JP5122930B2 - Evanescent wave generator and observation apparatus using the same - Google Patents

Evanescent wave generator and observation apparatus using the same Download PDF

Info

Publication number
JP5122930B2
JP5122930B2 JP2007320638A JP2007320638A JP5122930B2 JP 5122930 B2 JP5122930 B2 JP 5122930B2 JP 2007320638 A JP2007320638 A JP 2007320638A JP 2007320638 A JP2007320638 A JP 2007320638A JP 5122930 B2 JP5122930 B2 JP 5122930B2
Authority
JP
Japan
Prior art keywords
light
lens
incident
evanescent wave
introduction
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Expired - Fee Related
Application number
JP2007320638A
Other languages
Japanese (ja)
Other versions
JP2009145102A (en
Inventor
泰成 韓
明文 岩間
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
PHC Corp
Original Assignee
Panasonic Healthcare Co Ltd
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by Panasonic Healthcare Co Ltd filed Critical Panasonic Healthcare Co Ltd
Priority to JP2007320638A priority Critical patent/JP5122930B2/en
Publication of JP2009145102A publication Critical patent/JP2009145102A/en
Application granted granted Critical
Publication of JP5122930B2 publication Critical patent/JP5122930B2/en
Expired - Fee Related legal-status Critical Current
Anticipated expiration legal-status Critical

Links

Images

Landscapes

  • Investigating, Analyzing Materials By Fluorescence Or Luminescence (AREA)
  • Investigating Or Analysing Materials By Optical Means (AREA)

Description

本発明は、エバネッセント波を発生させるエバネッセント波発生装置及びそれを用いた観察装置に関するものである。   The present invention relates to an evanescent wave generator for generating an evanescent wave and an observation apparatus using the same.

近年組織工学では、細胞培養を基本とした組織再生の研究が注目を集め、医療の質までもかえると言われている。その中でも、培養した細胞を医療デバイスに付与することで移植時に生体との適合性をあげる技術(例えば、骨基材の上に培養細胞をのせる技術)や、各機能を有する細胞へ培養する技術(例えば、間葉系幹細胞から心筋、血管、皮膚などの細胞へ分化する技術)などが再生医療の発展により急速に進歩して来ている。このような細胞培養技術においては、培養された細胞の状態を評価した上で、医療目的で用いる必要があり、そのための装置や技術も組織工学の進歩と共に発展しつつある。   In recent years, in tissue engineering, research on tissue regeneration based on cell culture has attracted attention and is said to change the quality of medicine. Among them, by applying cultured cells to a medical device, techniques for improving the compatibility with the living body at the time of transplantation (for example, techniques for placing cultured cells on a bone matrix) and culturing into cells having various functions Techniques (for example, techniques for differentiating mesenchymal stem cells into cells such as cardiac muscle, blood vessels, and skin) have been rapidly advanced due to the development of regenerative medicine. In such a cell culture technique, it is necessary to evaluate the state of the cultured cell and use it for medical purposes, and devices and techniques therefor are being developed along with the progress of tissue engineering.

特に、エバネッセント波を用いた全反射顕微鏡(観察装置)は、全反射面から細胞の一部(全反射面から上方約100nm)だけを観察することができ、バックグラウンドを抑えた鮮明な観察図を得ることが可能であるため、培養容器に接触し増殖する細胞の状態を、より明確に観察することができるものとして注目されつつある。   In particular, a total reflection microscope (observation apparatus) using an evanescent wave can observe only a part of cells (about 100 nm above the total reflection surface) from the total reflection surface, and a clear observation diagram with reduced background. Therefore, the state of cells that grow in contact with the culture vessel is attracting attention as being able to observe more clearly.

具体的には、例えば、観察する細胞の乗ったサンプル容器の底面(屈折率境界面であり、全反射面となる)にプリズムなどを利用し、所定角度で励起光を照射して、サンプル容器の底面(屈折率境界面、且つ、全反射面)で反射させ、そのとき全反射面の上に発生するエバネッセント波により全反射面から上方約100nmの間にある測定(観察)サンプル(細胞)を励起させるものである。   Specifically, for example, a prism or the like is used on the bottom surface of the sample container on which the cell to be observed is mounted (which is a refractive index boundary surface and serves as a total reflection surface), and excitation light is irradiated at a predetermined angle to thereby sample the sample container. Measurement (observation) sample (cell) between 100 nm above the total reflection surface due to the evanescent wave generated on the total reflection surface at the bottom surface (refractive index boundary surface and total reflection surface) Is excited.

このように、光(エバネッセント波)が到達する領域を約100nmに限定して、その領域にある測定サンプル(細胞)から発生した散乱光や蛍光を検出することで、測定サンプルの状況をより明確に検出することが可能となり、バックグラウンドのノイズを抑えることができるようになり、より鮮明な蛍光観察が可能になった(例えば、特許文献1参照)。   In this way, by limiting the area where light (evanescent wave) reaches to about 100 nm and detecting scattered light and fluorescence generated from the measurement sample (cell) in that area, the situation of the measurement sample becomes clearer. Thus, background noise can be suppressed, and clearer fluorescence observation is possible (for example, see Patent Document 1).

また、このようなエバネッセント波を用いた観察装置として、表面プラズモン共鳴現象の原理を利用した観察装置もある。この装置は、プリズムの上面に形成された金属薄膜表面に測定サンプル(細胞)を配置し、この測定サンプルを配置した金属薄膜のプリズム側の面にプリズムを介して光(レーザー)を入射させると、金属薄膜と測定サンプルとの境界面に電子の粗密波SP(表面プラズモン)との共鳴が発生する。このとき、光(レーザー)の入射角度を変化させて金属薄膜のプリズム側の面で全反射させると、ある特定の入射角度で反射光が減衰する現象、即ち、表面プラズモン共鳴が生じる。この表面プラズモン共鳴が生じる光の入射角度(共鳴角)は、測定サンプルの誘電率に依存するので、この共鳴角を測定することで、金属薄膜表面における測定サンプルを観察することができるというものである。即ち、光の入射角度を調整して、共鳴角の変化を測定することで、金属薄膜表面で測定サンプルのプロセス(例えば、抗体と抗原の相互作用)をリアルタイムで定量分析できるようになった(例えば、特許文献2参照)。
特開平9−61346号公報 特許第2758904号公報
As an observation apparatus using such an evanescent wave, there is also an observation apparatus that uses the principle of the surface plasmon resonance phenomenon. In this apparatus, when a measurement sample (cell) is placed on the surface of the metal thin film formed on the upper surface of the prism, and light (laser) is incident on the prism side surface of the metal thin film on which the measurement sample is placed via the prism. Then, resonance with the electron density wave SP (surface plasmon) occurs at the interface between the metal thin film and the measurement sample. At this time, if the incident angle of the light (laser) is changed and totally reflected by the prism-side surface of the metal thin film, a phenomenon that the reflected light attenuates at a certain incident angle, that is, surface plasmon resonance occurs. The incident angle (resonance angle) of light that causes this surface plasmon resonance depends on the dielectric constant of the measurement sample, and by measuring this resonance angle, the measurement sample on the surface of the metal thin film can be observed. is there. That is, by adjusting the incident angle of light and measuring the change in resonance angle, the measurement sample process (for example, interaction between antibody and antigen) can be quantitatively analyzed in real time on the surface of the metal thin film ( For example, see Patent Document 2).
Japanese Patent Laid-Open No. 9-61346 Japanese Patent No. 2758904

ところで、従来の全反射顕微鏡では、照明と観察を一つのレンズで可能にするために、口径の大きい高倍率の対物レンズを使用していたため、短時間で多くの観察対象を処理することが困難であり、且つ、装置のコストを高騰させていた。また、最近の再生医療の現場では、細胞の培養が頻繁に行われており、できる限り短時間で培養された測定サンプル(細胞)を評価したいとの要望がある。そして、再生医療が普及し、より医療現場での応用が進むと、培養された測定サンプルを全体的に判断する必要が生じてくる。そのため、多くのサンプルが一括して処理できるマイクロプレートで培養されたサンプルを瞬時或いは同時に観察判断したいとの要望があるが、従来の装置では、瞬時若しくは同時に複数の観察対象を観察することができなかった。   By the way, in the conventional total reflection microscope, in order to enable illumination and observation with a single lens, a high-magnification objective lens having a large aperture is used, so it is difficult to process many observation objects in a short time. In addition, the cost of the apparatus has been increased. In recent regenerative medicine, cells are frequently cultured, and there is a demand for evaluating measurement samples (cells) cultured in as short a time as possible. And as regenerative medicine becomes widespread and the application in the medical field further advances, it becomes necessary to judge the cultured measurement sample as a whole. Therefore, there is a demand to observe or judge samples cultured on a microplate that can process many samples at once. However, conventional devices can observe multiple observation objects instantly or simultaneously. There wasn't.

