JP5099830B2 - ジベンズオキセピン誘導体の製造方法 - Google Patents
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Description
と対応するホスホニウム塩とのウィッティッヒ反応により製造する方法(特許文献1、2、3および非特許文献1、2参照)、化合物(VII)からグリニヤール反応などを用いて製造する方法(特許文献1、2および非特許文献1参照)などが知られている。しかしながら、これらの製造方法では二重結合部位の立体配置を制御することが容易ではなく、目的物が幾何異性体の混合物として得られることが知られている。また、この混合物を精製して望む異性体を単離することも容易ではなく、更に収率も満足のいくものではない。
(1)(i)一般式(I)
で表される化合物を、ハロゲン化して、一般式(II)
で表される化合物を得る工程、(ii)一般式(II)で表される化合物を一般式(III)
で表されるアルキン化合物とのカップリング反応に付して、一般式(IV)
で表される化合物を得る工程、および(iii)一般式(IV)で表される化合物を分子内環化反応に付す工程、を含む一般式(V)
で表される11−アルキリデンジベンズ[b,e]オキセピン誘導体またはその塩の製造方法。
(2)一般式(I)
で表される化合物をハロゲン化する工程を含む一般式(II)
で表される化合物またはその塩の製造方法。
(3)一般式(II)
で表される化合物を一般式(III)
で表されるアルキン化合物とのカップリング反応に付す工程を含む一般式(IV)
で表される化合物またはその塩の製造方法。
(4)一般式(IV)
で表される化合物を分子内環化反応に付す工程を含む一般式(V)
で表される11−アルキリデンジベンズ[b,e]オキセピン誘導体またはその塩の製造方法。
(5)ハロゲン化が、ヨウ素と硫酸銀を用いるヨウ素化であり、X2がヨウ素原子である(1)または(2)記載の方法。
(6)カップリング反応が、ジクロロビス(トリフェニルホスフィン)パラジウムおよびヨウ化銅の存在下で行う反応である(1)または(3)記載の方法。
(7)分子内環化反応が、トリフェニルホスフィン、トリ(o−トリル)ホスフィン、トリ(m−トリル)ホスフィン、トリ(p−トリル)ホスフィンおよびトリシクロヘキシルホスフィンからなる群から選ばれるホスフィン化合物ならびに酢酸パラジウム、塩化パラジウムおよびパラジウム炭素からなる群から選ばれるパラジウム化合物の存在下で行う反応である(1)または(4)記載の方法。
(8)(1)〜(7)のいずれかに記載の方法(但し、R1は水素原子ではない)を含む一般式(VI)
で表される11−アルキリデンジベンズ[b,e]オキセピン誘導体またはその塩の製造方法。
(9)X1が塩素原子、臭素原子またはトリフルオロメタンスルホニルオキシであり、X2がヨウ素原子である(1)〜(8)のいずれかに記載の方法。
(10)X1が塩素原子であり、X2が臭素原子またはヨウ素原子である(1)〜(8)のいずれかに記載の方法。
(11)X1が臭素原子であり、X2がヨウ素原子である(1)〜(8)のいずれかに記載の方法。
(12)R2が低級アルキル、ヒドロキシ置換低級アルキル、アミノ置換低級アルキル、低級アルキルアミノ置換低級アルキルまたはジ低級アルキルアミノ置換低級アルキルである(1)および(3)〜(11)のいずれかに記載の方法。
(13)R2がヒドロキシ置換低級アルキルまたはジ低級アルキルアミノ置換低級アルキルである(1)および(3)〜(11)のいずれかに記載の方法。
(14)nが0または1である(1)〜(13)のいずれかに記載の方法。
(15)R1が低級アルキルである(1)〜(14)のいずれかに記載の方法。
(16)一般式(II)
で表される化合物またはその塩。
(17)X1が臭素原子であり、X2がヨウ素原子である(16)記載の化合物またはその塩。
