JP5120498B2 - 内燃機関の排気浄化装置 - Google Patents
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Description
この内燃機関ではNOX吸蔵触媒からNOXを放出すべきときに供給された炭化水素が酸化触媒においてガス状の炭化水素とされ、ガス状の炭化水素がNOX吸蔵触媒に送り込まれる。その結果、NOX吸蔵触媒から放出されたNOXが良好に還元せしめられることになる。
本発明の目的は、排気浄化触媒の温度が高温になっても高いNOX浄化率を得ることのできる内燃機関の排気浄化装置を提供することにある。
図2は触媒担体の表面部分を図解的に示す図である。
図3は排気浄化触媒における酸化反応を説明するための図である。
図4は排気浄化触媒への流入排気ガスの空燃比の変化を示す図である。
図5はNOX浄化率を示す図である。
図6Aおよび6Bは排気浄化触媒における酸化還元反応を説明するための図である。
図7は排気浄化触媒における酸化還元反応を説明するための図である。
図8は排気浄化触媒への流入排気ガスの空燃比の変化を示すタイムチャートである。
図9は排気浄化触媒への流入排気ガスの空燃比の変化を示すタイムチャートである。
図10は排気浄化触媒の酸化力と要求最小空燃比Xとの関係を示す図である。
図11は同一のNOX浄化率の得られる、排気ガス中の酸素濃度と炭化水素濃度の振幅ΔHとの関係を示す図である。
図12は炭化水素濃度の振幅ΔHとNOX浄化率との関係を示す図である。
図13は炭化水素濃度の振動周期ΔTとNOX浄化率との関係を示す図である。
図14は炭化水素供給量Wのマップを示す図である。
図15Aおよび15Bは触媒担体の表面部分を図解的に示す図である。
図16Aおよび16Bは排気浄化触媒における酸化還元反応を説明するための図である。
図17はX線回折計による分析結果を示す図である。
図1を参照すると、1は機関本体、2は各気筒の燃焼室、3は各燃焼室2内に夫々燃料を噴射するための電子制御式燃料噴射弁、4は吸気マニホルド、5は排気マニホルドを夫々示す。吸気マニホルド4は吸気ダクト6を介して排気ターボチャージャ7のコンプレッサ7aの出口に連結され、コンプレッサ7aの入口は吸入空気量検出器8を介してエアクリーナ9に連結される。吸気ダクト6内にはステップモータにより駆動されるスロットル弁10が配置され、更に吸気ダクト6周りには吸気ダクト6内を流れる吸入空気を冷却するための冷却装置11が配置される。図1に示される実施例では機関冷却水が冷却装置11内に導かれ、機関冷却水によって吸入空気が冷却される。
一方、排気マニホルド5は排気ターボチャージャ7の排気タービン7bの入口に連結される。排気タービン7bの出口は排気管12を介して排気浄化触媒13の入口に連結され、排気浄化触媒13の出口は排気ガス中に含まれるパティキュレートを捕集するためのパティキュレートフィルタ14に連結される。排気浄化触媒13上流の排気管12内には圧縮着火式内燃機関の燃料として用いられる軽油その他の燃料からなる炭化水素を供給するための炭化水素供給弁15が配置される。図1に示される実施例では炭化水素供給弁15から供給される炭化水素として軽油が用いられている。なお、本発明はリーン空燃比のもとで燃焼の行われる火花点火式内燃機関にも適用することができる。この場合、炭化水素供給弁15からは火花点火式内燃機関の燃料として用いられるガソリンその他の燃料からなる炭化水素が供給される。
一方、排気マニホルド5と吸気マニホルド4とは排気ガス再循環(以下、EGRと称す)通路16を介して互いに連結され、EGR通路16内には電子制御式EGR制御弁17が配置される。また、EGR通路16周りにはEGR通路16内を流れるEGRガスを冷却するための冷却装置18が配置される。図1に示される実施例では機関冷却水が冷却装置18内に導かれ、機関冷却水によってEGRガスが冷却される。一方、各燃料噴射弁3は燃料供給管19を介してコモンレール20に連結され、このコモンレール20は電子制御式の吐出量可変な燃料ポンプ21を介して燃料タンク22に連結される。燃料タンク22内に貯蔵されている燃料は燃料ポンプ21によってコモンレール20内に供給され、コモンレール20内に供給された燃料は各燃料供給管19を介して燃料噴射弁3に供給される。