また、このような装置では、観察対象に照射する励起光を全反射が生じる角度である、臨界角以上の入射角度で全反射のポイントに入射させる必要がある。この全反射を起こすための臨界角(全反射のポイントの面に対して垂直な線と励起光とが成す角度)は、測定サンプルによって異なるため、測定サンプルに応じて適切な入射角度となるように調整しなければならなかった。また、臨界角以上の入射角でも臨界角に近いほどエバネッセント波が到達する領域は全反射面からの距離が遠くなり、反面、臨界角から離れるとエバネッセント波の到達する領域は全反射面からの距離が短くなることから、入射角を変えることで、照明領域が変わる(エバネッセント波到達領域を100nmから変更することができる)ことになり、観察の幅を広げるためにも入射角の調整が必要であった。従来では、励起光の角度を変更することにより入射角度を調整していた。しかしながら、励起光の角度を変更すると、全反射のポイントが変わってしまうため、当該全反射のポイントが対象の測定サンプルに合うように励起光照射手段の位置も移動させなければならず、特に複数の測定サンプルのそれぞれを照明して同時に観察しようとする場合には、著しく作業性が煩雑化する問題がある。   Moreover, in such an apparatus, it is necessary to make the excitation light irradiated to the observation object enter the point of total reflection at an incident angle that is an angle at which total reflection occurs, which is an angle greater than the critical angle. The critical angle for causing this total reflection (the angle formed between the line perpendicular to the plane of the point of total reflection and the excitation light) differs depending on the measurement sample, so that the incident angle is appropriate according to the measurement sample. Had to adjust to. Also, the closer to the critical angle, the farther the region where the evanescent wave arrives, the farther the distance from the total reflection surface becomes, and the farther away from the critical angle, the region where the evanescent wave reaches from the total reflection surface. Since the distance becomes shorter, changing the incident angle will change the illumination area (the evanescent wave arrival area can be changed from 100 nm), and adjustment of the incident angle is necessary to widen the observation range. Met. Conventionally, the incident angle is adjusted by changing the angle of the excitation light. However, since the point of total reflection changes when the angle of the excitation light is changed, the position of the excitation light irradiation means must also be moved so that the point of total reflection matches the target measurement sample. When each of the measurement samples is illuminated and intended to be observed at the same time, there is a problem that the workability is remarkably complicated.

本発明は、従来の技術的課題を解決するために成されたものであり、複数の測定サンプルを同時に観察することができるエバネッセント波発生装置とこの発生装置を用いた観察装置を提供することを目的とする。   The present invention has been made to solve the conventional technical problems, and provides an evanescent wave generator capable of simultaneously observing a plurality of measurement samples and an observation apparatus using the generator. Objective.

請求項1の発明のエバネッセント波発生装置は、プリズム内に複数条の光を導入し、複数のエバネッセント波発生面においてそれぞれ全反射させ、エバネッセント波を発生させるものであって、光軸に平行な光が入射した場合に、入射位置にかかわらず、当該光を一点に集中させる屈折機能を有した複数の導入用レンズが並設されて成るレンズアレイと、複数条の平行光を発生する光入射手段とを備え、この光入射手段からレンズアレイの各導入用レンズへそれぞれ入射し、各導入用レンズをそれぞれ通過した複数条の光をプリズム内に導入すると共に、光入射手段は、各導入用レンズの光軸に対して同時に平行に入射させる移動手段を有し、各導入用レンズの直径よりも狭い幅の光を各導入用レンズに入射させることを特徴とする。 The evanescent wave generator according to the first aspect of the present invention introduces a plurality of light beams into a prism, totally reflects the light on a plurality of evanescent wave generation surfaces, and generates an evanescent wave, which is parallel to the optical axis. A lens array in which a plurality of introduction lenses having a refraction function for concentrating the light at a single point regardless of the incident position when the light is incident, and a light incident for generating a plurality of parallel light beams A plurality of light beams that are incident on the respective introduction lenses of the lens array from the light incident means and pass through the respective introduction lenses, and the light incident means is provided for each introduction. It has a moving means for making it incident simultaneously and parallel to the optical axis of the lens, and is characterized in that light having a width narrower than the diameter of each introduction lens is incident on each introduction lens .

請求項2の発明のエバネッセント波発生装置は、上記発明において導入用レンズは、一つのレンズのうちの必要箇所のみを残して切除して成るレンズ断片であることを特徴とする。 An evanescent wave generator according to a second aspect of the present invention is characterized in that, in the above invention, the introduction lens is a lens fragment formed by cutting away only a necessary portion of one lens.

請求項3の発明のエバネッセント波発生装置は、上記各発明において光入射手段は、入射位置の変更方向に対して所定の幅を有し、且つ、各導入用レンズの光軸に平行な光を発生させる平行光発生手段と、この平行光発生手段からの光の一部が通過する複数の窓孔を有した遮蔽部材とを備え、この遮蔽部材を移動させて各導入用レンズへの光の入射位置を同時に変更することを特徴とする。 According to a third aspect of the present invention, there is provided the evanescent wave generator according to the first aspect, wherein the light incident means has a predetermined width with respect to the direction of change of the incident position and emits light parallel to the optical axis of each introduction lens. A parallel light generating means for generating and a shielding member having a plurality of window holes through which a part of the light from the parallel light generating means passes, and the shielding member is moved to transmit light to each introduction lens. The incident position is changed simultaneously.

請求項4の発明のエバネッセント波発生装置は、請求項3に記載の発明において平行光発生手段は、点光源と、この点光源からの拡散光を各導入用レンズの光軸に平行な光に屈折させる光源用レンズとを有することを特徴とする。 According to a fourth aspect of the present invention, there is provided the evanescent wave generator according to the third aspect , wherein the parallel light generating means converts the point light source and diffused light from the point light source into light parallel to the optical axis of each introduction lens. And a light source lens to be refracted.

請求項5の発明のエバネッセント波発生装置は、請求項3又は請求項4に記載の発明において平行光発生手段からの光を、波長に応じて選択的に通過させるフィルタを備えたことを特徴とする。 An evanescent wave generator according to a fifth aspect of the invention is characterized in that in the invention according to the third or fourth aspect , a filter is provided that selectively allows light from the parallel light generating means to pass through according to the wavelength. To do.

請求項6の発明のエバネッセント波発生装置は、請求項1又は請求項2に記載の発明において光入射手段は、レーザー光を発生する複数のレーザー光源を有し、各レーザー光源からのレーザー光を各導入用レンズにそれぞれ入射させると共に、各レーザー光源を同時に移動させて各導入用レンズへのレーザー光の入射位置を同時に変更することを特徴とする。 According to a sixth aspect of the present invention, there is provided an evanescent wave generator according to the first or second aspect of the invention, wherein the light incident means has a plurality of laser light sources for generating laser light, and the laser light from each laser light source is received. The laser beam is incident on each introduction lens, and the laser light sources are simultaneously moved to simultaneously change the incident position of the laser light on each introduction lens.

請求項7の発明の観察装置は、請求項1乃至請求項6の何れかに記載のエバネッセント波発生装置の各エバネッセント波発生面において発生するエバネッセント波により、複数の測定サンプルの散乱光、及び/又は、蛍光を検出する手段を備えたことを特徴とする。 The observation device according to a seventh aspect of the present invention is directed to a scattered light of a plurality of measurement samples by the evanescent wave generated on each evanescent wave generation surface of the evanescent wave generation device according to any one of the first to sixth aspects, and / or Alternatively, a means for detecting fluorescence is provided.

請求項8の発明の観察装置は、請求項1乃至請求項6の何れかに記載のエバネッセント波発生装置において発生するエバネッセント波を用いた表面プラズモン共鳴による複数の反射光強度の変化を検出する手段を備えたことを特徴とする。 An observation device according to an eighth aspect of the invention is a means for detecting a plurality of reflected light intensity changes due to surface plasmon resonance using the evanescent wave generated in the evanescent wave generation device according to any one of the first to sixth aspects. It is provided with.

本発明によれば、プリズム内に導入された光によりエバネッセント波を発生させるエバネッセント波発生装置において、プリズム内に複数条の光を導入し、複数のエバネッセント波発生面においてそれぞれ全反射させるので、複数の測定ポイントにおいてそれぞれエバネッセント波を発生させることができる。   According to the present invention, in the evanescent wave generating device that generates the evanescent wave by the light introduced into the prism, a plurality of light beams are introduced into the prism and totally reflected on each of the plurality of evanescent wave generating surfaces. An evanescent wave can be generated at each measurement point.

これにより、例えばマイクロプレートの各ウエルにそれぞれ収容された複数の測定サンプルを同時に照明して同時或いは瞬時に観察することができるようになり、観察効率を著しく向上させることができるようになる。   Thereby, for example, a plurality of measurement samples respectively accommodated in each well of the microplate can be illuminated simultaneously and observed simultaneously or instantaneously, and the observation efficiency can be remarkably improved.

特に、光軸に平行な光が入射した場合に、入射位置にかかわらず、当該光を一点に集中させる屈折機能を有した複数の導入用レンズが並設されて成るレンズアレイと、複数条の平行光を発生する光入射手段とを備え、この光入射手段からレンズアレイの各導入用レンズへそれぞれ入射し、各導入用レンズをそれぞれ通過した複数条の光をプリズム内に導入すると共に、光入射手段は、各導入用レンズの光軸に対して同時に平行に入射させる移動手段を有し、各導入用レンズの直径よりも狭い幅の光を各導入用レンズに入射させるので、各々の全反射のポイントが変わることなく、複数条の光の入射角度のみを同時に変更することが可能となる。 In particular, when light parallel to the optical axis is incident, regardless of the incident position, a lens array in which a plurality of introduction lenses having a refraction function for concentrating the light at one point are arranged in parallel. A light incident means for generating parallel light, and enters each of the introduction lenses of the lens array from the light incidence means, and introduces a plurality of light beams respectively passing through the introduction lenses into the prism, The incident means has a moving means for simultaneously making incident light parallel to the optical axis of each introduction lens, and allows light having a width narrower than the diameter of each introduction lens to enter each introduction lens. Only the incident angles of a plurality of light beams can be changed at the same time without changing the reflection point.