(18)一般式(IV)
で表される化合物またはその塩。
一般式(I)〜(VI)の各基の定義において、
低級アルキルならびに低級アルコキシ、低級アルキルアミノ、ジ低級アルキルアミノおよび低級アルコキシカルボニルの低級アルキル部分としては、例えば直鎖または分岐状の炭素数1〜10のアルキルがあげられ、より具体的にはメチル、エチル、プロピル、イソプロピル、ブチル、イソブチル、sec−ブチル、tert−ブチル、ペンチル、イソペンチル、ネオペンチル、ヘキシル、ヘプチル、オクチル、ノニル、デシルなどがあげられる。ジ低級アルキルアミノの2つの低級アルキル部分は、同一でも異なっていてもよい。
アリールとしては、例えば炭素数6〜14のアリールがあげられ、より具体的にはフェニル、ナフチル、アントリルなどがあげられる。
脂肪族複素環基としては、例えば窒素原子、酸素原子および硫黄原子から選ばれる少なくとも1個の原子を含む5員または6員の単環性脂肪族複素環基、3〜8員の環が縮合した二環または三環性で窒素原子、酸素原子および硫黄原子から選ばれる少なくとも1個の原子を含む縮環性脂肪族複素環基などがあげられ、より具体的にはアジリジニル、アゼチジニル、ピロリジニル、ピペリジノ、ピペリジニル、パーヒドロアゼピニル、イミダゾリジニル、ピラゾリジニル、ピペラジニル、ホモピペラジニル、オキシラニル、テトラヒドロフラニル、テトラヒドロ−2H−ピラニル、オキサゾリジニル、モルホリノ、モルホリニル、チオキサゾリジニル、チオモルホリニル、ジヒドロインドリル、ジヒドロイソインドリル、ジヒドロベンゾフラニル、ベンゾイミダゾリジニル、ジヒドロベンゾオキサゾリル、ジヒドロベンゾチオキサゾリル、ベンゾジオキソリニル、テトラヒドロキノリル、テトラヒドロイソキノリル、ジヒドロ−2H−クロマニル、ジヒドロ−1H−クロマニル、ジヒドロ−2H−チオクロマニル、ジヒドロ−1H−チオクロマニル、テトラヒドロキノキサリニル、テトラヒドロキナゾリニル、ジヒドロベンゾジオキサニルなどがあげられる。
X1が塩素原子、臭素原子またはトリフルオロメタンスルホニルオキシであることが好ましく、塩素原子または臭素原子であることがより好ましく、臭素原子であることが更に好ましい。
化合物(II)の各基において、
X1が塩素原子であり、X2が臭素原子もしくはヨウ素原子であるか、またはX1が塩素原子、臭素原子もしくはトリフルオロメタンスルホニルオキシであり、X2がヨウ素原子であることが好ましく、X1が臭素原子もしくはトリフルオロメタンスルホニルオキシであり、X2がヨウ素原子であることがより好ましく、X1が臭素原子であり、X2がヨウ素原子であることがさらに好ましい。R1としては、低級アルキルが好ましく、メチル、エチルなどがより好ましい。
X1が塩素原子、臭素原子またはトリフルオロメタンスルホニルオキシであることが好ましく、塩素原子または臭素原子であることがより好ましく、臭素原子であることが更に好ましい。R1としては、低級アルキルが好ましく、メチル、エチルなどがより好ましい。R2としては、ヒドロキシメチル、ヒドロキシエチル、ヒドロキシプロピル、ジメチルアミノメチル、ジメチルアミノエチル、ジメチルアミノプロピルなどが好ましく、ヒドロキシエチル、ジメチルアミノエチルなどがより好ましい。
工程1
本工程は、公知のベンゼン環のハロゲン化方法(例えば、オーガニック・シンセシス(Organic Synthesis)、1963年、4巻、p.872;オーガニック・シンセシス(Organic Synthesis)、1973年、5巻、p.117;オーガニック・シンセシス(Organic Synthesis)、1963年、4巻、p.547;テトラヘドロン・レターズ(Tetrahedron Letters)、1993年、34巻、p.6223;アンゲバンテ・ケミ・インターナショナル・エディション(Angew.Chem.Int.Ed.)、2001年、40巻、p.1967)に準じて行うことができる。