電子制御ユニット30はデジタルコンピュータからなり、双方向性バス31によって互いに接続されたROM(リードオンリメモリ)32、RAM(ランダムアクセスメモリ)33、CPU(マイクロプロセッサ)34、入力ポート35および出力ポート36を具備する。排気浄化触媒13の下流には排気ガス温を検出するための温度センサ23が取付けられている。この温度センサ23および吸入空気量検出器8の出力信号は夫々対応するAD変換器37を介して入力ポート35に入力される。また、アクセルペダル40にはアクセルペダル40の踏込み量Lに比例した出力電圧を発生する負荷センサ41が接続され、負荷センサ41の出力電圧は対応するAD変換器37を介して入力ポート35に入力される。更に入力ポート35にはクランクシャフトが例えば15°回転する毎に出力パルスを発生するクランク角センサ42が接続される。一方、出力ポート36は対応する駆動回路38を介して燃料噴射弁3、スロットル弁10の駆動用ステップモータ、炭化水素供給弁15、EGR制御弁17および燃料ポンプ21に接続される。
図2は排気浄化触媒13の基体上に担持された触媒担体の表面部分を図解的に示している。この排気浄化触媒13の担体はアルミニウムとアルカリ土類金属との結晶化した複合酸化物から形成されており、図2に示されるようにこの触媒担体50上には貴金属触媒51,52が担持されている。図2において貴金属触媒51は白金Ptからなり、貴金属触媒52はロジウムRhからなる。なお、触媒担体50上には白金Pt51およびロジウムRh52に加えて更にパラジウムPdを担持させることもできる。
一方、上述したように複合酸化物はアルミニウムとアルカリ土類金属との結晶化した複合酸化物からなり、この場合、アルカリ土類金属としてはバリウムBa又はマグネシウムMgを用いることができる。図2に示される実施例ではアルカリ土類金属としてバリウムBaが用いられており、触媒担体50を構成している複合酸化物はバリウムアルミネートBaAl2O4からなる。
図2に示される触媒担体50の作製方法の一例について簡単に説明すると、アルミナ100g/lに酢酸バリウムを0.1mol/l含浸させ、その後800℃において5時間焼成し、それによりバリウムを結晶化させたバリウムアルミネートBaAl2O4を作製し、このバリウムアルミネートBaAl2O4が触媒担体50とされる。この触媒担体50上には例えば2gの白金Ptと1gのロジウムRhが担持される。なお、このバリウムアルミネートBaAl2O4についてはX線回折計による分析が行われており、図17に示す分析結果からわかるようにこのバリウムアルミネートBaAl2O4についてはバリウムBaが結晶化していることが確認されている。
このようにバリウムBaが結晶化されるとバリウムBaが単に触媒担体内に含有せしめられている場合に比べて触媒担体50の表面部分の塩基性は弱くなる。即ち、バリウムBaを結晶化させることによって触媒担体50の表面部分の塩基性を弱めることができることになる。なお、このように塩基性が弱められても触媒担体50の表面は弱くはあるが塩基性を呈している。
炭化水素供給弁15から排気ガス中に炭化水素が噴射されるとこの炭化水素は排気浄化触媒13において改質される。本発明ではこのとき改質された炭化水素を用いて排気浄化触媒13においてNOXを浄化するようにしている。図3はこのとき排気浄化触媒13において行われる改質作用を図解的に示している。図3に示されるように炭化水素供給弁15から噴射された炭化水素HCは白金Pt51によって炭素数の少ないラジカル状の炭化水素HCとなる。