ここで、観察対象に照射する励起光を全反射が生じる角度である、臨界角以上の入射角度で全反射のポイントに入射させる必要がある。この全反射を起こすための臨界角は、測定サンプルによって異なるため、測定サンプルに応じて適切な入射角度となるように調整しなければならない。また、臨界角以上の入射角でも臨界角に近いほどエバネッセント波が到達する領域は全反射面からの距離が遠くなり、反面、臨界角から離れるとエバネッセント波の到達する領域は全反射面からの距離が短くなることから、入射角を変えることで、照明領域が変わる(エバネッセント波到達領域を100nmから変更することができる)ことになり、観察の幅を広げるためにも入射角の調整が必要である。従来では、励起光の角度を変更することにより入射角度を調整しており、その場合は励起光の角度を変更することにより、全反射のポイントも変わってしまうため、当該全反射のポイントが対象の測定サンプルに合うように励起光照射手段の位置も移動させなければならず、作業性の煩雑化を招いていたが、この発明によれば、複数の測定ポイントに対する入射角度の調整に伴う作業を著しく簡便に行うことが可能となる。   Here, it is necessary to make the excitation light irradiated to the observation target incident on the point of total reflection at an incident angle that is an angle at which total reflection occurs or more than a critical angle. Since the critical angle for causing this total reflection differs depending on the measurement sample, it must be adjusted so as to have an appropriate incident angle according to the measurement sample. Also, the closer to the critical angle, the farther the region where the evanescent wave arrives, the farther the distance from the total reflection surface becomes, and the farther away from the critical angle, the region where the evanescent wave reaches from the total reflection surface. Since the distance becomes shorter, changing the incident angle will change the illumination area (the evanescent wave arrival area can be changed from 100 nm), and adjustment of the incident angle is necessary to widen the observation range. It is. Conventionally, the incident angle is adjusted by changing the angle of the excitation light. In this case, changing the angle of the excitation light also changes the point of total reflection, so the point of total reflection is the target. The position of the excitation light irradiating means must be moved so as to match the measurement sample of this, which has caused complication of workability, but according to the present invention, the work involved in adjusting the incident angle with respect to a plurality of measurement points Can be performed remarkably simply.

特に、直径が大きい単一の導入用レンズに複数条の光を導入する場合は、導入用レンズの焦点に複数条の光が集約して多点観測できなくなるが、この発明の如く複数の導入用レンズを並設してレンズアレイを構成し、各導入用レンズにそれぞれ光を入射させるようにすれば、各導入用レンズへの光の入射位置を変化させることで、各測定ポイントに対する光の入射角度を顕著に変化させることができるようになる。   In particular, when a plurality of light beams are introduced into a single introduction lens having a large diameter, a plurality of light beams are aggregated at the focal point of the introduction lens and cannot be observed at multiple points. If a lens array is configured by arranging the lenses for introduction and light is incident on each introduction lens, the incident position of the light on each introduction lens is changed, so that the light for each measurement point is changed. The incident angle can be changed significantly.

更に、請求項2の発明の如く導入用レンズを、一つのレンズのうちの必要箇所のみを残して切除して成るレンズ断片とすれば、導入用レンズを必要最小限の大きさとすることができるので、レンズアレイの小型化を図ることができる。 Further, if the introduction lens is a lens piece formed by cutting away only a necessary portion of one lens as in the invention of claim 2 , the introduction lens can be made to the minimum necessary size. Therefore, it is possible to reduce the size of the lens array.

請求項3の発明によれば、上記各発明において光入射手段は、入射位置の変更方向に対して所定の幅を有し、且つ、各導入用レンズの光軸に平行な光を発生させる平行光発生手段と、この平行光発生手段からの光の一部が通過する複数の窓孔を有した遮蔽部材とを備え、この遮蔽部材を移動させて各導入用レンズへの光の入射位置を同時に変更するので、遮蔽部材により必要な部分の光のみを各導入用レンズに入射させることができるようになる。また、遮蔽部材を移動させることで、各々の全反射の位置を変えることなく、入射角度のみを変えることができるようになる。これにより、各導入用レンズの光軸に平行な光を発生可能な光入射手段であれば、どのようなものであっても光源として用いることが可能となる。 According to the invention of claim 3, in each of the above inventions, the light incident means has a predetermined width with respect to the direction of change of the incident position, and generates parallel light that is parallel to the optical axis of each introduction lens. A light generating means and a shielding member having a plurality of window holes through which a part of the light from the parallel light generating means passes, and the incident position of the light to each introduction lens is moved by moving the shielding member Since the change is made at the same time, only the necessary portion of light can be made incident on each introduction lens by the shielding member. Further, by moving the shielding member, only the incident angle can be changed without changing the position of each total reflection. Accordingly, any light incident means capable of generating light parallel to the optical axis of each introduction lens can be used as the light source.

請求項4の発明では、上記発明において平行光発生手段は、点光源と、この点光源からの拡散光を各導入用レンズの光軸に平行な光に屈折させる光源用レンズとを有するので、点光源により、幅広い波長の光を得ることができるようになる。 In the invention of claim 4, in the above invention , the parallel light generating means includes a point light source and a light source lens that refracts diffused light from the point light source into light parallel to the optical axis of each introduction lens. A point light source makes it possible to obtain light having a wide range of wavelengths.

請求項5の発明では、請求項3又は請求項4に記載の発明において平行光発生手段からの光を、波長に応じて選択的に通過させるフィルタを備えたので、フィルタにより任意の波長の光を自在に抽出することができるようになる。 In the invention of claim 5, since the filter according to claim 3 or 4 is provided with a filter that selectively allows the light from the parallel light generating means to pass through according to the wavelength, the light of an arbitrary wavelength is provided by the filter. Can be extracted freely.

請求項6の発明によれば、上記請求項1又は請求項2に記載の発明において光入射手段は、レーザー光を発生する複数のレーザー光源を有し、各レーザー光源からのレーザー光を各導入用レンズにそれぞれ入射させると共に、各レーザー光源を同時に移動させて各導入用レンズへのレーザー光の入射位置を同時に変更することで、簡単に全反射角を変えることができるようになる。また、単位面積当たりの出力が強い複数のレーザー光源を使うことで、より強い複数のエバネッセント波を得ることができるようになる。 According to the invention of claim 6, in the invention of claim 1 or 2 , the light incident means has a plurality of laser light sources that generate laser light, and each laser light from each laser light source is introduced. The total reflection angle can be easily changed by allowing the laser light sources to be simultaneously moved and simultaneously changing the incident positions of the laser light to the introduction lenses. Further, by using a plurality of laser light sources having a high output per unit area, a plurality of stronger evanescent waves can be obtained.

請求項7の発明の観察装置によれば、請求項1乃至請求項6の何れかに記載のエバネッセント波発生装置の各エバネッセント波発生面において発生するエバネッセント波により、複数の測定サンプルの散乱光、及び/又は、蛍光を検出する手段を備えたので、細胞などの観察対象となる複数の測定サンプルの散乱光や蛍光を検出することができるようになる。 According to the observation device of the invention of claim 7 , scattered light of a plurality of measurement samples by the evanescent wave generated on each evanescent wave generation surface of the evanescent wave generation device according to any one of claims 1 to 6 , In addition, since a means for detecting fluorescence is provided, scattered light and fluorescence of a plurality of measurement samples to be observed such as cells can be detected.

また、請求項8の発明の観察装置によれば、請求項1乃至請求項6の何れかに記載のエバネッセント波発生装置において発生するエバネッセント波を用いた表面プラズモン共鳴による複数の反射光強度の変化を検出する手段を備えたので、測定サンプルのプロセスをリアルタイムで定量分析することができるようになる。 According to the observation device of the eighth aspect of the invention, a plurality of reflected light intensity changes due to surface plasmon resonance using the evanescent wave generated in the evanescent wave generation device according to any one of the first to sixth aspects. Therefore, the measurement sample process can be quantitatively analyzed in real time.

以下、図面に基づき本発明の実施形態を詳述する。   Hereinafter, embodiments of the present invention will be described in detail with reference to the drawings.

図1は本発明の一実施例のエバネッセント波発生装置1を備えた観察装置Sの構成図、図2は図1の一部拡大図をそれぞれ示している。この観察装置Sは、後述するエバネッセント波発生装置1と、光検出手段20とを備えている。具体的に、本実施例の観察装置Sは、エバネッセント波発生装置1により発せられたエバネッセント波を細胞等の観察対象物質となる測定サンプル(本実施例では測定対象を励起光の照射により蛍光を発する細胞とする)が収容されたサンプル容器40の下面から照射することにより、サンプル容器40の底壁40Bの上面40Cでエバネッセント波を発生させて、このエバネッセント波の発生面である上記サンプル容器40の底壁40Bの上面40から所定の範囲内にある細胞を励起させ、散乱光や蛍光を発生させて、この散乱光や蛍光をサンプル容器40の一方(図1では上方)に配置された光検出手段20にて検出する構成とされている。   FIG. 1 is a configuration diagram of an observation apparatus S provided with an evanescent wave generator 1 according to an embodiment of the present invention, and FIG. 2 is a partially enlarged view of FIG. This observation device S includes an evanescent wave generation device 1 and a light detection means 20 described later. Specifically, the observation device S of the present embodiment uses an evanescent wave generated by the evanescent wave generator 1 as a measurement sample that becomes an observation target substance such as a cell (in this embodiment, the measurement target is made to fluoresce by being irradiated with excitation light). The evanescent wave is generated on the upper surface 40C of the bottom wall 40B of the sample container 40 by irradiating from the lower surface of the sample container 40 containing the cells to be emitted), and the sample container 40 which is the generation surface of the evanescent wave is generated. The cells located within a predetermined range from the upper surface 40 of the bottom wall 40B of the bottom are excited to generate scattered light and fluorescence, and the scattered light and fluorescence are arranged on one side of the sample container 40 (upward in FIG. 1). The detection means 20 is configured to detect.