化合物(I)は例えばWO2005/009104記載の方法でまたはそれに準じて得ることができる。
工程2
本工程は、公知の方法(例えば、テトラヘドロン・レターズ(Tetrahedron Letters)、1975年、16巻、p.4467;テトラヘドロン・レターズ(Tetrahedron Letters)、1993年、34巻、p.8353)に準じて行うことができる。
化合物(III)は、市販品として得られるかまたは公知の方法で(例えば、ジャーナル・オブ・オーガニック・ケミストリー(J.Org.Chem.)、1999年、64巻、p.1798)またはそれらに準じて得ることができる。
ホスフィン配位子を有するパラジウム触媒としては、例えばホスフィン配位子がパラジウムに配位した化合物があげられ、該ホスフィン配位子としては、例えばトリフェニルホスフィン、トリ(o−トリル)ホスフィン、トリ(m−トリル)ホスフィン、トリ(p−トリル)ホスフィン、トリス(2,4−ジメトキシフェニル)ホスフィン、トリス(4−メトキシフェニル)ホスフィン、トリス(ジメチルアミノ)ホスフィン、トリ(tert−ブチル)ホスフィン、トリシクロヘキシルホスフィン、エチレンビス(ジフェニルホスフィン)、1,3−ビス(ジフェニルホスフィノ)プロパン、1,1’−ビス(ジフェニルホスフィノ)フェロセン、2,2’−ビス(ジフェニルホスフィノ)−1,1’−ビナフチルなどがあげられる。これらホスフィン配位子を有するパラジウム触媒は、例えば上記であげたホスフィン配位子とパラジウム化合物とを反応溶液中に添加することで反応溶液中に生成したものを用いることができる。このとき、ホスフィン配位子は、パラジウム化合物に対して1〜4当量用いるのが好ましい。該パラジウム化合物としては、例えば酢酸パラジウム、塩化パラジウム、トリス(ジベンジリデンアセトン)ジパラジウム、パラジウム炭素などがあげられる。また、ホスフィン配位子を有するパラジウム触媒は、化合物(II)に対して通常0.001〜1当量、好ましくは0.01〜0.2当量用いられる。また、ホスフィン配位子を有するパラジウム触媒としては、例えば市販のジクロロビス(トリフェニルホスフィン)パラジウム、酢酸ビス(トリフェニルホスフィン)パラジウム、テトラキス(トリフェニルホスフィン)パラジウムなどを利用することもでき、ジクロロビス(トリフェニルホスフィン)パラジウムなどが好ましい。
工程3
本工程は、公知の方法(例えば、テトラヘドロン・レターズ(Tetrahedron Letters)、1993年、34巻、p.8353;テトラヘドロン・レターズ(Tetrahedron Letters)、1988年、29巻、p.4325)に準じて行うことができる。
パラジウム触媒としては、例えばホスフィン配位子を有するパラジウム触媒があげられ、該ホスフィン配位子を有するパラジウム触媒としては、例えばホスフィン配位子がパラジウムに配位した化合物があげられる。該ホスフィン配位子としては、例えばトリフェニルホスフィン、トリ(o−トリル)ホスフィン、トリ(m−トリル)ホスフィン、トリ(p−トリル)ホスフィン、トリス(2,4−ジメトキシフェニル)ホスフィン、トリス(4−メトキシフェニル)ホスフィン、トリス(ジメチルアミノ)ホスフィン、トリ(tert−ブチル)ホスフィン、トリシクロヘキシルホスフィン、エチレンビス(ジフェニルホスフィン)、1,3−ビス(ジフェニルホスフィノ)プロパン、1,1’−ビス(ジフェニルホスフィノ)フェロセン、2,2’−ビス(ジフェニルホスフィノ)−1,1’−ビナフチルなどがあげられ、好ましくはトリフェニルホスフィン、トリ(o−トリル)ホスフィン、トリ(m−トリル)ホスフィン、トリ(p−トリル)ホスフィン、トリシクロヘキシルホスフィンなどがあげられ、より好ましくはトリ(o−トリル)ホスフィンなどがあげられる。