JP5207807B2 - Chip component type LED - Google Patents

Chip component type LED Download PDF

Info

Publication number
JP5207807B2
JP5207807B2 JP2008104897A JP2008104897A JP5207807B2 JP 5207807 B2 JP5207807 B2 JP 5207807B2 JP 2008104897 A JP2008104897 A JP 2008104897A JP 2008104897 A JP2008104897 A JP 2008104897A JP 5207807 B2 JP5207807 B2 JP 5207807B2
Authority
JP
Japan
Prior art keywords
chip
type led
component type
hole
chip component
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Expired - Fee Related
Application number
JP2008104897A
Other languages
Japanese (ja)
Other versions
JP2009259913A (en
Inventor
俊雄 幡
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Sharp Corp
Original Assignee
Sharp Corp
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by Sharp Corp filed Critical Sharp Corp
Priority to JP2008104897A priority Critical patent/JP5207807B2/en
Publication of JP2009259913A publication Critical patent/JP2009259913A/en
Application granted granted Critical
Publication of JP5207807B2 publication Critical patent/JP5207807B2/en
Expired - Fee Related legal-status Critical Current
Anticipated expiration legal-status Critical

Links

Images

Classifications

    • HELECTRICITY
    • H01ELECTRIC ELEMENTS
    • H01LSEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
    • H01L2224/00Indexing scheme for arrangements for connecting or disconnecting semiconductor or solid-state bodies and methods related thereto as covered by H01L24/00
    • H01L2224/01Means for bonding being attached to, or being formed on, the surface to be connected, e.g. chip-to-package, die-attach, "first-level" interconnects; Manufacturing methods related thereto
    • H01L2224/42Wire connectors; Manufacturing methods related thereto
    • H01L2224/47Structure, shape, material or disposition of the wire connectors after the connecting process
    • H01L2224/48Structure, shape, material or disposition of the wire connectors after the connecting process of an individual wire connector
    • H01L2224/4805Shape
    • H01L2224/4809Loop shape
    • H01L2224/48091Arched
    • HELECTRICITY
    • H01ELECTRIC ELEMENTS
    • H01LSEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
    • H01L2224/00Indexing scheme for arrangements for connecting or disconnecting semiconductor or solid-state bodies and methods related thereto as covered by H01L24/00
    • H01L2224/80Methods for connecting semiconductor or other solid state bodies using means for bonding being attached to, or being formed on, the surface to be connected
    • H01L2224/85Methods for connecting semiconductor or other solid state bodies using means for bonding being attached to, or being formed on, the surface to be connected using a wire connector
    • H01L2224/85909Post-treatment of the connector or wire bonding area
    • H01L2224/8592Applying permanent coating, e.g. protective coating
    • HELECTRICITY
    • H01ELECTRIC ELEMENTS
    • H01LSEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
    • H01L2924/00Indexing scheme for arrangements or methods for connecting or disconnecting semiconductor or solid-state bodies as covered by H01L24/00
    • H01L2924/15Details of package parts other than the semiconductor or other solid state devices to be connected
    • H01L2924/181Encapsulation

Landscapes

  • Led Device Packages (AREA)

Description

本発明は、表面実装用のチップ部品型LED(Light Emitting Diode)に関し、特に、各種表示パネル、液晶表示装置のバックライト、照光スイッチ等の光源として利用されるチップ部品型LEDに関するものである。   The present invention relates to a chip component type LED (Light Emitting Diode) for surface mounting, and more particularly to a chip component type LED used as a light source for various display panels, backlights of liquid crystal display devices, illumination switches, and the like.

各種表示パネル、液晶表示装置のバックライト、照光スイッチ等の光源として、従来からチップ部品型LEDが利用されている。   Conventionally, chip component type LEDs have been used as light sources for various display panels, backlights of liquid crystal display devices, illumination switches, and the like.

図10は、従来のチップ部品型LEDの一例を示す説明図である。   FIG. 10 is an explanatory view showing an example of a conventional chip component type LED.

従来のチップ部品型LEDは、絶縁基板81,82を2層構造としてもので、上層の絶縁基板82に貫通穴83を形成し、この貫通穴83内の底部(即ち、下層の絶縁基板81の上面)まで延設して一方の配線パターン84を形成し、貫通穴83内の前記配線パターン84上にLEDチップ85を実装し、このLEDチップ85と金属細線87とを含む絶縁基板82の表面を透明樹脂88で封止した構造となっている。   The conventional chip component type LED has insulating substrates 81 and 82 having a two-layer structure. A through hole 83 is formed in the upper insulating substrate 82, and the bottom of the through hole 83 (that is, the lower insulating substrate 81). One wiring pattern 84 is formed extending to the upper surface), an LED chip 85 is mounted on the wiring pattern 84 in the through hole 83, and the surface of the insulating substrate 82 including the LED chip 85 and the fine metal wire 87. Is sealed with a transparent resin 88.

しかしながら、図10に示す従来のチップ部品型LEDによれば、2枚の絶縁基板81,82を必要とし、かつ、LEDチップ85を下層の絶縁基板82上に実装することから、絶縁基板82は実装可能な最低限度の厚さが必要であるため、薄型化が困難であるとともに、コスト的にも高くなるといった問題があった。   However, according to the conventional chip component type LED shown in FIG. 10, two insulating substrates 81 and 82 are required, and the LED chip 85 is mounted on the lower insulating substrate 82. Since the minimum thickness that can be mounted is required, there is a problem that it is difficult to reduce the thickness and the cost is increased.

このような問題を解決するものとして、特開平07−235696号公報に開示されているチップ部品型LEDがある。   As a solution to such a problem, there is a chip component type LED disclosed in Japanese Patent Application Laid-Open No. 07-235696.

図11は、従来のチップ部品型LEDの他の例を示す説明図である。   FIG. 11 is an explanatory view showing another example of a conventional chip component type LED.

この特開平07−235696号公報に開示されているチップ部品型LEDでは、図11に示すように、図10に示す下層の絶縁基板81の代わりに薄い銅板89を絶縁基板82の裏面に貼り合わせることにより、チップ部品型LEDの薄型化を実現している。
特開平07−235696号公報
In the chip component type LED disclosed in Japanese Patent Application Laid-Open No. 07-235696, a thin copper plate 89 is bonded to the back surface of the insulating substrate 82 instead of the lower insulating substrate 81 shown in FIG. As a result, the chip component type LED is made thinner.
Japanese Patent Application Laid-Open No. 07-235696

しかしながら、近年、薄型のLEDチップの高さをさらに薄くすることでチップ部品型LEDの薄型化を実現する技術が必要とされている。しかし、特開平07−235696号公報に開示されているチップ部品型LEDのように絶縁基板の代わりに銅板等を用いることでチップ部品型LEDの薄型化を実現する技術は確立されているが、LEDチップ自体を薄くすることは大変困難なことである。   However, in recent years, there is a need for a technique for realizing a thinner chip component type LED by further reducing the height of a thin LED chip. However, a technology has been established to reduce the thickness of the chip component type LED by using a copper plate or the like instead of the insulating substrate like the chip component type LED disclosed in Japanese Patent Application Laid-Open No. 07-235696. It is very difficult to make the LED chip itself thin.

具体的には、紫外、青、緑及びオレンジ色の光を出力するLEDチップは、窒化物系半導体を用いて形成されており、この窒化物系半導体を用いたLEDチップは結晶が硬いため薄いLEDチップを作成することが困難である。また、緑〜赤外色の光を出力するLEDチップは、InGaAlP系半導体またはGaAs系半導体を用いて形成することが主流であり、このInGaAlP系半導体またはGaAs系半導体を用いて形成されたLEDチップは、結晶が柔らかいため薄いLEDチップを作成することは容易であるが、LEDチップのハンドリング等を考えるとLEDチップの薄型化には限界がある。これらの理由により、前記絶縁基板等からなら基板よりもLEDチップの高さの方が大きくなってしまい、基板に形成された凹部の開口部から上方にLEDチップの上部が突出してしまう。そして、前記基板に形成された凹部に搭載したLEDチップを透明樹脂で封止したときに、LEDチップの突出した部位付近からチップ割れ及びヒビが発生してしまうといった問題が生じていた。   Specifically, an LED chip that outputs ultraviolet, blue, green, and orange light is formed using a nitride semiconductor, and the LED chip using the nitride semiconductor is thin because the crystal is hard. It is difficult to make an LED chip. In addition, LED chips that output green to infrared light are mainly formed using InGaAlP semiconductors or GaAs semiconductors, and LED chips formed using these InGaAlP semiconductors or GaAs semiconductors. Although it is easy to produce a thin LED chip because the crystal is soft, there is a limit to making the LED chip thinner in consideration of handling of the LED chip and the like. For these reasons, the LED chip is higher than the substrate from the insulating substrate or the like, and the upper part of the LED chip protrudes upward from the opening of the recess formed in the substrate. And when the LED chip mounted in the recessed part formed in the said board | substrate is sealed with transparent resin, the problem that a chip | tip crack and a crack generate | occur | produce from the site | part vicinity which the LED chip protruded has arisen.

なお、前述の特開平07−235696号公報に開示されているチップ部品型LEDにおいては、上層の絶縁基板82の垂直断面方向の厚さよりも高いLEDチップを搭載する場合の実施形態については全く記載されていない。   In the above-mentioned chip component type LED disclosed in Japanese Patent Application Laid-Open No. 07-235696, an embodiment in which an LED chip higher than the thickness of the upper insulating substrate 82 in the vertical sectional direction is mounted is completely described. It has not been.

本発明はかかる問題点を解決すべく創案されたもので、その目的は、基板に形成された貫通孔にLEDチップが搭載されてなるチップ部品型LEDにおいて、LEDチップの割れ及びヒビの発生を防止することができるチップ部品型LEDを提供することにある。   The present invention was devised to solve such problems, and its purpose is to prevent cracking and cracking of the LED chip in the chip component type LED in which the LED chip is mounted in the through hole formed in the substrate. An object of the present invention is to provide a chip component type LED that can be prevented.

上記課題を解決するため、本発明のチップ部品型LEDは、図1に示すように、LEDチップ搭載用の第1凹穴3aと金属細線接続用の第2凹穴3bとが形成された絶縁基板1の前記第1凹穴3aを含む部分に第1配線パターンとなる金属薄板2aが形成され、前記第2凹穴3bを含む部分に第2配線パターンとなる金属薄板2bが形成され、前記第1凹穴3a内の金属薄板2a上にLEDチップ5が実装され、このLEDチップ5が金属細線6を介して前記第2凹穴3b内の金属薄板2bに電気的に接続され、前記第1凹穴3aを含むLEDチップ5と前記金属細線6の一部分とがシリコーン樹脂微粒子71aを含有する第1透明樹脂を用いて形成された第1封止樹脂部71にて封止され、前記第1封止樹脂部71を含む前記絶縁基板1の表面が第2透明樹脂を用いて形成された第2封止樹脂部72にて封止され、前記第1封止樹脂部71と第2封止樹脂部72とは異なる材料により形成されているといったものである。また、前記シリコーン樹脂微粒子の代わりに、光拡散剤またはシランカップリング剤をもちいてもよい。さらに、前記第1封止樹脂部が前記第1凹穴を含むLEDチップと前記第2凹穴を含む金属細線の全体とを封止していてもよい。またさらに、前記LEDチップとしては、前記絶縁基板の垂直断面方向の寸法(厚さ)よりも垂直断面方向の寸法(高さ)が大きいものが用いられる。   In order to solve the above-described problems, the chip component type LED of the present invention has an insulating structure in which a first concave hole 3a for mounting an LED chip and a second concave hole 3b for connecting a thin metal wire are formed as shown in FIG. A thin metal plate 2a serving as a first wiring pattern is formed in a portion including the first concave hole 3a of the substrate 1, and a thin metal plate 2b serving as a second wiring pattern is formed in a portion including the second concave hole 3b. The LED chip 5 is mounted on the metal thin plate 2a in the first concave hole 3a, and the LED chip 5 is electrically connected to the metal thin plate 2b in the second concave hole 3b via the metal thin wire 6, and the first The LED chip 5 including one concave hole 3a and a part of the fine metal wire 6 are sealed with a first sealing resin portion 71 formed using a first transparent resin containing silicone resin fine particles 71a, and the first 1 of the insulating substrate 1 including the sealing resin portion 71 The surface is sealed with a second sealing resin portion 72 formed using a second transparent resin, and the first sealing resin portion 71 and the second sealing resin portion 72 are formed of different materials. It is something like that. Further, a light diffusing agent or a silane coupling agent may be used instead of the silicone resin fine particles. Further, the first sealing resin portion may seal the LED chip including the first concave hole and the entire metal fine line including the second concave hole. Furthermore, as the LED chip, one having a dimension (height) in the vertical cross-sectional direction larger than a dimension (thickness) in the vertical cross-sectional direction of the insulating substrate is used.

