or 6, wherein a longitudinal direction of a region surrounded by the connecting portion extends along a longitudinal direction of the linear groove.
  8. 前記金属製シートをエッチングすることによって前記溝が形成され、
    前記金属製シートをエッチングすることによって前記穴が形成される
    ことを特徴とする請求項5乃至7のいずれか一項に記載の蒸着マスクの製造方法。
    The groove is formed by etching the metal sheet,
    The method for manufacturing a vapor deposition mask according to claim 5, wherein the hole is formed by etching the metal sheet.
  9. 前記金属製シートの前記第1面および前記第2面が同時にエッチングされ、前記穴を形成する工程および前記溝を形成する工程が並行して行われる
    ことを特徴とする請求項8に記載の蒸着マスクの製造方法。
    The vapor deposition according to claim 8, wherein the first surface and the second surface of the metal sheet are etched simultaneously, and the step of forming the hole and the step of forming the groove are performed in parallel. Mask manufacturing method.
  10. 前記金属製シートの前記第1面および前記第2面が同時にエッチングされ前記穴を形成する工程および前記溝を形成する工程が並行して行われ、その後、前記穴を形成する工程および前記溝を形成する工程のいずれか一方のみが引き続き行われる
    ことを特徴とする請求項8に記載の蒸着マスクの製造方法。
    The first surface and the second surface of the metal sheet are simultaneously etched to form the hole and the groove are formed in parallel, and then the step of forming the hole and the groove are performed. The method for manufacturing a vapor deposition mask according to claim 8, wherein only one of the forming steps is continuously performed.
  11. 前記金属製シートをエッチングすることによって前記穴が形成された後に実施される工程であって、形成された前記穴を樹脂で封止する工程をさらに備え、
    前記穴を封止された後に、前記金属製シートを前記第1面側からエッチングすることにより、前記穴まで通じる前記溝が形成される
    ことを特徴とする請求項8に記載の蒸着マスクの製造方法。
    A step performed after the hole is formed by etching the metal sheet, further comprising a step of sealing the formed hole with a resin;
    9. The deposition mask according to claim 8, wherein after the hole is sealed, the groove leading to the hole is formed by etching the metal sheet from the first surface side. Method.
  12. 前記穴を形成する工程において、前記金属製シートの前記第1面および前記第2面が同時にエッチングされ、前記溝の形成が部分的に進む
    ことを特徴とする請求項11に記載の蒸着マスクの製造方法。
    12. The deposition mask according to claim 11, wherein in the step of forming the hole, the first surface and the second surface of the metal sheet are simultaneously etched, and the formation of the groove partially proceeds. Production method.
  13. 前記穴を形成する工程は、前記溝を形成する工程の前に行われる
    ことを特徴とする請求項5乃至8のいずれか一項に記載の蒸着マスクの製造方法。
    The method of manufacturing a vapor deposition mask according to claim 5, wherein the step of forming the hole is performed before the step of forming the groove.
  14. 前記溝を形成する工程は、前記穴を形成する工程の前に行われる
    ことを特徴とする請求項5乃至8のいずれか一項に記載の蒸着マスクの製造方法。
    The method of manufacturing a vapor deposition mask according to claim 5, wherein the step of forming the groove is performed before the step of forming the hole.
  15. 前記溝を形成する工程において、
    前記溝を構成する複数の穴は、複数の貫通穴が間隔を空けて並べて形成されたレジストを前記第1面上に設けられた状態で前記金属製シートの前記第1面をエッチングすることにより、前記レジストの前記貫通穴に対応する位置において前記金属製シートの前記第1面側に形成され、
    前記複数の穴からなる溝を形成するためのエッチングは、前記溝の長手方向に沿って隣り合う二つの穴が、当該二つの穴にそれぞれ対応する前記レジストの二つの貫通穴の間に位置するレジストのブリッジ部の下方において接続されるように、行われる
    ことを特徴とする請求項5乃至14のいずれか一項に記載の蒸着マスクの製造方法。
    In the step of forming the groove,
    The plurality of holes constituting the groove are formed by etching the first surface of the metal sheet in a state where a resist formed by arranging a plurality of through holes at intervals is provided on the first surface. , Formed on the first surface side of the metal sheet at a position corresponding to the through hole of the resist,
    In the etching for forming the groove including the plurality of holes, two holes adjacent along the longitudinal direction of the groove are positioned between two through holes of the resist corresponding to the two holes, respectively. The method for manufacturing a vapor deposition mask according to claim 5, wherein the vapor deposition mask is connected so as to be connected below a bridge portion of the resist.
JP2008081349A 2007-08-24 2008-03-26 Vapor deposition mask and method of manufacturing vapor deposition mask Active JP5262226B2 (en)