これらホスフィン配位子を有するパラジウム触媒は、例えば上記であげたホスフィン配位子とパラジウム化合物とを反応溶液中に添加することで反応溶液中に生成したものを用いることができる。このとき、ホスフィン配位子としては、例えばトリフェニルホスフィン、トリ(o−トリル)ホスフィン、トリ(m−トリル)ホスフィン、トリ(p−トリル)ホスフィン、トリシクロヘキシルホスフィンなどが好ましく、トリ(o−トリル)ホスフィンなどがより好ましく、これらはパラジウム化合物に対して1〜4当量用いるのが好ましい。該パラジウム化合物としては、例えば酢酸パラジウム、塩化パラジウム、トリス(ジベンジリデンアセトン)ジパラジウム、パラジウム炭素などがあげられ、好ましくは酢酸パラジウム、塩化パラジウム、パラジウム炭素などがあげられ、より好ましくは酢酸パラジウムなどがあげられる。また、ホスフィン配位子を有するパラジウム触媒としては、例えば市販のジクロロビス(トリフェニルホスフィン)パラジウム、テトラキス(トリフェニルホスフィン)パラジウムなどを利用することもできる。なお、パラジウム触媒は、化合物(IV)に対して通常0.001〜1当量、好ましくは0.01〜0.2当量用いられる。
化合物(IV)、(V)および(VI)におけるR2に含まれる官能基の変換は、公知の方法[例えば、コンプリヘンシブ・オーガニック・トランスフォーメーションズ 第2版(Comprehensive Organic Transformations 2nd edition)、R.C.ラロック(Larock)著、Vch Verlagsgesellschaft Mbh(1999年)などに記載の方法]でまたはそれらに準じて行うこともできる。
工程4
化合物(Vb)は、上記工程3で得られる化合物(Va)を、(1)適当な溶媒中、必要により1〜20当量の適当な塩基の存在下、1〜10当量の塩化メタンスルホニル、無水トリフルオロメタンスルホニル、塩化ベンゼンスルホニル、塩化p−トルエンスルホニルなどのスルホニル化剤と−20℃と用いる溶媒の沸点の間の温度で、5分間〜72時間反応させ、(2)次いで得られた化合物を、無溶媒でまたは適当な溶媒中、必要により1〜20当量の適当な塩基の存在下、1当量〜大過剰量、好ましくは1〜20当量のジメチルアミンと、−20℃と100℃の間の温度で、5分間〜72時間反応させることにより製造することができる。
(2)で用いる溶媒としては、例えばメタノール、エタノール、プロパノールなどのアルコール系溶媒、アセトン、アセトニトリル、DMF、NMPなどの親水性溶媒、トルエン、キシレン、ヘキサンなどの炭化水素系溶媒、酢酸エチルなどのエステル系溶媒、ジエチルエーテル、THF、1,4−ジオキサン、ジメトキシエタンなどのエーテル系溶媒、ジクロロメタン、クロロホルムなどのハロゲン系溶媒、ピリジンなどの塩基性溶媒、水などがあげられ、これらを単独でまたは混合して用いられる。
工程5
化合物(Vc)は、化合物(Vb)を含水溶媒中、1〜20当量好ましくは1〜3当量の適当な塩基で、5分間〜72時間、好ましくは10分間〜6時間処理することにより製造することができる。
本工程の処理は、通常0℃〜用いる溶媒の沸点の間の温度で、好ましくは10℃〜70℃の間の温度で行われる。
また、化合物(II)、(IV)、(V)および(VI)ならびにそれらの塩は、水または各種溶媒との付加物の形で存在することもあるが、これらの付加物も本発明に包含されるか、本発明の製造方法で製造される目的物に包含される。
メタノール(127mL)にヨウ素(7.28g,28.1mmol)および硫酸銀(8.76g,28.1mmol)を添加し、18℃でヨウ素が溶解するまで撹拌した。次いで、メタノール(15mL)に溶解した参考例1で得られた4−(2−ブロモベンジルオキシ)フェニル酢酸メチル(化合物IA)(9.44g,28.1mmol)を、先に調製したヨウ素と硫酸銀のメタノール溶液に添加した。18℃で2時間撹拌した後、不溶物を濾別し、該不溶物を酢酸エチル(38mL)で洗浄した。濾液および洗浄液を集め、50℃で濃縮乾固した。得られた残渣にメタノール(47mL)を添加して1時間撹拌した。不溶物を濾取し、30℃で減圧乾燥することで標記化合物IIA(11.00g,86%)を白色結晶として得た。