なお、燃料噴射弁3から燃焼室2内に燃料、即ち炭化水素を膨張行程の後半或いは排気行程中に噴射してもこの炭化水素は燃焼室2内又は排気浄化触媒13において改質され、排気ガス中に含まれるNOXはこの改質された炭化水素によって排気浄化触媒13で浄化される。従って本発明では炭化水素供給弁15から機関排気通路内に炭化水素を供給する代りに、膨張行程の後半或いは排気行程中に燃焼室2内に炭化水素を供給することもできる。このように本発明では炭化水素を燃焼室2内に供給することもできるが、以下炭化水素を炭化水素供給弁15から機関排気通路内に噴射するようにした場合を例にとって本発明を説明する。
図4は炭化水素供給弁15からの炭化水素の供給タイミングと排気浄化触媒13への流入排気ガスの空燃比(A/F)inの変化とを示している。なお、この空燃比(A/F)inの変化は排気浄化触媒13に流入する排気ガス中の炭化水素の濃度変化に依存しているので図4に示される空燃比(A/F)inの変化は炭化水素の濃度変化を表しているとも言える。ただし、炭化水素濃度が高くなると空燃比(A/F)inは小さくなるので図4においては空燃比(A/F)inがリッチ側となるほど炭化水素濃度が高くなっている。
図5は、排気浄化触媒13に流入する炭化水素の濃度を周期的に変化させることによって図4に示されるように排気浄化触媒13への流入排気ガスの空燃比(A/F)inを変化させたときの排気浄化触媒13によるNOX浄化率を排気浄化触媒13の各触媒温度TCに対して示している。本発明者は長い期間に亘ってNOX浄化に関する研究を重ねており、その研究課程において、排気浄化触媒13に流入する炭化水素の濃度を予め定められた範囲内の振幅および予め定められた範囲内の周期でもって振動させると、図5に示されるように400℃以上の高温領域においても極めて高いNOX浄化率が得られることが判明したのである。
更にこのときには窒素および炭化水素を含む多量の還元性中間体が排気浄化触媒13の触媒担体50の表面部分上に保持又は吸着され続けており、この還元性中間体が高NOX浄化率を得る上で中心的役割を果していることが判明したのである。次にこのことについて図6Aおよび6Bを参照しつつ説明する。なお、これら図6Aおよび6Bは排気浄化触媒13の触媒担体50の表面部分を図解的に示しており、これら図6Aおよび6Bには排気浄化触媒13に流入する炭化水素の濃度が予め定められた範囲内の振幅および予め定められた範囲内の周期でもって振動せしめたときに生ずると推測される反応が示されている。
図6Aは排気浄化触媒13に流入する炭化水素の濃度が低いときを示しており、図6Bは炭化水素供給弁15から炭化水素が供給されて排気浄化触媒13に流入する炭化水素の濃度が高くなっているときを示している。
さて、図4からわかるように排気浄化触媒13に流入する排気ガスの空燃比は一瞬を除いてリーンに維持されているので排気浄化触媒13に流入する排気ガスは通常酸素過剰の状態にある。従って排気ガス中に含まれるNOは図6Aに示されるように白金Pt51上において酸化されてNO2となり、次いでこのNO2は白金Pt51から電子を供与されてNO2 −となる。従って白金Pt51上には多量のNO2 −が生成されることになる。このNO2 −は活性が強く、以上このNO2 −を活性NO2 *と称する。
一方、炭化水素供給弁15から炭化水素が供給されると図3に示されるようにこの炭化水素は排気浄化触媒13内において改質され、ラジカルとなる。その結果、図6Bに示されるように活性NO2 *周りの炭化水素濃度が高くなる。一方、このとき図6Bに示されるようにロジウムRh52上では排気ガス中に含まれる一酸化炭素COと水分H2Oから水素H2が生成される。