これにより、LEDチップ5を覆う樹脂を形成する際に、シリコーン樹脂微粒子、光拡散剤またはシランカップリング剤を含有した液状シリコーン系樹脂を用いるので、シリコーン樹脂微粒子、光拡散剤またはシランカップリング剤の含有量分だけ実質的に液状シリコーン系樹脂の量が減ることになる。このことから、絶縁基板の垂直断面方向の寸法(厚さ)よりも垂直断面方向の寸法(高さ)が大きいLEDチップ5を使用した場合においても、LEDチップの割れ、ヒビが入るという不良を低減できる。   Thereby, when forming resin which covers LED chip 5, since liquid silicone resin containing silicone resin particulates, a light diffusing agent, or a silane coupling agent is used, silicone resin particulates, a light diffusing agent, or a silane coupling agent Therefore, the amount of the liquid silicone resin is substantially reduced by the content of. Therefore, even when the LED chip 5 having a dimension (height) in the vertical cross-sectional direction larger than the dimension (thickness) in the vertical cross-sectional direction of the insulating substrate is used, there is a defect that the LED chip is cracked or cracked. Can be reduced.

また、本発明に係るチップ部品型LEDは、前記絶縁基板の前記第1凹穴と第2凹穴とを仕切る仕切壁部に、前記第1凹穴と第2凹穴とを跨るようにして凹溝部が形成されており、この凹溝部の底面に前記金属細線の略中央部がワイヤボンディングされていることを特徴とする。Further, the chip component-type LED according to the present invention is configured so that the first and second recessed holes are straddled on the partition wall portion that partitions the first and second recessed holes of the insulating substrate. A concave groove is formed, and a substantially central portion of the fine metal wire is wire-bonded to the bottom surface of the concave groove.

この構成によると、金属細線のLEDチップに接続されている部位とその近傍を除く部分をより低い位置に配置することができるので、ワイヤーループ(金属細線)の高さを低くできる利点がある。その結果、より薄型化されたチップ部品型LEDを得ることができる。According to this configuration, the portion connected to the LED chip of the metal thin wire and the portion excluding the vicinity thereof can be arranged at a lower position, so there is an advantage that the height of the wire loop (metal thin wire) can be reduced. As a result, it is possible to obtain a chip component type LED that is thinner.

また、前記第1透明樹脂が硬化後の硬度が柔らかい液状シリコーン系樹脂であり、前記第2透明樹脂が硬化後の硬度が硬い液状エポキシ系樹脂であることが好ましい。   The first transparent resin is preferably a liquid silicone resin having a soft hardness after curing, and the second transparent resin is preferably a liquid epoxy resin having a hard hardness after curing.

また、前記光拡散剤は、例えば、炭酸カルシウム、シリカ、シリコーン、硫化亜鉛、酸化亜鉛、酸化チタン、リン酸チタン、チタン酸マグネシウム、マイカ、ガラスフィラー、硫酸バリウム、クレー(粘土)、タルク、変成シリコーン樹脂を用いて形成されたゴム状弾性体、またはポリメチルシルセスオキサンの無機系拡散剤、もしくはアクリル系、スチレン系、ポリエステル系、ポリオレフィン系、ウレタン系、ナイロン系、メタクリレート−スチレン系、有機フッ素系またはノルボルネン系の有機系拡散剤であることが好ましい。   The light diffusing agent is, for example, calcium carbonate, silica, silicone, zinc sulfide, zinc oxide, titanium oxide, titanium phosphate, magnesium titanate, mica, glass filler, barium sulfate, clay (clay), talc, or modified. Rubber-like elastic body formed using silicone resin, or inorganic diffusing agent of polymethylsilsesoxane, or acrylic, styrene, polyester, polyolefin, urethane, nylon, methacrylate-styrene, An organic fluorine-based or norbornene-based organic diffusing agent is preferable.

また、前記第1凹穴の底面と前記第2凹穴の底面とが同じ高さまたは略同じ高さであることが好ましい。   Moreover, it is preferable that the bottom face of the first recessed hole and the bottom face of the second recessed hole have the same height or substantially the same height.

また、前記第2凹穴が複数個(例えば、図4に示すように、金属細線接続用の第2凹穴3b及び第3凹穴3cが)形成されていてもよい。   A plurality of the second concave holes may be formed (for example, as shown in FIG. 4, the second concave hole 3b and the third concave hole 3c for connecting the fine metal wires).

この場合には、表面2電極用素子をLEDチップとして搭載することができる。特に、LEDチップを構成する基板が絶縁体である場合に好ましい。   In this case, the surface two-electrode element can be mounted as an LED chip. It is particularly preferable when the substrate constituting the LED chip is an insulator.

また、前記第1凹穴及び第2凹穴の内周面が、前記絶縁基板の裏面側から表面側に向かって漸次拡開する傾斜面に形成されていることが好ましい。   Moreover, it is preferable that the inner peripheral surface of the said 1st recessed hole and the 2nd recessed hole is formed in the inclined surface which expands gradually toward the surface side from the back surface side of the said insulated substrate.

本発明は上記のように構成したので、基板に形成された貫通孔にLEDチップが搭載されてなるチップ部品型LEDにおいて、LEDチップの割れ及びヒビの発生を防止することができる。   Since this invention was comprised as mentioned above, in the chip component type LED by which an LED chip is mounted in the through-hole formed in the board | substrate, generation | occurrence | production of a crack and a crack of an LED chip can be prevented.

以下、本発明のチップ部品型LEDの実施形態について説明する。   Hereinafter, embodiments of the chip component type LED of the present invention will be described.

なお、本明細書においては、硬化後に「シリコーン系樹脂」と呼ばれる樹脂について、硬化前は「液状シリコーン系樹脂」と呼ぶものとする。また、本発明において、LEDチップの垂直断面方向の寸法(高さ)は、絶縁基板の垂直断面方向の寸法(厚さ)よりも大きいものとする。   In this specification, a resin called “silicone resin” after curing is referred to as “liquid silicone resin” before curing. In the present invention, the dimension (height) of the LED chip in the vertical sectional direction is larger than the dimension (thickness) of the insulating substrate in the vertical sectional direction.

基本形態1
まず初めに、本発明のチップ部品型LEDの基本形態1について図面を参照しつつ説明する。
< Basic form 1 >
First, basic form 1 of the chip component type LED of the present invention will be described with reference to the drawings.

図1は、本発明のチップ部品型LEDの基本形態1を示す断面図である。 FIG. 1 is a cross-sectional view showing a basic form 1 of a chip component type LED of the present invention.

このチップ部品型LED10は、LEDチップ搭載用の第1凹穴(貫通穴)3aと、金属細線接続用の第2凹穴(貫通穴)3bとが形成された絶縁基板1の裏面側に、それぞれの凹穴に対応した配線パターンとなる金属(Cu)薄膜2a,2bが電気的に分離された状態で形成されている。また、絶縁基板1の表面側には、第1凹穴3aを含む部分に第1配線パターンとなる金属薄膜4aが形成され、第2凹穴3bを含む部分に第2配線パターンとなる金属薄膜4bが形成されている。そして、このような配線構造において、第1凹穴3aの底面部分の金属薄膜4a上にLEDチップ5が実装され、このLEDチップ5が金属細線6を介して第2凹穴3bの底面部分の金属薄膜4bに電気的に接続され、この状態において、LEDチップ5及び金属細線6を含む絶縁基板1の表面全体が封止樹脂部7により封止された構造となっている。   This chip component type LED 10 is formed on the back side of the insulating substrate 1 in which the first concave hole (through hole) 3a for mounting the LED chip and the second concave hole (through hole) 3b for connecting the metal thin wire are formed. Metal (Cu) thin films 2a and 2b which are wiring patterns corresponding to the respective recessed holes are formed in an electrically separated state. Further, on the surface side of the insulating substrate 1, a metal thin film 4a serving as a first wiring pattern is formed in a portion including the first concave hole 3a, and a metal thin film serving as a second wiring pattern in a portion including the second concave hole 3b. 4b is formed. In such a wiring structure, the LED chip 5 is mounted on the metal thin film 4a on the bottom surface portion of the first recessed hole 3a, and the LED chip 5 is formed on the bottom surface portion of the second recessed hole 3b via the metal thin wire 6. In this state, the entire surface of the insulating substrate 1 including the LED chip 5 and the thin metal wire 6 is sealed with the sealing resin portion 7.

このチップ部品型LEDは、LEDチップ5を金属薄膜4a,2a上に直接実装することによって、従来の下層の基板(絶縁基板または銅板)を省略するとともに金属細線6の高さも従来より低くして薄型化を実現している。   In this chip component type LED, by directly mounting the LED chip 5 on the metal thin films 4a and 2a, the conventional lower substrate (insulating substrate or copper plate) is omitted and the height of the metal thin wire 6 is made lower than before. Thinner.

ここで、基本形態1では、この封止樹脂部7は、第1凹穴3aを含むLEDチップ5及び金属細線6の一部分を封止する第1封止樹脂部71と、この第1封止樹脂部71を含む絶縁基板1の表面全体を封止する第2封止樹脂部72とで構成されている。後の製造方法で詳細を説明するが、第1封止樹脂部71は、シリコーン樹脂微粒子71aを含有する液状の第1透明樹脂を用いてポッティングで形成される。また、第2封止樹脂部72は第2透明樹脂のみを用いてトランスファー成形にて形成される。このような構成及び製造方法とする理由は、トランスファー成形で欠点となるシリコーン樹脂微粒子71aのばらつきを回避するため、シリコーン樹脂微粒子71aを含有する第1封止樹脂部71をポッティングで形成し、外面形状が光の取り出しに影響を与えるため、外形形状を安定して形成できるトランスファー成形で第2封止樹脂部72を形成することによって、外形形状が不安定な材料で形成される第1封止樹脂部71を第2封止樹脂部72で封止するためである。 Here, in the basic form 1 , the sealing resin portion 7 includes the first sealing resin portion 71 that seals a part of the LED chip 5 and the metal thin wire 6 including the first recessed hole 3a, and the first sealing. The second sealing resin portion 72 seals the entire surface of the insulating substrate 1 including the resin portion 71. Although details will be described in a later manufacturing method, the first sealing resin portion 71 is formed by potting using a liquid first transparent resin containing the silicone resin fine particles 71a. Further, the second sealing resin portion 72 is formed by transfer molding using only the second transparent resin. The reason for such a configuration and manufacturing method is that the first sealing resin portion 71 containing the silicone resin fine particles 71a is formed by potting in order to avoid variations in the silicone resin fine particles 71a, which is a defect in transfer molding, and the outer surface Since the shape affects the light extraction, the second sealing resin portion 72 is formed by transfer molding capable of stably forming the outer shape, so that the first sealing formed of a material whose outer shape is unstable. This is because the resin portion 71 is sealed with the second sealing resin portion 72.

本形態では、第1透明樹脂は例えばシリコーン系樹脂であり、第2透明樹脂は例えばエポキシ系樹脂である。また、絶縁基板1は、ガラスエポキシ樹脂により形成されており、その厚さは約70μmとなっている。また、裏面側に形成された金属(Cu)薄膜2a,2bは、約20μmの厚さに形成されている。さらに、本形態では、LEDチップ搭載用の第1凹穴3aの内径をφ470μm、金属細線接続用の第2凹穴3bの内径をφ180μmとした。 In this embodiment , the first transparent resin is, for example, a silicone resin, and the second transparent resin is, for example, an epoxy resin. The insulating substrate 1 is made of glass epoxy resin and has a thickness of about 70 μm. Further, the metal (Cu) thin films 2a and 2b formed on the back surface side are formed to a thickness of about 20 μm. Furthermore, in this embodiment , the inner diameter of the first concave hole 3a for mounting the LED chip is φ470 μm, and the inner diameter of the second concave hole 3b for connecting the metal thin wire is φ180 μm.

このように、本形態によれば、第1封止樹脂部71を形成する際に、シリコーン樹脂微粒子71aを含有する液状シリコーン系樹脂を用いているため、前記液状シリコーン系樹脂が硬化する過程での応力を低減することができる。例えばLEDチップ5表面を覆う樹脂を液状シリコーン系樹脂のみで形成するとLEDチップ5にかかる硬化時の応力が大きくなってしまうが、LEDチップ5を覆う樹脂を液状シリコーン系樹脂と固形状のシリコーン樹脂微粒子71aとで形成することにより、固形状のシリコーン樹脂微粒子の含有量分だけ、実質的に液状シリコーン系樹脂の量が減る。その結果、LEDチップ5にかかる硬化時の応力が減り、LEDチップ5の割れ及びヒビといった不良を低減することができるので、絶縁基板1の垂直断面方向の厚さよりも高いLEDチップ5を使用することができる。 Thus, according to the present embodiment , when the first sealing resin portion 71 is formed, since the liquid silicone resin containing the silicone resin fine particles 71a is used, the liquid silicone resin is cured. Can be reduced. For example, if the resin that covers the surface of the LED chip 5 is formed of only a liquid silicone resin, the stress applied to the LED chip 5 during curing increases, but the resin that covers the LED chip 5 is divided into a liquid silicone resin and a solid silicone resin. By forming with the fine particles 71a, the amount of the liquid silicone resin is substantially reduced by the amount of the solid silicone resin fine particles. As a result, stress at the time of curing applied to the LED chip 5 is reduced, and defects such as cracks and cracks in the LED chip 5 can be reduced. Therefore, the LED chip 5 that is higher than the thickness of the insulating substrate 1 in the vertical sectional direction is used. be able to.

