JP5130139B2 - 直送圧延における鋳片加熱設備 - Google Patents

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本発明は、連続鋳造機で鋳造された鋼の鋳片(ビレットなど)を該鋳片の直送圧延を行うべく圧延機に搬送する鋳片搬送ラインに設置され、鋳片を圧延適正温度に昇温する、直送圧延における鋳片加熱設備に関するものである。
従来、連続鋳造機で鋳造された鋼のビレットを該ビレットの直送圧延を行うべく圧延機に搬送する鋳片搬送ラインには、前記圧延機の入側(上流側)に、連続鋳造機からのビレットを圧延適正温度に昇温する加熱装置として誘導加熱装置が設置され、この誘導加熱装置の入側に、該誘導加熱装置に導入されるビレットの温度を測定する温度測定計として放射温度計が設置されている。ここで、連続鋳造機から送られてくるビレットの温度は、通常900〜950℃であり、圧延機における圧延適正温度は、通常950〜1000℃である。
そして、前記誘導加熱装置の入側で送りが停止されているビレットは、前記放射温度計による測定結果から、当該ビレットが前記誘導加熱装置によって圧延適正温度にまで昇温可能な場合には、誘導加熱装置に導入される。この誘導加熱装置に導入されたビレットは、圧延可能温度にまで昇温されてから、前記圧延機に送られるようになっている。
一方、前記放射温度計による測定結果から、当該ビレットが前記誘導加熱装置によってもその昇温能力からして圧延適正温度にまで昇温できない場合には、該ビレットは、誘導加熱装置へ導入されることなく、誘導加熱装置入側に設置されているビレットリジェクト装置により、搬送ラインからリジェクト(除去)されるようになっている。
このため、連続鋳造機から通常よりも温度が低いビレット(850〜900℃程度)が送られてくる場合があっても、該ビレットを圧延適正温度にまで昇温することができて、搬送ラインからリジェクトしなくてすむようにすることが要望されている。
特開2006−187779号公報
そこで、本発明の課題は、連続鋳造機で鋳造された鋼の鋳片(ビレットなど)の直送圧延を行うべく、連続鋳造機からの鋳片を圧延適正温度にまで昇温してから圧延機に送るに際し、連続鋳造機から通常よりも温度低下した鋳片が送られてくる場合があっても、該鋳片を圧延適正温度にまで昇温することができて、搬送ラインからリジェクト(除去)しなくてすむようにした、直送圧延における鋳片加熱設備を提供することにある。
前記の課題を解決するため、本願発明では、次の技術的手段を講じている。
請求項1の発明は、連続鋳造機で鋳造された鋼の鋳片を該鋳片の直送圧延を行うべく圧延機に搬送する鋳片搬送ラインに設置され、鋳片を圧延適正温度に昇温する直送圧延における鋳片加熱設備であって、連続鋳造機からの鋳片が到着順に複数一時収容され、該鋳片の保有熱自体を熱源としそれ以外に熱源を持たず、周囲を断熱材で囲んで形成された保熱室と、前記保熱室から引き出された鋳片を移動させつつ加熱して昇温する加熱装置と、前記保熱室の出側に設置され、前記保熱室から引き出された鋳片を前記加熱装置内を今回一回通過させることで圧延適正温度にまで昇温可能か否かを知るべく、前記保熱室から引き出された鋳片の温度を測定する温度測定計と、前記温度測定計による測定結果から、前記加熱装置で昇温され、かつ圧延適正温度にまで達していない鋳片を、再度前記加熱装置によって昇温するため前記保熱室に戻す逆送設備とを備え、前記加熱装置によって圧延適正温度に昇温された鋳片を前記圧延機に送るようになされていることを特徴とする直送圧延における鋳片加熱設備である。
請求項2の発明は、請求項1記載の直送圧延における鋳片加熱設備において、前記加熱装置が、誘導加熱用コイルを有し誘導加熱によって鋳片を昇温する誘導加熱装置であることを特徴とするものである。
