JP5201814B2 - スパッタリング装置 - Google Patents
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Description
ターゲット110の裏面には、円形リング状のリング磁石115と、その内側の中心磁石116とを有する磁気回路112が配置されている。
このスパッタリング装置150では、磁気回路112を往復移動させなくても、同じ位置を繰り返し通過させることができる。
請求項2記載の発明は、請求項1記載のスパッタリング装置であって、前記磁気回路を複数有し、前記各磁気回路は同じ前記搬送経路に並べられ、前記移動装置は、前記磁気回路を同じ周回方向に周回移動させるように構成されたスパッタリング装置である。
請求項3記載の発明は、請求項1又は請求項2のいずれか1項記載のスパッタリング装置であって、前記磁気回路が前記ターゲットの前記裏面位置を通過する間、該磁気回路と前記ターゲット表面までの距離は一定であるスパッタリング装置である。
請求項4記載の発明は、請求項1乃至請求項3のいずれか1項記載のスパッタリング装置であって、前記搬送経路の、前記ターゲットの前記真裏位置に位置する部分は直線状にされたスパッタリング装置である。
磁気回路がターゲット真裏位置にある時には、その磁気回路が形成する磁力線がターゲット表面を通り、その磁力線によってマグネトロンスパッタが起こる。
このスパッタリング装置1は、真空槽8と、ターゲット10と、複数の磁気回路12とを有している。
真空槽8の内部にはカソード電極(バッキングプレート)26が配置されている。ターゲット10は板状であって、裏面がカソード電極26の表面に密着固定されている。
真空槽8の外部であって、ターゲット10の裏面側には、複数の磁気回路12が所定間隔を空けて一列に並べられている。
ターゲット10の裏面側にはリング状の軌道22が設けられている。
磁気回路12は中心が軌道22上に位置した状態で移動するから、磁気回路12中心の移動軌跡25cは、軌道22と一致する。
ここでは、ターゲット10の平面形状は長方形であって、軌道22のターゲット10真裏位置19にある部分は、ターゲット10の二本の短辺のうち、一方の短辺の中央位置から、他方の短辺の中央位置に亘っている。
軌道22のターゲット10の真裏位置19よりも外側に位置する部分は、出口から出た磁気回路12の方向を逆向きにするためと、逆向きにされた方向を元に戻すために、少なくとも一部分が曲げられており、磁気回路12はターゲット10の真裏位置19の外側の領域で移動方向が曲げられ、入口2に戻る。
以上は、軌道22がターゲット10表面と平行な平面内に位置する場合について説明したが、本発明はこれに限定されるものではない。
この軌道32上を磁気回路12が周回移動する際、ターゲット10裏面と最も近い場所では磁気回路12がターゲット10裏面に向けられるが、ターゲット10裏面から遠ざかるとその向きを変え、ターゲット10裏面から最も遠い場所では、ヨーク14がターゲット10裏面に向けられる。
磁気回路12はターゲット10の真裏位置19であって、その先端がターゲット10裏面に向けられる場所を移動する時に、ターゲット10表面を通る磁力線を形成する。
例えば、図5(b)に示したように、ターゲット10の入口2から出口3までの間で、入口2から出口3まで向かうベクトルvが直線になるのであれば、そのベクトルvに沿って振幅移動をしながら移動してもよく、磁気回路12が振幅移動する分、ターゲット10表面のエロージョン領域が広くなる。
要するに、本願発明は、軌道22、32のうち、出口3から入口2に戻るために、磁気回路12が方向転換をする部分がターゲット10の真裏位置19よりも外側の領域にあればよい。
磁気回路12の構造も特に限定されるものではない。例えば、リング磁石15のリング形状は円形の他、四角以上の多角形状も含まれ、楕円など、細長の形状でもよい。また、中心磁石16が他の磁石で取り囲まれるのであれば、リング磁石15の変わりに、複数の磁石を中心磁石16の周囲に並べてもよい。
また、磁気回路12が軌道32上を移動させるときには、磁気回路12を、リング磁石15のリング中心を通る中心軸線を中心として回転させてもよい。
Claims (4)
- 真空槽と、
前記真空槽内に配置されたターゲットと、
前記ターゲットの表面に磁力線を形成する磁気回路と、
前記磁気回路をリング状の搬送経路に沿って周回移動させる移動装置とを有し、
前記搬送経路は一部が前記ターゲットの真裏位置よりも外側の領域に配置され、
前記搬送経路のターゲットの真裏位置よりも外側の領域に位置する前記磁気回路は、前記移動装置によって、入口から前記ターゲットの真裏位置の領域に入り、前記ターゲットの表面と平行な平面内で振動しながら直線状の前記搬送経路に沿って移動し、前記真裏位置の領域を通過して出口から前記真裏位置よりも外側の領域に出るように構成されたスパッタリング装置。 - 前記磁気回路を複数有し、
前記各磁気回路は同じ前記搬送経路に並べられ、
前記移動装置は、前記磁気回路を同じ周回方向に周回移動させるように構成された請求項1記載のスパッタリング装置。 - 前記磁気回路が前記ターゲットの前記裏面位置を通過する間、該磁気回路と前記ターゲット表面までの距離は一定である請求項1又は請求項2のいずれか1項記載のスパッタリング装置。
- 前記搬送経路の、前記ターゲットの前記真裏位置に位置する部分は直線状にされた請求項1乃至請求項3のいずれか1項記載のスパッタリング装置。
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