次に、上記構成のチップ部品型LED10の製造方法について、図2を参照して説明する。   Next, a manufacturing method of the chip component type LED 10 having the above configuration will be described with reference to FIG.

図2は、図1に示すチップ部品型LEDの製造方法の一例を示す工程説明図である。   FIG. 2 is a process explanatory view showing an example of a manufacturing method of the chip component type LED shown in FIG.

最初の工程では、金属箔を絶縁基板1の表面及び裏面にそれぞれ貼り付けることにより絶縁基板1の表面と裏面とにそれぞれ金属薄膜2,4を形成する(図2(a))。   In the first step, metal thin films 2 and 4 are formed on the front surface and the back surface of the insulating substrate 1, respectively, by attaching metal foils to the front surface and the back surface of the insulating substrate 1 (FIG. 2A).

次の工程では、絶縁基板1の表面側のLEDチップ搭載位置41と金属細線接続位置42との金属薄膜4を除去する(図2(b))。   In the next step, the metal thin film 4 is removed from the LED chip mounting position 41 and the thin metal wire connection position 42 on the surface side of the insulating substrate 1 (FIG. 2B).

次の工程では、金属薄膜4を除去した領域(LEDチップ搭載位置41及び金属細線接続位置42)に、レーザ加工により、前記絶縁基板1の裏面側から表面側に向かって漸次拡開する傾斜面をもつ第1凹穴3a及び第2凹穴3bを、絶縁基板1の裏面側の金属薄膜2まで到達する深さに形成する(図2(c))。本形態では、LEDチップ搭載用の第1凹穴3aの内径をφ470μm、金属細線接続用の第2凹穴3bの内径をφ180μmとした。 In the next step, an inclined surface that gradually expands from the back surface side to the front surface side of the insulating substrate 1 by laser processing in the region from which the metal thin film 4 has been removed (the LED chip mounting position 41 and the metal thin wire connection position 42). The first concave hole 3a and the second concave hole 3b having a depth are formed to a depth reaching the metal thin film 2 on the back surface side of the insulating substrate 1 (FIG. 2C). In this embodiment , the inner diameter of the first concave hole 3a for mounting the LED chip is φ470 μm, and the inner diameter of the second concave hole 3b for connecting the thin metal wire is φ180 μm.

次の工程では、第1凹穴3a及び第2凹穴3bの側面と底面の金属薄膜2上とに延設するように、絶縁基板1の表面側から、厚さ20μmのCuメッキ層45をメッキにより形成し(図2(d))、このメッキ層45の表面に、湿気による錆、酸化等、表面の保護のため、厚さ10μmのNi/Au層(不図示)を蒸着で形成する。ここで、Cuメッキ層45が不要な箇所(不図示)はメッキ時にはレジストを用いて保護してあり、このレジストはCuメッキ層45及びNi/Au層形成後に除去される。   In the next step, a Cu plating layer 45 having a thickness of 20 μm is formed from the surface side of the insulating substrate 1 so as to extend on the side surface and the bottom surface of the metal thin film 2 of the first and second concave holes 3a and 3b. It is formed by plating (FIG. 2D), and a Ni / Au layer (not shown) having a thickness of 10 μm is formed on the surface of the plated layer 45 by vapor deposition in order to protect the surface such as rust and oxidation due to moisture. . Here, a portion (not shown) where the Cu plating layer 45 is unnecessary is protected by using a resist during plating, and this resist is removed after the Cu plating layer 45 and the Ni / Au layer are formed.

次の工程では、絶縁領域を形成するために、絶縁基板1表面のNi/Au層及びCuメッキ層45と金属薄膜4との不要な部分(符号46により示す)を除去するとともに、絶縁基板1裏面の金属薄膜2の不要な部分(符号22により示す)を除去する(図2(e))。これにより、絶縁基板1の表面に、金属薄膜4及びメッキ層45の一部分により構成された第1配線パターンとなる金属薄膜4aと、金属薄膜4及びメッキ層45の他の一部分により構成された第2配線パターンとなる金属薄膜4bとが絶縁状態で形成され、絶縁基板1の裏面に、第1配線パターンの金属薄膜4aに対向する金属薄膜2aと、第2配線パターンの金属薄膜4bに対向する金属薄膜2bとが絶縁状態で形成される。   In the next step, in order to form an insulating region, an unnecessary portion (indicated by reference numeral 46) of the Ni / Au layer and the Cu plating layer 45 and the metal thin film 4 on the surface of the insulating substrate 1 is removed, and the insulating substrate 1 Unnecessary portions (indicated by reference numeral 22) of the metal thin film 2 on the back surface are removed (FIG. 2 (e)). As a result, a metal thin film 4 a serving as a first wiring pattern constituted by a part of the metal thin film 4 and the plating layer 45 on the surface of the insulating substrate 1, and the metal thin film 4 and the other part constituted by the plating layer 45. A metal thin film 4b to be a two-wiring pattern is formed in an insulating state, and a metal thin film 2a facing the metal thin film 4a of the first wiring pattern and a metal thin film 4b of the second wiring pattern are opposed to the back surface of the insulating substrate 1. The metal thin film 2b is formed in an insulating state.

次の工程では、LEDチップ搭載用の凹穴3aの底面の金属薄膜4aに、銀ペーストを用いて青色のLEDチップ5を実装する(図2(f))。   In the next step, the blue LED chip 5 is mounted on the metal thin film 4a on the bottom surface of the recessed hole 3a for mounting the LED chip using a silver paste (FIG. 2 (f)).

次の工程では、実装されたLEDチップ5と金属細線接続用の第2凹穴3bの底面の金属薄膜4bとを金属細線6を用いてワイヤボンディングして電気的に接続する(図2(g))。   In the next step, the mounted LED chip 5 and the metal thin film 4b on the bottom surface of the second concave hole 3b for connecting the metal fine wire are wire-bonded using the metal fine wire 6 to be electrically connected (FIG. 2G). )).

次の工程では、透明樹脂にて、LEDチップ5及び金属細線6を含む絶縁基板1の表面全体を封止する。具体的に説明すると、第1凹穴3aを含むLEDチップ5と金属細線6の一部分とを、シリコーン樹脂微粒子(屈折率1.43、平均粒径0.4μm)71aを含有する液状シリコーン系樹脂(屈折率1.41)を用いたポッティングにより第1封止樹脂部71を形成して封止し(図2(h))、次に、この第1封止樹脂部71を含む絶縁基板1の表面全体を、エポキシ系樹脂を用いたトランスファーモールドにより第2封止樹脂部72を形成し封止する(図2(i))。ここで、第1封止樹脂部71を形成するポッティング時の硬化条件及び第2封止樹脂部72を形成するトランスファーモールド時の硬化条件をいずれも150℃、1時間とした。   In the next step, the entire surface of the insulating substrate 1 including the LED chip 5 and the fine metal wires 6 is sealed with a transparent resin. Specifically, the LED chip 5 including the first recessed hole 3a and a part of the fine metal wire 6 are liquid silicone resin containing silicone resin fine particles (refractive index 1.43, average particle size 0.4 μm) 71a. The first sealing resin portion 71 is formed and sealed by potting using (refractive index 1.41) (FIG. 2 (h)), and then the insulating substrate 1 including the first sealing resin portion 71 is formed. The entire surface is sealed by forming a second sealing resin portion 72 by transfer molding using an epoxy resin (FIG. 2 (i)). Here, the curing conditions at the time of potting for forming the first sealing resin portion 71 and the curing conditions at the time of transfer molding for forming the second sealing resin portion 72 were both 150 ° C. and 1 hour.

第1封止樹脂部71をシリコーン樹脂微粒子71aを含有する液状シリコーン系樹脂を用いて形成するのは、LEDチップにかかる硬化時の応力を減らすためであり、第2透明樹脂をエポキシ系樹脂を用いて形成するのは、その硬度により外形形状に安定化を図るためである。   The reason why the first sealing resin portion 71 is formed using the liquid silicone resin containing the silicone resin fine particles 71a is to reduce the stress at the time of curing applied to the LED chip, and the second transparent resin is made of epoxy resin. It is used to stabilize the outer shape due to its hardness.

なお、絶縁基板1に設けた配線パターンのCuメッキ層はNi/Au層で保護されているが、さらに、光反射率を高めるために、少なくとも第1、第2凹穴を含めて絶縁基板の表面側を金属薄膜及びCuメッキ層等を形成した後にAgメッキしてもよい。この場合、絶縁基板の表面全体を第2封止樹脂部で覆うことが望ましい。この場合、第2封止樹脂部を形成する際に、エポキシ系樹脂のような、ガス遮断性がよく吸湿性が低い樹脂を用いることで、前記Agメッキの腐食が防止される。   In addition, although the Cu plating layer of the wiring pattern provided on the insulating substrate 1 is protected by the Ni / Au layer, in order to further increase the light reflectivity, at least the first and second concave holes are included in the insulating substrate. The surface side may be Ag-plated after forming a metal thin film, a Cu plating layer, or the like. In this case, it is desirable to cover the entire surface of the insulating substrate with the second sealing resin portion. In this case, when the second sealing resin portion is formed, corrosion of the Ag plating is prevented by using a resin having a high gas barrier property and a low hygroscopic property, such as an epoxy resin.

最後に、ダイシングを行うことにより、幅1.6mm、厚さ0.8mm、高さ0.2mmの青色のチップ部品型LED10を得る(図1参照)。
基本形態1の変形例>
次に、前述の基本形態1の変形例について図面を参照しつつ説明する。
Finally, dicing is performed to obtain a blue chip component type LED 10 having a width of 1.6 mm, a thickness of 0.8 mm, and a height of 0.2 mm (see FIG. 1).
<Modification of Basic Form 1 >
Next, a modification of the basic mode 1 will be described with reference to the drawings.

図3は、図1に示す基本形態1のチップ部品型LEDの変形例1を示す断面図である。 FIG. 3 is a cross-sectional view showing Modification Example 1 of the chip component type LED of the basic form 1 shown in FIG.

このチップ部品型LED10は、LEDチップ搭載用の第1凹穴(貫通穴)3aと、金属細線接続用の第2凹穴(貫通穴)3bとが形成された絶縁基板1の裏面側に、それぞれの凹穴に対応した配線パターンとなる金属(Cu)薄膜2a,2bが電気的に分離された状態で形成されている。また、絶縁基板1の表面側には、第1凹穴3aを含む部分に第1配線パターンとなる金属薄膜4aが形成され、第2凹穴3bを含む部分に第2配線パターンとなる金属薄膜4bが形成されている。そして、このような配線構造において、第1凹穴3aの底面部分の金属薄膜4a上にLEDチップ5が実装され、このLEDチップ5が金属細線6を介して第2凹穴3bの底面部分の金属薄膜4bに電気的に接続され、この状態において、LEDチップ5及び金属細線6を含む絶縁基板1の表面全体が封止樹脂部7により封止された構造となっている。   This chip component type LED 10 is formed on the back side of the insulating substrate 1 in which the first concave hole (through hole) 3a for mounting the LED chip and the second concave hole (through hole) 3b for connecting the metal thin wire are formed. Metal (Cu) thin films 2a and 2b which are wiring patterns corresponding to the respective recessed holes are formed in an electrically separated state. Further, on the surface side of the insulating substrate 1, a metal thin film 4a serving as a first wiring pattern is formed in a portion including the first concave hole 3a, and a metal thin film serving as a second wiring pattern in a portion including the second concave hole 3b. 4b is formed. In such a wiring structure, the LED chip 5 is mounted on the metal thin film 4a on the bottom surface portion of the first recessed hole 3a, and the LED chip 5 is formed on the bottom surface portion of the second recessed hole 3b via the metal thin wire 6. In this state, the entire surface of the insulating substrate 1 including the LED chip 5 and the thin metal wire 6 is sealed with the sealing resin portion 7.