ところで活性NO2 *が生成された後、活性NO2 *周りの酸素濃度が高い状態が一定時間以上継続すると活性NO2 *は酸化され、図7に示されるようにNO3の形で触媒担体50の表面上に吸着又は保持される。即ち、排気浄化触媒13にNOXが吸蔵される。ただし、触媒担体50内のバリウムBaは結晶化しているので前述したように触媒担体50の表面部分の塩基性は弱く、従ってNO3を触媒担体50の表面上に保持しておく力、即ちNOXを排気浄化触媒13内に吸蔵しておく力は弱い。
これに対し、上述の一定時間が経過する前に活性NO2 *周りの炭化水素濃度が高くされると図6Bに示されるように活性NO2 *は白金Pt51上においてラジカル状の炭化水素HCおよびロジウムRh52上において生成された水素H2と反応し、それにより還元性中間体R−NH2が生成される。この還元性中間体R−NH2は触媒担体50の表面上に付着又は吸着される。
一方、図6Bに示されるように生成された還元性中間体の周りを炭化水素HCが取り囲んでいると還元性中間体は炭化水素HCに阻まれてそれ以上反応が進まない。この場合、排気浄化触媒13に流入する炭化水素の濃度が低下せしめられ、それによって酸素濃度が高くなると還元性中間体周りの炭化水素は酸化せしめられる。その結果、図6Aに示されるように還元性中間体と活性NO2 *とが反応するようになる。このとき活性NO2 *は還元性中間体R−NH2と反応してN2,CO2,H2Oとなり、斯くしてNOXが浄化されることになる。
このように排気浄化触媒13では、排気浄化触媒13に流入する炭化水素の濃度を高くすることにより還元性中間体が生成され、排気浄化触媒13に流入する炭化水素の濃度を低くして酸素濃度を高くすることにより活性NO2 *が還元性中間体と反応し、NOXが浄化される。即ち、排気浄化触媒13によりNOXを浄化するには排気浄化触媒13に流入する炭化水素の濃度を周期的に変化させる必要がある。
無論、この場合、還元性中間体を生成するのに十分高い濃度まで炭化水素の濃度を高める必要があり、生成された還元性中間体を活性NO2 *と反応させるのに十分低い濃度まで炭化水素の濃度を低下させる必要がある。即ち、排気浄化触媒13に流入する炭化水素の濃度を予め定められた範囲内の振幅で振動させる必要がある。なお、この場合、生成された還元性中間体が活性NO2 *と反応するまで、十分な量の還元性中間体R−NH2を触媒担体50の表面部分上保持しておかなければならず、そのために触媒担体50はその表面部分が塩基性を呈するように形成されている。
一方、炭化水素の供給周期を長くすると炭化水素が供給された後、次に炭化水素が供給されるまでの間において酸素濃度が高くなる期間が長くなり、従って活性NO2 *は還元性中間体を生成することなくNO3の形で排気浄化触媒13内に吸蔵されることになる。これを回避するためには排気浄化触媒13に流入する炭化水素の濃度を予め定められた範囲内の周期でもって振動させることが必要となる。
そこで本発明による実施例では、排気ガス中に含まれるNOXと改質された炭化水素とを反応させて窒素および炭化水素を含む還元性中間体R−NH2を生成するために排気浄化触媒13の触媒担体50上には貴金属触媒51,52が担持されており、生成された還元性中間体R−NH2を排気浄化触媒13内に保持しておくために触媒担体50がアルミニウムとアルカリ土類金属との結晶化した複合酸化物から形成されており、触媒担体50上に保持された還元性中間体R−NH2の還元作用によりNOXが還元され、炭化水素濃度の振動周期は還元性中間体R−NH2を生成し続けるのに必要な振動周期とされる。因みに図4に示される例では噴射間隔が3秒とされている。
炭化水素濃度の振動周期、即ち炭化水素HCの供給周期を上述の予め定められた範囲内の周期よりも長くすると触媒担体50上から還元性中間体R−NH2が消滅し、このとき白金Pt51上において生成された活性NO2 *は前述した如く図7に示されるようにNO3の形で排気浄化触媒13内に吸蔵される。しかしながらこのように触媒担体50上から還元性中間体R−NH2が消滅し、活性NO2 *がNOXの形で排気浄化触媒13内に吸蔵されるようになるとNOX浄化率が低下する。この場合、良好なNOX浄化率が得られるようにするには炭化水素濃度の振動周期を上述の予め定められた範囲内にする必要がある。