Priority Applications (3)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP2007218590 2007-08-24
JP2007218590 2007-08-24
JP2008081349A JP5262226B2 (en) 2007-08-24 2008-03-26 Vapor deposition mask and method of manufacturing vapor deposition mask

Applications Claiming Priority (5)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP2008081349A JP5262226B2 (en) 2007-08-24 2008-03-26 Vapor deposition mask and method of manufacturing vapor deposition mask
TW097131003A TWI401324B (en) 2007-08-24 2008-08-14 Production method of vapor deposition mask and vapor deposition mask
KR1020080082254A KR101411216B1 (en) 2007-08-24 2008-08-22 Vapor deposition mask and manufacturing method of vapor deposition mask
KR1020140029607A KR20140051875A (en) 2007-08-24 2014-03-13 Vapor deposition mask and manufacturing method of vapor deposition mask
KR1020150061600A KR20150056754A (en) 2007-08-24 2015-04-30 Vapor deposition mask and manufacturing method of vapor deposition mask

Publications (2)

Publication Number Publication Date
JP2009074160A JP2009074160A (en) 2009-04-09
JP5262226B2 true JP5262226B2 (en) 2013-08-14

Family

ID=40609415

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
JP2008081349A Active JP5262226B2 (en) 2007-08-24 2008-03-26 Vapor deposition mask and method of manufacturing vapor deposition mask

Country Status (3)

Country Link
JP (1) JP5262226B2 (en)
KR (3) KR101411216B1 (en)
TW (1) TWI401324B (en)

