JP5167999B2 - 基板移送システム及び基板移送方法 - Google Patents

Description

本発明は、第１基板処理装置から該第１基板処理装置にＹ軸方向に離隔した第２基板処理装置へガラス基板等の基板（薄板基板）を移送（搬送）する基板移送システム及び基板移送方法に関する。

クリーン搬送の分野で用いられる基板移送システムの先行技術として特許文献１に示すものがあり、この先行技術に係る基板移送システムの構成等は、次のようになる。

先行技術に係る基板移送システムは、台車（走行フレーム）を具備しており、この台車は、第１基板処理装置に隣接する第１隣接位置と第２基板処理装置に隣接する第２隣接位置との間で一対のガイドレールを介してＹ軸方向へ移動可能である。また、台車には、支持台が設けられており、この支持台には、第１基板処理装置から基板を受け取る複数の受取ローラが水平な軸心周りに回転可能に設けられている。更に、台車には、第２基板処理装置へ基板を送り出す複数の送出アームが設けられており、複数の送出アームは、複数の受取ローラから基板を受け取ることができるように構成されている。なお、第１基板処理装置の一部である固定フレームには、第１基板処理装置から基板を送り出す複数の補助ローラ（送出ローラ）が水平な軸心周りに回転可能に設けられている。

従って、台車を第１基板処理装置に接近するＹ軸方向へ移動させて、第１隣接位置に位置させる。次に、複数の受取ローラ及び複数の補助ローラを回転させて、第１基板処理装置から送り出した基板を複数の受取ローラによって受け取る。更に、複数の送出アームによって複数の受取ローラから基板を受け取ると共に、台車を第１隣接位置から第２隣接位置までＹ軸方向へ移動させる。そして、複数の送出アームによって第２基板処理装置へ基板を送り出す。以上により、第１基板処理装置から第２基板処理装置へ基板を移送（搬送）することができる。
特開２００５−６４４３１号公報

ところで、前述のように、先行技術に係る基板移送システムにあっては、第１基板処理装置から第２基板処理装置へ基板を移送するには、台車を第１隣接位置から第２隣接位置までＹ軸方向へ移動させる必要がある。一方、台車に作用する重量（台車、支持台、複数の受取ローラ、送出アーム等の総重量）は大きく、それに伴い、台車の移動加速度、換言すれば、基板移送システムにおける基板の移送加速度（搬送加速度）を十分に高めることができない。そのため、第１基板処理装置から第２基板処理装置へ基板を移送するまでの移送時間（搬送時間）が長くなり、基板移送システムを液晶パネル等の製品の生産ラインに用いても、生産性を向上させることが困難であるという問題がある。

そこで、本発明は、前述の問題を解決することができる、新規な構成の基板移送システム及び基板移送方法を提供することを目的とする。

本発明の第１の特徴は、第１基板処理装置から該第１基板処理装置に対してＹ軸方向に離隔した第２基板処理装置へ基板を浮上させた状態で搬送する基板移送システムにおいて、前記第１基板処理装置にＸ軸方向に隣接する第１隣接領域、及び前記第２基板処理装置にＸ軸方向に隣接する第２隣接領域を有し、Ｙ軸方向へ延びたシステムベースと、前記システムベースにおける前記第１隣接領域から前記第２隣接領域にかけて設けられ、基板を基準浮上高さ位置まで浮上させる浮上ユニットと、前記システムベースの前記第１隣接領域にＸ軸方向へ移動可能かつＹ軸方向に間隔を置いて設けられ、Ｘ軸方向へそれぞれ延びてあって、先端側に基板の裏面又は表面を吸着する引出用吸着パッドをそれぞれ有し、前記第１基板処理装置から前記第１隣接領域に基板を引き出す複数の引出アームと、前記システムベースの前記第２隣接領域にＸ軸方向へ移動可能かつＹ軸方向に間隔を置いて設けられ、Ｘ軸方向へそれぞれ延びてあって、先端側に基板の裏面又は表面を吸着する送出用吸着パッドをそれぞれ有し、前記第２隣接領域から前記第２基板処理装置へ基板を送り出す複数の送出アームと、前記システムベースのＸ軸方向の一端側に鉛直な軸心周りに回転可能かつ前記第１隣接領域から前記第２隣接領域にかけてＹ軸方向に間隔を置いて設けられた複数の規制ローラと、前記システムベースのＸ軸方向の他端側に鉛直な軸心周りに回転可能かつ前記第１隣接領域から前記第２隣接領域にかけてＹ軸方向に間隔を置いて設けられ、それぞれＸ軸方向へ移動可能であって、複数の前記規制ローラと協働して基板のＸ軸方向側の両端面を挟持する複数の押えローラと、を具備し、複数の前記規制ローラ及び複数の前記押えローラのうち、前記第１基板処理装置側寄りのローラ及び前記第２基板処理装置側寄りのローラは、前記基準浮上高さ位置に対して出没可能に構成され、前記第１基板処理装置から前記第１隣接領域に基板を引き出す前に前記第１基板処理装置側寄りのローラを前記基準浮上高さ位置に対して没入させ、かつ前記第１隣接領域から前記第２隣接領域へ基板を浮上させた状態で搬送する前に前記第１基板処理装置側寄りのローラ及び前記第２基板処理装置側寄りのローラを前記基準浮上高さ位置に対して突出させ、かつ前記第２基板処理装置から前記第２隣接領域に基板を送り出す前に前記第２基板処理装置側寄りのローラを前記基準浮上高さ位置に対して没入させるように構成され、各引出アームがそのＸ軸方向の移動によってＹ軸方向に隣接する前記第１基板処理装置側寄りのローラの間を通って進退可能に構成され、各送出アームがそのＸ軸方向の移動によってＹ軸方向に隣接する前記第２基板処理装置側寄りのローラの間を通って進退可能に構成されたことを要旨とする。