そこで本発明では、機関排気通路内に排気ガス中に含まれるNOXと改質された炭化水素とを反応させるための排気浄化触媒13を配置し、排気浄化触媒13の担体50をアルミニウムとアルカリ土類金属との結晶化した複合酸化物から形成すると共にこの担体50上に貴金属触媒51,52が担持されており、排気浄化触媒13は、排気浄化触媒13に流入する炭化水素の濃度を予め定められた範囲内の振幅および予め定められた範囲内の周期でもって振動させると排気ガス中に含まれるNOXを還元する性質を有すると共に、炭化水素濃度の振動周期を予め定められた範囲よりも長くすると排気ガス中に含まれるNOXの吸蔵量が増大する性質を有しており、機関運転時に排気浄化触媒13に流入する炭化水素の濃度を上述の予め定められた範囲内の振幅および上述の予め定められた範囲内の周期でもって振動させ、それにより排気ガス中に含まれるNOXを排気浄化触媒13において還元するようにしている。
さて、本発明では触媒担体50内のバリウムBaは結晶化しているので触媒担体50内にNOXが吸蔵されてもNOXがバリウムBaと反応して硝酸塩が生成されることはない。NOXが硝酸塩になるとNOXは触媒担体50内に強力に保持されるが本発明ではNOXが硝酸塩とならないのでNOXを保持しておく力は弱く、また前述したように触媒担体50の塩基性が弱いので結局、NOXを保持しておく力は弱くなる。従って排気浄化触媒13に吸蔵されたNOXは炭化水素が供給されるとすぐに還元される。従ってNOXが長期間に亘って排気浄化触媒13に吸蔵され続けることはない。
一方、排気ガス中にはSOXも含まれており、このSOXも触媒担体50上に吸着又は保持される。バリウムBaが結晶化しているのでこのSOXも硫酸塩とならず、また触媒担体50の塩基性も弱いのでSOXを保持しておく力も弱くなる。事実、排気浄化触媒13の温度を上昇させると排気浄化触媒13の温度がさほど高くなくても排気浄化触媒13からSOXを放出させることができる。即ち、この排気浄化触媒13を用いると硫黄被毒を容易に回復することができる。
即ち、図4から図6A,6Bに示されるNOX浄化方法は、塩基性を有する触媒担体50上に貴金属触媒51,52を担持した排気浄化触媒を用いた場合において、硝酸塩および硫酸塩を形成することなくNOXを浄化するようにした新たなNOX浄化方法であると言うことができる。
次に図8から図13を参照しつつこの新たなNOX浄化方法についてもう少し詳細に説明する。
図8は図4に示される空燃比(A/F)inの変化を拡大して示している。なお、前述したようにこの排気浄化触媒13への流入排気ガスの空燃比(A/F)inの変化は同時に排気浄化触媒13に流入する炭化水素の濃度変化を示している。なお、図8においてΔHは排気浄化触媒13に流入する炭化水素HCの濃度変化の振幅を示しており、ΔTは排気浄化触媒13に流入する炭化水素濃度の振動周期を示している。
更に図8において(A/F)bは機関出力を発生するための燃焼ガスの空燃比を示すベース空燃比を表している。言い換えるとこのベース空燃比(A/F)bは炭化水素の供給を停止したときに排気浄化触媒13に流入する排気ガスの空燃比を表している。一方、図8においてXは、生成された活性NO2 *がNO3の形で排気浄化触媒13内に吸蔵されることなく還元性中間体の生成のために使用される空燃比(A/F)inの上限を表しており、活性NO2 *と改質された炭化水素と水素とを反応させて還元性中間体を生成させるには空燃比(A/F)inをこの空燃比の上限Xよりも低くすることが必要となる。