1H−NMR(CDCl3,δppm):7.78(d,1H,J=7.7Hz),7.75(d,1H,J=2.0Hz),7.59(dd,1H,J=7.9,1.0Hz),7.37(td,1H,J=7.9,1.0Hz),7.25−7.21(m,2H),6.83(d,1H,J=8.3Hz),5.18(s,2H),3.70(s,3H),3.55(s,2H).
MS ESI(−)m/z:461,459[M−H]−.
実施例1で得られた化合物IIA(5.00g,10.8mmol)に、ジクロロビス(トリフェニルホスフィン)パラジウム(381mg,0.542mmol)およびヨウ化銅(103mg,0.542mmol)を添加し、DMF(50mL)を加えて溶解させた。3−ブチン−1−オール(1.64mL,21.7mmol)およびトリエチルアミン(6.06mL,43.4mmol)を順次添加し、25℃で5時間撹拌した。反応混合物に酢酸エチル(100mL)を加え、水(300mL)および飽和塩化ナトリウム水溶液で順次洗浄した。有機層を濾過した後、濾液を濃縮した。残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィー(溶出溶媒:酢酸エチル/ヘキサン=1/1)で精製し、標記化合物IVA(4.34g,99%)を褐色油状物として得た。
1H−NMR(CDCl3,δppm):7.64(dd,1H,J=7.7,1.7Hz),7.57(dd,1H,J=7.7,1.1Hz),7.34(td,1H,J=7.7,1.1Hz),7.33(d,1H,J=2.2Hz),7.18(td,1H,J=7.7,1.7Hz),7.14(dd,1H,J=8.6,2.2Hz),6.85(d,1H,J=8.6Hz),5.18(s,2H),3.80(t,2H,J=6.1Hz),3.69(s,3H),3.53(s,2H),2.73(t,2H,J=6.1Hz).
13C−NMR(CDCl3,δppm):171.9,158.1,136.1,134.1,132.5,130.1,129.2,128.6,127.6,126.6,121.8,113.4,112.7,91.0,78.7,70.0,61.1,52.1,40.0,24.2.
IR(KBr):3322,1739,1507,1429,1264,1151,1037,744cm−1.
MS ESI(+)m/z:405,403[M+H]+.
窒素雰囲気下、実施例2で得られた化合物IVA(200mg,0.496mmol)に、酢酸パラジウム(11.1mg,0.0496mmol)およびトリ(o−トリル)ホスフィン(37.7mg,0.124mmol)を添加し、DMF(2.0mL)を加えて溶解させた。ピペリジン(344μL,4.93mmol)およびギ酸(20.5μL,0.545mmol)を順次添加し、92℃で3時間撹拌した。反応混合物に酢酸エチルを加え、水および飽和塩化ナトリウム水溶液で順次洗浄した。有機層を濃縮し、残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィー(溶出溶媒:酢酸エチル/ヘキサン=1/2)で精製し、標記化合物VA(114mg,71%)を白色固体として得た。
1H−NMR(CDCl3,δppm):7.43−7.24(m,4H),7.17(d,1H,J=2.2Hz),7.04(dd,1H,J=8.4,2.2Hz),6.80(d,1H,J=8.4Hz),5.74(d,1H,J=7.5Hz),5.18(brs,2H),3.80(t,2H,J=6.1Hz),3.69(s,3H),3.53(s,2H),2.68(dt,2H,J=7.5,6.1Hz).