請求項3の発明は、請求項1又は2記載の直送圧延における鋳片加熱設備において、前記温度測定計が、放射温度計であることを特徴とするものである。
本発明による直送圧延における鋳片加熱設備では、加熱装置内を一回通過させて該加熱装置で昇温され、かつ圧延適正温度にまで達していない鋳片を逆送設備によって保熱室に戻し、その後、この保熱室に戻された鋳片を、圧延機による圧延スケジュールに従い保熱室から引き出し、再度誘導加熱装置によって昇温することにより、圧延適正温度に昇温させて圧延機へ送るようにしている。したがって、連続鋳造機から通常よりも温度低下した鋳片が送られてくる場合があっても、該鋳片を圧延適正温度にまで昇温することができて、搬送ラインからリジェクト(除去)しなくてすむようにすることができ、鋳片をスクラップダウンすることによる損失を防ぐとともに、製品を納期遅れなく確実に製造することに寄与することができる。
以下、図面を参照して、本発明の実施形態について説明する。図1は本発明の一実施形態による直送圧延における鋳片加熱設備の構成を概略的に示す平面図である。
図1において、1は連続鋳造機であり、2は連続鋳造機1で鋳造され、その切断機で切断された一定長の鋼のビレット(鋳片)を後述する鋳片加熱設備10の保熱室11に搬送する搬送ローラテーブルである。3は圧延機であり、4は鋳片加熱設備10によって圧延可能温度に昇温されたビレットを圧延機3へ導く圧延機入側ローラテーブルである。
5はリジェクト装置である。リジェクト装置5は、搬送ローラテーブル2で送られてきたビレットの曲がりが大きく、これを保熱室11へ搬入することが困難な場合や、何らかの理由で圧延が中止される場合などに、当該ビレットを搬送ラインからリジェクト(除去)する装置である。
前記鋳片加熱設備10は、連続鋳造機1で鋳造されたビレットを該ビレットの直送圧延を行うべく圧延機3に搬送する鋳片搬送ラインに設置され、ビレットを圧延可能な温度に昇温する設備である。この鋳片加熱設備10の構成について説明する。
11は保熱室である。保熱室11は、連続鋳造機1から搬送ローラテーブル2によって搬送されてきたビレットがその到着順に複数一時収容され、該ビレットの保有熱自体を熱源としそれ以外に熱源を持たず、周囲を断熱材で囲んで室に形成されている。
この保熱室11内に搬入されたビレットは、この実施形態では、収容テーブル11a上に並列状態に並べられて載せられるようになっている。ここで、連続鋳造機1(連続鋳造設備)は、圧延機3(圧延設備)と生産能力を合わせるため、通常は、3〜4の多ストランドのものであり、ストランド数と同数のビレットがほぼ同時に保熱室11に到着することが考えられる。そのため、この保熱室11内には、連続鋳造機1のストランド数と少なくとも同数の個数のビレットを収容できるようになっている。
12は、保熱室11の下流側に設置され、保熱室11から引き出されたビレットを移動させつつ加熱して昇温する加熱装置としての誘導加熱装置である。13は、保熱室11の下流側の出口に接続され、保熱室11の収容テーブル11a上から引き出されたビレットを、前記誘導加熱装置12に送り、誘導加熱装置12の誘導加熱用コイル内を通過させて前記圧延機入側ローラテーブル4へ導く誘導加熱装置用ローラテーブルである。
14は、誘導加熱装置で昇温され、かつ圧延適正温度にまで達していないビレットを保熱室11に戻すための逆送用ローラテーブルである。15は、保熱室11に戻すビレットを誘導加熱装置用ローラテーブル13上から逆送用ローラテーブル14上へと移載する移載装置である。前記逆送用ローラテーブル14及び前記移載装置15及び逆送設備を構成している。
16は、前記保熱室11の出側に設置され、保熱室11から引き出されたビレットの温度を測定する温度測定計としての放射温度計である。
このように、鋳片加熱設備10は、室内に収容テーブル11aを備えた保熱室11、誘導加熱装置12、誘導加熱装置用ローラテーブル13、逆送用ローラテーブル14、移載装置15及び放射温度計16により構成されている。