別の言い方をすると図8のXは活性NO2 *と改質された炭化水素とを反応させて還元性中間体を生成させるのに必要な炭化水素の濃度の下限を表しており、還元性中間体を生成するためには炭化水素の濃度をこの下限Xよりも高くする必要がある。この場合、還元性中間体が生成されるか否かは活性NO2 *周りの酸素濃度と炭化水素濃度との比率、即ち空燃比(A/F)inで決まり、還元性中間体を生成するのに必要な上述の空燃比の上限Xを以下、要求最小空燃比と称する。
図8に示される例では要求最小空燃比Xがリッチとなっており、従ってこの場合には還元性中間体を生成するために空燃比(A/F)inが瞬時的に要求最小空燃比X以下に、即ちリッチにされる。これに対し、図9に示される例では要求最小空燃比Xがリーンとなっている。この場合には空燃比(A/F)inをリーンに維持しつつ空燃比(A/F)inを周期的に低下させることによって還元性中間体が生成される。
この場合、要求最小空燃比Xがリッチになるかリーンになるかは排気浄化触媒13の酸化力による。この場合、排気浄化触媒13は例えば貴金属51の担持量を増大させれば酸化力が強まり、酸性を強めれば酸化力が強まる。従って排気浄化触媒13の酸化力は貴金属51の担持量や酸性の強さによって変化することになる。
さて、酸化力が強い排気浄化触媒13を用いた場合に図9に示されるように空燃比(A/F)inをリーンに維持しつつ空燃比(A/F)inを周期的に低下させると、空燃比(A/F)inが低下せしめられたときに炭化水素が完全に酸化されてしまい、その結果還元性中間体を生成することができなくなる。これに対し、酸化力が強い排気浄化触媒13を用いた場合に図8に示されるように空燃比(A/F)inを周期的にリッチにさせると空燃比(A/F)inがリッチにされたときに炭化水素は完全に酸化されることなく部分酸化され、即ち炭化水素が改質され、斯くして還元性中間体が生成されることになる。従って酸化力が強い排気浄化触媒13を用いた場合には要求最小空燃比Xはリッチにする必要がある。
一方、酸化力が弱い排気浄化触媒13を用いた場合には図9に示されるように空燃比(A/F)inをリーンに維持しつつ空燃比(A/F)inを周期的に低下させると、炭化水素は完全に酸化されずに部分酸化され、即ち炭化水素が改質され、斯くして還元性中間体が生成される。これに対し、酸化力が弱い排気浄化触媒13を用いた場合に図8に示されるように空燃比(A/F)inを周期的にリッチにさせると多量の炭化水素は酸化されることなく単に排気浄化触媒13から排出されることになり、斯くして無駄に消費される炭化水素量が増大することになる。従って酸化力が弱い排気浄化触媒13を用いた場合には要求最小空燃比Xはリーンにする必要がある。
即ち、要求最小空燃比Xは図10に示されるように排気浄化触媒13の酸化力が強くなるほど低下させる必要があることがわかる。このように要求最小空燃比Xは排気浄化触媒13の酸化力によってリーンになったり、或いはリッチになったりするが、以下要求最小空燃比Xがリッチである場合を例にとって、排気浄化触媒13に流入する炭化水素の濃度変化の振幅や排気浄化触媒13に流入する炭化水素濃度の振動周期について説明する。
さて、ベース空燃比(A/F)bが大きくなると、即ち炭化水素が供給される前の排気ガス中の酸素濃度が高くなると空燃比(A/F)inを要求最小空燃比X以下とするのに必要な炭化水素の供給量が増大し、それに伴なって還元性中間体の生成に寄与しなかった余剰の炭化水素量も増大する。この場合、NOXを良好に浄化するためには前述したようにこの余剰の炭化水素を酸化させる必要があり、従ってNOXを良好に浄化するためには余剰の炭化水素量が多いほど多量の酸素が必要となる。
この場合、排気ガス中の酸素濃度を高めれば酸素量を増大することができる。従ってNOXを良好に浄化するためには、炭化水素が供給される前の排気ガス中の酸素濃度が高いときには炭化水素供給後の排気ガス中の酸素濃度を高める必要がある。即ち、炭化水素が供給される前の排気ガス中の酸素濃度が高いほど炭化水素濃度の振幅を大きくする必要がある。