MS ESI(+)m/z:325[M+H]+.
実施例1で得られた化合物IIA(1.00g,2.17mmol)に、ジクロロビス(トリフェニルホスフィン)パラジウム(76.1mg,0.108mmol)およびヨウ化銅(21.0mg,0.108mmol)を添加し、DMF(10mL)を加えて溶解させた。公知の方法(ジャーナル・オブ・オーガニック・ケミストリー(J.Org.Chem.)、1999年、64巻、p.1798)に従い合成したブト−3−イニルジメチルアミン(609mg,4.34mmol)およびトリエチルアミン(1.22mL,8.68mmol)を順次添加し、25℃で3時間撹拌した。反応混合物に酢酸エチルを加え、水および飽和塩化ナトリウム水溶液で順次洗浄した。有機層を濃縮し、残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィー(溶出溶媒:クロロホルム/メタノール=20/1)で精製することにより、標記化合物IVB(728mg,78%)を褐色油状物として得た。
1H−NMR(CDCl3,δppm):7.64(dd,1H,J=7.7,1.7Hz),7.57(dd,1H,J=7.7,1.1Hz),7.34(td,1H,J=7.7,1.1Hz),7.33(d,1H,J=2.2Hz),7.18(td,1H,J=7.7,1.7Hz),7.14(dd,1H,J=8.6,2.2Hz),6.85(d,1H,J=8.6Hz),5.18(s,2H),3.80(t,2H,J=6.1Hz),3.69(s,3H),3.53(s,2H),2.73(t,2H,J=6.1Hz).
MS ESI(+)m/z:432,430[M+H]+.
窒素雰囲気下、実施例4で得られた化合物IVB(161mg,0.374mmol)に、酢酸パラジウム(8.40mg,0.0374mmol)およびトリ(o−トリル)ホスフィン(22.8mg,0.0748mmol)を添加し、DMF(3.2mL)を加えて溶解させた。ピペリジン(148μL,1.50mmol)およびギ酸(42.0μL,1.12mmol)を順次添加し、60℃で4時間撹拌した。反応混合物に酢酸エチルを加え、水および飽和塩化ナトリウム水溶液で順次洗浄した。有機層を濃縮し、標記化合物VBを含む油状物質90mgを得た。
実施例3で得られた化合物VA(21.0g,64.7mmol)に、ピリジン(160mL)を加えて溶解し、5℃に冷却した。塩化メタンスルホニル(28.0g,244mmol)を5℃で徐々に添加した後、室温で2時間撹拌した。反応混合物に水(1.0L)を加え、約500mLまで濃縮を行い、残渣に水(500mL)を加え、酢酸エチル(500mL)で抽出した。有機層を硫酸マグネシウムで乾燥し、濃縮した。残渣にメタノール(400mL)および50%ジメチルアミン水溶液(120mL,1.14mol)を加え、3時間還流下で撹拌した。反応混合物を冷却した後、濃縮した。残渣にメタノール(400mL)および2mol/L水酸化ナトリウム水溶液(100mL)を加え、2時間還流下で撹拌した。反応混合物を濃縮後、水(200mL)および酢酸ブチル(200mL)を加え、2mol/L塩酸で水層のpHを2に調整した。酢酸ブチルで抽出し、有機層を濃縮することにより、化合物VIa(21.4g,88.4%)を得た。
参考例1
4−(2−ブロモベンジルオキシ)フェニル酢酸メチル(化合物IA)
4−ヒドロキシフェニル酢酸メチル(5.00g,30.1mmol)にDMF(50.0mL)を加えて溶解し、炭酸カリウム(6.28g,45.1mmol)および2−ブロモベンジルブロミド(7.50g,30.1mmol)を順次添加し、25℃で4時間撹拌した。反応混合物に水(70mL)を加え、酢酸エチル(50mL)で抽出し、有機層を飽和食塩水溶液(70mL)で洗浄した。有機層を50℃で濃縮することにより、標記化合物IA(10.25g,定量的)を得た。
1H−NMR(CDCl3,δppm):7.58(dd,1H,J=7.7,1.1Hz),7.53(dd,1H,J=7.7,1.3Hz),7.32(td,1H,J=7.7,1.3Hz),7.21(d,2H,J=8.8Hz),7.17(td,1H,J=7.7,1.1Hz),6.93(d,2H,J=8.8Hz),5.17(s,2H),3.68(s,3H),3.57(s,2H).