Families Citing this family (37)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
TWI394844B (en) * 2009-04-01 2013-05-01
KR101156432B1 (en) 2009-12-15 2012-06-18 삼성모바일디스플레이주식회사 Mask frame assembly for thin layer deposition and organic light emitting display device
JP2011146281A (en) * 2010-01-15 2011-07-28 Toppan Printing Co Ltd Metal member having striped openings, and metal mask using the same
KR101232181B1 (en) * 2010-02-03 2013-02-12 엘지디스플레이 주식회사 Mask Assembly
KR101182239B1 (en) 2010-03-17 2012-09-12 삼성디스플레이 주식회사 Mask and mask assembly having the same
JP2012104300A (en) * 2010-11-09 2012-05-31 Hitachi Displays Ltd Organic electroluminescent panel and manufacturing method thereof
KR101854796B1 (en) * 2011-09-15 2018-05-09 삼성디스플레이 주식회사 Method of manufacturing mask
JP5288074B2 (en) * 2012-01-12 2013-09-11 大日本印刷株式会社 Method for manufacturing multi-sided deposition mask, multi-sided deposition mask obtained thereby, and method for producing organic semiconductor element
JP5935629B2 (en) * 2012-04-23 2016-06-15 大日本印刷株式会社 Manufacturing method of vapor deposition mask
KR101951029B1 (en) * 2012-06-13 2019-04-26 삼성디스플레이 주식회사 Mask for deposition and method for manufacturing organic light emitting diode display using the same
JP5614665B2 (en) * 2013-01-08 2014-10-29 大日本印刷株式会社 Vapor deposition mask manufacturing method and vapor deposition mask
JP5382257B1 (en) * 2013-01-10 2014-01-08 大日本印刷株式会社 Metal plate, method for producing metal plate, and method for producing vapor deposition mask using metal plate
JP5382259B1 (en) * 2013-01-10 2014-01-08 大日本印刷株式会社 Metal plate, method for producing metal plate, and method for producing vapor deposition mask using metal plate
JP6142196B2 (en) 2013-03-15 2017-06-07 株式会社ブイ・テクノロジー Manufacturing method of vapor deposition mask
JP6229344B2 (en) * 2013-07-22 2017-11-15 大日本印刷株式会社 Metal mask manufacturing method
JP5455099B1 (en) 2013-09-13 2014-03-26 大日本印刷株式会社 Metal plate, metal plate manufacturing method, and mask manufacturing method using metal plate
JP6221585B2 (en) * 2013-09-30 2017-11-01 大日本印刷株式会社 Vapor deposition mask and method of manufacturing vapor deposition mask
JP5780350B2 (en) 2013-11-14 2015-09-16 大日本印刷株式会社 Vapor deposition mask, vapor deposition mask with frame, and method of manufacturing organic semiconductor element
JP6409701B2 (en) * 2013-11-14 2018-10-24 大日本印刷株式会社 Vapor deposition mask, vapor deposition mask with frame, and method of manufacturing organic semiconductor element
JP6357777B2 (en) * 2014-01-08 2018-07-18 大日本印刷株式会社 Method for manufacturing laminated mask
JP2015129334A (en) * 2014-01-08 2015-07-16 大日本印刷株式会社 Method of manufacturing laminate mask, laminate mask, and laminate mask with protective film
JP6468480B2 (en) * 2014-01-31 2019-02-13 大日本印刷株式会社 Vapor deposition mask manufacturing method and vapor deposition mask
JP5641462B1 (en) 2014-05-13 2014-12-17 大日本印刷株式会社 Metal plate, metal plate manufacturing method, and mask manufacturing method using metal plate
JP6515520B2 (en) * 2014-12-15 2019-05-22 大日本印刷株式会社 Method of manufacturing vapor deposition mask, metal plate used for producing vapor deposition mask, and vapor deposition mask
KR102257236B1 (en) * 2014-12-30 2021-05-28 엘지이노텍 주식회사 Mask for oled
CN106460150B (en) 2015-02-10 2020-01-10 大日本印刷株式会社 Method for manufacturing vapor deposition mask, metal plate for manufacturing vapor deposition mask, and method for manufacturing metal plate
CN106033802B (en) * 2015-03-17 2018-06-29 上海和辉光电有限公司 A kind of evaporation mask plate and preparation method thereof
KR101724996B1 (en) * 2016-03-07 2017-04-10 엘지이노텍 주식회사 Metal substrate and Mask using the same
KR20170112673A (en) * 2016-04-01 2017-10-12 엘지이노텍 주식회사 Metal mask for deposition, and oled pannel using the same
TWI661062B (en) * 2016-04-15 2019-06-01 日商凸版印刷股份有限公司 Metal mask for vapor deposition
CN109844974A (en) 2016-09-13 2019-06-04 Lg伊诺特有限公司 Deposition mas metal plate and deposition mas and its manufacturing method
KR20190023652A (en) * 2017-08-29 2019-03-08 엘지이노텍 주식회사 A deposition mask of metal plate material for oled pixel deposition and method for manufacturing of the same
WO2019050198A2 (en) * 2017-09-07 2019-03-14 엘지이노텍 주식회사 Metallic material deposition mask for oled pixel deposition, and method for producing same
JPWO2019074104A1 (en) * 2017-10-13 2020-09-24 凸版印刷株式会社 Deposition mask, method of manufacturing vapor deposition mask, and method of manufacturing display device
CN108193168B (en) * 2018-01-19 2019-11-29 昆山国显光电有限公司 Mask plate and preparation method thereof
CN109207920B (en) * 2018-11-12 2021-02-09 京东方科技集团股份有限公司 Mask plate
KR102235244B1 (en) * 2020-07-20 2021-04-02 (주)제이에스엠티 Open mask sheet for thin film deposition and method for manufacturing thereof

Family Cites Families (9)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPH02440Y2 (en) * 1984-06-09 1990-01-08
JP2004183044A (en) * 2002-12-03 2004-07-02 Seiko Epson Corp Mask vapor deposition method and apparatus, mask and mask manufacturing method, display panel manufacturing apparatus, display panel and electronic equipment
JP2004218034A (en) * 2003-01-17 2004-08-05 Toppan Printing Co Ltd Method of producing metal mask, and metal mask
KR100525819B1 (en) * 2003-05-06 2005-11-03 엘지전자 주식회사 Shadow mask for manufacturing organic electroluminiscent display panel
JP3915734B2 (en) * 2003-05-12 2007-05-16 ソニー株式会社 Vapor deposition mask, display device manufacturing method using the same, and display device
KR100905060B1 (en) * 2003-10-07 2009-06-30 에스케이씨 주식회사 Mask for organic electro luminescence device
JP2005183153A (en) * 2003-12-18 2005-07-07 Dainippon Screen Mfg Co Ltd Manufacturing method of mask for vapor deposition
US20060081184A1 (en) * 2004-10-19 2006-04-20 Yeh Te L Evaporation mask with high precision deposition pattern
JP2007056345A (en) * 2005-08-26 2007-03-08 Kansai Paint Co Ltd Electrode pattern forming method, and photoelectric cell module