なお、本願の特許請求の範囲及び明細書において、「設けられ」とは、直接的に設けられたことの他に、介在部材を介して間接的に設けられたことを含む意である。また、「第１基板処理装置」及び「第２基板処理装置」は、基板に対して保管処理、プロセス処理、搬送処理等の処理を行う装置であって、プロセス処理には、エッチング処理、ＣＶＤ処理、ＰＶＤ処理等が含まれる。

第１の特徴によると、複数の前記引出アームを前記第１基板処理装置のポートに接近するＸ軸方向へ移動させて、複数の前記引出用吸着パッドによって前記第１基板処理装置の所定位置に位置した基板を裏面又は表面を吸着する。また、前記第１基板処理装置側寄りのローラを前記基準浮上高さ位置に対して没入させる。そして、前記浮上ユニットを動作（浮上動作）させつつ、複数の前記引出アームを前記第１基板処理装置のポートに離反するＸ軸方向へ移動させて、前記第１基板処理装置から前記第１隣接領域に基板を引き出す。

前記第１基板処理装置から前記第１隣接領域に基板を引き出した後に、前記第１基板処理装置側寄りのローラを前記基準浮上高さ位置に対して突出させて、複数の押えローラをＸ軸方向の一方側へ移動させて、複数の前記押えローラと複数の規制ローラによって基板のＸ軸方向側の両端面を挟持する。また、複数の前記引出用吸着パッドによる吸着状態を解除する。そして、複数の前記規制ローラ及び複数の前記押えローラを回転させて、前記第１隣接領域から前記第２隣接領域へ基板を浮上させた状態で搬送する。

前記第１隣接領域から前記第２隣接領域へ基板を搬送した後に、前記第２基板処理装置のポートにＸ軸方向に離反させた複数の前記送出用吸着パッドによって基板の裏面又は表面を吸着し、複数の前記押えローラをＸ軸方向の他方側へ移動させて、複数の前記押えローラと複数の前記規制ローラによる挟持状態を解除する。また、前記第２基板処理装置側寄りのローラを前記基準浮上高さ位置に対して没入させる。そして、複数の前記送出アームを前記第２基板処理装置のポートに接近するＸ軸方向へ移動させて、前記第２隣接領域から前記第２基板処理装置へ基板を送り出して、複数の前記送出用吸着パッドによる吸着状態を解除する。

以上により、前記第１基板処理装置から前記第２基板処理装置へ基板を浮上させた状態で移送することができる。

要するに、複数の前記引出アーム及び複数の前記送出アームをＸ軸方向へ移動させたり、複数の前記押えローラ及び複数の前記規制ローラを回転させたりすることにより、台車を用いることなく、前記第１基板処理装置から前記第２基板処理装置へ基板を浮上させた状態で移送することができる。また、前記引出用吸着パッド及び前記送出用吸着パッドによって基板の裏面又は表面を吸着することにより、基板の移送中における基板と前記引出アーム間の滑り及び基板と前記送出アーム間の滑りをほとんどなくすことができると共に、複数の前記押えローラと複数の前記規制ローラによって基板のＸ軸方向側の両端面を挟持することにより、基板の移送中における基板と前記押えローラ間の滑り及び基板と前記規制ローラ間の滑りを極力低減することができる。これにより、前記基板移送システムにおける基板の移送速度（搬送速度）及び移送加速度（搬送加速度）を十分に高めることができる。

前記システムベースのＸ軸方向の一端側に複数の前記規制ローラが前記第１隣接領域から前記第２隣接領域にかけてＹ軸方向に間隔を置いて設けられ、前記システムベースのＸ軸方向の他端側に複数の前記押えローラが前記第１隣接領域から前記第２隣接領域にかけてＹ軸方向に間隔を置いて設けられているため、前記第１隣接領域と前記第２隣接領域間におけるＹ軸方向の間隔の大小に拘わらず、前記第１隣接領域から前記第２隣接領域へ基板を浮上させた状態で移送することができる。

