JP5132973B2 - 回転レーザービーム式墨出し装置 - Google Patents
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Description
2 可動台
3a 被動ピン
3b 被動ピン
4a 昇降軸
4b 昇降軸
5A 可動台姿勢制御装置
5B 可動台姿勢制御装置
6a 支柱
6b 支柱
7 大径横貫通孔
7a 大径横貫通孔7の下向き内周面
7b 大径横貫通孔7の上向き内周面
8 横架軸
8a 横架軸8の上面
8b 横架軸8の下面
9 円錐状凹部
10 1点支持用球状体
10A 1点支持用球状体
10B 1点支持用球状体
11 可動台浮き上がり防止ばね
12 レーザービーム投射器
13 プリズム回転台
14 偏向プリズム
16 レーザービーム通路
17 プリズム回転台を回転駆動するモーター
18 電池収納ケース
19 電子式水準センサー
20 支持フレーム
21 被動ピン挟持部
21a 被動ピン挟持部21の挟持用長孔
22 昇降軸4a,4bを昇降させるためのモーター
23 減速歯車列
24 付勢手段
25 付勢手段
26 センサー取付台
27 調整プリズム
28 セットねじ
29 球状体
30 雄ねじ部
31 半球状体
32 半球状体部
D 1点支持構造物
E 剛体構造物
L1 垂直方向のレーザービーム
L2 水平方向のレーザービーム
L3 回転レーザービーム
Claims (10)
- 基台部に対し1点支持構造によって任意の方向に首振り運動可能に支持された可動台に、当該可動台から互いに直交するXY2方向に被動ピンが突設され、これら各被動ピンを挟持して昇降する昇降軸を介して前記可動台をXY2方向にそれぞれ各別に傾動させる2つの可動台姿勢制御装置が設けられた墨出し装置において、基台部の上面直径方向両側位置に一対の支柱が立設固定され、該両支柱の上端部間に前記可動台に設けた横貫通孔を通して横架軸が横架固定されると共に、前記横貫通孔は前記横架軸よりも大径に形成されて、該大径横貫通孔において前記横架軸の上面に円錐状凹部が形成され、これに対応する大径横貫通孔の下向き内周面に一点支持用球状体が形成され、該球状体が前記円錐状凹部に点接触して一点支持構造物が形成される共に、前記横架軸の下面とこれに対応する大径横貫通孔の上向き内周面と間に可動台浮き上がり防止ばねが介装され、前記可動台に、垂直方向にレーザービームを投射するレーザービーム投射器が内蔵され、且つ水平方向に回転駆動するプリズム回転台が搭載され、該回転台に前記レーザービーム投射器より投射される垂直方向のレーザービームを水平方向に偏向する偏向プリズムが設置され、前記可動台、前記横架軸、前記一点支持用球状体、及び前記プリズム回転台を夫々同軸状に貫通してレーザービーム投射器から投射される垂直方向のレーザービームが前記偏向プリズムに向かって通過するレーザービーム通路が形成され、しかして、レーザービーム通路を通過した垂直方向のレーザービームは、前記偏向プリズムによって水平方向のレーザービームに偏向され、且つ前記プリズム回転台の回転によって水平面内を周方向に回転変位して回転レーザービームに形成されてなることを特徴とする回転レーザービーム式墨出し装置。
- 前記可動台に搭載されるプリズム回転台は、該可動台の中央部上方に突設した軸部に軸受によって回転自在に軸架されると共に、回転台の側面より径方向に突設して取り付けられたモーターによってプーリー及びベルトを介して回転駆動されるようになっている請求項1に記載の回転レーザービーム式墨出し装置。
- 前記両支柱間に横架固定される横架軸を平面視してその平面視一方側に前記各被動ピンと、前記2つの可動台姿勢制御装置と、プリズム回転台を回転駆動するモーターとが配置され、横架軸を平面視してその平面視他方側に電池収納ケースと、前記可動台姿勢制御装置に姿勢制御信号を送る電子式水準センサーとが配置されてなる請求項1又は2に記載の回転レーザービーム式墨出し装置。
- 前記可動台姿勢制御装置は、基台部に取り付けられる支持フレームと、該支持フレームに支持されて昇降する昇降軸と、昇降軸の上端部に形成される被動ピン挟持部と、同じく支持フレームに支持されて昇降軸を昇降駆動するモーター及び減速歯車列とを備えてなる請求項1〜3の何れかに記載の墨出し装置。
- 昇降軸上端部の被動ピン挟持部の挟持用長孔とこれに嵌合される被動ピンの先端部との間には上下及び左右に若干の遊びができるよう余裕を持って嵌合されると共に、被動ピンの先端部が挟持用長孔の孔壁に常時弾性当接して被動ピンがガタつくのを防止する付勢手段が設けられてなる請求項1〜4の何れかに記載の回転レーザービーム式墨出し装置。
- 前記電子式水準センサーは、前記可動台の側面から横方向に突出するよう固定され該可動台と一体に傾動するセンサー取付台に設けられてなる請求項3に記載の回転レーザービーム式墨出し装置。
- 前記偏向プリズムを通過した水平方向のレーザービームは、当該水平方向のレーザービームの水平度を調整するための調整プリズムが偏向プリズムのレーザービーム投射側に設けられてなる請求項1〜6の何れかに記載の回転レーザービーム式墨出し装置。
- 前記横架軸の上面に形成された円錐状凹部に点接触して一点支持構造が形成される一点支持用球状体は、可動体にねじ込まれるセットねじと該セットねじに押圧される球状体とからなる請求項1〜7の何れかに記載の回転レーザービーム式墨出し装置。
- 前記横架軸の上面に形成された円錐状凹部に点接触して一点支持構造が形成される一点支持用球状体は、可動体にねじ込まれる雄ねじ部とこれに一体に形成された半球状体部とからなる請求項1〜7の何れかに記載の回転レーザービーム式墨出し装置。
- 前記横架軸の上面に形成された円錐状凹部に点接触して一点支持構造が形成される一点支持用球状体は、可動体の下面側に一体形成された半球状体部からなる請求項1〜7の何れかに記載の回転レーザービーム式墨出し装置。
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JP2007102539A Expired - Fee Related JP5132973B2 (ja) | 2007-04-10 | 2007-04-10 | 回転レーザービーム式墨出し装置 |
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