実施例のサンプル容器40はガラス製のマイクロプレートであり、図2に示すような複数のウエル40Aを備え、各ウエル40A内にそれぞれ測定サンプルが収容されている。そして、各ウエル40Aの底壁(当該ウエル40Aに対応するマイクロプレートの底壁)40Bの上面40Cでエバネッセント波を発生させ、所定の範囲内にある細胞を励起させ、散乱光や蛍光を発生させて観察するものである。   The sample container 40 of the embodiment is a glass microplate, and includes a plurality of wells 40A as shown in FIG. 2, and a measurement sample is accommodated in each well 40A. Then, an evanescent wave is generated on the upper surface 40C of the bottom wall 40B of each well 40A (bottom wall of the microplate corresponding to the well 40A) to excite cells within a predetermined range, thereby generating scattered light and fluorescence. To observe.

上記光検出手段20は、エバネッセント波発生装置1からの励起光により各ウエル40A内の細胞から発せられた散乱光や蛍光を同時に、又は、瞬時に検出するための手段である。本実施例の光検出手段20は、細胞からの散乱光や蛍光を集光するためのレンズ又は対物レンズ45と、散乱光や蛍光から特定の波長を除去する光フィルタ(蛍光フィルタ)46と、この光フィルタ46を通過した散乱光や蛍光を結像する図示しない結像レンズと、結像レンズからの光像を二次元的に検出し撮像するCCDカメラ48とから構成されている。尚、散乱光や蛍光を検出する手段は、本実施例の光検出手段に限らず、散乱光や蛍光を検出できるものであればどのような検出手段であっても差し支えない。例えば、実施例ではCCDカメラを用いるものとしたが、フォトダイオード等の受光素子を用いても構わない。   The light detection means 20 is means for simultaneously or instantaneously detecting scattered light and fluorescence emitted from the cells in each well 40A by the excitation light from the evanescent wave generator 1. The light detection means 20 of the present embodiment includes a lens or an objective lens 45 for collecting scattered light and fluorescence from a cell, an optical filter (fluorescence filter) 46 for removing a specific wavelength from the scattered light and fluorescence, An imaging lens (not shown) that forms an image of scattered light and fluorescence that has passed through the optical filter 46, and a CCD camera 48 that detects and images a light image from the imaging lens two-dimensionally. The means for detecting scattered light and fluorescence is not limited to the light detection means of this embodiment, and any detection means can be used as long as it can detect scattered light and fluorescence. For example, although a CCD camera is used in the embodiment, a light receiving element such as a photodiode may be used.

更に、光検出手段として、エバネッセント波を用いた表面プラズモン共鳴による反射光強度の変化を検出する手段を用いるものとしても有効である。具体的に、その場合の観察装置は、この表面プラズモン共鳴現象の原理を利用した観察装置である。当該装置は、プリズムの上面に形成された金属(例えば金)薄膜表面に測定サンプル(細胞)を配置し、この測定サンプルを配置した金属薄膜のプリズム5側の面にプリズム5を介して光(レーザー)を入射させると、金属薄膜と測定サンプルとの境界面に電子の粗密波SP(表面プラズモン)との共鳴が発生する。   Further, it is effective to use a means for detecting a change in reflected light intensity due to surface plasmon resonance using an evanescent wave as the light detecting means. Specifically, the observation apparatus in that case is an observation apparatus using the principle of the surface plasmon resonance phenomenon. The apparatus arranges a measurement sample (cell) on the surface of a metal (for example, gold) thin film formed on the upper surface of the prism, and transmits light (through the prism 5 to the surface of the metal thin film on which the measurement sample is arranged via the prism 5. When a laser is incident, resonance with an electron density wave SP (surface plasmon) occurs at the interface between the metal thin film and the measurement sample.

このとき、光(レーザー)の入射角度を変化させて金属薄膜のプリズム5側の面で全反射させると、ある特定の入射角度で反射光が減衰する現象、即ち、表面プラズモン共鳴が生じる。この表面プラズモン共鳴が生じる光の入射角度(共鳴角)は、測定サンプルの誘電率に依存するので、この共鳴角を測定、即ち、エバネッセント波を用いた表面プラズモン共鳴による反射光強度の変化を検出することで、金属薄膜表面における測定サンプルを測定することができる。従って、光の入射角度を調整して、共鳴角の変化を測定することで、金属薄膜表面で測定サンプルのプロセス(例えば、抗体と抗原の相互作用)をリアルタイムで定性、定量分析することができる。   At this time, if the incident angle of the light (laser) is changed and totally reflected by the surface of the metal thin film on the prism 5 side, a phenomenon that the reflected light attenuates at a certain incident angle, that is, surface plasmon resonance occurs. The incident angle (resonance angle) of light causing this surface plasmon resonance depends on the dielectric constant of the measurement sample, so measure this resonance angle, that is, detect the change in reflected light intensity due to surface plasmon resonance using an evanescent wave. As a result, the measurement sample on the surface of the metal thin film can be measured. Therefore, by adjusting the incident angle of light and measuring the change in resonance angle, the process of the measurement sample (for example, interaction between antibody and antigen) can be qualitatively and quantitatively analyzed in real time on the surface of the metal thin film. .

次に、前述した本発明のエバネッセント波発生装置について説明する。本発明のエバネッセント波発生装置は、プリズム内に複数条の光を導入し、複数のエバネッセント波発生面においてそれぞれ全反射させるものである。具体的に、本実施例のエバネッセント波発生装置1は、プリズム5と、レンズアレイ30と、光入射手段10とを備え、プリズム5内に複数条の光を導入し、複数のエバネッセント波発生面(本実施例では、エバネッセント波発生面は、サンプル容器40の底面40Bの上面40C)においてそれぞれ全反射させるものである。   Next, the above-described evanescent wave generator of the present invention will be described. The evanescent wave generator of the present invention introduces a plurality of light beams into a prism and totally reflects the light on a plurality of evanescent wave generation surfaces. Specifically, the evanescent wave generator 1 of this embodiment includes a prism 5, a lens array 30, and a light incident means 10, introduces a plurality of light beams into the prism 5, and generates a plurality of evanescent wave generation surfaces. (In the present embodiment, the evanescent wave generating surface is totally reflected at the upper surface 40C of the bottom surface 40B of the sample container 40).

実施例のプリズム5は、BK7(SCHOTT GLASS社製)から成るもので、この屈折率は、1.52である。このプリズム5の一面(図1では左側面)は、後述する光入射手段10からの励起光をプリズム5内に入射するための光入射部とされている。   The prism 5 of the embodiment is made of BK7 (manufactured by SCHOTT GLASS), and its refractive index is 1.52. One surface (left side surface in FIG. 1) of the prism 5 is a light incident portion for allowing excitation light from a light incident means 10 described later to enter the prism 5.

一方、前述したレンズアレイ30は、図2に示すように円形の複数の導入用レンズ6を並設してなるものである。各導入用レンズ6は、当該導入用レンズ6の光軸Lに平行な光が入射した場合に、入射位置に拘わらず、それぞれ光を一点に集中させる屈折機能を有したレンズである。また、各導入用レンズ6は全て光軸Lを平行として並べられている。本実施例では、導入用レンズ6としてアクロマートレンズを用いるものとする。このアクロマートレンズは、光の波長で生じる色収差を補正したレンズである。具体的に、屈折率と色分散の異なる2枚のレンズ(凸レンズと凹レンズ)を貼り合わせて2色(通常は赤と青)の焦点位置のずれを補正したものである。尚、実施例では導入用レンズ6として、アクロマートレンズを用いるものとするが、3枚以上のレンズを組み合わせて、球面収差とコマを修正し、且つ、アクロマートレンズより色収差を小さくしたアポクロマートレンズを導入用レンズ6として用いるものとしても本発明は有効である。   On the other hand, the lens array 30 described above is formed by arranging a plurality of circular introduction lenses 6 in parallel as shown in FIG. Each introduction lens 6 is a lens having a refraction function for concentrating light at one point regardless of the incident position when light parallel to the optical axis L of the introduction lens 6 is incident. The introduction lenses 6 are all arranged with the optical axis L in parallel. In the present embodiment, an achromatic lens is used as the introduction lens 6. This achromatic lens is a lens that corrects chromatic aberration caused by the wavelength of light. Specifically, two lenses (convex lens and concave lens) having different refractive indexes and chromatic dispersion are bonded together to correct the focal position shift between the two colors (usually red and blue). In the embodiment, an achromat lens is used as the introduction lens 6. However, an apochromat lens in which spherical aberration and coma are corrected by combining three or more lenses and chromatic aberration is smaller than that of the achromat lens is introduced. The present invention is also effective when used as the lens 6 for an automobile.