次に、このように構成される鋳片加熱設備10の動作を説明する。
連続鋳造機1から搬送ローラテーブル2によって直送されてきた一定長のビレットは、到着順に、保熱室11に一時的に収容される。ここで、連続鋳造機1からのビレットの温度は、通常、900〜950℃である。圧延機3による圧延スケジュールに従い、保熱室11から引き出され、保熱室11の収容テーブル11a上から誘導加熱装置用ローラテーブル13上に移載されたビレットは、放射温度計16によって温度測定がなされてから、誘導加熱装置12に導入されて、誘導加熱装置12の誘導加熱用コイル内を通過しながら誘導加熱によって昇温され、誘導加熱装置12の出口から引き出される。
そして、放射温度計16による前記測定結果から、当該ビレットの温度測定値及び誘導加熱装置12の昇温能力からして、当該ビレットを誘導加熱装置12の誘導加熱用コイル内を今回一回通過させることで、圧延機3での適正な圧延のために圧延適正温度、通常950〜1000℃の範囲を満たす温度にまで昇温可能と判断された場合には、誘導加熱装置12の出口から引き出された当該ビレットは、そのまま、圧延機入側ローラテーブル4によって圧延機3に導入される。
一方、放射温度計16による前記測定結果から、当該ビレットの温度が通常よりも低く、誘導加熱装置12の昇温能力からして、当該ビレットを誘導加熱装置12の誘導加熱用コイル内を一回通過させても、圧延適正温度(950〜1000℃)にまで昇温できないと判断された場合には、誘導加熱装置12で昇温され、その出口から引き出された当該ビレットは、移載装置15により、誘導加熱装置用ローラテーブル13上から逆送用ローラテーブル14上へと移載される。
この逆送用ローラテーブル14上に移載された前記のビレット(温度が950℃未満のビレット)は、逆送用ローラテーブル14によって保熱室11に戻される。
保熱室11に戻されたビレットは、圧延機3による圧延スケジュールに従い、再度保熱室11から引き出されるまで、保熱室11に収容される。この保熱室11に戻されたビレットは、保熱室11に収容されている間、保熱室11に収容されている他のビレット(連続鋳造機1から温度900〜950℃にて保熱室11に送られてきたビレット)の保有熱により、その温度低下が抑制される。
そして、誘導加熱装置12内を今回一回通過させても圧延可能温度にまで昇温できないビレットを保熱室11に戻すと、保熱室11から次のビレットが引き出されて、放射温度計16によって温度測定がなされてから、誘導加熱装置12に導入されることとなる。
このように、この鋳片加熱設備10では、誘導加熱装置12内を今回一回通過させても圧延可能温度にまで昇温できないビレットを、該誘導加熱装置12による昇温の後、逆送設備14,15によって保熱室11に戻し、その後、この保熱室11に戻されたビレットを、圧延機3による圧延スケジュールに従い保熱室11から引き出し、再度誘導加熱装置12によって昇温することにより、圧延可能温度に昇温させて圧延機3へ送るようにしている。
したがって、連続鋳造機1から通常の温度900〜950℃に比べて850〜900℃というように温度低下したビレットが送られてくる場合があっても、該ビレットを圧延適正温度にまで昇温することができて、搬送ラインからリジェクト(除去)しなくてすむようにすることができ、ビレットをスクラップダウンすることによる損失を防ぐとともに、製品を納期遅れなく確実に製造することに寄与することができる。
図2は本発明の他の実施形態による直送圧延における鋳片加熱設備の構成を概略的に示す平面図である。
図2に示すように、鋳片加熱設備20は、保熱室21、誘導加熱装置22、誘導加熱装置用ローラテーブル23、逆送用ローラテーブル24、移載装置25A,25B及び放射温度計26により構成されている。