図11は同一のNOX浄化率が得られるときの、炭化水素が供給される前の排気ガス中の酸素濃度と炭化水素濃度の振幅ΔHとの関係を示している。図11から同一のNOX浄化率を得るためには炭化水素が供給される前の排気ガス中の酸素濃度が高いほど炭化水素濃度の振幅ΔHを増大させる必要があることがわかる。即ち、同一のNOX浄化率を得るにはベース空燃比(A/F)bが高くなるほど炭化水素濃度の振幅ΔTを増大させることが必要となる。別の言い方をすると、NOXを良好に浄化するためにはベース空燃比(A/F)bが低くなるほど炭化水素濃度の振幅ΔTを減少させることができる。
ところでベース空燃比(A/F)bが最も低くなるのは加速運転時であり、このとき炭化水素濃度の振幅ΔHが200ppm程度あればNOXを良好に浄化することができる。ベース空燃比(A/F)bは通常、加速運転時よりも大きく、従って図12に示されるように炭化水素濃度の振幅ΔHが200ppm以上であれば良好なNOX浄化率を得ることができることになる。
一方、ベース空燃比(A/F)bが最も高いときには炭化水素濃度の振幅ΔHを10000ppm程度にすれば良好なNOX浄化率が得られることがわかっている。従って本発明では炭化水素濃度の振幅の予め定められた範囲が200ppmから10000ppmとされている。
また、炭化水素濃度の振動周期ΔTが長くなると炭化水素が供給された後、次に炭化水素が供給される間、活性NO2 *周りの酸素濃度が高くなる。この場合、炭化水素濃度の振動周期ΔTが5秒程度よりも長くなると活性NO2 *がNO3の形で排気浄化触媒13内に吸蔵され始め、従って図13に示されるように炭化水素濃度の振動周期ΔTが5秒程度よりも長くなるとNOX浄化率が低下することになる。従って炭化水素濃度の振動周期ΔTは5秒以下とする必要がある。
一方、炭化水素濃度の振動周期ΔTがほぼ0.3秒以下になると供給された炭化水素が排気浄化触媒13上に堆積し始め、従って図13に示されるように炭化水素濃度の振動周期ΔTがほぼ0.3秒以下になるとNOX浄化率が低下する。そこで本発明では炭化水素濃度の振動周期が0.3秒から5秒の間とされている。
さて、本発明では炭化水素供給弁15からの炭化水素供給量および噴射時期を変化させることによって炭化水素濃度の振幅ΔHおよび振動周期ΔTが機関の運転状態に応じた最適値となるように制御される。この場合、本発明による実施例ではこの最適な炭化水素濃度の振幅ΔHを得ることのできる炭化水素供給量Wが燃料噴射弁3からの噴射量Qおよび機関回転数Nの関数として図14に示すようなマップの形で予めROM32内に記憶されている。また、最適な炭化水素濃度の振動振幅ΔT、即ち炭化水素の噴射周期ΔTも同様に噴射量Qおよび機関回転数Nの関数としてマップの形で予めROM32内に記憶されている。
次に図15A,15Bおよび図16A,16Bを参照しつつ別の実施例について説明する。
さて、排気浄化触媒13の基体は例えばコージライトから形成されており、この実施例ではコージライトからなる基体上に粉体状の第1の触媒と粉体状の第2の触媒との混合体からなるコート層が形成されている。図15Aはこの第1の触媒の触媒担体の表面部分を図解的に示しており、図15Bはこの第2の触媒の触媒担体の表面部分を図解的に示している。
図15Aに示される第1の触媒の触媒担体50はアルミニウムとアルカリ土類金属との結晶化した複合酸化物から形成されており、この触媒担体50上には白金Pt51が担持されている。この実施例においてもこの触媒担体50を形成している複合酸化物はバリウムアルミネートBaAl2O4からなる。
一方、図15Bに示される第2の触媒の触媒担体55はジルコニアZrO2からなり、この触媒担体55上にはロジウムRh56が担持されている。即ち、この実施例では第2の触媒は触媒担体55が塩基性を有さないように形成されている。
次に図16Aおよび16Bを参照しつつ第1の触媒Iおよび第2の触媒IIにおいて行われていると考えられる反応について説明する。