本発明の第２の特徴は、第１の特徴からなる基板移送システムを用いて、第１基板処理装置から該第１基板処理装置に対してＹ軸方向に離隔した第２基板処理装置へ基板を浮上させた状態で搬送する基板移送方法において、複数の前記引出アームを前記第１基板処理装置のポートに接近するＸ軸方向へ移動させて、複数の前記引出用吸着パッドによって前記第１基板処理装置の所定位置に位置した基板を裏面又は表面を吸着すると共に、前記第１基板処理装置側寄りのローラを前記基準浮上高さ位置に対して没入させる第１ステップと、前記第１ステップの終了後に、前記浮上ユニットを動作させつつ、複数の前記引出アームを前記第１基板処理装置のポートに離反するＸ軸方向へ移動させて、前記第１基板処理装置から前記第１隣接領域に基板を引き出す第２ステップと、前記第２ステップの終了後に、前記第１基板処理装置側寄りのローラを前記基準浮上高さ位置に対して突出させて、複数の前記押えローラをＸ軸方向の一方側へ移動させて、複数の前記押えローラと複数の規制ローラによって基板のＸ軸方向側の両端面を挟持すると共に、複数の前記引出用吸着パッドによる吸着状態を解除する第３ステップと、前記第３ステップの終了後に、複数の前記規制ローラ及び複数の前記押えローラを回転させて、前記第１隣接領域から前記第２隣接領域へ基板を浮上させた状態で搬送する第４ステップと、前記第４ステップの終了後に、前記第２基板処理装置のポートにＸ軸方向に離反させた複数の前記送出用吸着パッドによって基板の裏面又は表面を吸着し、複数の前記押えローラをＸ軸方向の他方側へ移動させて、複数の前記押えローラと複数の前記規制ローラによる挟持状態を解除すると共に、前記第２基板処理装置側寄りのローラを前記基準浮上高さ位置に対して没入させる第５ステップと、前記第５ステップの終了後に、複数の前記送出アームを前記第２基板処理装置のポートに接近するＸ軸方向へ移動させて、前記第２隣接領域から前記第２基板処理装置へ基板を送り出して、複数の前記引出用吸着パッドによる吸着状態を解除する第６ステップと、を具備したことを要旨とする。

第２の特徴によると、第１の特徴による作用と同様の作用を奏する。

本発明によれば、前記基板移送システムにおける基板の移送速度及び移送加速度を十分に高めることができるため、前記第１基板処理装置から前記第２基板処理装置へ基板を搬送するまでの移送時間（搬送時間）を大幅に短縮することができ、前記基板移送システムを製品の生産ラインに用いた場合において、生産性を十分に向上させることができる。

また、前記第１隣接領域と前記第２隣接領域間におけるＹ軸方向の間隔の大小に拘わらず、前記第１隣接領域から前記第２隣接領域へ基板を浮上させた状態で移送することができるため、前記第１基板処理装置と前記第２基板処理装置間のＹ軸方向のスペースを小さくして、工場のスペースの有効利用を図ることができる。

本発明の実施形態について図１から図１０を参照して説明する。

ここで、図１は、本発明の実施形態に係る基板移送システムの概略的な平面図、図２は、図１におけるII-II線に沿った図、図３は、図１におけるIII-III線に沿った図、図４は、図１におけるIV-IV線に沿った図、図５は、図１におけるV-V線に沿った図、図６は、図１におけるVI-VI線に沿った図、図７から図１０は、本発明の実施形態に係る基板移送方法を説明する図である。

図１に示すように、本発明の実施形態に係る基板移送システム１は、第１基板処理装置３から該第１基板処理装置３にＹ軸方向に離隔した第２基板処理装置５へガラス基板等の基板（薄板基板）Ｗを浮上させた状態で搬送（移送）するシステムである。基板移送システム１の具体的な構成を説明する前に、第１基板処理装置３及び第２基板処理装置５の構成について簡単に説明する。

第１基板処理装置３は、基板Ｗに対して保管処理を行う装置であって、装置本体（装置フレーム）７を具備している。また、装置本体７には、例えば特開平１１−７９３８８号公報及び特開２００５−６４４３１号公報に示すような公知の収納ケージ９が昇降可能に設けられており、この収納ケージ９は、基板Ｗを収納可能な複数段の収納部（図示省略）を有してあって、基板Ｗを取出し可能な取出高さ位置に最下段の収納部から順次位置決めできるように構成されている。更に、装置本体７には、取出高さ位置に位置決めした収納部において基板Ｗを基準浮上高さ位置（図２参照）まで浮上させる複数の浮上ユニット１１が設けられており、各浮上ユニット１１の上面には、エアを噴出する複数の孔状のノズル１１ｎがそれぞれ形成されている。

第２基板処理装置５は、第１基板処理装置３と同様に、基板Ｗに対して保管処理を行う装置であって、装置本体（装置フレーム）１３を具備している。また、装置本体１３には、収納ケージ１５が昇降可能に設けられており、この収納ケージ１５は、収納ケージ９と同様に、基板Ｗを収納可能な複数段の収納部（図示省略）を有してあって、基板Ｗを取入れ可能な取入高さ位置に最上段の収納部から順次位置決めできるように構成されている。更に、装置本体１３には、取入高さ位置に位置決めした収納部において基板Ｗを基準浮上高さ位置まで浮上させる複数の浮上ユニット１７が設けられており、各浮上ユニット１７の上面には、エアを噴出する複数の孔状のノズル１７ｎがそれぞれ形成されている。

なお、第１基板処理装置３及び第２基板処理装置５は、基板Ｗに対して保管処理を行う代わりに、基板Ｗに対してプロセス処理、搬送処理等の処理を行う装置であっても構わない。