本変形例1のチップ部品型LED10は、第1封止樹脂部71で、第1凹穴3aを含むLEDチップ5と第2凹穴3bを含む金属細線6の全体とを封止した構造となっており、第1封止樹脂部71を、微粒子状の光拡散剤(例えば屈折率1.45、平均粒径0.007μm〜0.04μmのシリカ微粒子)71bを含有する液状の第1透明樹脂を用いて形成している点が、図1に示すチップ部品型LED10と異なっている。なお、本変形例1においても、第1封止樹脂部71はポッティングにより形成され、第2封止樹脂部72は第2透明樹脂のみを用いてトランスファー成形により形成される。   The chip component type LED 10 of the first modification has a structure in which the LED chip 5 including the first concave hole 3a and the entire metal thin wire 6 including the second concave hole 3b are sealed by the first sealing resin portion 71. The first sealing resin portion 71 is a liquid first transparent containing a particulate light diffusing agent (for example, silica fine particles having a refractive index of 1.45 and an average particle diameter of 0.007 μm to 0.04 μm) 71b. It differs from the chip component type LED 10 shown in FIG. 1 in that it is formed using a resin. Also in the first modification, the first sealing resin portion 71 is formed by potting, and the second sealing resin portion 72 is formed by transfer molding using only the second transparent resin.

本変形例1では、第1透明樹脂は例えばシリコーン系樹脂であり、第2透明樹脂は例えばエポキシ系樹脂である。また、絶縁基板1は、ガラスエポキシ樹脂により形成されており、その厚さは約50μmとなっている。また、裏面側に形成された金属(Cu)薄膜2a,2bは、約20μmの厚さに形成されている。さらに、本形態では、LEDチップ搭載用の第1凹穴3aの内径をφ470μm、金属細線接続用の第2凹穴3bの内径をφ180μmとした。 In the first modification, the first transparent resin is, for example, a silicone resin, and the second transparent resin is, for example, an epoxy resin. The insulating substrate 1 is made of glass epoxy resin and has a thickness of about 50 μm. Further, the metal (Cu) thin films 2a and 2b formed on the back surface side are formed to a thickness of about 20 μm. Furthermore, in this embodiment , the inner diameter of the first concave hole 3a for mounting the LED chip is φ470 μm, and the inner diameter of the second concave hole 3b for connecting the metal thin wire is φ180 μm.

また、光拡散剤71bとしては無機系拡散剤または有機系拡散剤が用いられ、例えば、無機系拡散剤は、炭酸カルシウム、シリカ、シリコーン、硫化亜鉛、酸化亜鉛、酸化チタン、リン酸チタン、チタン酸マグネシウム、マイカ(雲母)、ガラスフィラー、硫酸バリウム、クレー(粘土)、タルク(滑石)、変成シリコーン樹脂を用いて形成されたゴム状弾性体、またはポリメチルシルセスオキサンであり、有機系拡散剤は、アクリル系、スチレン系、ポリエステル系、ポリオレフィン系、ウレタン系、ナイロン系、メタクリレート−スチレン系、有機フッ素系またはノルボルネン系等の有機系拡散剤である。   Further, as the light diffusing agent 71b, an inorganic diffusing agent or an organic diffusing agent is used. For example, the inorganic diffusing agent includes calcium carbonate, silica, silicone, zinc sulfide, zinc oxide, titanium oxide, titanium phosphate, titanium. Magnesium acid, mica (mica), glass filler, barium sulfate, clay (clay), talc (talc), rubber-like elastic body formed using modified silicone resin, or polymethylsilsesoxane, organic The diffusing agent is an organic diffusing agent such as acrylic, styrene, polyester, polyolefin, urethane, nylon, methacrylate-styrene, organic fluorine or norbornene.

このように、本変形例1によれば、第1封止樹脂部71を形成する際に、光拡散剤71bを含有する液状シリコーン系樹脂を用いているため、前記液状シリコーン系樹脂が硬化する過程での応力を低減することができる。例えばLEDチップ5表面を覆う樹脂を液状シリコーン系樹脂のみで形成するとLEDチップ5にかかる硬化時の応力が大きくなってしまうが、LEDチップ5を覆う樹脂を液状シリコーン系樹脂と光拡散剤71bとで形成することにより、固形状の光拡散剤の含有量分だけ、実質的に液状シリコーン系樹脂の量が減る。その結果、LEDチップ5にかかる硬化時の応力が減り、LEDチップ5の割れ及びヒビといった不良を低減することができるので、絶縁基板1の垂直断面方向の厚さよりも高いLEDチップ5を使用することができる。特に、光拡散剤71bを用いているため、第1封止樹脂部71での光度の低下も防止できる。
基本形態2
次に、本発明のチップ部品型LEDの基本形態2について図面を参照しつつ説明する。
Thus, according to the first modification, when the first sealing resin portion 71 is formed, since the liquid silicone resin containing the light diffusing agent 71b is used, the liquid silicone resin is cured. The stress in the process can be reduced. For example, if the resin that covers the surface of the LED chip 5 is made of only a liquid silicone resin, the stress applied to the LED chip 5 during curing increases. However, the resin that covers the LED chip 5 is a liquid silicone resin and a light diffusing agent 71b. The amount of the liquid silicone resin is substantially reduced by the amount of the solid light diffusing agent. As a result, stress at the time of curing applied to the LED chip 5 is reduced, and defects such as cracks and cracks in the LED chip 5 can be reduced. Therefore, the LED chip 5 that is higher than the thickness of the insulating substrate 1 in the vertical sectional direction is used. be able to. In particular, since the light diffusing agent 71b is used, it is possible to prevent a decrease in luminous intensity at the first sealing resin portion 71.
< Basic form 2 >
Next, basic form 2 of the chip component type LED of the present invention will be described with reference to the drawings.

図4は、本発明のチップ部品型LEDの基本形態2を示す断面図である。但し、以下の説明において、上記基本形態1と同じ(若しくは同じ機能を有する)部材には同符号を付している。 FIG. 4 is a cross-sectional view showing a basic form 2 of the chip component type LED of the present invention. However, in the following description, members that are the same (or have the same function) as the basic form 1 are given the same reference numerals.

このチップ部品型LED20は、LEDチップ搭載用の第1凹穴(貫通穴)3aと、この第1凹穴3aを挟んで両側に金属細線接続用の第2凹穴(貫通穴)3b及び第3凹部(貫通穴)3cとが形成された絶縁基板1の裏面側に、それぞれの凹穴に対応した配線パターンとなる金属(Cu)薄膜2a,2b,2cが電気的に分離された状態で形成されている。また、絶縁基板1の表面側には、第1凹穴3aを含む部分に第1配線パターンとなる金属薄膜4aが形成され、第2凹穴3bを含む部分に第2配線パターンとなる金属薄膜4bが形成され、第3凹穴3cを含む部分に第3配線パターンとなる金属薄膜4cが形成されている。そして、このような配線構造において、第1凹穴3aの底面部分の金属薄膜4a上にLEDチップ5が実装され、このLEDチップ5が金属細線6aを介して第2凹穴3bの底面部分の金属薄膜4bに電気的に接続されるとともに、金属細線6bを介して第3凹穴3cの底面部分の金属薄膜4cに電気的に接続され、この状態において、LEDチップ5及び金属細線6a,6bを含む絶縁基板1の表面全体が封止樹脂部7により封止された構造となっている。   This chip component-type LED 20 includes a first concave hole (through hole) 3a for mounting an LED chip, a second concave hole (through hole) 3b for connecting a metal thin wire on both sides of the first concave hole 3a, and a first In the state where the metal (Cu) thin films 2a, 2b, 2c, which are wiring patterns corresponding to the respective recessed holes, are electrically separated on the back surface side of the insulating substrate 1 in which the three recessed portions (through holes) 3c are formed. Is formed. Further, on the surface side of the insulating substrate 1, a metal thin film 4a serving as a first wiring pattern is formed in a portion including the first concave hole 3a, and a metal thin film serving as a second wiring pattern in a portion including the second concave hole 3b. 4b is formed, and a metal thin film 4c serving as a third wiring pattern is formed in a portion including the third recessed hole 3c. In such a wiring structure, the LED chip 5 is mounted on the metal thin film 4a on the bottom surface portion of the first concave hole 3a, and the LED chip 5 is formed on the bottom surface portion of the second concave hole 3b via the metal thin wire 6a. In addition to being electrically connected to the metal thin film 4b, it is also electrically connected to the metal thin film 4c on the bottom surface portion of the third recessed hole 3c via the metal thin wire 6b. In this state, the LED chip 5 and the metal thin wires 6a, 6b The entire surface of the insulating substrate 1 including is sealed with the sealing resin portion 7.

ここで、本形態では、この封止樹脂部7は、第1凹穴3aを含むLEDチップ5、第2凹穴3bを含む金属細線6a、及び第3凹穴部3cを含む金属細線6bの全体を封止する第1封止樹脂部71と、この第1封止樹脂部71を含む絶縁基板1の表面全体を封止する第2封止樹脂部72とで構成されている。また、本形態では、第1封止樹脂部71は、シランカップリング剤71cを含有する液状シリコーン系樹脂を用いて形成されており、第2封止樹脂部72は、エポキシ系樹脂を用いて形成されている。また、絶縁基板1は、ガラスエポキシ樹脂により形成されており、その厚さは約60μmとなっている。また、裏面側に形成された金属(Cu)薄膜2a,2bは、約25μmの厚さに形成されている。さらに、本実施形態2では、LEDチップ搭載用の第1凹穴3aの内径をφ500μm、金属細線接続用の第2凹穴3b及び第3凹穴3cの内径をそれぞれφ200μmとした。 Here, in this embodiment , the sealing resin portion 7 includes the LED chip 5 including the first concave hole 3a, the metal thin wire 6a including the second concave hole 3b, and the metal thin wire 6b including the third concave hole portion 3c. The first sealing resin portion 71 that seals the whole and the second sealing resin portion 72 that seals the entire surface of the insulating substrate 1 including the first sealing resin portion 71 are configured. In the present embodiment , the first sealing resin portion 71 is formed using a liquid silicone resin containing a silane coupling agent 71c, and the second sealing resin portion 72 is formed using an epoxy resin. Is formed. The insulating substrate 1 is made of glass epoxy resin and has a thickness of about 60 μm. Further, the metal (Cu) thin films 2a and 2b formed on the back surface side are formed to a thickness of about 25 μm. Furthermore, in the second embodiment, the inner diameter of the first concave hole 3a for mounting the LED chip is φ500 μm, and the inner diameters of the second concave hole 3b and the third concave hole 3c for connecting the thin metal wire are each φ200 μm.

このように、本形態によれば、第1封止樹脂部71を形成する際に、シランカップリング剤71cを含有する液状シリコーン系樹脂を用いているため、前記液状シリコーン系樹脂が硬化する過程での応力を低減することができる。例えばLEDチップ5表面を覆う樹脂を液状シリコーン系樹脂のみで形成するとLEDチップ5にかかる硬化時の応力が大きくなってしまうが、LEDチップ5を覆う樹脂を液状シリコーン系樹脂と固形状のシランカップリング剤71cとで形成することにより、固形状のシランカップリング剤71cの含有量分だけ、実質的に液状シリコーン系樹脂の量が減る。その結果、LEDチップ5にかかる硬化時の応力が減り、LEDチップ5の割れ及びヒビといった不良を低減することができるので、絶縁基板1の垂直断面方向の厚さよりも高いLEDチップ5を使用することができる。さらに、第1封止樹脂部71と金属薄膜4a,4b,4cとの密着性も向上する。 Thus, according to this embodiment , when the first sealing resin portion 71 is formed, since the liquid silicone resin containing the silane coupling agent 71c is used, the liquid silicone resin is cured. The stress at can be reduced. For example, if the resin that covers the surface of the LED chip 5 is formed of only a liquid silicone resin, the stress applied to the LED chip 5 during curing increases. However, the resin that covers the LED chip 5 is divided into a liquid silicone resin and a solid silane cup. By forming with the ring agent 71c, the amount of the liquid silicone resin is substantially reduced by the content of the solid silane coupling agent 71c. As a result, stress at the time of curing applied to the LED chip 5 is reduced, and defects such as cracks and cracks in the LED chip 5 can be reduced. Therefore, the LED chip 5 that is higher than the thickness of the insulating substrate 1 in the vertical sectional direction is used. be able to. Furthermore, the adhesion between the first sealing resin portion 71 and the metal thin films 4a, 4b, 4c is also improved.

次に、上記構成のチップ部品型LED20の製造方法について、図5を参照して説明する。   Next, a manufacturing method of the chip component type LED 20 having the above configuration will be described with reference to FIG.

図5は、図4に示すチップ部品型LEDの製造方法の一例を示す工程説明図である。   FIG. 5 is a process explanatory view showing an example of a manufacturing method of the chip component type LED shown in FIG.

最初の工程では、金属箔を絶縁基板1の表面及び裏面にそれぞれ貼り付けることにより絶縁基板1の表面と裏面にそれぞれ金属薄膜2,4を形成する(図5(a))。   In the first step, the metal thin films 2 and 4 are respectively formed on the front and back surfaces of the insulating substrate 1 by pasting metal foils on the front and back surfaces of the insulating substrate 1 (FIG. 5A).

次の工程では、絶縁基板1の表面側のLEDチップ搭載位置41と金属細線接続位置42,43との金属薄膜4を除去する(図5(b))。   In the next step, the metal thin film 4 at the LED chip mounting position 41 and the thin metal wire connecting positions 42 and 43 on the surface side of the insulating substrate 1 is removed (FIG. 5B).