一方、前述した光入射手段10は、複数条の平行光を発生し、各平行光をレンズアレイ30の各導入用レンズ6にそれぞれ入射させるための手段であり、前記プリズム5内に光を導入、即ち、本実施例ではレンズアレイ30の各導入用レンズ6へそれぞれ入射し、各導入用レンズ6をそれぞれ通過した複数条の光をプリズム5内に導入するための励起光源と、導入用レンズ6の光軸Lに対して平行に光を入射させながら、光入射手段10をエバネッセント波が発生する面に対する各光の入射角度が変化する方向に同時に移動させる移動手段とを有する。そして、この光入射手段10は、各導入用レンズ6の直径(本実施例では図1に示すD)よりも狭い幅の光を各導入用レンズ6に同時に入射させるよう構成されている。   On the other hand, the light incident means 10 described above is a means for generating a plurality of parallel light beams and causing the parallel light beams to enter the introduction lenses 6 of the lens array 30, and introduces the light into the prism 5. That is, in this embodiment, an excitation light source for introducing a plurality of light beams respectively incident on the respective introduction lenses 6 of the lens array 30 and passed through the respective introduction lenses 6 into the prism 5, and the introduction lenses. And a moving means for simultaneously moving the light incident means 10 in the direction in which the incident angle of each light changes with respect to the surface where the evanescent wave is generated, while making the light incident parallel to the optical axis L of 6. The light incident means 10 is configured so that light having a narrower width than the diameter of each introduction lens 6 (D shown in FIG. 1 in this embodiment) is incident on each introduction lens 6 simultaneously.

具体的には、この実施例の光入射手段10は、入射位置の変更方向(レンズアレイ30を構成する各導入用レンズ6の直径方向)におけるレンズアレイ30の寸法に対応可能な所定の幅を有し、且つ、各導入用レンズ6の光軸Lに平行な光を発生させる平行光発生手段10Aと、遮蔽部材55とを備える。この遮蔽部材55は、平行光発生手段10Aからの一部の光を各導入用レンズ6にそれぞれ入射させるための部材であり、平行光発生手段10Aからの光の一部を通過させるため、導入用レンズ6の数と同数(複数)の窓孔56(スリット)を有している。各窓孔56は各導入用レンズ6の直径よりも狭い幅を有し、この遮蔽部材55は平行光発生手段10Aと導入用レンズ6との間に配置されている。   Specifically, the light incident means 10 of this embodiment has a predetermined width that can correspond to the dimensions of the lens array 30 in the incident position changing direction (diameter direction of each introduction lens 6 constituting the lens array 30). And 10 A of parallel light generation means which generate | occur | produces the light parallel to the optical axis L of each introduction lens 6, and the shielding member 55 are provided. The shielding member 55 is a member for causing a part of the light from the parallel light generating means 10A to enter each of the introduction lenses 6, and is introduced to allow a part of the light from the parallel light generating means 10A to pass. The same number (plural) of window holes 56 (slits) as the number of lenses 6 are provided. Each window hole 56 has a narrower width than the diameter of each introduction lens 6, and the shielding member 55 is disposed between the parallel light generating means 10 </ b> A and the introduction lens 6.

そして、この場合はモータ及びラックアンドピニオンギアなどにより構成された移動手段により、実施例では各導入用レンズ6の光軸Lに対して直交する方向に遮蔽部材55を移動させて各導入用レンズ6への光の入射位置をそれぞれ変更する。尚、図1の破線で示す方向に遮蔽部材55を移動させてもよい。これにより、この遮蔽部材55の各窓孔56を通過した光入射手段10(平行光発生手段10A)からの一部の光のみが各導入用レンズ6に入射される。従って、この実施例では光源である平行光発生手段10Aを移動させることなく、遮蔽部材55を移動させることで、入射角度を変更することが可能となる。具体的に、遮蔽部材55を移動させて、遮蔽部材55により必要な部分の光のみが各導入用レンズ6に入射されるように調整することで、各ウエル40Aにおける全反射のポイントを変えることなく、容易に光の入射角度を各ウエル40Aで同時に変えることができるようになる。   In this case, the shielding member 55 is moved in a direction orthogonal to the optical axis L of each introduction lens 6 by the moving means constituted by a motor, a rack and pinion gear, and the like. The incident position of the light to 6 is changed. In addition, you may move the shielding member 55 to the direction shown with the broken line of FIG. As a result, only a part of the light from the light incident means 10 (parallel light generating means 10 </ b> A) that has passed through each window hole 56 of the shielding member 55 is incident on each introduction lens 6. Therefore, in this embodiment, it is possible to change the incident angle by moving the shielding member 55 without moving the parallel light generating means 10A which is a light source. Specifically, the point of total reflection in each well 40 </ b> A is changed by moving the shielding member 55 and adjusting the shielding member 55 so that only a necessary portion of light is incident on each introduction lens 6. Therefore, the incident angle of light can be easily changed simultaneously in each well 40A.

上記レンズアレイ30は、光入射手段10とプリズム5との間に配置され、図2に示すようにレンズアレイ30の各導入用レンズ6にそれぞれ入射され、各導入用レンズ6をそれぞれ通過した複数条の光をプリズム5内に導入するよう構成されている。   The lens array 30 is disposed between the light incident means 10 and the prism 5, and is incident on each introduction lens 6 of the lens array 30 and passes through each introduction lens 6 as shown in FIG. The strip light is configured to be introduced into the prism 5.

上述したように、光の一部が通過可能な窓孔56を有した遮蔽部材55を設けて、当該遮蔽部材55を移動することで、各導入用レンズ6への光の入射位置を同時に変更することができるので、各ウエル40Aにおける全反射の位置を変えることなく、入射角度を同時に変えることが可能となる。これにより、各導入用レンズ6の光軸Lに平行な光を発生可能な平行光発生手段であれば、どのようなものであっても光源として用いることが可能となる。   As described above, by providing the shielding member 55 having the window hole 56 through which a part of the light can pass and moving the shielding member 55, the incident position of the light to each introduction lens 6 is changed at the same time. Therefore, the incident angle can be changed simultaneously without changing the position of total reflection in each well 40A. Accordingly, any parallel light generating means capable of generating light parallel to the optical axis L of each introduction lens 6 can be used as a light source.

そして、光入射手段10からの複数条の励起光が各導入用レンズ6の何れかの部分に各導入用レンズ6の光軸Lに対して平行に入射されると、各導入用レンズ6を通過した光は各導入用レンズ6への入射位置や波長に拘わらず、屈折してそれぞれある一点に集中することとなる。そこで、当該光が集中する一点にそれぞれのウエル40A内の測定サンプルを配置すると共に、この測定サンプルに照射される各励起光を全反射が生じる角度である臨界角以上の入射角度で入射させて、それぞれ各測定サンプルの臨界面で全反射させ、そのとき、全反射面の上側に発生するエバネッセント波により全反射面から上方の所定範囲内にある各測定サンプルを励起させる。   When a plurality of excitation light beams from the light incident means 10 are incident on any part of each introduction lens 6 in parallel to the optical axis L of each introduction lens 6, each introduction lens 6 is turned on. The light that has passed through is refracted and concentrated at a certain point regardless of the incident position and wavelength on each introduction lens 6. Therefore, a measurement sample in each well 40A is arranged at one point where the light is concentrated, and each excitation light irradiated to the measurement sample is incident at an incident angle equal to or greater than a critical angle at which total reflection occurs. Each of the measurement samples is totally reflected by the critical surface of each measurement sample, and at that time, each measurement sample within a predetermined range above the total reflection surface is excited by an evanescent wave generated above the total reflection surface.

このように、入射位置や波長にかかわらず、光入射手段10からの複数条の光をそれぞれ一点に集中させる屈折機能を有した複数の導入用レンズ6を並設して成るレンズアレイ30を設けて、光入射手段10から導入用レンズ6の直径Dよりも狭い幅の各光を各導入用レンズ6へ入射し、各導入用レンズ6を通過した光をそれぞれプリズム5内に導入することで、各導入用レンズ6を通過したそれぞれの光は、各導入用レンズ6への入射位置や波長にかかわらず、それぞれ一点に集中することとなる。即ち、光入射手段10からの複数条の光を、如何なる位置で各導入用レンズ6に入射させたとしても、各導入用レンズ6を経た光は、それぞれ必ず一点に集中するので、光入射手段10の位置が変わった場合であっても、それぞれの全反射のポイントは変わらず、各ポイントに入射するそれぞれの光の入射角度のみが同時に変わることとなる。   As described above, the lens array 30 is provided which includes a plurality of introduction lenses 6 having a refraction function for concentrating a plurality of light beams from the light incident means 10 at one point regardless of the incident position and wavelength. Thus, each light having a width narrower than the diameter D of the introduction lens 6 is incident on each introduction lens 6 from the light incident means 10, and the light that has passed through each introduction lens 6 is introduced into the prism 5. Each light that has passed through each introduction lens 6 is concentrated at one point regardless of the incident position or wavelength on each introduction lens 6. That is, no matter what position the light from the light incident means 10 is incident on each introduction lens 6, the light that has passed through each introduction lens 6 is always concentrated at one point. Even when the position of 10 is changed, the respective points of total reflection are not changed, and only the incident angles of the respective lights incident on the respective points are changed simultaneously.

このように、本発明では光入射手段10からの複数条の光をプリズム5内に導入し、複数のエバネッセント発生面においてそれぞれ全反射させるので、複数のポイント(各ウエル40Aの底壁4Bの上面40C)においてぞれぞれエバネッセント波を発生させることができる。これにより、各ウエル40Aのエバネッセント波の発生面にそれぞれ測定サンプルを配置すれば、各測定サンプルを同時に照明して同時或いは瞬時に観察することができるようになり、観察効率を著しく向上させることができるようになる。   In this way, in the present invention, a plurality of light beams from the light incident means 10 are introduced into the prism 5 and totally reflected on the plurality of evanescent generation surfaces, so that a plurality of points (the upper surface of the bottom wall 4B of each well 40A) 40C), an evanescent wave can be generated. As a result, if each measurement sample is arranged on the evanescent wave generation surface of each well 40A, it becomes possible to simultaneously illuminate each measurement sample and observe it simultaneously or instantaneously, thereby significantly improving the observation efficiency. become able to.