続いて、本発明の実施形態に係る基板移送システム１の具体的な構成について説明する。

基板移送システム１は、Ｙ軸方向へ延びたシステムベース（システム本体）１９を具備しており、このシステムベース１９は、第１基板処理装置３にＸ軸方向に隣接する第１隣接領域Ａ１、第２基板処理装置５にＸ軸方向に隣接する第２隣接領域Ａ２、及び第１隣接領域Ａ１と第２隣接領域Ａ２の中間に位置する中間領域Ａｍを有している。なお、システムベース１９は、Ｙ軸方向に並んだ複数の固定フレームからなるものであっても構わない。

システムベース１９には、基板Ｗをエアの圧力によって基準浮上高さ位置まで浮上させる複数の浮上ユニット２１がＸ軸方向及びＹ軸方向に沿って設けられており、各浮上ユニット２１の上面には、エアを噴出する複数の孔状のノズル２１ｎがそれぞれ形成されている。なお、各浮上ユニット２１の上面に複数の孔状のノズル２１ｎがそれぞれ形成される代わりに、特開２００６−１８２５６３号公報に示すように、鉛直方向に対してユニット中心側へ傾斜した枠状のノズルが形成されるようにしても構わない。

図２及び図１に示すように、システムベース１９の第１隣接領域Ａ１には、Ｘ軸方向へ延びた一対の支持ブラケット２３がＹ軸方向に離隔して設けられており、各支持ブラケット２３には、Ｘ軸スライダ２５がＸ軸方向へ移動可能にそれぞれ設けられている。また、各Ｘ軸スライダ２５には、第１基板処理装置３から第１隣接領域Ａ１に基板Ｗを引き出す引出アーム２７が昇降ガイド機構２９を介して昇降可能にそれぞれ設けられている。換言すれば、システムベース１９の第１隣接領域Ａ１には、一対の引出アーム２７が支持ブラケット２３等を介してＸ軸方向へ移動可能及び昇降可能かつＹ軸方向に離隔して（Ｙ軸方向に間隔を置いて）設けられている。そして、各引出アーム２７は、Ｘ軸方向へ延びてあって、先端側（Ｘ軸方向の一端側）に、基板Ｗの裏面を吸着する引出用吸着パッド３１をそれぞれ有している。更に、各Ｘ軸スライダ２５には、対応関係にある引出アーム２７を昇降させる引出アーム昇降用エアシリンダ（引出アーム昇降用アクチュエータの一例）３３がそれぞれ設けられている。

各支持ブラケット２３には、Ｘ軸方向へ延びたエンドレス状のタイミングベルト３５が複数のプーリ３７を介して走行可能にそれぞれ設けられており、各Ｘ軸スライダ２５は、対応関係にあるタイミングベルト３５の適宜位置にそれぞれ連結されている。そして、片方の支持ブラケット２３の適宜位置には、一対の引出アーム２７をＸ軸スライダ２５と一体的にＸ軸方向へ移動させる引出アーム移動用モータ（引出アーム移動用アクチュエータの一例）３９が設けられており、この引出アーム移動用モータ３９の出力軸（図示省略）は、連結機構（図示省略）を介して一対のタイミングベルト３５に連動連結してある。

図３及び図１に示すように、システムベース１９の第２隣接領域Ａ２には、Ｘ軸方向へ延びた一対の支持ブラケット４１がＹ軸方向に離隔して設けられており、各支持ブラケット４１には、Ｘ軸スライダ４３がＸ軸方向へ移動可能にそれぞれ設けられている。また、各Ｘ軸スライダ４３には、第２隣接領域Ａ２から第２基板処理装置５へ基板Ｗを送り出す送出アーム４５が昇降ガイド機構４７を介して昇降可能にそれぞれ設けられている。換言すれば、システムベース１９の第２隣接領域Ａ２には、一対の送出アーム４５が支持ブラケット４１等を介してＸ軸方向へ移動可能及び昇降可能かつＹ軸方向に離隔して（Ｙ軸方向に間隔を置いて）設けられている。そして、各送出アーム４５は、Ｘ軸方向へ延びてあって、先端側（Ｘ軸方向の一端側）に、基板Ｗの裏面を吸着する送出用吸着パッド４９をそれぞれ有している。更に、各Ｘ軸スライダ４３には、対応関係にある送出アーム４５を昇降させる送出アーム昇降用エアシリンダ（送出アーム昇降用アクチュエータの一例）５１がそれぞれ設けられている。

各支持ブラケット４１には、Ｘ軸方向へ延びたエンドレス状のタイミングベルト５３が複数のプーリ５５を介して走行可能にそれぞれ設けられており、各Ｘ軸スライダ４３は、対応関係にあるタイミングベルト５３の適宜位置にそれぞれ連結されている。そして、片方の支持ブラケット４１の適宜位置には、一対の送出アーム４５をＸ軸スライダ４３と一体的にＸ軸方向へ移動させる送出アーム移動用モータ（送出アーム移動用アクチュエータの一例）５７が設けられており、この送出アーム移動用モータ５７の出力軸（図示省略）は、連結機構（図示省略）を介して一対のタイミングベルト５３に連動連結してある。