炭化水素供給弁15から炭化水素が供給されるとこの炭化水素は第1の触媒Iにおいて改質され、ラジカルとなる。その結果、図16Bに示されるように活性NO2 *周りの炭化水素濃度が高くなる。一方、このとき第2の触媒IIのロジウムRh56上では図16Bに示されるように排気ガス中に含まれる一酸化炭素COと水分H2Oから水素H2が生成される。
このように活性NO2 *周りの炭化水素濃度が高くなると図16Bに示されるように活性NO2 *は白金Pt51上においてラジカル状の炭化水素HCおよび第2の触媒IIのロジウムRh56上において生成された水素H2と反応し、それにより還元性中間体R−NH2が生成される。この還元性中間体R−NH2は触媒担体50の表面上に付着又は吸着される。次いで排気浄化触媒13に流入する炭化水素の濃度が低下せしめられ、それによって酸素濃度が高くなると還元性中間体周りの炭化水素は酸化せしめられる。その結果、図16Aに示されるように活性NO2 *は還元性中間体R−NH2と反応してN2,CO2,H2Oとなる。
この実施例においても還元性中間体R−NH2の生成には水素H2が必要であり、この水素H2は図16Bに示されるようにロジウムRh56によって排気ガス中に含まれるCOとH2Oから生成される。この場合、触媒担体55の塩基性が強くなるとロジウムRh56の還元活性が低下する。その結果、水素H2を良好に生成しえなくなり、斯くして還元性中間体を良好に生成しえなくなる。従ってこの実施例ではロジウムRh56の還元活性を低下させることがないように触媒担体55が塩基性を呈さないジルコニアZO2から形成されている。
なお、別の実施例として排気浄化触媒13上流の機関排気通路内に炭化水素を改質させるための酸化触媒を配置することもできる。
5…排気マニホルド
7…排気ターボチャージャ
12…排気管
13…排気浄化触媒
14…パティキュレートフィルタ
15…炭化水素供給弁
Claims (7)
- 機関排気通路内に排気ガス中に含まれるNOXと改質された炭化水素とを反応させるための排気浄化触媒を配置し、該排気浄化触媒の担体をアルミニウムとアルカリ土類金属との結晶化した複合酸化物から形成すると共に該担体上に貴金属触媒が担持されており、該排気浄化触媒は、排気浄化触媒に流入する炭化水素の濃度を予め定められた範囲内の振幅および予め定められた範囲内の周期でもって振動させると排気ガス中に含まれるNOXを還元する性質を有すると共に、該炭化水素濃度の振動周期を該予め定められた範囲よりも長くすると排気ガス中に含まれるNOXの吸蔵量が増大する性質を有しており、機関運転時に排気浄化触媒に流入する炭化水素の濃度を上記予め定められた範囲内の振幅および上記予め定められた範囲内の周期でもって振動させ、それにより排気ガス中に含まれるNOXを排気浄化触媒において還元するようにした内燃機関の排気浄化装置。
- 上記複合酸化物がバリウムアルミネートBaAl2O4からなる請求項1に記載の内燃機関の排気浄化装置。
- 上記貴金属が少なくとも白金PtおよびロジウムRhからなる請求項1に記載の内燃機関の排気浄化装置。
- 排気浄化触媒が、上記複合酸化物からなる担体上に白金Ptを担持した第1の触媒と、ジルコニア上にロジウムRhを担持した第2の触媒との混合体からなる請求項1に記載の内燃機関の排気浄化装置。
- 上記複合酸化物がバリウムアルミネートBaAl2O4からなる請求項4に記載の内燃機関の排気浄化装置。
- 上記排気浄化触媒内において排気ガス中に含まれるNOXと改質された炭化水素とが反応して窒素および炭化水素を含む還元性中間体が生成され、上記炭化水素濃度の振動周期は還元性中間体を生成し続けるのに必要な振動周期である請求項1に記載の内燃機関の排気浄化装置。
- 上記炭化水素濃度の振動周期が0.3秒から5秒の間である請求項6に記載の内燃機関の排気浄化装置。
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