特に、光軸Lに平行な光が入射した場合に、入射位置にかかわらず、当該光を一点に集中させる屈折機能を有した複数の導入用レンズ6が並設されて成るレンズアレイ30と、複数条の平行光を発生する光入射手段10とを設け、この光入射手段10からレンズアレイ30の各導入用レンズ6へそれぞれ入射し、各導入用レンズ6をそれぞれ通過した複数条の光をプリズム5内に導入すると共に、各導入用レンズ6の光軸Lに対して同時に平行に入射させながら、図1の実施例におけるエバネッセント波が発生する面であるサンプル容器40の底壁40Bの上面40Cに対する光の入射角度を変更する方向に移動させる移動手段を有し、各導入用レンズ6の直径よりも狭い幅の光を各導入用レンズ6に入射させるようにしているので、各々の全反射のポイントが変わることなく、複数条の光の入射角度のみを同時に変更することが可能となる。   In particular, when light parallel to the optical axis L is incident, a lens array 30 in which a plurality of introduction lenses 6 having a refractive function for concentrating the light to one point regardless of the incident position; A light incident means 10 for generating a plurality of parallel light beams. The light incident means 10 is incident on each introduction lens 6 of the lens array 30 from the light incidence means 10, and the plurality of light beams that have passed through each introduction lens 6. An upper surface of the bottom wall 40B of the sample container 40, which is a surface on which the evanescent wave is generated in the embodiment of FIG. 1 while being introduced into the prism 5 and simultaneously incident in parallel with the optical axis L of each introduction lens 6. Since there is a moving means for moving the incident angle of the light with respect to 40C in a direction to change, light having a width smaller than the diameter of each introduction lens 6 is made incident on each introduction lens 6. Reflection point without change, it is possible to change only the angle of incidence of the plural rows of light simultaneously.

これにより、複数の測定ポイントに対する入射角度の調整に伴う作業を著しく簡便に行うことが可能となる。ここで、直径が大きい単一の導入用レンズに複数条の光を導入する場合は、導入用レンズの焦点に複数条の光が集約して多点観測できなくなるが、この発明の如く複数の導入用レンズ6を並設してレンズアレイ30を構成し、各導入用レンズ6にそれぞれ光を入射させるようにしているので、各導入用レンズ6への光の入射位置を変化させることで、各測定ポイント(各ウエル40Aの底壁40Bの上面40C)に対する光の入射角度を顕著に変化させることができるようになる。   Thereby, it becomes possible to perform the operation | work accompanying adjustment of the incident angle with respect to several measurement points remarkably simply. Here, when a plurality of light beams are introduced into a single introduction lens having a large diameter, a plurality of light beams are aggregated at the focal point of the introduction lens, and multiple points cannot be observed. Since the introduction lens 6 is arranged side by side to form the lens array 30 and light is incident on each introduction lens 6, by changing the incident position of the light on each introduction lens 6, The incident angle of light with respect to each measurement point (the upper surface 40C of the bottom wall 40B of each well 40A) can be changed significantly.

次に、本発明の他の実施例について図3を用いて説明する。尚、図3において図1、図2と同一の符号が付されているものは、同様、或いは、類似の効果を奏するものとして説明を省略する。図3に示す本実施例の光入射手段60の平行光発生手段65は、点光源67(例えば、キセノンランプ、水銀ランプ等)と、光源用レンズ68とを有する。この光源用レンズ68は、点光源67からの拡散光を各導入用レンズ6の光軸Lに平行な光に屈曲させるためのレンズであり、点光源67と遮蔽部材55との間に配設されている。遮蔽部材55は、図1、図2に示す前記実施例1と同様であるため説明を省略する。   Next, another embodiment of the present invention will be described with reference to FIG. 3 that have the same reference numerals as those in FIGS. 1 and 2 have the same or similar effects and will not be described. 3 includes a point light source 67 (for example, a xenon lamp, a mercury lamp, etc.) and a light source lens 68. The light source lens 68 is a lens for bending the diffused light from the point light source 67 into light parallel to the optical axis L of each introduction lens 6, and is disposed between the point light source 67 and the shielding member 55. Has been. The shielding member 55 is the same as that of the first embodiment shown in FIGS.

この場合、点光源67の光は、点光源(例えばランプ)の性能により、多くの波長成分を含んだ光であり、且つ、拡散光であるが、光源用レンズ68を通過させることで、当該拡散光を屈折させて、各導入用レンズ6の光軸Lに平行な光とすることができる。即ち、点光源67からの拡散光は、光源用レンズ68を通過する過程で各導入用レンズ6の光軸Lと平行な光とされた後、遮蔽部材55により必要な部分の光のみが各導入用レンズ6にそれぞれ入射されるように調整される。これにより、各導入用レンズ6に当該導入用レンズ6の光軸Lと平行な必要な部分の光を入射させることが可能となる。また、各導入用レンズ6を通過した光は前記実施例で詳述したようにそれぞれ一点に集中される。これにより、点光源を用いた場合であっても、上記で詳述した本実施例の如き構成とすることで、各ウエル40Aにおける全反射のポイントを変えることなく、容易に光の入射角度を変更することができるようになる。   In this case, the light of the point light source 67 is light including many wavelength components due to the performance of the point light source (for example, a lamp), and is diffused light. The diffused light can be refracted into light parallel to the optical axis L of each introduction lens 6. That is, the diffused light from the point light source 67 is converted into light parallel to the optical axis L of each introduction lens 6 in the process of passing through the light source lens 68, and then only necessary portions of light are transmitted by the shielding member 55. Adjustment is made so that the light enters the introduction lens 6. As a result, it is possible to make each of the introduction lenses 6 enter a necessary portion of light parallel to the optical axis L of the introduction lens 6. Further, the light passing through each introduction lens 6 is concentrated at one point as described in detail in the above embodiment. Thereby, even when a point light source is used, the light incident angle can be easily changed without changing the point of total reflection in each well 40A by adopting the configuration as in the present embodiment described in detail above. Will be able to change.

尚、本実施例、或いは、前記実施例1において、例えば、本実施例の構成において、図4に示すように平行光発生手段65と各導入用レンズ6との間に平行光発生手段65からの光を波長に応じて選択的に通過させるフィルタ70(例えば、バンドパスフィルタ等)を設置するものとすれば、複数の波長を含む光を光源として用いた場合であっても、当該フィルタ70により必要とされる特定の波長以外の光をカットし、当該特定の波長の光(予め設定された波長の光)のみを通過させることができる。このようにフィルタ70を設けることで、複数波長の光を含む光源からの光から任意の波長の光を自在に選択することができるようになる。   In the present embodiment or the first embodiment, for example, in the configuration of the present embodiment, the parallel light generating means 65 is arranged between the parallel light generating means 65 and each introduction lens 6 as shown in FIG. If the filter 70 (for example, a band pass filter etc.) which selectively passes the light according to a wavelength is installed, even if it is a case where the light containing a several wavelength is used as a light source, the said filter 70 Therefore, it is possible to cut light other than the required specific wavelength and pass only the light having the specific wavelength (light having a preset wavelength). By providing the filter 70 as described above, light having an arbitrary wavelength can be freely selected from light from a light source including light having a plurality of wavelengths.

尚、上記各実施例では、光入射手段10、60を平行光発生手段10A、65と遮蔽部材55とで構成したが、本発明の請求項1の発明に記載の光入射手段は、これに限定されるものではない。図5は、この場合の一実施例を説明する図である。尚、図5において図1乃至図4と同一の符号が付されたものは、同様、若しくは、類似の効果、或いは、作用を奏するものとして、説明を省略する。   In each of the above embodiments, the light incident means 10 and 60 are constituted by the parallel light generating means 10A and 65 and the shielding member 55. However, the light incident means described in claim 1 of the present invention includes It is not limited. FIG. 5 is a diagram for explaining an embodiment in this case. 5 that have the same reference numerals as those in FIGS. 1 to 4 have the same or similar effects or functions, and the description thereof will be omitted.

本実施例の光入射手段50は、前述した励起光源として、レーザー光を発生するレーザー光源(例えば、固体レーザーなど)を用いる。即ち、この実施例の光入射手段50は、それぞれ平行なレーザー光(導入用レンズ6の直径よりも狭い幅のレーザー光)を発生する複数のレーザー光源52を有し、各レーザー光源52からのレーザー光を導入用レンズ6にそれぞれ同時に入射させると共に、各レーザー光源52を同時に移動させて各導入用レンズ6へのレーザー光の入射位置を同時に変更可能に構成されている。   The light incident means 50 of the present embodiment uses a laser light source (for example, a solid laser) that generates laser light as the excitation light source described above. That is, the light incident means 50 of this embodiment has a plurality of laser light sources 52 that generate parallel laser beams (laser beams having a narrower width than the diameter of the introduction lens 6), The laser light is incident on the introduction lens 6 at the same time, and the laser light incident positions on the introduction lenses 6 can be changed simultaneously by moving the laser light sources 52 at the same time.