図４及び図１に示すように、システムベース１９のＸ軸方向の一端側には、第１昇降バー５９が一対の昇降ガイド機構６１を介して昇降可能に設けられており、この第１昇降バー５９は、第１隣接領域Ａ１から中間領域Ａｍに沿うようにＹ軸方向へ延びている。また、第１昇降バー５９には、複数の第１規制ローラ（第１基板処理装置３側寄りの規制ローラ）６３が鉛直な軸心周りに回転可能かつＹ軸方向に間隔を置いて設けられている。換言すれば、システムベース１９のＸ軸方向の一端側には、複数の第１規制ローラ６３が一対の第１昇降バー５９等を介して鉛直な軸心周りに回転可能かつ第１隣接領域Ａ１から中間領域ＡｍにかけてＹ軸方向に間隔を置いて設けられており、各第１規制ローラ６３は、第１昇降バー５９の昇降によって基準浮上高さ位置に対して出没可能にそれぞれ構成されている。そして、第１昇降バー５９の適宜位置には、複数の第１規制ローラ６３を同期して回転させる第１ローラ回転用モータ（第１ローラ回転用アクチュエータの一例）６５が設けられており、この第１ローラ回転用モータ６５の出力軸（図示省略）は、連結機構（図示省略）を介して複数の第１規制ローラ６３の回転軸に連動連結してあって、各第１規制ローラ６３は、それぞれ駆動ローラになっている。更に、システムベース１９の適宜位置には、複数の第１規制ローラ６３を基準浮上高さ位置に対して出没させる一対の第１ローラ出没用エアシリンダ（第１ローラ出没用アクチュエータの一例）６７が設けられている。

図５及び図１に示すように、システムベース１９のＸ軸方向の一端側には、第２昇降バー６９が一対の昇降ガイド機構７１を介して昇降可能に設けられており、この第２昇降バー６９は、中間領域Ａｍから第２隣接領域Ａ２に沿うようにＹ軸方向へ延びている。また、第２昇降バー６９には、複数の第２規制ローラ（第２基板処理装置５側寄りの規制ローラ）７３が鉛直な軸心周りに回転可能かつＹ軸方向に間隔を置いて設けられている。換言すれば、システムベース１９のＸ軸方向の一端側には、複数の第２規制ローラ７３が一対の第２昇降バー６９等を介して鉛直な軸心周りに回転可能かつ中間領域Ａｍから第２隣接領域Ａ２にかけてＹ軸方向に間隔を置いて設けられており、各第２規制ローラ７３は、第２昇降バー６９の昇降によって基準浮上高さ位置に対して出没可能にそれぞれ構成されている。そして、第２昇降バー６９の適宜位置には、複数の第２規制ローラ７３を同期して回転させる第２ローラ回転用モータ（第２ローラ回転用アクチュエータの一例）７５が設けられており、この第２ローラ回転用モータ７５の出力軸（図示省略）は、連結機構（図示省略）を介して複数の第２規制ローラ７３の回転軸に連動連結してあって、各第２規制ローラ７３は、それぞれ駆動ローラになっている。更に、システムベース１９の適宜位置には、複数の第２規制ローラ７３を基準浮上高さ位置に対して出没させる一対の第２ローラ出没用エアシリンダ（第２ローラ出没用アクチュエータの一例）７７が設けられている。

図６及び図１に示すように、システムベース１９のＸ軸方向の他端側には、複数のブラケット７９が第１隣接領域Ａ１から第２隣接領域Ａ２にかけてＹ軸方向に間隔を置いて設けられており、各ブラケット７９には、ローラ移動用エアシリンダ（ローラ移動用アクチュエータの一例）８１がそれぞれ設けられている。また、各ローラ移動用エアシリンダ８１は、システムベース１９に固定されたシリンダ本体８３と、このシリンダ本体８３にＸ軸方向へ移動可能に設けられたピストンロッド８５とを備えている。そして、各ローラ移動用エアシリンダ８１におけるシリンダ本体８３には、ローラ支持部材８７がＸ軸方向へ移動可能にそれぞれ設けられており、各ローラ移動用エアシリンダ８１におけるピストンロッド８５の先端部は、対応するローラ支持部材８７の適宜位置に連結されている。更に、各ローラ支持部材８７には、基板ＷのＸ軸方向側の片端面を押える押えローラ８９が鉛直な軸心周りに回転可能にそれぞれ設けられてあって、各押えローラ８９は、それぞれフリーローラになっている。

つまり、システムベース１９のＸ軸方向の他端側には、複数の押えローラ８９が複数のブラケット７９等を介して鉛直な軸心周りに回転可能かつ第１隣接領域Ａ１から第２隣接領域Ａ２にかけてＹ軸方向に間隔を置いて設けられている。また、各押えローラ８９は、対応するローラ移動用エアシリンダ８１の駆動によりそれぞれＸ軸方向へ移動するものであって、複数の押えローラ８９は、複数の規制ローラ（複数の第１規制ローラ６３及び複数の第２規制ローラ７３）と協働して基板ＷのＸ軸方向側の両端面を挟持するものである。

続いて、本発明の実施形態に係る基板移送方法について図６から図１０を参照して説明する。

本発明の実施形態に係る基板移送方法は、第１基板処理装置３から第２基板処理装置５へガラス基板等の基板（基板基板）Ｗを浮上させた状態で搬送（移送）する方法であって、第１ステップから第６ステップを備えている。そして、本発明の実施形態に係る基板移送方法の各ステップの具体的な内容は、次のようになる。