MS ESI(+)m/z:337,335[M+H]+.
Claims (20)
- (i) 一般式(I)
で表される化合物を、ハロゲン化して、一般式(II)
で表される化合物を得る工程、(ii)一般式(II)で表される化合物を一般式(III)
で表されるアルキン化合物とのカップリング反応に付して、一般式(IV)
で表される化合物を得る工程、および(iii)一般式(IV)で表される化合物を分子内環化反応に付す工程、を含む一般式(V)
で表される11−アルキリデンジベンズ[b,e]オキセピン誘導体またはその塩の製造方法。 - R1が低級アルキル、シクロアルキル、アラルキルまたはアリールであり、R2が−CH2CH2OHである、請求項1または3のいずれかに記載の方法。
- R1が低級アルキル、シクロアルキル、アラルキルまたはアリールであり、R2が−CH2CH2N(CH3)2である、請求項1または3のいずれかに記載の方法。
- ハロゲン化が、ヨウ素と硫酸銀を用いるヨウ素化であり、X2がヨウ素原子である請求項1記載の方法。
- カップリング反応が、ジクロロビス(トリフェニルホスフィン)パラジウムおよびヨウ化銅の存在下で行う反応である請求項1または2記載の方法。
- 分子内環化反応が、トリフェニルホスフィン、トリ(o−トリル)ホスフィン、トリ(m−トリル)ホスフィン、トリ(p−トリル)ホスフィンおよびトリシクロヘキシルホスフィンからなる群から選ばれるホスフィン化合物ならびに酢酸パラジウム、塩化パラジウムおよびパラジウム炭素からなる群から選ばれるパラジウム化合物の存在下で行う反応である請求項1または3のいずれかに記載の方法。
- X1が塩素原子、臭素原子またはトリフルオロメタンスルホニルオキシであり、X2がヨウ素原子である請求項1〜3または8〜10のいずれかに記載の方法。
- X1が塩素原子であり、X2が臭素原子またはヨウ素原子である請求項1〜3または8〜10のいずれかに記載の方法。
- X1が臭素原子であり、X2がヨウ素原子である請求項1〜3または8〜10のいずれかに記載の方法。
- R2が低級アルキル、ヒドロキシ置換低級アルキル、アミノ置換低級アルキル、低級アルキルアミノ置換低級アルキルまたはジ低級アルキルアミノ置換低級アルキルである請求項1〜3または8〜13のいずれかに記載の方法。
- R2がヒドロキシ置換低級アルキルまたはジ低級アルキルアミノ置換低級アルキルである請求項1〜3または8〜13のいずれかに記載の方法。
- nが0または1である請求項1〜3または8〜15のいずれかに記載の方法。
- R1が低級アルキルである請求項1〜3または8〜16のいずれかに記載の方法。
- X1が臭素原子である請求項19記載の化合物またはその塩。
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