次の工程では、金属薄膜4を除去した領域(LEDチップ搭載位置41及び金属細線接続位置42,43)にレーザ加工により傾斜面をもつ第1凹穴3a、第2凹穴3b及び第3凹穴3cを、絶縁基板1の裏面側の金属薄膜2まで到達する深さに形成する(図5(c))。本実施形態2では、LEDチップ搭載用の第1凹穴3aの内径をφ500μm、金属細線接続用の第2凹穴3b及び第3凹穴3cの内径をそれぞれφ200μmとした。   In the next step, the first concave hole 3a, the second concave hole 3b, and the third concave having an inclined surface by laser processing in the region from which the metal thin film 4 is removed (the LED chip mounting position 41 and the thin metal wire connecting positions 42 and 43). The hole 3c is formed to a depth that reaches the metal thin film 2 on the back surface side of the insulating substrate 1 (FIG. 5C). In the second embodiment, the inner diameter of the first concave hole 3a for mounting the LED chip is φ500 μm, and the inner diameters of the second concave hole 3b and the third concave hole 3c for connecting the thin metal wire are each φ200 μm.

次の工程では、第1凹穴3a,第2凹穴3b及び第3凹穴3cの側面と底面の金属薄膜2上とに延設するように、絶縁基板1の表面側から、厚さ15μmのCuメッキ層45をメッキにより形成し(図2(d))、このメッキ層45の表面に、湿気による錆、酸化等、表面の保護のため、厚さ10μmのNi/Au層(不図示)を蒸着で形成する。ここで、Cuメッキ層45が不要な箇所(不図示)はメッキ時にはレジストを用いて保護してあり、このレジストはCuメッキ層45及びNi/Au層形成後に除去される。   In the next step, a thickness of 15 μm is formed from the surface side of the insulating substrate 1 so as to extend on the side and bottom metal thin film 2 of the first and second concave holes 3a, 3b and 3c. A Cu plating layer 45 is formed by plating (FIG. 2D), and a 10 μm thick Ni / Au layer (not shown) is provided on the surface of the plating layer 45 to protect the surface such as rust and oxidation due to moisture. ) Is formed by vapor deposition. Here, a portion (not shown) where the Cu plating layer 45 is unnecessary is protected by using a resist during plating, and this resist is removed after the Cu plating layer 45 and the Ni / Au layer are formed.

次の工程では、絶縁領域を形成するために、絶縁基板1表面のNi/Au層及びCuメッキ層45と金属薄膜4との不要な部分(符号46,47により示す)を除去するとともに、絶縁基板1裏面の金属薄膜2の不要な部分(符号22,23により示す)を除去する(図5(e))。これにより、絶縁基板1の表面に、第1配線パターンとなる金属薄膜4aと、第2配線パターンとなる金属薄膜4bと、第3配線パターンとなる金属薄膜4cとが絶縁状態で形成され、絶縁基板1の裏面に、第1配線パターンの金属薄膜4aに対向する金属薄膜2aと、第2配線パターンの金属薄膜4bに対向する金属薄膜2bと、第3配線パターンの金属薄膜4cに対向する金属薄膜2cとが絶縁状態で形成される。   In the next step, in order to form an insulating region, unnecessary portions (indicated by reference numerals 46 and 47) of the Ni / Au layer and the Cu plating layer 45 and the metal thin film 4 on the surface of the insulating substrate 1 are removed and the insulating substrate 1 is insulated. Unnecessary portions (indicated by reference numerals 22 and 23) of the metal thin film 2 on the back surface of the substrate 1 are removed (FIG. 5E). As a result, the metal thin film 4a serving as the first wiring pattern, the metal thin film 4b serving as the second wiring pattern, and the metal thin film 4c serving as the third wiring pattern are formed in an insulating state on the surface of the insulating substrate 1 and insulated. On the back surface of the substrate 1, a metal thin film 2a facing the metal thin film 4a of the first wiring pattern, a metal thin film 2b facing the metal thin film 4b of the second wiring pattern, and a metal facing the metal thin film 4c of the third wiring pattern The thin film 2c is formed in an insulating state.

次の工程では、LEDチップ搭載用の凹穴3aの底面の金属薄膜4aに、シリコーン樹脂を用いて赤色のLEDチップ5を実装する(図5(f))。   In the next step, the red LED chip 5 is mounted on the metal thin film 4a on the bottom surface of the recessed hole 3a for mounting the LED chip using a silicone resin (FIG. 5 (f)).

次の工程では、実装されたLEDチップ5と金属細線接続用の第2凹穴3bの底面の金属薄膜4bとを金属細線6aを用いてワイヤボンディングして電気的に接続するとともに、LEDチップ5と金属細線接続用の第3凹穴3cの底面の金属薄膜4cとを金属細線6bを用いてワイヤボンディングして電気的に接続する(図5(g))。   In the next step, the mounted LED chip 5 and the metal thin film 4b on the bottom surface of the second concave hole 3b for connecting the metal thin wire are electrically connected by wire bonding using the metal thin wire 6a. And the metal thin film 4c on the bottom surface of the third concave hole 3c for connecting the fine metal wires are electrically connected by wire bonding using the fine metal wires 6b (FIG. 5G).

次の工程では、透明樹脂にて、LEDチップ5及び金属細線6a,6bを含む絶縁基板1の表面全体を封止する(図5(h))。具体的に説明すると、第1凹穴3aを含むLEDチップ5と第2凹穴3b及び第3凹穴3cを含む両金属細線6a,6bの全体を、シランカップリング剤71cを含有する液状シリコーン系樹脂を用いたポッティングにより第1封止樹脂部71を形成して封止して、次に、この第1封止樹脂部71を含む絶縁基板1の表面全体を、エポキシ系樹脂を用いたトランスファーモールドにより第2封止樹脂部72を形成した封止する。ここで、第1封止樹脂部71を形成するポッティング時の硬化条件を150℃、3時間とし、第2封止樹脂部72を形成するトランスファーモールド時の硬化条件を120℃、1時間とした。   In the next step, the entire surface of the insulating substrate 1 including the LED chip 5 and the thin metal wires 6a and 6b is sealed with a transparent resin (FIG. 5 (h)). Specifically, the liquid crystal silicone containing the silane coupling agent 71c is formed on the whole of the LED chip 5 including the first concave hole 3a and the metal thin wires 6a and 6b including the second concave hole 3b and the third concave hole 3c. The first sealing resin portion 71 is formed and sealed by potting using a resin, and then the entire surface of the insulating substrate 1 including the first sealing resin portion 71 is formed using an epoxy resin. The second sealing resin portion 72 is sealed by transfer molding. Here, the curing condition at the time of potting for forming the first sealing resin part 71 is 150 ° C. for 3 hours, and the curing condition at the time of transfer molding for forming the second sealing resin part 72 is 120 ° C. for 1 hour. .

最後に、ダイシングを行うことにより、幅1.5mm、厚さ0.8mm、高さ0.18mmの赤色チップ部品型LED20を得る(図5参照)。
実施形態1
図6は、本発明のチップ部品型LEDの実施形態1を示す断面図であり、図7は図6に示すチップ部品型LEDの平面図である。但し、以下の説明において、上記基本形態1と同じ(若しくは同じ機能を有する)部材には同符号を付している。
Finally, dicing is performed to obtain a red chip component LED 20 having a width of 1.5 mm, a thickness of 0.8 mm, and a height of 0.18 mm (see FIG. 5).
< Embodiment 1 >
6 is a cross-sectional view showing a first embodiment of a chip component-type LED of the present invention, and FIG. 7 is a plan view of the chip component-type LED shown in FIG. However, in the following description, members that are the same (or have the same function) as the basic form 1 are given the same reference numerals.

このチップ部品型LED30は、LEDチップ搭載用の第1凹穴(貫通穴)3aと、金属細線接続用の第2凹穴(貫通穴)3bとが形成された絶縁基板1の裏面側に、それぞれの凹穴に対応した配線パターンとなる金属(Cu)薄膜2a,2bが電気的に分離された状態で形成されている。また、絶縁基板1の表面側には、第1凹穴3aを含む部分に第1配線パターンとなる金属薄膜4aが形成され、第2凹穴3bを含む部分に第2配線パターンとなる金属薄膜4bが形成されている。これら金属薄膜4a,4bは、第1凹穴3aと第2凹穴3bとを仕切る仕切壁部1aの表面中央部に金属薄膜4を除去した一定幅の切欠き部48を形成することで絶縁されている。また、仕切壁部1aの表面には、この切欠き部48と直交する方向に、すなわち第1凹穴3aと第2凹穴3bとに跨がるようにして、所定深さの凹溝部11が形成されている。   This chip component type LED 30 is formed on the back side of the insulating substrate 1 in which the first concave hole (through hole) 3a for mounting the LED chip and the second concave hole (through hole) 3b for connecting the metal thin wire are formed. Metal (Cu) thin films 2a and 2b which are wiring patterns corresponding to the respective recessed holes are formed in an electrically separated state. Further, on the surface side of the insulating substrate 1, a metal thin film 4a serving as a first wiring pattern is formed in a portion including the first concave hole 3a, and a metal thin film serving as a second wiring pattern in a portion including the second concave hole 3b. 4b is formed. These metal thin films 4a and 4b are insulated by forming a notch 48 having a constant width from which the metal thin film 4 is removed at the center of the surface of the partition wall 1a that partitions the first concave hole 3a and the second concave hole 3b. Has been. Further, on the surface of the partition wall portion 1a, the groove portion 11 having a predetermined depth is formed in a direction orthogonal to the notch portion 48, that is, straddling the first groove 3a and the second groove 3b. Is formed.

そして、このような配線構造において、第1凹穴3aの底面部分の金属薄膜4a上にLEDチップ5が実装され、このLEDチップ5が金属細線6を介して第2凹穴3bの底面部分の金属薄膜4bに電気的に接続されている。このとき、金属細線6は、仕切壁部1aの凹溝部11内を通って配線されており、その中央部付近が凹溝部11底面にワイヤボンディングされている。すなわち、金属細線6のLEDチップ5に接続されている部位とその近傍を除く部分が絶縁基板1の表面より上方に出ないように配線されている。そして、この状態において、LEDチップ5及び金属細線6を含む絶縁基板1の表面全体が封止樹脂部7により封止された構造となっている。   In such a wiring structure, the LED chip 5 is mounted on the metal thin film 4a on the bottom surface portion of the first recessed hole 3a, and the LED chip 5 is formed on the bottom surface portion of the second recessed hole 3b via the metal thin wire 6. It is electrically connected to the metal thin film 4b. At this time, the fine metal wire 6 is wired through the inside of the recessed groove portion 11 of the partition wall portion 1a, and the vicinity of the central portion thereof is wire-bonded to the bottom surface of the recessed groove portion 11. That is, the portion of the fine metal wire 6 connected to the LED chip 5 and the portion excluding the vicinity thereof are wired so as not to protrude above the surface of the insulating substrate 1. In this state, the entire surface of the insulating substrate 1 including the LED chip 5 and the fine metal wires 6 is sealed with the sealing resin portion 7.

ここで、本形態では、この封止樹脂部7は、第1凹穴3aを含むLEDチップ5と第2凹穴3bを含む金属細線6の全体を封止する第1封止樹脂部71と、この第1封止樹脂部71を含む絶縁基板1の表面全体を封止する第2封止樹脂部72とで構成されている。また、本形態では、第1封止樹脂部71は、シリコーン樹脂微粒子71aを含有する液状シリコーン系樹脂を用いてポッティングで形成される。また、第2封止樹脂部72はエポキシ系樹脂のみを用いてトランスファー成形にて形成される。 Here, in this embodiment , the sealing resin portion 7 includes a first sealing resin portion 71 that seals the entire LED chip 5 including the first concave hole 3a and the thin metal wire 6 including the second concave hole 3b. The second sealing resin portion 72 seals the entire surface of the insulating substrate 1 including the first sealing resin portion 71. In this embodiment , the first sealing resin portion 71 is formed by potting using a liquid silicone resin containing the silicone resin fine particles 71a. The second sealing resin portion 72 is formed by transfer molding using only an epoxy resin.

本形態では、絶縁基板1は、ガラスエポキシ樹脂により形成されており、その厚さは約55μmとなっている。また、裏面側に形成された金属(Cu)薄膜2a,2bは、約18μmの厚さに形成されている。また、本形態では、LEDチップ搭載用の第1凹穴3aの内径をφ400μm、金属細線接続用の第2凹穴3bの内径をφ150μmとした。さらに、凹溝部11の深さは25μmとした。 In this embodiment , the insulating substrate 1 is made of glass epoxy resin and has a thickness of about 55 μm. Moreover, the metal (Cu) thin films 2a and 2b formed on the back surface side are formed to a thickness of about 18 μm. In this embodiment , the inner diameter of the first concave hole 3a for mounting the LED chip is φ400 μm, and the inner diameter of the second concave hole 3b for connecting the metal thin wire is φ150 μm. Furthermore, the depth of the groove 11 was set to 25 μm.