(i)第１ステップ
図７に示すように、引出アーム移動用モータ３９の駆動により一対の引出アーム２７を第１基板処理装置３のポート３ｐに接近するＸ軸方向（Ｘ軸方向の一方側）へ移動させることにより、一対の引出用吸着パッド３１を第１基板処理装置３の所定位置（取出位置に位置決めした収納ケージ９の収納部）に位置した基板Ｗの下方に位置させる。そして、一対の引出用吸着パッド３１の吸着面が基準浮上高さ位置に位置するように、一対の引出アーム昇降用エアシリンダ３３の駆動により一対の引出アーム２７を上昇させて、一対の引出用吸着パッド３１によって基板Ｗの裏面を吸着する。また、一対の第１ローラ出没用エアシリンダ６７の駆動により複数の第１規制ローラ６３を基準浮上高さ位置に対して没入させる。

なお、一対の引出アーム２７を第１基板処理装置３のポート３ｐに接近するＸ軸方向へ移動させる前に、複数の浮上ユニット１１のノズル１１ｎからエアを噴出させておく。

(ii)第２ステップ
第１ステップの終了後に、複数の浮上ユニット２１のノズル２１ｎからエアを噴出させつつ、引出アーム移動用モータ３９の駆動により一対の引出アーム２７を第１基板処理装置３のポート３ｐに離反するＸ軸方向（Ｘ軸方向の他方側）へ移動させることにより、図８に示すように、第１基板処理装置３から第１隣接領域Ａ１に基板Ｗを浮上させた状態で引き出す。

(iii)第３ステップ
第２ステップの終了後に、一対の第１ローラ出没用エアシリンダ６７の駆動により複数の第１規制ローラ６３を基準浮上高さ位置に対して突出させて、複数のローラ移動用エアシリンダ８１の駆動により複数の押えローラ８９をＸ軸方向の一方側へ移動させることにより、複数の押えローラ８９と複数の規制ローラ６３，７３によって基板ＷのＸ軸方向側の両端面を挟持する。また、一対の引出用吸着パッド３１による吸着状態を解除して、一対の引出アーム昇降用エアシリンダ３３の駆動により一対の引出アーム２７を下降させる。

(iv)第４ステップ
第３ステップの終了後に、複数の浮上ユニット２１のノズル２１ｎからエアを噴出させつつ、第１ローラ回転用モータ６５及び第２ローラ回転用モータ７５の駆動により複数の第１規制ローラ６３及び複数の第２規制ローラ７３を回転させかつ複数の押えローラ８９を併せて回転（連動して回転）させることにより、図９に示すように、第１隣接領域Ａ１から第２隣接領域Ａ２へ基板Ｗを浮上させた状態で搬送する。

(v)第５ステップ
第４ステップの終了後に、第２基板処理装置５のポート５ｐにＸ軸方向に離反させた一対の送出用吸着パッドの吸着面が基準浮上高さ位置に位置するように、一対の送出アーム昇降用エアシリンダ５１の駆動により一対の送出アーム４５を上昇させて、一対の送出用吸着パッド４９によって基板Ｗの裏面を吸着する。そして、複数のローラ移動用エアシリンダ８１の駆動により複数の押えローラ８９をＸ軸方向の他方側へ移動させることにより、複数の押えローラ８９と複数の規制ローラ６３，７３による挟持状態を解除する。また、一対の第２ローラ出没用エアシリンダ７７の駆動により複数の第２規制ローラ７３を基準浮上高さ位置に対して没入させる。

(vi)第６ステップ
第５ステップの終了後に、複数の浮上ユニット２１のノズル２１ｎからエアを噴出させつつ、送出アーム移動用モータ５７の駆動により一対の送出アーム４５を第２基板処理装置５のポート５ｐに接近するＸ軸方向へ移動させることにより、図１０に示すように、第２隣接領域Ａ２から第２基板処理装置５の所定位置（取入位置に位置決めした収納ケージ１５の収納部）に位置した基板Ｗを送り出す。そして、送出用吸着パッド４９による吸着状態を解除して、送出アーム昇降用エアシリンダ５１の駆動により一対の送出アーム４５を下降させる。

なお、送出アーム移動用モータ５７の駆動により一対の送出アーム４５を第２基板処理装置５のポート５ｐに接近するＸ軸方向へ移動させる前に、複数の浮上ユニット１７のノズル１７ｎからエアを噴出させておく。

以上により、第１基板処理装置３の所定位置から第２基板処理装置５の所定位置へ基板Ｗを浮上させた状態で移送することができる。

続いて、本発明の実施形態の作用及び効果について説明する。

要するに、複数の引出アーム２７及び複数の送出アーム４５をＸ軸方向へ移動させたり、複数の押えローラ８９及び複数の規制ローラ（複数の第１規制ローラ６３及び複数の第２規制ローラ７３）を回転させたりすることにより、台車を用いることなく、第１基板処理装置３から第２基板処理装置５へ基板Ｗを浮上させた状態で移送することができる。