具体的に、上記移動手段は例えばモータとラックアンドピニオンギアなどから構成されており、レンズアレイ30の各導入用レンズ6の光軸Lに対して平行に光を入射させながら、エバネッセント波が発生する面であるサンプル容器40の各ウエル40Aの底壁40Bの上面40Cに対する複数条の光の入射角度を変更する方向に、レーザー光源52を同時に移動させるものであり、本実施例では、図5に実線矢印で示すように各導入用レンズ6の光軸Lに対して直交する方向に各レーザー光源52を移動可能に構成されている。尚、本実施例の移動手段は、各導入用レンズ6の光軸Lに対して直交する方向に同時に複数条の光を移動させるものであれば良く、例えば、図1に破線矢印で示したような方向に移動するものであっても有効である。   Specifically, the moving means is composed of, for example, a motor and a rack and pinion gear, and an evanescent wave is generated while light is incident parallel to the optical axis L of each introduction lens 6 of the lens array 30. The laser light source 52 is simultaneously moved in a direction to change the incident angle of a plurality of light beams with respect to the upper surface 40C of the bottom wall 40B of each well 40A of the sample container 40, which is a surface to be processed. Each laser light source 52 is configured to be movable in a direction perpendicular to the optical axis L of each introduction lens 6 as indicated by solid line arrows. The moving means of this embodiment may be any means that can move a plurality of light beams simultaneously in a direction orthogonal to the optical axis L of each introduction lens 6, and is shown by, for example, a broken line arrow in FIG. 1. Even moving in such a direction is effective.

そして、光入射手段50の各レーザー光源52からの複数条の励起光(レーザー光)を各導入用レンズ6の何れかの部分に各導入用レンズ6の光軸Lに対して平行に入射させると、各導入用レンズ6を通過した光は各導入用レンズ6への入射位置や波長に拘わらず、屈折してそれぞれある一点に集中する。そこで、当該光が集中する一点にそれぞれのウエル40A内の測定サンプルを配置すると共に、この測定サンプルに照射される各励起光を全反射が生じる角度である臨界角以上の入射角度で入射させて、それぞれ各測定サンプルの臨界面で全反射させ、そのとき、全反射面の上側に発生するエバネッセント波により全反射面から上方の所定範囲内にある各測定サンプルを励起させる。   Then, a plurality of excitation light (laser light) from each laser light source 52 of the light incident means 50 is incident on any part of each introduction lens 6 in parallel to the optical axis L of each introduction lens 6. The light that has passed through each introduction lens 6 is refracted and concentrated at a certain point regardless of the incident position and wavelength on each introduction lens 6. Therefore, a measurement sample in each well 40A is arranged at one point where the light is concentrated, and each excitation light irradiated to the measurement sample is incident at an incident angle equal to or greater than a critical angle at which total reflection occurs. Each of the measurement samples is totally reflected by the critical surface of each measurement sample, and at that time, each measurement sample within a predetermined range above the total reflection surface is excited by an evanescent wave generated above the total reflection surface.

このように、この場合も入射位置や波長にかかわらず、光入射手段50からの複数条のレーザー光をそれぞれ一点に集中させる屈折機能を有した複数の導入用レンズ6を並設して成るレンズアレイ30を設けて、光入射手段50から導入用レンズ6の直径Dよりも狭い幅の各光を各導入用レンズ6へ入射し、各導入用レンズ6を通過した光をそれぞれプリズム5内に導入することで、各導入用レンズ6を通過したそれぞれのレーザー光は、各導入用レンズ6への入射位置や波長にかかわらず、それぞれ一点に集中することとなる。即ち、光入射手段50からの複数条のレーザー光を、如何なる位置で各導入用レンズ6に入射させたとしても、各導入用レンズ6を経たレーザー光は、それぞれ必ず一点に集中するので、光入射手段50の位置が変わった場合であっても、それぞれの全反射のポイントは変わらず、各ポイントに入射するそれぞれのレーザー光の入射角度のみが同時に変わることとなる。   Thus, in this case as well, a lens formed by juxtaposing a plurality of introduction lenses 6 having a refractive function for concentrating a plurality of laser beams from the light incident means 50 at one point regardless of the incident position and wavelength. An array 30 is provided so that light having a width narrower than the diameter D of the introduction lens 6 is incident on each introduction lens 6 from the light incident means 50, and the light that has passed through each introduction lens 6 is entered into the prism 5. By introducing, each laser beam that has passed through each introduction lens 6 is concentrated at one point regardless of the incident position and wavelength on each introduction lens 6. That is, no matter what position the multiple laser beams from the light incident means 50 are incident on each introduction lens 6, the laser light that has passed through each introduction lens 6 is always concentrated on one point. Even when the position of the incident means 50 is changed, the respective points of total reflection are not changed, and only the incident angles of the respective laser beams incident on the respective points are changed at the same time.

特に、この場合は励起光としてレーザー光を用いているので、単一面積当たりの出力が強い複数のレーザー光により、複数の強いエバネッセント波を得ることができるようになる。   In particular, in this case, since laser light is used as excitation light, a plurality of strong evanescent waves can be obtained by a plurality of laser lights having a high output per single area.

次に、図6は前記各実施例のレンズアレイ30を構成する各導入用レンズ6の他の実施例を示している。この場合、各導入用レンズ6は、一つの円形のレンズを全て使用するのでは無く、導入用レンズ6の光軸Lに平行な面で、実施例では半分に切断された断片を用いる。即ち、この場合の各導入用レンズ6は、エバネッセント波発生ポイントに入射する励起光の入射角度を変更するために必要な箇所(実施例では中心から半分)のみを残して切除されたものを用いている。   Next, FIG. 6 shows another embodiment of each introduction lens 6 constituting the lens array 30 of each embodiment. In this case, each introduction lens 6 does not use a single circular lens, but uses a piece cut in half in the embodiment in a plane parallel to the optical axis L of the introduction lens 6. That is, in this case, each introduction lens 6 is a lens that is excised leaving only a portion (half from the center in the embodiment) necessary for changing the incident angle of the excitation light incident on the evanescent wave generation point. ing.

そして、この場合の励起光はこのように切断された半分の寸法の導入用レンズ6の半径よりも幅の狭いものとされる。   In this case, the excitation light is narrower than the radius of the half-sized introduction lens 6 cut in this way.

このように各導入用レンズ6を、一つのレンズのうちの必要箇所のみを残して切除して成るレンズ断片とすれば、各導入用レンズ6を必要最小限の大きさとすることができるので、当該導入用レンズ6を複数並設した場合に、レンズアレイ30の小型化を図ることができるようになる。   In this way, if each introduction lens 6 is made into a lens fragment formed by cutting away only a necessary portion of one lens, each introduction lens 6 can be made to the minimum necessary size. When a plurality of introduction lenses 6 are arranged in parallel, the lens array 30 can be reduced in size.

尚、上記各実施例ではサンプル容器としてガラス製のマイクロプレートを使用したが、材質はそれに限らず、また、区画されていない容器の複数箇所にそれぞれ測定サンプルを配置してもよく、更に、複数の容器を使用し、それぞれに測定サンプルを収容する場合や、容器を用いずにプリズム上に直接複数の測定サンプルを配置する場合にも本発明は有効である。   In each of the above embodiments, a glass microplate was used as the sample container. However, the material is not limited to this, and the measurement samples may be arranged at a plurality of locations on the undivided container. The present invention is also effective when each of the containers is used and a measurement sample is accommodated in each container, or when a plurality of measurement samples are arranged directly on the prism without using the container.

本発明の一実施例のエバネッセント波発生装置を備えた観察装置の構成図である。(実施例1)It is a block diagram of the observation apparatus provided with the evanescent wave generator of one Example of this invention. Example 1 図1のエバネッセント波発生装置の一部拡大図である。FIG. 2 is a partially enlarged view of the evanescent wave generator of FIG. 1. 図1の観察装置の他の実施例のエバネッセント波発生装置の説明図である(実施例2)。It is explanatory drawing of the evanescent wave generator of the other Example of the observation apparatus of FIG. 1 (Example 2). 図1の観察装置のもう一つの他のエバネッセント波発生装置を説明する図である。It is a figure explaining the other evanescent wave generator of the observation apparatus of FIG. 図1の観察装置の更にもう一つの他のエバネッセント波発生装置を説明する図である(実施例3)。FIG. 10 is a diagram for explaining still another evanescent wave generator of the observation apparatus of FIG. 1 (Example 3). 図1の観察装置の更にもう一つの他のエバネッセント波発生装置を説明する図である(実施例4)。FIG. 10 is a diagram for explaining still another evanescent wave generator of the observation apparatus of FIG. 1 (Example 4).

S 観察装置
1 エバネッセント波発生装置
5 プリズム
6 導入用レンズ
10、50、60 光入射手段
20 光検出手段
40 サンプル容器
40A ウエル
40B 底壁
45 対物レンズ
48 CCDカメラ
DESCRIPTION OF SYMBOLS S Observation apparatus 1 Evanescent wave generator 5 Prism 6 Introduction lens 10, 50, 60 Light incident means 20 Photodetection means 40 Sample container 40A Well 40B Bottom wall 45 Objective lens 48 CCD camera

Claims (8)