このように、本形態によれば、金属細線6がLEDチップ搭載用の第1凹穴3aと金属細線接続用の第2凹穴3bとの間に形成された凹溝部11底面にワイヤボンディングされているため、金属細線6のLEDチップ5に接続されている部位とその近傍を除く部分をより低い位置に配置することができ、さらに薄型化された(例えば0.15mm程度の)チップ部品型LED30を得ることができる。また、第1封止樹脂部71を形成する際に、シリコーン樹脂微粒子71aを含有する液状シリコーン系樹脂を用いているため、前記液状シリコーン系樹脂が硬化する過程での応力を低減することができる。例えばLEDチップ5表面を覆う樹脂を液状シリコーン系樹脂のみで形成するとLEDチップ5にかかる硬化時の応力が大きくなってしまうが、LEDチップ5を覆う樹脂を液状シリコーン系樹脂と固形状のシリコーン樹脂微粒子71aとで形成することにより、固形状のシリコーン樹脂微粒子71aの含有量分だけ、実質的に液状シリコーン系樹脂の量が減る。その結果、LEDチップ5にかかる硬化時の応力が減り、LEDチップ5の割れ及びヒビといった不良を低減することができる。また、金属細線6がワイヤボンディングされている凹溝部11を前記シリコーン樹脂微粒子71aを含有する液状シリコーン系樹脂で覆うため、金属細線6及び凹溝部11への応力が低減でき、凹溝部11から金属細線6が剥がれてしまうことを防止できる。 As described above, according to this embodiment , the fine metal wire 6 is wire-bonded to the bottom surface of the concave groove portion 11 formed between the first concave hole 3a for mounting the LED chip and the second concave hole 3b for connecting the metal fine wire. Therefore, the portion of the fine metal wire 6 connected to the LED chip 5 and the portion excluding the vicinity thereof can be arranged at a lower position, and the chip component type further reduced in thickness (for example, about 0.15 mm) The LED 30 can be obtained. In addition, since the liquid silicone resin containing the silicone resin fine particles 71a is used when forming the first sealing resin portion 71, it is possible to reduce stress in the process of curing the liquid silicone resin. . For example, if the resin that covers the surface of the LED chip 5 is formed of only a liquid silicone resin, the stress applied to the LED chip 5 during curing increases, but the resin that covers the LED chip 5 is divided into a liquid silicone resin and a solid silicone resin. By forming with the fine particles 71a, the amount of the liquid silicone resin is substantially reduced by the content of the solid silicone resin fine particles 71a. As a result, the curing stress applied to the LED chip 5 is reduced, and defects such as cracks and cracks in the LED chip 5 can be reduced. Further, since the concave groove portion 11 to which the fine metal wire 6 is wire-bonded is covered with the liquid silicone resin containing the silicone resin fine particles 71a, stress on the fine metal wire 6 and the concave groove portion 11 can be reduced. It can prevent that the thin wire | line 6 peels.

次に、上記構成のチップ部品型LED30の製造方法について、図8を参照して説明する。   Next, a manufacturing method of the chip component type LED 30 having the above configuration will be described with reference to FIG.

図8は、図6に示すチップ部品型LEDの製造方法の一例を示す工程説明図である。   FIG. 8 is a process explanatory view showing an example of a manufacturing method of the chip component type LED shown in FIG.

最初の工程では、金属箔を絶縁基板1の表面及び裏面にそれぞれ貼り付けることにより絶縁基板1の表面と裏面にそれぞれ金属薄膜2,4を形成する(図8(a))。   In the first step, the metal thin films 2 and 4 are respectively formed on the front and back surfaces of the insulating substrate 1 by pasting metal foils on the front and back surfaces of the insulating substrate 1 (FIG. 8A).

次の工程では、絶縁基板1の表面側のLEDチップ搭載位置41と、金属細線接続位置42と、凹溝部11となる位置(不図示)との金属薄膜4を除去する(図8(b))。   In the next step, the metal thin film 4 is removed from the LED chip mounting position 41 on the surface side of the insulating substrate 1, the metal thin wire connection position 42, and the position (not shown) to be the groove 11 (FIG. 8B). ).

次の工程では、金属薄膜4を除去した領域のうちLEDチップ搭載位置41及び金属細線接続位置42にレーザ加工により傾斜面をもつ第1凹穴3a及び第2凹穴3bを、絶縁基板1の裏面側の金属薄膜2まで到達する深さに形成する。このとき、形成される第1凹穴3a及び第2凹穴3bを仕切ることになる仕切壁部1aの表面に、これら第1凹穴3a及び第2凹穴3b間を跨ぐように、予め設定された深さの凹溝部11を同じレーザ加工により形成する(図8(c))。本形態では、LEDチップ搭載用の第1凹穴3aの内径をφ500μm、金属細線接続用の第2凹穴3bの内径をφ200μmとし、凹溝部11の深さを25μmとした。 In the next step, the first recessed hole 3a and the second recessed hole 3b having inclined surfaces by laser processing in the LED chip mounting position 41 and the metal thin wire connecting position 42 in the region where the metal thin film 4 has been removed are formed on the insulating substrate 1. It is formed to a depth reaching the metal thin film 2 on the back side. At this time, the surface is set in advance so as to straddle the space between the first concave hole 3a and the second concave hole 3b on the surface of the partition wall portion 1a that partitions the first concave hole 3a and the second concave hole 3b to be formed. The groove 11 having the depth is formed by the same laser processing (FIG. 8C). In this embodiment , the inner diameter of the first concave hole 3a for mounting the LED chip is φ500 μm, the inner diameter of the second concave hole 3b for connecting the metal thin wire is φ200 μm, and the depth of the concave groove portion 11 is 25 μm.

次の工程では、第1凹穴3a及び第2凹穴3bの側面と底面の金属薄膜2上とに延設するように、絶縁基板1の表面側から、厚さ25μmのCuメッキ層45をメッキにより形成し(図8(d))、このメッキ層45の表面に、湿気による錆、酸化等、表面の保護のため、厚さ10μmのNi/Au層(不図示)を蒸着で形成する。ここで、Cuメッキ層45が不要な箇所(不図示)はメッキ時にはレジストを用いて保護してあり、このレジストはCuメッキ層45及びNi/Au層形成後に除去される。   In the next step, a 25 μm thick Cu plating layer 45 is formed from the surface side of the insulating substrate 1 so as to extend on the side surfaces and the bottom surface of the metal thin film 2 of the first and second concave holes 3a and 3b. It is formed by plating (FIG. 8D), and a Ni / Au layer (not shown) having a thickness of 10 μm is formed on the surface of the plating layer 45 by vapor deposition in order to protect the surface such as rust and oxidation due to moisture. . Here, a portion (not shown) where the Cu plating layer 45 is unnecessary is protected by using a resist during plating, and this resist is removed after the Cu plating layer 45 and the Ni / Au layer are formed.

次の工程では、絶縁領域を形成するために、絶縁基板1表面のNi/Au層及びCuメッキ層45と金属薄膜4との不要な部位を除去(符号46により示す)するとともに、絶縁基板1裏面の金属薄膜2の不要な部位を除去(符号22により示す)する(図8(e))。
これにより、絶縁基板1の表面に、第1配線パターンとなる金属薄膜4aと、第2配線パターンとなる金属薄膜4bとが絶縁状態で形成され、絶縁基板1の裏面に、第1配線パターンの金属薄膜4aに対向する金属薄膜2aと、第2配線パターンの金属薄膜4bに対向する金属薄膜2bとが絶縁状態で形成される。なお、本形態では、この工程において、金属細線6を配線するための凹溝部11表面のNi/Au層及びCuメッキ層45も除去している。すなわち、凹溝部11表面は絶縁基板1が露出した状態となっている。
In the next step, in order to form an insulating region, unnecessary portions of the Ni / Au layer and the Cu plating layer 45 and the metal thin film 4 on the surface of the insulating substrate 1 are removed (indicated by reference numeral 46), and the insulating substrate 1 Unnecessary portions of the metal thin film 2 on the back surface are removed (indicated by reference numeral 22) (FIG. 8E).
Thereby, the metal thin film 4a to be the first wiring pattern and the metal thin film 4b to be the second wiring pattern are formed in an insulating state on the surface of the insulating substrate 1, and the first wiring pattern of the first wiring pattern is formed on the back surface of the insulating substrate 1. The metal thin film 2a facing the metal thin film 4a and the metal thin film 2b facing the metal thin film 4b of the second wiring pattern are formed in an insulating state. In this embodiment , in this step, the Ni / Au layer and the Cu plating layer 45 on the surface of the concave groove 11 for wiring the fine metal wires 6 are also removed. That is, the surface of the groove 11 is in a state where the insulating substrate 1 is exposed.

次の工程では、LEDチップ搭載用の凹穴3aの底面の金属薄膜4aに、エポキシ樹脂を用いてLEDチップ5を実装する(図8(f))。   In the next step, the LED chip 5 is mounted on the metal thin film 4a on the bottom surface of the recessed hole 3a for mounting the LED chip using an epoxy resin (FIG. 8 (f)).

次の工程では、実装されたLEDチップ5と凹溝部11のボンディング部61aとを金属細線6を用いてワイヤボンディングし、さらに、凹溝部11のボンディング部61aと金属細線接続用の第2凹穴3bの底面の金属薄膜4bとを金属細線6を用いてワイヤボンディングして、LEDチップ5と金属薄膜4bとを電気的に接続する(図8(g))。   In the next step, the mounted LED chip 5 and the bonding portion 61a of the concave groove portion 11 are wire-bonded using the fine metal wire 6, and further the second concave hole for connecting the bonding portion 61a of the concave groove portion 11 and the fine metal wire. The metal thin film 4b on the bottom surface of 3b is wire-bonded using the fine metal wire 6, and the LED chip 5 and the metal thin film 4b are electrically connected (FIG. 8G).

次の工程では、透明樹脂にて、LEDチップ5及び金属細線6を含む絶縁基板1の表面全体を封止する(図8(h))。具体的に説明すると、第1凹穴3aを含むLEDチップ5と第2凹穴3bを含む金属細線6とこれら第1凹穴3a及び第2凹穴3bを連通する凹溝部11を含むボンディング部61aとの全体を、シリコーン樹脂微粒子71aを含有する液状シリコーン系樹脂を用いたポッティングにより第1封止樹脂部71を形成して封止し、次に、このこの第1封止樹脂部71を含む絶縁基板1の表面全体を、エポキシ系樹脂を用いたトランスファーモールドにより第2封止樹脂部72を形成し封止する。ここで、第1封止樹脂部71を形成するポッティング時の硬化条件を150℃、1時間とし、第2封止樹脂部72を形成するトランスファーモールド時の硬化条件を150℃、3時間とした。   In the next step, the entire surface of the insulating substrate 1 including the LED chip 5 and the fine metal wires 6 is sealed with a transparent resin (FIG. 8H). More specifically, the bonding portion including the LED chip 5 including the first concave hole 3a, the fine metal wire 6 including the second concave hole 3b, and the concave groove portion 11 communicating with the first concave hole 3a and the second concave hole 3b. 61a is sealed by forming a first sealing resin portion 71 by potting using a liquid silicone resin containing silicone resin fine particles 71a, and then sealing the first sealing resin portion 71. The entire surface of the insulating substrate 1 is sealed by forming a second sealing resin portion 72 by transfer molding using an epoxy resin. Here, the curing condition at the time of potting for forming the first sealing resin part 71 is 150 ° C. for 1 hour, and the curing condition at the time of transfer molding for forming the second sealing resin part 72 is 150 ° C. for 3 hours. .

最後に、ダイシングを行うことにより、幅1.65mm、厚さ0.75mm、高さ0.15mmの高演色のチップ部品型LED30を得る(図6参照)。
参考形態1
次に、チップ部品型LEDの参考形態1について図面を参照しつつ説明する。
Finally, dicing is performed to obtain a high-color-rendering chip component LED 30 having a width of 1.65 mm, a thickness of 0.75 mm, and a height of 0.15 mm (see FIG. 6).
< Reference form 1 >
Will be described with reference to the drawings reference embodiment 1 Ji-up component type LED.

図9は、チップ部品型LEDの参考形態1を示す断面図である。但し、以下の説明において、上記基本形態1と同じ(若しくは同じ機能を有する)部材には同符号を付している。 Figure 9 is a sectional view showing a reference embodiment 1 Ji-up component type LED. However, in the following description, members that are the same (or have the same function) as the basic form 1 are given the same reference numerals.