また、引出用吸着パッド３１及び送出用吸着パッド４９によって基板Ｗの裏面を吸着することにより、基板Ｗの移送中における基板Ｗと引出アーム２７間の滑り及び基板Ｗと送出アーム４５間の滑りをほとんどなくすことができると共に、複数の押えローラ８９と複数の規制ローラ６３，７３によって基板ＷのＸ軸方向側の両端面を挟持することにより、基板Ｗの移送中における基板Ｗと押えローラ８９間の滑り及び基板Ｗと規制ローラ６３，７３間の滑りを極力低減することができる。これにより、基板移送システム１における基板Ｗの移送速度（搬送速度）及び移送加速度（搬送加速度）を十分に高めることができる。

システムベース１９のＸ軸方向の一端側に複数の規制ローラ６３，７３が第１隣接領域Ａ１から第２隣接領域Ａ２にかけてＹ軸方向に間隔を置いて設けられ、システムベース１９のＸ軸方向の他端側に複数の押えローラ８９が第１隣接領域Ａ１から第２隣接領域Ａ２にかけてＹ軸方向に間隔を置いて設けられているため、中間領域ＡｍにおけるＹ軸方向の長さの長短（第１隣接領域Ａ１と第２隣接領域Ａ２間におけるＹ軸方向の間隔の大小）に拘わらず、第１隣接領域Ａ１から第２隣接領域Ａ２へ基板Ｗを浮上させた状態で移送することができる。

従って、本発明の実施形態によれば、基板移送システム１における基板Ｗの移送速度及び移送加速度を十分に高めることができるため、第１基板処理装置３から第２基板処理装置５へ基板を搬送するまでの移送時間（搬送時間）を大幅に短縮することができ、基板移送システム１を液晶パネル等の製品の生産ラインに用いた場合において、生産性を十分に向上させることができる。

また、中間領域ＡｍにおけるＹ軸方向の長さの長短に拘わらず、第１隣接領域Ａ１から第２隣接領域Ａ２へ基板Ｗを浮上させた状態で移送することができるため、第１基板処理装置３と第２基板処理装置５間におけるＹ軸方向のスペースを小さくして、工場のスペースの有効利用を図ることができる。

最後に、本発明は、前述の実施形態の説明に限られるものではなく、例えば、次のように種々の変更が可能である。

即ち、規制ローラ６３，７３を駆動ローラとしかつ押えローラ８３をフリーローラとする代わりに、規制ローラ６３，７３をフリーローラとしかつ押えローラ８３を駆動ローラにしたり、又は規制ローラ６３，７３及び押えローラ８３を駆動ローラにしたりしても構わない。また、基板移送システム１、第１基板処理装置３、第２基板処理装置５を１組具備する代わりに、基板移送システム１、第１基板処理装置３、第２基板処理装置５をＹ軸方向に沿って複数組具備することによって、基板移送システム群を構成しても構わない。更に、第１ステップから第６ステップに移行させる代わりに、第６ステップから第１ステップに移行させることにより、第２基板処理装置５の所定位置から第１基板処理装置３の所定位置へ基板Ｗを浮上させた状態で移送しても構わない。

なお、本発明に包含される権利範囲は、これらの実施形態に限定されないものである。

本発明の実施形態に係る基板移送システムの概略的な平面図である。 図１におけるII-II線に沿った図である。 図１におけるIII-III線に沿った図である。 図１におけるIV-IV線に沿った図である。 図１におけるV-V線に沿った図である。 図１におけるVI-VI線に沿った図である。 本発明の実施形態に係る基板移送方法を説明する図である。 本発明の実施形態に係る基板移送方法を説明する図である。 本発明の実施形態に係る基板移送方法を説明する図である。 本発明の実施形態に係る基板移送方法を説明する図である。

符号の説明

Ｗ 基板
Ａ１ 第１隣接領域
Ａ２ 第２隣接領域
Ａｍ 中間領域
１ 基板移送システム
３ 第１基板処理装置
５ 第２基板処理装置
１９ システムベース
２１ 浮上ユニット
２１ｎ ノズル
２７ 引出アーム
３１ 引出用吸着パッド
３９ 引出アーム移動用モータ
４５ 送出アーム
４９ 送出用吸着パッド
５７ 送出アーム移動用モータ
６３ 第１規制ローラ
６５ 第１ローラ回転用モータ
６７ 第１ローラ出没用エアシリンダ
７３ 第２規制ローラ
７５ 第２ローラ回転用モータ
７７ 第２ローラ出没用エアシリンダ
８１ ローラ移動用エアシリンダ
８９ 押えローラ

Claims (3)