プリズム内に複数条の光を導入し、複数のエバネッセント波発生面においてそれぞれ全反射させ、エバネッセント波を発生させるエバネッセント波発生装置において、
光軸に平行な光が入射した場合に、入射位置にかかわらず、当該光を一点に集中させる屈折機能を有した複数の導入用レンズが並設されて成るレンズアレイと、
前記複数条の平行光を発生する光入射手段とを備え、
該光入射手段から前記レンズアレイの前記各導入用レンズへそれぞれ入射し、各導入用レンズをそれぞれ通過した複数条の光を前記プリズム内に導入すると共に、
前記光入射手段は、前記各導入用レンズの光軸に対して同時に平行に入射させる移動手段を有し、前記各導入用レンズの直径よりも狭い幅の光を該各導入用レンズに入射させることを特徴とするエバネッセント波発生装置。
In an evanescent wave generator that introduces a plurality of light beams into a prism, totally reflects each of a plurality of evanescent wave generation surfaces, and generates an evanescent wave,
When light parallel to the optical axis is incident, a lens array in which a plurality of introduction lenses having a refraction function for concentrating the light to one point regardless of the incident position;
A light incident means for generating the plurality of parallel light beams,
The light incident means is incident on each introduction lens of the lens array, and a plurality of light beams respectively passing through the introduction lenses are introduced into the prism.
The light incident means has a moving means for simultaneously entering parallel to the optical axis of each introduction lens, and makes light having a width narrower than the diameter of each introduction lens enter each introduction lens . An evanescent wave generator characterized by that.
前記導入用レンズは、一つのレンズのうちの必要箇所のみを残して切除して成るレンズ断片であることを特徴とする請求項1に記載のエバネッセント波発生装置。 2. The evanescent wave generator according to claim 1, wherein the introduction lens is a lens fragment formed by cutting away only a necessary portion of one lens . 前記光入射手段は、前記入射位置の変更方向に対して所定の幅を有し、且つ、前記各導入用レンズの光軸に平行な光を発生させる平行光発生手段と、該平行光発生手段からの光の一部が通過する複数の窓孔を有した遮蔽部材とを備え、該遮蔽部材を移動させて前記各導入用レンズへの光の入射位置を同時に変更することを特徴とする請求項1又は請求項2に記載のエバネッセント波発生装置。 The light incident means has a predetermined width with respect to the changing direction of the incident position, and generates parallel light generating means for generating light parallel to the optical axis of each introduction lens, and the parallel light generating means And a shielding member having a plurality of window holes through which a part of light from the light passes, and the incident position of the light to each introduction lens is changed simultaneously by moving the shielding member. The evanescent wave generator according to claim 1 or 2. 前記平行光発生手段は、点光源と、該点光源からの拡散光を前記各導入用レンズの光軸に平行な光に屈折させる光源用レンズとを有することを特徴とする請求項3に記載のエバネッセント波発生装置。 The said parallel light generation means has a point light source and the lens for light sources which refracts the diffused light from this point light source to the light parallel to the optical axis of each said introduction lens. Evanescent wave generator. 前記平行光発生手段からの光を、波長に応じて選択的に通過させるフィルタを備えたことを特徴とする請求項3又は請求項4に記載のエバネッセント波発生装置。 5. The evanescent wave generation device according to claim 3, further comprising a filter that selectively allows light from the parallel light generation means to pass through according to a wavelength . 前記光入射手段は、レーザー光を発生する複数のレーザー光源を有し、各レーザー光源からのレーザー光を前記各導入用レンズにそれぞれ入射させると共に、前記各レーザー光源を同時に移動させて前記各導入用レンズへのレーザー光の入射位置を同時に変更することを特徴とする請求項1又は請求項2に記載のエバネッセント波発生装置。 The light incident means has a plurality of laser light sources for generating laser light, and makes the laser light from each laser light source enter each introduction lens, and simultaneously moves each laser light source to introduce each of the laser light sources. The evanescent wave generator according to claim 1 or 2 , wherein the incident position of the laser beam on the lens is simultaneously changed . 前記各エバネッセント波発生面において発生するエバネッセント波により、複数の測定サンプルの散乱光、及び/又は、蛍光を検出する手段を備えたことを特徴とする請求項1乃至請求項6の何れかに記載のエバネッセント波発生装置を用いた観察装置。 7. The apparatus according to claim 1, further comprising means for detecting scattered light and / or fluorescence of a plurality of measurement samples by evanescent waves generated on the respective evanescent wave generation surfaces. Observation device using the evanescent wave generator. 前記各エバネッセント波を用いた表面プラズモン共鳴による複数の反射光強度の変化を検出する手段を備えたことを特徴とする請求項1乃至請求項6の何れかに記載のエバネッセント波発生装置を用いた観察装置。 7. The evanescent wave generator according to claim 1, further comprising means for detecting a plurality of reflected light intensity changes due to surface plasmon resonance using each of the evanescent waves . Observation device.
JP2007320638A 2007-12-12 2007-12-12 Evanescent wave generator and observation apparatus using the same Expired - Fee Related JP5122930B2 (en)

Priority Applications (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP2007320638A JP5122930B2 (en) 2007-12-12 2007-12-12 Evanescent wave generator and observation apparatus using the same

Applications Claiming Priority (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP2007320638A JP5122930B2 (en) 2007-12-12 2007-12-12 Evanescent wave generator and observation apparatus using the same

Publications (2)

Publication Number Publication Date
JP2009145102A JP2009145102A (en) 2009-07-02
JP5122930B2 true JP5122930B2 (en) 2013-01-16

Family

ID=40915870

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
JP2007320638A Expired - Fee Related JP5122930B2 (en) 2007-12-12 2007-12-12 Evanescent wave generator and observation apparatus using the same

Country Status (1)

Country Link
JP (1) JP5122930B2 (en)

Families Citing this family (4)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP5673211B2 (en) * 2011-02-28 2015-02-18 コニカミノルタ株式会社 Optical specimen detector
WO2014017433A1 (en) * 2012-07-23 2014-01-30 コニカミノルタ株式会社 Optical specimen detection device
WO2016194061A1 (en) * 2015-05-29 2016-12-08 オリンパス株式会社 Optical-characteristic-detection optical system, measurement probe, and optical-characteristic-detection device
CN116520509A (en) * 2023-05-09 2023-08-01 中国科学院高能物理研究所 Evanescent wave modulator and modulation method for changing film growth mode and surface morphology

Family Cites Families (10)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
CA1321488C (en) * 1987-08-22 1993-08-24 Martin Francis Finlan Biological sensors
JP3236199B2 (en) * 1995-08-25 2001-12-10 日本電気株式会社 Planar optical waveguide type biochemical sensor
JPH09257698A (en) * 1996-03-19 1997-10-03 Toto Ltd Surface plasmon resonance sensor
JPH10239233A (en) * 1997-02-26 1998-09-11 Fuji Photo Film Co Ltd Surface plasmon sensor
JP2000097848A (en) * 1998-09-18 2000-04-07 Dainippon Printing Co Ltd Surface plasmon resonance measuring device
JP2003254905A (en) * 2001-03-22 2003-09-10 Fuji Photo Film Co Ltd Measuring instrument
JP2006208294A (en) * 2005-01-31 2006-08-10 Canon Inc Device and method for concurrently imaging plasmon resonance and fluorescence
JP4679962B2 (en) * 2005-05-13 2011-05-11 株式会社フジクラ Optical sensing system
EP1910809A1 (en) * 2005-07-21 2008-04-16 Koninklijke Philips Electronics N.V. Device for detection of excitation using a multiple spot arrangement
JP2007263901A (en) * 2006-03-30 2007-10-11 Dkk Toa Corp Surface plasmon resonance measuring device

Also Published As

Publication number Publication date
JP2009145102A (en) 2009-07-02

Similar Documents

Publication Publication Date Title
JP6685977B2 (en) microscope
JP6086366B2 (en) Microscope, focusing device, fluid holding device, and optical unit
US10302569B2 (en) Microscope device and image acquisition method
DK1290427T3 (en) Method and apparatus for detecting the fluorescence of a sample
JP5068121B2 (en) Microscope and three-dimensional information acquisition method
JP6676613B2 (en) Method and apparatus for microscopic inspection of a sample
US7570362B2 (en) Optical measurement apparatus utilizing total reflection
JP2012237647A (en) Multifocal confocal raman spectroscopic microscope
CN109791275B (en) Observation device
JP6513802B2 (en) Laser light coupling for nanoparticle detection
JP5775693B2 (en) Optical illumination apparatus and method
US20040071394A1 (en) Optical system and method for exciting and measuring fluorescence on or in samples treated with fluorescent pigments
JP5107003B2 (en) Evanescent wave generator and observation apparatus using the same
JP5122930B2 (en) Evanescent wave generator and observation apparatus using the same
JP5175536B2 (en) Evanescent wave generator and observation apparatus using the same
CN117705773A (en) Modularized multi-mode microscopic optical analysis system
JP5356804B2 (en) Raman scattered light measurement system
JP2019012270A (en) Microscope device and method for image acquisition
US20220326502A1 (en) Apparatuses, systems and methods for solid immersion meniscus lenses
JP5009135B2 (en) Optical measuring device
JP5289792B2 (en) Focus detection device and fluorescence observation device using the same
JP2012141452A (en) Automatic focus mechanism and microscope device
EP3945358B1 (en) Oblique plane microscope and method for operating the same
WO2015182258A1 (en) Raman scattering light measurement chip and raman scattering light measurement device
WO2013136891A1 (en) Spectroscopic device, spectroscopic lens and spectroscopic container

Legal Events

Date Code Title Description
A621 Written request for application examination

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A621

Effective date: 20101130

A711 Notification of change in applicant

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A712

Effective date: 20120425

RD03 Notification of appointment of power of attorney

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A7423

Effective date: 20120511

A977 Report on retrieval

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A971007

Effective date: 20120703

A131 Notification of reasons for refusal

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131

Effective date: 20120717

A521 Written amendment

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523

Effective date: 20120911

TRDD Decision of grant or rejection written
A01 Written decision to grant a patent or to grant a registration (utility model)

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A01

Effective date: 20121002

A01 Written decision to grant a patent or to grant a registration (utility model)

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A01

A61 First payment of annual fees (during grant procedure)

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A61

Effective date: 20121025

FPAY Renewal fee payment (prs date is renewal date of database)

Free format text: PAYMENT UNTIL: 20151102

Year of fee payment: 3

R150 Certificate of patent (=grant) or registration of utility model

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R150

S111 Request for change of ownership or part of ownership

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R313113

R350 Written notification of registration of transfer

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R350

LAPS Cancellation because of no payment of annual fees