JP5137444B2 - Opcモデリング構築方法、情報処理装置、及び半導体デバイスのプロセス条件を決定する方法 - Google Patents
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Description
半導体製造のひとつの工程であるリソグラフィ工程においては、測長用走査型電子顕微鏡(以下CD−SEM)により、ウエハ上に転写された各種パターンのサイズ確認を行っている。図1は、CD−SEM100の概略構成を示す図である。
(1)図3は、OPCモデリング処理及びプロセス条件確定処理の詳細を説明するためのフローチャートである。なお、各ステップにおける動作主体は、特に断らない限り処理装置200である。
OPCモデリングの中でラインパターンの粗密差やパターン密度などにより生じるサイズ差は、通常の測長アルゴリズムで測定可能なため、判断基準の設定や最適化が容易である。一方、矩形パターン角部やラインエンドにOPCが処理された場合、それらによる影響の度合いを測定するアルゴリズムが無く、現状では見た目の判断にゆだねられている。プロセス条件の最適化など厳密には個人差が生じ、客観性に乏しいといえる。
101 電子線源
102 収束レンズ
103 偏向器
104 対物レンズ
105 試料
106 パターン
107 検出器
200 処理装置(アプリケーション)
Claims (11)
- 光近接効果補正(OPC)を定量化するためのOPCモデリング構築方法であって、
データ処理部が、OPCパターンが施された領域単位で比較領域を設定し、OPCを施した、マスクを用いてウエハ上に形成されるパターンの電子顕微鏡によるイメージデータの面積と、デザインパターンの面積と、を比較し、その比較結果と前記イメージデータの取得条件とを対応付けて分類し、記憶部に保存することを特徴とするOPCモデリング構築方法。 - 前記データ処理部は、前記イメージデータ及び前記デザインデータを重ね合わせてマッチングを取り、特定領域に対して座標系を設定し、前記特定領域における前記イメージデータの境界線を近似する近似曲線を算出し、その近似曲線を積分処理することにより前記イメージデータの面積を算出することを特徴とする請求項1に記載のOPCモデリング構築方法。
- 前記データ処理部は、特定座標における前記近似曲線の傾きを算出し、前記デザインデータにおいて対応する位置の傾きと比較し、その比較結果と前記イメージデータの取得条件とを対応付けて分類し、前記記憶部に保存することを特徴とする請求項2に記載のOPCモデリング構築方法。
- 前記データ処理部は、複数種類のOPCパターンを施して得られたイメージデータ及び複数のイメージデータ取得条件のそれぞれについて、前記比較結果と前記イメージデータの取得条件とを対応付けて分類し、前記記憶部に保存することを特徴とする請求項1に記載のOPCモデリング構築方法。
- 光近接効果補正(OPC)を定量化するためのOPCモデリングを構築する情報処理装置であって、
データ処理部が、OPCパターンが施された領域単位で比較領域を設定し、OPCを施した、マスクを用いてウエハ上に形成されるパターンの電子顕微鏡によるイメージデータの面積と、デザインパターンの面積と、を比較し、その比較結果と前記イメージデータの取得条件とを対応付けて分類し、記憶部に保存することを特徴とする情報処理装置。 - 前記データ処理部は、前記イメージデータ及び前記デザインデータを重ね合わせてマッチングを取り、特定領域に対して座標系を設定し、前記特定領域における前記イメージデータの境界線を近似する近似曲線を算出し、その近似曲線を積分処理することにより前記イメージデータの面積を算出することを特徴とする請求項5に記載の情報処理装置。
- 前記データ処理部は、特定座標における前記近似曲線の傾きを算出し、前記デザインデータにおいて対応する位置の傾きと比較し、その比較結果と前記イメージデータの取得条件とを対応付けて分類し、前記記憶部に保存することを特徴とする請求項6に記載の情報処理装置。
- 前記データ処理部は、複数種類のOPCパターンを施して得られたイメージデータ及び複数のイメージデータ取得条件のそれぞれについて、前記比較結果と前記イメージデータの取得条件とを対応付けて分類し、前記記憶部に保存することを特徴とする請求項5に記載の情報処理装置。
- OPCモデリングを利用して、半導体デバイスのプロセス条件を決定する方法であって、
OPCパターンとプロセス条件を、OPCモデリングによって構築されたデータベースから選択する条件選択工程と、
前記選択されたプロセス条件によって基板上にパターンを形成し、半導体デバイスを作製するデバイス作製工程と、
前記作製された半導体デバイスが設定された規格内に入るか否か検査する検査工程と、
前記検査結果によってプロセス条件を決定するプロセス条件決定工程と、を備え、
前記データベースは、OPCパターンが施された領域単位で設定された比較領域において、OPCを施した、マスクを用いてウエハ上に形成されるパターンの電子顕微鏡によるイメージデータの面積と、デザインパターンの面積との比較結果と前記イメージデータの取得条件とを対応付けて分類し、記憶することを特徴とする方法。 - 前記検査の結果、前記半導体デバイスが前記規格内に入らないと判断された場合には、さらに、前記条件選択工程、デバイス作製工程、検査工程、及びプロセス条件決定工程を繰り返すことを特徴とする請求項9に記載の方法。
- さらに、前記作製された半導体デバイスのパターンが前記条件選択工程で得られたOPCパターン及びプロセス条件から得られるパターンと異なる場合には、対応するOPCパターン、プロセス条件、及び実際に得られたパターンを前記データベースに保存するデータベース更新工程を備えることを特徴とする請求項10に記載の方法。
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