1. 第１基板処理装置から該第１基板処理装置に対してＹ軸方向に離隔した第２基板処理装置へ基板を浮上させた状態で搬送する基板移送システムにおいて、
   前記第１基板処理装置にＸ軸方向に隣接する第１隣接領域、及び前記第２基板処理装置にＸ軸方向に隣接する第２隣接領域を有し、Ｙ軸方向へ延びたシステムベースと、
   前記システムベースにおける前記第１隣接領域から前記第２隣接領域にかけて設けられ、基板を基準浮上高さ位置まで浮上させる浮上ユニットと、
   前記システムベースの前記第１隣接領域にＸ軸方向へ移動可能かつＹ軸方向に間隔を置いて設けられ、Ｘ軸方向へそれぞれ延びてあって、先端側に基板の裏面又は表面を吸着する引出用吸着パッドをそれぞれ有し、前記第１基板処理装置から前記第１隣接領域に基板を引き出す複数の引出アームと、
   前記システムベースの前記第２隣接領域にＸ軸方向へ移動可能かつＹ軸方向に間隔を置いて設けられ、Ｘ軸方向へそれぞれ延びてあって、先端側に基板の裏面又は表面を吸着する送出用吸着パッドをそれぞれ有し、前記第２隣接領域から前記第２基板処理装置へ基板を送り出す複数の送出アームと、
   前記システムベースのＸ軸方向の一端側に鉛直な軸心周りに回転可能かつ前記第１隣接領域から前記第２隣接領域にかけてＹ軸方向に間隔を置いて設けられた複数の規制ローラと、
   前記システムベースのＸ軸方向の他端側に鉛直な軸心周りに回転可能かつ前記第１隣接領域から前記第２隣接領域にかけてＹ軸方向に間隔を置いて設けられ、それぞれＸ軸方向へ移動可能であって、複数の前記規制ローラと協働して基板のＸ軸方向側の両端面を挟持する複数の押えローラと、を具備し、
   複数の前記規制ローラ及び複数の前記押えローラのうち、前記第１基板処理装置側寄りのローラ及び前記第２基板処理装置側寄りのローラは、前記基準浮上高さ位置に対して出没可能に構成され、前記第１基板処理装置から前記第１隣接領域に基板を引き出す前に前記第１基板処理装置側寄りのローラを前記基準浮上高さ位置に対して没入させ、かつ前記第１隣接領域から前記第２隣接領域へ基板を浮上させた状態で搬送する前に前記第１基板処理装置側寄りのローラ及び前記第２基板処理装置側寄りのローラを前記基準浮上高さ位置に対して突出させ、かつ前記第２基板処理装置から前記第２隣接領域に基板を送り出す前に前記第２基板処理装置側寄りのローラを前記基準浮上高さ位置に対して没入させるように構成され、
   各引出アームがそのＸ軸方向の移動によってＹ軸方向に隣接する前記第１基板処理装置側寄りのローラの間を通って進退可能に構成され、各送出アームがそのＸ軸方向の移動によってＹ軸方向に隣接する前記第２基板処理装置側寄りのローラの間を通って進退可能に構成されたことを特徴とする基板移送システム。
2. 複数の前記引出アームをＸ軸方向へ移動させる引出アーム移動用アクチュエータと、
   複数の前記送出アームをＸ軸方向へ移動させる送出アーム移動用アクチュエータと、
   複数の前記押えローラをＸ軸方向へ移動させるローラ移動用アクチュエータと、
   複数の前記規制ローラと複数の前記押えローラのうち少なくともいずれかの複数のローラを回転させるローラ回転用アクチュエータと、
   前記第１基板処理装置側寄りのローラを前記基準浮上高さ位置に対して出没させる第１ローラ出没用アクチュエータと、
   前記第２基板処理装置側寄りのローラを前記基準浮上高さ位置に対して出没させる第２ローラ出没用アクチュエータと、を具備したことを特徴とする請求項１に記載の基板移送システム。
3. 請求項１に記載の基板移送システムを用いて、第１基板処理装置から該第１基板処理装置に対してＹ軸方向に離隔した第２基板処理装置へ基板を浮上させた状態で搬送する基板移送方法において、
   複数の前記引出アームを前記第１基板処理装置のポートに接近するＸ軸方向へ移動させて、複数の前記引出用吸着パッドによって前記第１基板処理装置の所定位置に位置した基板を裏面又は表面を吸着すると共に、前記第１基板処理装置側寄りのローラを前記基準浮上高さ位置に対して没入させる第１ステップと、
   前記第１ステップの終了後に、前記浮上ユニットを動作させつつ、複数の前記引出アームを前記第１基板処理装置のポートに離反するＸ軸方向へ移動させて、前記第１基板処理装置から前記第１隣接領域に基板を引き出す第２ステップと、
   前記第２ステップの終了後に、前記第１基板処理装置側寄りのローラを前記基準浮上高さ位置に対して突出させて、複数の前記押えローラをＸ軸方向の一方側へ移動させて、複数の前記押えローラと複数の規制ローラによって基板のＸ軸方向側の両端面を挟持すると共に、複数の前記引出用吸着パッドによる吸着状態を解除する第３ステップと、
   前記第３ステップの終了後に、複数の前記規制ローラ及び複数の前記押えローラを回転させて、前記第１隣接領域から前記第２隣接領域へ基板を浮上させた状態で搬送する第４ステップと、
   前記第４ステップの終了後に、前記第２基板処理装置のポートにＸ軸方向に離反させた複数の前記送出用吸着パッドによって基板の裏面又は表面を吸着し、複数の前記押えローラをＸ軸方向の他方側へ移動させて、複数の前記押えローラと複数の前記規制ローラによる挟持状態を解除すると共に、前記第２基板処理装置側寄りのローラを前記基準浮上高さ位置に対して没入させる第５ステップと、
   前記第５ステップの終了後に、複数の前記送出アームを前記第２基板処理装置のポートに接近するＸ軸方向へ移動させて、前記第２隣接領域から前記第２基板処理装置へ基板を送り出して、複数の前記引出用吸着パッドによる吸着状態を解除する第６ステップと、を具備したことを特徴とする基板移送方法。

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