Also Published As

Publication number Publication date
TW200923110A (en) 2009-06-01
KR20150056754A (en) 2015-05-27
KR20140051875A (en) 2014-05-02
KR20090021094A (en) 2009-02-27
TWI401324B (en) 2013-07-11
KR101411216B1 (en) 2014-06-23
JP2009074160A (en) 2009-04-09

Similar Documents

Publication Publication Date Title
JP5262226B2 (en) Vapor deposition mask and method of manufacturing vapor deposition mask
JP6086305B2 (en) Vapor deposition mask manufacturing method and vapor deposition mask
CN103695842B (en) A kind of mask plate and preparation method thereof
JP4985227B2 (en) Vapor deposition mask, vapor deposition mask device, vapor deposition mask manufacturing method, vapor deposition mask device production method, and vapor deposition mask sheet-like member production method
JP4046269B2 (en) Vapor deposition mask for organic EL element and method for producing vapor deposition mask for organic EL element
US9583708B2 (en) Mask for deposition, mask assembly including the same and method of forming the mask assembly
US20190378984A1 (en) Deposition mask device and method of manufacturing deposition mask device
JP6498392B2 (en) Vapor deposition mask manufacturing method and vapor deposition mask
JP2009052073A (en) Sheet provided with vapor deposition mask, method for manufacturing device provided with vapor deposition mask, and method for manufacturing sheet provided with vapor deposition mask
JP6051876B2 (en) Metal mask and metal mask manufacturing method
JP2004218034A (en) Method of producing metal mask, and metal mask
JP6256000B2 (en) Method for manufacturing vapor deposition mask device
JP6631897B2 (en) Manufacturing method of evaporation mask and evaporation mask
JP6357777B2 (en) Method for manufacturing laminated mask
JP6548085B2 (en) Method of manufacturing vapor deposition mask
JP6221585B2 (en) Vapor deposition mask and method of manufacturing vapor deposition mask
KR20150017191A (en) Method for manufacturing metal mask
JP6155650B2 (en) Manufacturing method of vapor deposition mask
JP6347112B2 (en) Vapor deposition mask, vapor deposition mask preparation, vapor deposition mask manufacturing method, pattern manufacturing method, framed vapor deposition mask, and organic semiconductor element manufacturing method
US20200273735A1 (en) Vapor deposition mask and method for manufacturing same, vapor deposition mask device and method for manufacturing same, intermediate, vapor deposition method, and method for manufacturing organic el display device
JP2015148002A (en) Vapor deposition mask, vapor deposition mask preparation body, and manufacturing method for organic semiconductor device
JP2003323980A (en) Vapor deposition mask for organic el element and its manufacturing method
JP2019081962A (en) Vapor deposition mask
JP6497596B2 (en) Intermediate of vapor deposition mask device
CN107797376A (en) A kind of mask plate and preparation method thereof

Legal Events

Date Code Title Description
A621 Written request for application examination

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A621

Effective date: 20110117

A977 Report on retrieval

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A971007

Effective date: 20120416

A131 Notification of reasons for refusal

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131

Effective date: 20120508

A521 Written amendment

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523

Effective date: 20120702

A131 Notification of reasons for refusal

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131

Effective date: 20130125

A521 Written amendment

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523

Effective date: 20130131

TRDD Decision of grant or rejection written
A01 Written decision to grant a patent or to grant a registration (utility model)

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A01

Effective date: 20130402

A61 First payment of annual fees (during grant procedure)

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A61

Effective date: 20130415

R150 Certificate of patent or registration of utility model

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R150

Ref document number: 5262226

Country of ref document: JP

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R150