このチップ部品型LED40は、LEDチップ搭載用の第1凹穴(貫通穴)3aと、金属細線接続用の第2凹穴(貫通穴)3bとが形成された絶縁基板1の裏面側に、それぞれの凹穴に対応した配線パターンとなる金属(Cu)薄膜2a,2bが電気的に分離された状態で形成されている。また、絶縁基板1の表面側には、第1凹穴3aを含む部分に第1配線パターンとなる金属薄膜4aが形成され、第2凹穴3bを含む部分に第2配線パターンとなる金属薄膜4bが形成されている。そして、このような配線構造において、第1凹穴3aの底面部分の金属薄膜4a上にLEDチップ5が実装され、このLEDチップ5が金属細線6を介して第2凹穴3bの底面部分の金属薄膜4bに電気的に接続され、この状態において、LEDチップ5及び金属細線6を含む絶縁基板1の表面全体が封止樹脂部7により封止された構造となっている。   This chip component type LED 40 is provided on the back side of the insulating substrate 1 in which the first concave hole (through hole) 3a for mounting the LED chip and the second concave hole (through hole) 3b for connecting the metal thin wire are formed. Metal (Cu) thin films 2a and 2b which are wiring patterns corresponding to the respective recessed holes are formed in an electrically separated state. Further, on the surface side of the insulating substrate 1, a metal thin film 4a serving as a first wiring pattern is formed in a portion including the first concave hole 3a, and a metal thin film serving as a second wiring pattern in a portion including the second concave hole 3b. 4b is formed. In such a wiring structure, the LED chip 5 is mounted on the metal thin film 4a on the bottom surface portion of the first recessed hole 3a, and the LED chip 5 is formed on the bottom surface portion of the second recessed hole 3b via the metal thin wire 6. In this state, the entire surface of the insulating substrate 1 including the LED chip 5 and the thin metal wire 6 is sealed with the sealing resin portion 7.

ここで、本形態では、この封止樹脂部7は、第1凹穴3aを含むLEDチップ5及び金属細線6の一部分を封止する第1封止樹脂部71と、この第1封止樹脂部71を含む絶縁基板1の表面全体を封止する第2封止樹脂部72とで構成されている。さらに、第1封止樹脂部71は、第1凹穴3a内全体に充填された下部封止樹脂部71d1と、この下部封止樹脂部71d1上に配置された上部封止樹脂部71d2から構成されている。 Here, in this embodiment , the sealing resin portion 7 includes the first sealing resin portion 71 that seals a part of the LED chip 5 and the metal thin wire 6 including the first recessed hole 3a, and the first sealing resin. The second sealing resin portion 72 seals the entire surface of the insulating substrate 1 including the portion 71. Further, the first sealing resin portion 71 includes a lower sealing resin portion 71d1 filled in the entire first recessed hole 3a and an upper sealing resin portion 71d2 disposed on the lower sealing resin portion 71d1. Has been.

これら下部封止樹脂部71d1及び上部封止樹脂部71d2は同じ材料(例えば、液状シリコーン系樹脂)を用いて形成されており、第2封止樹脂部72は、例えばエポキシ系樹脂を用いて形成されている。また、下部封止樹脂部71d1及び上部封止樹脂部71d2の形状は類似しており、例えば下部封止樹脂部71d1は第1凹穴3aの形状と一致した形状となっており、上部封止樹脂部71d2は、下部封止樹脂部71d1を上下逆さにした形状となっている。   The lower sealing resin portion 71d1 and the upper sealing resin portion 71d2 are formed using the same material (for example, a liquid silicone resin), and the second sealing resin portion 72 is formed using an epoxy resin, for example. Has been. Further, the lower sealing resin portion 71d1 and the upper sealing resin portion 71d2 have similar shapes. For example, the lower sealing resin portion 71d1 has a shape that matches the shape of the first concave hole 3a. The resin part 71d2 has a shape in which the lower sealing resin part 71d1 is turned upside down.

前記下部封止樹脂部71d1及び上部封止樹脂部71d2は、例えば、下部封止樹脂部71d1を上下逆さにした形状の凹部を底面に有した金型を用いてトランスファーモールドを実施することにより形成されたものである。即ち、トランスファーモールド時には、前記金型の凹部の開口部を前記第1凹穴3aの開口部に一致させつつ前記金型を絶縁基板1に上方から押し当てた状態で前記金型の凹部と前記第1凹穴3aとに透明樹脂を注入し硬化させることにより、前記下部封止樹脂部71d1及び上部封止樹脂部71d2を一体形成する。   The lower sealing resin portion 71d1 and the upper sealing resin portion 71d2 are formed, for example, by performing transfer molding using a mold having a concave portion formed on the bottom surface of the lower sealing resin portion 71d1 upside down. It has been done. That is, at the time of transfer molding, the mold recess and the mold are pressed with the mold pressed against the insulating substrate 1 from above while matching the opening of the recess of the mold with the opening of the first recess 3a. The lower sealing resin portion 71d1 and the upper sealing resin portion 71d2 are integrally formed by injecting a transparent resin into the first concave hole 3a and curing it.

このように、本形態によれば、第1封止樹脂部71を類似した形状の下部封止樹脂部71d1と上部封止樹脂部71d2とで構成したので、第1封止樹脂部71が硬化する過程でのLEDチップ5への応力を低減することができる。例えば、第1封止樹脂部71を下部封止樹脂部71d1のみで構成した場合、LEDチップ5上部が第1封止樹脂部71から露出してしまうとともに、第1封止樹脂部71に対する第2封止樹脂部72の樹脂量が大きくこのため第2封止樹脂部72が硬化する過程でのLEDチップ5上部への応力が大きくなってしまうことにより、LEDチップ5が割れてしまうといった問題が生じてしまう。このため、第1封止樹脂部71を同じ材料を同じ分量だけ用いて形成した下部封止樹脂部71d1と上部封止樹脂部71d2とで構成し、これら下部封止樹脂部71d1及び上部封止樹脂部71d2でLEDチップ5全体を覆うことにより、LEDチップ全体にかかる応力を等しくより小さくすることができるため、LEDチップ5の割れ及びヒビといった不良を低減することができる。 Thus, according to the present embodiment , the first sealing resin portion 71 is cured because the first sealing resin portion 71 is configured by the lower sealing resin portion 71d1 and the upper sealing resin portion 71d2 having similar shapes. The stress on the LED chip 5 during the process can be reduced. For example, when the first sealing resin portion 71 is composed of only the lower sealing resin portion 71d1, the upper portion of the LED chip 5 is exposed from the first sealing resin portion 71 and the first sealing resin portion 71 is 2 Since the resin amount of the sealing resin portion 72 is large, the stress on the upper part of the LED chip 5 in the process of curing the second sealing resin portion 72 is increased, so that the LED chip 5 is broken. Will occur. For this reason, the first sealing resin portion 71 is composed of a lower sealing resin portion 71d1 and an upper sealing resin portion 71d2 formed using the same amount of the same material, and the lower sealing resin portion 71d1 and the upper sealing resin portion 71d1. By covering the entire LED chip 5 with the resin portion 71d2, the stress applied to the entire LED chip can be equally reduced, so that defects such as cracks and cracks in the LED chip 5 can be reduced.

なお、本形態のチップ部品型LEDは、第1封止樹脂部71を類似した形状の下部封止樹脂部71d1と上部封止樹脂部71d2とで構成した点以外は前述の基本形態1と同様の構成を備えたものであり、第1封止樹脂部71以外の構成については詳細な説明を省略する。また、本形態のチップ部品型LEDの製造方法についても、前記下部封止樹脂部71d1及び上部封止樹脂部71d2をトランスファーモールドにより形成する点以外は、図2を参照しつつ説明した前述の基本形態1のチップ部品型LEDの製造方法と同様の手順であるため詳細な説明を省略する。 The chip component type LED of this embodiment is the same as the basic embodiment 1 except that the first sealing resin portion 71 is composed of a lower sealing resin portion 71d1 and an upper sealing resin portion 71d2 having similar shapes. The detailed description of the configuration other than the first sealing resin portion 71 is omitted. Also for the manufacturing method of the chip component type LED of this embodiment , the basic described above with reference to FIG. 2 except that the lower sealing resin portion 71d1 and the upper sealing resin portion 71d2 are formed by transfer molding. Since it is the same procedure as the manufacturing method of the chip component type LED of the form 1 , detailed description is omitted.

なお、前述の基本形態1〜2、実施形態1、および参考形態1においては、1個のチップ部品型LEDを1個のLEDチップのみで構成しているが、本発明はこの構成に限定されるものではなく、1個のチップ部品型LEDを複数個のLEDチップで構成してもよい。この場合、複数子のLEDチップを個々に動作させることができるように、LEDチップ毎に配線パターン及び凹穴を形成する。このような構成において、各LEDチップの発光色(例えば青、赤、黄または緑色)を異ならせておくことにより、多色発光のチップ部品型LEDを得ることができる。 In the basic forms 1 and 2, the first embodiment, and the reference form 1 described above, one chip component type LED is configured by only one LED chip, but the present invention is limited to this configuration. Instead, one chip component type LED may be composed of a plurality of LED chips. In this case, a wiring pattern and a recessed hole are formed for each LED chip so that the plurality of LED chips can be individually operated. In such a configuration, a multi-color chip component type LED can be obtained by making the emission colors (for example, blue, red, yellow or green) of each LED chip different.

また、前述の基本形態1〜2および実施形態1のチップ部品型LEDにおいては、設計に応じてLEDチップの発光色を変更できるものとし、前述の参考形態1のチップ部品型LEDにおいては、設計に応じてLEDチップの発光色を選択できるものとする。 Further, in the chip component type LED of the basic forms 1 and 2 and the first embodiment, the emission color of the LED chip can be changed according to the design. In the chip component type LED of the first reference embodiment , the design is designed. It is assumed that the emission color of the LED chip can be selected according to the above.

本発明のチップ部品型LEDは、透明基板の厚さよりも高いLEDチップを用いてチップ部品型LEDを形成する際に活用できる。   The chip component type LED of the present invention can be utilized when forming a chip component type LED using an LED chip higher than the thickness of the transparent substrate.

本発明のチップ部品型LEDの基本形態1を示す断面図である。It is sectional drawing which shows the basic form 1 of chip component type LED of this invention. 図1に示すチップ部品型LEDの製造方法の一例を示す工程説明図である。It is process explanatory drawing which shows an example of the manufacturing method of chip component type LED shown in FIG. 図1に示す基本形態1のチップ部品型LEDの変形例1を示す断面図である。It is sectional drawing which shows the modification 1 of chip component type LED of the basic form 1 shown in FIG. 本発明のチップ部品型LEDの基本形態2を示す断面図である。It is sectional drawing which shows the basic form 2 of chip component type | mold LED of this invention. 図4に示すチップ部品型LEDの製造方法の一例を示す工程説明図である。It is process explanatory drawing which shows an example of the manufacturing method of chip component type LED shown in FIG. 本発明のチップ部品型LEDの実施形態1を示す断面図である。It is sectional drawing which shows Embodiment 1 of chip component type LED of this invention. 図6に示すチップ部品型LEDの平面図である。It is a top view of chip component type LED shown in FIG. 図6に示すチップ部品型LEDの製造方法の一例を示す工程説明図である。It is process explanatory drawing which shows an example of the manufacturing method of chip component type LED shown in FIG. ップ部品型LEDの参考形態1を示す断面図である。It is a sectional view showing a reference embodiment 1 Ji-up component type LED. 従来のチップ部品型LEDの一例を示す説明図である。It is explanatory drawing which shows an example of the conventional chip component type LED. 従来のチップ部品型LEDの他の例を示す説明図である。It is explanatory drawing which shows the other example of the conventional chip component type LED.