前記図1に示した鋳片加熱設備10と異なる点は、前記鋳片加熱設備10の保熱室11が連続鋳造機1から搬送ローラテーブル2によって直送されてきた一定長のビレットを並列に並べて一時的に収容する構成であるのに対し、この鋳片加熱設備20の保熱室21は、連続鋳造機1からのビレットを直列に並べて一時的に収容するようにした点にある。
これに伴って、前記鋳片加熱設備10とは違って、平面視において搬送ローラテーブル2と、誘導加熱装置用ローラテーブル23及び圧延機入側ローラテーブル4とが、一直線状をなすように設置されている。なお、誘導加熱装置22出口から保熱室21へ戻されるビレットは、移載装置25A、逆送用ローラテーブル24、移載装置25B及び搬送ローラテーブル2を経て、保熱室21へ戻されるようになっている。移載装置25A、逆送用ローラテーブル24、移載装置25Bは、逆送設備を構成している。
連続鋳造機1のストランド数が1又は2と少ない場合には、保熱室21に一時収容されるビレット数が多ストランドのものに比べて少ないので、図2に示すように、連続鋳造機1からのビレットを直列に並べて一時的に収容する保熱室21を備えることにより、平面視において搬送ローラテーブル2、誘導加熱装置用ローラテーブル23及び圧延機入側ローラテーブル4が一直線状をなすようにして、連続鋳造機1と圧延機3との間に鋳片加熱設備20を設置することが可能である。
この鋳片加熱設備20では、その保熱室21が、前記鋳片加熱設備10の前記保熱室11とは違って内部にビレットを並列に並べて収容するテーブルを備えなくてすみ、単にローラテーブルに断熱カバーを取り付けた構造のものでよく、保熱室21の構造を簡単化することができる。
本発明の一実施形態による直送圧延における鋳片加熱設備の構成を概略的に示す平面図である。 本発明の他の実施形態による直送圧延における鋳片加熱設備の構成を概略的に示す平面図である。
符号の説明
1…連続鋳造機
2…搬送ローラテーブル
3…圧延機
4…圧延機入側ローラテーブル
5…リジェクト装置
10,20…鋳片加熱設備
11,21…保熱室
11a…収容テーブル
12,22…誘導加熱装置
13,23…誘導加熱装置用ローラテーブル
14,24…逆送用ローラテーブル
15,25A,25B…移載装置
16,26…放射温度計

Claims (3)

  1. 連続鋳造機で鋳造された鋼の鋳片を該鋳片の直送圧延を行うべく圧延機に搬送する鋳片搬送ラインに設置され、鋳片を圧延適正温度に昇温する直送圧延における鋳片加熱設備であって、
    連続鋳造機からの鋳片が到着順に複数一時収容され、該鋳片の保有熱自体を熱源としそれ以外に熱源を持たず、周囲を断熱材で囲んで形成された保熱室と、
    前記保熱室から引き出された鋳片を移動させつつ加熱して昇温する加熱装置と、
    前記保熱室の出側に設置され、前記保熱室から引き出された鋳片を前記加熱装置内を今回一回通過させることで圧延適正温度にまで昇温可能か否かを知るべく、前記保熱室から引き出された鋳片の温度を測定する温度測定計と、
    前記温度測定計による測定結果から、前記加熱装置で昇温され、かつ圧延適正温度にまで達していない鋳片を、再度前記加熱装置によって昇温するため前記保熱室に戻す逆送設備と、
    を備え、前記加熱装置によって圧延適正温度に昇温された鋳片を前記圧延機に送るようになされていることを特徴とする直送圧延における鋳片加熱設備。
  2. 前記加熱装置が、誘導加熱用コイルを有し誘導加熱によって鋳片を昇温する誘導加熱装置であることを特徴とする請求項1記載の直送圧延における鋳片加熱設備。
  3. 前記温度測定計が、放射温度計であることを特徴とする請求項1又は2記載の直送圧延における鋳片加熱設備。
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