符号の説明Explanation of symbols

2a 金属薄膜(第1配線パターン)
2b 金属薄膜(第2配線パターン)
2c 金属薄膜(第3配線パターン)
3a 第1凹穴
3b 第2凹穴
3c 第3凹穴
4a,4b 金属薄膜
5 LEDチップ
6,6a,6b 金属細線
7 封止樹脂部
71 第1封止樹脂部
71d1 下部封止樹脂部
71d2 上部封止樹脂部
72 第2封止樹脂部
10,20,30,40 チップ部品型LED
11 凹溝部
41 LEDチップ搭載位置
42,43 金属細線接続位置
45 メッキ層
71 第1封止樹脂部
72 第2封止樹脂部
2a Metal thin film (first wiring pattern)
2b Metal thin film (second wiring pattern)
2c Metal thin film (third wiring pattern)
3a 1st recessed hole 3b 2nd recessed hole 3c 3rd recessed hole 4a, 4b Metal thin film 5 LED chip 6, 6a, 6b Metal fine wire 7 Sealing resin part 71 1st sealing resin part 71d1 Lower sealing resin part 71d2 Upper part Sealing resin part 72 Second sealing resin part 10, 20, 30, 40 Chip component type LED
DESCRIPTION OF SYMBOLS 11 Groove part 41 LED chip mounting position 42,43 Metal fine wire connection position 45 Plating layer 71 1st sealing resin part 72 2nd sealing resin part

Claims (9)

LEDチップ搭載用の第1凹穴と金属細線接続用の第2凹穴とが形成された絶縁基板の前記第1凹穴を含む部分に第1配線パターンとなる金属薄板が形成され、前記第2凹穴を含む部分に第2配線パターンとなる金属薄板が形成され、前記第1凹穴内の金属薄板上にLEDチップが実装され、前記LEDチップが金属細線を介して前記第2凹穴内の金属薄板に電気的に接続されており、
前記第1凹穴を含むLEDチップと前記金属細線の少なくとも一部分とは、シリコーン樹脂微粒子、光拡散剤またはシランカップリング剤を含有する第1透明樹脂を用いて形成された第1封止樹脂部にて封止され、
前記第1封止樹脂部を含む前記絶縁基板の表面は、第2透明樹脂を用いて形成された第2封止樹脂部にて封止され、
前記第1封止樹脂部と前記第2封止樹脂部とは異なる材料により形成されており、
前記絶縁基板の前記第1凹穴と第2凹穴とを仕切る仕切壁部に、前記第1凹穴と第2凹穴とを跨るようにして凹溝部が形成されており、前記凹溝部の底面に前記金属細線の略中央部がワイヤボンディングされていること
を特徴とするチップ部品型LED。
A thin metal plate serving as a first wiring pattern is formed on a portion including the first concave hole of the insulating substrate in which the first concave hole for mounting the LED chip and the second concave hole for connecting the thin metal wire are formed, and the first 2 metal sheet serving as the second interconnection pattern is formed concave hole in a portion containing, LED chip is mounted on the metal sheet in the first recess hole, said LED chip within said second recess hole through the thin metal wire Electrically connected to the metal sheet ,
Said LED chip and at least a portion of the thin metal wires including a first recess hole, the first sealing resin portion formed with a first transparent resin containing silicone resin fine particles, the light diffusing agent or a silane coupling agent Sealed with
The surface of the insulating substrate including the first sealing resin portion is sealed with a second sealing resin portion formed using a second transparent resin,
Wherein the first seal resin portion and the second seal resin portion are formed of different materials,
A groove portion is formed in the partition wall portion that partitions the first groove hole and the second groove hole of the insulating substrate so as to straddle the first groove hole and the second groove hole. A chip component type LED , wherein a substantially central portion of the metal thin wire is wire-bonded to a bottom surface .
請求項1記載のチップ部品型LEDにおいて、
前記第1透明樹脂が液状シリコーン系樹脂であり、前記第2透明樹脂が液状エポキシ系樹脂であるチップ部品型LED。
The chip component type LED according to claim 1,
The chip component type LED in which the first transparent resin is a liquid silicone resin and the second transparent resin is a liquid epoxy resin.
請求項1記載のチップ部品型LEDにおいて、
前記第1封止樹脂部は、前記第1凹穴を含むLEDチップと前記第2凹穴を含む金属細線の全体とを封止しているチップ部品型LED。
The chip component type LED according to claim 1,
The first sealing resin portion is a chip component type LED that seals the LED chip including the first concave hole and the whole of the fine metal wire including the second concave hole.
請求項1記載のチップ部品型LEDにおいて、
前記LEDチップの垂直断面方向の寸法、前記絶縁基板の垂直断面方向の寸法よりも大きいチップ部品型LED。
The chip component type LED according to claim 1,
A chip component type LED in which the vertical cross-sectional dimension of the LED chip is larger than the vertical cross-sectional dimension of the insulating substrate.
請求項1記載のチップ部品型LEDにおいて、
前記光拡散剤、炭酸カルシウム、シリカ、シリコーン、硫化亜鉛、酸化亜鉛、酸化チタン、リン酸チタン、チタン酸マグネシウム、マイカ、ガラスフィラー、硫酸バリウム、クレー(粘土)、タルク、変成シリコーン樹脂を用いて形成されたゴム状弾性体、またはポリメチルシルセスオキサンの無機系拡散剤であるチップ部品型LED。
The chip component type LED according to claim 1,
The light diffusing agent is used calcium carbonate, silica, silicones, zinc sulfide, zinc oxide, titanium oxide, titanium phosphate, magnesium titanate, mica, glass filler, barium sulfate, clay (clay), talc, modified silicone resin A chip-part type LED which is a rubber-like elastic body formed by using an inorganic diffusing agent of polymethylsilsesoxane.
請求項1記載のチップ部品型LEDにおいて、
前記光拡散剤、アクリル系、スチレン系、ポリエステル系、ポリオレフィン系、ウレタン系、ナイロン系、メタクリレート−スチレン系、有機フッ素系またはノルボルネン系の有機系拡散剤であるチップ部品型LED。
The chip component type LED according to claim 1,
The chip component type LED, wherein the light diffusing agent is an acrylic, styrene, polyester, polyolefin, urethane, nylon, methacrylate-styrene, organic fluorine or norbornene organic diffusing agent.
請求項1から請求項4までのいずれか1つに記載のチップ部品型LEDにおいて、
前記第1凹穴の底面と前記第2凹穴の底面とは、同じ高さまたは略同じ高さであるチップ部品型LED。
In the chip-type LED according to any one of claims 1 to 4,
The chip component type LED in which the bottom surface of the first concave hole and the bottom surface of the second concave hole have the same height or substantially the same height.
請求項1から請求項4までのいずれか1つに記載のチップ部品型LEDにおいて、
前記第2凹穴は、複数個形成されているチップ部品型LED。
In the chip-type LED according to any one of claims 1 to 4,
The second recessed hole is a chip component type LED in which a plurality are formed.
請求項1から請求項4までのいずれか1つに記載のチップ部品型LEDにおいて、
前記第1凹穴及び第2凹穴の内周面、前記絶縁基板の裏面側から表面側に向かって漸次拡開する傾斜面に形成されているチップ部品型LED。
In the chip-type LED according to any one of claims 1 to 4,
The chip part type LED in which the inner peripheral surfaces of the first concave hole and the second concave hole are formed on inclined surfaces that gradually expand from the back surface side to the front surface side of the insulating substrate.
JP2008104897A 2008-04-14 2008-04-14 Chip component type LED Expired - Fee Related JP5207807B2 (en)

Priority Applications (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP2008104897A JP5207807B2 (en) 2008-04-14 2008-04-14 Chip component type LED

Applications Claiming Priority (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP2008104897A JP5207807B2 (en) 2008-04-14 2008-04-14 Chip component type LED

Publications (2)

Publication Number Publication Date
JP2009259913A JP2009259913A (en) 2009-11-05
JP5207807B2 true JP5207807B2 (en) 2013-06-12

Family

ID=41386997

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
JP2008104897A Expired - Fee Related JP5207807B2 (en) 2008-04-14 2008-04-14 Chip component type LED

Country Status (1)

Country Link
JP (1) JP5207807B2 (en)

Families Citing this family (11)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP5375630B2 (en) * 2010-01-25 2013-12-25 大日本印刷株式会社 Lead frame with resin and manufacturing method thereof, and LED element package and manufacturing method thereof
DE102010050343A1 (en) * 2010-11-05 2012-05-10 Heraeus Materials Technology Gmbh & Co. Kg Chip-integrated via contacting of multi-layer substrates
KR101197779B1 (en) 2011-04-04 2012-11-06 엘지이노텍 주식회사 Film type optical component package and manufacturing method thereof
CN102751394A (en) * 2011-04-19 2012-10-24 陈可 LED (light emitting diode) pixel tube light distribution process and novel LED pixel tube
KR20120128962A (en) 2011-05-18 2012-11-28 삼성전자주식회사 Light emitting diode package and manufacturing method of the same
KR101234011B1 (en) 2011-05-25 2013-02-18 한국광기술원 Encapsulant having sphere with different hardness and led package using the same
JP5914006B2 (en) * 2012-01-20 2016-05-11 スタンレー電気株式会社 Semiconductor light emitting device
CN103515512A (en) * 2012-06-29 2014-01-15 四川柏狮光电技术有限公司 LED secondary packing process and LED pixel tube manufactured through process
JP6831624B2 (en) * 2015-11-27 2021-02-17 ローム株式会社 LED light emitting device
JP2017157684A (en) * 2016-03-02 2017-09-07 ローム株式会社 Light-emitting device and manufacturing method thereof
JP2018060932A (en) * 2016-10-06 2018-04-12 ローム株式会社 LED package

Family Cites Families (14)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPS59176165U (en) * 1983-05-11 1984-11-24 株式会社東芝 Optical semiconductor device
JPH1022422A (en) * 1996-07-04 1998-01-23 Nippon Motorola Ltd Double layer resin-sealed integrated circuit device and manufacture thereof
JPH11251644A (en) * 1998-02-27 1999-09-17 Matsushita Electron Corp Semiconductor light emitting device
DE10020465A1 (en) * 2000-04-26 2001-11-08 Osram Opto Semiconductors Gmbh Radiation-emitting semiconductor component with luminescence conversion element
JP2002299699A (en) * 2001-03-30 2002-10-11 Sumitomo Electric Ind Ltd Light-emitting device and method of manufacturing the same
US6682331B1 (en) * 2002-09-20 2004-01-27 Agilent Technologies, Inc. Molding apparatus for molding light emitting diode lamps
JP2005079329A (en) * 2003-08-29 2005-03-24 Stanley Electric Co Ltd Surface-mounting light emitting diode
JP2005167091A (en) * 2003-12-04 2005-06-23 Nitto Denko Corp Optical semiconductor device
JP4923408B2 (en) * 2005-01-26 2012-04-25 パナソニック株式会社 Method for manufacturing light emitting device
TWM295339U (en) * 2005-10-28 2006-08-01 Turning Prec Ind Co Ltd Multilayer LED package structure
JP4860985B2 (en) * 2005-11-11 2012-01-25 株式会社カネカ Silicone composition containing silicone polymer particles
JP4759381B2 (en) * 2005-12-13 2011-08-31 山一電機株式会社 Device-embedded circuit board and manufacturing method thereof
JP2007173287A (en) * 2005-12-19 2007-07-05 Kyocera Corp Wiring board for light-emitting element and light-emitting device
KR101523482B1 (en) * 2006-08-22 2015-05-28 미쓰비시 가가꾸 가부시키가이샤 Semiconductor device member, liquid for forming semiconductor device member, method for manufacturing semiconductor device member, and liquid for forming semiconductor device member using the method, phosphor composition, semiconductor light emitting device, illuminating apparatus and image display apparatus

Also Published As

Publication number Publication date
JP2009259913A (en) 2009-11-05

Similar Documents

Publication Publication Date Title
JP5207807B2 (en) Chip component type LED
TWI476962B (en) Light emitting device
US7985980B2 (en) Chip-type LED and method for manufacturing the same
JP5052326B2 (en) Chip component type LED and manufacturing method thereof
US8772816B2 (en) Light emitting device and method of manufacturing the same
US7866853B2 (en) Light-emitting element mounting substrate and manufacturing method thereof, light-emitting element module and manufacturing method thereof, display device, lighting device, and traffic light
CN108054254B (en) Semiconductor light emitting structure and semiconductor packaging structure
TWI505519B (en) Light-emitting diode light bar and the method for manufacturing the same
JP2009021426A (en) Chip component type led and method of manufacturing the same
TW201327948A (en) Light emitting diode packaging and method of making
JP2012231068A (en) Light emitting device
US10566511B2 (en) Light-emitting device and method of manufacturing the same
JP2014072415A (en) Light-emitting device
US20140177242A1 (en) Substrate for Optical Device
JP2008198782A (en) Light-emitting device
JP5730711B2 (en) Light emitting device
KR200447448Y1 (en) Lead Frame Package for LED Device and LED Package using the same
JP2009081194A (en) Light emitting module and its manufacturing method
KR20130103224A (en) Light emitting diode package and method of manufacturing the same
KR100634928B1 (en) Led lamp and method for manufacturing the same
JP2012216654A (en) Resin mold frame and optical semiconductor device
JP2016018990A (en) Package structure and method of manufacturing the same and mounting member
WO2016086446A1 (en) Light-emitting diode and manufacturing method for light-emitting diode
TWI420711B (en) Light emitting device package and fabricating method thereof
TWI591859B (en) Light-emitting semiconductor packages and related methods

Legal Events

Date Code Title Description
A621 Written request for application examination

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A621

Effective date: 20100826

A977 Report on retrieval

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A971007

Effective date: 20120328

A131 Notification of reasons for refusal

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131

Effective date: 20121120

A521 Written amendment

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523

Effective date: 20121227

RD02 Notification of acceptance of power of attorney

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A7422

Effective date: 20121227

TRDD Decision of grant or rejection written
A01 Written decision to grant a patent or to grant a registration (utility model)

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A01

Effective date: 20130129

A61 First payment of annual fees (during grant procedure)

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A61

Effective date: 20130219

FPAY Renewal fee payment (event date is renewal date of database)

Free format text: PAYMENT UNTIL: 20160301

Year of fee payment: 3

R150 Certificate of patent or registration of utility model

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R150

LAPS Cancellation because of no payment of annual fees